JPH04209725A - バーナ装置 - Google Patents
バーナ装置Info
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- JPH04209725A JPH04209725A JP34021690A JP34021690A JPH04209725A JP H04209725 A JPH04209725 A JP H04209725A JP 34021690 A JP34021690 A JP 34021690A JP 34021690 A JP34021690 A JP 34021690A JP H04209725 A JPH04209725 A JP H04209725A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
- C03B19/1423—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/06—Concentric circular ports
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/04—Multi-nested ports
- C03B2207/12—Nozzle or orifice plates
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- C03B2207/14—Tapered or flared nozzles or ports angled to central burner axis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/36—Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/42—Assembly details; Material or dimensions of burner; Manifolds or supports
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（１）発明の目的
［産業上の利用分野］
本発明は、石英ガラスの製造もしくは加工などに利用さ
れているバーナ装置に関し、特に、原料ガスノズルおよ
び複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素ガスを放出す
るための複数の水素ガス放出孔が形成された邪魔板を水
素ガスノズルの内部に配設することにより原料ガスおよ
び酸素ガスに対し水素ガスを均一に供給してなるバーナ
装置に関するものである。
れているバーナ装置に関し、特に、原料ガスノズルおよ
び複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素ガスを放出す
るための複数の水素ガス放出孔が形成された邪魔板を水
素ガスノズルの内部に配設することにより原料ガスおよ
び酸素ガスに対し水素ガスを均一に供給してなるバーナ
装置に関するものである。
従来、この種のバーナ装置としては、原料ガスノズルを
水素ガスノズルの内部に開口せしめ、かつ原料ガスノズ
ルを包囲するよう複数の酸素ガスノズルを水素ガスノズ
ルの内部に開口せしめてなるものが提案されていた。 ［解決すべき問題点］ しかしながら、従来のバーナ装置では、水素ガスノズル
の内部に対して原料ガスノズルおよび複数の酸素ガスノ
ズルが開口されているに過ぎなかったので、（ｉ）原料
ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスが一括供給されてし
まう欠点があり、ひいては（ｉｉ）水素ガスが原料ガス
および酸素ガスに対し均一に混合されない欠点があり、
結果的に（ｉｉｉｌ火炎の状態が不安定となって高温を
達成することが困難となり原料ガスを十分に加熱できな
い欠点があった。 そこで、本発明は、これらの欠点を除去すべく、原料ガ
スノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素
ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形成され
た邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置することにより
原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを均一に供給し
てなるバーナ装置を提供せんとするものである。 （２）発明の構成 Ｅ問題点の解決手段］ 本発明により提供される問題点の解決手段は、「水素ガ
スを放出するための水素ガスノズルと水素ガスノズルの
内部に配置されており原料ガスを放出するための原料ガ
スノズルと原料ガスノズルを包囲して水素ガスノズルの
内部に配置されており酸素ガスを放出するための複数の
酸素ガスノズルとを備えたバーナ装置において、原料ガ
スノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素
ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形成され
た邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置してなることを
特徴とするバーナ装置Ｊ である。 ［作用］ 本発明にかかるバーナ装置では、上述の［問題点の解決
手段］に明示したごとく、原料ガスノズルおよび複数の
酸素ガスノズルの周囲に対して水素ガスを放出するため
の複数の水素ガス放出孔が形成された邪魔板を水素ガス
ノズルの内部に配置してなるので、 ｆｉｌ原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを均一に
供給する作用 をなし、ひいては （１１）火炎の状態を安定化して高温を達成し原料ガス
を十分に加熱する作用 をなす。 ［実施例］ 次に、本発明にかかるバーナ装置について、その好まし
い実施例を挙げ、添付図面を′Ｊ３照しつつ、具体的に
説明する。 １の の まず、第１図を参照しつつ、本発明にかがるバーナ装置
の第１の実施例について、その構成を詳細に説明する。 ■は、本発明にかかるバーナ装置であって、原料ガス（
たとえばＳｔ（：１．５ｉＨ４などの珪素化合物など）
を適宜の原料ガス供給源（図示せず）から供給し先端部
に形成された原料ガスノズルＩＩＡから燃焼空間に放出
するための原料ガス供給管１１と、原料ガス供給管１１
の周囲に配設されており酸素ガス供給管１２を介して酸
素ガス供給源（図示せず）から酸素ガスが内部空間に供
給される内筒部材１３と、内筒部材１３の端部に配設さ
れており適宜の角度間隔（好ましくは等角度間隔）をお
いて複数（たとえば４つ一以下この場合について説明す
るがこれに限定する意図はない）の酸素ガスノズル１４
Ａ、〜、 １４０の一端部が開口された隔壁部材１５と
、内筒部材１３および複数の酸素ガスノズル１４Ａ。 〜、１４Ｄを包囲しており基部に対し水素ガス供給管１
６を介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが
供給されかつ先端部が水素ガスノズル１７Ａとされてな
る外筒部材１７とを備えている。 本発明にかかるバーナ装置用は、更に、外筒部材１７の
内周面に配設されており複数の酸素ガスノズル１４Ａ、
〜、 １４０および原料ガスノズルｌＩＡがそれぞれ挿
通されかつ水素ガスを複数の酸素ガスノズル１４Ａ、〜
、１４０および原料ガスノズルＩＩＡの周囲に放出する
ための複数（ここでは５つ）の水素ガス放出孔１８Ａ、
〜、 １８Ｅが形成された邪魔板１９を備えている。 １の の 更に、第１図を参照しつつ、本発明にかかるバーナ装置
の第１の実施例について、その作用を詳細に説明する。 本発明にかかるバーナ装置■では、原料ガス供給管１１
を介して原料ガス供給源から矢印Ａ、で示すごとく供給
された適宜の原料ガスが、矢印Ａ。 で示すごとく案内されたのち、その先端部に形成された
原料ガスノズルＩＩＡから燃焼空間に向けて矢印Ａ３で
示すごとく放出されている。 本発明にかかるバーナ装置■では、また、酸素ガスが、
酸素ガス供給源から矢印Ｂ、で示すごとく酸素ガス供給
管１２を介し内筒部材１３の内部空間に供給されている
。内筒部材１３の内部空間に供給された酸素ガスは、矢
印Ｂ２で示すごと（隔壁部材１５に開口された複数の酸
素ガスノズル１４Ａ、〜、１４Ｄに与えられたのち、矢
印Ｂ、で示すごとく案内され、原料ガスノズル１１Ａか
ら放出された原料ガスを包囲するよう燃焼空間に向けて
矢印Ｂ４で示すごとく放出されている。 本発明にかかるバーナ装置圧では、加えて、水素ガスが
、水素ガス供給管１６を介し矢印Ｃ３で示すごとく水素
ガス供給源から外筒部材１７の内部空間に供給されてい
る。外筒部材１７の内部空間に供給された水素ガスは、
矢印Ｃ８で示すごとく拡散されたのち、矢印Ｃ３で示す
ごとく邪魔板１９に形成された水素ガス放出孔１８Ａ、
〜、１８Ｅから放出され、原料ガスノズルｌｌＡならび
に複数の酸素ガスノズル１４Ａ、〜、１４Ｄの周囲を矢
印Ｃ４で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。これに
より、水素ガスは、燃焼空間において酸素ガスに対して
均一に供給されており、安定して燃焼され高温状態を達
成できる。このため、原料ガスは、十分に加熱される。 ２の の 併せて、第２図を参照しつつ、本発明にかかるバーナ装
置の第２の実施例について、その構成を詳細に説明する
。 銭は、本発明にかかるバーナ装置であって、原料ガス（
たとえば５ｉＣ１４，ＳｉＨ４などの珪素化合物など）
を適宜の原料ガス供給源（図示せず）から供給し先端部
に形成された原料ガスノズル２１Ａから燃焼空間に放出
するための原料ガス供給管２１と、原料ガス供給管２１
の周囲に配設されており酸素ガス供給管２２を介して酸
素ガス供給源（図示せず）から酸素ガスが内部空間に供
給される内筒部材２３と、内筒部材２３の端部に配設さ
れており適宜の角度間隔 （好ましくは等角度間隔）を
おいて複数（たとλば４っ；以下この場合について説明
するがこれに限定する意図はない）の酸素ガスノズル２
４Ａ、〜、２４Ｄの一端部が開口された隔壁部材２５と
、内筒部材２３および複数の酸素ガスノズル２４Ａ。 〜、２４Ｄを包囲しており基部に対し水素ガス供給管２
６を介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが
供給されかつ先端部が水素ガスノズル２７Ａとされてな
る外筒部材２７と、内筒部材２３および外筒部材２７の
間に配設されており基部に対し水素ガス供給管２６８を
介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが供給
される中筒部材２７°とを備えている。 本発明にかかるバーナ装置翻は、更に、外筒部材２７の
内周面に配設されており複数の酸素ガスノズル２４Ａ、
〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａが挿通される中
心孔をもちがっ水素ガスを複数の酸素ガスノズル２４Ａ
、〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａの周囲に放出
するための複数の水素ガス放出孔２８Ａが形成された板
状邪魔板２９Ａと、１複数の酸素ガスノズル２４Ａ、〜
、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａを包囲しかつ一端
部が内筒部材２３に連設されかっ他端部が板状邪魔板２
９Ａの内周部に連設されており周面に対し内筒部材２３
と中筒部材２７°との間の空間から水素ガスを複数の酸
素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル
２１Ａの周囲に放出するための複数の水素ガス放出孔２
８Ｂが形成された筒状邪魔板２９Ｂと備えている。 ２の の 更に、第２図を参照しつつ、本発明にががるバーナ装置
の第２の実施例について、その作用を詳細に説明する。 本発明にかかるバーナ装置翻では、原料ガス供給管２１
を介して原料ガス供給源から矢印Ａ、で示すごとく供給
された適宜の原料ガスが、矢印Ａ２で示すごとく案内さ
れたのち、その先端部に形成された原料ガスノズル２１
Ａがら燃焼空間に向けて矢印Ａｓで示すごとく放出され
ている。 本発明にかかるバーナ装置輩では、また、酸素ガスが、
酸素ガス供給源から矢印Ｂ１で示すごとく酸素ガス供給
管２２を介し内筒部材２３の内部空間に供給されている
。内筒部材２３の内部空間に供給された酸素ガスは、矢
印Ｂ冨で示すごと（隔壁部材２５に開口された複数の酸
素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄに与＾られなのち、原
料ガスノズル２１Ａから放出された原料ガスを包囲する
よう燃焼空間に向けて矢印Ｂ、で示すごとく放出されて
いる。 本発明にかかるバーナ装置録では、加えて、水素ガスが
、水素ガス供給管２６を介し矢印Ｃ１で示すごとく水素
ガス供給源から外筒部材２７の内部空間に供給されてい
る。外筒部材２７の内部空間に供給された水素ガスは、
矢印Ｃ２で示すごとく拡散されたのち、矢印Ｃｍで示す
ごとく板状邪魔板２９Ａに形成された水素ガス放出孔２
８Ａから放出され、原料ガスノズル２１Ａならびに複数
の酸素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄの周囲を矢印Ｃ４
で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。 本発明にかかるバーナ装Ｍ２０では、併せて、水素ガス
が、水素ガス供給管２６°を介し矢印り、で示すごと（
水素ガス供給源から中筒部材２７°の内部空間に供給さ
れている。中筒部材２７°の内部空間に供給された水素
ガスは、矢印Ｄ２で示すごとく拡散されたのち、矢印り
葛で示すごとく筒状邪魔板２９Ｂに形成された水素ガス
放出孔２８Ｂから放出され、原料ガスノズル２１Ａなら
びに複数の酸素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄの周囲を
矢印Ｄ４で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。 以上により、本発明によれば、水素ガスは、燃焼空間に
おいて酸素ガスに対して均一に供給されており、安定し
て燃焼され高温状態を達成できる。このため、原料ガス
は、十分に加熱される。 （３）発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるバーナ装置で
は、上述のｃ問題点の解決手段】に明示したごとく、原
料ガスノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し
て水素ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形
成された邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置してなる
ので、（ｉｌ原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを
均一に供給できる効果 を有し、ひいては ｆｉｉｌ火炎の状態を安定化して高温を達成でき原料ガ
スを十分に加熱できる効果 を有する。
水素ガスノズルの内部に開口せしめ、かつ原料ガスノズ
ルを包囲するよう複数の酸素ガスノズルを水素ガスノズ
ルの内部に開口せしめてなるものが提案されていた。 ［解決すべき問題点］ しかしながら、従来のバーナ装置では、水素ガスノズル
の内部に対して原料ガスノズルおよび複数の酸素ガスノ
ズルが開口されているに過ぎなかったので、（ｉ）原料
ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスが一括供給されてし
まう欠点があり、ひいては（ｉｉ）水素ガスが原料ガス
および酸素ガスに対し均一に混合されない欠点があり、
結果的に（ｉｉｉｌ火炎の状態が不安定となって高温を
達成することが困難となり原料ガスを十分に加熱できな
い欠点があった。 そこで、本発明は、これらの欠点を除去すべく、原料ガ
スノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素
ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形成され
た邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置することにより
原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを均一に供給し
てなるバーナ装置を提供せんとするものである。 （２）発明の構成 Ｅ問題点の解決手段］ 本発明により提供される問題点の解決手段は、「水素ガ
スを放出するための水素ガスノズルと水素ガスノズルの
内部に配置されており原料ガスを放出するための原料ガ
スノズルと原料ガスノズルを包囲して水素ガスノズルの
内部に配置されており酸素ガスを放出するための複数の
酸素ガスノズルとを備えたバーナ装置において、原料ガ
スノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し水素
ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形成され
た邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置してなることを
特徴とするバーナ装置Ｊ である。 ［作用］ 本発明にかかるバーナ装置では、上述の［問題点の解決
手段］に明示したごとく、原料ガスノズルおよび複数の
酸素ガスノズルの周囲に対して水素ガスを放出するため
の複数の水素ガス放出孔が形成された邪魔板を水素ガス
ノズルの内部に配置してなるので、 ｆｉｌ原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを均一に
供給する作用 をなし、ひいては （１１）火炎の状態を安定化して高温を達成し原料ガス
を十分に加熱する作用 をなす。 ［実施例］ 次に、本発明にかかるバーナ装置について、その好まし
い実施例を挙げ、添付図面を′Ｊ３照しつつ、具体的に
説明する。 １の の まず、第１図を参照しつつ、本発明にかがるバーナ装置
の第１の実施例について、その構成を詳細に説明する。 ■は、本発明にかかるバーナ装置であって、原料ガス（
たとえばＳｔ（：１．５ｉＨ４などの珪素化合物など）
を適宜の原料ガス供給源（図示せず）から供給し先端部
に形成された原料ガスノズルＩＩＡから燃焼空間に放出
するための原料ガス供給管１１と、原料ガス供給管１１
の周囲に配設されており酸素ガス供給管１２を介して酸
素ガス供給源（図示せず）から酸素ガスが内部空間に供
給される内筒部材１３と、内筒部材１３の端部に配設さ
れており適宜の角度間隔（好ましくは等角度間隔）をお
いて複数（たとえば４つ一以下この場合について説明す
るがこれに限定する意図はない）の酸素ガスノズル１４
Ａ、〜、 １４０の一端部が開口された隔壁部材１５と
、内筒部材１３および複数の酸素ガスノズル１４Ａ。 〜、１４Ｄを包囲しており基部に対し水素ガス供給管１
６を介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが
供給されかつ先端部が水素ガスノズル１７Ａとされてな
る外筒部材１７とを備えている。 本発明にかかるバーナ装置用は、更に、外筒部材１７の
内周面に配設されており複数の酸素ガスノズル１４Ａ、
〜、 １４０および原料ガスノズルｌＩＡがそれぞれ挿
通されかつ水素ガスを複数の酸素ガスノズル１４Ａ、〜
、１４０および原料ガスノズルＩＩＡの周囲に放出する
ための複数（ここでは５つ）の水素ガス放出孔１８Ａ、
〜、 １８Ｅが形成された邪魔板１９を備えている。 １の の 更に、第１図を参照しつつ、本発明にかかるバーナ装置
の第１の実施例について、その作用を詳細に説明する。 本発明にかかるバーナ装置■では、原料ガス供給管１１
を介して原料ガス供給源から矢印Ａ、で示すごとく供給
された適宜の原料ガスが、矢印Ａ。 で示すごとく案内されたのち、その先端部に形成された
原料ガスノズルＩＩＡから燃焼空間に向けて矢印Ａ３で
示すごとく放出されている。 本発明にかかるバーナ装置■では、また、酸素ガスが、
酸素ガス供給源から矢印Ｂ、で示すごとく酸素ガス供給
管１２を介し内筒部材１３の内部空間に供給されている
。内筒部材１３の内部空間に供給された酸素ガスは、矢
印Ｂ２で示すごと（隔壁部材１５に開口された複数の酸
素ガスノズル１４Ａ、〜、１４Ｄに与えられたのち、矢
印Ｂ、で示すごとく案内され、原料ガスノズル１１Ａか
ら放出された原料ガスを包囲するよう燃焼空間に向けて
矢印Ｂ４で示すごとく放出されている。 本発明にかかるバーナ装置圧では、加えて、水素ガスが
、水素ガス供給管１６を介し矢印Ｃ３で示すごとく水素
ガス供給源から外筒部材１７の内部空間に供給されてい
る。外筒部材１７の内部空間に供給された水素ガスは、
矢印Ｃ８で示すごとく拡散されたのち、矢印Ｃ３で示す
ごとく邪魔板１９に形成された水素ガス放出孔１８Ａ、
〜、１８Ｅから放出され、原料ガスノズルｌｌＡならび
に複数の酸素ガスノズル１４Ａ、〜、１４Ｄの周囲を矢
印Ｃ４で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。これに
より、水素ガスは、燃焼空間において酸素ガスに対して
均一に供給されており、安定して燃焼され高温状態を達
成できる。このため、原料ガスは、十分に加熱される。 ２の の 併せて、第２図を参照しつつ、本発明にかかるバーナ装
置の第２の実施例について、その構成を詳細に説明する
。 銭は、本発明にかかるバーナ装置であって、原料ガス（
たとえば５ｉＣ１４，ＳｉＨ４などの珪素化合物など）
を適宜の原料ガス供給源（図示せず）から供給し先端部
に形成された原料ガスノズル２１Ａから燃焼空間に放出
するための原料ガス供給管２１と、原料ガス供給管２１
の周囲に配設されており酸素ガス供給管２２を介して酸
素ガス供給源（図示せず）から酸素ガスが内部空間に供
給される内筒部材２３と、内筒部材２３の端部に配設さ
れており適宜の角度間隔 （好ましくは等角度間隔）を
おいて複数（たとλば４っ；以下この場合について説明
するがこれに限定する意図はない）の酸素ガスノズル２
４Ａ、〜、２４Ｄの一端部が開口された隔壁部材２５と
、内筒部材２３および複数の酸素ガスノズル２４Ａ。 〜、２４Ｄを包囲しており基部に対し水素ガス供給管２
６を介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが
供給されかつ先端部が水素ガスノズル２７Ａとされてな
る外筒部材２７と、内筒部材２３および外筒部材２７の
間に配設されており基部に対し水素ガス供給管２６８を
介して水素ガス供給源（図示せず）から水素ガスが供給
される中筒部材２７°とを備えている。 本発明にかかるバーナ装置翻は、更に、外筒部材２７の
内周面に配設されており複数の酸素ガスノズル２４Ａ、
〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａが挿通される中
心孔をもちがっ水素ガスを複数の酸素ガスノズル２４Ａ
、〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａの周囲に放出
するための複数の水素ガス放出孔２８Ａが形成された板
状邪魔板２９Ａと、１複数の酸素ガスノズル２４Ａ、〜
、２４Ｄおよび原料ガスノズル２１Ａを包囲しかつ一端
部が内筒部材２３に連設されかっ他端部が板状邪魔板２
９Ａの内周部に連設されており周面に対し内筒部材２３
と中筒部材２７°との間の空間から水素ガスを複数の酸
素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄおよび原料ガスノズル
２１Ａの周囲に放出するための複数の水素ガス放出孔２
８Ｂが形成された筒状邪魔板２９Ｂと備えている。 ２の の 更に、第２図を参照しつつ、本発明にががるバーナ装置
の第２の実施例について、その作用を詳細に説明する。 本発明にかかるバーナ装置翻では、原料ガス供給管２１
を介して原料ガス供給源から矢印Ａ、で示すごとく供給
された適宜の原料ガスが、矢印Ａ２で示すごとく案内さ
れたのち、その先端部に形成された原料ガスノズル２１
Ａがら燃焼空間に向けて矢印Ａｓで示すごとく放出され
ている。 本発明にかかるバーナ装置輩では、また、酸素ガスが、
酸素ガス供給源から矢印Ｂ１で示すごとく酸素ガス供給
管２２を介し内筒部材２３の内部空間に供給されている
。内筒部材２３の内部空間に供給された酸素ガスは、矢
印Ｂ冨で示すごと（隔壁部材２５に開口された複数の酸
素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄに与＾られなのち、原
料ガスノズル２１Ａから放出された原料ガスを包囲する
よう燃焼空間に向けて矢印Ｂ、で示すごとく放出されて
いる。 本発明にかかるバーナ装置録では、加えて、水素ガスが
、水素ガス供給管２６を介し矢印Ｃ１で示すごとく水素
ガス供給源から外筒部材２７の内部空間に供給されてい
る。外筒部材２７の内部空間に供給された水素ガスは、
矢印Ｃ２で示すごとく拡散されたのち、矢印Ｃｍで示す
ごとく板状邪魔板２９Ａに形成された水素ガス放出孔２
８Ａから放出され、原料ガスノズル２１Ａならびに複数
の酸素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄの周囲を矢印Ｃ４
で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。 本発明にかかるバーナ装Ｍ２０では、併せて、水素ガス
が、水素ガス供給管２６°を介し矢印り、で示すごと（
水素ガス供給源から中筒部材２７°の内部空間に供給さ
れている。中筒部材２７°の内部空間に供給された水素
ガスは、矢印Ｄ２で示すごとく拡散されたのち、矢印り
葛で示すごとく筒状邪魔板２９Ｂに形成された水素ガス
放出孔２８Ｂから放出され、原料ガスノズル２１Ａなら
びに複数の酸素ガスノズル２４Ａ、〜、２４Ｄの周囲を
矢印Ｄ４で示すごとく燃焼空間に向けて移動する。 以上により、本発明によれば、水素ガスは、燃焼空間に
おいて酸素ガスに対して均一に供給されており、安定し
て燃焼され高温状態を達成できる。このため、原料ガス
は、十分に加熱される。 （３）発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるバーナ装置で
は、上述のｃ問題点の解決手段】に明示したごとく、原
料ガスノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対し
て水素ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形
成された邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置してなる
ので、（ｉｌ原料ガスおよび酸素ガスに対し水素ガスを
均一に供給できる効果 を有し、ひいては ｆｉｉｌ火炎の状態を安定化して高温を達成でき原料ガ
スを十分に加熱できる効果 を有する。
第１図は本発明にかかるバーナ装置の第１の実施例を示
すための部分断面斜視図、第２図は本発明にかかるバー
ナ装置の第２の実施例を示すための部分断面斜視図であ
る。 １０・・・・・・・・・・・・・・・・・・バーナ装置
１１・・・・・・・・・・・・・・・・原料ガス供給管
ｌＩＡ・・・・・・・・・・・・原料ガス１２・・・・
・・・・・・・・・・・・酸素ガス供給管１３・・・・
・・・・・・・・・・・・内筒部材１４Ａ、〜、１４Ｄ
・・・・・・・・酸素ガスノズル１５・・・・・・・・
・・・・・・・・隔壁部材１６・・・・・・・・・・・
・・・・・水素ガス供給管１７・・・・・・・・・・・
・・・・・外筒部材１７Ａ・・・・・・・・・・・水素
ガスノズル１８Ａ、〜１８Ｅ・・・・・・・・・水素ガ
ス案内孔１９・・・・・・・・・・・・・・・・邪魔板
２０・・・・・・・・・・・・・・・・・・バーナ装置
２工・・・・・・・・・・・・・・・・原料ガス供給管
２１Ａ・・・・・・・・・・・・原料ガス２２・・・・
・・・・・・・・・・・酸素ガス供給管２３・・・・・
・・・・・・・・・・・内筒部材２４Ａ、〜、２４Ｄ・
・・・・・・・酸素ガスノズル２５・・・・・・・・・
・・・・・・・隔壁部材２６．２６°・・・・・・・・
・・・水素ガス供給管２７・・・・・・・・・・・・・
・・・外筒部材２７＠・・・・・・・・・・・・・・中
筒部材２７Ａ・・・・・・・・・・・・水素ガスノズル
２８Ａ、 １８Ｂ・・・・・・・・・・・水素ガス案内
孔２９Ａ・・・・・・・・・・・・・・・板状邪魔板２
９Ｂ・・・・・・・・・・・・・・・筒状邪魔板特許出
願人東芝セラミックス株式会社
すための部分断面斜視図、第２図は本発明にかかるバー
ナ装置の第２の実施例を示すための部分断面斜視図であ
る。 １０・・・・・・・・・・・・・・・・・・バーナ装置
１１・・・・・・・・・・・・・・・・原料ガス供給管
ｌＩＡ・・・・・・・・・・・・原料ガス１２・・・・
・・・・・・・・・・・・酸素ガス供給管１３・・・・
・・・・・・・・・・・・内筒部材１４Ａ、〜、１４Ｄ
・・・・・・・・酸素ガスノズル１５・・・・・・・・
・・・・・・・・隔壁部材１６・・・・・・・・・・・
・・・・・水素ガス供給管１７・・・・・・・・・・・
・・・・・外筒部材１７Ａ・・・・・・・・・・・水素
ガスノズル１８Ａ、〜１８Ｅ・・・・・・・・・水素ガ
ス案内孔１９・・・・・・・・・・・・・・・・邪魔板
２０・・・・・・・・・・・・・・・・・・バーナ装置
２工・・・・・・・・・・・・・・・・原料ガス供給管
２１Ａ・・・・・・・・・・・・原料ガス２２・・・・
・・・・・・・・・・・酸素ガス供給管２３・・・・・
・・・・・・・・・・・内筒部材２４Ａ、〜、２４Ｄ・
・・・・・・・酸素ガスノズル２５・・・・・・・・・
・・・・・・・隔壁部材２６．２６°・・・・・・・・
・・・水素ガス供給管２７・・・・・・・・・・・・・
・・・外筒部材２７＠・・・・・・・・・・・・・・中
筒部材２７Ａ・・・・・・・・・・・・水素ガスノズル
２８Ａ、 １８Ｂ・・・・・・・・・・・水素ガス案内
孔２９Ａ・・・・・・・・・・・・・・・板状邪魔板２
９Ｂ・・・・・・・・・・・・・・・筒状邪魔板特許出
願人東芝セラミックス株式会社
Claims (1)
- 水素ガスを放出するための水素ガスノズルと水素ガスノ
ズルの内部に配置されており原料ガスを放出するための
原料ガスノズルと原料ガスノズルを包囲して水素ガスノ
ズルの内部に配置されており酸素ガスを放出するための
複数の酸素ガスノズルとを備えたバーナ装置において、
原料ガスノズルおよび複数の酸素ガスノズルの周囲に対
し水素ガスを放出するための複数の水素ガス放出孔が形
成された邪魔板を水素ガスノズルの内部に配置してなる
ことを特徴とするバーナ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34021690A JPH04209725A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | バーナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34021690A JPH04209725A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | バーナ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04209725A true JPH04209725A (ja) | 1992-07-31 |
Family
ID=18334807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34021690A Pending JPH04209725A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | バーナ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04209725A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1160209A2 (en) * | 2000-05-30 | 2001-12-05 | Tosoh Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing quartz glass ingot |
| KR20030034574A (ko) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | 주식회사 머큐리 | 광섬유 모재 오버 클래딩용 버너 |
| EP2006256A1 (en) * | 2006-02-28 | 2008-12-24 | Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. | Quartz glass made burner |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP34021690A patent/JPH04209725A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1160209A2 (en) * | 2000-05-30 | 2001-12-05 | Tosoh Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing quartz glass ingot |
| EP1160209A3 (en) * | 2000-05-30 | 2002-07-03 | Tosoh Quartz Corporation | Method and apparatus for manufacturing quartz glass ingot |
| KR20030034574A (ko) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | 주식회사 머큐리 | 광섬유 모재 오버 클래딩용 버너 |
| EP2006256A1 (en) * | 2006-02-28 | 2008-12-24 | Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. | Quartz glass made burner |
| EP2006256A4 (en) * | 2006-02-28 | 2012-07-11 | Shinetsu Chemical Co | GLASS BURNER OF QUARTZ |
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