WO2014003129A1 - SiO2-TiO2系ガラスの製造方法、SiO2-TiO2系ガラスからなる板状部材の製造方法、製造装置およびSiO2-TiO2系ガラスの製造装置 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a process for producing a SiO 2 -TiO 2 type glass, a method of manufacturing a plate-like member made of SiO 2 -TiO 2 type glass, for manufacturing devices of the manufacturing apparatus and SiO 2 -TiO 2 type glass.
- an exposure process is performed in which a photomask is irradiated with exposure light and the photosensitive substrate is exposed with exposure light from the photomask.
- a photomask can be obtained by forming a predetermined mask pattern on a photomask substrate.
- the photomask substrate used for such a large (large area) photomask is a cylindrical SiO 2 glass ingot synthesized by a vapor phase method such as a direct method as a raw material, and this is press-molded to form a parallel plate. It can manufacture by setting it as a plate-shaped member (patent document 1).
- An object of the present invention is to provide a production method and production apparatus for SiO 2 —TiO 2 glass applicable to the production of a large photomask substrate, and a production method for a plate-like member made of the glass.
- a method of manufacturing a SiO 2 -TiO 2 type glass is a method for producing a SiO 2 -TiO 2 glass on the target by direct method, the first to heat the target advance And a second step of growing a SiO 2 —TiO 2 -based glass ingot having a predetermined length on a preheated target, and the temperature of the growth surface of the glass ingot is predetermined in the second step
- the target is heated in the first step so as to be maintained at the minimum temperature or higher.
- the SiO 2 —TiO 2 -based glass manufacturing method is the same as the first aspect of the manufacturing method, wherein the target is maintained so that the temperature of the growth surface of the glass ingot is maintained at 1600 ° C. or higher. It is preferable to set the heating amount when heating.
- the method for producing a SiO 2 —TiO 2 -based glass is based on the condition that the target temperature has reached a predetermined temperature in the first step in the production method of the first or second aspect. As mentioned above, it is preferable to start the second step.
- the method for producing SiO 2 —TiO 2 -based glass is the production method according to any one of the first to third aspects, wherein the target is a disk-shaped target member, and the target member. it is preferred consisting of SiO 2 glass layer formed thereon.
- the target is a heat storage unit that stores heat in the first step.
- the heat storage part preferably includes a heat insulating part that suppresses heat conduction in the direction opposite to the glass ingot.
- the heat storage part and the heat insulating part are each composed of a plate-like first member and second member.
- the first member preferably has a larger heat capacity than the second member, and the second member preferably has a lower thermal conductivity than the first member.
- the surface of the first member opposite to the glass ingot has a convex portion in the production method of the fifth aspect. preferable.
- the SiO 2 —TiO 2 -based glass manufacturing apparatus for growing a glass ingot on a target by a direct method includes a heat storage unit that stores heat by preheating the target, and a heat storage unit And a heat insulating part that suppresses heat conduction in a direction opposite to the glass ingot.
- the SiO 2 —TiO 2 glass manufacturing apparatus is the manufacturing apparatus according to the tenth aspect, wherein the heat storage section and the heat insulating section are plate-shaped first member and second member, respectively.
- the first member preferably has a larger heat capacity than the second member, and the second member preferably has a smaller thermal conductivity than the first member.
- the SiO 2 —TiO 2 -based glass manufacturing apparatus is the manufacturing apparatus according to the tenth aspect, wherein the surface of the first member opposite to the glass ingot has a convex portion. It is preferable.
- the SiO 2 —TiO 2 based glass manufacturing apparatus is the manufacturing apparatus according to the twelfth aspect, wherein the first member and the second member are in thermal contact with each other at the convex portion. It is preferable.
- FIG. 1 is a configuration diagram of a glass manufacturing apparatus used for manufacturing SiO 2 —TiO 2 based glass in the present embodiment.
- a furnace frame 101 includes a furnace frame 101, a furnace wall 102 made of a refractory, a hearth 103 on which the furnace frame 101 and the furnace wall 102 are disposed, a burner 104, a support member 105, and a target member. 106.
- the furnace wall 102 is disposed inside the furnace frame 101. Insertion openings 101 a and 102 a for inserting the burner 104 are provided in the upper portions of the furnace frame 101 and the furnace wall 102, respectively. In addition, observation ports 101b and 102b for observing the growth surface of the glass ingot are provided on the sides of the furnace frame 101 and the furnace wall 102, respectively, and a transparent glass window 108 is provided in the observation port 101b. Yes.
- An exhaust port 102c is provided on the side of the furnace wall 102, and chlorine gas generated as a by-product of the glass generation reaction, glass fine particles not deposited on the growth surface, and the like are discharged. Chlorine gas, glass particulates, and the like discharged from the exhaust port 102c are guided to the exhaust pipe 107 and collected by a scrubber (not shown).
- a target member 106 for growing a glass ingot on an upper surface thereof and a support member 105 for supporting the lower surface of the target member 106 are disposed.
- the support member 105 includes a disk-shaped portion and a rod-shaped portion, and is configured to be able to rotate, swing, and move up and down arbitrarily by a driving device (not shown) connected to one end of the rod-shaped portion.
- the target member 106 has a disk shape having substantially the same diameter as the disk-shaped portion of the support member 105, and is disposed at a position facing the burner 104.
- the temperature of the target member 106 is monitored by the radiation thermometer 109.
- the SiO 2 precursor and the TiO 2 precursor are simultaneously supplied to the burner 104 at a predetermined flow rate. Then, glass fine particles are generated in an oxyhydrogen flame (S103).
- the SiO 2 glass layer is formed on the target member is used as a target combined them.
- a flowchart of the manufacturing process is shown in FIG. Note that the configuration of the manufacturing apparatus used in the present embodiment is basically the same as that described in the first embodiment.
- the supply of the SiO 2 precursor to the burner 104 is stopped, and then the target member 106 and the SiO 2 glass formed thereon are formed by an oxyhydrogen flame.
- the layer is heated (S203).
- the temperature of the SiO 2 glass layer is measured by the radiation thermometer 109, and when a predetermined temperature set in advance is reached, the SiO 2 precursor and the TiO 2 precursor are simultaneously supplied to the burner 104, and SiO 2 —TiO 2 is supplied.
- a two- system glass is deposited on the SiO 2 layer (S204). Since the subsequent steps are the same as those in the first embodiment (S104), description thereof will be omitted.
Abstract
Description
本発明の第2の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第1の態様の製造方法において、ガラスインゴットの成長面の温度が1600℃以上に維持されるようにターゲットを加熱する際の加熱量を設定することが好ましい。
本発明の第3の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第1または2の態様の製造方法において、第一の工程でターゲットの温度が所定温度に達したことを条件として、第二の工程を開始することが好ましい。
本発明の第4の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第1ないし3のいずれか一態様の製造方法において、ターゲットが、円板状のターゲット部材と、該ターゲット部材上に形成されたSiO2ガラス層とからなることが好ましい。
本発明の第5の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第1ないし3のいずれか一態様の製造方法において、ターゲットが、第一の工程において熱量を蓄える蓄熱部と、蓄熱部からガラスインゴットとは反対の方向への熱伝導を抑制する断熱部とを含むことが好ましい。
本発明の第6の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第5の態様の製造方法において、蓄熱部及び断熱部がそれぞれ板状の第1部材及び第2部材からなり、第1部材は第2部材と比較して熱容量が大であり、かつ、第2部材は第1部材と比較して熱伝導率が小であることが好ましい。
本発明の第7の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第5の態様の製造方法において、第1部材のガラスインゴットとは反対側の面が凸部を有することが好ましい。
本発明の第8の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造方法は、第7の態様の製造方法において、第1部材と第2部材とが凸部において熱的に接触することが好ましい。
本発明の第9の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスからなる板状部材の製造方法は、第1ないし8のいずれか一項の製造方法によりSiO2-TiO2系ガラスを製造し、該ガラスを母材として加熱加圧成形することにより板状部材となすことが好ましい。
本発明の第10の態様によると、直接法によりターゲット上にガラスインゴットを成長させるSiO2-TiO2系ガラスの製造装置は、ターゲットが、予熱されることにより熱量を蓄える蓄熱部と、蓄熱部からガラスインゴットとは反対の方向への熱伝導を抑制する断熱部とを含む。
本発明の第11の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造装置は、第10の態様の製造装置であって、蓄熱部及び断熱部がそれぞれ板状の第1部材及び第2部材からなり、第1部材は第2部材と比較して熱容量が大であり、かつ第2部材は第1部材と比較して熱伝導率が小であることが好ましい。
本発明の第12の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造装置は、第10の態様の製造装置であって、第1部材のガラスインゴットとは反対側の面が凸部を有することが好ましい。
本発明の第13の態様によると、SiO2-TiO2系ガラスの製造装置は、第12の態様の製造装置であって、第1部材と第2部材とが凸部において熱的に接触することが好ましい。
図1は、本実施形態においてSiO2-TiO2系ガラスの製造に用いるガラス製造装置の構成図である。
第2の実施形態では、ターゲット部材上にSiO2ガラス層を形成し、これらを合わせてターゲットとして使用する。製造工程のフローチャートを図4に示す。なお、本実施形態で使用する製造装置の構成は、第1の実施形態で説明したものと基本的に同一である。
本発明の第3の実施形態として、第1及び第2の実施形態で説明したターゲット部材の変形例について説明する。
第4の実施形態はターゲット部材の別の変形例である。本実施形態のターゲット部材は、図6に示すように、それぞれ円板状の第1部材401と第2部材402とが、厚さ方向に積層された構造を有している。第1部材401と第2部材402の材料については、前述の第3の実施形態と同様であるので説明を省略する。
次に、本発明の一実施形態として、前述の実施形態により製造されるSiO2-TiO2系ガラスインゴットを母材とし、フォトマスク基板として使用可能な板状ガラス部材を製造する方法について説明する。
ターゲットとして、直径350mm、厚さ400mmのSiO2ガラスを用意した。バーナーから酸素ガスを324slm、水素ガスを795slmの割合で供給して酸水素火炎を形成し、該酸水素火炎でターゲットを4時間加熱した。4時間後、バーナーにSiCl4ガスを40g/minの割合で供給し、ガラスインゴットを製造しやすいようターゲット表面にSiO2ガラスからなる滑らかな成長面を作製した。このときのガラス成長面の温度は1745℃であった。次いで、SiCl4ガスの流量を10g/min、酸素ガスの流量を337slm、水素ガスの流量を825slmに調整し、TiCl4ガスを0.2g/minの割合で供給した。TiCl4ガスを供給し始めてから64時間後の成長面の温度は1750℃であり、その後もガラスインゴットを成長させ続けた。そして、168時間後、成長面の温度は1740℃に保たれており、直径300mm、長さ300mmのSiO2-TiO2系ガラスインゴットを得ることができた。
ターゲットとして、直径350mm、厚さ15mmのSiO2ガラスを用意した。バーナーから酸素ガスを306slm、水素ガスを755slmの割合で供給して酸水素火炎を形成し、該酸水素火炎でターゲットを4時間加熱した。4時間後、バーナーにSiCl4ガスを40g/minの割合で供給し、ターゲット上に厚さ200mmのSiO2ガラス層を作製し、ガラス成長面を形成した。このときのガラス成長面の温度は1700℃であった。次いで、SiCl4ガスの流量を10g/min、酸素ガスの流量を310slm、水素ガスの流量を770slmに調整し、TiCl4ガスを0.2g/minの割合で供給した。
ターゲットとして、直径350mm、厚さ30mmのSiO2ガラスを用意した。バーナーから酸素ガスを321slm、水素ガスを790slmの割合で供給して酸水素火炎を形成し、該酸水素火炎でターゲットを4時間加熱した。4時間後、バーナーにSiCl4ガスを40g/minの割合で供給し、ガラスインゴットを製造しやすいようターゲット表面にSiO2ガラスからなる滑らかな成長面を作製した。このときのガラス成長面の温度は1550℃であった。次いで、SiCl4ガスの流量を30g/min、酸素ガスの流量を347slm、水素ガスの流量を850slmに調整し、TiCl4ガスを0.2g/minの割合で供給した。
ターゲットとして、直径350mm、厚さ30mmのSiO2ガラスを用意した。バーナーから酸素ガスを340slm、水素ガスを835slmの割合で供給して酸水素火炎を形成し、該酸水素火炎でターゲットを4時間加熱した。4時間後、バーナーにSiCl4ガスを40g/minの割合で供給し、ガラスインゴットを製造しやすいようターゲット表面にSiO2ガラスからなる滑らかな成長面を作製した。このときのガラス成長面の温度は1570℃であった。次いで、SiCl4ガスの流量を30g/min、酸素ガスの流量を404slm、水素ガスの流量を985slmに調整し、TiCl4ガスを0.4g/minの割合で供給した。
日本国特許出願2012年第144149号(2012年6月27日出願)
101 炉枠
102 炉壁
103 炉床
104 バーナー
105 支持部材
106 ターゲット部材
107 排気管
108 透明ガラス窓
109 放射温度計
110 ガラスインゴット
201 凸部
301 第1部材
302 第2部材
401 第1部材
402 第2部材
403 凸部
500 ガラス成形装置
501 真空チャンバ
502 断熱材
503 カーボンヒーター
504 ガラス成形型
505 台板
506 底板
507 側板
508 天板
509 シリンダロッド
510 中空部
511 ガラスインゴット
Claims (13)
- 直接法によりターゲット上にSiO2-TiO2系ガラスを製造する方法であって、
前記ターゲットを予め加熱する第一の工程と、
予め加熱された前記ターゲット上に所定の長さのSiO2-TiO2系ガラスインゴットを成長させる第二の工程とを含み、
前記第二の工程において前記ガラスインゴットの成長面の温度が所定の下限温度以上に維持されるように、前記第一の工程においてターゲットを加熱するSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項1に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記ガラスインゴットの成長面の温度が1600℃以上に維持されるように前記ターゲットを加熱する際の加熱量を設定するSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項1または2に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記第一の工程で前記ターゲットの温度が所定温度に達したことを条件として、前記第二の工程を開始するSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれか一項に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記ターゲットが、円板状のターゲット部材と、該ターゲット部材上に形成されたSiO2ガラス層とからなるSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれか一項に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記ターゲットが、前記第一の工程において熱量を蓄える蓄熱部と、前記蓄熱部から前記ガラスインゴットとは反対の方向への熱伝導を抑制する断熱部とを含むSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項5に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記蓄熱部及び前記断熱部がそれぞれ板状の第1部材及び第2部材からなり、
前記第1部材は前記第2部材と比較して熱容量が大であり、かつ、前記第2部材は前記第1部材と比較して熱伝導率が小であるSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項5に記載の製造方法において、
前記蓄熱部が板状の第1部材からなり、前記第1部材の前記ガラスインゴットとは反対側の面が凸部を有するSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項7に記載のSiO2-TiO2系ガラスの製造方法において、
前記断熱部が板状の第2部材からなり、前記第1部材と第2部材とが前記凸部において熱的に接触するSiO2-TiO2系ガラスの製造方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項の製造方法によりSiO2-TiO2系ガラスを製造し、該ガラスを母材として加熱加圧成形することにより板状部材となすSiO2-TiO2系ガラスからなる板状部材の製造方法。
- 直接法によりターゲット上にガラスインゴットを成長させるSiO2-TiO2系ガラスの製造装置であって、
前記ターゲットが、予熱されることにより熱量を蓄える蓄熱部と、前記蓄熱部から前記ガラスインゴットとは反対の方向への熱伝導を抑制する断熱部とを含む製造装置。 - 請求項10に記載の製造装置であって、
前記蓄熱部及び前記断熱部がそれぞれ板状の第1部材及び第2部材からなり、
前記第1部材は前記第2部材と比較して熱容量が大であり、かつ前記第2部材は前記第1部材と比較して熱伝導率が小であるSiO2-TiO2系ガラスの製造装置。 - 請求項10に記載の製造装置であって、
前記蓄熱部が板状の第1部材からなり、前記第1部材の前記ガラスインゴットとは反対側の面が凸部を有するSiO2-TiO2系ガラスの製造装置。 - 請求項12に記載の製造装置であって、
前記断熱部が板状の第2部材からなり、前記第1部材と第2部材とが前記凸部において熱的に接触するSiO2-TiO2系ガラスの製造装置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10279319A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-20 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの製造方法および装置 |
JPH11228146A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-24 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの製造方法及び製造装置 |
JP2001342026A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Tosoh Quartz Corp | 石英ガラスの製造方法及び製造装置 |
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JP2004123508A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-04-22 | Tosoh Corp | 石英ガラス部品及びその製造方法並びにそれを用いた装置 |
WO2004092082A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Nikon Corporation | SiO2-TiO2系ガラスの製造方法、SiO2-TiO2系ガラス及び露光装置 |
JP2009132550A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Corp | 合成シリカガラスの製造装置及び合成シリカガラスの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4810276A (en) * | 1987-08-05 | 1989-03-07 | Corning Glass Works | Forming optical fiber having abrupt index change |
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US6094940A (en) * | 1997-10-09 | 2000-08-01 | Nikon Corporation | Manufacturing method of synthetic silica glass |
JP2000219523A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-08 | Nikon Corp | 石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラス |
US6541168B2 (en) * | 2000-04-28 | 2003-04-01 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting direct deposit vitrified silicon oxyfluoride lithography glass photomask blanks |
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US20050120752A1 (en) * | 2001-04-11 | 2005-06-09 | Brown John T. | Substantially dry, silica-containing soot, fused silica and optical fiber soot preforms, apparatus, methods and burners for manufacturing same |
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EP1471038A3 (de) * | 2003-04-26 | 2005-11-23 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas |
US8137469B2 (en) * | 2005-12-14 | 2012-03-20 | Corning Incorporated | Method and apparatus for making fused silica |
US20100154474A1 (en) * | 2005-12-21 | 2010-06-24 | Lorrie Foley Beall | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
US20070096403A1 (en) * | 2006-03-06 | 2007-05-03 | Sterlite Optical Technologies Ltd | Apparatus and method for fabricating optical fiber preform. |
DE102008029756B3 (de) * | 2008-06-25 | 2009-04-30 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Zylinders aus Quarzglas sowie Haltevorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US7676136B2 (en) | 2008-06-26 | 2010-03-09 | Emerson Network Power, Energy Systems, North America, Inc. | Fiber distribution hubs with patch and splice enclosures |
GB201106015D0 (en) * | 2011-04-08 | 2011-05-25 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Production of silica soot bodies |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10279319A (ja) * | 1997-04-02 | 1998-10-20 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの製造方法および装置 |
JPH11228146A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-24 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの製造方法及び製造装置 |
JP2001342026A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Tosoh Quartz Corp | 石英ガラスの製造方法及び製造装置 |
JP2002053330A (ja) | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Nikon Corp | 合成石英ガラスの成形方法及び合成石英ガラス |
JP2004123508A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-04-22 | Tosoh Corp | 石英ガラス部品及びその製造方法並びにそれを用いた装置 |
WO2004092082A1 (ja) * | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Nikon Corporation | SiO2-TiO2系ガラスの製造方法、SiO2-TiO2系ガラス及び露光装置 |
JP2009132550A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Corp | 合成シリカガラスの製造装置及び合成シリカガラスの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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