JP2000219523A - 石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラス - Google Patents
石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラスInfo
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- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
- C03B2201/03—Impurity concentration specified
Abstract
(57)【要約】
【課題】 石英ガラス成形時に、石英ガラスのひび割
れ、凹凸や泡などの石英ガラス表面の変質が起こる。 【解決手段】 容器内の合成石英ガラスを重石の重さに
より所望の形状に高温加圧成形する成形方法において、
合成石英ガラスに接している容器の内面及び重石の合成
石英ガラスに相対している面に、応力を緩和しかつ石英
ガラスの変質を抑えるための部材を設ける。
れ、凹凸や泡などの石英ガラス表面の変質が起こる。 【解決手段】 容器内の合成石英ガラスを重石の重さに
より所望の形状に高温加圧成形する成形方法において、
合成石英ガラスに接している容器の内面及び重石の合成
石英ガラスに相対している面に、応力を緩和しかつ石英
ガラスの変質を抑えるための部材を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、石英ガラスを加熱
加圧することにより所望の形状に成形する方法に関する
ものである。特に本発明は四塩化ケイ素，シラン，有機
ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合成石
英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変化させる
成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形してレチ
クル（フォトマスク）基板や結像光学系のレンズ材料に
適する大型ガラスブロックを歩留まりよく成形する方
法、成形装置、及び成形された石英ガラスに関するもの
である。
加圧することにより所望の形状に成形する方法に関する
ものである。特に本発明は四塩化ケイ素，シラン，有機
ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合成石
英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変化させる
成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形してレチ
クル（フォトマスク）基板や結像光学系のレンズ材料に
適する大型ガラスブロックを歩留まりよく成形する方
法、成形装置、及び成形された石英ガラスに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣ、ＬＳＩ等の集積回路パターン転写
には、主に縮小投影露光装置（または光リソグラフィ装
置）が用いられる。この装置に用いられる投影光学系に
は、集積回路の高集積化に伴い、広い露光領域と、その
露光領域全体にわたっての、より高い解像力が要求され
る。投影光学系の解像力の向上については、露光波長を
より短くするか、あるいは投影光学系の開口数（ＮＡ）
を大きくすることが考えられる。
には、主に縮小投影露光装置（または光リソグラフィ装
置）が用いられる。この装置に用いられる投影光学系に
は、集積回路の高集積化に伴い、広い露光領域と、その
露光領域全体にわたっての、より高い解像力が要求され
る。投影光学系の解像力の向上については、露光波長を
より短くするか、あるいは投影光学系の開口数（ＮＡ）
を大きくすることが考えられる。
【０００３】露光波長については、ｇ線（436nm）から
ｉ線（365nm）、ＫｒＦ（248nm）やＡｒＦ（193nm）エ
キシマレーザへと短波長化が進められている。また、更
に高集積化を進めるに当たって、現在、Ｆ２（157nm）
エキシマレーザ，Ｘ線，電子線を光源に用いる方法が検
討されている。この中で、これまでの設計思想を生かし
て作製することが可能なＦ2エキシマレーザを用いた縮
小投影露光装置がにわかに脚光を浴びてきている。
ｉ線（365nm）、ＫｒＦ（248nm）やＡｒＦ（193nm）エ
キシマレーザへと短波長化が進められている。また、更
に高集積化を進めるに当たって、現在、Ｆ２（157nm）
エキシマレーザ，Ｘ線，電子線を光源に用いる方法が検
討されている。この中で、これまでの設計思想を生かし
て作製することが可能なＦ2エキシマレーザを用いた縮
小投影露光装置がにわかに脚光を浴びてきている。
【０００４】一般に、ｉ線より長波長の光源を用いた縮
小投影露光装置の照明光学系あるいは投影光学系のレン
ズ部材として用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い
波長領域では光透過率が急激に低下し、特に250nm以下
の波長領域ではほとんどの光学ガラスで透過しなくなっ
てしまう。そのため、エキシマレーザを光源とした縮小
投影露光装置の光学系を構成するレンズの材料には、石
英ガラスとフッ化カルシウム結晶のみが使用可能であ
る。この２つの材料はエキシマレーザの結像光学系で色
収差補正を行う上で不可欠な材料である。
小投影露光装置の照明光学系あるいは投影光学系のレン
ズ部材として用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い
波長領域では光透過率が急激に低下し、特に250nm以下
の波長領域ではほとんどの光学ガラスで透過しなくなっ
てしまう。そのため、エキシマレーザを光源とした縮小
投影露光装置の光学系を構成するレンズの材料には、石
英ガラスとフッ化カルシウム結晶のみが使用可能であ
る。この２つの材料はエキシマレーザの結像光学系で色
収差補正を行う上で不可欠な材料である。
【０００５】縮小投影露光装置でウェハー上に回路を焼
き付けるためのもう一つの重要な要素としてレチクルが
挙げられる。このレチクルに用いられる材料としては、
エキシマレーザ耐久性はもとより、基板の発熱による熱
膨張が大きな問題になるため、耐久性が良好でなおかつ
熱膨張係数の小さい、直接法で合成された石英ガラスが
用いられている。この直接法石英ガラスの製造方法は、
石英ガラス製バーナにて支燃性ガス（一般に酸素ガス）
及び可燃性ガス（水素ガスあるいは天然ガス）を混合・
燃焼させ、前記バーナの中心部から原料ガスとして高純
度の四塩化ケイ素ガスをキャリアガス（通常酸素ガス）
で希釈して噴出させ、前記原料ガスを周囲の前記酸素ガ
ス及び水素ガスの燃焼により生成する水と反応（加水分
解反応）させて石英ガラス微粒子を発生させ、その前記
石英ガラス微粒子を前記バーナ下方にあり、回転および
揺動および引き下げ運動を行っている不透明石英ガラス
板からなるターゲット上に堆積させ、同時に前記酸素ガ
ス及び水素ガスの燃焼熱により溶融・ガラス化して石英
ガラスインゴットを得る方法である。この方法による
と、比較的大きな径の石英ガラスインゴットが得易いた
め、そのインゴットから切り出したブロックの成形によ
り所望の形状，大きさのレチクル材を得ていた。
き付けるためのもう一つの重要な要素としてレチクルが
挙げられる。このレチクルに用いられる材料としては、
エキシマレーザ耐久性はもとより、基板の発熱による熱
膨張が大きな問題になるため、耐久性が良好でなおかつ
熱膨張係数の小さい、直接法で合成された石英ガラスが
用いられている。この直接法石英ガラスの製造方法は、
石英ガラス製バーナにて支燃性ガス（一般に酸素ガス）
及び可燃性ガス（水素ガスあるいは天然ガス）を混合・
燃焼させ、前記バーナの中心部から原料ガスとして高純
度の四塩化ケイ素ガスをキャリアガス（通常酸素ガス）
で希釈して噴出させ、前記原料ガスを周囲の前記酸素ガ
ス及び水素ガスの燃焼により生成する水と反応（加水分
解反応）させて石英ガラス微粒子を発生させ、その前記
石英ガラス微粒子を前記バーナ下方にあり、回転および
揺動および引き下げ運動を行っている不透明石英ガラス
板からなるターゲット上に堆積させ、同時に前記酸素ガ
ス及び水素ガスの燃焼熱により溶融・ガラス化して石英
ガラスインゴットを得る方法である。この方法による
と、比較的大きな径の石英ガラスインゴットが得易いた
め、そのインゴットから切り出したブロックの成形によ
り所望の形状，大きさのレチクル材を得ていた。
【０００６】あるいは、光ファイバーの製造法に用いら
れる技術の応用として、多孔質石英ガラス母材を雰囲気
加熱処理にて透明化するＶＡＤ（vapor-phase axial de
position）法にてロッド状の石英ガラスを得た後、グラ
ファイト容器などで熱成形してレチクル用の素材を得る
方法もある。石英ガラスの成形方法としては、グラファ
イト製容器内で、絶対圧が0.1Torr以上大気圧以下のヘ
リウムガス雰囲気下に、1700℃以上の温度に加熱加圧成
形し、ついで1100〜1300℃まで急冷する方法，グラファ
イト製容器が２分割以上の縦型構造である成形方法等
（特開昭56-129621号や特開昭57-67031号）が開示され
ている。また、石英ガラスと型材の熱膨張率差に起因す
る応力を緩和する構造を有するグラファイト製容器を用
いて1600℃〜1700℃で加圧成形する方法（特公平4-5462
6号）が開示されている。
れる技術の応用として、多孔質石英ガラス母材を雰囲気
加熱処理にて透明化するＶＡＤ（vapor-phase axial de
position）法にてロッド状の石英ガラスを得た後、グラ
ファイト容器などで熱成形してレチクル用の素材を得る
方法もある。石英ガラスの成形方法としては、グラファ
イト製容器内で、絶対圧が0.1Torr以上大気圧以下のヘ
リウムガス雰囲気下に、1700℃以上の温度に加熱加圧成
形し、ついで1100〜1300℃まで急冷する方法，グラファ
イト製容器が２分割以上の縦型構造である成形方法等
（特開昭56-129621号や特開昭57-67031号）が開示され
ている。また、石英ガラスと型材の熱膨張率差に起因す
る応力を緩和する構造を有するグラファイト製容器を用
いて1600℃〜1700℃で加圧成形する方法（特公平4-5462
6号）が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、石英ガ
ラスをグラファイト製容器にて加熱加圧成形処理を行う
場合、石英ガラスとグラファイトの熱膨張係数が大きく
異なるために、高温での成形後、室温まで温度を下げる
ことにより発生する石英ガラスとグラファイトの収縮の
差を逃がす必要がある。また、屈折率を変化させるよう
な成分を混入させた場合、熱膨張係数の他に粘性もかな
り異なってくることから、通常の石英ガラス以上に注意
が必要となってくる。もし、収縮の差を逃がしきれない
場合、石英ガラスおよびグラファイトに不必要な応力が
加わり、処理した石英ガラスのひび割れや、グラファイ
ト成形型の破損をも招くことがある。また、石英ガラス
は高温になるとグラファイトと反応して炭化ケイ素をつ
くり、また、1400〜1600℃程度では結晶化が起こる。そ
のため、処理後の石英ガラスの表面は、処理温度によっ
ては表面に凹凸が生じ、そこから亀裂が生じることもあ
った。さらには、処理中の石英ガラス内の温度が必ずし
も一定になっておらず、特に屈折率を変化させる成分を
導入したガラスの場合、局部的に泡の発生が見られるこ
とがあった。
ラスをグラファイト製容器にて加熱加圧成形処理を行う
場合、石英ガラスとグラファイトの熱膨張係数が大きく
異なるために、高温での成形後、室温まで温度を下げる
ことにより発生する石英ガラスとグラファイトの収縮の
差を逃がす必要がある。また、屈折率を変化させるよう
な成分を混入させた場合、熱膨張係数の他に粘性もかな
り異なってくることから、通常の石英ガラス以上に注意
が必要となってくる。もし、収縮の差を逃がしきれない
場合、石英ガラスおよびグラファイトに不必要な応力が
加わり、処理した石英ガラスのひび割れや、グラファイ
ト成形型の破損をも招くことがある。また、石英ガラス
は高温になるとグラファイトと反応して炭化ケイ素をつ
くり、また、1400〜1600℃程度では結晶化が起こる。そ
のため、処理後の石英ガラスの表面は、処理温度によっ
ては表面に凹凸が生じ、そこから亀裂が生じることもあ
った。さらには、処理中の石英ガラス内の温度が必ずし
も一定になっておらず、特に屈折率を変化させる成分を
導入したガラスの場合、局部的に泡の発生が見られるこ
とがあった。
【０００８】そこで本発明は、四塩化ケイ素，シラン，
有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合
成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変化さ
せる成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形して
レチクル（フォトマスク）基板や結像光学系のレンズ材
料に適する大型ガラスブロックを歩留まりよく製造する
方法を提供することを目的とする。
有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造される合
成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変化さ
せる成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形して
レチクル（フォトマスク）基板や結像光学系のレンズ材
料に適する大型ガラスブロックを歩留まりよく製造する
方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前述のように、石英ガラ
スの高温高圧での成形処理には３つの問題点があった。
第１に、温度を下げることにより発生する石英ガラス
と容器（グラファイト）の収縮の差を逃がす必要がある
点である。収縮の差を逃がしきれない場合、処理した石
英ガラスのひび割れやグラファイト成形型の破損をも招
くことがある。
スの高温高圧での成形処理には３つの問題点があった。
第１に、温度を下げることにより発生する石英ガラス
と容器（グラファイト）の収縮の差を逃がす必要がある
点である。収縮の差を逃がしきれない場合、処理した石
英ガラスのひび割れやグラファイト成形型の破損をも招
くことがある。
【００１０】第２に、石英ガラスは高温になるとグラフ
ァイトと反応して炭化ケイ素をつくり、また、1400〜16
00℃程度では結晶化が起こる点である。処理後の石英ガ
ラスの表面は、処理温度によっては表面に凸凹が生じ、
そこから亀裂が生じることがある。そして第３に、処理
中の石英ガラス内の温度が必ずしも一定になっておら
ず、特に屈折率を変化させる成分を導入したガラスの場
合、通常の石英ガラスと粘性がかなり異なってくるた
め、局部的に泡の発生が見られることがある点である。
ァイトと反応して炭化ケイ素をつくり、また、1400〜16
00℃程度では結晶化が起こる点である。処理後の石英ガ
ラスの表面は、処理温度によっては表面に凸凹が生じ、
そこから亀裂が生じることがある。そして第３に、処理
中の石英ガラス内の温度が必ずしも一定になっておら
ず、特に屈折率を変化させる成分を導入したガラスの場
合、通常の石英ガラスと粘性がかなり異なってくるた
め、局部的に泡の発生が見られることがある点である。
【００１１】本発明者らはこれらの問題点を解決するた
めに鋭意研究を行った結果、処理を行う石英ガラスと容
器との間に圧力を吸収するようなクッション材を挿入す
るあるいは坩堝の形状を工夫することで上記問題点を解
決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
石英ガラスとグラファイトの線膨張係数はそれぞれ、5
〜6×10-6/℃，2〜6×10-4/℃であるため、冷却過程に
おいては石英ガラスはなかなか縮もうとせず、グラファ
イトは逆に速く縮もうとするため、石英ガラスに対して
は圧縮応力が、グラファイトに対しては引張応力が働
く。これにより、グラファイト型の破損が起こりやすく
なり、最悪の結果として石英ガラスも応力によりひび割
れが起こるため、非常に歩留まりが悪くなる。その応力
吸収の媒体として、石英ガラスとグラファイト製容器の
間にクッション材を挿入することにより降温過程で生じ
る応力の発生を極力抑えることが可能になる。クッショ
ン材としては、高温でもクッション性を有する材料であ
れば何でもよく、例えばカーボン繊維やセラミックファ
イバー等である。特に、カーボン繊維から成る板状のフ
ェルト材料は最適である。また、容器の材質もグラファ
イトを例に説明したが、これに限定されるものではな
く、グラファイト以外のカーボン材料やその他の材料も
使用可能である。
めに鋭意研究を行った結果、処理を行う石英ガラスと容
器との間に圧力を吸収するようなクッション材を挿入す
るあるいは坩堝の形状を工夫することで上記問題点を解
決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
石英ガラスとグラファイトの線膨張係数はそれぞれ、5
〜6×10-6/℃，2〜6×10-4/℃であるため、冷却過程に
おいては石英ガラスはなかなか縮もうとせず、グラファ
イトは逆に速く縮もうとするため、石英ガラスに対して
は圧縮応力が、グラファイトに対しては引張応力が働
く。これにより、グラファイト型の破損が起こりやすく
なり、最悪の結果として石英ガラスも応力によりひび割
れが起こるため、非常に歩留まりが悪くなる。その応力
吸収の媒体として、石英ガラスとグラファイト製容器の
間にクッション材を挿入することにより降温過程で生じ
る応力の発生を極力抑えることが可能になる。クッショ
ン材としては、高温でもクッション性を有する材料であ
れば何でもよく、例えばカーボン繊維やセラミックファ
イバー等である。特に、カーボン繊維から成る板状のフ
ェルト材料は最適である。また、容器の材質もグラファ
イトを例に説明したが、これに限定されるものではな
く、グラファイト以外のカーボン材料やその他の材料も
使用可能である。
【００１２】炭化ケイ素が形成されてしまう点について
は、石英ガラスを塑性変形する際に出てくる揮発成分を
押さえ、なおかつ結晶化をさせないために、不活性ガス
加圧雰囲気で1750℃〜1850℃,10分〜30分の範囲で処理
をすることが望ましい。泡の発生については、石英ガラ
スを高温高圧で塑性変形させる場合、処理の効率化から
重石を処理物の上に乗せて、その重量で変形させる方法
をとる。この際、重石と石英ガラスの接触は面接触にな
っており、もし仮に処理時にガラス表面から沸騰や昇華
により泡が発生したとすると逃げ場がないため、そのま
まの状態で固化する。この面間にカーボン繊維なら成る
板状フェルト材料を挿入することにより接触が面接触か
ら線接触になると予想されるため、発生した泡の逃げ道
が確保され、処理後も泡の混入していないブロックが得
られることになる。
は、石英ガラスを塑性変形する際に出てくる揮発成分を
押さえ、なおかつ結晶化をさせないために、不活性ガス
加圧雰囲気で1750℃〜1850℃,10分〜30分の範囲で処理
をすることが望ましい。泡の発生については、石英ガラ
スを高温高圧で塑性変形させる場合、処理の効率化から
重石を処理物の上に乗せて、その重量で変形させる方法
をとる。この際、重石と石英ガラスの接触は面接触にな
っており、もし仮に処理時にガラス表面から沸騰や昇華
により泡が発生したとすると逃げ場がないため、そのま
まの状態で固化する。この面間にカーボン繊維なら成る
板状フェルト材料を挿入することにより接触が面接触か
ら線接触になると予想されるため、発生した泡の逃げ道
が確保され、処理後も泡の混入していないブロックが得
られることになる。
【００１３】以上のようにすることにより、四塩化ケイ
素，シラン，有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として
製造される合成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈
折率を変化させる成分を添加した合成石英ガラスを加熱
加圧成形してレチクル（フォトマスク）基板や結像光学
系のレンズ材料に適する大型ガラスブロックを歩留まり
よく製造することが可能になる。
素，シラン，有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として
製造される合成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈
折率を変化させる成分を添加した合成石英ガラスを加熱
加圧成形してレチクル（フォトマスク）基板や結像光学
系のレンズ材料に適する大型ガラスブロックを歩留まり
よく製造することが可能になる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を図面に従って説
明する。図１は本発明を実施するための成形型の一例の
概略図である。この容器を加熱源にカーボンヒータを用
いた炉の中に静置する。この際、昇温時，保持時，降温
時いずれにおいても容器の回転を行うこととした。図１
の１は容器の天板，２はグラファイト製の重石，３，
５，６はカーボン繊維からなる板状のフェルト，４は処
理を行う石英ガラス，７は底板，８はグラファイト製容
器である。この状態で処理炉内に置き加熱すると、石英
ガラスが自重及び重石の重量により熱変形を起こし、グ
ラファイト容器の大きさに沿って成形される。
明する。図１は本発明を実施するための成形型の一例の
概略図である。この容器を加熱源にカーボンヒータを用
いた炉の中に静置する。この際、昇温時，保持時，降温
時いずれにおいても容器の回転を行うこととした。図１
の１は容器の天板，２はグラファイト製の重石，３，
５，６はカーボン繊維からなる板状のフェルト，４は処
理を行う石英ガラス，７は底板，８はグラファイト製容
器である。この状態で処理炉内に置き加熱すると、石英
ガラスが自重及び重石の重量により熱変形を起こし、グ
ラファイト容器の大きさに沿って成形される。
【００１５】これに基づき、表１に示すような製造条件
で製造された合成石英ガラスを、同じく表１に示す成形
条件にて成形を行った（実施例１〜実施例４）。
で製造された合成石英ガラスを、同じく表１に示す成形
条件にて成形を行った（実施例１〜実施例４）。
【００１６】
【表１】
【００１７】表１の実施例に示したように、本発明の成
形方法によれば通常の石英ガラスのみならず粘性がかな
り低い屈折率を変化させるような成分が混入している石
英ガラスにおいても、特に問題なく成形を行うことが可
能であった。また、表１には比較例１〜３が示してあ
る。本発明の特徴である、石英ガラスに相対するグラフ
ァイトの面に本発明に基づく処理を行わなかった場合、
成形ができないことが明らかになった。
形方法によれば通常の石英ガラスのみならず粘性がかな
り低い屈折率を変化させるような成分が混入している石
英ガラスにおいても、特に問題なく成形を行うことが可
能であった。また、表１には比較例１〜３が示してあ
る。本発明の特徴である、石英ガラスに相対するグラフ
ァイトの面に本発明に基づく処理を行わなかった場合、
成形ができないことが明らかになった。
【００１８】
【発明の効果】そこで本発明は、四塩化ケイ素，シラ
ン，有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造され
る合成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変
化させる成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形
してレチクル（フォトマスク）基板や結像光学系のレン
ズ材料に適する大型ガラスブロックを歩留まりよく製造
することが可能となった。
ン，有機ケイ素等のケイ素化合物を原料として製造され
る合成石英ガラス、またはGe,Ti,B,F,Al等の屈折率を変
化させる成分を添加した合成石英ガラスを加熱加圧成形
してレチクル（フォトマスク）基板や結像光学系のレン
ズ材料に適する大型ガラスブロックを歩留まりよく製造
することが可能となった。
【図１】本発明の方法を実施するための成形型の概略図
である。
である。
【符号の説明】 １：グラファイト製天板 ２：グラファイト製重石 ３，５，６：フェルト材 ４：石英ガラス ７：底板 ８：グラファイト製容器
Claims (8)
- 【請求項１】容器内の合成石英ガラスを重石の重さによ
り所望の形状に高温加圧成形する成形方法であって、合
成石英ガラスに接している前記容器の内面及び重石の合
成石英ガラスに相対している面に、応力を緩和しかつ石
英ガラスの変質を抑えるための部材を設けたことを特徴
とする石英ガラスの成形方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の石英ガラスの成形方法に
おいて、応力を緩和しかつ石英ガラスの変質を抑えるた
めの部材が、カーボン繊維からなる板状のフェルト材で
あることを特徴とする石英ガラスの成形方法。 - 【請求項３】請求項１に記載の石英ガラスの成形方法に
おいて、応力を緩和しかつ石英ガラスの変質を抑えるた
めの部材が、板状のセラミックファイバー材であること
を特徴とする石英ガラスの成形方法。 - 【請求項４】請求項１に記載の石英ガラスの成形方法に
おいて、成形時の雰囲気が大気圧以上の不活性ガス雰囲
気中であることを特徴とする、請求項１に記載の石英ガ
ラス成形方法。 - 【請求項５】請求項１に記載の石英ガラスの成形法にお
いて、成形時の処理温度が1750℃〜1850℃で処理時間が
10分〜30分あることを特徴とする石英ガラスの成形方
法。 - 【請求項６】請求項１に記載の石英ガラスの成形方法に
おいて、合成石英ガラスに接している前記容器の内面に
設けた応力を緩和しかつ石英ガラスの変質を抑えるため
の部材の高さが、合成石英ガラスの成形後の高さと同じ
か、それ以下であることを特徴とする石英ガラスの成形
方法。 - 【請求項７】石英ガラスを収納する容器と、容器を加熱
するために容器外に設置される加熱源と、石英ガラスを
成形するために容器内に設置される重石とを備えた石英
ガラスの成形装置において、容器の石英ガラスに接する
内面及び重石の石英ガラスに相対する面に、応力を緩和
しかつ石英ガラスの変質を抑えるための部材を設置する
ことを特徴とする石英ガラスの成形装置。 - 【請求項８】請求項１の成形方法により得られる石英ガ
ラスであって、石英ガラス表面に凹凸や泡などの変質部
分を持たないことを特徴とする石英ガラス。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11020826A JP2000219523A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラス |
| PCT/JP2000/000469 WO2000044678A1 (fr) | 1999-01-28 | 2000-01-28 | Procede et dispositif de formation de verre de quartz |
| EP00901977A EP1069084A4 (en) | 1999-01-28 | 2000-01-28 | METHOD AND DEVICE FOR FORMING QUARTZ GLASS |
| AU23215/00A AU2321500A (en) | 1999-01-28 | 2000-01-28 | Method and device for forming quartz glass |
| US09/671,337 US6505484B1 (en) | 1999-01-28 | 2000-09-27 | Forming method of silica glass and forming apparatus thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11020826A JP2000219523A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000219523A true JP2000219523A (ja) | 2000-08-08 |
Family
ID=12037858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11020826A Pending JP2000219523A (ja) | 1999-01-28 | 1999-01-28 | 石英ガラスの成形方法、成形装置、及びそれにより得られた石英ガラス |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6505484B1 (ja) |
| EP (1) | EP1069084A4 (ja) |
| JP (1) | JP2000219523A (ja) |
| AU (1) | AU2321500A (ja) |
| WO (1) | WO2000044678A1 (ja) |
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| EP1284244B1 (de) * | 2001-08-15 | 2006-04-26 | Schott Ag | Quarzglasplatte sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von optischen Bauteilen |
| JP4453021B2 (ja) * | 2005-04-01 | 2010-04-21 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 |
| JP2007008771A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Asahi Glass Co Ltd | 光学素子の成型装置 |
| JP4453693B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2010-04-21 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法及び電子機器の製造方法 |
| JP4407685B2 (ja) * | 2006-10-11 | 2010-02-03 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法および電子機器の製造方法 |
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| US9027365B2 (en) | 2013-01-08 | 2015-05-12 | Heraeus Quartz America Llc | System and method for forming fused quartz glass |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1387188A (fr) * | 1963-12-13 | 1965-01-29 | Moulage de feuilles de verre | |
| US3863325A (en) * | 1973-05-25 | 1975-02-04 | Aluminum Co Of America | Glass cloth in metal forging |
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1999
- 1999-01-28 JP JP11020826A patent/JP2000219523A/ja active Pending
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2000
- 2000-01-28 AU AU23215/00A patent/AU2321500A/en not_active Abandoned
- 2000-01-28 WO PCT/JP2000/000469 patent/WO2000044678A1/ja active Application Filing
- 2000-01-28 EP EP00901977A patent/EP1069084A4/en not_active Withdrawn
- 2000-09-27 US US09/671,337 patent/US6505484B1/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2000044678A1 (fr) | 2000-08-03 |
| EP1069084A4 (en) | 2008-12-24 |
| EP1069084A1 (en) | 2001-01-17 |
| AU2321500A (en) | 2000-08-18 |
| US6505484B1 (en) | 2003-01-14 |
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