JPS62241542A - 無機質球状化粒子の製造方法及び装置 - Google Patents
無機質球状化粒子の製造方法及び装置Info
- Publication number
- JPS62241542A JPS62241542A JP8375486A JP8375486A JPS62241542A JP S62241542 A JPS62241542 A JP S62241542A JP 8375486 A JP8375486 A JP 8375486A JP 8375486 A JP8375486 A JP 8375486A JP S62241542 A JPS62241542 A JP S62241542A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- furnace
- wall
- cooling
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 title claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000005563 spheronization Methods 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 11
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 4
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012797 inorganic spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000003915 liquefied petroleum gas Substances 0.000 description 1
- 238000011328 necessary treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Glanulating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、球状及び粒度が均整した無機質球状粒子の製
造法と装置に関わるものである。
造法と装置に関わるものである。
従来、例えば封止材として用いられる溶融シリカ等の無
機質粒子は、珪酸質原料粉を電熱や酸素−炭化水素炎を
熱源とする溶融炉により溶解してインゴットとし、これ
を所定の粒度に粉砕して製造していた。しかしこの粉砕
品は、角部が存在するため封止材料として用いる場合、
充填性や成形性が充分であるといえなかった。
機質粒子は、珪酸質原料粉を電熱や酸素−炭化水素炎を
熱源とする溶融炉により溶解してインゴットとし、これ
を所定の粒度に粉砕して製造していた。しかしこの粉砕
品は、角部が存在するため封止材料として用いる場合、
充填性や成形性が充分であるといえなかった。
これに対応する為に、特開昭５８−１４５６１３号公報
に示すごとく、珪酸質原料をガス炎と共に竪形炉の上部
から炉内に噴射して溶融シリカの球状体を製造する方法
が提案されている。
に示すごとく、珪酸質原料をガス炎と共に竪形炉の上部
から炉内に噴射して溶融シリカの球状体を製造する方法
が提案されている。
この種の竪形炉による溶融シリカ球状体の製造法におい
ては、不純物の混入防止と操炉の安定性が特に重要であ
る。ところが実際には、炉内壁耐火物に球状微粒子が直
接接触して炉内壁の耐火物を剥がし球状微粒子と混ざり
不純物となって電子部品用材料として問題となったり、
又逆に溶融状態の球状微粒子が炉内壁の耐火物に付着し
て成長し、ついには炉内が閉塞してしまうことがしばし
ば起こる。こういった為に従来の炉は不純物濃度の上昇
、あるいは炉内付着物の除去の為の定期的な炉内清掃を
余儀無くされていた。
ては、不純物の混入防止と操炉の安定性が特に重要であ
る。ところが実際には、炉内壁耐火物に球状微粒子が直
接接触して炉内壁の耐火物を剥がし球状微粒子と混ざり
不純物となって電子部品用材料として問題となったり、
又逆に溶融状態の球状微粒子が炉内壁の耐火物に付着し
て成長し、ついには炉内が閉塞してしまうことがしばし
ば起こる。こういった為に従来の炉は不純物濃度の上昇
、あるいは炉内付着物の除去の為の定期的な炉内清掃を
余儀無くされていた。
本発明は、これらの欠点を解決し、不純物の少ない無機
質球状化粒子が得られると共に、操炉が長期間安定に行
なわれうる無機質球状化粒子の製造方法及び装置を提供
することを目的とするものである。
質球状化粒子が得られると共に、操炉が長期間安定に行
なわれうる無機質球状化粒子の製造方法及び装置を提供
することを目的とするものである。
本発明の要旨は次のとおりである。
（１１球状化室と冷却室を有する竪形炉の上記球状化室
内で高温火炎と無機質粉末原料とを接触させ球状化処理
し次いで冷却室内で冷却する方法に於いて、上記球状化
室の壁内面に球状化粒子の付着薄層を形成し、維持する
ことを特徴と干る無機質球状化粒子の製造方法。
内で高温火炎と無機質粉末原料とを接触させ球状化処理
し次いで冷却室内で冷却する方法に於いて、上記球状化
室の壁内面に球状化粒子の付着薄層を形成し、維持する
ことを特徴と干る無機質球状化粒子の製造方法。
（２）頂部に高温火炎及び無機質粉末原料を噴射するバ
ーナーを有し、胴部に耐火物壁を有する球状化室と、こ
の球状化室に接続された内部に冷却気体が供給される冷
却室を主要構成とする装置に於いて、上記球状化室の胴
部耐火物壁の外面に水冷箱を設けてなる無機質球状化粒
子の製造装置。
ーナーを有し、胴部に耐火物壁を有する球状化室と、こ
の球状化室に接続された内部に冷却気体が供給される冷
却室を主要構成とする装置に於いて、上記球状化室の胴
部耐火物壁の外面に水冷箱を設けてなる無機質球状化粒
子の製造装置。
以下本発明について詳しく説明する。
珪酸質の如き無機質粉末材料をガス炎と共に竪形炉の上
から炉内に噴射して溶融シリカの球状体を製造する方法
において炉からの不純物の混入防止と炉の安定操業は重
要である。
から炉内に噴射して溶融シリカの球状体を製造する方法
において炉からの不純物の混入防止と炉の安定操業は重
要である。
本発明は、球状化質の炉壁内面に適度の厚みを有する球
状化微粒子の付着層を形成させることにより、球状化微
粒子による炉壁耐火物の剥離を防止し、又付着層が異常
な成長を起こさないことにより、球状化室の閉塞を防止
するものである。
状化微粒子の付着層を形成させることにより、球状化微
粒子による炉壁耐火物の剥離を防止し、又付着層が異常
な成長を起こさないことにより、球状化室の閉塞を防止
するものである。
発明者らは、この様な球状化粒子の付着層形成の条件を
求める為に、実験炉において操業条件を種々変えて実験
を行った。第１図は炉内壁温度を６００．９００，１１
００．１２００℃と変化させた時の炉内壁付着厚みの時
間的変化を示したものである。炉内壁温度が６００℃以
下ならば炉内壁に球状微粒子は付着しない。ところが、
この様な状態で球状微粒子の製造を行うと、微粒子が炉
内壁にぶつかり炉内壁耐火物が剥離して球状微粒子中に
不純物として混入する問題がある。次に、炉内壁温度が
６００℃を超えて９００．１１００℃となると炉内壁と
球状微粒子との間に温度に応じた付着力が生じ球状微粒
子が炉内壁に付着する。
求める為に、実験炉において操業条件を種々変えて実験
を行った。第１図は炉内壁温度を６００．９００，１１
００．１２００℃と変化させた時の炉内壁付着厚みの時
間的変化を示したものである。炉内壁温度が６００℃以
下ならば炉内壁に球状微粒子は付着しない。ところが、
この様な状態で球状微粒子の製造を行うと、微粒子が炉
内壁にぶつかり炉内壁耐火物が剥離して球状微粒子中に
不純物として混入する問題がある。次に、炉内壁温度が
６００℃を超えて９００．１１００℃となると炉内壁と
球状微粒子との間に温度に応じた付着力が生じ球状微粒
子が炉内壁に付着する。
付着層がある厚みになると、炉内壁と球状微粒子の間の
付着力より自重による落下刃が強くなり付着層は炉下部
に落下分散する。この繰り返しにより炉壁は、常に球状
微粒子によりコーティングされ、炉内壁温度に応じた厚
みの付着層が形成される。第１図の例では約２４時間で
付着層厚みは安定して、安定した後の付着層厚みは９０
０℃で３０ｇｍ、１１００℃で５０１１であった。
付着力より自重による落下刃が強くなり付着層は炉下部
に落下分散する。この繰り返しにより炉壁は、常に球状
微粒子によりコーティングされ、炉内壁温度に応じた厚
みの付着層が形成される。第１図の例では約２４時間で
付着層厚みは安定して、安定した後の付着層厚みは９０
０℃で３０ｇｍ、１１００℃で５０１１であった。
しかしながら、炉内壁温度が１１００℃以上、例えば１
２００℃になると付着層厚みは２４時間を超えても一定
に安定せず、時間の経過とともに次第に増加する。これ
は炉内壁温度が１１００℃以上になると、付着力が落下
刃より強くなり付着層は次第に成長する為である。しか
して、付着層が成長してくると付着層自身が断熱壁とな
り付着層内面がさら５に温度が上がり、さらに強固に付
着物が付着する。これを続けるとついに炉内が閉塞して
しまう。
２００℃になると付着層厚みは２４時間を超えても一定
に安定せず、時間の経過とともに次第に増加する。これ
は炉内壁温度が１１００℃以上になると、付着力が落下
刃より強くなり付着層は次第に成長する為である。しか
して、付着層が成長してくると付着層自身が断熱壁とな
り付着層内面がさら５に温度が上がり、さらに強固に付
着物が付着する。これを続けるとついに炉内が閉塞して
しまう。
この様に、球状化室の炉内壁の温度を適切に維持するこ
とにより目的とする球状化粒子の最適の付着状態が得ら
れるものであり、かかる点から本発明に於いては、炉内
壁温度を６００〜１１００℃の範囲に設定するものであ
る。
とにより目的とする球状化粒子の最適の付着状態が得ら
れるものであり、かかる点から本発明に於いては、炉内
壁温度を６００〜１１００℃の範囲に設定するものであ
る。
炉内壁温度は、溶射火炎からの輻射熱と炉壁からの放散
熱のバランスで決まる。すなわち、例えばＬＰＧの燃焼
量が一定で輻射熱量が一定の条件では、炉内径を大きく
し、側壁ＩＭ当たりの輻射熱量を小さくすると炉内壁温
度は低くなる。又一定の炉内径では、炉壁耐火物の熱抵
抗を高め放散熱量を低下させると炉内壁温度はあがる。
熱のバランスで決まる。すなわち、例えばＬＰＧの燃焼
量が一定で輻射熱量が一定の条件では、炉内径を大きく
し、側壁ＩＭ当たりの輻射熱量を小さくすると炉内壁温
度は低くなる。又一定の炉内径では、炉壁耐火物の熱抵
抗を高め放散熱量を低下させると炉内壁温度はあがる。
又炉外壁を強制冷却して放散熱量を増やすと炉内壁温度
は低くなる。
は低くなる。
したがって、本発明に於いては上記いづれの手段を採用
してもよいが、炉内径が大きくなると炉の建設費が増え
る為、できるだけ炉内径が小さくなる様に炉壁耐火物の
選択及び炉外壁の冷却方法を採用することが望ましい。
してもよいが、炉内径が大きくなると炉の建設費が増え
る為、できるだけ炉内径が小さくなる様に炉壁耐火物の
選択及び炉外壁の冷却方法を採用することが望ましい。
すなわち、具体的には炉壁耐火物は熱伝導度の高いハイ
アルミナ質煉瓦を施工できる下限の厚み（例えば１１４
ｍ）に施工し、炉外壁の冷却は冷却速度の高い水冷方式
％式％ 使用する無機質粉末原料は珪酸質に限定されることなく
、アルミナ賞その他のものも任意に使用することが出来
る。又粉末原料の球状化熱源もＬＰＧの如き可燃ガスに
限定されることなく、プラズマ等も利用出来る。
アルミナ質煉瓦を施工できる下限の厚み（例えば１１４
ｍ）に施工し、炉外壁の冷却は冷却速度の高い水冷方式
％式％ 使用する無機質粉末原料は珪酸質に限定されることなく
、アルミナ賞その他のものも任意に使用することが出来
る。又粉末原料の球状化熱源もＬＰＧの如き可燃ガスに
限定されることなく、プラズマ等も利用出来る。
（１１装置の実施例
第２図に於いてＡは溶射バーナー、Ｂは球状化室、Ｃは
冷却室、Ｄは球状化粒子の輸送系である。
冷却室、Ｄは球状化粒子の輸送系である。
溶射バーナーＡは天井部１に設けられており、ここから
無機質粉末原料、ＬＰＧ及び酸素が球状化室Ｂ内へ噴射
される。球状化室Ｂの炉壁２は熱伝導の高いハイアルミ
ナ質煉瓦で形成されており、その外周全面には水冷ジャ
ケット３が設けられていて、この水冷ジャケット３には
給排水管４８４′が接続されている。冷却室Ｃは金属製
水冷構造で給排水管５，５′が接続されており、下方が
漏斗状に絞られており、そして内部へ冷却ガス管６から
冷却用ガスが吹き込まれる。
無機質粉末原料、ＬＰＧ及び酸素が球状化室Ｂ内へ噴射
される。球状化室Ｂの炉壁２は熱伝導の高いハイアルミ
ナ質煉瓦で形成されており、その外周全面には水冷ジャ
ケット３が設けられていて、この水冷ジャケット３には
給排水管４８４′が接続されている。冷却室Ｃは金属製
水冷構造で給排水管５，５′が接続されており、下方が
漏斗状に絞られており、そして内部へ冷却ガス管６から
冷却用ガスが吹き込まれる。
かくして、冷却室Ｃ内で冷却された球状化粒子は輸送系
りからブロワ−（図示せず）により吸引輸送され、分級
等の所要の処理が施される。
りからブロワ−（図示せず）により吸引輸送され、分級
等の所要の処理が施される。
上記水冷ジャケット３による強制冷却作用により炉壁２
の内面は常時６００〜１１００℃から選ばれた所定の温
度に保ち、制御された球状化粒子によるセルフライニン
グを形成する。
の内面は常時６００〜１１００℃から選ばれた所定の温
度に保ち、制御された球状化粒子によるセルフライニン
グを形成する。
この場合、球状化室Ｂと冷却室Ｃの冷却を独立して行わ
ず、冷却室Ｃを冷却後の冷却水を球状化室Ｂへ循環して
室Ｂを冷却してもよい。
ず、冷却室Ｃを冷却後の冷却水を球状化室Ｂへ循環して
室Ｂを冷却してもよい。
（２）方法の実施例
第１図に示す如く、炉は竪型であり炉の上部中心に溶射
バーナーを配置している。炉の球状化室の直径は１ｍ、
高さ１ｍ、炉壁耐大物のハイアルミナ質煉瓦を１１４ｆ
ｌ施工した。また炉外壁は水冷ジセケソトを配置し約１
０ＯＬ／分の冷却水を通水した。
バーナーを配置している。炉の球状化室の直径は１ｍ、
高さ１ｍ、炉壁耐大物のハイアルミナ質煉瓦を１１４ｆ
ｌ施工した。また炉外壁は水冷ジセケソトを配置し約１
０ＯＬ／分の冷却水を通水した。
この条件で珪酸質微粉原料を５０ ｋｇ／ Ｈ、ＬＰＧ
をｌ０Ｎｒｒ？／Ｈ，純酸素を５ＯＮｎ？／ｆ（を供給
して溶射した結果、炉内壁温度は９００’Ｃとなり付層
厚みは２４時間後に３０ｍｍで安定した。また製品のガ
ラス化、球状化は良好であり、得られた製品中のアルミ
ナ濃度は０．１％で問題のないものであった。
をｌ０Ｎｒｒ？／Ｈ，純酸素を５ＯＮｎ？／ｆ（を供給
して溶射した結果、炉内壁温度は９００’Ｃとなり付層
厚みは２４時間後に３０ｍｍで安定した。また製品のガ
ラス化、球状化は良好であり、得られた製品中のアルミ
ナ濃度は０．１％で問題のないものであった。
以上の如く、本発明によれば溶射による無機質球状化粒
子の製造に於いて、混入不純物の少ない球状化粒子が得
られると共に、溶射球状化処理炉の操業が安定するとい
う効果が奏せられるものであり、球状化粒子の製造に著
しく寄与する。
子の製造に於いて、混入不純物の少ない球状化粒子が得
られると共に、溶射球状化処理炉の操業が安定するとい
う効果が奏せられるものであり、球状化粒子の製造に著
しく寄与する。
第１図は炉内壁温度と炉内壁面への球状化粒子の付着層
厚みとの関係を示す図、第２図は本発明装置の実施例の
断面説明図である。 Ａ・・・溶射バーナー、Ｂ・・・球状化室、Ｃ・・・冷
却室、Ｄ・・・輸送系、１・・・天井部、２・・・炉壁
、３・・・水冷ジャケット、４，４′・・・給排水管、
５．５′・・・給排水管、６・・・冷却ガス管。 志慰時閘（ｌｖ ） ゛
厚みとの関係を示す図、第２図は本発明装置の実施例の
断面説明図である。 Ａ・・・溶射バーナー、Ｂ・・・球状化室、Ｃ・・・冷
却室、Ｄ・・・輸送系、１・・・天井部、２・・・炉壁
、３・・・水冷ジャケット、４，４′・・・給排水管、
５．５′・・・給排水管、６・・・冷却ガス管。 志慰時閘（ｌｖ ） ゛
Claims (3)
- （１）球状化室と冷却室を有する竪形炉の上記球状化室
内で高温火炎と無機質粉末原料とを接触させ球状化処理
し次いで冷却室内で冷却する方法に於いて、上記球状化
室の壁内面に球状化粒子付着薄層を形成し、維持するこ
とを特徴とする無機質球状化粒子の製造方法。 - （２）上記球状化室の壁内面温度を６００〜１１００℃
に保つことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の無
機質球状化粒子の製造方法。 - （３）頂部に高温火炎及び無機質粉末原料を噴射するバ
ーナーを有し、胴部に耐火物壁を有する球状化室と、こ
の球状化室に接続された内部に冷却気体が供給される冷
却室を主要構成とする装置に於いて、上記球状化室の胴
部耐火物壁の外面に水冷箱を設けてなる無機質球状化粒
子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8375486A JPS62241542A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 無機質球状化粒子の製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8375486A JPS62241542A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 無機質球状化粒子の製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62241542A true JPS62241542A (ja) | 1987-10-22 |
Family
ID=13811330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8375486A Pending JPS62241542A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 無機質球状化粒子の製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62241542A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0259416A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-02-28 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 微細溶融球状シリカおよびその製造法 |
| US5253991A (en) * | 1989-11-20 | 1993-10-19 | Sumitomo Cement Co., Ltd. | Apparatus for producing spheroidal inorganic particulate material |
| US6054073A (en) * | 1997-08-25 | 2000-04-25 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing inorganic spherical particles |
| WO2010003035A1 (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coated reactor tube, method of making the coated tube, method for making bismuth containing glass frit powders using aerosol decomposition in said reactor tube. |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP8375486A patent/JPS62241542A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0259416A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-02-28 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 微細溶融球状シリカおよびその製造法 |
| JPH0696445B2 (ja) * | 1988-08-25 | 1994-11-30 | 日本化学工業株式会社 | 微細溶融球状シリカおよびその製造法 |
| US5253991A (en) * | 1989-11-20 | 1993-10-19 | Sumitomo Cement Co., Ltd. | Apparatus for producing spheroidal inorganic particulate material |
| US6054073A (en) * | 1997-08-25 | 2000-04-25 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for producing inorganic spherical particles |
| WO2010003035A1 (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coated reactor tube, method of making the coated tube, method for making bismuth containing glass frit powders using aerosol decomposition in said reactor tube. |
| CN102105412A (zh) * | 2008-07-02 | 2011-06-22 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 涂覆的反应管、制备涂覆的反应管的方法以及利用气溶胶分解在所述反应管内制备含铋玻璃料粉的方法 |
| US8790782B2 (en) | 2008-07-02 | 2014-07-29 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for making glass frit powders using aerosol decomposition |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3501631B2 (ja) | 無機質球状粒子の製造方法及び装置 | |
| US5558822A (en) | Method for production of spheroidized particles | |
| JP3219763B2 (ja) | 極めて短い精製時間と低電力消費の高周波直接誘導による酸化混合物連続溶融炉 | |
| US5211733A (en) | Method for producing a high-purity silica glass powder | |
| TW541367B (en) | Method and apparatus for silicon deposition | |
| JPS6325226A (ja) | ガラス材料の真空清澄のための気泡制御方法 | |
| JPH0639352B2 (ja) | 単結晶の製造装置 | |
| JP2001342026A (ja) | 石英ガラスの製造方法及び製造装置 | |
| JPH02199028A (ja) | 材料の溶融方法および装置 | |
| JPS6345133A (ja) | ガラス状材料の清澄化方法 | |
| WO1996033950A1 (fr) | Procedes pour produire de la poudre de quartz synthetique et pour produire du verre de quartz forme | |
| KR20020024576A (ko) | 실리콘과 실리콘 함유 재료로부터 비결정질 실리카를생성하기 위한 방법 및 장치 | |
| JPS62241542A (ja) | 無機質球状化粒子の製造方法及び装置 | |
| JP4692324B2 (ja) | 高純度多結晶シリコンの製造装置 | |
| TW201536968A (zh) | 製備顆粒狀多晶矽的反應器和方法 | |
| KR101111681B1 (ko) | 단결정 실리콘 잉곳 제조장치 | |
| JPH02199013A (ja) | 微細な溶融球状シリカの製造方法 | |
| KR100414962B1 (ko) | 합성석영분말의제조방법 | |
| JP3567209B2 (ja) | スポンジチタン還元炉の冷却方法 | |
| JPH0557201B2 (ja) | ||
| JP3617153B2 (ja) | 合成石英粉の製造方法 | |
| JPS62100436A (ja) | 高純度石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0517123A (ja) | 高純度シリカガラス粉末の製造法 | |
| JPS59164644A (ja) | 溶融石英インゴツトの製法 | |
| CN113846237B (zh) | 一种减少海绵钛生产过程中夹镁的设备及方法 |