CN115104047B - 红外线遮蔽膜及红外线遮蔽材 - Google Patents
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Abstract
红外线遮蔽膜(10)由有机粘合剂(11)与分散于有机粘合剂(11)中的多个ITO粒子(锡掺杂氧化铟粒子)(12)所形成,关于ITO粒子(12),相邻的粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,相邻的粒子间的平均中心间距相对于ITO粒子(12)的平均一次粒径的比在1.05以上且1.20以下的范围内,膜表面的粗糙度Ra在4nm以上且50nm以下的范围内。
Description
技术领域
本发明涉及一种红外线遮蔽膜,及具有该红外线遮蔽膜的红外线遮蔽材。
本申请基于2020年2月17日在日本申请的专利申请2020-024160号主张优先权,并将其内容援用于此。
背景技术
关于使用于汽车或建筑物的窗玻璃等的透明基体,一般而言,容易使成为热源的红外线透射。因此,正在研究在汽车或建筑物上,将红外线遮蔽材配置于透明基体来遮蔽照射至透明基体的光线中的红外线,以减轻汽车或建筑物的内部的温度上升与随着该温度上升造成的冷气负担。
作为红外线遮蔽膜,已知有含有凝集粒子及将所述凝集粒子彼此粘合的粘合剂固化物的红外线遮蔽膜,该凝集粒子通过多个以ITO(氧化铟锡)粒子作为核的单一的核壳粒子凝集而成(专利文献1)。
专利文献1:日本特开2019-066839号公报(A)
在专利文献1所公开的红外线遮蔽膜中,核壳粒子会形成凝集粒子,因此作为核的ITO粒子彼此之间通过壳形成规定间隔。通过形成该间隔,被红外线激发所产生的ITO粒子的表面等离子体激元的电场会因为近场效应而增强。因此,专利文献1所公开的红外线遮蔽膜,通过ITO粒子的表面等离子体激元的共振,能够有效地将所照射的红外线反射。
另一方面,关于在使用于汽车或建筑物的窗玻璃中所使用的红外线遮蔽膜,优选可见光的透射性优异。然而,关于专利文献1所记载的红外线遮蔽膜,因为核壳粒子的凝集粒子与粘合剂固化物的折射率之差,可见光发生散射,由此会有雾度变高、可见光透射性变低的倾向。
发明内容
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种雾度小、对红外线的反射率高的红外线遮蔽膜及红外线遮蔽材。
为了解决上述课题,本发明的一方式的红外线遮蔽膜(以下称为“本发明的红外线遮蔽膜”),其由有机粘合剂与分散于所述有机粘合剂中的多个ITO粒子(锡掺杂氧化铟粒子)所形成,其特征在于:关于所述ITO粒子,相邻的粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,所述相邻的粒子间的平均中心间距相对于所述锡掺杂氧化铟粒子的平均一次粒径的比在1.05以上且1.20以下的范围内,膜表面的粗糙度Ra在4nm以上且50nm以下的范围内。
根据本发明的红外线遮蔽膜,以相邻的ITO粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,相邻的ITO粒子间的平均中心间距相对于ITO粒子的平均一次粒径的比在1.05以上且1.20以下的范围内的方式,ITO粒子间隔分散,因此对红外线的反射率变高。并且,膜表面的粗糙度Ra设为4nm以上,在膜表面的附近会分散有多个ITO粒子,因此红外线的反射率变高。此外,膜表面的粗糙度Ra设为50nm以下,因此在膜表面不易发生可见光的散射,雾度变小。
此处,在本发明的红外线遮蔽膜中,优选所述ITO粒子的平均一次粒径在8nm以上且30nm以下的范围内。
在该情况下,ITO粒子的平均一次粒径在上述范围,是微细的,因此可见光的散射更不易发生,从而红外线遮蔽膜的雾度会变得更小。此外,在ITO粒子表面容易产生表面等离子体激元,因此红外线遮蔽膜对红外线的反射率更加提高。
本发明的其他方式的红外线遮蔽材(以下称为“本发明的红外线遮蔽材”)具有上述红外线遮蔽膜。
根据本发明的红外线遮蔽材,由于具有上述红外线遮蔽膜,因此能够减小雾度,并且对于红外线具有高反射率。
根据本发明,可提供一种雾度小、对红外线的反射率高的红外线遮蔽膜及红外线遮蔽材。
附图说明
图1为本发明的一实施方式所涉及的红外线遮蔽膜的概略剖视图。
图2为本发明的一实施方式所涉及的红外线遮蔽材的概略剖视图。
具体实施方式
以下,参考附图对本发明的实施方式进行说明。
<红外线遮蔽膜>
图1为本发明的一实施方式所涉及的红外线遮蔽膜的概略剖视图。
如图1所示,红外线遮蔽膜10由有机粘合剂11与分散于有机粘合剂11的多个ITO粒子12所形成。ITO粒子12主要是以一次粒子的状态来分散。
有机粘合剂11优选为具备对ITO粒子12具有亲和性的基团的有机化合物。有机粘合剂11优选通过具有亲和性的基团与ITO粒子12接触。ITO粒子12优选被有机粘合剂11包覆。通过被有机粘合剂11包覆,ITO粒子12的粒子间距容易保持一定的间隔。作为对ITO粒子12具有亲和性的基团,能够列举腈基(-CN)、酯基(-CO-OR1)。酯基的R1表示氢原子、碳原子数在1~20的范围内的烷基、碳原子数在6~20的范围内的芳基及碳原子数在7~20的范围内的芳烷基。对ITO粒子12具有亲和性的基团优选为腈基。
有机粘合剂11优选为末端具备对ITO粒子12具有亲和性的基团的烃化合物。烃化合物可以为不饱和烃化合物,也可以为饱和烃化合物。并且,烃化合物可以为链状烃化合物,也可以为环状烃化合物。作为链状烃化合物,能够使用烷(CnH2n+2)、烯(CnH2n)、炔(CnH2n-2)。作为环状烃化合物,能够使用环烷(CnH2n)、环烯(CnH2n-2)、环炔(CnH2n-4)、芳烃化合物(苯、萘)。烃化合物的碳原子数优选在8~20的范围内。烃化合物优选为烷、烯。
有机粘合剂11的沸点优选为120℃以上。
作为具有腈基的有机粘合剂11的例子,能够列举(Z)-4-辛烯腈、(Z)-5-辛烯腈、(Z)-5-壬烯腈、(Z)-6-十一烯腈、(Z)-9-十一烯腈、(Z)-9-十八烯腈、(Z)-9-癸烯腈、(Z)-11-十二烯腈、(Z)-2-十三烯腈、(Z)-9-十四烯腈、(Z)-2-十五烯腈、(E)-8-十七烯腈、(Z)-9-十六烯腈、(Z)-11-十九烯腈、(Z)-11-二十烯腈、辛腈、壬腈、癸腈、十一腈、十二腈、十三腈、十四腈、十五腈、十六腈、十七腈、十八腈、十九腈、二十腈。作为具有酯基的有机粘合剂11的例子,能够列举辛酸、羊脂酸、壬酸、癸酸、十二酸、十四酸、棕榈酸、硬脂酸。有机粘合剂11可以单独使用一种,也可以将两种以上组合使用。
ITO粒子12是以相邻的ITO粒子间的平均中心间距在9nm以上36nm以下的范围内的方式来分散。如图1所示,平均中心间距是测量对象ITO粒子12的中心与在距该ITO粒子12最近的位置的ITO粒子12的中心的距离L的平均值。关于ITO粒子间的距离L,能够使用红外线遮蔽膜10的截面(使用离子研磨装置(Hitachi High-Tech Corporation制的IM4000PLUS或ArBlade5000(注册商标))切削出截面的截面照片)的放大照片(使用扫描式电子显微镜观察红外线遮蔽膜10的截面(倍率:200000~400000倍,(1个视场中拍摄到50个以上的粒子的)图像的放大图)来测量。距离L的平均值是取50个ITO粒子12所测得的ITO粒子间的距离的平均值。
关于ITO粒子12,相邻的ITO粒子间的平均中心间距Y相对于平均一次粒径X的比Y/X设为1.05以上且1.20以下的范围内。通过使ITO粒子12分散为相邻的ITO粒子间的平均中心间距及Y/X比在上述范围内,ITO粒子12被红外线激发所生成的表面等离子体激元的电场会因为近场效应而增强。因此,红外线遮蔽膜10的红外线反射率变高。相邻的ITO粒子间的平均中心间距若小于9nm或Y/X比小于1.05,则ITO粒子12间的间隔变得过于狭窄,表面等离子体激元的电场不易增强,红外线遮蔽膜10的红外线反射率可能降低。并且,ITO粒子12间的间隔若变得过于狭窄,则会有红外线遮蔽膜10的表面粗糙度Ra变得过大的倾向。另一方面,相邻的ITO粒子间的平均中心间距若超过36nm或Y/X比超过1.20,则ITO粒子12间的间隔变得过宽,表面等离子体激元不易产生,红外线遮蔽膜10的红外线反射率可能降低。并且,ITO粒子12间的间隔若变得过宽,则会有红外线遮蔽膜10的表面粗糙度Ra变得过小的倾向。
上述Y/X比的上限值没有特别的限定,也可以设为1.15。并且,也可以将相邻的ITO粒子间的平均中心间距设为34.5nm以下。
ITO粒子12的平均一次粒径优选在8nm以上且30nm以下的范围内。ITO粒子12的平均一次粒径若在上述范围内,则ITO粒子12的分散性高,可使ITO粒子12在有机粘合剂11中均匀分散。因此,红外线遮蔽膜10的红外线反射率进一步提高。
ITO粒子12的平均一次粒径没有特别的限定,也可以设在10nm以上且25nm以下的范围内。此时的ITO粒子间的平均中心间距优选为10.5nm以上且30nm以下。
红外线遮蔽膜10的膜表面的粗糙度Ra设在4nm以上且50nm以下的范围内。在红外线遮蔽膜10为自支撑膜的情况下,膜表面的粗糙度Ra是两侧表面的粗糙度Ra的平均值。在红外线遮蔽膜10成膜于基板上的情况下,膜表面的粗糙度Ra是与基板侧相反的一侧的膜表面的粗糙度Ra。关于膜表面的粗糙度Ra,能够通过减少红外线遮蔽膜10的膜表面侧的ITO粒子12的量来降低。膜表面的粗糙度Ra若小于4nm,则ITO粒子12的量变得过少,表面等离子体激元不易产生,红外线遮蔽膜10的红外线反射率可能降低。另一方面,膜表面的粗糙度Ra若超过50nm,则ITO粒子12的量变得过多,可能容易起雾。
红外线遮蔽膜10的膜表面的粗糙度Ra没有特别的限定,也可以设在5nm以上且40nm以下的范围内。
红外线遮蔽膜10的膜表面的粗糙度Ra,能够通过使用图像分析软件来分析上述膜的剖面图像,提取膜的与玻璃基板相反侧的表面的表面粗糙度线,对于所得到的表面粗糙度线使用图像处理软件进行图像分析,计算出表面粗糙度线的从最高的峰顶至第5个峰为止的峰高度的绝对值的平均值与从最低的谷底至第5个谷为止的谷底的绝对值的平均值的和而得到。
在红外线遮蔽膜10中,有机粘合剂11与ITO粒子12的含量的比例并无特别限制,优选为将ITO粒子12设为100质量份时,有机粘合剂11的含量在5质量份以上且30质量份以下的范围内。
接下来针对本实施方式的红外线遮蔽膜的成膜方法进行说明。
关于本实施方式的红外线遮蔽膜,例如能够通过制备出包含带有有机粘合剂的ITO粒子的涂布液,然后将所得到的涂布液涂布于基板上,并且进行干燥而成膜。
ITO粒子能够使用例如以下方法来制作:将In的脂肪酸盐与Sn的脂肪酸盐在有机溶剂的存在下搅拌的同时加热,使In的脂肪酸盐与Sn的脂肪酸盐反应。使用In的脂肪酸盐与Sn的脂肪酸盐所制作出的ITO粒子的表面会被来自脂肪酸盐的有机保护基团包覆,因此不易形成凝集粒子。因此,容易得到ITO粒子以一次粒子的状态分散的红外线遮蔽膜。
In的脂肪酸盐及Sn的脂肪酸盐的脂肪酸优选为饱和脂肪酸。脂肪酸优选为直链脂肪酸或支链脂肪酸。脂肪酸的碳原子数优选在5~18的范围内。作为脂肪酸的例子,能够列举己酸、辛酸、癸酸、棕榈酸、硬脂酸、新癸酸、2-乙基己酸。In的脂肪酸盐与Sn的脂肪酸盐可以为相同脂肪酸的盐,也可以为不同脂肪酸的盐。
有机溶剂优选为烃化合物。烃化合物可以为不饱和烃化合物,也可以为饱和烃化合物。并且,烃化合物可以为链状烃化合物,也可以为环状烃化合物。烃化合物的碳原子数优选在5~22的范围内。作为有机溶剂,例如能够使用正辛基醚、十八烯、正三辛胺、十二烷基胺。
将加热In的脂肪酸盐与Sn的脂肪酸盐时的温度例如在200℃以上且350℃以下的范围内。并且,加热时间例如在0.5小时以上且8小时以下的范围内。
带有有机粘合剂的ITO粒子能够通过以下方法来制作:将ITO粒子与有机粘合剂在有机溶剂中混合,来产生带有有机粘合剂的ITO粒子,然后回收有机溶剂中的带有有机粘合剂的ITO粒子。
作为有机溶剂,并无特别限制,优选使用醇、酮。作为醇的例子,能够列举甲醇、乙醇、1-丁醇、2-丁醇、己醇、2-丙醇、乙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚、甲氧基乙醇、丙二醇、二乙二醇。作为酮的例子,能够列举丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)。这些有机溶剂可以单独使用一种,也可以将两种以上组合使用。
有机粘合剂与ITO粒子的含量的掺合比例为:相对于ITO粒子100质量份,有机粘合剂的量在5质量份以上且30质量份以下的范围内。有机粘合剂与ITO粒子优选在充分搅拌之后来使用。
作为回收有机溶剂中的带有有机粘合剂的ITO粒子的方法,能够使用倾析或过滤等公知的固液分离法。
涂布液能够通过以下方法来制备:将所回收的带有有机粘合剂的ITO粒子加入涂布液用的有机溶剂中,并使其分散。
作为涂布液用的有机溶剂,能够使用醇、酮、二醇醚、二醇醚醋酸酯、烃化合物。
作为醇的例子,能够列举甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇(IPA)。作为酮的例子,能够列举丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)。作为二醇醚的例子,能够列举乙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、二丙二醇单乙醚。作为二醇醚醋酸酯的例子,能够列举乙二醇单甲醚醋酸酯、二乙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、二丙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、二乙二醇单乙醚醋酸酯、丙二醇单乙醚醋酸酯、二丙二醇单乙醚醋酸酯。作为烃化合物的例子,能够列举苯、甲苯、乙基苯、对二甲苯、环丙烷、环己烷、等环状烃化合物、正戊烷、正己烷、正庚烷、正辛烷、正十四烷、正十六烷、正十八烷等链状烃化合物。这些有机溶剂可以单独使用一种,也可以将两种以上组合使用。有机溶剂优选为烃化合物等低极性有机溶剂、或含有低极性有机溶剂与高极性有机溶剂(醇等)的混合溶剂。在有机溶剂为混合溶剂的情况下,低极性有机溶剂与高极性有机溶剂的掺合比例优选在质量比99:1~90:10(前者:后者)的范围内。
关于涂布液,优选ITO粒子以一次粒子或与其相近的状态分散于有机溶剂中。通过动态光散射式粒度分布计所测得的涂布液中的ITO粒子的平均粒径,相对于ITO粒子的平均一次粒径优选为1.3倍以下,更优选为1.2倍以下。若涂布液中的ITO粒子的平均粒径变得过大,则可能所得到的红外线遮蔽膜的膜表面的粗糙度Ra变得过大。
作为将以如上的方式所制备出的涂布液涂布于基板的方法,能够使用例如狭缝涂布机、旋转涂布机、涂抹机、刮棒涂布机等一般的涂布方法。
关于使涂布于基板的涂布液干燥时的干燥温度,只要是涂布液的有机溶剂会挥发的温度即可,例如在40℃以上且120℃以下的范围内。干燥时间根据干燥温度而有所不同,通常是在5分钟以上且120分钟以下的范围内。
<红外线遮蔽材>
图2为本发明的一实施方式所涉及的红外线遮蔽材的概略剖视图。
如图2所示,红外线遮蔽材20含有基板21、红外线遮蔽层22及外涂层23。另外,外涂层23只要根据需要设置即可,并不总是必需的。
作为基板21的材料的例子,可列举玻璃、玻璃替代树脂等。作为玻璃替代树脂的例子,可列举聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂等。基板21的形状并无特别限制,能够设为板状、片状、膜状等任意形状。
红外线遮蔽层22是反射红外线的层。红外线遮蔽层22采用上述红外线遮蔽膜10。
外涂层23具有保护红外线遮蔽层22并提高耐化学性或耐磨性的功能。作为外涂层23的材料,例如能够使用玻璃、树脂。作为树脂,能够使用聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚乙烯缩醛树脂。
外涂层23的厚度优选在1μm以上且5μm以下的范围。外涂层23的厚度若在1μm以上,则耐化学性会提高。另一方面,外涂层23的厚度若在5μm以下,则可抑制可见光的透射率的降低。
根据如上所述构成的本实施方式的红外线遮蔽膜10,以相邻的ITO粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,且相邻的ITO粒子间的平均中心间距相对于ITO粒子12的平均一次粒径的比在1.05以上且1.20以下的范围内的方式,ITO粒子12间隔分散,因此对红外线的反射率会变高。并且,膜表面的粗糙度Ra为4nm以上,在膜表面的附近分散有多个ITO粒子12,因此红外线的反射率会变高。此外,膜表面的粗糙度Ra为50nm以下,因此膜表面的可见光的散射不易发生,红外线遮蔽膜10的雾度变小。
另外,在本实施方式的红外线遮蔽膜10中,当ITO粒子12微细到平均一次粒径在8nm以上且30nm以下的范围内时,可见光的散射更不易发生,红外线遮蔽膜10的雾度会变得更小。此外,在ITO粒子表面容易产生表面等离子体激元,因此红外线遮蔽膜10对红外线的反射率更加提高。
根据本实施方式的红外线遮蔽材20,红外线遮蔽层22采用了上述红外线遮蔽膜10。因此,本实施方式的红外线遮蔽材20的雾度小,且对红外线的反射率变高。
以上,对本发明的实施方式进行了说明,但本发明并不限定于此,在不脱离本发明的技术思想的范围内,可进行适当变更。
实施例
以下,通过实施例来说明本发明的作用效果。
[本发明例1]
准备辛酸铟作为In源,辛酸锡作为Sn源。
将掺合量为以In量换算为9.0质量份的辛酸铟、以Sn量换算为1.0质量份的辛酸锡、90质量份的1-十八烯投入玻璃容器中,并进行混合。将所得到的混合物进行搅拌,并且在氮气氛中加热至300℃,在该温度下保持3小时,产生粒子表面经过有机保护基团修饰的ITO粒子。
通过倾析来回收所产生的ITO粒子。使用乙醇将所回收的ITO粒子清洗数次。
使清洗后的ITO粒子分散于乙醇而制成浆料。在所得到的浆料中,以相对于浆料中的ITO粒子100质量份为5质量份的量来添加(Z)-9-十八烯腈作为有机粘合剂之后,进行搅拌。然后,通过过滤,回收了表面吸附了(Z)-9-十八烯腈的带有(Z)-9-十八烯腈的ITO粒子。
制备出含有1-丁醇与甲苯(其中,1-丁醇与甲苯以质量比计为5:95的比例(前者:后者))的有机溶剂。使带有(Z)-9-十八烯腈的ITO粒子分散于该有机溶剂中,从而得到涂布液(带有(Z)-9-十八烯腈的ITO粒子的分散液)。涂布液中的固体成分浓度设为10质量%。
在玻璃基板(尺寸;长50mm×宽50mm×厚0.7mm)上滴加0.2mL所得到的涂布液,在转速2000rpm的条件下,通过旋转涂布来进行涂布。接下来,将玻璃基板在120℃加热、干燥,从而在玻璃基板上形成ITO粒子膜。
[本发明例2~10及比较例1~3]
除了依照下述表1所示的掺合比例来掺合下述表1所记载的脂肪酸盐作为In源及Sn源,制作出ITO粒子,相对于ITO粒子100质量份,根据下述表1所示的掺合量来添加下述表1所记载的化合物作为有机粘合剂以外,以与本发明例1同样的方式制备出涂布液。另外,在比较例1中并未使用有机粘合剂。而且,使用所得到的涂布液,以与本发明例1同样的方式,在玻璃基板上形成ITO粒子膜。
[评价]
(1)涂布液中的ITO粒子的平均粒径
在涂布液中加入含有1-丁醇与甲苯(其中,1-丁醇与甲苯以质量比计为5:95的比例(前者:后者))的有机溶剂来稀释,制备出固体成分浓度为1质量%的试样。接下来,使用动态光散射式粒度分布计(Malvern公司制,ZetasizerNano ZSP)来测量所得到的试样中的ITO粒子的体积换算的粒度分布,计算出ITO粒子的平均粒径。将此结果与在ITO粒子分散液的制备中所使用的材料一起示于下述表1。
(2)ITO粒子的平均一次粒径X
将ITO粒子膜从玻璃基板剥离,将剥离的ITO粒子膜投入含有1-丁醇与甲苯(其中,1-丁醇与甲苯以质量比计为5:95的比例(前者:后者))的有机溶剂中,进行超声波分散处理使ITO粒子膜中的ITO粒子分散。回收分散于溶剂中的ITO粒子,使用透射电子显微镜来拍摄出所回收的ITO粒子的放大图像。对于所得到的放大图像使用图像处理软件(ImageJ)进行图像分析,测量10000个ITO粒子的条带直径(Ferret diameter),将其平均值作为ITO粒子的平均一次粒径X。将其结果示于下述表2。
(3)ITO粒子间的平均中心间距Y
对于下述(4)所得到的剖面图像,使用图像处理软件(ImageJ),取50个ITO粒子测量相邻的ITO粒子的中心间的距离,计算出其平均值。将其结果与相邻的ITO粒子间的平均中心间距Y相对于ITO粒子的平均一次粒径X的比(Y/X)一起示于下述表2。
(4)膜表面的粗糙度Ra
在垂直于膜表面的方向切断树脂包埋后的ITO粒子膜,并对剖面进行镜面抛光。接下来,使用扫描式电子显微镜(Hitachi,Ltd.制,SU8000)来拍摄剖面。对于所得到的剖面图像,使用图像分析软件(Thermo Scientific Corporation,Avizo software)来提取ITO粒子膜的与玻璃基板相反侧的表面的表面粗糙度线。对于所得到的表面粗糙度线,使用图像处理软件(ImageJ)进行图像分析,计算出表面粗糙度线的从最高峰顶至第5个峰为止的峰高度的绝对值的平均值与从最低的谷底至第5个谷底为止的谷底的绝对值的平均值的和,将其作为粗糙度Ra。将其结果示于下述表2。
(5)雾度
根据JIS K7136:2000(塑料-透明材料的雾度的求取方法)所规定的方法来测量成膜于玻璃基板上的ITO粒子膜的雾度。测量装置是使用雾度计HZ-2(Suga TestInstruments Co.,Ltd.制)。将其结果示于下述表2。
(6)红外线区域最大反射率
对成膜于玻璃基板上的ITO粒子膜的表面照射波长800~2500nm的区域的红外线,使用分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation、产品名U-4100型)来测量其红外线区域最大反射率。将其结果示于下述表2。
[表1]
注1)将In源与Sn源的合计量设为10时的掺合比例注2)将ITO粒子设为100质量份时的掺合量
[表2]
关于ITO粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,相邻的ITO粒子间的平均中心间距Y相对于ITO粒子的平均一次粒径X的比Y/X在1.05以上且1.20以下的范围内,关于膜表面的粗糙度Ra在4nm以上且50nm以下的范围内的本发明例1~10的ITO粒子膜,雾度均较低,为0.35%以下,并且红外线区域最大反射率较高,为45%以上,由此可知作为红外线遮蔽膜是有用的。
相对于此,关于ITO粒子间的平均中心间距在本发明的范围内,然而Y/X比小于1.05的比较例1、2的ITO粒子膜,红外线区域最大反射率变低。这是因为ITO粒子的间隔变得过于狭窄,表面等离子体激元的电场不易增强。并且,比较例1、2的ITO粒子膜雾度变高。这是因为膜表面的粗糙度Ra超过50nm。
并且,关于平均中心间距超过36nm,Y/X比超过1.20,膜表面的粗糙度Ra小于4nm的比较例3的ITO粒子膜,红外线区域最大反射率变得更低。这是因为ITO粒子间的间隔变得过宽,表面等离子体激元不易产生。
产业上的可利用性
本发明的红外线遮蔽膜及红外线遮蔽材,可有利地适用于如使用于汽车或建筑物的窗玻璃那样需要高可见光透射性与红外线遮蔽性的用途。
符号说明
10-红外线遮蔽膜,11-有机粘合剂,12-ITO粒子,20-红外线遮蔽材,21-基板,22-红外线遮蔽层,23-外涂层。
Claims (3)
1.一种红外线遮蔽膜,其由有机粘合剂与分散于所述有机粘合剂中的多个锡掺杂氧化铟粒子所形成,
所述锡掺杂氧化铟粒子使用铟的脂肪酸盐与锡的脂肪酸盐制作,所述锡掺杂氧化铟粒子的表面被来自所述脂肪酸盐的有机保护基团包覆,
所述有机粘合剂为选自(Z)-4-辛烯腈、(Z)-5-辛烯腈、(Z)-5-壬烯腈、(Z)-6-十一烯腈、(Z)-9-十一烯腈和(Z)-9-十八烯腈中的一种,
将所述锡掺杂氧化铟粒子的含量设为100质量份时,所述有机粘合剂的含量为5质量份~30质量份,
所述锡掺杂氧化铟粒子以一次粒子的状态分散,
关于所述锡掺杂氧化铟粒子,相邻的粒子间的平均中心间距在9nm以上且36nm以下的范围内,
所述相邻的粒子间的平均中心间距相对于所述锡掺杂氧化铟粒子的平均一次粒径的比在1.05以上且1.20以下的范围内,
膜表面的粗糙度Ra在4nm以上且50nm以下的范围内。
2.根据权利要求1所述的红外线遮蔽膜,其特征在于,
所述锡掺杂氧化铟粒子的平均一次粒径在8nm以上且30nm以下的范围内。
3.一种红外线遮蔽材,其具有权利要求1或2所述的红外线遮蔽膜。
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---|---|
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1842834A1 (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-10 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
WO2014061279A1 (ja) * | 2012-10-19 | 2014-04-24 | 日本化薬株式会社 | 熱線遮蔽シート |
CN104822522A (zh) * | 2012-11-27 | 2015-08-05 | 东丽薄膜先端加工股份有限公司 | 硬涂膜及透明导电性膜 |
CN107407753A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-11-28 | 柯尼卡美能达株式会社 | 近红外线遮蔽膜、其制造方法和胶粘剂组合物 |
WO2019065788A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線遮蔽膜形成用液組成物及びこれを用いた赤外線遮蔽膜の製造方法並びに赤外線遮蔽膜 |
Family Cites Families (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3250125B2 (ja) * | 1993-06-30 | 2002-01-28 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線カットオフ粉末 |
JPH0841441A (ja) * | 1994-05-25 | 1996-02-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 紫外線、近赤外線遮へい用インジウム−錫酸化物粉末とこれを用いた紫外線、近赤外線遮へいガラスおよびその製造方法 |
JP4600685B2 (ja) * | 1994-05-25 | 2010-12-15 | 住友金属鉱山株式会社 | 紫外線、近赤外線遮へいガラス |
JPH09140275A (ja) * | 1995-11-22 | 1997-06-03 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 熱線吸収材 |
JPH10265718A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-06 | Mitsubishi Materials Corp | 防眩性赤外線遮断膜形成用塗料 |
JP3787947B2 (ja) * | 1997-04-16 | 2006-06-21 | 三菱化学エムケーブイ株式会社 | 屋外展張用フィルム |
JP2000000927A (ja) * | 1998-06-12 | 2000-01-07 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 赤外線カットオフフィルム |
JP2001332128A (ja) * | 2000-05-19 | 2001-11-30 | Tdk Corp | 機能性膜 |
DE10160356A1 (de) * | 2001-12-08 | 2003-06-26 | Nanogate Technologies Gmbh | IR-Schutz |
TWI274662B (en) * | 2002-03-29 | 2007-03-01 | Toray Industries | Laminated film, filter for display and display |
WO2004083319A1 (en) * | 2003-03-17 | 2004-09-30 | Hae-Wook Lee | Composition for cutting off heat-ray, film formed thereform and method for forming the composition and the film |
EP1736453A4 (en) * | 2004-03-31 | 2008-09-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | IR-CUT GLASS |
JP2006010759A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体および近赤外線遮蔽体並びに近赤外線遮蔽材料を通過する可視光の色調調整方法 |
JP2006245516A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Seiko Epson Corp | 成膜方法、電子デバイス用基板、電子デバイスおよび電子機器 |
CN101365658A (zh) * | 2006-01-16 | 2009-02-11 | 日本板硝子株式会社 | 其上形成有薄膜的玻璃板 |
US20070178317A1 (en) * | 2006-02-01 | 2007-08-02 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
JP4617499B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-01-26 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Ito粉体およびその製造方法、透明導電材用塗料、並びに透明導電膜 |
JP2007320780A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カット膜が形成された透明物品 |
US7952805B2 (en) * | 2006-08-22 | 2011-05-31 | 3M Innovative Properties Company | Solar control film |
KR100804003B1 (ko) * | 2006-09-08 | 2008-02-18 | 한국과학기술연구원 | 인듐주석산화물 막의 제조방법 |
JP2009123396A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | Ito塗布液およびその製造方法 |
EP2116513B1 (de) * | 2008-05-06 | 2017-07-05 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur herstellung eines oberflächenmodifizierten agglomerates von indiumzinnoxid, das nach diesem verfahren erhältliche oberflächenmodifizierte agglomerat selbst, sowie eine beschichtungsmasse hiermit |
JP2009288732A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Asahi Kasei Corp | 防眩フィルム |
CN100595141C (zh) * | 2008-06-06 | 2010-03-24 | 东华大学 | 一种铟锡氧化物组装碳纳米管复合材料的制备方法 |
JP5726728B2 (ja) * | 2009-05-12 | 2015-06-03 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Ito粉体、ito塗料、並びに、ito塗料を用いて成膜される透明導電膜 |
JP5564207B2 (ja) * | 2009-07-06 | 2014-07-30 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 赤外線遮蔽材料、赤外線遮蔽用塗料、赤外線遮蔽膜、並びに、赤外線遮蔽基材 |
WO2012070477A1 (ja) * | 2010-11-22 | 2012-05-31 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
JP5614270B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2014-10-29 | コニカミノルタ株式会社 | 熱線遮断フィルムとその製造方法 |
CN102653862A (zh) * | 2011-03-01 | 2012-09-05 | 国家纳米科学中心 | 一种氧化铟锡纳米涂层的制备方法 |
JP2012189683A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Nitto Denko Corp | 赤外線反射フィルム |
JP5709707B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
JP5699738B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2015-04-15 | コニカミノルタ株式会社 | ハードコートフィルムと、それを用いた熱線遮断フィルム及び有機素子デバイス |
WO2012157655A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材、貼合せ構造体及び合わせガラス |
JPWO2013077252A1 (ja) * | 2011-11-21 | 2015-04-27 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外遮蔽フィルムおよび赤外遮蔽体 |
WO2013146355A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材および貼合せ構造体 |
JPWO2014010562A1 (ja) * | 2012-07-13 | 2016-06-23 | コニカミノルタ株式会社 | 赤外遮蔽フィルム |
JP5849899B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2016-02-03 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 |
JP2014080466A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Mitsubishi Materials Corp | 熱線遮蔽組成物 |
JP6443329B2 (ja) * | 2013-04-10 | 2018-12-26 | Agc株式会社 | 赤外線遮蔽フィルタおよび撮像装置 |
KR102024647B1 (ko) * | 2013-05-08 | 2019-09-24 | 엘지디스플레이 주식회사 | 무기 리간드를 갖는 용액형 ito 및 그 제조 방법 |
AU2014266268A1 (en) * | 2013-05-16 | 2016-01-21 | Nippon Kayaku Kabushikikaisha | Infrared-shielding sheet, method for manufacturing same, and application for same |
CN106575004B (zh) * | 2014-08-27 | 2019-05-10 | 富士胶片株式会社 | 隔热薄膜、隔热薄膜的制造方法、隔热玻璃及窗户 |
JP6492625B2 (ja) * | 2014-12-22 | 2019-04-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線遮蔽積層体及びこれを用いた赤外線遮蔽材 |
JP2017170386A (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 阪本薬品工業株式会社 | 金属酸化物微粒子の水系分散剤、及びそれを含有する分散体 |
WO2017208522A1 (ja) * | 2016-06-02 | 2017-12-07 | エム・テクニック株式会社 | 透明材用紫外線及び/又は近赤外線遮断剤組成物 |
JP6654515B2 (ja) * | 2016-06-15 | 2020-02-26 | 日本化薬株式会社 | 赤外線遮蔽シート、赤外線遮蔽合わせガラス用中間膜並びに赤外線遮蔽合わせガラス及びその製造方法 |
JP6747324B2 (ja) * | 2017-02-06 | 2020-08-26 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属酸化物微粒子の製造方法 |
JP2019066839A (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-25 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線遮蔽膜形成用液組成物及びこれを用いた赤外線遮蔽膜の製造方法及び赤外線遮蔽膜 |
JP6933156B2 (ja) * | 2018-02-14 | 2021-09-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属酸化物分散液の製造方法 |
JP7020223B2 (ja) * | 2018-03-22 | 2022-02-16 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属酸化物微粒子とその製造方法、赤外線遮蔽膜形成用分散液とその製造方法、赤外線遮蔽膜の形成方法並びに赤外線遮蔽膜付き基材 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1842834A1 (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-10 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
WO2014061279A1 (ja) * | 2012-10-19 | 2014-04-24 | 日本化薬株式会社 | 熱線遮蔽シート |
CN104822522A (zh) * | 2012-11-27 | 2015-08-05 | 东丽薄膜先端加工股份有限公司 | 硬涂膜及透明导电性膜 |
CN107407753A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-11-28 | 柯尼卡美能达株式会社 | 近红外线遮蔽膜、其制造方法和胶粘剂组合物 |
WO2019065788A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 赤外線遮蔽膜形成用液組成物及びこれを用いた赤外線遮蔽膜の製造方法並びに赤外線遮蔽膜 |
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