JPS6364690A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPS6364690A JPS6364690A JP61207940A JP20794086A JPS6364690A JP S6364690 A JPS6364690 A JP S6364690A JP 61207940 A JP61207940 A JP 61207940A JP 20794086 A JP20794086 A JP 20794086A JP S6364690 A JPS6364690 A JP S6364690A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 6
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 63
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 10
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 235000010575 Pueraria lobata Nutrition 0.000 description 1
- 241000219781 Pueraria montana var. lobata Species 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 210000003296 saliva Anatomy 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体記憶装置の回路に関するものであり、特
にメモリセルの読出し、書込みを行なうための制御回路
に関するものである。
にメモリセルの読出し、書込みを行なうための制御回路
に関するものである。
半導体メモリのうち、特にフリップフロップ形のメモリ
セルを用いたMOSスタティックR,AMでは、そのア
クセス時間を高速化するため、各データ線毎に読出用の
検出回路を設ける方式が提案されている。この回路につ
いてはアイ・イー・イー・イー、ジャーナル オフ ソ
リッド−ステート サーキツツ ボリューム ニスシー
19(1984年10月)第572頁から第577頁(
IEEE 、 Journal of 5olid−8
tate C1rcuits。
セルを用いたMOSスタティックR,AMでは、そのア
クセス時間を高速化するため、各データ線毎に読出用の
検出回路を設ける方式が提案されている。この回路につ
いてはアイ・イー・イー・イー、ジャーナル オフ ソ
リッド−ステート サーキツツ ボリューム ニスシー
19(1984年10月)第572頁から第577頁(
IEEE 、 Journal of 5olid−8
tate C1rcuits。
Volume 5C−19(October 1984
)、I)p572−577)に詳しく論じられているが
、そのメモリ℃ルまわシの基本回路構成;は第2図に示
す通シである。この図は1ピツトのメモリセル1、この
メモリセルと同じ列に属する読出用;検出回路2と、書
込用MOSトランジスタM1〜M4を示す。なおデータ
線の負荷回路やプリチャージ回路は省略している。メモ
リセルの選択はワード線WLを高電位とすることにより
、また列の選択は列選択信号線YSを高電位にすること
により行われる。読出し動作では選択されたメモリセル
からデータ線DL、L・LK読出された微小な差動信号
をMO8トランジスタで構成した差動増幅器2で検出す
る。
)、I)p572−577)に詳しく論じられているが
、そのメモリ℃ルまわシの基本回路構成;は第2図に示
す通シである。この図は1ピツトのメモリセル1、この
メモリセルと同じ列に属する読出用;検出回路2と、書
込用MOSトランジスタM1〜M4を示す。なおデータ
線の負荷回路やプリチャージ回路は省略している。メモ
リセルの選択はワード線WLを高電位とすることにより
、また列の選択は列選択信号線YSを高電位にすること
により行われる。読出し動作では選択されたメモリセル
からデータ線DL、L・LK読出された微小な差動信号
をMO8トランジスタで構成した差動増幅器2で検出す
る。
この差動増幅器の、を工os電流源を列選択信号線Y3
の11L位によジオン、オフする。各列毎に設けた差動
増幅器2のドレイン出力は複数の列毎に接続されセンス
出力so、soとして後段回路に送られる。非選択列の
回路2は電流源がオフのため非選択列のデータ線信号は
センス出力に影響を与えない。
の11L位によジオン、オフする。各列毎に設けた差動
増幅器2のドレイン出力は複数の列毎に接続されセンス
出力so、soとして後段回路に送られる。非選択列の
回路2は電流源がオフのため非選択列のデータ線信号は
センス出力に影響を与えない。
一方書込み動作では、列還択信号線YSt高電位としさ
らに書込み制御線WCを高電位とすることにより、Ml
= M4をオンさせる。こうして共通データ線CD、
CD上の書込みデータを選択列のデータ線に転送し、選
択メモリセルへ書込みを行なう。この回路は読出し用検
出回路2が各データ線に直接接続されているため、従来
の共通データ線に読出し用検出回路を設ける回路方式に
比べ、共通データ線の寄生容量やデータ線から共通デー
タ線への転送用MO8)ランジスタのオン抵抗に影響さ
れず、高速読出しが可能である。しかし書込み時にデー
タ線と共通データ線とを直列接続のMOB)ランジスタ
で導通させるため、そのオン抵抗により書込みに要する
時間が大きくなつfc。
らに書込み制御線WCを高電位とすることにより、Ml
= M4をオンさせる。こうして共通データ線CD、
CD上の書込みデータを選択列のデータ線に転送し、選
択メモリセルへ書込みを行なう。この回路は読出し用検
出回路2が各データ線に直接接続されているため、従来
の共通データ線に読出し用検出回路を設ける回路方式に
比べ、共通データ線の寄生容量やデータ線から共通デー
タ線への転送用MO8)ランジスタのオン抵抗に影響さ
れず、高速読出しが可能である。しかし書込み時にデー
タ線と共通データ線とを直列接続のMOB)ランジスタ
で導通させるため、そのオン抵抗により書込みに要する
時間が大きくなつfc。
さらに書込み制御線〜VCは全ての列のM3 、 M4
を同時に、駆動するため、その負荷容量が大きくなり、
この点からも書込みが遅くなった。この様にスタティッ
クメモリで第2図の回路を用いると、読出しは速いが、
書込みが遅くなる。
を同時に、駆動するため、その負荷容量が大きくなり、
この点からも書込みが遅くなった。この様にスタティッ
クメモリで第2図の回路を用いると、読出しは速いが、
書込みが遅くなる。
以上はスタティックメモリでの第2図回路の問題点であ
る。次に第2図回路をダイナミックメモリに用いた場合
の問題点を述べる。この場合メモリセル1は電荷蓄積形
のダイナミックメモリセルであり、通常、1ビツトのメ
モリセルはデータ線対DL、DLの一方のみに接続され
る。また各データ線対内には前述の読出し、書込み用の
回路ブロック3に加え、後の実施例で述べる様にプリチ
ャージ回路とセンス増幅器を有するが、第2図では省略
している。
る。次に第2図回路をダイナミックメモリに用いた場合
の問題点を述べる。この場合メモリセル1は電荷蓄積形
のダイナミックメモリセルであり、通常、1ビツトのメ
モリセルはデータ線対DL、DLの一方のみに接続され
る。また各データ線対内には前述の読出し、書込み用の
回路ブロック3に加え、後の実施例で述べる様にプリチ
ャージ回路とセンス増幅器を有するが、第2図では省略
している。
ダイナミックメモリで第2図回路を用いると、以下に示
す理由で読出し時に記憶情報の破壊を生じるおそれがあ
る。すなわち第2図のM l+ M3の接続点P1sお
よびへI2.Msの接続点P2では、その寄生容量に、
過去のサイクルでの再書込み動作あるいは書込み動作に
よる残留電荷を持っている。この状態で新しいサイクル
になり、別ワードのメモリセルを選択すると、上記接続
点の残留電荷により、新しく選んだメモリセルの情報が
破壊される恐れがある。これを防ぐには列選択を、セン
ス増幅器(第2図では省略)による増幅が始まってから
行なえば良いが、こうすると各データ線対毎に設けた読
出用検出回路の動作開始も遅れるので、高速読出しがで
きなくなる。この様にダイナミックメモリで第2図の読
出用検出回路2と、書込み用トランジスタM1〜M4を
用いると、高速読出しができないばかりか、情報破壊の
恐れがらった。
す理由で読出し時に記憶情報の破壊を生じるおそれがあ
る。すなわち第2図のM l+ M3の接続点P1sお
よびへI2.Msの接続点P2では、その寄生容量に、
過去のサイクルでの再書込み動作あるいは書込み動作に
よる残留電荷を持っている。この状態で新しいサイクル
になり、別ワードのメモリセルを選択すると、上記接続
点の残留電荷により、新しく選んだメモリセルの情報が
破壊される恐れがある。これを防ぐには列選択を、セン
ス増幅器(第2図では省略)による増幅が始まってから
行なえば良いが、こうすると各データ線対毎に設けた読
出用検出回路の動作開始も遅れるので、高速読出しがで
きなくなる。この様にダイナミックメモリで第2図の読
出用検出回路2と、書込み用トランジスタM1〜M4を
用いると、高速読出しができないばかりか、情報破壊の
恐れがらった。
上記従来技術は各データ線対毎に読出用検出回路を有す
るので、高速読出しが可能であるが、2個の直列書込み
用トランジスタを介してデータ線と共通データ線とを電
気的に接続するので、スタティックメモリでは書込みが
遅くなり、またダイナミックメモリではメモリセルの情
報を破壊する恐れがめった。
るので、高速読出しが可能であるが、2個の直列書込み
用トランジスタを介してデータ線と共通データ線とを電
気的に接続するので、スタティックメモリでは書込みが
遅くなり、またダイナミックメモリではメモリセルの情
報を破壊する恐れがめった。
本発明の目的はスタティックメモリ、ダイナミックメモ
リにおいて、読出し、書込みの両動作を高速かつ安定に
行なう回路を提供することにある。
リにおいて、読出し、書込みの両動作を高速かつ安定に
行なう回路を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明では、メモリセルが接
続されたデータ線対毎て第2図と同様に続出し用、虞出
回!2を置くと同時に、書込み用トランジスタ1個のみ
を用いて、データ線と共通データ線とを接続する。そし
て上記読出し用検出回路の制唾と、書込み用トランジス
タの制御とを、異なる列選択信号を用いて行なう。
続されたデータ線対毎て第2図と同様に続出し用、虞出
回!2を置くと同時に、書込み用トランジスタ1個のみ
を用いて、データ線と共通データ線とを接続する。そし
て上記読出し用検出回路の制唾と、書込み用トランジス
タの制御とを、異なる列選択信号を用いて行なう。
こうして読出しは、メモリセルからデータ線への読出し
信号を直接検出回路で高速に読出し、また書込みは、デ
ータ線と共通データ線とを1個のM2S)ランジスタを
介して接続するので、誤動作もなく高速に書込みを行な
うことができる。
信号を直接検出回路で高速に読出し、また書込みは、デ
ータ線と共通データ線とを1個のM2S)ランジスタを
介して接続するので、誤動作もなく高速に書込みを行な
うことができる。
以下、本発明を実施例を用いて詳しく説明する。
第1図は本発明の概念を示す一実施例である。1はスタ
ティック形又はダイナミック形のメモリセルを示す。メ
モリセル1が接続されたデータ線DL、DLには読出し
、書込み用回路ブロック3が接続される。このブロック
3の中の回路2は読出し用検出回路であり、MlとMl
は書込み時にデータ線DL、DLと共通データ線CD、
CDとを電気的に接続するものである。
ティック形又はダイナミック形のメモリセルを示す。メ
モリセル1が接続されたデータ線DL、DLには読出し
、書込み用回路ブロック3が接続される。このブロック
3の中の回路2は読出し用検出回路であり、MlとMl
は書込み時にデータ線DL、DLと共通データ線CD、
CDとを電気的に接続するものである。
本発明では列選択信号として読出し用にYSR1書込み
用にYSWと2種類設け、前者で読出し用検出回路2を
制御し、後者で書込み用トランジスタMl 、Mlを制
御する。いまワード線WLの電位により、このメモリセ
ル1が選択されたと仮定すると、データ線DL、DLに
はメモリセルの情報が現われる。読出し時には列選択信
号YSRが選択列の読出し用検出回路を動作させ、その
出力SOを後段回路に送る。書込み用の列選択信号YS
Wは読出し時には低電位のままであり、データ線と共通
データ線は絶縁されている。一方書込み時においては選
択された列の列選択信号線YSsVを高電位とし、Ml
とMlを導通させ、共通データ線からデータ線に所望
の書込み信号全速る。なお書込み時における読出し用の
選択信号線YSRの電位については高電位、低電位のい
ずれでも良い。書込み時に回路2を動作させなければこ
の分だけ消費電力を減少させることができる。本回路の
構成により、スタティックメモリ又はダイナミックメモ
リにおいて、読出しはメモリセルからデータ線に読出さ
れた信号を、回路2で直接検出するので高速であり、ま
た書込みは、1個のMOSトランジスタのみでデータ線
と共通データ線とを接続するので高速に書込みを行なう
ことができる。
用にYSWと2種類設け、前者で読出し用検出回路2を
制御し、後者で書込み用トランジスタMl 、Mlを制
御する。いまワード線WLの電位により、このメモリセ
ル1が選択されたと仮定すると、データ線DL、DLに
はメモリセルの情報が現われる。読出し時には列選択信
号YSRが選択列の読出し用検出回路を動作させ、その
出力SOを後段回路に送る。書込み用の列選択信号YS
Wは読出し時には低電位のままであり、データ線と共通
データ線は絶縁されている。一方書込み時においては選
択された列の列選択信号線YSsVを高電位とし、Ml
とMlを導通させ、共通データ線からデータ線に所望
の書込み信号全速る。なお書込み時における読出し用の
選択信号線YSRの電位については高電位、低電位のい
ずれでも良い。書込み時に回路2を動作させなければこ
の分だけ消費電力を減少させることができる。本回路の
構成により、スタティックメモリ又はダイナミックメモ
リにおいて、読出しはメモリセルからデータ線に読出さ
れた信号を、回路2で直接検出するので高速であり、ま
た書込みは、1個のMOSトランジスタのみでデータ線
と共通データ線とを接続するので高速に書込みを行なう
ことができる。
また第2図で述べた様なダイナミックメモリでの残留電
荷による読出し時の誤動作の恐れもない。
荷による読出し時の誤動作の恐れもない。
第3図は、第1図をさらに具体化した第2の実施例であ
る。この図ではメモリセルは省略している。読出し、書
込み用回路ブロック3のうち、読出し用検出回路2は第
1図をさらに具体化してMOS差動アンプで構成してい
る。また曹込み用トランジスタM1+ Mlは第1図と
同じ構成である。読出し用検出回路2ではMOS)ラン
ジスタによる電流源を列選択信号線YSの信号で制御す
る。また書込み時には書込み制御信号線WCの信号とY
Sの信号で論理をとり、書込み用の列選択信号線YSW
は選択列で、かつWCの信号が高電位の時に高電位とな
り、書込み用トランジスタM1.Mx ’cオンさせる
。本回路の動作により前記した様に読出しと書込みを共
に高速化することができる。なおWCとYSからYSW
を発生するための論理回路は本図の様に2人力NAND
回路とインバータの2段構成をとるものの他に種々の構
成が可能である。また書込み制御信号線WCが低電位の
時に書込みを行なう様な論理構成をとることもできる。
る。この図ではメモリセルは省略している。読出し、書
込み用回路ブロック3のうち、読出し用検出回路2は第
1図をさらに具体化してMOS差動アンプで構成してい
る。また曹込み用トランジスタM1+ Mlは第1図と
同じ構成である。読出し用検出回路2ではMOS)ラン
ジスタによる電流源を列選択信号線YSの信号で制御す
る。また書込み時には書込み制御信号線WCの信号とY
Sの信号で論理をとり、書込み用の列選択信号線YSW
は選択列で、かつWCの信号が高電位の時に高電位とな
り、書込み用トランジスタM1.Mx ’cオンさせる
。本回路の動作により前記した様に読出しと書込みを共
に高速化することができる。なおWCとYSからYSW
を発生するための論理回路は本図の様に2人力NAND
回路とインバータの2段構成をとるものの他に種々の構
成が可能である。また書込み制御信号線WCが低電位の
時に書込みを行なう様な論理構成をとることもできる。
さらにこれらの論理回路はMOsトランジスタによる回
路だけでなく、いわゆるバイポーラ−MOS複合回路を
用いることによシ、さらに高速化の効果全発揮すること
ができる。
路だけでなく、いわゆるバイポーラ−MOS複合回路を
用いることによシ、さらに高速化の効果全発揮すること
ができる。
第4図は、読出し用検出回路2にバイポーラトランジス
タの差動アンプを用いた実施例である。
タの差動アンプを用いた実施例である。
本図では列選択信号線YSR,YSWは読出し時にはY
SR,が高電位、YSWが低電位、書込み時にばY S
wが高電位、YSRが低電位と々る様に論理構成をと
っている。バイポーラトランジスタによるアンプは高感
度であるので、データ線の微小な電位差を高速に検出し
後段回路に送ることができるので、第3図に比べさらに
読出しを高速化することができる。また書込み時にはY
SRを選択列でも非選択列と同時に低電位とするので、
バイポーラアンプはオフのままである。したがって書込
み時に共通データ線からデータ、線へ高振幅信号が転送
されてもバイポーラトランジスタが飽和することはない
。
SR,が高電位、YSWが低電位、書込み時にばY S
wが高電位、YSRが低電位と々る様に論理構成をと
っている。バイポーラトランジスタによるアンプは高感
度であるので、データ線の微小な電位差を高速に検出し
後段回路に送ることができるので、第3図に比べさらに
読出しを高速化することができる。また書込み時にはY
SRを選択列でも非選択列と同時に低電位とするので、
バイポーラアンプはオフのままである。したがって書込
み時に共通データ線からデータ、線へ高振幅信号が転送
されてもバイポーラトランジスタが飽和することはない
。
第5図は本発明の第4の実施例であり、書込み用列選択
信号線YSWの信号発生方法シで特徴がある。第3図の
実施例で述べた2人力NAND回路とインバータの2段
構成と同じ機能を2個の、〜IOSトランジスタM5
、M6だけで実現したものである。Hs 、Hsのゲー
トを書込み制御信号線WC9WCの信号で制御する。読
出し時にはVvCを低電位、WCを高電位とすることに
より、書込み制御用列選択信号線YSWを低電位にする
。こうして選択列では列選択信号線Y8を高電位、YS
Wを低電位にするので、読出し用検出回路2に電流が流
れ、Ml とMzは非導通である。一方書込み時にはW
Cを高電位、WCを低電位とすることによりMBがオン
、M6がオフとなりYSWはYSと同電位になる。従っ
て選択列ではYSとYSWは共に高電位とな9、読出し
用噴出回路2をオンさせると同時に、書込み用トランジ
スタM1.M2をオンさせ、共通データ線からデータ線
に書込みデータを転送する。この回路の利点は、前記の
実施例と同様に、読出しと書込みを高速に行なえると共
に、さらに占有面積を減少できる利点がある。
信号線YSWの信号発生方法シで特徴がある。第3図の
実施例で述べた2人力NAND回路とインバータの2段
構成と同じ機能を2個の、〜IOSトランジスタM5
、M6だけで実現したものである。Hs 、Hsのゲー
トを書込み制御信号線WC9WCの信号で制御する。読
出し時にはVvCを低電位、WCを高電位とすることに
より、書込み制御用列選択信号線YSWを低電位にする
。こうして選択列では列選択信号線Y8を高電位、YS
Wを低電位にするので、読出し用検出回路2に電流が流
れ、Ml とMzは非導通である。一方書込み時にはW
Cを高電位、WCを低電位とすることによりMBがオン
、M6がオフとなりYSWはYSと同電位になる。従っ
て選択列ではYSとYSWは共に高電位とな9、読出し
用噴出回路2をオンさせると同時に、書込み用トランジ
スタM1.M2をオンさせ、共通データ線からデータ線
に書込みデータを転送する。この回路の利点は、前記の
実施例と同様に、読出しと書込みを高速に行なえると共
に、さらに占有面積を減少できる利点がある。
すなわち第3図の構成で述べfc2段のインバータと同
じ機能を、第5図では2個のMOSトランジスタだけで
実現している。さらにデータ線と平行に配置する配線は
1本のYSだけで良いので、小さなメモリセル寸法のま
ま、列選択線を配置できる。これは後述する様々メモリ
セルアレーを分割して、複数の読出し、書込みブロック
を同一の列選択線で制御するのに好適である。
じ機能を、第5図では2個のMOSトランジスタだけで
実現している。さらにデータ線と平行に配置する配線は
1本のYSだけで良いので、小さなメモリセル寸法のま
ま、列選択線を配置できる。これは後述する様々メモリ
セルアレーを分割して、複数の読出し、書込みブロック
を同一の列選択線で制御するのに好適である。
第6図の実施例は1組の列選択信号線で複数のデータ線
対を制御するものである。すなわち第3図の回路が1デ
ータ線対毎に2本の列選択信号線ys4swを持つのに
対し、第6図でば2データ線対毎に1組の列選択信号線
YS、YSWを有する。読出し用検出回路2は2組のM
O8差動アンプを共通のMO8電流源M7で駆動する。
対を制御するものである。すなわち第3図の回路が1デ
ータ線対毎に2本の列選択信号線ys4swを持つのに
対し、第6図でば2データ線対毎に1組の列選択信号線
YS、YSWを有する。読出し用検出回路2は2組のM
O8差動アンプを共通のMO8電流源M7で駆動する。
2組の出力SO1,Sotと802 、SO2は後段回
路で1組のみを用いても良いし、このまま2ピツトの出
力に取り出しても良い。2データ線対の書込み用トラン
ジスタM1t + Mz lとMl21 Mz zは共
通の列選択信号YSWで原動する。
路で1組のみを用いても良いし、このまま2ピツトの出
力に取り出しても良い。2データ線対の書込み用トラン
ジスタM1t + Mz lとMl21 Mz zは共
通の列選択信号YSWで原動する。
書込み時には、2データ線対の書込み用MOSトランジ
スタMtte Mill Mlxe Mxzが同時に導
通する。したがって2組の共通データ線対CDl。
スタMtte Mill Mlxe Mxzが同時に導
通する。したがって2組の共通データ線対CDl。
CD1とCDz 、 CDzから2組のデータ線対転送
するので、2ビツトを独立に書込むことができる。仮に
1ビツトのみに書込みたい場合は、2組の共通データ1
対の1方に書込みデータ金、他方はフローティング状態
とする様に、前段回路をアドレス信号を用いて制御すれ
ば良い。なお本実施例でd 2 +fiのデータ線対を
まとめて1本の列選択信号で制御したが、3組以上のデ
ータ線対以上にも容易に拡張できる。
するので、2ビツトを独立に書込むことができる。仮に
1ビツトのみに書込みたい場合は、2組の共通データ1
対の1方に書込みデータ金、他方はフローティング状態
とする様に、前段回路をアドレス信号を用いて制御すれ
ば良い。なお本実施例でd 2 +fiのデータ線対を
まとめて1本の列選択信号で制御したが、3組以上のデ
ータ線対以上にも容易に拡張できる。
第7図の実施例は、第5図の実施例に対し、2組のデー
タ線対に共通の列選択信号YSR,YSWを用いている
。ここで読出し用検出回路2は第6図と同様に2組のM
O8差動アンプを共通のMO8電流源M7で、駆動して
いる。YSにより選択された2組のデータ線対のうちD
Lt 、DLtの信号はセンス出力SO1,SChに現
われ、またDL2゜D L 2の信号はSOx、SO2
に現われ、各々後段回路に送ら、する。また、書込み用
列選択信号Y S ’wVは2組のデータ線対の書込み
用MOSトランジスタM1r 、 Mz 1とMl21
Mz zを共通に制御する。2組の共通データ線対と
2組のデータ線対とを同時にオンさせる。以上に述べた
2組の検出出力801 、SOtとSOx 、 Sox
、2組の書込み用共通データ線対CD1.CDt と
CD2゜CD zの入力は、前記した様に各々1組のみ
を有効としても良いし、両者を用いて多ビットの入。
タ線対に共通の列選択信号YSR,YSWを用いている
。ここで読出し用検出回路2は第6図と同様に2組のM
O8差動アンプを共通のMO8電流源M7で、駆動して
いる。YSにより選択された2組のデータ線対のうちD
Lt 、DLtの信号はセンス出力SO1,SChに現
われ、またDL2゜D L 2の信号はSOx、SO2
に現われ、各々後段回路に送ら、する。また、書込み用
列選択信号Y S ’wVは2組のデータ線対の書込み
用MOSトランジスタM1r 、 Mz 1とMl21
Mz zを共通に制御する。2組の共通データ線対と
2組のデータ線対とを同時にオンさせる。以上に述べた
2組の検出出力801 、SOtとSOx 、 Sox
、2組の書込み用共通データ線対CD1.CDt と
CD2゜CD zの入力は、前記した様に各々1組のみ
を有効としても良いし、両者を用いて多ビットの入。
出力構成の牛導体記憶、装置とすることもできる。
この第6図の構成は第4図の実施例に比べ読出し。
書込みブロック3の占有面積を低減することができる。
なぜなら、2組のデータ線対に対し、1本の列選択線で
制御し、読出し検出回路2の定電流源を1個のMOSト
ランジスタで共有し、書込み用の列選択言号YSWを2
閣のMOSトランジスタで構成できるからである。特に
1本の列選択線Y8だけをデータ線と平行に配置すれば
良いので、後に述べるメモリセルアレーを多分割構成に
した時に、占有面積の点で特に有利である。本実施例も
また前実施例と同様に読出しと畳込みを高速化すること
ができる。
制御し、読出し検出回路2の定電流源を1個のMOSト
ランジスタで共有し、書込み用の列選択言号YSWを2
閣のMOSトランジスタで構成できるからである。特に
1本の列選択線Y8だけをデータ線と平行に配置すれば
良いので、後に述べるメモリセルアレーを多分割構成に
した時に、占有面積の点で特に有利である。本実施例も
また前実施例と同様に読出しと畳込みを高速化すること
ができる。
以上の実施例ではメモリチルはスタティック形かダイナ
ミック形かの限定はしなかったが、次に第5図の実施例
をダイナミック形メモリセルに適用し、さらにダイナミ
ックメモリに特有の回路を付加した実施例を第7図に示
す。1は静電容量に電荷を蓄積するダイナミック形メモ
リセルであり、本図では1トランジスタ、1キヤパシタ
より成るセルを示す。5はプリチャージ回路であり、メ
モリセルを選択する前に、予めデータ線DL、DLの電
位を電圧供給線HVCの電位に等しくとっておく回路で
ある。また回路6はセンス増幅器である。交差結合され
たCHO8回路の駆動信号線5AP(!:SANの電位
を変化させ、メモリセルからデータ線に読み出された微
小な電位差を増幅し、メモリセルに再書込みを行なうも
のである。本発明では読出し用の検出回路2を設けるこ
とにより、回路6か動作しデータ線の電位が増幅される
以前にデータ線の電位差を検出し、センス出力5O9S
Oに電位差を得ることができる。一般に駆動信号線SA
P、SANは多数の回路6および多数のデータ線対t−
駆動するので応答が遅く、そのためデータ線電位の回路
611′?:よる増幅も遅れる。しかし読出し用検出回
路2の動作により、読出しは充分に高速に行なうことが
できる。また書込みも第4図と同一の構成で充分て高速
て行なうことができる。
ミック形かの限定はしなかったが、次に第5図の実施例
をダイナミック形メモリセルに適用し、さらにダイナミ
ックメモリに特有の回路を付加した実施例を第7図に示
す。1は静電容量に電荷を蓄積するダイナミック形メモ
リセルであり、本図では1トランジスタ、1キヤパシタ
より成るセルを示す。5はプリチャージ回路であり、メ
モリセルを選択する前に、予めデータ線DL、DLの電
位を電圧供給線HVCの電位に等しくとっておく回路で
ある。また回路6はセンス増幅器である。交差結合され
たCHO8回路の駆動信号線5AP(!:SANの電位
を変化させ、メモリセルからデータ線に読み出された微
小な電位差を増幅し、メモリセルに再書込みを行なうも
のである。本発明では読出し用の検出回路2を設けるこ
とにより、回路6か動作しデータ線の電位が増幅される
以前にデータ線の電位差を検出し、センス出力5O9S
Oに電位差を得ることができる。一般に駆動信号線SA
P、SANは多数の回路6および多数のデータ線対t−
駆動するので応答が遅く、そのためデータ線電位の回路
611′?:よる増幅も遅れる。しかし読出し用検出回
路2の動作により、読出しは充分に高速に行なうことが
できる。また書込みも第4図と同一の構成で充分て高速
て行なうことができる。
以上に述べてきた実施例ではメモリセルアレーの分割、
非分割については言及してこなかった。
非分割については言及してこなかった。
一般にメモリが犬容1化すると、データ線に接続される
メモリセルの数が増大しデータ線につく寄生容量が増大
する。この結果、速度の劣化やS/N比の低下が生じる
恐れがある。これを防止するため、メモリセルアレーを
多数つサブアレーに分割し、各サブアレー内で読出しと
書込みを行なう、いわゆる多分割データ線方式が提案さ
れている。
メモリセルの数が増大しデータ線につく寄生容量が増大
する。この結果、速度の劣化やS/N比の低下が生じる
恐れがある。これを防止するため、メモリセルアレーを
多数つサブアレーに分割し、各サブアレー内で読出しと
書込みを行なう、いわゆる多分割データ線方式が提案さ
れている。
(空研≠26056 r半導体メモリ装置」)この構成
にも、本発明を適用し読出しと書込みの高速化を図るこ
とができる。第9図は第8図のダイナミックメモリ回路
を多分割データ線方式に適用したものであるつこの図で
21.22,23.24は各サブアレーで、この中だ第
8図で示したメモリセルのサブアレー11とプリチャー
ジ回路5、センス増幅4石、読出し用検出回路2、書込
み用回路4を有する。回路ブロック7は列選択用のデコ
ーダ回路である。多分割データ線方式の採用により大容
量メモリにおいてもデータ線の寄生容量の増大?おさえ
ることができるので、本発明の効果と相乗して、高速の
読出し、書込みができる。この構成では1組のデータ線
対毎に1本のYS線をデータ線と平行に配線し、分割ア
レーの読出し。
にも、本発明を適用し読出しと書込みの高速化を図るこ
とができる。第9図は第8図のダイナミックメモリ回路
を多分割データ線方式に適用したものであるつこの図で
21.22,23.24は各サブアレーで、この中だ第
8図で示したメモリセルのサブアレー11とプリチャー
ジ回路5、センス増幅4石、読出し用検出回路2、書込
み用回路4を有する。回路ブロック7は列選択用のデコ
ーダ回路である。多分割データ線方式の採用により大容
量メモリにおいてもデータ線の寄生容量の増大?おさえ
ることができるので、本発明の効果と相乗して、高速の
読出し、書込みができる。この構成では1組のデータ線
対毎に1本のYS線をデータ線と平行に配線し、分割ア
レーの読出し。
書込み回路を制御する。書込み用の列選択信号は第5図
と同様に各サブアレー内部で作るので、YS線は1本で
良く、小恣なメモリセルの寸法にも対処できる。また第
6図の様に1本のYS線で2組以上のデータ線対を共通
に4駆動し、さらに占有面積を減らすこともできる。こ
の様な多分割データ線方式と本発明の組合わせはダイナ
ミックメモリだけで々く、スタティックメモリにも適用
し、読出しと書込みの高速化を図ることができる。
と同様に各サブアレー内部で作るので、YS線は1本で
良く、小恣なメモリセルの寸法にも対処できる。また第
6図の様に1本のYS線で2組以上のデータ線対を共通
に4駆動し、さらに占有面積を減らすこともできる。こ
の様な多分割データ線方式と本発明の組合わせはダイナ
ミックメモリだけで々く、スタティックメモリにも適用
し、読出しと書込みの高速化を図ることができる。
以上述べてきた様に、本発明ではメモリセルが接続され
たデータ線に読出し用検出回路と1個の書込み用トラン
ジスタを設ける。そして読出し用検出回路と書込み用ト
ランジスタを別々の列選択信号で%i(制御する。こう
して書込み動作の高速化。
たデータ線に読出し用検出回路と1個の書込み用トラン
ジスタを設ける。そして読出し用検出回路と書込み用ト
ランジスタを別々の列選択信号で%i(制御する。こう
して書込み動作の高速化。
安定化と読出し動作の高速化と全同時に達成することが
できる。
できる。
第1図は本発明の概念を示す第1の実施例、第2図は従
来回路、第3図は本発明の第2の実施例、第4図は本発
明の第3の実施例、第5図は本発明の第4の実施例、第
6図は本発明の第5の実施列、第7図は本発明の第6の
実施例、第8図は本発明の第7の実施例、第9図は本発
明の第8の実施例を示す図である。 1・・・メモリセル、11・・・メモリセルアレー、2
・・・読出し用検出回路、3・・・読出し、書込み回路
ブロック、4・・・書込み用回路、WL・・・ワード線
、DL。 D L・・・データ線、CD、CD・・・共通データ線
。 so、so・・・センス出力線、YS几・・・読出し用
列選択信号線、Y3\V・・・書込み用列選択信号線、
YS・・・列選択信号線、〜■C・・・1込みさ+制御
心。 第 1 図 75RYSW 笑 2図 DL DL 葛 3 図 S 昇 4 図 S 竿 5 図 了δ 算 6図 了5 謔 7 図 Y、S 茎 81XJ
来回路、第3図は本発明の第2の実施例、第4図は本発
明の第3の実施例、第5図は本発明の第4の実施例、第
6図は本発明の第5の実施列、第7図は本発明の第6の
実施例、第8図は本発明の第7の実施例、第9図は本発
明の第8の実施例を示す図である。 1・・・メモリセル、11・・・メモリセルアレー、2
・・・読出し用検出回路、3・・・読出し、書込み回路
ブロック、4・・・書込み用回路、WL・・・ワード線
、DL。 D L・・・データ線、CD、CD・・・共通データ線
。 so、so・・・センス出力線、YS几・・・読出し用
列選択信号線、Y3\V・・・書込み用列選択信号線、
YS・・・列選択信号線、〜■C・・・1込みさ+制御
心。 第 1 図 75RYSW 笑 2図 DL DL 葛 3 図 S 昇 4 図 S 竿 5 図 了δ 算 6図 了5 謔 7 図 Y、S 茎 81XJ
Claims (1)
- 1、メモリセルと、複数のメモリセルが接続されたデー
タ線対と、複数のデータ線対毎に設けた共通データ線対
と、各データ線対毎に設けた読出用検出回路と、共通デ
ータ線対からデータ線対への書込みデータを転送する転
送回路を有する半導体記憶装置において、前記読出用検
出回路を制御する列選択信号と、前記書込用転送回路を
制御する列選択信号とを、分離して設けることを特徴と
する半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61207940A JPS6364690A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61207940A JPS6364690A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6364690A true JPS6364690A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16548056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61207940A Pending JPS6364690A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6364690A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03154287A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-02 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US5118921A (en) * | 1990-04-16 | 1992-06-02 | Jidosha Kiki Co., Ltd. | Metallic sheath heater with improved electrical connection between coil and sheath and method of manufacture thereof |
JPH05120876A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP61207940A patent/JPS6364690A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03154287A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-02 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US5118921A (en) * | 1990-04-16 | 1992-06-02 | Jidosha Kiki Co., Ltd. | Metallic sheath heater with improved electrical connection between coil and sheath and method of manufacture thereof |
JPH05120876A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
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