JP2001342026A - 石英ガラスの製造方法及び製造装置 - Google Patents

石英ガラスの製造方法及び製造装置

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JP2001342026A
JP2001342026A JP2000160920A JP2000160920A JP2001342026A JP 2001342026 A JP2001342026 A JP 2001342026A JP 2000160920 A JP2000160920 A JP 2000160920A JP 2000160920 A JP2000160920 A JP 2000160920A JP 2001342026 A JP2001342026 A JP 2001342026A
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吉彦 後藤
Shinichi Sato
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Abstract

(57)【要約】 【課題】シリカ粉を加熱溶融してスラブ状の大きな石英
ガラスインゴットを製造できるようにする。 【解決手段】回転する炉１の上部の石英ガラス製バーナ
ー６からシリカ粉を供給しながら溶融石英ガラスを炉底
の中央に積層し、加熱と炉１の回転によって溶融石英ガ
ラスを炉の外周へ伸展させ、スラブ状の石英ガラスイン
ゴットを得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、平板型であるス
ラブ状の石英ガラスのインゴットを製造する方法及び装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】 シリカ粉を熱で溶融する石英ガラスの
製造方法には種々あり、熱源には、水素−酸素、プロパ
ン−酸素などの火炎、アーク、高周波や真空の電気炉な
どが採用されているが、特公昭４６−４２１１１号公報
などにあるように、溶融シリカを回転するターゲット上
に堆積して、堆積部を定速で降下、冷却して積層し、砲
弾型であるコラム状の石英ガラスインゴットを製造する
方法が一般的である。また、特開平４−３２５４２５号
公報にあるように、プラズマアークでシリカ粉を溶融し
回転台上に積層する方法があるが、いずれも製造された
インゴットは細長いコラム形状である。
【０００３】
【発明が解決すべき課題】不純物が少なく化学反応しな
い石英ガラス、中でもシリカ粉を溶融した石英ガラス
は、合成石英ガラスに比べて耐熱性に優れているため半
導体の製造装置に多用されているが、半導体の製造効率
を上げるため半導体ウェーハが大型化されてきており、
これに伴って石英ガラスも大きなインゴットが要求され
るようになった。しかし、従来の製造方法で製造された
石英ガラスインゴットは長尺のコラム状であり、断面が
小さく、径の大きな石英ガラス製品に対応できなかっ
た。
【０００４】このため、コラム状インゴットを再溶融し
て大きなインゴットに成形する方法が採られているが、
微細な泡や不純物の混入、歪の発生など、二次成形汚染
による純度や均質性の低下の問題があり、再成形するこ
となしにシリカ粉を溶融して直接大きなインゴットを製
造することが望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】回転する炉底の中央部に
シリカ粉を落下積層させ、加熱溶融して炉の外周方向に
均一に伸展させて径大のスラブ状のインゴットを得た。
また、回転する炉と、炉天井にシリカ粉を炉底中央部に
落下させる供給部と炉内を加熱するバーナーを取り付け
た石英ガラスの製造装置によってスラブ状のインゴット
を製造可能とした。また、炉に一定量のシリカ粉を供給
するため、ホッパーから取り出される粉体を回転テーブ
ルで受け、回転テーブル上に設けた掻き取り板によっ
て、一定量の粉体が供給されるようにした。また、溶融
石英ガラスと反応せず、また、剥離性がよく、耐熱性に
優れた炭化珪素質レンガを炉内耐火物として使用するこ
とで大型形状のスラブ状インゴットの製造を可能とし
た。
【０００６】
【発明の実施の形態】炉１は、モータで回転駆動される
フレームにアルミナレンガが敷きつめてあり、側壁部は
製造するインゴットの外形に合わせて炭化珪素質レンガ
を適宜の形状に配列したものである。側壁１１の外側に
は断熱保温のためにアルミナ多孔質レンガとアルミナレ
ンガを二重に配置してある。炉の上部は開放してあり、
炉天井２が間隙Ｓをあけて配置される。炉天井２は、ア
ルミナレンガや多孔質レンガ、またはジルコニア系レン
ガ等の耐熱性を有するレンガを配列したものであり、バ
ーナー６の取り付け穴や炉内を監視する窓を設ける穴が
形成してある。
【０００７】炉１を構成するレンガの材料としては、Ｍ
ｇＯやＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3などのマグネシア系レンガやＣ
ａＯなどの塩基性耐火物は石英ガラスを溶融する高温に
耐えきれず、また、溶融石英ガラスと激しく反応するの
で使用することができない。
【０００８】また、Ａｌ2Ｏ3の中性耐火物は、耐熱性は
十分であるが、溶融石英ガラスと反応するため好ましく
なく、溶融石英ガラスと直接接触する部分には使用する
ことができない。
【０００９】炭化珪素質耐火物は耐熱性が高く、石英ガ
ラスの剥離性が良好で、強度も十分であるので、溶融石
英ガラスと直接接触する側壁材として適している。なか
でも、酸化珪素（ＳｉＯ2）、または、窒化珪素（Ｓｉ3
Ｎ4）をバインダーとした炭化珪素質レンガが好まし
く、より好ましいのは窒化珪素をバインダーとした窒化
珪素結合炭化珪素質レンガ（ＳｉＣ８０％、Ｓｉ3Ｎ4２
０％）である。
【００１０】炉１に使用するレンガは、使用に先立って
表面を焼成し、溶融石英ガラスとの接触面となるレンガ
表面に付着した金属不純物を除去する。また、レンガの
微細破片は発泡剤としての機能を有し、接触した溶融石
英ガラスに微細な泡を発生させ、失透を起こす原因とな
るので、この表面の微細破片を焼成によって除去する。
【００１１】炉底は、バーナーからの熱を直接受けるの
で炉内に面した部分にはアルミナレンガよりも耐熱性に
優れるＺｒＯ2−ＳｉＯ2系のジルコン質レンガを用いる
のが望ましい。しかし、ジルコン質レンガは、アルミナ
レンガ同様、直接石英ガラスに接触すると反応し、製品
が割れたり、炉からの取り出しが困難になる等の問題が
発生するため、製品と炉底レンガが剥離するようにφ２
〜φ１０ｍｍの耐熱性に優れ、剥離性の良いジルコニア
粒子を炉底レンガの上一面に薄く敷き詰める。粒子状と
することにより、加熱、冷却時のガラスとの熱膨張率差
による影響も緩和することができる。
【００１２】原料のシリカ粉はホッパー３に貯蔵されて
おり、ホッパー３には振動を加えてシリカ粉が詰まらな
いようにする。図３に示すように、ホッパー３の下端に
は開口度を調節できる取り出し口３０が設けてあり、そ
の下側に回転テーブル３１が設置してある。回転テーブ
ル３１には、均し板３２が設けてあり、この均し板３２
の下縁は回転テーブル面から間隔をおいて取り付けてあ
り、この間隔は調節可能である。
【００１３】ホッパー３から供給された粉体は、回転テ
ーブル３１の回転にともなって均し板３２に衝突し、均
し板３２の下縁と回転テーブルの間隔の厚みに均され
る。この均し作業の際の余剰の粉体は、回転テーブル３
１の外周縁に設けられた粉体回収ホッパー４に回収され
ホッパー３等に戻される。均し板３２の下流側には均し
板３２と同様の構成の掻き取り板３３が設置してある。
【００１４】この掻き取り板３３は、均し板３２で一定
厚さに均された粉体を回転テーブル３１の半径方向外側
に掻き出し、回転テーブル３１の下に設けた供給ホッパ
ー５に落下させるようにしたものである。掻き取り板３
３は、回転テーブル３１の外縁から回転中心に延びてい
る。掻き取り板３３の長さ、回転テーブル３１の回転速
度、及び均し板３２の下縁と回転テーブル３１の間隔を
調整することで供給ホッパー５への供給量を調節するこ
とができる。供給ホッパー５に落下したシリカ粉は、打
点記録計で落下量が監視、制御され、適宜の手段で炉１
に送り込まれる。
【００１５】石英ガラスの原材料であるシリカ粉は、珪
石、珪砂、水晶粉やシリコンアルコキシドを塩酸、或い
は、アンモニア触媒下で加水分解して得たシリカを焼成
したものや、アルカリ金属珪酸水溶液と酸とを反応させ
て得たシリカを精製し、焼成したものなどを使用する。
また、シリカ粉の粒度は、４０〜２５０メッシュの範囲
のものが好ましく、より好ましくは８０〜１００メッシ
ュであり、供給速度は、製造する石英ガラスが透明材で
あるか不透明材であるかなどの用途や形状等に応じて
１．０〜１０Ｋｇ／Ｈｒとする。
【００１６】図４に示すバーナーは、公知の石英ガラス
製のバーナーであり、水素と酸素の供給管、及びシリカ
粉の供給管を有するものである。このバーナーが炉天井
２の耐熱レンガに設けた穴に図１及び図２に示すように
バーナー先端が炉天井２より突出するように取り付けら
れる。
【００１７】製造するインゴットの大きさ、すなわち炉
の大きさに応じて、図２に示すように、シリカ粉供給装
置を有するメインバーナー６１に加えて補助バーナー６
２を一個、若しくは複数個設ける。補助バーナー６２に
より炉内に熱を供給し、メインバーナー６１で溶融、積
層した石英ガラスを更に加熱して温度を上昇させて流動
させ、炉の外周方向に更に伸展させる。
【００１８】補助バーナー６２の火炎の方向は、鉛直方
向だけでなく、適宜の方向に傾斜させ、炉全体が均一な
温度分布になるように配置する。炉内の温度を均一化す
るため、補助バーナー６２をメインバーナー６１の周囲
に複数配列する。なお、補助バーナー６２は炉の回転順
方向へ５〜１５°傾斜させることが燃焼ガスの撹乱・干
渉を防止する上で好ましい。
【００１９】炉１の底部には、ジルコニア粒子を１０ｍ
ｍ程度敷き均し、炉底のレンガと溶融石英ガラスが直接
接触するのを防止する。炉底のレンガと石英ガラスが反
応するとクラック発生の原因となるので、炉底の状態に
応じて敷き均し厚は調節する。
【００２０】炉天井２を炉の上に間隙Ｓを設けて設置
し、炉１の回転とは独立させる。炉天井２に予め設けて
あった穴にメインバーナー６１、また、必要に応じて補
助バーナー６２を取り付け、水素、酸素供給管をそれぞ
れ接続する。また、メインバーナー６１のシリカ粉供給
部には、供給ホッパー５からの供給管を接続する。供給
系には、シリカ粉が詰まるのを防止するため適宜振動装
置を付加する。
【００２１】メインバーナー６１及び補助バーナー６２
に点火し、炉１を２〜１０ｒｐｍで回転させる。炉１は
必要に応じて１〜３時間予熱し、前述のようにレンガ表
面の不純物及び微細破片を除去する。
【００２２】粉体供給装置７を作動させてメインバーナ
ー６１にシリカ粉を供給し、溶融を開始する。シリカ粉
は炉天井２から炉底の中央部に落下し、バーナーの熱、
または、溶融石英ガラスの熱容量によって溶融し、流動
・伸展しながら積層されていく。炉内中央は、メインバ
ーナー６１と補助バーナー６２で石英ガラスの溶融温度
以上の約２０００℃に維持されており、また、炉１が回
転しており、溶融石英ガラスが積層されていくに従い、
炉の外周に向かって伸展していく。
【００２３】こうして流動・伸展されるため非常に泡の
少ない石英ガラスインゴットを製造することができる。
元来火炎溶融法は、連続的にシリカ粉を落下させ、落下
点の溶融状態の石英ガラスの熱容量でシリカ粉を溶融さ
せるため、電気溶融法に比較して泡の少ない石英ガラス
を製造できるという利点を有しているが、従来のコラム
状のインゴットを得る方法では、熱容量が不足すると個
々のシリカ粉の粒同士が溶融されて合体せず、粒の間の
空間がそのまま残り泡となる確率が高いのであるが、本
発明のように、炉の外周に向かって溶融石英ガラスを伸
展させるものでは、伸展中に空間が埋められるため、泡
の発生が極めて少なくなる。
【００２４】炉１を石英ガラスの積層速度に合わせて垂
直方向に自動的に降下させてバーナー６と石英ガラスと
の間の距離を一定としたり、炉１を水平方向に５０〜１
５０ｍｍ程度揺動させることにより、溶融石英ガラスの
伸展をより滑らかにすることができる。また、図２に示
すように公転モータにより揺動を自転、公転の二重回転
方式としてもよい。
【００２５】溶融石英ガラスは伸展して炉１の側壁１１
に達し、側壁１１のレンガの配列に合致した形状に形成
される。したがって、側壁を四方に配置し、例えば１０
００ｍｍ角×厚さ３００ｍｍの正四角形状のインゴット
としたり、側壁１１のレンガを多角形や丸形に配置し
て、多角形や丸形のスラブ状インゴットを製造すること
ができる。
【００２６】設定量のシリカ粉が炉１に供給されたら、
粉体供給装置７を停止し、なおも加熱を続け、生成され
たインゴットの中央部の盛り上がった部分が流動・伸展
してほぼ平坦になったところで、水素及び酸素の供給を
停止して消火し加熱を終了する。
【００２７】消火後、炉１の回転を停止し、炉１の側壁
１１のレンガをはずして炉内部に生成された石英ガラス
インゴットを取り出す。なお、溶融終了後、メインバー
ナー６１及び補助バーナー６２の酸水素火炎で数時間程
度インゴットをアニールすると、インゴット中央部の脈
理が薄くなり、歪みが全体的に少なくなり、均質性Δｎ
の値が改善される。
【００２８】
【発明の効果】溶融した石英ガラスを炉内で伸展させて
スラブ状とするので、希望する大きさのインゴットが得
られる。補助バーナーを配置することによって、大きな
インゴットでも均質な石英ガラスとすることができる。
ホッパーから落下するシリカ粉を回転テーブル上で一定
厚に均し、掻き取り板で掻き取るので、所定の量の粉体
を安定的に供給することができる。溶融石英ガラスと接
触する部分の炉内耐火物を炭化珪素質レンガとしたの
で、高温で石英ガラスと反応することがなく、また、剥
離性がよいので大型で任意の形状のスラブ状インゴット
が製造できる。本発明によって希望の大きさの石英ガラ
スインゴットを製造できるので、大型のウェーハの保持
装置、搬送装置、及び洗浄治具、または、炉芯管などの
半導体製造装置や大型基板などに使用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】スラブ状インゴットの製造炉正面図。
【図２】補助バーナーを設けたスラブ状インゴット製造
炉の正面図。
【図３】粉体供給装置の斜視図。
【図４】石英ガラス製バーナーの一例を示す断面図。
【符号の説明】
１ 炉 １１ 側壁 ２ 炉天井 ３ ホッパー ４ 回収ホッパー ５ 供給ホッパー ６１ メインバーナー ６２ 補助バーナー ７ 粉体供給装置

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】回転する炉の上部からシリカ粉を落下させ
    て炉底中央部に積層させ、加熱溶融して炉の外周方向に
    伸展させてインゴットとする石英ガラスの製造方法。
  2. 【請求項２】請求項１において、補助バーナーにより熱
    を供給し、メインバーナーで溶融して積層した石英ガラ
    スインゴットの温度をさらに上昇させて石英ガラスを流
    動させる石英ガラスの製造方法。
  3. 【請求項３】請求項１または２のいずれかにおいて、溶
    融熱源は酸水素火炎である石英ガラスの製造方法。
  4. 【請求項４】回転する炉と、炉天井にシリカ粉を炉底中
    央部に落下させる供給部及びバーナーが取り付けてある
    石英ガラスの製造装置。
  5. 【請求項５】請求項４において、炉を水平方向に揺動さ
    せる装置が設けてある石英ガラスの製造装置。
  6. 【請求項６】請求項４または５のいずれかにおいて、ホ
    ッパーの下端に設けた取り出し口、ホッパー下部に設け
    た回転テーブル、回転テーブル上に設けた掻き取り板、
    該掻き取り板の上流側に設けた粉体均し板からなる粉体
    供給装置によってシリカ粉を供給部に供給する石英ガラ
    スの製造装置。
  7. 【請求項７】請求項４〜６のいずれかにおいて、少なく
    とも炉の側壁部分を炭化珪素質レンガとした石英ガラス
    の製造装置。
  8. 【請求項８】請求項４〜７のいずれかにおいて、炉底部
    にジルコニア粒子が敷き詰めてある石英ガラスの製造装
    置。
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EP (2) EP1772437A3 (ja)
JP (1) JP2001342026A (ja)
DE (1) DE60129376T3 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100832906B1 (ko) 2007-06-04 2008-05-28 (주) 디에스테크노 실리콘 분말 공급장치 및 공급방법
EP2067751A1 (en) 2007-11-30 2009-06-10 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Method and device for manufacturing silica glass
WO2014003129A1 (ja) * 2012-06-27 2014-01-03 株式会社ニコン ＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスの製造方法、ＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスからなる板状部材の製造方法、製造装置およびＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスの製造装置
EP1160209B2 (en) † 2000-05-30 2017-06-28 Tosoh Quartz Corporation Method and apparatus for manufacturing quartz glass ingot
CN110255863A (zh) * 2019-07-22 2019-09-20 陕西工业职业技术学院 一种柔性玻璃板根控制系统及其控制方法
JP2020083725A (ja) * 2018-11-29 2020-06-04 東ソ−・エスジ−エム株式会社 石英ガラス成型体の製造方法および石英ガラス成型体の製造装置
WO2023171751A1 (ja) * 2022-03-11 2023-09-14 三菱ケミカル株式会社 石英部材の製造方法、及びシリカ粉の溶射コーティング方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7320775B2 (en) * 2001-05-16 2008-01-22 Guava Technologies, Inc. Exchangeable flow cell assembly with a suspended capillary
EP1604957A4 (en) * 2003-03-19 2011-09-07 Sumitomo Electric Industries PROCESS FOR PRODUCING GLASS MATERIAL
JP5036193B2 (ja) * 2006-02-28 2012-09-26 信越化学工業株式会社 石英ガラス製バーナの火炎調整方法
US20090272150A1 (en) * 2007-11-02 2009-11-05 Lawrence Henry Kotacska Corrosion-resistant cradle and castable materials for glass production
US20110059837A1 (en) * 2008-04-03 2011-03-10 Waltraud Werdecker Method for producing synthetic quartz glass
DE102009030852B3 (de) * 2009-06-26 2010-07-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Quarzglaszylinders aus einem Schmelztiegel
US9221709B2 (en) 2011-03-31 2015-12-29 Raytheon Company Apparatus for producing a vitreous inner layer on a fused silica body, and method of operating same
US9193620B2 (en) 2011-03-31 2015-11-24 Raytheon Company Fused silica body with vitreous silica inner layer, and method for making same
US20150307385A1 (en) 2014-04-25 2015-10-29 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for additive manufacturing of glass
US10604437B2 (en) * 2014-10-20 2020-03-31 Navus Automation, Inc. Fused silica furnace system and method for continuous production of fused silica
CN104926088B (zh) * 2015-07-16 2018-04-10 中国建筑材料科学研究总院 高均匀合成石英玻璃砣的制备方法
US9919510B2 (en) * 2016-04-12 2018-03-20 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for additive manufacturing with molten glass
CN108947214B (zh) * 2018-09-05 2023-11-03 荆州大方智能科技股份有限公司 一种石英锭托举装置
EP3656744A1 (en) 2018-11-23 2020-05-27 Heraeus Conamic UK Limited On-line annealing of large fused quartz ingots
EP3656746A1 (en) 2018-11-23 2020-05-27 Heraeus Conamic UK Limited Method and apparatus for cutting a hollow quartz glass ingot
CN110013817A (zh) * 2019-05-21 2019-07-16 江苏迈纳德微纳技术有限公司 一种原子级别粉末改性设备
CN111039548A (zh) * 2019-12-11 2020-04-21 中国建筑材料科学研究总院有限公司 石英玻璃碇等径度控制方法
CN110818245B (zh) * 2019-12-18 2020-07-31 中建材衢州金格兰石英有限公司 一种气熔连拉石英棒的生产工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5145862B2 (ja) * 1972-09-11 1976-12-06
JPS62105936A (ja) * 1985-07-16 1987-05-16 Seiko Epson Corp 平板状石英ガラスの製造方法
JPS63218522A (ja) * 1987-03-06 1988-09-12 Tosoh Corp 石英ガラス中の歪の除去方法
JPH03153537A (ja) * 1989-11-09 1991-07-01 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスインゴットの製造法
JPH07126019A (ja) * 1993-10-28 1995-05-16 Nippon Silica Glass Co Ltd 石英ガラスの製造方法及びその装置
WO2000003955A1 (en) * 1998-07-15 2000-01-27 Saint-Gobain Quartz Plc Process and apparatus for manufacturing a glass ingot from synthetic silica

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1960215A (en) * 1932-11-30 1934-05-22 Gen Electric Method of and apparatus for producing refractory bodies
US3303115A (en) * 1962-05-31 1967-02-07 Corning Glass Works Methods for forming materials of high purity by fusion
JPS52145422A (en) 1976-05-29 1977-12-03 Toshiba Ceramics Co Continuous melttdrawing furnace for glass
SU597650A1 (ru) * 1976-10-25 1978-03-17 Государственный Научно-Исследовательский Институт Кварцевого Стекла Газопламенна печь дл наплавлени кварцевых заготовок
DE2952038C2 (de) † 1979-12-22 1982-03-11 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau Schmelzvorrichtung aus Quarzglas zum Herstellen von massivem Quarzglas
NL8204438A (nl) * 1982-11-16 1984-06-18 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor de continue vervaardiging van langgerekte lichamen uitgaande van een ongesmolten uitgangsmateriaal.
JPS649823A (en) * 1987-06-30 1989-01-13 Nippon Kokan Kk Production of silicic acid
DE3815974C1 (ja) * 1988-05-10 1989-08-24 Heraeus Quarzschmelze
DE3913875C1 (ja) * 1989-04-27 1990-08-09 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau, De
JPH0455332A (ja) * 1990-06-25 1992-02-24 Shin Etsu Chem Co Ltd 合成石英ガラス板の連続的製造方法
JPH04209725A (ja) * 1990-11-30 1992-07-31 Toshiba Ceramics Co Ltd バーナ装置
GB9108891D0 (en) * 1991-04-25 1991-06-12 Tetronics Research & Dev Co Li Silica production
DE4212099C2 (de) * 1992-04-10 1994-07-21 Heraeus Quarzglas Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Verbundkörpers aus Glas
GB9210327D0 (en) † 1992-05-14 1992-07-01 Tsl Group Plc Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies
JP2830987B2 (ja) * 1994-07-19 1998-12-02 信越石英株式会社 石英ガラスルツボ及びその製造方法
JP2000505036A (ja) * 1996-02-21 2000-04-25 コーニング インコーポレイテッド 純粋な溶融シリカ、炉および方法
EP0816297B1 (en) † 1996-07-04 2002-11-06 Tosoh Corporation Opaque quartz glass and process for production thereof
JPH11116256A (ja) * 1997-10-06 1999-04-27 Nikon Corp 合成石英ガラス製造用バーナーおよびその修理方法
JPH11209128A (ja) † 1998-01-20 1999-08-03 Nikon Corp 合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス
US6649268B1 (en) * 1999-03-10 2003-11-18 Nikon Corporation Optical member made of silica glass, method for manufacturing silica glass, and reduction projection exposure apparatus using the optical member
JP2000281358A (ja) † 1999-03-31 2000-10-10 Nikon Corp 合成石英ガラスの製造方法、製造装置、および合成石英ガラス
JP2001010833A (ja) † 1999-06-21 2001-01-16 Nikon Corp 石英ガラス部材
JP2001342026A (ja) † 2000-05-30 2001-12-11 Tosoh Quartz Corp 石英ガラスの製造方法及び製造装置
DE10245892A1 (de) 2002-09-30 2004-05-13 Siemens Ag Beleuchtungseinrichtung zur Hinterleuchtung einer Bildwiedergabevorrichtung
JP4325425B2 (ja) 2004-02-06 2009-09-02 富士ゼロックス株式会社 現像装置及びこれを用いた画像形成装置
US7969829B2 (en) 2006-03-24 2011-06-28 Pioneer Corporation Objective lens driving apparatus, optical pickup, and information recording/reproducing apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5145862B2 (ja) * 1972-09-11 1976-12-06
JPS62105936A (ja) * 1985-07-16 1987-05-16 Seiko Epson Corp 平板状石英ガラスの製造方法
JPS63218522A (ja) * 1987-03-06 1988-09-12 Tosoh Corp 石英ガラス中の歪の除去方法
JPH03153537A (ja) * 1989-11-09 1991-07-01 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスインゴットの製造法
JPH07126019A (ja) * 1993-10-28 1995-05-16 Nippon Silica Glass Co Ltd 石英ガラスの製造方法及びその装置
WO2000003955A1 (en) * 1998-07-15 2000-01-27 Saint-Gobain Quartz Plc Process and apparatus for manufacturing a glass ingot from synthetic silica

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1160209B2 (en) † 2000-05-30 2017-06-28 Tosoh Quartz Corporation Method and apparatus for manufacturing quartz glass ingot
KR100832906B1 (ko) 2007-06-04 2008-05-28 (주) 디에스테크노 실리콘 분말 공급장치 및 공급방법
EP2067751A1 (en) 2007-11-30 2009-06-10 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Method and device for manufacturing silica glass
WO2014003129A1 (ja) * 2012-06-27 2014-01-03 株式会社ニコン ＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスの製造方法、ＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスからなる板状部材の製造方法、製造装置およびＳｉＯ２－ＴｉＯ２系ガラスの製造装置
JPWO2014003129A1 (ja) * 2012-06-27 2016-06-02 株式会社ニコン ＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラスの製造方法、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラスからなる板状部材の製造方法、製造装置およびＳｉＯ２−ＴｉＯ２系ガラスの製造装置
US9802852B2 (en) 2012-06-27 2017-10-31 Nikon Corporation Manufacturing method for SiO2—TiO2 based glass, manufacturing method for plate-shaped member made of SiO2—TiO2 based glass, manufacturing device, and manufacturing device for SiO2—TiO2 based glass
US10266443B2 (en) 2012-06-27 2019-04-23 Nikon Corporation Device for manufacturing SiO2-TiO2 based glass
JP2020083725A (ja) * 2018-11-29 2020-06-04 東ソ−・エスジ−エム株式会社 石英ガラス成型体の製造方法および石英ガラス成型体の製造装置
JP7140654B2 (ja) 2018-11-29 2022-09-21 東ソ－・エスジ－エム株式会社 石英ガラス成型体の製造方法および石英ガラス成型体の製造装置
CN110255863A (zh) * 2019-07-22 2019-09-20 陕西工业职业技术学院 一种柔性玻璃板根控制系统及其控制方法
CN110255863B (zh) * 2019-07-22 2023-04-25 山东柔光新材料有限公司 一种柔性玻璃板根控制系统及其控制方法
WO2023171751A1 (ja) * 2022-03-11 2023-09-14 三菱ケミカル株式会社 石英部材の製造方法、及びシリカ粉の溶射コーティング方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1772437A3 (en) 2009-03-04
US20020002843A1 (en) 2002-01-10
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DE60129376T2 (de) 2007-10-31
US7305852B2 (en) 2007-12-11
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EP1772437A2 (en) 2007-04-11
DE60129376D1 (de) 2007-08-30

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