DE4003673C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE4003673C2 DE4003673C2 DE4003673A DE4003673A DE4003673C2 DE 4003673 C2 DE4003673 C2 DE 4003673C2 DE 4003673 A DE4003673 A DE 4003673A DE 4003673 A DE4003673 A DE 4003673A DE 4003673 C2 DE4003673 C2 DE 4003673C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pair
- lines
- transistors
- fbl
- mos transistors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4094—Bit-line management or control circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/4072—Circuits for initialization, powering up or down, clearing memory or presetting
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4096—Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/18—Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
- G11C29/30—Accessing single arrays
- G11C29/34—Accessing multiple bits simultaneously
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Dram (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine
Speichereinrichtung, wie beispielsweise ein DRAM hoher
Dichte, und insbesondere auf eine Schnellschreibschaltung
einer dynamischen Speicherzelleneinrichtung mit wahlfreiem
Zugriff.
Da das DRAM immer stärker integriert wird, werden für die
vielen Schichten und Muster genaue Verfahren benötigt,
wobei die Fehlerrate eines DRAM durch die Menge an Staub
oder Verunreinigungen bestimmt wird. Insbesondere nimmt
mit zunehmendem Integrationsgrad der DRAMs die Fehlerrate
ebenfalls zu, so daß neuerdings die DRAM-Testschaltung
innerhalb der Speichereinrichtung angeordnet ist, um einen
inneren Test durchzuführen. Aber selbst wenn der DRAM-Test
innerlich ausgeführt wird, wird die DRAM-Testzeit bei
höherem Integrationsgrad länger.
Beim konventionellen DRAM-Test wird der DRAM-Test mit
einer Biteinheit (x4, x8, x16) unter Verwendung von
Testsignalen durchgeführt. Die für das Testen aufgewandte
Zeit nimmt entsprechend der Integrationsdichte/x-Bit zu.
Entsprechend nimmt die Testzeit um so mehr zu, je mehr die
Integrationsdichte zunimmt, da das Einschreiben und
Auslesen der Daten durch eine x-Biteinheit über
Ein/Ausgabeleitungen erfolgt und die Daten miteinander auf
Fehlerhaftigkeit verglichen werden.
Um derartige Probleme der Parallelschreibmethode zu lösen,
gibt es eine Schnelltestmethode für DRAMs, wie aus der
Literaturstelle Arimoto Kazutami et al, "A 60ns 3,3V 16Mb DRAM", Digest of technical papas
1989 IEEE International Solid-State Circuits Conference,
Seiten 244, 245 bekannt ist, bei der
zur gleichen Zeit die Daten in jede der mit der
angesteuerten Wortleitung verbundenen Speicherzellen
eingeschrieben werden, und zwar durch direktes Schreiben
und Vergleichen der Daten auf den Bitleitungen ohne
Benutzung der Ein/Ausgabeleitungen (E/A). Weiter gibt es
eine Schnellschreibmethode, bei der das Schreiben über die
E/A-Leitungen erfolgt. Diese Methoden sind jedoch nicht in
der Lage, stets den gleichen Datenwert (1 oder 0) in die
mit der angewählten Wortleitung verbundenen Speicherzellen
entsprechend der Position der Bitleitungen und
Speicherzellen einzuschreiben, weil die Bitleitungen B/L
und in konstanter Folge angeordnet sind, nämlich B/L,
, B/L, , B/L, , B/L, , . . .
Gemäß dem Anspruch 1 betrifft die vorliegende Erfindung
eine Schnellschreibschaltung einer dynamischen
Speicherzelleneinrichtung mit wahlfreiem Zugriff,
umfassend:
- - eine Vielzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Speicherzellen,
- - eine Vielzahl von Wortleitungen (W/L), von denen jede auf eine andere Zeile von Zellen zugreift,
- - eine Vielzahl von Paaren von Bitleitungen (B/L, B/L), wobei jedes Paar auf eine andere Spalte von Zellen zugreift,
- - eine Vielzahl von Eingangs/Ausgangs-Leitungen (E/A, E/Al, . . . , E/AX), die mit verschiedenen der Paare von Bitleitungen verbunden sind, und
- - eine Vielzahl von Abfühlverstärkern (S), die jeweils zwischen ein Paar von Bitleitungen und ein Paar von Eingangs/Ausgangs-Leitungen geschaltet sind.
Eine Schaltung dieser Art ist bekannt aus EP-02 82 976 A1.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine
Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test zu
schaffen, mit deren Hilfe der Test der Speicherzellen möglichst schnell und
ohne die Benutzung von E/A-Leitungen des Speichers durchgeführt werden können.
Die zur Lösung dieser Aufgabe erfindungsgemäß
vorgeschlagene Schaltung ist gekennzeichnet durch
eine Vielzahl von ersten Mitteln zum Ausgleichen und Vorladen eines Potentialpegels auf jedem Paar der Bitleitungen, wobei jedes der ersten Mittel einen ersten MOS-Transistor umfaßt, der zwischen jede der Leitungen eines zugeordneten Bitleitungspaares geschaltet ist, sowie einen zweiten MOS-Transistor in Serie mit jeder der Leitungen des zugeordneten Bitleitungspaares,
zweite Mittel, die mit jedem der ersten Mittel zum Ausgleichen und Vorladen verbunden sind, um einen Signalpfad zu jeder der Leitungen des dem ersten Mittel zugeordneten Bitleitungspaares herzustellen, und
Steuersignalerzeugungsmittel, welche mit den zweiten Mitteln verbunden sind, um eine Differenzspannung über jeder der Bitleitungen eines jeden Bitleitungspaares vorzusehen, wenn eine der Wortleitungen ausgewählt wird, wodurch dasselbe Datum während des Testens der Speichereinrichtung in alle Speicherzellen geschrieben wird, auf die durch die ausgewählte Wortleitung zugegriffen wird, ohne die Eingangs/Ausgangs-Leitungen zu verwenden.
eine Vielzahl von ersten Mitteln zum Ausgleichen und Vorladen eines Potentialpegels auf jedem Paar der Bitleitungen, wobei jedes der ersten Mittel einen ersten MOS-Transistor umfaßt, der zwischen jede der Leitungen eines zugeordneten Bitleitungspaares geschaltet ist, sowie einen zweiten MOS-Transistor in Serie mit jeder der Leitungen des zugeordneten Bitleitungspaares,
zweite Mittel, die mit jedem der ersten Mittel zum Ausgleichen und Vorladen verbunden sind, um einen Signalpfad zu jeder der Leitungen des dem ersten Mittel zugeordneten Bitleitungspaares herzustellen, und
Steuersignalerzeugungsmittel, welche mit den zweiten Mitteln verbunden sind, um eine Differenzspannung über jeder der Bitleitungen eines jeden Bitleitungspaares vorzusehen, wenn eine der Wortleitungen ausgewählt wird, wodurch dasselbe Datum während des Testens der Speichereinrichtung in alle Speicherzellen geschrieben wird, auf die durch die ausgewählte Wortleitung zugegriffen wird, ohne die Eingangs/Ausgangs-Leitungen zu verwenden.
Das bedeutet, daß der gleiche Datenwert zur gleichen Zeit
über die Bitleitungen jeder Speicherzelle eingeschrieben
wird, auf die über die innerlich angesteuerte Wortleitung
pro Blockeinheit Zugriff besteht.
Weitere Ausgestaltungen finden sich in den Unteransprüchen.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines in der Figur
dargestellten Ausführungsbeispiels beschrieben.
Die Figur stellt eine Schaltung dar, die eine Verkörperung
der vorliegenden Erfindung wiedergibt.
Die Erfindung sei nun unter Bezugnahme auf die
Zeichnung näher beschrieben.
Ein erster Komponententeil 1
und ein zweiter Komponententeil 2, die mit der
konventionellen DRAM-Struktur übereinstimmen, weisen eine
für integrierte Schaltkreise (IC) erforderliche Struktur
auf. Das heißt, daß der erste Komponententeil 1 einen
zwischen ein Paar von Bitleitungen B/L und
geschalteten Leseverstärker S1, MOS-Transistoren M9 und
M10 zum Verbinden der Ein/Ausgangsleitungen E/AΦ und mit dem Leseverstärker S1, und Speicherzellen MS1 und MS5
aufweist, die zwischen ein Paar von Wortleitungen W/L1 und
W/L2 zum Schreiben und Lesen von Daten auf das Paar von
Bitleitungen geschaltet sind. Weiter weist der erste
Komponententeil 1 einen Leseverstärker S2,
MOS-Transistoren M11 und M12 und Speicherzellen MS2 und
MS6 auf.
In gleicher Weise sind die E/A-Leitungen und
Speicherzellen auf der linken und rechten Seite der
Leseverstärker S3 und S4 angeordnet. Der zweite
Komponententeil 2 besitzt die gleiche Struktur wie der
erste Komponententeil 1. Das Paar von Bitleitungen B/L und
sowie die E/A-Leitungen, die mit den Leseverstärkern
S1 und S2 verbunden sind, unterscheiden sich von den
Bitleitungen und den E/A-Leitungen der Leseverstärker S3
und S4 im Hinblick auf den Schaltungsaufbau, d. h., auf den
Anschlußzustand. Der zweite Komponententeil 2 weist die
gleiche Zusammensetzung wie der erste Komponententeil 1
auf.
Weiter umfassen Ausgleichs- und Verbindungsmittel 5 einen
MOS-Transistor M6, der zum Ausgleichen zwischen das Paar
von Bitleitungen B/L und geschaltet ist, sowie ein
Paar von MOS-Transistoren M7 und M8 zum Verbinden des
Paares der Bitleitungen B/L und mit einem Paar von
Knoten FBL und . Der andere Komponententeil besitzt den
gleichen Aufbau. Knotenverbindungsmittel 4 sind so
aufgebaut, daß die Bitleitungen der Speicherzellen MS1,
MS2, . . ., die von einem Paar von Wortleitungen W/L1 und
W/L2 angesteuert werden, mit dem Paar von Knoten FBL und
verbunden sind.
Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 sind an den
Knotenverbindungsteil 4 angeschlossen. Die
Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 weisen einen
MOS-Transistor M5 zum Ausgleichen der Knoten FBL und ,
einen Datenentscheidungsteil und einen Teil zur Lieferung
der Versorgungsspannung auf. Wenn der Datenwert schnell
eingeschrieben wird, wird der Datenentscheidungsteil durch
die Steuerlogiksignale A-D gesteuert und umfaßt die
MOS-Transistoren M1 und M3 zum Anlegen des
Versorgungsspannungspegels (VCC-Pegel) an das Knotenpaar
FBL und , sowie die MOS-Transistoren M2 und M4 zum
Anlegen des Erdpegels (VSS-Pegel) an das Knotenpaar FBL
und .
Entsprechend dem in der Speicherzelle gespeicherten
Datenwert (1 oder 0) werden die MOS-Transistoren M1, M2
und M3, M4 durch die Steuerlogiksignale A-E zum Anlegen
der Versorgungsspannung VBL an beide Knoten FBL und
gesteuert. Der Teil zur Lieferung der Versorgungsspannung
VBL zum Ausgleichen der Bitleitungen während eines
Vorladezyklus umfaßt die MOS-Transistoren M21 und M22,
welche die Versorgungsspannung VBL an das Knotenpaar FBL
und anlegen. Weiter umfassen die
Knotenverbindungsmittel 4 ein Paar von Knoten FBL und
zum Anlegen der im Schreibsignalverarbeitungsteil 3
erzeugten Spannung an die Bitleitungen.
Insbesondere wird der Knoten FBL durch Verbinden der
Bitleitungen (ohne Unterscheidung entweder B/L oder )
der durch die gewählte Wortleitung angesteuerten
Speicherzelle gebildet. Auch die anderen Bitleitungen sind
unter Bildung des Knoten miteinander verbunden. Jetzt
gibt es natürlich keine Unterscheidung zwischen dem
Knotenpaar FBL und , wie auch dem Bitleitungspaar B/L
und . Deshalb weisen auch die mit der angesteuerten
Wortleitung verbundenen Speicherzellen alle den gleichen
Datenwert auf. In dieser Hinsicht besteht also ein
fundamentaler Unterschied zwischen der Schreibmethode mit
Verwendung der E/A-Leitungen und der hier angewandten
Methode.
Nachfolgend wird die obige Struktur der vorliegenden
Erfindung im Detail erläutert.
Das konventionelle DRAM besitzt eine sich alternierend
wiederholende Struktur aus einem ersten Komponententeil 1
und einem zweiten Komponententeil 2. Insbesondere sind
wegen der Verbindungsfolge der E/A-Leitungen E/AΦ, ,
E/A1, . . ., die Bitleitungen B/L, und , B/L der
Komponententeile im ersten Komponententeil 1 und im
zweiten Komponententeil 2 alternierend angeschlossen. Wenn
also ein Zugriff auf eine Wortleitung W/L1 erfolgt, kann
jede Speicherzelle MS1, MS2, MS3 und MS4 mit den
Bitleitungen B/L oder verbunden werden.
Im konventionellen Falle, bei dem die Daten über die
E/A-Leitungen auf die Bitleitung B/L übertragen werden,
wenn das Spaltenansteuersignal CSL anliegt, werden die
MOS-Transistoren S11 und S12 der Speicherzellen MS1 und
MS2 an die E/A-Leitungen angeschlossen, während die
MOS-Transistoren S13 und S14 der Speicherzellen MS3 und
MS4 mit den -Leitungen verbunden sind, so daß die
Daten, die in der von einer Wortleitung angesteuerten
Speicherzelle gespeichert sind, bezüglich "1" und "0"
vermischt sind. Das bedeutet, daß gleiche Daten nicht
innerlich eingeschrieben werden können, aber von außen her
als gleiche Daten betrachtet werden.
Die vorliegende Erfindung löst dieses Problem und schreibt
die Daten in Form der Knotenpaareinheit FBL und durch
Bilden eines Knotenverbindungsteils 5 und Verbinden des
zugegriffenen Bitleitungspaares B/L, mit dem
Knotenpaar FBL und ein, um so gleiche Daten in die
über eine angesteuerte Wortleitung zugänglich gemachten
Speicherzellen einzuschreiben.
Zunächst sind die Schreib- und Leseoperationen mit denen
des konventionellen DRAMs identisch. Die MOS-Transistoren
M1-M4 der Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 sind
abgeschaltet. Das bedeutet, daß wenn die MOS-Transistoren
M9 und M10 durch das Spaltenansteuersignal CSL
eingeschaltet und dann die E/A-Leitungen angesteuert
werden, die E/A-Leitungen mit dem Leseverstärker S1 und
den Bitleitungen B/L und verbunden werden. Bei der
Datenschreiboperation wird der Kondensator C1 der durch
die Wortleitung W/L1 und das Spaltenansteuersignal CSL
gewählten Speicherzelle MS1 durch den Leseverstärker S1
und die Bitleitungen geladen.
Sodann wird in der Datenleseoperation die im Kondensator
C1 gespeicherte Ladung durch den MOS-Transistor S11 in der
Speicherzelle MS1 in die Bitleitung B/L entladen. Der
Leseverstärker S1 erfaßt dieses Statussignal der
Bitleitung und liefert das verstärkte Signal an die
E/A-Leitungen. Dieser Vorgang ist der gleiche wie beim
konventionellen DRAM. Die anderen Speicherzellen arbeiten
in gleicher Weise wie beschrieben.
Die Ablauffolge, mit der die Daten zum Testen des DRAMs
mit hoher Geschwindigkeit schnell geschrieben werden, sei
nunmehr entsprechend der vorliegenden Erfindung
beschrieben.
Da im Schreibbetrieb die Daten ohne Verwendung der
E/A-Leitungen direkt auf die Bitleitungen übertragen
werden, wird das Spaltensignal nicht benutzt, so daß die
MOS-Transistoren M9 und M10 abgeschaltet werden bzw.
abgeschaltet bleiben. Weiter werden die MOS-Transistoren
M21 und M22 durch das an den Knoten E angelegte Signal
abgeschaltet, und ebenso ist die Versorgungsspannung VBL
für das Knotenpaar FBL und abgeschaltet.
Bei der Leseoperation wird die Wortleitung W/L1 durch die
Reihenadresse angesteuert, und es werden die getrennten
Steuerlogiksignale A-D an den
Schreibsignalverarbeitungsteil 3 angelegt. Der Datenwert,
der an das Bitleitungspaar B/L und der angesteuerten
Speicherzelle geliefert wird, wird gemäß den genannten
Steuerlogiksignalen bestimmt. Im Falle, daß die aktuelle
Wortleitung angesteuert und der gleiche Datenwert "1" in
die inneren Speicherzellen MS1, MS2, . . . eingeschrieben
wird, werden die MOS-Transistoren M1 und M4 abgeschaltet,
während die MOS-Transistoren M2 und M3 durch die
Steuerlogiksignale A-D eingeschaltet werden.
Somit wird die Versorgungsspannung VCC durch den
MOS-Transistor M3 an den Knoten FBL übertragen, während
der VSS-Pegel durch den MOS-Transistor M2 ebenfalls an den
Knoten FBL übertragen wird. Die Leseverstärker S1, S2, . . .
erfassen und verstärken die von den Knoten FBL und FBL
gelieferte Spannungsdifferenz ΔV, und liefern das
verstärkte Ausgangssignal an das Bitleitungspaar B/L und
, so daß der Datenwert "1" in den Speicherzellen MS1,
MS2, . . . identisch gespeichert wird (Ausführen von INT
"1").
Nachfolgend wird eine weitere Ausführungsform der
Erfindung erläutert.
Die beiden Transistoren M2 und M3 sind nicht eingeschaltet
und nur ein Transistor der MOS-Transistoren M2 und M3 kann
eingeschaltet werden, wenn identische Daten in die
Speicherzellen MS1, MS2, . . . geschrieben werden. Auch wenn
sich dieser eine Transistor einschaltet, kann die
Spannungsdifferenz ΔV zwischen den Knoten FBL und
erzeugt und auf das Bitleitungspaar B/L und übertragen
werden. Analog erfassen die Leseverstärker S1, S2, . . .,
die Spannungsdifferenz und legen sie an das
Bitleitungspaar B/L und jeweils als VCC- und VSS-Pegel
an. Somit kann der gleiche Datenwert "1" in den
Speicherzellen MS1, MS2, . . . gespeichert werden. Bei
beiden Methoden zur Erzeugung des Spannungsunterschiedes
zwischen den Knoten FBL und ist der an das Gate des
MOS-Transistors M6 angelegte Ausgleichsimpuls ΦEQ
niederpegelig, so daß der MOS-Transistor M6 ausgeschaltet
bleibt. Ein Impuls ΦFW ist jedoch hochpegelig und schaltet
die MOS-Transistoren M7 und M8 ein. Somit werden die
Knoten FBL und jeweils mit den Bitleitungen B/L und
verbunden, so daß die für eine Erfassung erforderliche
Spannungsdifferenz ΔV übertragen wird.
Wenn der erweiterte Schnellschreibzyklus beendet ist, wird
der gleiche Datenwert in alle Speicherzellen MS1, MS2,
. . ., die mit der Wortleitung W/L1 verbunden sind,
eingeschrieben. Nach dem Schreibzyklus wird der
Ausgleichsimpuls ΦEQ als Hochpegel während des
Vorladezyklus geliefert, so daß die Transistoren M5 und M6
zum Ausgleichen der Knoten FBL, und der Bitleitungen
B/L, eingeschaltet werden. In diesem Falle kann ein
Hochgeschwindigkeitsausgleich vollständig durch die mit
jeder Bitleitung B/L und verbundenen Knoten FBL und
durchgeführt werden. Während der Vorlade- und
Normalzyklen schalten die MOS-Transistoren M1 bis M4 ab,
während die MOS-Transistoren M21 und M22 während des
Vorladezyklus einschalten, um die Versorgungsspannung an
die Bitleitungen zu liefern.
Bis hierher im Text beziehen sich alle Erläuterungen auf
den gleichen Datenwert "1", wenn er in die Speicherzellen
geschrieben wird; jedoch ist der Fall des Datenwertes "0"
identisch mit dem des Datenwerts "1", ausgenommen, daß die
MOS-Transistoren M1-M4 eingeschaltet sind.
Wie oben erwähnt, können die Daten erfindungsgemäß nicht
nur direkt in jede Speicherzelle über die Bitleitungen B/L
und ohne Verwendung der E/A-Leitungen eingeschrieben
werden, sondern gleichzeitig auch schnell in jede an eine
gewählte Wortleitung angeschlossene Speicherzelle, so daß
die für den DRAM-Test aufgewandte Zeit erheblich reduziert
wird. Weiter können erfindungsgemäß alle Daten auf alle im
Zugriff mit einer angesteuerten Wortleitung stehenden
Speicherzellen geschrieben werden, und ebenso können
dieselben Daten innerlich eingeschrieben werden
(Durchführen von INT "1" oder "0").
Weiter benutzt die vorliegende Erfindung den
Schaltungsaufbau des konventionellen DRAMs wie er ist.
Jede Bitleitung besitzt nicht die
Schreibsignalverarbeitungsquelle, und der
Schreibsignalverarbeitungsteil ist nicht innerhalb des
Speicherfeldes unter Benutzung der Knoten angeordnet.
Dementsprechend kann der Schaltungsaufbau vereinfacht
werden und die Pegelstabilisierung der Bitleitungen für
die Entzerrung kann gemäß der vorliegenden Erfindung
absolut schnell sein.
Claims (9)
1. Schnellschreibschaltung einer dynamischen
Speicherzelleneinrichtung mit wahlfreiem Zugriff,
umfassend:
- - eine Vielzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Speicherzellen,
- - eine Vielzahl von Wortleitungen (W/L), von denen jede auf eine andere Zeile von Zellen zugreift,
- - eine Vielzahl von Paaren von Bitleitungen (B/L, B/L), wobei jedes Paar auf eine andere Spalte von Zellen zugreift,
- - eine Vielzahl von Eingangs/Ausgangs-Leitungen (E/A, E/Al, . . . , E/AX), die mit verschiedenen der Paare von Bitleitungen verbunden sind, und
- - eine Vielzahl von Abfühlverstärkern (S), die jeweils zwischen ein Paar von Bitleitungen und ein Paar von Eingangs/Ausgangs-Leitungen geschaltet sind,
gekennzeichnet durch:
- - eine Vielzahl von ersten Mitteln (5) zum Ausgleichen und Vorladen eines Potentialpegels auf jedem Paar der Bitleitungen (B/L, ), wobei jedes der ersten Mittel (5) einen ersten MOS-Transistor (M₆) umfaßt, der zwischen jede der Leitungen eines zugeordneten Bitleitungspaares geschaltet ist, sowie einen zweiten MOS-Transistor (M₇, M₈) in Serie mit jeder der Leitungen des zugeordneten Bitleitungspaares,
- - zweite Mittel (4), die mit jedem der ersten Mittel (5) zum Ausgleichen und Vorladen verbunden sind, um einen Signalpfad (FBL, ) zu jeder der Leitungen des dem ersten Mittel (5) zugeordneten Bitleitungspaares herzustellen, und
- - Steuersignalerzeugungsmittel (3), welche mit den zweiten Mitteln (4) verbunden sind, um eine Differenzspannung über jeder der Bitleitungen eines jeden Bitleitungspaares vorzusehen, wenn eine der Wortleitungen (W/L) ausgewählt wird, wodurch daselbe Datum während des Testens der Speichereinrichtung in alle Speicherzellen geschrieben wird, auf die durch die ausgewählte Wortleitung zugegriffen wird, ohne die Eingangs/Ausgangs-Leitungen (E/A) zu verwenden.
2. Schnellschreibeinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zweiten Mittel (4) eine Vielzahl leitender
Pfade (FBL, ) umfassen, welche sich zwischen den
Signalerzeugungsmitteln (3) und jedem Bitleitungspaar
(B/L, ) erstrecken, wobei jeder der leitenden Pfade
mit jeweils einer Leitung aller Bitleitungspaare
verbunden ist.
3. Schnellschreibeinrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Steuersignalerzeugungsmittel (3) einen dritten
MOS-Transistor (M₅) zum Ausgleichen des
Spannungspegels über den leitenden Pfaden (FBL, )
umfaßt, sowie vierte MOS-Transistoren (M₁ bis M₄),
um jeden der leitenden Pfade auf Steuerlogiksignale
(A, B, C, D) hin mit einem vorbestimmten logischen Pegel
zu versehen, und fünfte MOS-Transistoren (M₂₁, M₂₂)
zum Steuern einer Vorladespannung, die auf die
leitenden Pfade gegeben wird.
4. Schnellschreibschaltung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
der leitende Zustand der zweiten MOS-Transistoren
(M₇, M₈) mittels eines Schreibsignals ΦFW) von
den Steuersignalerzeugungsmitteln (3) gesteuert wird.
5. Schnellschreibschaltung nach Anspruch 4,
gekennzeichnet durch
ein Paar von sechsten MOS-Transistoren (M₉, M₁₀;
M₁₁, M₁₂) zum Verbinden jedes Abfühlverstärkers (S)
mit einem Paar von Eingangs/Ausgangs-Leitungen (E/A)
auf ein Spaltenauswählsignal (CSL) hin, welches auf die
Gates der sechsten Transistoren gegeben wird, und worin
während des Speicher- und Lesebetriebes
der Speichereinrichtung die sechsten Transistoren (M₉,
M₁₀; M₁₁, M₁₂) leitend vorgespannt sind, während
im Betrieb der Speichereinrichtung in einem Testmodus
die sechsten Transistoren sperrend vorgespannt sind.
6. Schnellschreibschaltung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die vierten MOS-Transistoren (M₁ bis M₄) ein erstes
Paar von Transistoren (M₁, M₃) einschließen, um
einen Vcc-Spannungspegel auf einen der leitenden
Pfade (FBL, ) zu geben, sowie ein zweites Paar von
Transistoren (M₂, M₄), um einen
VSS-Spannungspegel auf einen der leitenden Pfade
(FBL, ) zu geben.
7. Schnellschreibschaltung nach Anspruch 3 oder 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
die vierten MOS-Transistoren (M₁-M₄) während des
Betriebes der Speichervorrichtung im
Datenschreib-/Lesemodus sperrend vorgespannt sind.
8. Schnellschreibschaltung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichet, daß
die fünften MOS-Transistoren (M₂₁, M₂₂) leitend
vorgespannt werden, um die Vorladespannung zur
Verfügung zu stellen und sperrend vorgespannt sind,
während die Differenzspannung angelegt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890008004A KR920001081B1 (ko) | 1989-06-10 | 1989-06-10 | 램 테스트시 고속기록회로 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4003673A1 DE4003673A1 (de) | 1990-12-20 |
DE4003673C2 true DE4003673C2 (de) | 1992-08-27 |
Family
ID=19286974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4003673A Granted DE4003673A1 (de) | 1989-06-10 | 1990-02-07 | Erweiterte schnellschreibschaltung fuer den dram-test |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5140553A (de) |
JP (1) | JP3006768B2 (de) |
KR (1) | KR920001081B1 (de) |
CN (1) | CN1015031B (de) |
DE (1) | DE4003673A1 (de) |
FR (1) | FR2648267B1 (de) |
GB (1) | GB2232774B (de) |
IT (1) | IT1248748B (de) |
NL (1) | NL9000270A (de) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60195455A (ja) * | 1984-03-19 | 1985-10-03 | Toray Ind Inc | 血液処理剤 |
KR920009059B1 (ko) * | 1989-12-29 | 1992-10-13 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 메모리 장치의 병렬 테스트 방법 |
JP2838425B2 (ja) * | 1990-01-08 | 1998-12-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2704041B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1998-01-26 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JPH04216392A (ja) * | 1990-12-18 | 1992-08-06 | Mitsubishi Electric Corp | ブロックライト機能を備える半導体記憶装置 |
US5305263A (en) * | 1991-06-12 | 1994-04-19 | Micron Technology, Inc. | Simplified low power flash write operation |
JPH05128899A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH05314763A (ja) * | 1992-05-12 | 1993-11-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH0628861A (ja) * | 1992-07-07 | 1994-02-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
US5241500A (en) * | 1992-07-29 | 1993-08-31 | International Business Machines Corporation | Method for setting test voltages in a flash write mode |
US5392241A (en) * | 1993-12-10 | 1995-02-21 | International Business Machines Corporation | Semiconductor memory circuit with block overwrite |
KR970003270A (ko) * | 1995-06-23 | 1997-01-28 | 김광호 | 반도체메모리소자의 테스트를 위한 고속 기록회로 |
US5568425A (en) * | 1996-02-02 | 1996-10-22 | Integrated Silicon Solution, Inc. | Program drain voltage control for EPROM/flash |
JPH10199296A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | ダイナミック型半導体記憶装置およびそのテスト方法 |
US5754486A (en) * | 1997-02-28 | 1998-05-19 | Micron Technology, Inc. | Self-test circuit for memory integrated circuits |
US6125058A (en) * | 1999-10-19 | 2000-09-26 | Advanced Micro Devices, Inc. | System for optimizing the equalization pulse of a read sense amplifier for a simultaneous operation flash memory device |
EP1830366B1 (de) | 2004-12-24 | 2011-07-13 | Spansion Japan Limited | Bias-anwendungsverfahren für speicherung und speicherung |
CN101262380B (zh) * | 2008-04-17 | 2011-04-06 | 中兴通讯股份有限公司 | 一种用于fpga仿真的装置及方法 |
KR102167831B1 (ko) * | 2018-06-21 | 2020-10-21 | 윈본드 일렉트로닉스 코포레이션 | 메모리 디바이스 및 그의 테스트 읽기 쓰기 방법 |
US10566034B1 (en) * | 2018-07-26 | 2020-02-18 | Winbond Electronics Corp. | Memory device with control and test circuit, and method for test reading and writing using bit line precharge voltage levels |
US11862237B2 (en) | 2021-07-08 | 2024-01-02 | Changxin Memory Technologies, Inc. | Memory and method for writing memory |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5785255A (en) * | 1980-11-17 | 1982-05-27 | Nec Corp | Memory storage for integrated circuit |
US4567578A (en) * | 1982-09-08 | 1986-01-28 | Harris Corporation | Cache memory flush scheme |
US4587629A (en) * | 1983-12-30 | 1986-05-06 | International Business Machines Corporation | Random address memory with fast clear |
JPS60253093A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-13 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JPS61120392A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-07 | Fujitsu Ltd | 記憶回路 |
JP2569010B2 (ja) * | 1986-05-21 | 1997-01-08 | 株式会社日立製作所 | 半導体メモリ |
JPS6334796A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
EP0264893B1 (de) * | 1986-10-20 | 1995-01-18 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Halbleiterspeicher |
JP2523586B2 (ja) * | 1987-02-27 | 1996-08-14 | 株式会社日立製作所 | 半導体記憶装置 |
JPS63244400A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-11 | シーメンス・アクチエンゲゼルシヤフト | メモリセルの検査回路装置および方法 |
JP2610598B2 (ja) * | 1987-03-16 | 1997-05-14 | シーメンス・アクチエンゲゼルシヤフト | 半導体メモリへのデータの並列書込み回路装置 |
JPS63308792A (ja) * | 1987-06-10 | 1988-12-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH01106400A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-24 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2579792B2 (ja) * | 1987-08-21 | 1997-02-12 | 日本電信電話株式会社 | 冗長構成半導体メモリ |
JPH01134799A (ja) * | 1987-11-20 | 1989-05-26 | Sony Corp | メモリ装置 |
-
1989
- 1989-06-10 KR KR1019890008004A patent/KR920001081B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-01-26 US US07/470,834 patent/US5140553A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-05 NL NL9000270A patent/NL9000270A/nl not_active Application Discontinuation
- 1990-02-07 DE DE4003673A patent/DE4003673A1/de active Granted
- 1990-02-07 FR FR909001401A patent/FR2648267B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-07 GB GB9002706A patent/GB2232774B/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-07 JP JP2028136A patent/JP3006768B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-07 IT IT02056490A patent/IT1248748B/it active IP Right Grant
- 1990-06-09 CN CN90104916A patent/CN1015031B/zh not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT9020564A0 (it) | 1990-06-07 |
FR2648267A1 (fr) | 1990-12-14 |
GB2232774B (en) | 1994-01-12 |
JP3006768B2 (ja) | 2000-02-07 |
FR2648267B1 (fr) | 1994-03-04 |
IT1248748B (it) | 1995-01-27 |
JPH0312900A (ja) | 1991-01-21 |
CN1015031B (zh) | 1991-12-04 |
GB2232774A (en) | 1990-12-19 |
CN1049742A (zh) | 1991-03-06 |
KR920001081B1 (ko) | 1992-02-01 |
US5140553A (en) | 1992-08-18 |
DE4003673A1 (de) | 1990-12-20 |
GB9002706D0 (en) | 1990-04-04 |
KR910001780A (ko) | 1991-01-31 |
NL9000270A (nl) | 1991-01-02 |
IT9020564A1 (it) | 1991-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4003673C2 (de) | ||
DE3588247T2 (de) | Dynamischer Halbleiterspeicher mit einer statischen Datenspeicherzelle | |
DE69320416T2 (de) | Halbleiter-Speichergerät mit Spannungstressprüfmodus | |
DE4036091C2 (de) | Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff | |
DE4127698C2 (de) | ||
DE4140846C2 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung und Betriebsverfahren | |
DE69227232T2 (de) | Halbleiterspeicher und dessen Siebtestverfahren | |
DE4127688C2 (de) | ||
DE3923629C2 (de) | DRAM-Halbleiterbaustein | |
DE69427929T2 (de) | Halbleiterspeicher mit eingebautem parallelen Bitprüfmodus | |
DE4214970C2 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung und Betriebsverfahren dafür | |
DE19530100C2 (de) | Integrierte Dram-Schaltung mit Reihenkopierschaltung und Verfahren | |
DE68923571T2 (de) | Dynamischer RAM-Speicher mit Redundanz und verbesserter Prüfbarkeit. | |
DE3639169A1 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung | |
DE2527486C3 (de) | Verfahren zur Prüfung bistabiler Speicherzellen | |
DE3903714A1 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung mit einer testmode-setzschaltung | |
DE69129060T2 (de) | Halbleitergerät mit Spannungsbelastungskontaktfläche | |
DE4129875A1 (de) | Dynamische direktzugriffsspeichereinrichtung mit einem testmodusbetrieb und betriebsverfahren hierfuer | |
DE4138340A1 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung vom geteilten leseverstaerkertyp | |
DE19757889A1 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung mit Testmodus | |
DE4010292A1 (de) | Hochgeschwindigkeitsschreibverfahren zum testen eines ram | |
DE19844101A1 (de) | Schaltungsanordnung zur Generierung einer Referenzspannung für das Auslesen eines ferroelektrischen Speichers | |
DE69426087T2 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung mit Testschaltung | |
DE3826418C2 (de) | ||
EP1163678B1 (de) | Integrierter speicher mit speicherzellen, die je einen ferroelektrischen speichertransistor aufweisen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |