DE4036091C2 - Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff - Google Patents
Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem ZugriffInfo
- Publication number
- DE4036091C2 DE4036091C2 DE4036091A DE4036091A DE4036091C2 DE 4036091 C2 DE4036091 C2 DE 4036091C2 DE 4036091 A DE4036091 A DE 4036091A DE 4036091 A DE4036091 A DE 4036091A DE 4036091 C2 DE4036091 C2 DE 4036091C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lines
- data
- precharge
- cell blocks
- potential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 18
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 25
- 101000592939 Bacillus subtilis (strain 168) 50S ribosomal protein L24 Proteins 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 101150068401 BSL1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/12—Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4091—Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4094—Bit-line management or control circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4096—Input/output [I/O] data management or control circuits, e.g. reading or writing circuits, I/O drivers or bit-line switches
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/065—Differential amplifiers of latching type
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
- G11C7/1048—Data bus control circuits, e.g. precharging, presetting, equalising
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/12—Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Databases & Information Systems (AREA)
- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen dynamischen Halbleiterspeicher
(DRAM) mit einem in eine Anzahl von Zellenblöcken
unterteilten Zellenarray, bei dem eine Zellenblockzahl
durchführbar ist.
Für die Bildung eines hochintegrierten DRAMs müssen
eine Mikromusterung von Elementen und Leitungen vorgenommen
und ein Zellenarray und eine Zellenarray-
Ansteuerschaltung platzsparend in
einer vorbestimmten Chipfläche angeordnet werden.
Außerdem muß die Ausleserate oder -geschwindigkeit für
Zellendaten durch Verkleinerung des Verhältnisses
CB/CS der Kapazität CS einer Speicherzelle zur Kapazität
CB von Bitleitungen erhöht werden. Zur Verringerung
des Strom- oder Leistungsbedarfs aufgrund des
Ladens/Entladens von Bitleitungen muß ferner das Zellenarray
in eine Anzahl von Zellenblöcken in Bitleitungsrichtung
unterteilt werden. Um diesen Anforderungen
zu genügen, wird zwangsläufig ein hochintegrierter
DRAM des Typs mit einer unterteilten Bitleitung und gemeinsamem
oder Sammel-Y-Decodierer benötigt.
Um diese Anordnung zu realisieren, wird beispielsweise
ein Zellenarray in vier oder acht Zellenblöcke in Bitleitungsrichtung
unterteilt. Bitleitungen in den jeweiligen
Zellenblöcken sind voneinander unabhängig. Eine
von zwei Zellenblöcken gemeinsam benutzte
Daten-Ein/Ausgabeleitung ist zwischen zwei benachbarten
Zellenblöcken angeordnet. Die Bitleitungen in einem
angewählten der beiden benachbarten Zellenblöcke sind
mit einer Daten-Ein/Ausgabeleitung über ein Blockwählgatter
und ein Spaltenwählgatter verbunden. Eine Spaltenwählsignalleitung
zum Steuern eines Spaltenwählgatters
ist fortlaufend durch eine Metalldrahtleitung auf
dem durch die Anzahl von unterteilten Zellenblöcken gebildeten
Zellenarray geformt, und ein von einem Y-Decodierer,
d. h. Spaltendecodierer, ausgegebenes Spaltenwählsignal
wird der Spaltenwählsignalleitung zugespeist.
Normalerweise wird dabei eine Methode zur gemeinsamen
Benutzung zumindest eines Teils
eines Leseverstärkers für die Bitleitung zwischen
benachbarten Zellenblöcken, d. h. eine Gemeinschafts-
Leseverstärkermethode, angewandt.
Bei einem Bitleitungs-Voraufladesystem eines solchen
DRAMs ist es bekannt, daß eine wirksame Maßnahme zur
Verringerung des Strom- oder Leistungsbedarfs und zur
Erhöhung einer Bitleitungs-Leseoperation darin besteht,
die Bitleitungen auf (1/2)Vcc voraufzuladen.
Eine Daten-Ein/Ausgabeleitung wird dagegen aus den im
folgenden genannten Gründen vorzugsweise auf Vcc voraufgeladen.
Zunächst sei angenommen, daß die Ein/Ausgabeleitung
auf das gleiche Potential wie das der Bitleitungen,
d. h. (1/2)Vcc, voraufgeladen wird; wenn dabei
in eine Speicherzelle eines gewählten Zellenblocks
wiedereingeschrieben wird, kann
ggf. eine Bitleitung auf ein Ein/Ausgabeleitungspotential
angehoben werden. Ein Bitleitungs-
Leseverstärker ist normalerweise durch einen
NMOS-Leseverstärker und einen PMOS-Leseverstärker gebildet.
Der NMOS-Leseverstärker dient zum Verstärken
eines kleinen Signals. Der PMOS-Leseverstärker dient
zum Anheben des Potentials einer Hochpegel-
oder "H"-Pegelbitleitung auf Vcc. Aus diesem Grund
ist der Ansteuerstrom des PMOS-Leseverstärkers
ursprünglich nicht groß eingestellt. Wenn daher
eine Bitleitung elektrisch an ein Ein/Ausgabeleitungspotential
angeschaltet ist, kann der
PMOS-Leseverstärker, weil das elektrische Potential auf
der Bitleitung auf das der Ein/Ausgabeleitung hochgezogen
wird, das H-Pegelbitleitungs-Potential
nicht zufriedenstellend auf Vcc erhöhen. Diese Erscheinung
wird besonders dann auffällig, wenn eine
Ein/Ausgabeleitung eine große Kapazität aufweist; dabei
können abnormale Operationen hervorgerufen werden. Wenn
zum zweiten eine Ein/Ausgabeleitung auf Vcc voraufgeschlagen
werden kann, kann die anfängliche Lesezeit
der Ein/Ausgabeleitung der Schaltung eines Bitleitungs-
Leseverstärkers verkürzt werden.
Der herkömmliche DRAM mit geteilter Bitleitung und gemeinsamem
Y-Decodierer wendet jedoch nicht die Vorauflademethode
an, nach der Bitleitungen auf (1/2)Vcc und
Ein/Ausgabeleitungen auf Vcc voraufgeladen werden, und
zwar aus folgendem Grund: Jede Spaltenwählsignalleitung
ist fortlaufend über eine Anzahl von Zellenblöcken hinweg
angeordnet und mit den Spaltenwählgattern der betreffenden
Zellenblöcke verbunden. Wenn bei dieser Anordnung
ein gegebenes Spaltenwählsignal gewählt ist,
werden die Spaltenwählgatter nichtgewählter
Zellenblöcke, aus denen Daten nicht ausgelesen werden
sollen, geöffnet. Anschließend werden Bitleitungs-Leseverstärker,
die außerhalb der Wählgatter der nichtgewählten
Zellenblöcke liegen und auf (1/2)Vcc voraufgeladen
sind, mit auf Vcc voraufgeladenen Ein/Ausgabeleitungen
verbunden. Infolgedessen unterliegt das Vorauf
ladepotential des Bitleitungs-Leseverstärkers einem
Durchbruch. Aus diesem Grund wird dabei die
Vorauflademethode nicht angewandt.
Wie erwähnt, können beim herkömmlichen DRAM mit geteilter
Bitleitung und gemeinsamem Y-Decodierer das Voraufladepotential
jeder Bitleitung nicht auf (1/2)Vcc und
das Voraufladepotential jeder Ein/Ausgabeleitung nicht
auf Vcc gesetzt werden. Dies läuft der Realisierung
einer weiteren Senkung des Leistungsbedarfs und einer
Erhöhung der Betriebsgeschwindigkeit zuwider.
In der DE 35 33 870 A1 ist eine Halbleiterspeichereinheit
beschrieben, die dem DRAM nach dem Oberbegriff
des Patentanspruches 1 entspricht und eine erste sowie
eine zweite Vorladungs- und Ausgleichsschaltung hat.
Die zweite Vorladungs- und Ausgleichsschaltung dient
dazu, den Vorladungspegel von E/A-Bussen während eines
aktiven Zyklus auf einem Vcc-Pegel zu halten. Dabei
erzeugt die zweite Vorladungs- und Ausgleichsschaltung
genau den gleichen Vorladungspegel wie denjenigen von
Bitleitungen und liefert nicht einen Vorladungspegel,
der vom Vorladungspegel der Bitleitungen verschieden
ist.
Weiterhin beschreibt die US 4 833 654 ein Verfahren und
eine Schaltungsanordnung zum Erzeugen gestaffelter
Wiedergewinnungssignale in einem in Blöcke unterteilten
DRAM.
Schließlich ist in der EP 0 197 502 A2 eine Halbleiterspeichervorrichtung
beschrieben, bei der eine Speicherzellenanordnung
mit einer Bitleitungs-Vorladungsschaltung
gekoppelt ist, um einige Bitleitungspaare auf
einen ersten Spannungspegel voraufzuladen, der niedriger
als eine Versorgungsspannung ist, die zum Ansteuern
der Halbleiterspeicheranordnung dient. Bitleitungen und
I/O-Leitungen werden bei dieser bekannten Halbleiterspeichervorrichtung
so auf verschiedene Vorladungspegel
angehoben.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen DRAM
zu schaffen, bei dem verschiedene Voraufladungsmethoden
für Bitleitungen und I/O-Leitungen problemlos zu verwenden
sind.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen DRAM mit
den Merkmalen des Patentanspruchs 1 bzw. 11 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich
aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung ermöglicht einen DRAM, bei dem verschiedene
Voraufladungsmethoden für Bitleitungen und I/O-Leitungen
problemlos zu verwenden sind. So kann z. B. jede
geteilte Bitleitung auf (1/2)Vcc und jede I/O-Leitung
auf Vcc voraufgeladen werden, um damit eine erhöhte
Betriebsgeschwindigkeit und einen verringerten Strombedarf
zu gewährleisten.
Es lassen sich bezüglich der Bitleitungen und der Daten-Ein/Ausgabeleitungen,
die im aktiven Zyklus miteinander
verbunden sind,
die folgenden beiden Zustände erzielen: Ein Zustand, in
welchem das Voraufladepotential der Bitleitungen
(1/2)Vcc ist, und ein Zustand, in welchem das Voraufladepotential
der Daten-Ein/Ausgabeleitungen Vcc ist.
Gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung werden
alle Daten-Ein/Ausgabeleitungen im Voraufladezyklus
und die nichtgewählten Daten-Ein/Ausgabeleitungen im
aktiven Zyklus auf das gleiche Voraufladepotential wie
das der Bitleitungen, d. h. (1/2)Vcc, gesetzt. Zudem
werden nur die im aktiven Zyklus gewählten Daten-Ein/
Ausgabeleitungen selektiv auf Vcc voraufgeladen.
Gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung
wird das Voraufladepotential aller Daten-Ein/Ausgabeleitungen
auf Vcc gesetzt, wobei nur die Spaltenwählblöcke
bzw. -gatter eines im aktiven Zyklus gewählten
Zellenblocks geöffnet werden können. Mit dieser Operation
werden im gewählten Zellenblock die auf Vcc voraufgeladenen
Daten-Ein/Ausgabeleitungen mit den auf
(1/2)Vcc voraufgeladenen Bitleitungen verbunden.
Bei beiden Ausführungsbeispielen wird daher eine Beziehung
im Potential zwischen nichtgewählten Zellenblockbereichen
oder -flächen nicht beeinträchtigt.
Da zudem das Voraufladepotential jeder Bitleitung,
aus der Daten ausgelesen werden, auf (1/2)Vcc
gesetzt und das Voraufladepotential einer damit verbundenen
Daten-Ein/Ausgabeleitung auf Vcc gesetzt sind,
kann eine Hochgeschwindigkeits-Datenausleseoperation
durchgeführt werden.
Wie beschrieben, kann sowohl die
Methode des Voraufladens von Bitleitungen auf (1/2)Vcc
als auch die Methode des Voraufladens der Daten-Ein/
Ausgabeleitungen auf Vcc angewandt werden. Demzufolge
wird damit ein hochintegrierter DRAM geschaffen, der
eine Verriegelung des Leistungsbedarfs und eine Verkleinerung
der Chipgröße ohne Minderung der Betriebsgeschwindigkeit
zu gewährleisten vermag.
Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung
anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Chip-Anordnungsplans
für einen einer ersten Ausführungsform
der Erfindung entsprechenden DRAM
des Typs mit geteilter Bitleitung und gemeinsamem Y-Decodierer,
Fig. 2 ein Schaltbild eines einer Spalte entsprechenden
Abschnitts eines typischen Unterzellenarrays
bei der ersten Ausführungsform,
Fig. 3 ein Schaltbild eines Zellenblocks des Unter
zellenarrays,
Fig. 4 ein Schaltbild eines mit Daten-Ein/Ausgabeleitungen
verbundenen Daten-Ein/Ausgabepuf
ferteils,
Fig. 5 ein Zeitsteuerdiagramm zur Erläuterung einer
Operation des DRAMs gemäß der ersten Ausführungsform,
Fig. 6 ein Schaltbild eines einer Spalte entsprechenden
Abschnitts eines Unterzellenarrays
eines DRAMs gemäß einer zweiten Ausführungsform
der Erfindung,
Fig. 7 ein Schaltbild eines mit Daten-Ein/Ausgabeleitungen
des DRAMs verbundenen Daten-Ein/
Ausgabepufferteils,
Fig. 8 ein Zeitsteuerdiagramm zur Erläuterung einer
Operation des DRAMs gemäß der zweiten Ausführungsform
und
Fig. 9 ein Schaltbild eines einer Spalte entsprechenden
Abschnitts eines Unterzellenarrays
eines DRAMs gemäß einer dritten Ausführungsform
der Erfindung.
Im folgenden ist ein DRAM gemäß einer ersten Ausführungsform
der Erfindung anhand der Fig. 1 bis 5 be
schrieben.
Fig. 1 zeigt einen schematischen Chip-Anordnungsplan
eines DRAMs des Typs mit geteilter Bitleitung und gemeinsamem
Y-Decodierer, bei dem ein Zellenarray
in acht Zellenblöcke unterteilt ist. Fig. 2 veranschaulicht
die Anordnung eines Ein-Spalten-Abschnitts
von vier benachbarten Zellenblöcken in Fig. 1. Fig. 3
zeigt die Anordnung eines Zellenblocks nach Fig. 2.
Gemäß Fig. 1 ist ein auf einem DRAM-Chip 1 angeordnetes
Zellenarray in einer Bitleitungsrichtung in acht Zellenblöcke
CA₀-CA₇ unterteilt, die ihrerseits in zwei
Bereichen gruppiert sind, d. h. einem die
Zellenblöcke CA₀-CA₃ enthaltenden Bereich und einem
die Zellenblöcke CA₄-CA₇ enthaltenden Bereich. Zeilendecodierer
4₁ und 4₂ zum selektiven Ansteuern von
Wortleitungen sind jeweils an Endabschnitten des Bereichs
der Zellenblöcke CA₀-CA₃ und des Bereichs der
Zellenblöcke CA₄-CA₇ angeordnet. Spaltenwählsignal
leitungen CSLi0 (i=1, 2, . . ., n) sind fortlaufend
oder durchgehend an den vier Zellenblöcken CA₀-CA₃ an
der linken Seite angeordnet. Auf den vier Zellenblöcken
CA₀-CA₃ an der linken Seite sind Spaltenwählsignalleitungen
CSLi1 (i=1, 2, . . ., n) fortlaufend angeordnet.
An den vier Zellenblöcken CA₄-CA₇ an der rechten
Seite sind Spaltenwählsignalleitungen CSLi1 (i=1, 2, . . ., n)
fortlaufend angeordnet. An den Endabschnitten
dieser Spaltenwählsignalleitungen (CLSi0 und CLSi1) sind
Spaltendecodierer 5₁ und 5₂ zur Durchführung der Spaltenwahl
des Spaltenanwählens vorgesehen. Insbesondere
wird dabei ein Spaltendecodierer 5₁ durch die vier Zellenblöcke
CA₀-CA₃ an der linken Seite gemeinsam benutzt,
während der andere Spaltendecodierer 5₂ durch
die vier Zellenblöcke CA₄-CA₇ an der rechten
Spalte gemeinsam benutzt wird.
Bei diesem DRAM sind ein Bitleitungs-Leseverstärker S/A
und eine Daten-Ein/Ausgabeleitung I/O (im folgenden
als "Daten-I/O-Leitung" (I/O) bezeichnet zwischen den
Zellenblöcken CA₀ und CA₁ angeordnet. Dieser Leseverstärker
S/A und die Leitung I/O werden von diesen Zellenblöcken
gemeinsam benutzt. Auf ähnliche
Weise sind Bitleitungen und Daten-I/O-Leitungen jeweils
zwischen den Zellenblöcken CA₂ und CA₃, CA₄ und CA₅
bzw. CA₆ und CA₇ vorgesehen. Die I/O-Leitungen an der
linken Seite sind mit einer Datenleitung 3₁ über
Ein/Ausgabe- bzw. I/O-Puffereinheiten 2₁₁ bzw. 2₁₂ verbunden.
Die I/O-Leitungen an der rechten Seite sind mit
einer Datenleitung 3₂ über I/O-Puffereinheiten 2₂₁ bzw. 2₂₂
verbunden. Diese Datenleitungen 3₁ und 3₂ sind über
einen Ein/Ausgangskreis 8 mit einem externen Anschluß
verbunden.
Eine periphere Schaltung 7 mit einem Adreßpuffer, einem
RAS-Steuerkreis, einem CAS-Steuerkreis und dgl. sowie
ein durch die periphere Schaltung 7 steuerbarer Zellenblockwählkreis
6 sind zwischen den beiden Spaltendecodierern
5₁ und 5₂ angeordnet. Der Zellenblockwählkreis
6 dient zum Wählen eines Zellenblocks im aktiven
Zyklus.
Fig. 2 veranschaulicht ein Zellenarray im einzelnen,
nämlich die Anordnung eines Ein-Spalten-Abschnitts
eines Unterzellenarrays 10, das durch die vier Zellenblöcke
CA₀-CA₃ an der linken Seite gebildet ist. Fig. 3
veranschaulicht die Ausbildung eines Zellen-Blocks
CA₀ gemäß Fig. 2 im einzelnen. Bei dieser Ausführungsform
weist ein Zellenarray eine "gefaltete" Bitleitungsstruktur
auf.
Im folgenden ist der Zellenblock CA₀ näher erläutert.
Gemäß Fig. 3 sind zahlreiche Speicherzellen MC₁, MC₂,
. . . mit jeweils einer Struktur aus einem Transistor und
einem Kondensator jeweils mit zwei Bitleitungen BL₀ und
verbunden, an die jeweils Blindzellen DC₁ bzw. DC₂
angeschlossen sind. Wortleitungen WL₁, WL₂, . . . zum selektiven
Ansteuern der Speicherzellen MC₁, MC₂, . . .
sowie Blindwortleitungen DWL₁ und DWL₂ zum selektiven
Ansteuern der Blindzellen DC₁ und DC₂ sind die Bitleitungen
BL₀ und überkreuzend angeordnet. Diese
Wortleitungen und Blindwortleitungen sind ausgelegt zum
gleichzeitigen Ansteuern von Speicherzellen und Blindzellen
entsprechend anderen Spalten.
Nachstehend sind die Zellenblöcke CA₀ und CA₁ näher erläutert.
Jeder Bitleitungsleseverstärker S/A umfaßt
einen PMOS-Leseverstärker PSA aus einem PMOS-Flipflop
und einen NMOS-Leseverstärker NSA aus einem NMOS-Flipflop.
Von diesen Leseverstärkern ist ein PMOS-
Leseverstärker PSA in jedem der Zellenblöcke CA₀ und
CA₁ vorgesehen. Der NMOS-Leseverstärker NSA ist außerhalb
der Zellenblöcke CA₀ und CA₁ angeordnet, so daß er
von den beiden benachbarten Zellenblöcken CA₀ und CA₁
gemeinsam benutzt wird. Durch ein
Blockwählsignal steuerbare Blockwählgatter Q5 und
Q6 sind jeweils zwischen den internen Bitleitungen BL₀
und im Zellenblock CA₀ bzw. zwischen externen Bitleitungen
BL₀₁ und angeordnet, zwischen denen der
gemeinsame NMOS-Leseverstärker NSA angeordnet ist. Auf
ähnliche Weise sind durch ein Blockwählsignal BSL₀
steuerbare Blockwählgatter Q7 und Q8 jeweils zwischen
den Zellenblock CA₁ und die externen Bitleitungen BL₀₁
und geschaltet.
Eine von den beiden Zellenblöcken CA₀ und CA₁ gemeinsam
benutzte Bitleitungs-Entzerrer- oder -Ausgleichsschaltung
EQ ist zwischen den Bitleitungen BL₀₁ und an
der rechten Seite des gemeinsamen NMOS-Leseverstärkers
NSA angeordnet; sie umfaßt einen Ausgleichs-MOS-Transistor
Q3₁ zum Kurzschließen der Bitleitungen
BL₀₁ und als Paar sowie Vorauflade-MOS-
Transistoren Q3₂ und Q33, um diese Bitleitungen BL₀₁
und auf ein Voraufladepotential (1/2)Vcc zu setzen.
Die Bitleitungen BL₀₁ und , zwischen denen der
gemeinsame NMOS-Leseverstärker NSA angeordnet ist, sind
jeweils über die Spaltenwählgatter Q1 und Q2 mit Daten-
Ein/Ausgabe- bzw. -I/O-Leitungen I/O bzw. verbunden.
Die neben diesen Zellenblöcken CA₀ und CA₁ befindlichen
Zellenblöcke CA₂ und CA₃ besitzen die oben beschriebene
Ausgestaltung.
Die Spaltenwählsignalleitungen CSLi0 zum Übertragen der
Spaltenwählsignale vom Spaltendecodierer sind quer
über den Bereich der vier Zellenblöcke CA₀-CA₃ angeordnet.
Die Spaltenwählsignalleitungen CSLi0 sind mit
den Spaltenwählgattern Q1-Q4 der vier Zellenblöcke
CA₀-CA₃ verbunden, um diese Spaltenwählgatter gleichzeitig
anzusteuern.
Fig. 4 veranschaulicht den detaillierten Aufbau einer
mit dem oben beschriebenen Unterzellenarray 10 verbundenen
Ein/Ausgabe- bzw. I/O-Puffereinheit, die bezüglich
der Zellenblöcke CA₀ und CA₁ einen Ein/Ausgabe- bzw.
I/O-Puffer 16₁₁ und eine I/O-Puffer-Steuerschaltung
14₁ aufweist. Der einen Leseverstärker 11₁ aufweisende
I/O-Puffer 16₁₁ ist mit zwei I/O-Leitungen I/O₀₁ und
verbunden, die für die benachbarten Zellenblöcke
CA₀ und CA₁ gemeinsam vorgesehen sind. Dieser I/O-Puffer
16₁₁ enthält einen ersten I/O-Leitungs-Voraufladekreis
13₁ zum Voraufladen der I/O-Leitungen
I/O₀₁ und auf das gleiche Potential (1/2)Vcc
wie an den Bitleitungen und einen zweiten I/O-Voraufladekreis
12₁ zum Voraufladen der I/O-Leitungen I/O₀₁
und auf das das Potential (1/2)Vcc übersteigende
Potential Vcc.
Der erste Voraufladekreis 13₁ enthält einen Ausgleichs-
n-Kanal-MOS-Transistor Q15 zum Kurzschließen der I/O-
Leitungen I/O₀₁ und sowie Vorauflade-n-Kanal-MOS-
Transistoren Q13 und Q14 zum Setzen oder Einstellen der
I/O-Leitungen I/O₀₁ und auf (1/2)Vcc. Der zweite
Voraufladekreis 12₁ umfaßt einen Ausgleichs-p-Kanal-
MOS-Transistor Q18 sowie Vorauflade-p-Kanal-MOS-Transistoren
Q16 und Q17.
Die genannte Steuerschaltung 14₁ bewirkt die selektive
Ansteuerung des I/O-Puffers 16₁₁ mittels eines Voraufladesteuersignals
CEQ und eines Lesesteuersignals
QSE.
Ein einen I/O-Leseverstärker 11₂ enthaltender I/O-Puffer
16₁₂ ist mit zwei I/O-Leitungen I/O₂₃ und
verbunden, die auf die gleiche Weise, wie oben beschrieben,
für zwei andere Zellenblöcke CA₂ und CA₃ gemeinsam
vorgesehen sind. Der I/O-Puffer 16₁₂ enthält erste und
zweite I/O-Voraufladekreise 13₂ bzw. 12₂, wobei für ihn
eine I/O-Puffer-Steuerschaltung 14₂ vorgesehen ist.
Die Zellenblockwählsignale und werden der genannten
Steuerschaltung 14₁ als Steuersignale eingegeben.
Zellenblockwählsignale und werden der
genannten Steuerschaltung 14₂ als Steuersignale eingespeist.
Wenn bei dieser Anordnung der Zellenblock CA₀
oder CA₁ gewählt wird, d. h. das Signal und
auf den niedrigen Pegel L gesetzt ist, wird
ein Steuersignal auf den niedrigen Pegel L gesetzt,
und der Ein/Ausgabe- bzw. I/O-Leseverstärker 11₁
im I/O-Puffer 16₁₁ wird aktiviert. Dabei versetzt im
I/O-Puffer 16₁₁ das Steuersignal den ersten I/O-
Leitungs-Voraufladekreis 13₁ für (1/2)Vcc-Voraufladung
in einen inaktiven Zustand, und das Steuersignal
versetzt den zweiten I/O-Leitungs-Voraufladekreis 12₁
für VCC-Voraufladung in einen aktiven Zustand.
Da zu diesem Zeitpunkt ein Steuersignal
eines hohen Pegels H dem I/O-Leseverstärker 11₁ im
anderen I/O-Puffer 16₁₂ zugespeist wird, wird der Leseverstärker
11₂ nicht aktiviert. Das Steuersignal
versetzt den ersten I/O-Leitungs-Voraufladekreis
13₂ für (1/2)Vcc-Voraufladung in einen aktiven Zustand,
während das Steuersignal den zweiten I/O-Leitungs-
Voraufladekreis 12₂ für Vcc-Voraufladung in einen
inaktiven Zustand versetzt. Wenn
der Zellenblock CA₂ und CA₃ gewählt wird, ist
die genannte Beziehung umgekehrt. Diese I/O-Puffer sind
mit dem Ein/Ausgabekreis 8 über Lese/Einschreib-Datenleitungen
3 verbunden.
Die Arbeitsweise des den oben beschriebenen
Aufbau besitzenden DRAMs des Typs mit geteilter
Bitleitung und gemeinsamem Y-Decodierer ist nachstehend
anhand des Zeitsteuerdiagramms von Fig. 5 beschrieben,
wobei der Zellenblock CA₀ unter den acht Zellenblöcken
CA₀-CA₇, wie durch den schraffierten Abschnitt von
Fig. 1 angedeutet, angewählt ist und die I/O-Datenleitungen
I/O₀₁ und aktiviert sind. Fig. 5 veranschaulicht
dabei die Betriebswellenformen
der jeweiligen Signale bei Berücksichtigung
des aus den vier Zellenblöcken CA₀-CA₃ bestehenden
Unterzellenarrays 10.
Die Blockwählsignale bis liegen auf dem
hohen Pegel H (d. h. Vcc), bevor sie auf aktiven
Zyklus gesetzt werden. Demzufolge befinden sich alle
Blockwählgatter Q5-Q12 in einem EIN- bzw. Durchschaltzustand.
Wenn z. B. eine Zeilenadresse bestimmt
wird, wird ein Blockwählsignal auf den Pegel L
gesetzt. Als Ergebnis werden die Blockwählgatter Q7 und
Q8 in einen AUS- bzw. Sperrzustand gesetzt; der Zellenblock
CA₁ unter den beiden Zellenblöcken CA₀ und
CA₁, die den NMOS-Leseverstärker NSA gemeinsam benutzen,
ist vom NMOS-Leseverstärker NSA getrennt. Gleichzeitig
empfängt die Puffer-Steuerschaltung 14₁ des
I/O-Pufferteils 2₁₁ das Blockwählsignal des niedrigen
Pegels L und das Blockwählsignal des hohen
Pegels H. Das I/O-Wählsignal wird durch ein
UND-Glied G1 auf den Pegel L gesetzt, so daß der erste
Voraufladekreis 13₁ für (1/2)Vcc-Voraufladung im I/O-
Puffer 16₁₁ nicht betätigt ist. Weiterhin
werden das Voraufladesteuersignal des Pegels L und
das I/O-Wählsignal des Pegels L einem ODER-Glied
G2 eingespeist, um das Voraufladesteuersignal auf
den Pegel L zu setzen. Infolgedessen wird der zweite
Voraufladekreis 12₁ für Vcc-Voraufladung aktiviert.
Weiterhin wird das Potential des Lesesignals
durch das I/O-Wählsignal des Pegels L und das
Lesesteuersignal QSE des Pegels L von (1/2)Vcc auf Vcc
angehoben. Demzufolge wird das elektrische Bezugspotential
des I/O-Leseverstärkers 11₁ auf Vcc erhöht. Mit
dieser Operation werden die auf (1/2)Vcc voraufgeladenen
I/O-Leitungen I/O₀₁ und auf Vcc voraufgeladen.
Zwischenzeitlich wird eine durch den Zeilendecodierer
4₁ angewählte Wortleitung so aktiviert, daß Daten
einer längs der gewählten Wortleitung im Zellenblock
CA₀ angeordneten Speicherzelle und einer längs einer
gewählten Blindleitung angeordneten Blindzelle
zu den Bitleitungen BL₀ und ausgelesen werden.
Diese Daten werden über die Blockwählgatter Q5 und
Q6 zu den externen Bitleitungen BL₀₁ und übertragen.
Der NMOS-Leseverstärker NSA ist aktiviert,
und der PMOS-Leseverstärker PSA wird anschließend aktiviert.
Danach werden die Bitleitungen BL₀₁ und
jeweils auf Vcc bzw. 0 gesetzt. Das durch den Spaltendecodierer
5₁ gewählte Spaltenwählsignal wird auf den
Pegel H gesetzt. Demzufolge befinden sich die Spaltenwählgatter
Q1 und Q2 in einem Durchschaltzustand.
Die Daten auf den Bitleitungen BL₀₁ und
werden über diese Spaltenwählgatter Q1 und Q2 zu den
I/O-Leitungen I/O₀₁ bzw. ausgelesen. Da das Voraufladesteuersignal
gleichzeitig mit dem Setzen des
Spaltenwählsignals auf den Pegel H ebenfalls auf
den Pegel H gesetzt wird, wird der zweite Voraufladekreis
12₁ in einen inaktiven Zustand versetzt. Anschließend
wird das Lesesteuersignal auf den
Pegel L gesetzt, so daß der I/O-Leseverstärker 11₁ aktiviert
und die I/O-Leitungen I/O₀₁ und auf Vcc
bzw. 0 gesetzt werden.
Während dieser Leseoperation werden die Blockwählgatter
Q7 und Q8 des anderen Zellenblocks CA₁, der den
NMOS-Leseverstärker NSA gemeinsam mit dem gewählten
Zellenblock CA₀ benutzt, in einem AUS- bzw. Sperrzustand
gehalten. Dies bedeutet, daß der Zellenblock
CA₁ vom NMOS-Leseverstärker NSA getrennt ist.
Obgleich sich die Blockwählgatter Q9-Q12
der anderen, nichtgewählten Zellenblöcke CA₂ und CA₃ im
Durchschaltzustand befinden, sind ihre Voraufladepotentialzustände
frei von einem Durchbruch. Genauer gesagt:
während der Zellenblock CA₀ gewählt ist, werden
die beiden Blockwählsignal und gemäß Fig. 5
auf dem Pegel H gehalten. Demzufolge wird das Steuersignal
des ersten Voraufladekreises 13₂ für
(1/2)Vcc-Voraufladung durch den I/O-Puffersteuerkreis
14₂ des I/O-Pufferteils 2₁₂ der I/O-Leitungen I/O₂₃ und
der nichtgewählten Zellenblöcke CA₂ und CA₃ auf
den Pegel H gesetzt. Ebenso wird das Steuersignal
des zweiten Voraufladekreises 12₂ für Vcc-Voraufladung
auf dem Pegel H gehalten, während ein Aktiviersignal
des I/O-Leseverstärkers 11₂ auf (1/2)Vcc gehalten
wird. Dies bedeutet, daß die Daten-I/O-Leitungen
I/O₂₃ und auf (1/2)Vcc bleiben. Daher werden die
Spaltenwählgatter Q3 und Q4 durch das gleiche Spaltenwählsignal
in einen Durchschaltzustand gesetzt.
Da sich beide Daten-I/O-Leitungen I/O₂₃ und auf
einem Voraufladepotential von (1/2)Vcc befinden, ergeben
sich keinerlei Probleme auch dann, wenn der NMOS-
Leseverstärker der nichtgewählten Zellenblöcke CA₂ und
CA₃ mit den Daten-I/O-Leitungen I/O₂₃ und verbunden
ist.
Wenn der aktive Zyklus beendet ist und ein Voraufladezyklus
vorgegeben wird, werden die im aktiven Zyklus
auf Vcc voraufgeladenen I/O-Leitungen
wieder auf (1/2)Vcc voraufgeladen.
Bei der beschriebenen Ausführungsform wird die Vorauflademethode
in der oben angegeben Weise angewandt,
wobei nur die im aktiven Zyklus angewählten I/O-Leitungen
auf der Grundlage der (1/2)Vcc-Vorauflademethode
auf Vcc voraufgeladen werden. Mit dem DRAM gemäß der
ersten Ausführungsform können somit eine Verringerung
des Strombedarfs und eine Verkleinerung der Chipfläche
durch die (1/2)Vcc-Vorauflademethode und außerdem eine
Erhöhung der Betriebsgeschwindigkeit durch die Vcc-Vorauflademethode
gewährleistet werden. Das Vcc-Voraufladen
einer gewählten I/O-Leitung kann zu dem Zeitpunkt
beendet sein, zu dem ein Spaltenwählsignal aktiviert
ist. Dies bedeutet, die Arbeitsweise
gemäß dieser Ausführungsform behindert in keiner
Weise eine Erhöhung der Betriebsgeschwindigkeit und erfordert
keinen besonders großen MOS-Transistor für Vcc-
Voraufladung. Die gewählte Ein/Ausgabe- bzw. I/O-Leitung
wird wiederum auf (1/2)Vcc aufgeladen, wenn der
aktive Zyklus abgeschlossen ist und ein Voraufladezyklus
vorgegeben wird. Diese Operation
erfolgt aber gleichzeitig mit dem Voraufladen anderer
Bitleitungen und I/O-Leitungen, so daß dafür
keine zusätzliche Zeit nötig ist.
Im folgenden ist anhand von Fig. 6 ein DRAM des Typs
mit geteilter Bitleitung und gemeinsamem Y-Decodierer
gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung beschrieben.
Die Gesamtanordnung entspricht dabei derjenigen
bei der anhand von Fig. 1 beschriebenen ersten
Ausführungsform. Fig. 6 veranschaulicht die Ausgestaltung
eines Ein-Spalten-Abschnitts des DRAMs entsprechend
der Anordnung nach Fig. 2. Den Teilen von Fig. 2
entsprechende Teile von Fig. 6 sind mit den gleichen
Bezugsziffern wie vorher bezeichnet und daher nicht
mehr im einzelnen erläutert.
Bei der ersten Ausführungsform sind die über eine Anzahl
von Zellenblöcken hinweg angeordneten Signalwählleitungen
CSLi0 unmittelbar mit einer Anzahl von
Spaltenwählgattern verbunden, um letztere gleichzeitig
zu öffnen bzw. zu schließen.
Zur Durchführung der Vcc-Voraufladung nur gewählter
I/O-Leitungen aus einer Anzahl von Daten-I/O-Leitungen
sind Vcc-Vorauflade- und (1/2)Vcc-Voraufladekreise zum
selektiven Ansteuern der Daten-I/O-Leitungen vorgesehen.
Im Gegensatz dazu enthält die zweite Ausführungsform
selektive Ansteuerkreise 21a und 21b
zum selektiven Ansteuern von Spaltenwählgattern Q1 und
Q2 sowie Q3 und Q4 (vgl. Fig. 6). Der selektive Ansteuerkreis
21a ist zwischen Spaltenwählsignalleitungen
CSLi0, die über eine Anzahl von Zellenblöcken angeordnet
sind, und den dadurch anzusteuernden Spaltenwählgattern
Q1 und Q2 angeordnet, während der selektive Ansteuerkreis
21b zwischen den Spaltenwählsignalleitungen
CSLi0 und den Spaltenwählgattern Q3 und Q4 angeordnet
ist.
Bei der zweiten Ausführungsform besteht jeder selektive
Ansteuerkreis 21a, 21b aus einem NAND-Glied G11 mit
zwei Eingängen und einem UND-Glied G12 mit zwei Eingängen.
Das NAND-Glied des einen selektiven Ansteuerkreises
21a nimmt zwei Blockwählsignale und ab.
Das NAND-Glied des anderen selektiven Ansteuerkreises
21b nimmt zwei restliche Blockwählsignale und
ab. Eine Eingangsklemme jedes UND-Glieds G12 ist an
eine entsprechende Spaltenwählsignalleitung CSLi0 angeschlossen,
während die andere Eingangsklemme mit dem
Ausgang eines entsprechenden der NAND-Glieder G11 verbunden
ist. Ein Ausgangssignal vom UND-Glied G12 des
einen selektiven Ansteuerkreises 21a dient als Steuersignal
für die zwischen den Zellenblöcken CA₀ und CA₁
angeordneten Spaltenwählgatter Q1 und Q2. Ein Ausgangssignal
vom UND-Glied G12 des anderen selektiven Ansteuerkreises
21b dient als Steuersignal für die Spaltenwählgatter Q3 und Q4.
Zwei Paare von Daten-Ein/Ausgabe- bzw. -I/O-Leitungen
I/O₀₁ und sowie I/O₂₃ und , mit denen die
Bitleitungen dieses Unterzellenarrays 10 verbunden
sind, sind gemäß Fig. 7 an einen I/O-Leitungs-Leseverstärker
22 und einen I/O-Leitungs-Voraufladekreis 23
für Vcc-Voraufladung angeschlossen.
Wenn bei der zweiten Ausführungsform mit dem beschriebenen
Aufbau eine der Spaltenwählsignalleitungen CSLi0
im aktiven Zyklus gewählt wird, werden nicht alle Spaltenwählgatter
Q1, Q2 und Q3, Q4 gleichzeitig in den
EIN- bzw. Durchschaltzustand versetzt. Ein Signal von
der Spaltenwählsignalleitung CSLi0 wird entsprechend
der Wahl eines Zellenblocks selektiv den Spaltenwählgattern
Q1, Q2 oder Q3, Q4 zugespeist.
Die Arbeitsweise des DRAMs gemäß dieser Ausführungsform
ist nachstehend anhand von Fig. 8 erläutert. Ähnlich
wie bei der vorher beschriebenen Ausführungsform
zeigt Fig. 8 Betriebswellenformen der
betreffenden Signale, die dann auftreten, wenn Daten
aus dem Zellenblock CA₀ ausgelesen werden. Vor dem Einstellen
eines aktiven Zyklus befinden sich alle Blockwählsignale
- auf dem hohen Pegel H. Daher
befinden sich alle Zellenblockwählgatter Q5-Q12 im
EIN- oder Durchschaltzustand. Wenn z. B. eine Zeilenadresse
bestimmt wird, wird das Blockwählsignal
auf den niedrigen Pegel L gesetzt. Als Ergebnis gelangen
die Blockwählgatter Q7 und Q8 in einen AUS- bzw.
Sperrzustand. Dies bedeutet, daß der Zellenblock CA₁
unter den beiden Zellenblöcken CA₀ und CA₁, die den
NMOS-Leseverstärker NSA gemeinsam benutzen, von letzterem
getrennt ist.
Eine durch einen Zeilendecodierer angewählte Wortleitung
WL wird aktiviert, und Daten einer gewählten
Speicherzelle im Zellenblock CA₀ und einer Blindzelle
werden zu den Bitleitungen BL₀ und ausgelesen. Diese
Daten werden über die Blockwählgatter Q5 und Q6 zu
externen Bitleitungen BL₀₁ und übertragen. Der
NMOS-Leseverstärker NSA wird aktiviert, worauf auch der
PMOS-Leseverstärker PSA aktiviert wird. Als Ergebnis
werden die Bitleitungen BL₀₁ und auf Vcc bzw. 0
gesetzt. Anschließend wird das durch einen Spaltendecodierer
5₁ gewählte Spaltenwählsignal auf den
Pegel H gesetzt. Da die Blockwählsignale BSL₀ und BSL₁
zu diesem Zeitpunkt auf den Pegel H bzw. den Pegel L
gesetzt sind, wird ein Ausgangs-Steuersignal CSLioa vom
selektiven Ansteuerkreis 21a auf den Pegel H gesetzt.
Mithin gelangen die Spaltenwählgatter Q1 und Q2 in den
Durchschaltzustand. Infolgedessen werden Daten auf den
Bitleitungen BL₀₁ und über die Spaltenwählgatter
Q1 bzw. Q2 zu den I/O-Leitungen I/O₀₁ bzw. ausge
lesen.
Wie beschrieben, bleiben während dieser Ausleseoperation
die Blockwählgatter Q7 und Q8 des Zellenblocks
CA₁, der den NMOS-Leseverstärker NSA gemeinsam mit dem
Zellenblock CA₀ benutzt, in einem AUS- oder Sperrzustand.
Dies bedeutet, daß der Zellenblock CA₁ vom NMOS-
Leseverstärker NSA getrennt ist. Andererseits befinden
sich die Blockwählgatter Q9-Q12 der anderen, nichtgewählten
Zellenblöcke CA₂ und CA₃ im EIN- oder Durchschaltzustand.
Die Voraufladepotentiale dieser Abschnitte
sind jedoch aus dem im folgenden
genannten Grund durchbruchfrei.
Während der Zellenblock CA₀ gewählt ist, bleiben die
beiden Blockwählsignale und gemäß Fig. 8 auf
dem Pegel H. Damit bleibt ein vom selektiven Ansteuerkreis
21b erhaltenes Steuersignal CSLiob auf dem Pegel L,
und die Spaltenwählgatter Q3 und Q4 der Zellenblöcke
CA₂ und CA₃ bleiben in einem Sperrzustand. Daher sind
die auf (1/2)Vcc voraufgeladenen Bitleitungen BL₂₃ und
nicht mit den auf Vcc voraufgeladenen Daten-I/O-
Leitungen I/O₂₃ und verbunden. Gemäß Fig. 8 werden
während dieser Ausleseoperation die Bitleitungen BL₂₃
und auf (1/2)Vcc, die Daten-I/O-Leitungen I/O₂₃
und auf Vcc gehalten.
Bei der zweiten Ausführungsform erfolgen mithin das
(1/2)Vcc-Voraufladen und das Vcc-Voraufladen der I/O-
Leitungen gleichzeitig.
Fig. 9 zeigt eine dritte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen
DRAMs, bei welcher die selektiven Ansteuerkreise
21a, 21b abgewandelt sind. Genauer gesagt: ein
dem UND-Glied G12 in jedem der selektiven Ansteuerkreise
21a, 21b entsprechender Schaltungsabschnitt ist
durch einen Inverter I, ein Transfer- oder Übertragungsgatter
und einen n-Kanal-MOS-Transistor Q43 zum Kurzschließen
gebildet. Das Übertragungsgatter
besteht aus einem n-Kanal-MOS-Transistor Q41 und
einem p-Kanal-MOS-Transistor Q42. Die sonstige Anordnung
entspricht derjenigen nach Fig. 6.
Die Arbeitsweise der dritten Ausführungsform ist die
gleiche wie bei der zweiten Ausführungsform. Ähnlich
wie bei letzterer sei angenommen, daß Blockwählsignale
- so vorgegeben sind, daß im aktiven
Zyklus gilt: = Pegel L und = =
= Pegel H. In diesem Fall besitzt das Ausgangssignal
eines NAND-Glieds G11 des einen selektiven Ansteuerkreises
21a den Pegel H. Daher befinden sich die beiden
MOS-Transistoren Q41 und Q42 in einem Durchschaltzustand,
während sich der MOS-Transistor Q43 in einem
Sperrzustand befindet. Ein den Pegel H besitzendes Signal
von einer Spaltenwählsignalleitung CSLi0 wird über
den selektiven Ansteuerkreis 21a zu den Spaltenwählgattern
Q1 und Q2 übertragen. Das Ausgangssignal
des NAND-Glieds G11 des anderen selektiven Ansteuerkreises
21b ist auf den Pegel L gesetzt. Demzufolge
befinden sich die MOS-Transistoren Q41 und Q42
im Sperrzustand und der MOS-Transistor Q43 im Sperrzustand.
Dies bedeutet, daß das den hohen Pegel H aufweisende
Signal von der Spaltenwählsignalleitung CSLi0
nicht zu den Spaltenwählgattern Q3 und Q4 übertragen
wird.
Da - wie oben beschrieben - mit nichtgewählten Zellenblöcken
verbundene Spaltenwählgatter nicht leitend gemacht
bzw. durchgeschaltet werden, können das (1/2)Vcc-
Voraufladen der Bitleitungen und das Vcc-Voraufladen
der Daten-I/O-Leitungen gleichzeitig stattfinden.
Bei der dritten Ausführungsform ist die Zahl der für
jeden der selektiven Ansteuerkreise 21a, 21b verwendeten
Bauelemente kleiner als bei der zweiten Ausführungsform
nach Fig. 6. Bei letzterer besteht insbesondere
das UND-Glied G12 normalerweise aus sechs Elementen.
Dagegen kann bei der dritten Ausführungsform ein
dem UND-Glied G12 entsprechender Abschnitt aus fünf
Elementen gebildet sein, nämlich den drei MOS-Transistoren
Q41-Q43 und den beiden den Inverter I bildenden
Transistoren. Da die selektiven Ansteuerkreise 21a,
21b für jede Spaltenwählsignalleitung vorgesehen sein
müssen, trägt selbst eine Verkleinerung der Bauelementzahl
um ein Element zu einer deutlichen Verkleinerung
der Fläche des DRAM-Chips bei.
Wenn weiterhin NAND-Glieder in den selektiven Ansteuerkreisen
außerhalb eines Zellenarrays angeordnet werden,
kann der DRAM mit hoher Dichte integriert
ausgeführt werden. Außerdem ist bei den beschriebenen
Ausführungsformen ein Bitleitungs-Voraufladepotential
auf (1/2)Vcc gesetzt,
während ein Daten-I/O-Leitungs-Voraufladepotential auf
die zweifache oder eine höhere Größe, wie Vcc und
(1/2)Vcc, bei der ersten Ausführungsform und nur auf
Vcc bei zweiter und dritter Ausführungsform gesetzt
ist. Es können jedoch auch von diesen Werten oder Größen
verschiedene, zweckmäßige Voraufladepotentiale gewählt
werden.
Claims (17)
1. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff (DRAM), bei dem ein Zellenarray
(10) in eine Vielzahl von Bereichen mit
geteilter Bitleitung unterteilt ist, wobei jeder
Bereich aufweist:
- - eine Anzahl von Speicherzellen (MC₁, MC₂), die in einer Anzahl von Zellenblöcken (CA₀, CA₁, CA₃, CA₄, CA₅, CA₆, CA₇) gruppiert und in einer Matrixform angeordnet sind,
- - eine Anzahl von in jedem der Zellenblöcke in einer Spaltenrichtung angeordneten Wortleitungen (WL₀, WL₁, WL) zum Ansteuern der Speicherzellen in Spaltenrichtung,
- - eine Anzahl von die Wortleitungen überkreuzend angeordneten Bitleitungen (BL₀, , BL₀₁, , BL₂₃, ) zum Übertragen von Daten zu/von den gewählten Speicherzellen,
- - jeweils mit den Bitleitungen verbundene Bitleitungs-Leseverstärker (NSA, PSA),
- - eine Zellenblockwähleinheit (6) zum Wählen eines der mehreren Zellenblöcke des Zellenarrays im aktiven Zyklus,
- - eine Anzahl von Daten-I/O-Leitungen (I/O₀₁, , I/O₂₃, ), mit denen die Bitleitungen in dem durch die Zellenblockwähleinheit gewählten Zellenblock über Spaltenwählgatter (Q1, Q2, Q3, Q4) verbunden sind,
- - Zeilendecodierer (4₁, 4₂) zum selektiven Ansteuern der Wortleitungen,
- - eine Anzahl von Spaltenwählsignalleitungen (CSL₁₀, CSLio, CSLn0, CSL11, CSLi1, CSLn1), die quer über die Anzahl von Zellenblöcken des Bereiches angeordnet und mit den Spaltenwählgattern der Zellenblöcke verbunden sind,
- - Spaltendecodierer (5₁, 5₂) zum wahlweisen Übertragen von Spaltenwählsignalen zu den Spaltenwählsignalleitungen und
- - mit den betreffenden Daten-I/O-Leitungen verbundene
Datenpuffereinheiten (2₁₁, 2₁₂, 2₂₁, 2₂₂)
zum Lesen von ausgelesenen Daten zu den betreffenden
Daten-I/O-Leitungen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Datenpuffereinheiten umfassen:- - mit den Daten-I/O-Leitungen verbundene erste Voraufladeeinheiten (13₁, 13₂) zum Voraufladen der Daten-I/O-Leitungen auf ein gleiches erstes Potential wie ein Voraufladepotential der Bitleitungen,
- - mit den Daten-I/O-Leitungen verbundene zweite Voraufladeeinheiten (12₁, 12₂) zum Voraufladen der Daten-I/O-Leitungen auf ein zweites Potential, das vom Voraufladepotential der Bitleitungen verschieden ist,
- - selektive Ansteuereinheiten (14₁, 14₂) zum Erzeugen von den ersten und zweiten Voraufladeeinheiten zuzuspeisenden Steuersignalen (, , , ) und zum selektiven Ansteuern der ersten und zweiten Voraufladeeinheiten zum Lesen der ausgelesenen Daten zu den Daten-I/O-Leitungen auf der Grundlage der Steuersignale derart, daß die ersten Voraufladeeinheiten (13₁, 13₂) die mit nichtgewählten Zellenblöcken der Zellenblöcke (CA₀, CA₁, CA₂, CA₃, CA₄, CA₅, CA₆, CA₇) verbundenen Daten-I/O-Leitungen (I/O₀₁, , I/O₂₃, ) im aktiven Zyklus und im Voraufladezyklus auf das erste Potential voraufladen und die mit dem gewählten Zellenblock verbundenen Daten-I/O-Leitungen im Voraufladezyklus auf das erste Potential voraufladen und daß die zweiten Voraufladeeinheiten (12₁, 12₂) die mit dem gewählten Zellenblock (CA₀, CA₁, CA₂, CA₃, CA₄, CA₅, CA₆, CA₇) verbundenen Daten-I/O-Leitungen (I/O₀₁, , I/O₂₃, ) im aktiven Zyklus auf das zweite Potential voraufladen und
- - I/O-Leitungs-Leseverstärker (11₁, 11₂) zum Lesen der ausgelesenen Daten zu den Daten-I/O-Leitungen.
2. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das erste Potential durch
1/2 Vcc und das zweite Potential durch Vcc gegeben
sind.
3. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die ersten Voraufladeeinheiten
(13₁, 13₂) zwischen zwei der Daten-I/O-Leitungen
(I/O₀₁, , I/O₂₃, ) angeordnet und mit
einem (1/2)Vcc-Anschluß verbunden sind.
4. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das zweite Potential höher als
das erste Potential ist.
5. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach den Ansprüchen 2
und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten Voraufladeeinheiten
(12₁, 12₂) zwischen einem Paar der
Daten-I/O-Leitungen (I/O₀₁, I/O₀₁, I/O₂₃, I/O₂₃
angeordnet und mit einem Vcc-Anschluß verbunden
sind.
6. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach den Ansprüchen 3
und 5, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Voraufladeeinheiten
(13₁, 13₂) und die zweiten Voraufladeeinheiten
(12₁, 12₂) jeweils durch NMOS-Transistoren
(Q13, Q14, Q15) und PMOS-Transistoren
(Q16, Q17, Q18) gebildet sind und in komplementärer
Weise betrieben werden.
7. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die selektiven Vorauflade-Ansteuereinheiten
(14₁, 14₂) durch Zellenblockwählsignale
(, , , ) zum Wählen benachbarter
Zellenblöcke (CA₀, CA₁; CA₂, CA₃; CA₄, CA₅;
CA₆, CA₇) gesteuert werden und die Steuersignale
(, , , ) erzeugen.
8. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Datenpuffereinheiten (2₁₁,
2₁₂, 2₂₁, 2₂₂) von den benachbarten Zellenblöcken
gemeinsam benutzt werden.
9. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß mindestens einige (NSA) der
Bitleitungs-Leseverstärker und die Daten-I/O-Leitungen
von den benachbarten Zellenblöcken (CA₀,
CA₁; CA₂, CA₃; CA₄, CA₅; CA₆, CA₇) gemeinsam benutzt
werden.
10. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß jeder der Bitleitungs-Leseverstärker
(NSA, PSA) durch einen in jedem der Zellenblöcke
angeordneten PMOS-Leseverstärker (PSA) und
einen NMOS-Leseverstärker (NSA) gebildet ist, der
außerhalb der Zellenblockwählgatter (Q5, Q6, Q7,
Q8, Q9, Q10, Q11, Q12) der Zellenblöcke angeordnet
ist und von den zwei benachbarten Zellenblöcken
(CA₀, CA₁; CA₂, CA₃; CA₄, CA₅; CA₆, CA₇) gemeinsam
benutzt wird.
11. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff, bei dem ein Zellenarray
(10) in eine Vielzahl von Bereichen mit geteilter
Bitleitung unterteilt ist, wobei jeder Bereich aufweist:
- - eine Anzahl von Speicherzellen (MC₁, MC₂), die in einer Anzahl von Zellenblöcken (CA₀, CA₁, CA₃, CA₄, CA₅, CA₆, CA₇) gruppiert und in einer Matrixform angeordnet sind,
- - eine Anzahl von in jedem der Zellenblöcke in einer Spaltenrichtung angeordneten Wortleitungen (WL₀, WL₁, WL) zum Ansteuern der Speicherzellen in der Spaltenrichtung,
- - eine Anzahl von die Wortleitungen überkreuzend angeordneten Bitleitungen (BL₀₁, , BL₂₃, ) zum Übertragen von Daten zu/von den gewählten Speicherzellen, wobei die Bitleitungen auf ein erstes Potential voraufgeladen sind,
- - jeweils mit den Bitleitungen verbundene Bitleitungs-Leseverstärker (NSA, PSA),
- - eine Zellenblockwähleinheit (6) zum Wählen eines der mehreren Zellenblöcke des Bereiches im aktiven Zyklus,
- - eine Anzahl von Daten-I/O-Leitungen (I/O₀₁, , I/O₂₃, ), an welche die Bitleitungen in dem durch die Zellenblockwähleinheit gewählten Zellenblock über Spaltenwählgatter (Q1, Q2, Q3, Q4) angeschlossen sind, wobei die Daten-I/O-Leitungen ein vom ersten Potential verschiedenes zweites Potential als ein Voraufladepotential haben,
- - Zeilendecodierer (4₁, 4₂) zum selektiven Ansteuern der Wortleitungen,
- - eine Anzahl von Spaltenwählsignalleitungen (CSL₁₀, CSLi0, CSLn0, CSL₁₁, CSLi1, CSLn1), die quer über die Anzahl von Zellenblöcken des Bereiches angeordnet und mit den Spaltenwählgattern der Zellenblöcke gekoppelt sind,
- - Spaltendecodierer (5₁, 5₂) zum Erzeugen von Spaltenwählsignalen für die Spaltenwählsignalleitungen und
- - zwischen den Spaltenwählsignalleitungen (CSL₁₀, CSLi0, CSLn0, CSL₁₁, CSLi1, CSLn1, CSLi) und den Spaltenwählgattern (Q1-Q4) angeordnete Wählgatter-Steuereinheiten (21a, 21b) zum Empfangen des zugeordneten Spaltenwählsignals und zum Tasten des Spaltenwählgatters des gewählten Zellenblocks im aktiven Zyklus aufgrund des zugeordneten Spaltenwählsignals, um so die Daten-I/O-Leitungen des gewählten Zellenblocks auf das zweite Potential voraufzuladen.
12. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Wählgatter-Steuereinheiten
(21a, 21b) durch zwei Steuersignale
(, ; , ) von der Zellenblockwähleinheit
(6) zum Wählen der benachbarten Zellenblöcke
(CA₀; CA₁; CA₂, CA₃; CA₄, CA₅; CA₆, CA₇) gesteuert
werden.
13. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Wählgatter-Steuereinheiten
(21a, 21b) durch ein NAND-Glied (G11) zum
Abnehmen der jeweiligen Zellenblockwählsignale für
benachbarte Zellenblöcke (CA₀, CA₁; CA₂, CA₃; CA₄,
CA₅; CA₆, CA₇) und ein UND-Glied (G12) zum Abnehmen
eines Ausgangssignals vom NAND-Glied und der
Spaltenwählsignale gebildet sind.
14. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 13, dadurch
gekennzeichnet, daß das UND-Glied (G12) durch
einen Inverter (I), ein Übertragungsgatter aus
einem n-Kanal-MOS-Transistor (Q41) und einem p-Kanal-MOS-Transistor
(Q42) sowie einen n-Kanal-MOS-Transistor
(Q43) zum Kurzschließen gebildet ist.
15. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß mindestens einige (NSA)
der Bitleitungs-Leseverstärker (NSA, PSA) und die
Daten-I/O-Leitungen durch die benachbarten Zellenblöcke
(CA₀, CA₁; CA₂, CA₃; CA₄, CA₅; CA₆, CA₇) gemeinsam
benutzt werden.
16. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß jeder der Bitleitungs-Leseverstärker
(NSA, PSA) durch einen in jedem der
Zellenblöcke (CA₀, CA₁, CA₂, CA₃, CA₄, CA₅, CA₆,
CA₇) angeordneten PMOS-Leseverstärker (PSA) und
einen NMOS-Leseverstärker (NSA) gebildet ist, der
außerhalb der Zellenblock-Wählgatter (Q5, Q6, Q7,
Q8, Q9, Q10, Q11, Q12) der Zellenblöcke angeordnet
ist und von benachbarten Zellenblöcken (CA₀, CA₁; CA₂,
CA₃; CA₄, CA₅; CA₆, CA₇) gemeinsam benutzt wird.
17. Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß das zweite Potential
höher als das erste Potential ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1292162A JP2825291B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4036091A1 DE4036091A1 (de) | 1991-05-16 |
| DE4036091C2 true DE4036091C2 (de) | 1995-04-20 |
Family
ID=17778351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE4036091A Expired - Fee Related DE4036091C2 (de) | 1989-11-13 | 1990-11-13 | Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5734619A (de) |
| JP (1) | JP2825291B2 (de) |
| KR (1) | KR950009877B1 (de) |
| DE (1) | DE4036091C2 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10020554B4 (de) * | 1999-04-27 | 2010-04-22 | Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon | Halbleiterspeicherbauelement mit Spaltenauswahlschaltung und Aufbauverfahren hierfür |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2825291B2 (ja) * | 1989-11-13 | 1998-11-18 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| JP2781080B2 (ja) * | 1991-04-09 | 1998-07-30 | 三菱電機株式会社 | ランダムアクセスメモリ |
| KR940001644B1 (ko) * | 1991-05-24 | 1994-02-28 | 삼성전자 주식회사 | 메모리 장치의 입출력 라인 프리차아지 방법 |
| JP2729423B2 (ja) * | 1991-10-29 | 1998-03-18 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JP2658768B2 (ja) * | 1992-10-19 | 1997-09-30 | 日本電気株式会社 | ダイナミックram |
| JP3666671B2 (ja) | 1994-12-20 | 2005-06-29 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
| KR0142962B1 (ko) * | 1995-05-12 | 1998-08-17 | 김광호 | 계급적 컬럼선택라인구조를 가지는 반도체 메모리 장치 |
| US7895076B2 (en) * | 1995-06-30 | 2011-02-22 | Sony Computer Entertainment Inc. | Advertisement insertion, profiling, impression, and feedback |
| US8574074B2 (en) * | 2005-09-30 | 2013-11-05 | Sony Computer Entertainment America Llc | Advertising impression determination |
| JPH09161476A (ja) | 1995-10-04 | 1997-06-20 | Toshiba Corp | 半導体メモリ及びそのテスト回路、並びにデ−タ転送システム |
| JP3225813B2 (ja) * | 1995-11-20 | 2001-11-05 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JP3933769B2 (ja) * | 1997-10-20 | 2007-06-20 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
| KR100297717B1 (ko) * | 1998-09-22 | 2001-08-07 | 윤종용 | 반도체메모리의입출력선프리차아지회로및이를사용하는반도체메모리 |
| KR100381968B1 (ko) * | 1998-12-30 | 2004-03-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 고속동작용디램 |
| JP3336985B2 (ja) | 1999-01-29 | 2002-10-21 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JP2000293984A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-20 | Toshiba Microelectronics Corp | 半導体記憶装置 |
| KR100322541B1 (ko) * | 1999-07-14 | 2002-03-18 | 윤종용 | 입출력 라인쌍 등화회로 및 이를 구비한 메모리 장치 |
| JP2001184881A (ja) | 1999-12-28 | 2001-07-06 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体メモリの読み出し回路 |
| WO2001057875A1 (en) | 2000-02-04 | 2001-08-09 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
| JP4827298B2 (ja) * | 2001-01-22 | 2011-11-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
| US8751310B2 (en) | 2005-09-30 | 2014-06-10 | Sony Computer Entertainment America Llc | Monitoring advertisement impressions |
| US6430099B1 (en) | 2001-05-11 | 2002-08-06 | Broadcom Corporation | Method and apparatus to conditionally precharge a partitioned read-only memory with shared wordlines for low power operation |
| JP2004355760A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Renesas Technology Corp | データ記憶回路 |
| JP2006134469A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
| JP4370526B2 (ja) * | 2005-05-19 | 2009-11-25 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体装置 |
| US10657538B2 (en) | 2005-10-25 | 2020-05-19 | Sony Interactive Entertainment LLC | Resolution of advertising rules |
| US11004089B2 (en) * | 2005-10-25 | 2021-05-11 | Sony Interactive Entertainment LLC | Associating media content files with advertisements |
| US7656731B2 (en) * | 2007-03-30 | 2010-02-02 | Qualcomm, Incorporated | Semi-shared sense amplifier and global read line architecture |
| US20080307103A1 (en) * | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Sony Computer Entertainment Inc. | Mediation for auxiliary content in an interactive environment |
| US7580304B2 (en) * | 2007-06-15 | 2009-08-25 | United Memories, Inc. | Multiple bus charge sharing |
| US8416247B2 (en) * | 2007-10-09 | 2013-04-09 | Sony Computer Entertaiment America Inc. | Increasing the number of advertising impressions in an interactive environment |
| US20090300144A1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-03 | Sony Computer Entertainment Inc. | Hint-based streaming of auxiliary content assets for an interactive environment |
| US8763090B2 (en) | 2009-08-11 | 2014-06-24 | Sony Computer Entertainment America Llc | Management of ancillary content delivery and presentation |
| US8339882B2 (en) * | 2010-07-12 | 2012-12-25 | Promos Technologies Pte. Ltd. | Dual bit line precharge architecture and method for low power dynamic random access memory (DRAM) integrated circuit devices and devices incorporating embedded DRAM |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58205989A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-12-01 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
| JPS61110394A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-28 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
| JPS61239493A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-24 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
| JPH0664907B2 (ja) * | 1985-06-26 | 1994-08-22 | 株式会社日立製作所 | ダイナミツク型ram |
| JPS6364690A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
| JPS6394499A (ja) * | 1986-10-07 | 1988-04-25 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
| JPH0814988B2 (ja) * | 1987-05-27 | 1996-02-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JPS6457495A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory device |
| US5054000A (en) * | 1988-02-19 | 1991-10-01 | Sony Corporation | Static random access memory device having a high speed read-out and flash-clear functions |
| JPH01278065A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
| JPH0766664B2 (ja) * | 1988-11-28 | 1995-07-19 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ回路 |
| JPH0814989B2 (ja) * | 1989-05-09 | 1996-02-14 | 日本電気株式会社 | 内部同期型スタティックram |
| JP2825291B2 (ja) * | 1989-11-13 | 1998-11-18 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| US5036492A (en) * | 1990-02-15 | 1991-07-30 | Advanced Micro Devices, Inc. | CMOS precharge and equalization circuit |
| KR0127263B1 (ko) * | 1993-02-23 | 1997-12-29 | 사토 후미오 | 반도체 집적회로 |
| JP3253745B2 (ja) * | 1993-04-28 | 2002-02-04 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JP2875476B2 (ja) * | 1993-12-06 | 1999-03-31 | 松下電器産業株式会社 | 半導体メモリ装置 |
| JPH08171796A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
| US5671187A (en) * | 1995-06-07 | 1997-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Storage circuit |
| US5729498A (en) * | 1996-06-25 | 1998-03-17 | Industrial Technology Research Institute | Reduced power consumption sram |
| US5796665A (en) * | 1997-10-17 | 1998-08-18 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Semiconductor memory device with improved read signal generation of data lines and assisted precharge to mid-level |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1292162A patent/JP2825291B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-13 DE DE4036091A patent/DE4036091C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-13 KR KR1019900018306A patent/KR950009877B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-09-15 US US07/944,729 patent/US5734619A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-10-28 US US08/959,466 patent/US5862090A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-10-30 US US09/182,892 patent/US5970006A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10020554B4 (de) * | 1999-04-27 | 2010-04-22 | Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon | Halbleiterspeicherbauelement mit Spaltenauswahlschaltung und Aufbauverfahren hierfür |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2825291B2 (ja) | 1998-11-18 |
| KR950009877B1 (ko) | 1995-09-01 |
| US5970006A (en) | 1999-10-19 |
| US5862090A (en) | 1999-01-19 |
| JPH03154287A (ja) | 1991-07-02 |
| DE4036091A1 (de) | 1991-05-16 |
| KR910010517A (ko) | 1991-06-29 |
| US5734619A (en) | 1998-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE4036091C2 (de) | Dynamischer Halbleiterspeicher mit wahlfreiem Zugriff | |
| DE3588247T2 (de) | Dynamischer Halbleiterspeicher mit einer statischen Datenspeicherzelle | |
| DE3687018T2 (de) | Halbleiterspeicher, faehig eine logische operation auszufuehren. | |
| DE3928902C2 (de) | Halbleiterspeicher und Verfahren zum Betreiben desselben und Verwendung desselben in einem Video-RAM | |
| DE69606170T2 (de) | Halbleiterspeicheranordnung | |
| DE3785133T2 (de) | Halbleiterspeicheranordnung mit verbesserter bitzeilenordnung. | |
| DE69426355T2 (de) | Umfangreiche Datenbusarchitektur | |
| DE4003673C2 (de) | ||
| DE3932442A1 (de) | Halbleiterspeicheranordnung | |
| DE10144245B4 (de) | Halbleiterspeicherbauelement mit Bitleitungen und einem Abtastverstärker | |
| EP0387379A1 (de) | Integrierter Halbleiterspeicher vom Typ DRAM und Verfahren zu seinem Testen | |
| DE19756929B4 (de) | Zellenarray und Leseverstärkerstruktur mit verbesserten Rauscheigenschaften und verringerter Größe | |
| DE4428647A1 (de) | Halbleiterspeicherbauelement mit einer Struktur zur Ansteuerung von Eingabe/Ausgabeleitungen mit hoher Geschwindigkeit | |
| DE3236729C2 (de) | ||
| DE69127126T2 (de) | Direktzugriffsspeicher mit Hilfsredundanzschaltung | |
| EP0282976A1 (de) | Verfahren und Schaltungsanordnung zum parallelen Einschreiben von Daten in einen Halbleiterspeicher | |
| EP0354265B1 (de) | Integrierte Halbleiterschaltung mit einem Speicherbereich | |
| DE3214230C2 (de) | Speicheranordnung mit Mehrfach-Zugriffsleitungen | |
| EP0004557A1 (de) | Kapazitiver, integrierter Halbleiterspeicher | |
| EP0224887A1 (de) | Gate Array Anordnung in CMOS-Technik | |
| DE3786382T2 (de) | Halbleiterspeicheranordnung mit Datenbusrücksetzungsschaltungen. | |
| DE10046051B4 (de) | Nichtflüchtiger ferroelektrischer Speicher und Schaltung zum Betreiben desselben | |
| DE68923348T2 (de) | Speicherschaltung mit einer verbesserten Vorladungsschaltung für gemeinsame Datenleitung. | |
| DE10261328A1 (de) | Kompensation überkreuzter Bitleitungen in DRAMs mit Redundanz | |
| DE3917558A1 (de) | Halbleiterspeichereinrichtung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |