JP2004004608A - 液晶滴下装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】構造が簡単で製造費用を節減し得る液晶滴下装置を提供する。
【解決手段】液晶107が充填された液晶容器124と、液晶107に圧力を加えるガス供給部と、液晶107が排出される排出孔144が形成されたニードルシート143と、第1端部及び第2端部を具備し液晶容器124内に上下方向に運動自在に設置されたニードル136と、該ニードル136の第1端部に設置された第1スプリング128と、前記液晶容器124の上部に設置されたソレノイドコイル130と、前記ニードル136の第1端部の付近に位置し、周囲に設置されたソレノイドコイル130に電源を印加して磁気力を発生し、前記ニードル136を上部に移動させる磁性棒132と、該磁性棒132に設置された第2スプリング137と、前記液晶充填手段の下部に装着され液晶容器124の液晶107を基板上に滴下するノズル145と、を含んで液晶滴下装置を構成する。
【選択図】 図4A

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶滴下装置に係るもので、詳しくは、ニードル(needle)の上下運動を制御して、基板上に滴下される液晶の滴下量を精密に制御し得る液晶滴下装置に関するものである。
【0002】
【関連技術】
最近、携帯電話(Mobile Phone)、PDA及びノートブックコンピュータのような各種の携帯用電子機器の発展に伴って、それらに適用し得る軽薄短小用の平板表示装置(Flat Panel Display Device)に対する要求が漸次増大しつつある。このような平板表示装置としては、LCD(Liquid Crystal Display)、PDP(Plasma Display Panel)、FED(Field Emission Display)及びVFD(Vacuum Fluorescent Display)などが活発に研究されているが、量産化技術、駆動手段の容易性及び高画質の具現という理由で、現在は、液晶表示素子(LCD)が脚光を浴びている。
【0003】
LCDは、液晶の屈折率異方性を利用して画面に情報を表示する装置であって、図9に示したように、下部基板5と、上部基板3と、それら下部基板5と上部基板3間に形成された液晶層7と、から構成されている。下部基板5は、駆動素子アレイ(Array)基板であって、図示されてないが、前記下部基板5には複数の画素が形成され、各画素には薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下、TFTと略称す)のような駆動素子が形成されている。上部基板3は、カラーフィルタ(Color Filter;以下、CFと略称す)基板であって、実際カラーを具現するためのカラーフィルタ層が形成されている。又、前記下部基板5及び上部基板3には画素電極及び共通電極が夫々形成されて、液晶層7の液晶分子を配向するための配向膜が塗布されている。
【0004】
前記下部基板5及び上部基板3は、シーリング材(Sealing material)9により合着されて、それら間に液晶層7が形成され、前記下部基板5に形成された駆動素子により液晶分子を駆動して液晶層を透過する光量を制御することで、情報を表示するようになっている。
【0005】
液晶表示素子の製造工程は、下部基板5に駆動素子を形成する駆動素子アレイ工程、上部基板3にカラーフィルタを形成するカラーフィルタ工程及びセル(Cell)工程に大別され、以下、このような液晶表示素子の工程に対し、図10を用いて説明する。
【0006】
先ず、駆動素子アレイ工程により、下部基板5上に配列されて画素領域を定義する複数のゲートライン(Gate Line)及びデータライン(Date Line)を形成し、前記各画素領域に前記ゲートライン及びデータラインに接続される駆動素子の薄膜トランジスタを形成する(S101)。又、前記駆動素子アレイ工程により前記薄膜トランジスタに接続されて、該薄膜トランジスタを介して信号が印加されることで、液晶層を駆動する画素電極を形成する。
【0007】
次いで、上部基板3には、カラーフィルタ工程によりカラーを具現するR、G、Bのカラーフィルタ層及び共通電極を形成する(S104)。
【0008】
次いで、前記上部基板3及び下部基板5に夫々配向膜を塗布した後、それら上部基板3と下部基板5間に形成される液晶層の液晶分子に配向規制力又は表面固定力(即ち、プレチルト角(Pretilt Angel)及び配向方向)を提供するために前記配向膜をラビング(Rubbing)する(S102、S105)。その後、下部基板5に、セルギャップ(Cell Gap)を一定に維持するためのスペーサ(Spacer)を散布し、上部基板3の外郭部にシーリング材9を塗布した後、前記下部基板5及び上部基板3に圧力を加えて合着する(S103、S106、S107)。
【0009】
一方、前記下部基板5及び上部基板3は、大面積のガラス基板により構成されている。即ち、大面積のガラス基板に複数のパネル(Panel)領域が形成され、それら各パネル領域に駆動素子のTFT及びカラーフィルタ層が形成されるため、一つの液晶パネルを製作するためには、前記ガラス基板を切断及び加工しなければならない(S108)。その後、前記のように加工された各液晶パネルに液晶注入口を通して液晶を注入し、該液晶注入口を封止して液晶層を形成した後、各液晶パネルを検査することで、液晶表示素子を製作するようになっている(S109、S110)。
【0010】
液晶は、パネルに形成された液晶注入口を通して注入される。この時、液晶の注入は圧力差により行われる。図11は液晶パネルに液晶を注入する装置を示した図で、図示されたように、真空チャンバ(Vacuum Chamber)10内には液晶が充填された容器12が備えられ、その上部に液晶パネル1が位置される。又、前記真空チャンバ10は、真空ポンプと連結されて設定された真空状態を維持している。又、図示されてないが、前記真空チャンバ10内には液晶パネル移動用装置が設置されて、前記液晶パネル1を容器12の上部から容器まで移動させて、液晶パネル1に形成された注入口16を液晶14に接触させる(このような方式を液晶浸漬(Dipping)注入方式という)。
【0011】
このように液晶パネル1の注入口16を液晶14に接触させた状態で、真空チャンバ10内に窒素(N2)ガスを供給してチャンバ10の真空度を低下させると、前記液晶パネル1の内部圧力と真空チャンバ10の圧力差により液晶14が前記注入口16を通してパネル1に注入され、液晶がパネル1内に完全に充填された後、前記注入口16を封止材により封止することで、液晶層を形成するようになっている(このような方式を液晶の真空注入方式という)。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
然るに、このような従来の液晶注入方式においては、パネル1への液晶注入時間が長くなるという不都合な点があった。一般に、液晶パネルの駆動アレイ基板とカラーフィルタ基板間の間隔は数μm程度と非常に狭いため、単位時間当り、極少量の液晶のみが液晶パネルの内部に注入される。例えば、約15インチの液晶パネルを製作する場合、液晶を完全に注入するのに8時間程度かかるが、このような長時間の液晶注入によって液晶パネルの製造時間が長くなり、製造効率が低下されるという不都合な点があった。
【0013】
且つ、従来の液晶注入方式においては、液晶消耗率が高くなるという不都合な点があった。容器12に充填されている液晶14中、実際に液晶パネル1に注入される量は極少量である。一方、液晶は大気や特定ガスに露出されると、ガスと反応して劣化されるだけでなく、液晶パネル1と接触して流入される不純物により劣化される。従って、容器12に充填された液晶14が複数枚の液晶パネル1に注入される場合も、注入後に残される高価の液晶14を廃棄しなければならないため、液晶パネル1の製造費用が増加するという不都合な点があった。
【0014】
本発明は、このような従来の課題に鑑みてなされたもので、少なくとも一つの液晶パネルを含む大面積のガラス基板上に液晶を直接滴下する液晶滴下装置を提供することを目的とする。
【0015】
且つ、液晶が排出される排出孔を開放又は閉鎖するニードルに弾性力を加えて、ニードルを下降させるスプリングをニードルと磁性棒に設置して、ニードルに加えられる弾性力を増加させることで、精密に液晶を滴下し得る液晶滴下装置を提供することを目的とする。
【0016】
且つ、少なくとも一つの液晶パネルを含む大面積のガラス基板上に液晶を直接滴下する液晶滴下装置を提供することを目的とする。
【0017】
且つ、ニードルの上下部に形成される磁気力によりニードルを上下運動させて、ニードルシートの排出孔を開放又は閉鎖することで、構造が簡単になって、製造費用を節減し得る液晶滴下装置を提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するため、本発明に係る液晶滴下装置の第1実施形態においては、液晶が充填されて、上部にガスが供給されて前記液晶に圧力を加える液晶充填手段と、該液晶充填手段の下部に装着されて、液晶充填手段の液晶が排出される排出孔が形成されたニードルシートと、前記液晶充填手段に上下運動自在に挿入されて、一端部には第1スプリングが設置され、他端部は前記ニードルシートの排出孔と接触して上下運動することで、ニードルシートの排出孔が開放又は閉鎖されるニードルと、該ニードルの上部に装着されて、周囲に設置されたソレノイドコイルに電源が印加されることで磁気力を発生して、前記ニードルを上部に移動させ、第2スプリングが設置されて、電源が切れると共に、前記第2スプリングの弾性力により前記ニードルに力を加える磁性棒と、前記液晶充填手段の下部に装着されて、液晶容器の液晶を少なくとも一つのパネルを含む基板上に滴下するノズルと、を含んで構成されている。
【0019】
且つ、本発明に係る液晶滴下装置の第2実施形態においては、液晶が充填されて、上部にガスが供給されて前記液晶に圧力を加える液晶充填手段と、該液晶充填手段の下部に装着されて、液晶充填手段の液晶が排出される排出孔が形成されたニードルシートと、前記液晶充填手段に上下運動自在に挿入されて前記排出孔と接触し、上下部に発生する磁気力により上下運動して前記排出孔を開放又は閉鎖するニードルと、該ニードルの上部に装着されて、該ニードルの上部に磁気力を印加してニードルを上部に移動させるソレノイドコイル及び磁性棒と、前記液晶充填手段の下部に装着されて、液晶容器の液晶を少なくとも一つのパネルを含む基板上に滴下するノズル(nozzle)と、を含んで構成されている。
【0020】
ニードルシートまたはニードルの端部は永久磁性物質により形成されて、ニードルの下部に磁気力を発生し、前記ニードルシートとニードル(または端部)はフッ素樹脂膜が塗布されて、液晶の劣化を防止すると共に、ニードルとニードルシートが破損されることを防止する。
【0021】
ソレノイドコイルと磁性棒により発生する磁気力は、ニードルまたはニードルシートにより発生する磁気力より大きいため、ソレノイドコイルに電源が印加されて磁性棒に磁気力が発生すると、ニードルが上部に移動し、電源の印加が終了されると、ニードルまたはニードルシートの磁気力によりニードルが迅速に下降し、ニードルシートの排出孔を閉鎖するようになる。
【0022】
【発明の実施の形態】
液晶浸漬方式又は液晶真空注入方式のような従来液晶注入方式の短所を克服するために、近来提案されている方法が液晶滴下方式(Liquid Crystal Dropping Method)による液晶層形成方法である。前記液晶滴下方式は、パネルの内部と外部との圧力差によって液晶を注入するものではなく、液晶を基板上に直接滴下(Dropping)及び分配(Dispensing)し、パネルの合着圧力により滴下された液晶をパネル全体に均一に分布させることで、液晶層を形成するものである。このような液晶滴下方式は、短時間内に基板上に直接液晶を滴下するため、大面積の液晶表示素子の液晶層形成も非常に迅速に進行されるだけでなく、必要量の液晶のみを基板上に直接滴下するため、液晶の消耗を最小化し、液晶表示素子の製造費用を大幅に節減し得るというメリットがある。
【0023】
図1は、液晶滴下方式の基本的な概念を示した図で、図示されたように、前記液晶滴下方式においては、駆動素子及びカラーフィルタが夫々形成された下部基板105と上部基板103とを合着する前に、下部基板105上に水滴状の液晶107を滴下する。該液晶107は、カラーフィルタの形成された上部基板103上に滴下されることもできる。即ち、液晶滴下方式において、液晶滴下の対象となる基板は、TFT基板及びCF基板の何れでも構わないが、但し、基板の合着時、液晶の滴下された基板は必ず下部に置かれるべきである。
【0024】
この時、上部基板103の外郭領域にはシーリング材109が塗布され、前記上部基板103及び下部基板105に圧力を加えると、それら上部基板103と下部基板105とが合着されると同時に、前記圧力により液晶107の滴が外部に広がり、前記上部基板103と下部基板105間に均一な厚さの液晶層が形成される。このように、前記液晶滴下方式の最大の特徴は、パネル101を合着する前に下部基板105上に予め液晶107を滴下した後、シーリング材109によりパネルを合着することである。
【0025】
このような液晶滴下方式を適用した液晶表示素子の製造方法においては、従来の液晶注入方式による製造方法と次のような点で差がある。従来の一般的な液晶注入方式では、複数のパネルが形成される大面積のガラス基板をパネル単位で分離して液晶を注入したが、液晶滴下方式では、予め基板上に液晶を滴下して液晶層を形成した後、ガラス基板をパネル単位で加工分離することができる。
【0026】
このような液晶滴下方式が適用された液晶表示素子の製造方法においては、図2に示したように、TFTアレイ工程及びカラーフィルタ工程により上部基板103及び下部基板105に駆動素子のTFT及びカラーフィルタ層をそれぞれ形成する(S201、S204)。このとき、前記TFTアレイ工程及びカラーフィルタ工程は、図10に示された従来の製造方法と同様であって、複数のパネル領域が形成される大面積のガラス基板に一括的に進行される。特に、前記製造方法では液晶滴下方式が適用されるため、従来の製造方法よりも一層広いガラス基板、例えば、1000×1200mm2以上の大面積のガラス基板に有効に使用することができる。
【0027】
次いで、前記TFTの形成された下部基板105及びカラーフィルタ層の形成された上部基板103に夫々配向膜を塗布し、ラビングを行った後(S202、S205)、下部基板105の液晶パネル領域には液晶107を滴下し、上部基板103の液晶パネルの外郭部領域にはシーリング材109を塗布する(S203、S206)。
【0028】
次いで、前記上部基板103と下部基板105とを整列した状態で圧力を加えて、シーリング材109により前記上部基板103と下部基板105とを合着すると同時に、圧力の印加により滴下された液晶107がパネル全体に均一に広がるようにする(S207)。このような工程により、大面積のガラス基板(下部基板及び上部基板)には液晶層の形成された複数の液晶パネルが形成され、このガラス基板を加工及び切断して複数の液晶パネルに分離し、各液晶パネルを検査することで、液晶表示素子を製作するようになる(S208、S209)。
【0029】
ここで、図2に示された液晶滴下方式が適用された液晶表示素子の製造方法と、図10に示された従来の液晶注入方式が適用された液晶表示素子の製造方法とを比較してみると、液晶の真空注入と液晶滴下との差、及び大面積ガラス基板の加工時期の差以外にも、他の差があることがわかる。即ち、図10に示された液晶注入方式が適用された液晶表示素子の製造方法においては、注入口を通して液晶を注入した後、該注入口を封止材により封止すべきであるが、液晶滴下方式が適用された製造方法においては、液晶が基板に直接滴下されるため、このような注入口の封止工程が不必要になる。又、図10には示してないが、液晶注入方式が適用された製造方法では、液晶の注入時に基板が液晶に接触するため、パネルの外部面が液晶により汚染され、該汚染された基板を洗浄するための工程が必要になるが、液晶滴下方式が適用された製造方法では、液晶が基板に直接滴下されるため、パネルが液晶により汚染されず、その結果、洗浄工程が不必要になる。このように、液晶滴下方式による液晶表示素子の製造方法は、液晶注入方式による製造方法よりも簡単な工程で行われるため、製造効率及び収率が向上される。
【0030】
前記液晶滴下方式が導入された液晶表示素子の製造方法において、液晶層を所望の厚さに正確に形成するための最も重要な要因は、滴下される液晶の位置及び滴下量である。特に、液晶層の厚さは、液晶パネルのセルギャップ(cell gap)と密接な関係があるため、正確な液晶の滴下位置及び滴下量は、液晶パネルの不良を防止するための非常に重要な要素である。従って、正確な位置に正確な量の液晶を滴下する装置が必要となり、本発明では、このような液晶滴下装置を提供する。
【0031】
図3は、本発明に係る液晶滴下装置120を利用して基板(大面積のガラス基板)105上に液晶107を滴下する基本的な概念を示した図で、図示されたように、液晶滴下装置120は、基板105の上部に設置されている。図示されてないが、前記液晶滴下装置120の内部には液晶が充填されて基板上に一定量を充填する。
【0032】
通常、液晶は、水滴状に基板上に滴下される。基板105は、設定された速度でx、y方向に移動し、液晶滴下装置は、設定された時間間隔で液晶を排出するため、基板105上に滴下される液晶107はx、y方向に所定間隔配置される。勿論、液晶滴下時、基板105は固定されて、液晶滴下装置120がx、y方向に移動して液晶を所定間隔滴下することもできるが、この場合、液晶滴下装置120の移動によって水滴状の液晶が揺れ、液晶の滴下位置及び滴下量に誤差が発生することがあるため、液晶滴下装置120を固定させた状態で基板105を移動させることが好ましい。
【0033】
図4は、本発明に係る液晶滴下装置の第1実施形態を示した図であって、図4Aは液晶の未滴下時の構造を示した断面図、図4Bは液晶滴下時の構造を示した断面図で、図5は図4の分解斜視図である。以下、本発明に係る液晶滴下装置の第1実施形態に対し、図面を用いて説明する。
【0034】
図示されたように、液晶滴下装置120においては、円筒状の液晶容器124がケース122に収納されている。前記液晶容器124は、ポリエチレン(Polyethylene)により形成されて、その内部に液晶107が充填され、ケース122はステンレス鋼(Stainless Steel)により形成され、その内部に前記液晶容器124が収納される。通常、ポリエチレンは成形性に優れているため、所望の形状の容器を容易に形成し得るだけでなく、液晶107が充填された時液晶と反応しないため、主に液晶容器124として使用される。然し、前記ポリエチレンは強度が弱くて、外部のちょっとした衝撃でも容易に変形されるが、特に、液晶容器124としてポリエチレンを使用する場合、容器124が変形されると、正確な位置に液晶107を滴下することができないため、強度の強いステンレス鋼からなるケース122に収納して使用する。前記液晶容器124の上部には、外部のガス供給部に連結されたガス供給管(図示せず)が形成されているため、該ガス供給管を介して、外部のガス供給部から窒素のようなガスが供給され、液晶容器124の液晶が充填されてない領域にはガスが充填され、液晶が滴下されるように前記液晶に圧力を加えるようになる。
【0035】
前記液晶容器124は、ステンレス鋼のような金属により形成されることもできる。この場合、外部の衝撃により液晶容器124が変形されないため、外部のケース122が不必要になる。よって、液晶滴下装置120の製造費用を節減し得るようになる。このように、液晶容器124を金属により形成する場合、充填された液晶107が金属と化学的な反応を起こす現象を防止するために、内部にフッ素樹脂膜を塗布することが好ましい。
【0036】
又、ケース122の下端部には開口123が形成され、液晶容器124が前記ケース122に収納されるとき、液晶容器124の下端部に形成された突起138は前記開口123に挿入されて、前記液晶容器124がケース122に結合されるようにする。また、前記突起138は第1結合部141と結合される。図示されたように、突起138にはナット(nut)が形成され、第1結合部141の一側にはボルト(bolt)が形成され、それらナット及びボルトにより突起138と第1結合部141とが締結される。
【0037】
前記第1結合部141の他端にはナットが形成され、第2結合部142の一端にはボルトが形成され、それら第1結合部141と第2結合部142とが締結される。この時、前記第1結合部141と第2結合部142間にはニードルシート143が位置する。該ニードルシート143は、第1結合部141のナットに挿入されて、第2結合部142のボルトが挿入されて締結される時、前記第1結合部141と第2結合部142間に結合される。又、ニードルシート143には排出孔144が形成されて、液晶容器124に充填された液晶107が結合部142を経て、前記排出孔144を通して排出される。
【0038】
又、前記第2結合部142にはノズル145が結合される。該ノズル145は、液晶容器124に充填された液晶107を少量ずつ滴下させるためのもので、第2結合部142の一端に形成されたナットと締結されて、前記ノズル145を第2結合部142と結合させるボルトを含む支持部147と、該支持部147から突出されて、少量の液晶を水滴状に基板上に滴下させる排出口146と、により構成される。
【0039】
前記支持部147の内部には、ニードルシート143の排出孔144から延長された排出管が形成され、該排出管が排出口146と連結されている。通常、ノズル145の排出口146は、極小直径に形成されて(微細な液晶の滴下量を調節するために)、前記支持部147から突出されている。
【0040】
又、前記液晶容器124にはニードル136が挿入されて、その一端部がニードルシート143に接触する。特に、該ニードルシート143と接触するニードル136の端部は円錐状に形成されているため、該当の端部がニードルシート143の排出孔144に挿入されて、該排出孔144を閉鎖するようになる。
【0041】
又、液晶滴下装置120の上部ケース126に位置する前記ニードル136の他端部には第1スプリング128が装着され、前記ニードル136と所定間隔xを有して磁性棒132が装着されている。該磁性棒132には、第2スプリング137が設置されている。図示されたように、前記第2スプリング137は、上部ケース126に固定された収納桶135に収納されて、前記磁性棒132が前記収納桶135に移動自在に挿入され、前記第2スプリング137の弾性力が磁性棒132に印加される。
【0042】
該磁性棒132は、強磁性物質又は軟磁性物質により形成されて、収納桶135の外部には円筒状のソレノイドコイル130が設置されている。該ソレノイドコイル130は、外部の電源供給手段と接続されて電源が印加されることで、前記磁性棒132に磁気力が発生するようになる。外部の電源供給手段からソレノイドコイル130に電源が供給されて、磁性棒132に磁気力が発生すると、該磁気力により前記ニードル136が前記磁性棒132に接触され、一方、電源供給が中断されると、ニードル136の端部に設置された第1スプリング128の弾性により元の位置に復元される。このようなニードル136の上下移動によって、ニードルシート143に形成された排出孔144が開放又は閉鎖される。
【0043】
前記のようなニードル136の上下運動の制御、即ち、排出孔144が開放又は閉鎖される時間の制御は、磁性棒132に設置された第2スプリング137の影響を受ける。ソレノイドコイル130に供給された電源により磁性棒132に磁気力が発生し、ニードル136が上昇して磁性棒132に接して上部に力を加えると、前記磁性棒132も上昇するようになり、それと同時に、該上昇する磁性棒132により前記第2スプリング137が圧縮するようになる。ソレノイドコイル130に供給されていた電源が切れて、前記磁性棒132が磁気力を失うと、圧縮された第2スプリング137の弾性力が前記磁性棒132に加えられて、磁性棒132が前記ニードル136を下部に押し出すようになる。
【0044】
このように、第1スプリング128と第2スプリング137によりニードル136の下降が迅速に行われ、液晶滴下の制御を一層効率的にすることができる。特に、前記第1スプリング128と第2スプリング137によるニードル136の動きは、ニードル136と液晶間の摩擦により発生する滴下不良を効果的に防止するが、以下、それに対して詳細に説明する。
【0045】
通常、液晶は液体に比べて非常に粘度の高い物質である。従って、ニードル136が液晶中で動く時、液晶とニードル136の表面の摩擦によりニードル136の動きが遅延される。液晶の滴下時、このような摩擦によるニードル136の動きの遅延をニードルシート143の排出孔144の開放(open)時間算出のための変数として添加して、正確な開放時間を算出することはできるが、液晶が滴下されるにつれて、液晶容器124に充填された液晶の量が減少するため、ニードル136の遅延時間が減少し、それと同時に、排出孔145の開放時間も減少するようになり、正確な量の液晶滴下が難しくなる。
【0046】
然し、本発明のように、ニードル136の動きを二つのスプリング128、137で制御する場合、ニードル136の下降速度がニードル136の表面と液晶間の摩擦を無視できる程度に速くなるため、排出孔145の開放時間を常に一定に維持することができ、正確な量の液晶滴下が可能になる。
【0047】
前記ニードル136の端部とニードルシート143は、ソルレノーイドコイル130に電源が供給又は中断されることで、反復的に接触するようになり、このような反復的な接触によって、ニードル136の端部及びニードルシート143が持続的な衝撃に露出されて破損される憂いがある。従って、前記ニードル136の端部及びニードルシート143を衝撃に強い物質、例えば、超硬合金により形成して、衝撃による破損を防止することが好ましい。
図4Bに示したように、ニードルシート143の排出孔144が開放されるにつれて、液晶容器124に供給されるガス(即ち、窒素ガス)が液晶に圧力を加えてノズル145から液晶107の滴下が開始される。この時、該滴下される液晶107の量は、前記排出孔144の開放時間及び液晶に加えられる圧力によって変化し、前記開放時間は、ニードル136と磁性棒132との間隔x、ソレノイドコイル130により発生する磁性棒132の磁気力、及びニードル136と磁性棒132に設置されたスプリング128、137の張力によって決定される。磁性棒132の磁気力は、該磁性棒132の周囲に設置されるソレノイドコイル130の巻線数及びソレノイドコイル130に印加される電源の大きさによって調整することができ、ニードル136と磁性棒132との間隔xは、該磁性棒132の端部に設置された間隙調整部134により調整することができる。
【0048】
前記したように、液晶滴下装置の第1実施形態においては、ニードルに設置された第1スプリングと磁性棒に設置された第2スプリングによりニードルの動きを制御し、よって、精密に液晶を滴下し得る液晶滴下装置を提供する。
【0049】
図6は、本発明に係る液晶滴下装置の第2実施形態を示した図で、図7は図6の分解斜視図である。
【0050】
図示されたように、液晶滴下装置の第2実施形態は、図4に示された液晶滴下装置の第1実施形態とはその構造がほとんど類似していて、液晶滴下装置の第2実施形態と第1実施形態との根本的な差は、ニードルを動作させる駆動力にある。即ち、液晶滴下装置の第1実施形態では、ニードルを第1スプリング及び第2スプリングの弾性力により動作させるが、液晶滴下装置の第2実施形態では、磁気力により動作させる。以下、このような液晶滴下装置の第2実施形態の特徴に対して説明する。この時、液晶滴下装置の第1実施形態の構造と同様な構成に対しては、その説明を省略する。
【0051】
図示されたように、液晶容器224とノズル145とを結合させる第1結合部241と第2結合部242間に位置するニードルシート243は、永久磁性を帯びる強磁性物質により形成される。前記ニードルシート243には排出孔244が形成されて、液晶容器224に充填された液晶207が結合部242を経て、前記排出孔244を通して排出される。
【0052】
前記液晶容器224に挿入されて、その一端部がニードルシート243に接触するニードル236は金属により形成されている。従って、前記ニードル236は、ニードルシート243の永久磁性によりニードルシート243の排出孔244に常に堅固に挿入(接触)される。この時、ニードルシート243全体を磁性物質により形成する必要はない。ニードルシート243を磁性物質により形成する理由は、磁気力を形成して、金属により形成されたニードル236が排出孔244に堅固に接するようにするためであって、ニードルシート243全体を磁性物質により形成せずに、排出孔244領域のみを磁性物質により形成することもできる。
【0053】
このような構造の液晶滴下装置220においては、外部の電源供給手段(図示せず)からソレノイドコイル230に電源が供給されて、磁性棒232に磁気力が発生すると、該磁気力によりニードル236が前記磁性棒232に接するようになり、一方、電源供給が中断されると、ニードルシート243の磁気力によりニードル236が元の位置(排出孔244を閉鎖する位置)に復元される。このようなニードル236の上下移動により、ニードルシート243に形成された排出孔244が開放又は閉鎖され、液晶を滴下するようになる。
【0054】
ソレノイドコイル230に電源を印加して、排出孔244を開放又は閉鎖させるためには、前記磁性棒232に形成される磁気力(電磁気力)がニードルシート243に形成される磁気力より大きくなるべきである。もし、ニードルシート243の磁気力が磁性棒232に形成される磁気力より大きいと、ソレノイドコイル230に電源が印加される場合も前記ニードル236が動かなくなり、結局、ニードルシート243に形成された排出孔244が開放されなくなる。よって、磁性棒232に形成される磁気力がニードルシート243に形成される磁気力より大きくなるべきで、また、その大きさも臨界の大きさ以上になるべきである。
【0055】
前記したように、液晶滴下装置の第2実施形態においては、ニードル236の上下部に発生する磁気力によりニードル236の動きを制御することで、基板に滴下される液晶の滴下量を調節する。この時、ニードル236の下部の磁気力は、ニードルシート243を磁性物質により形成した時のみに発生するものではない。排出孔244に挿入されるニードル236の端部を強磁性体により形成して永久磁気力を発生させ、ニードルシート243を金属により形成することで、ニードル236の動きを制御することもできる。
【0056】
前記ニードルシート243とニードル236にはフッ素樹脂膜(teflon layer)が塗布されることもできる。一般に、液晶が金属と接触すると、金属と液晶とが化学的に反応するが、このような化学的反応は液晶を汚染させ、その結果、液晶表示素子を製作した時、該液晶表示素子に不良が発生する重要な原因になる。このような不良は、ニードル236が磁性物質により形成された場合にも同様に発生する。よって、金属及び/または磁性物質により形成されたニードル236の表面に、耐摩耗性、耐熱性及び耐化学性のような特性を保有するフッ素樹脂膜を塗布することで、液晶の汚染を防止することができる。また、前記したように、フッ素樹脂は耐摩耗性を有しているため、ニードル236の端部とニードルシート243に浸漬(Dipping)や噴射(Spray)方法によりフッ素樹脂膜を形成することで、ニードル236の端部とニードルシート243の持続的な衝撃(持続的な接触)による破損を防止することができる。この時、ニードル236に塗布されるフッ素樹脂膜は、ニードル236の端部、即ち、ニードルシート243と接触する端部のみに塗布されたり、全体に塗布されることもできる。
【0057】
図8は、本発明に係る液晶滴下装置の第3実施形態の構造を示した図で、液晶滴下装置の第3実施形態は、液晶滴下装置の第1実施形態と第2実施形態とが結合された構造である。即ち、図示されたように、上部ケース326に固定された収納桶335にはスプリング337が収納されて、磁性棒332に弾性力を印加し、ニードル336またはニードルシート343は磁性物質により形成されている。従って、外部の電源供給手段からソレノイドコイル330に電圧が印加され、磁性棒332に磁気力が生成されると、ニードル336が上昇して、ニードルシート343の排出孔を通して液晶が滴下される。
【0058】
一方、ソレノイドコイル330に印加される電圧が遮断されると、磁性棒332に生成された磁気力が消滅されるが、この時、磁性物質により形成されたニードルシート343には磁気力が発生し、前記ニードル336が元の位置(即ち、ニードルシートと接触する位置)に復元する。又、ニードル336の上部にはスプリング337が設置されているため、ニードル336の復元時、スプリング337の弾性力により一層迅速に復元することができる。即ち、ニードルシート343の排出孔の開放又は閉鎖時間を精密に制御することができる。
【0059】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液晶滴下装置においては、ニードル及び磁性棒にスプリングを設置して、ニードルの動きを精密に制御するため、基板上に滴下される液晶の滴下量を正確に制御することができる。また、本発明においては、二つのスプリングによりニードルの下降を補強することで、ニードルと液晶の摩擦によるニードルの動きの遅延を無視できるようになる。よって、ニードルシートの排出孔を常に所定時間開放することができ、その結果、基板上に常に正確な液晶を滴下し得るという効果がある。
【0060】
且つ、本発明に係る液晶滴下装置においては、ニードルの下端部またはニードルシートを永久磁性を有する物質により形成し、その上部にはソレノイドコイルにより磁気力を発生する磁性棒を設置し、上下部に発生する磁気力によりニードルの動きを制御することで、基板上に液晶を滴下することができる。よって、構造が簡単になるだけでなく、製造費用を節減し得るようになる。また、本発明においては、ニードルとニードルシートにフッ素樹脂膜を塗布することで、液晶が金属と反応して劣化される現象を防止し得るだけでなく、ニードルとニードルシートの持続的な接触による破損を效果的に防止し得るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る液晶滴下方式により製作された液晶表示素子を示した図である。
【図2】液晶滴下方式により液晶表示素子を製作する方法を示したフローチャートである。
【図3】液晶滴下方式の基本的な概念を示した図である。
【図4A】本発明に係る液晶滴下装置の第1実施形態の構造を示した図で、液晶未滴下時の図である。
【図4B】本発明に係る液晶滴下装置の第1実施形態の構造を示した図で、液晶滴下時の図である。
【図5】図4A、図4Bに示された液晶滴下装置を示した分解斜視図である。
【図6】本発明に係る液晶滴下装置の第2実施形態の構造を示した図である。
【図7】図6に示された液晶滴下装置を示した分解斜視図である。
【図8】本発明に係る液晶滴下装置の第3実施形態の構造を示した図である。
【図9】一般的な液晶表示素子を示した断面図である。
【図10】従来液晶表示素子の製造方法を示したフローチャートである。
【図11】従来液晶表示素子の液晶注入を示した図である。
【符号の説明】
124、224、324:液晶容器
143、243、343:ニードルシート
136、236、336:ニードル
130、230、330:ソレノイドコイル
132、232、332:磁性棒
128、137、337:スプリング

Claims (15)

  1. 液晶が充填された液晶容器と、
    該液晶容器の上部にガスを供給して液晶に圧力を加えるガス供給部と、
    該液晶容器の下部に装着されて、液晶容器の液晶が排出される排出孔が形成されたニードルシートと、
    第1端部及び第2端部を具備して、液晶容器内に上下方向に運動自在に設置されたニードルと、
    該ニードルの第1端部に設置された第1スプリングと、
    前記液晶容器の上部に設置されたソレノイドコイルと、
    前記ニードルの第1端部の付近に位置して、周囲に設置されたソレノイドコイルに電源が印加されることで磁気力を発生し、前記ニードルを上部に移動させる磁性棒と、
    該磁性棒に設置された第2スプリングと、
    前記液晶充填手段の下部に装着されて、液晶容器の液晶を基板上に滴下するノズルと、を含んで構成されることを特徴とする液晶滴下装置。
  2. 前記液晶容器は、金属により形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶滴下装置。
  3. 前記液晶容器は、
    液晶が充填される内部液晶容器と、
    該内部液晶容器を収納するケースと、から構成されることを特徴とする請求項1記載の液晶滴下装置。
  4. 前記第2スプリングを収納する収納桶を更に含むことを特徴とする請求項1記載の液晶滴下装置。
  5. 液晶が充填された液晶容器と、
    該液晶容器の上部にガスを供給して液晶に圧力を加えるガス供給部と、
    該液晶容器の下部に装着されたニードルシートと、
    該ニードルシートに形成されて液晶を排出し、第1磁気力を保有する排出孔と、
    前記液晶容器に上下運動自在に挿入されて、第1端部及び第2端部を保有して、第2端部から発生する磁気力によって第1端部が排出孔を開放又は閉鎖するニードルと、
    該ニードルの第2端部の周囲に装着されて、該ニードルの第2端部に第2磁気力を印加してニードルを上部に移動させるソレノイドコイル及び磁性棒と、
    前記液晶容器の下部に装着されて、液晶を基板上に滴下するノズルと、を含んで構成されることを特徴とする液晶滴下装置。
  6. 第2磁気力は、第1磁気力より大きいことを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  7. 前記ニードルの第1端部は、永久磁性物質により形成されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  8. 前記ニードルシートは、永久磁性物質により形成されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  9. 前記ニードルシートの排出孔の周囲は、永久磁性物質により形成されることを特徴とする請求項8記載の液晶滴下装置。
  10. 前記ニードルには、フッ素樹脂膜が塗布されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  11. 前記ニードルの第2端部には、フッ素樹脂膜が塗布されることを特徴とする請求項10記載の液晶滴下装置。
  12. 前記ニードルシートには、フッ素樹脂膜が塗布されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  13. 前記液晶容器は、金属により形成されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  14. 前記液晶容器は、
    液晶が充填される内部液晶容器と、
    該内部液晶容器が収納されるケースと、から構成されることを特徴とする請求項5記載の液晶滴下装置。
  15. 液晶が充填されて、上部にガスが供給されて液晶に圧力を加える液晶容器と、
    該液晶容器の下部に装着されて、液晶が排出される排出孔が形成されたニードルシートと、
    前記液晶充填手段に上下運動自在に挿入されて、第1端部及び第2端部を具備して、それら第1端部及び第2端部に発生する第1磁気力により第1端部が排出孔を開放または閉鎖するニードルと、
    該ニードルの第2端部の上部に装着されたソレノイドコイルと、
    該ニードルの上部に装着されて、ソレノイドコイルに電源が印加されることで第2磁気力を発生し、前記ニードルを上部に移動させる磁性棒と、
    前記液晶容器の下部に装着されて、液晶を基板上に滴下するノズルと、を含んで構成されることを特徴とする液晶滴下装置。
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