FR2339185B1 - Composition photoresistante - Google Patents

Composition photoresistante

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ZA00757984A ZA757984B (en) 1974-10-04 1975-12-23 Polymers for aqueous processed photoresists
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BE163988A BE838135A (fr) 1974-10-04 1976-01-30 Polymeres pour masques photographiques developpes en milieu aqueux
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DD191055A DD125491A5 (ja) 1974-10-04 1976-02-02
BR7601434A BR7601434A (pt) 1974-10-04 1976-03-10 Composicao fotopolimerizavel,laminado,processo para preparar um fotoprotetor e produto obtido pela exposicao da composicao fotopolimerizavel a luz actinica
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US51192974A 1974-10-04 1974-10-04
ZA00757984A ZA757984B (en) 1974-10-04 1975-12-23 Polymers for aqueous processed photoresists
SE7600431A SE7600431L (sv) 1974-10-04 1976-01-16 Polymer for fotoresist for behandling i vattenlosningar
DE2602410A DE2602410C2 (de) 1974-10-04 1976-01-23 Photopolymerisierbares Material
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NL7600794.A NL160004C (nl) 1974-10-04 1976-01-27 Droge filmfotoresist.
GB3624/76A GB1521372A (en) 1974-10-04 1976-01-29 Photopolymerisable compositions for aqueous processed photoresists
BE163988A BE838135A (fr) 1974-10-04 1976-01-30 Polymeres pour masques photographiques developpes en milieu aqueux
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JP59257283A JPS61134756A (ja) 1974-10-04 1984-12-05 フオトレジストの製法

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Families Citing this family (142)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4208211A (en) * 1978-05-23 1980-06-17 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Fabrication based on radiation sensitive resists and related products
DE3120052A1 (de) * 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE3223104A1 (de) * 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE3367683D1 (en) * 1982-06-21 1987-01-02 Hoechst Ag Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material produced therewith
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
DD250593A1 (de) * 1984-04-03 1987-10-14 Wolfen Filmfab Veb Fotopolymerisierbares material
JPH0642073B2 (ja) * 1984-04-10 1994-06-01 三菱レイヨン株式会社 光重合性樹脂組成物
JPS638735A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd パタ−ン形成用感光性樹脂板
JPH0820735B2 (ja) * 1987-08-26 1996-03-04 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
JPS6456442A (en) * 1987-08-27 1989-03-03 Okamoto Kagaku Kogyo Kk Production of printing plate
DE3805706A1 (de) * 1988-02-24 1989-09-07 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JP2697738B2 (ja) * 1988-02-26 1998-01-14 マックダーミッド イメージング テクノロジー,インコーポレイテッド 光重合可能な組成物
JP2826330B2 (ja) * 1988-12-15 1998-11-18 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2826329B2 (ja) * 1988-12-15 1998-11-18 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2856746B2 (ja) * 1988-12-15 1999-02-10 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2776522B2 (ja) * 1988-12-15 1998-07-16 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
DE3931467A1 (de) * 1989-09-21 1991-04-04 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske
JP2756623B2 (ja) * 1992-02-26 1998-05-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH07311462A (ja) 1994-05-16 1995-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および画像形成方法
JPH08101498A (ja) 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
JP4137577B2 (ja) 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
US7338748B2 (en) 2002-09-30 2008-03-04 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and planographic printing plate precursor
JP2004126050A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
CN100590525C (zh) 2002-12-18 2010-02-17 富士胶片株式会社 可聚合组合物和平版印刷版前体
JP4150261B2 (ja) 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP2004252201A (ja) 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2004252285A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP2005099284A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
JP2005227554A (ja) 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
WO2006013697A1 (ja) 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4538350B2 (ja) 2005-03-18 2010-09-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法
JP4406617B2 (ja) 2005-03-18 2010-02-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
US20060216646A1 (en) 2005-03-22 2006-09-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1923703B1 (en) 2005-11-25 2015-05-06 FUJIFILM Corporation A method for producing a biosensor having a covalently bound thin polymeric coat
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4911455B2 (ja) 2006-09-27 2012-04-04 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
EP1935910A3 (en) 2006-12-19 2009-03-04 FUJIFILM Corporation Process for producing acrylonitrile-containing polymer latex
US8158307B2 (en) 2007-02-14 2012-04-17 Fujifilm Corporation Color filter and method of manufacturing the same, and solid-state image pickup element
JP4855299B2 (ja) 2007-02-27 2012-01-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルター及びその製造方法
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (en) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP5075450B2 (ja) 2007-03-30 2012-11-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4992534B2 (ja) * 2007-04-27 2012-08-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物
KR101526619B1 (ko) 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP5535063B2 (ja) 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
US8728686B2 (en) 2007-07-17 2014-05-20 Fujifilm Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
JP4777315B2 (ja) 2007-08-29 2011-09-21 富士フイルム株式会社 バイオセンサー用チップおよびその製造方法並びに表面プラズモン共鳴分析用センサー
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP5247093B2 (ja) 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
US7955781B2 (en) 2007-09-28 2011-06-07 Fujifilm Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
ATE526366T1 (de) 2007-10-31 2011-10-15 Fujifilm Corp Farbige härtbare zusammensetzung, farbfilter, herstellungsverfahren dafür und festzustand- bildaufnahmevorrichtung
CN101842444B (zh) 2007-11-01 2013-06-05 富士胶片株式会社 颜料分散组合物、着色固化性组合物、滤色器及其制造方法
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
JP2009145189A (ja) 2007-12-13 2009-07-02 Fujifilm Corp バイオセンサー
JP5068640B2 (ja) 2007-12-28 2012-11-07 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5052360B2 (ja) 2008-01-31 2012-10-17 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009198664A (ja) 2008-02-20 2009-09-03 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像素子
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
US8362140B2 (en) 2008-03-17 2013-01-29 Fujifilm Corporation Pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, photocurable composition, color filter, liquid crystal display device, and solid-state image pickup device
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP5473239B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-16 富士フイルム株式会社 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5173528B2 (ja) 2008-03-28 2013-04-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5228631B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5248203B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
EP2320274A4 (en) 2008-08-22 2011-12-14 Fujifilm Corp METHOD FOR MANUFACTURING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
JP5171483B2 (ja) 2008-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2010097175A (ja) 2008-09-22 2010-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2010102330A (ja) 2008-09-24 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5393092B2 (ja) 2008-09-30 2014-01-22 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
EP2204698B1 (en) 2009-01-06 2018-08-08 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5371824B2 (ja) 2009-02-19 2013-12-18 富士フイルム株式会社 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法
JP2010198735A (ja) 2009-02-20 2010-09-09 Fujifilm Corp 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2010197620A (ja) 2009-02-24 2010-09-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法
JP5315267B2 (ja) 2009-03-26 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素
JP5479163B2 (ja) 2009-03-31 2014-04-23 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
JP5451235B2 (ja) 2009-07-31 2014-03-26 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
JP5657243B2 (ja) 2009-09-14 2015-01-21 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド カラーフィルタ及び発光表示素子
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP2011068837A (ja) 2009-09-28 2011-04-07 Fujifilm Corp フタロシアニン化合物を含有する緑色顔料分散体
JP5501175B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5535842B2 (ja) 2009-09-30 2014-07-02 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
US8152863B2 (en) 2010-06-01 2012-04-10 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device
EP2625166B1 (en) 2010-10-05 2014-09-24 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
CN103782241B (zh) 2011-09-15 2017-04-26 富士胶片株式会社 制版处理废液的再循环方法
JP5819275B2 (ja) 2011-11-04 2015-11-24 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2818522B1 (en) 2012-02-23 2018-11-21 FUJIFILM Corporation Chromogenic composition, chromogenic curable composition, lithographic printing plate precursor, platemaking method, and chromogenic compound
EP3354641B1 (en) 2012-05-09 2019-07-17 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
WO2014045783A1 (ja) 2012-09-20 2014-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
BR112015006578A2 (ja) 2012-09-26 2019-12-17 Fujifilm Corp A planographic printing original plate and a platemaking method
CN104854699B (zh) 2012-12-03 2017-09-01 富士胶片株式会社 固体摄影元件用保持基板及其制造方法、固体摄影装置
EP2927718B1 (en) 2012-12-03 2018-09-19 FUJIFILM Corporation Ir-cut filter and manufacturing method thereof, solid state image pickup device, and light blocking film formation method
CN105190436A (zh) 2013-02-27 2015-12-23 富士胶片株式会社 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
US10234761B2 (en) 2013-07-08 2019-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP6271594B2 (ja) 2014-01-31 2018-01-31 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
JP6721670B2 (ja) 2016-03-14 2020-07-15 富士フイルム株式会社 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法
KR102453516B1 (ko) 2018-03-13 2022-10-12 후지필름 가부시키가이샤 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법
EP3848627A4 (en) 2018-09-07 2021-10-27 FUJIFILM Corporation VEHICLE HEADLIGHT UNIT, HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM AND PROCESS FOR THE PRODUCTION OF HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM
WO2020203277A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
WO2022059706A1 (ja) 2020-09-18 2022-03-24 富士フイルム株式会社 組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品
EP4220669A4 (en) 2020-09-24 2024-03-20 Fujifilm Corp COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3440047A (en) * 1964-08-10 1969-04-22 Gen Aniline & Film Corp Photopolymer offset printing plates of the etch type
US3796578A (en) * 1970-12-26 1974-03-12 Asahi Chemical Ind Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds
ZA72345B (en) * 1971-02-04 1973-03-28 Dynachem Corp Polymerization compositions and processes
US3887450A (en) * 1971-02-04 1975-06-03 Dynachem Corp Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents
DE2363806B2 (de) * 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5425957A (en) * 1977-07-29 1979-02-27 Nippon Zeon Co Ltd Curable rubber composition having excellent resistance to rancid gasoline

Also Published As

Publication number Publication date
DE2602410C2 (de) 1985-11-21
JPS61134756A (ja) 1986-06-21
FR2339185A1 (fr) 1977-08-19
BR7601434A (pt) 1977-09-06
NL160004C (nl) 1979-09-17
JPS5425957B2 (ja) 1979-08-31
GB1521372A (en) 1978-08-16
ZA757984B (en) 1976-12-29
DD125491A5 (ja) 1977-04-20
NL160004B (nl) 1979-04-17
NL7600794A (nl) 1977-07-29
DE2602410A1 (de) 1977-07-28
SE7600431L (sv) 1977-07-17
JPS5294388A (en) 1977-08-08
BE838135A (fr) 1976-05-14
JPH0359416B2 (ja) 1991-09-10

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