JP2014080466A - 熱線遮蔽組成物 - Google Patents
熱線遮蔽組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014080466A JP2014080466A JP2012227618A JP2012227618A JP2014080466A JP 2014080466 A JP2014080466 A JP 2014080466A JP 2012227618 A JP2012227618 A JP 2012227618A JP 2012227618 A JP2012227618 A JP 2012227618A JP 2014080466 A JP2014080466 A JP 2014080466A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ito
- ray shielding
- mass
- heat ray
- shielding composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 29
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 10
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000009102 absorption Effects 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 29
- -1 dithiol metal complex Chemical class 0.000 abstract description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- KVXKIRARVMGHKF-UHFFFAOYSA-G indium(3+);tin(4+);heptahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[In+3].[Sn+4] KVXKIRARVMGHKF-UHFFFAOYSA-G 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 239000011858 nanopowder Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate) Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CCCC FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000005287 vanadyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000284156 Clerodendrum quadriloculare Species 0.000 description 1
- 229910021617 Indium monochloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 1
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 108091079786 miR-105 stem-loop Proteins 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- XUXNAKZDHHEHPC-UHFFFAOYSA-M sodium bromate Chemical class [Na+].[O-]Br(=O)=O XUXNAKZDHHEHPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/207—Filters comprising semiconducting materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の熱線遮蔽組成物は、ITO粉末が0.1〜50質量%の範囲で分散してなる分散液に、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素及びジチオール金属錯体色素からなる群より選ばれた1種又は2種以上の近赤外線吸収色素を前記分散液100質量%に対して0.01〜0.5質量%の範囲で混合して構成される。前記ITO粉末は4.0eV〜4.5eVの範囲のバンドギャップを有するITO膜の製造に用いられる。
【選択図】なし
Description
また本発明の第2の観点は、第1の観点の発明であって、第1の観点の熱線遮蔽組成物とバインダと溶媒とを含むITO塗料である。
また本発明の第3の観点は、第2の観点のITO塗料を透明な基材に塗工して熱線遮蔽膜を形成する方法である。
更に本発明の第4の観点は、第1の観点の熱線遮蔽組成物をフィルム形成用組成物に均一に混合し、その混合物をフィルム成形して熱線遮蔽フィルムを形成する方法である。
本発明の第2の観点のITO塗料は、建築物のガラスや自動車のガラスに塗工したときに、可視光線の透過率が高く、また近赤外線のカット率が高く、夏季において室内又は車内を明るくした状態で室内又は車内の温度上昇を抑制することができる。
本発明の第3の観点の方法は、建築物や自動車のガラス又は各種フィルムの表面に第2の観点のITO塗料を塗工することにより簡便に熱線遮蔽膜を形成することができる。
本発明の第4の観点の方法は、フィルム形成用組成物に第1の観点の熱線遮蔽組成物を混ぜ込んでその混合物をフィルム成形することにより熱線遮蔽効果のあるフィルムを簡便に形成することができる。
(1)第1の製造方法
3価インジウム化合物と2価錫化合物は溶液中においてアルカリの存在下で沈殿し、インジウムと錫の共沈水酸化物を生成する。このとき、溶液のpHを4.0〜9.3、好ましくはpH6.0〜8.0、液温を5℃以上、好ましくは液温10℃〜80℃に調整することによって、乾燥粉末が山吹色から柿色の色調を有するインジウム錫の共沈水酸化物を沈澱させることができる。この山吹色から柿色の色調を有する水酸化物は、従来の白色のインジウム錫水酸化物よりも結晶性に優れている。反応時の液性をpH4.0〜9.3に調整するには、例えば、3塩化インジウム(InCl3)と2塩化錫(SnCl2・2H2O)の混合水溶液を用い、この混合水溶液とアルカリ水溶液とを同時に水に滴下して上記pH範囲に調整することが好ましい。或いは、アルカリ水溶液に上記混合液を滴下する。アルカリ水溶液としてはアンモニア(NH3)水、炭酸水素アンモニウム(NH4HCO3)水などが用いられる。
紫外線を照射した後、スラリー状のインジウム錫水酸化物を大気中、好ましくは窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、100〜200℃の範囲で2〜24時間乾燥した後、大気中250〜800℃の範囲で0.5〜6時間焼成する。この焼成により形成された凝集体をハンマーミルやボールミルなどを用いて粉砕してほぐし、ITO粉末を得る。このITO粉末を50〜95質量部の無水エタノールと5〜50質量部の蒸留水を混合した表面処理液に入れて含浸させた後、ガラスシャーレに入れて窒素ガス雰囲気下、200〜400℃の範囲で0.5〜5時間加熱すると、表面改質処理したITO粉末が得られる。
第1の製造方法で得られたインジウム錫共沈水酸化物である沈殿物の上澄み液を捨ててスラリー状のインジウム錫水酸化物を得た後、管の長手方向を鉛直にして配置した、250〜800℃の範囲に加熱した管状炉の内部にキャリアガスであるN2ガスを流通させている状態で、スラリー状のインジウム錫水酸化物を40kHz〜2MHzの超音波によりガス化して流通しているN2ガスに噴霧する。超音波の周波数が下限値未満では、霧化されたインジウム錫水酸化物を含む液滴が大きく、液滴中のインジウム錫水酸化物の含有量が多いため、熱分解する際に、ITOが焼結し粗大化してしまう不具合があり、上限値を越えると霧化する効率が悪くなる不具合がある。これによりインジウム錫水酸化物が管状炉内で熱分解して管状炉の排出口より表面改質処理したITO粉末が得られる。
第1の製造方法で得られたインジウム錫共沈水酸化物である沈殿物の上澄み液を捨ててスラリー状のインジウム錫水酸化物を得た後、このインジウム錫水酸化物を大気中、好ましくは窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、100〜200℃の範囲で2〜24時間乾燥してインジウム錫水酸化物粉末を得る。このインジウム錫水酸化物粉末の分散溶液にレーザー光を照射する。この方法で用いることのできるレーザーの種類は、高強度のパルス光を発生できるレーザーであればよく、例えば、Nd:YAGレーザー、エキシマレーザー、Tiサファイアレーザーを用いることができ、Nd:YAGレーザーが好ましい。レーザー光の照射強度は溶液中のインジウム錫水酸化物がレーザー光照射を受けてアブレーションができるのに十分に足りる強度があれば良く、1パルス当りの強度としては10mJ(10mJ/pulse)以上あれば十分であり、望ましくは50mJ/pulse〜500mJ/pulseである。また、レーザー光のパルス幅は限定されないが1nm〜20nsが好ましく、せん頭値(ピークパワー)は0.5〜500MWが好ましい。また、レーザーの発振周波数(パルス周期)は限定されないが、10〜60Hzが好ましく、平均パワーは、0.1〜30Wが好ましい。
第1の方法で得られたインジウム錫共沈水酸化物である沈殿物の上澄み液を捨ててスラリー状のインジウム錫水酸化物を得た後、このインジウム錫水酸化物を大気中、好ましくは窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、100〜200℃の範囲で2〜24時間乾燥した後、大気中250〜800℃の範囲で0.5〜6時間焼成する。この焼成により形成された凝集体をハンマーミルやボールミルなどを用いて粉砕してほぐし、ITO粉末を得る。このITO粉末をジェットミルを用いて、粉砕処理を行い、平均粒径を5〜15nmの範囲にする。以下、第1の方法と同様に、このITO粉末を無水エタノールと蒸留水とを混合した表面処理液に入れて含浸させた後、ガラスシャーレに入れて窒素ガス雰囲気下、加熱すると、表面改質処理したITO粉末が得られる。
なお、本明細書におけるITO粉末の平均粒径とは、個数分布に基づく平均粒径をいう。また本発明においては、200個の平均径である。
<熱線遮蔽組成物の製造方法>
先ず、上記方法で製造されたITO粉末をメチルエチルケトン、トルエン、キシレン又はイソプロピルアルコール等の液体に分散してITO分散液を調製する。このITO分散液におけるITO粉末濃度は0.1〜50質量%、好ましくは0.3〜30質量%の範囲に調整される。ITO粉末濃度が上記下限値未満であると十分な熱線カット特性が得られず、上記上限値を超えると可視光線の透過率が低下する不具合がある。次いで、このITO分散液に、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素及びジチオール金属錯体色素からなる群より選ばれた1種又は2種以上の近赤外線吸収色素を前記分散液100質量%に対して0.01〜0.5質量%、好ましくは0.05〜0.3質量%の範囲で添加し均一に混合する。上記下限値未満であると近赤外線のカット率が十分に高くなく、上記上限値を超えると可視光線の透過率が低下する不具合がある。なお、初めに上記分散媒に近赤外線吸収色素粉末を混合した後、この混合液にITO粉末濃度の高いITO分散液を混合してITO粉末濃度が上記範囲にある熱線遮蔽組成物を製造してもよい。ここで、近赤外線とは波長が約700nm〜2500nmの範囲の電磁波をいう。
<実施例1>
〔表面改質処理したITO粉末の製法〕
先ず、In金属18gを含有する塩化インジウム(InCl3)水溶液50mLと、二塩化錫(SnCl2・2H2O)3.6gとを混合し、この混合水溶液とアンモニア(NH3)水溶液を水500mLに同時に滴下し、pH7に調整した。液温を30℃にした状態で30分間反応させた。生成したインジウム錫共沈水酸化物である沈殿物をイオン交換水によって繰り返し傾斜洗浄を行った。上澄み液の抵抗率が50000Ω・cm以上になったところで、上記沈殿物の上澄み液を捨て、粘度の高いスラリー状のインジウム錫水酸化物を得た。このインジウム錫水酸化物を110℃で一晩乾燥した後、大気中550℃で3時間焼成し、凝集体を粉砕してほぐし、ITO粉末を得た。このITO粉末をジェットミル(スギノマシン社製ジェットミル極少量対応機 スターバースト ミニ)を用いて、粉砕処理を行った。このITO粉末25gを無水エタノールと蒸留水とを混合した表面処理液に入れて含浸させた後、ガラスシャーレに入れて窒素ガス雰囲気下、330℃にて2時間加熱して表面改質処理したITO粉末を得た。このITO粉末をメチルエチルケトンでITO粉末の含有量が30質量%になるまで希釈してITO分散液を調製した。
メチルエチルケトン69.95質量%に、上記式(2)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight3063、エポリン社製)0.05質量%と、上記ITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のジチオール金属錯体色素の代わりに、近赤外線吸収色素としてジイモニウム系色素(CIR−1080、日本カーリット社製)を用い、メチルエチルケトン69.8質量%に、ジイモニウム系色素0.2質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素として上記式(4)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight4129、エポリン社製)を用い、メチルエチルケトン69.97質量%に、ジチオール金属錯体色素0.03質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素として上記式(2)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight3063、エポリン社製)とジイモニウム系色素(CIR−1080、日本カーリット社製)を用い、メチルエチルケトン69.78質量%に、ジチオール金属錯体色素0.02質量%と、ジイモニウム系色素0.2質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素として上記式(2)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight3063、エポリン社製)と上記式(4)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight4129、エポリン社製)を用い、メチルエチルケトン69.94質量%に、式(2)のジチオール金属錯体色素0.03質量%と、式(4)のジチオール金属錯体色素0.03質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素としてジイモニウム系色素(CIR−1080、日本カーリット社製)と上記式(4)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight4129、エポリン社製)を用い、メチルエチルケトン69.78質量%に、ジイモニウム系色素0.2質量%と、式(4)のジチオール金属錯体色素0.02質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素として上記式(1)に示されるフタロシアニン系色素(PROJET−800NP、Avecia社製)を用い、メチルエチルケトン69.5質量%に、フタロシアニン系色素0.05質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
近赤外線吸収色素として上記式(2)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight3063、エポリン社製)とジイモニウム系色素(CIR−1080、日本カーリット社製)と上記式(4)に示されるジチオール金属錯体色素(Epolight4129、エポリン社製)を用い、メチルエチルケトン69.76質量%に、式(2)のジチオール金属錯体色素0.02質量%と、ジイモニウム系色素0.2質量%と、式(4)のジチオール金属錯体色素0.02質量%と、実施例1のITO分散液30質量%を混合して熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1と同様にと同様にして得られたインジウム錫共沈水酸化物である沈殿物を濾別し、固液分離したインジウム錫水酸化物を110℃で一晩乾燥した後、大気中550℃で3時間焼成し、凝集体を粉砕してほぐし、ITO粉末を得た。このITO粉末を無水エタノールと蒸留水を混合した表面処理液(混合比率はエタノール95質量部に対して蒸留水5質量部)に入れて含浸させた後、ガラスシャーレに入れて窒素ガス雰囲気下、330℃にて2時間加熱して表面改質処理したITO粉末を得た。このITO粉末をメチルエチルケトンでITO粉末の含有量が30質量%になるまで希釈してITO分散液を調製した。このITO分散液を熱線遮蔽組成物とした。近赤外線吸収色素は含有させなかった。
実施例1のITO粉末をメチルエチルケトンでITO粉末の含有量が30質量%になるまで希釈してITO分散液を調製した。このITO分散液を熱線遮蔽組成物とした。近赤外線吸収色素は含有させなかった。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例1と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例2と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例3と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例4と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例5と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例6と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
実施例1のITO粉末の代わりに、比較例1のITO粉末を用いた以外、実施例7と同様にして熱線遮蔽組成物を製造した。
〔分光特性の測定〕
実施例1〜8及び比較例1〜9で得られた熱線遮蔽組成物の可視光線及び近赤外線の透過率を測定した。具体的には実施例1〜8及び比較例1〜9で得られた熱線遮蔽組成物をメチルエチルケトンでITO粉末の含有量が0.7質量%になるまで希釈した。この希釈液を光路長1mmのガラスセルに入れ、自記分光光度計(日立製作所社製U−4000)を用い、規格(JIS R 3216−1998)に従い、450nmの可視光線透過率と、900nm、1100nm、1300nmの近赤外線透過率を測定した。実施例1〜8及び比較例1〜9で得られた各熱線遮蔽組成物の可視光線透過率と近赤外線透過率を表1に示す。
実施例1〜8及び比較例1〜9で用いた各ITO粉末20gを、蒸留水(0.020g)、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート[3G](23.8g)、無水エタノール(2.1g)、リン酸ポリエステル(1.0g)、2−エチルヘキサン酸(2.0g)、2,4−ペンタンジオン(0.5g)の混合液に入れて分散させた。調製した各分散液を無水エタノールで固形分であるITO粉末の含有量が10質量%になるまで希釈した。この希釈した分散液をスピンコーティングにより石英ガラス板に塗布して成膜し、厚さ0.2μmの各ITO膜を得た。これらのITO膜のバンドギャップは次の方法により算出した。積分球式分光光度計(日立ハイテクノロジー社製U−4100型)を用いてITO膜の透過スペクトルから光学バンドギャップを算出する。ITO膜の透過率Tを用いて、以下に示す式からフォトンエネルギー(E=1240/波長(nm))に対する吸収係数α2の関係をプロットする。その曲線の直線で近似できる部分を吸収が小さい側に外挿し、その外挿線とx軸との交点の光子エネルギーから光学バンドギャップを算出する。式中、dはITO膜の膜厚である。実施例1〜8及び比較例1〜9の各ITO粉末から得られた各ITO膜のバンドギャップの値を表1に示す。
表1に示すように、比較例1、3〜9の熱線遮蔽組成物は、可視光線の透過率も近赤外光線のカット率も不十分であり不良であった。比較例2の熱線遮蔽組成物は、可視光線の透過率は良好であったが、近赤外光線のカット率も不十分であり不良であった。これに対して、実施例1〜8の熱線遮蔽組成物は、可視光線の透過率も近赤外光線のカット率も高く良好であった。特に実施例7の熱線遮蔽組成物の近赤外光線のカット率は波長1100nm及び1300nmで透過率0.5%以下であり、優良であった。なお、可視光線の透過率が良好であるとは、波長450nmにおける可視光線の透過率が90%以上であることをいい、可視光線の透過率が不良であるとは、波長450nmにおける可視光線の透過率が90%未満であることをいう。また近赤外光線のカット率が良好であるとは、波長900nm、1100nm、1300nmにおける近赤外光線の透過率がそれぞれ55%以下、16.5%以下、0.5%以下であってすべてを充足することをいい、また近赤外光線のカット率が優良であるとは、前記良好の中で更に、波長900nm、1100nm、1300nmにおける近赤外光線の透過率がそれぞれ35%以下、1%以下、0.5%以下であってすべてを充足することをいい、更に近赤外光線のカット率が不良であるとは、波長900nm、1100nm、1300nmにおける近赤外光線の透過率が前記良好の基準を1つでも充足しないことをいう。
Claims (4)
- ITO粉末が0.1〜50質量%の範囲で分散してなる分散液に、ジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素及びジチオール金属錯体色素からなる群より選ばれた1種又は2種以上の近赤外線吸収色素を前記分散液100質量%に対して0.01〜0.5質量%の範囲で混合して構成され、前記ITO粉末が4.0eV〜4.5eVの範囲のバンドギャップを有するITO膜の製造に用いられることを特徴とする熱線遮蔽組成物。
- 請求項1記載の熱線遮蔽組成物とバインダと溶媒とを含むことを特徴とするITO塗料。
- 請求項2記載のITO塗料を透明な基材に塗工して熱線遮蔽膜を形成する方法。
- 請求項1記載の熱線遮蔽組成物をフィルム形成用組成物に均一に混合し、その混合物をフィルム成形して熱線遮蔽フィルムを形成する方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012227618A JP2014080466A (ja) | 2012-10-15 | 2012-10-15 | 熱線遮蔽組成物 |
CN201310406665.8A CN103725077A (zh) | 2012-10-15 | 2013-09-09 | 热射线屏蔽组合物 |
TW102133666A TW201420508A (zh) | 2012-10-15 | 2013-09-17 | 熱線遮蔽組成物 |
KR1020130111812A KR20140048036A (ko) | 2012-10-15 | 2013-09-17 | 열선 차폐 조성물 |
US14/051,755 US20140103271A1 (en) | 2012-10-15 | 2013-10-11 | Heat ray shielding composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012227618A JP2014080466A (ja) | 2012-10-15 | 2012-10-15 | 熱線遮蔽組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014080466A true JP2014080466A (ja) | 2014-05-08 |
Family
ID=50449385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012227618A Pending JP2014080466A (ja) | 2012-10-15 | 2012-10-15 | 熱線遮蔽組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140103271A1 (ja) |
JP (1) | JP2014080466A (ja) |
KR (1) | KR20140048036A (ja) |
CN (1) | CN103725077A (ja) |
TW (1) | TW201420508A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106291792B (zh) * | 2016-11-04 | 2019-02-01 | 天津津航技术物理研究所 | 一种红外分色片及其制备方法 |
WO2024013630A1 (en) * | 2022-07-11 | 2024-01-18 | Red Sea Farms Ltd | Apparatuses, processes, and compositions for facilitating selectively filtering of the light |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003018502A1 (fr) * | 2001-07-26 | 2003-03-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Film intermediaire pour verre feuillete et verre feuillete |
JP2005146143A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Seed Co Ltd | 紫外線硬化性熱線遮蔽ハードコート用組成物 |
JP2005181966A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-07-07 | Seed Co Ltd | 近赤外線吸収組成物及び近赤外線吸収フィルター |
JP2006137935A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-06-01 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 |
US20080102282A1 (en) * | 2006-05-05 | 2008-05-01 | Xiankui Hu | Infrared radiation blocking laminate |
WO2011024788A1 (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | 積水化学工業株式会社 | 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス |
JP2011102229A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-05-26 | Mitsubishi Materials Corp | 結晶性の高い微細なito粉末とその用途および製造方法等 |
JP2011116623A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-06-16 | Mitsubishi Materials Corp | 熱線遮蔽組成物とその製造方法 |
JP2012091953A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Mitsubishi Materials Corp | インジウム錫酸化物粉末およびその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0795565B1 (en) * | 1995-09-29 | 2001-08-16 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Actinic radiation-curable and heat ray-shielding resin composition and film coated with the same |
JPH09324144A (ja) * | 1996-04-03 | 1997-12-16 | Dainippon Toryo Co Ltd | 近赤外線カットフィルター形成用組成物及び近赤外線カットフィルター |
CN100344709C (zh) * | 2003-03-17 | 2007-10-24 | 李海旭 | 用于隔离热射线的组合物,由此形成的膜以及形成该组合物和膜的方法 |
JP4969168B2 (ja) * | 2006-07-11 | 2012-07-04 | 日本カーリット株式会社 | 熱線遮蔽フィルム |
-
2012
- 2012-10-15 JP JP2012227618A patent/JP2014080466A/ja active Pending
-
2013
- 2013-09-09 CN CN201310406665.8A patent/CN103725077A/zh active Pending
- 2013-09-17 KR KR1020130111812A patent/KR20140048036A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-09-17 TW TW102133666A patent/TW201420508A/zh unknown
- 2013-10-11 US US14/051,755 patent/US20140103271A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003018502A1 (fr) * | 2001-07-26 | 2003-03-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Film intermediaire pour verre feuillete et verre feuillete |
JP2005146143A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Seed Co Ltd | 紫外線硬化性熱線遮蔽ハードコート用組成物 |
JP2005181966A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-07-07 | Seed Co Ltd | 近赤外線吸収組成物及び近赤外線吸収フィルター |
JP2006137935A (ja) * | 2004-10-13 | 2006-06-01 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 |
US20080102282A1 (en) * | 2006-05-05 | 2008-05-01 | Xiankui Hu | Infrared radiation blocking laminate |
WO2011024788A1 (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | 積水化学工業株式会社 | 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス |
JP2011102229A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-05-26 | Mitsubishi Materials Corp | 結晶性の高い微細なito粉末とその用途および製造方法等 |
JP2011116623A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-06-16 | Mitsubishi Materials Corp | 熱線遮蔽組成物とその製造方法 |
JP2012091953A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Mitsubishi Materials Corp | インジウム錫酸化物粉末およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140048036A (ko) | 2014-04-23 |
CN103725077A (zh) | 2014-04-16 |
US20140103271A1 (en) | 2014-04-17 |
TW201420508A (zh) | 2014-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6111538B2 (ja) | Ito膜の製造に用いられるito粉末の製造方法 | |
CN109312207B (zh) | 近红外线屏蔽材料微粒及其制造方法、与近红外线屏蔽材料微粒分散液 | |
JP6825619B2 (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体、近赤外線遮蔽体および近赤外線遮蔽用合わせ構造体、並びに、それらの製造方法 | |
KR20060024328A (ko) | 적외선 차폐재료 미립자 분산체, 적외선 차폐체, 및 적외선차폐재료 미립자의 제조방법, 및 적외선 차폐재료 미립자 | |
JP5585812B2 (ja) | 近赤外線遮蔽材料微粒子分散体、近赤外線遮蔽体、および近赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに近赤外線遮蔽材料微粒子 | |
WO2011040578A1 (ja) | 近赤外線吸収粒子、その製造方法、分散液およびその物品 | |
KR20150093186A (ko) | 근적외선 흡수 필터 및 촬상소자 | |
TWI761595B (zh) | 近紅外線硬化型油墨組成物、近紅外線硬化膜及其等之製造方法暨光造形法 | |
JP2014080466A (ja) | 熱線遮蔽組成物 | |
JP5673273B2 (ja) | 近赤外線吸収粒子およびその製造方法、ならびに分散液、樹脂組成物、近赤外線吸収塗膜を有する物品および近赤外線吸収物品 | |
JP4524405B2 (ja) | スズ含有インジウム酸化物ナノ粒子およびその分散溶液の製造方法 | |
CN114981214A (zh) | 近红外线吸收材料粒子、近红外线吸收材料粒子分散液、近红外线吸收材料粒子分散体 | |
JP7247886B2 (ja) | 近赤外線硬化型インク組成物とその製造方法、近赤外線硬化膜、および光造形法 | |
JP2017145164A (ja) | ホウ化物粒子、ホウ化物粒子の製造方法、ホウ化物粒子分散体 | |
JP2012140306A (ja) | 近赤外線吸収粒子、その製造方法、分散液および樹脂組成物 | |
JP6413969B2 (ja) | 日射遮蔽体形成用分散液および当該分散液を用いた日射遮蔽体 | |
JP6303455B2 (ja) | 赤外線カット機能を有する低屈折率膜形成用組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 | |
JP2012193245A (ja) | 近赤外線吸収粒子、その製造方法、分散液、樹脂組成物、近赤外線吸収塗膜を有する物品および近赤外線吸収物品 | |
Biljan et al. | Visible and NIR luminescence of nanocrystalline β-Ga2O3: Er3+ prepared by solution combustion synthesis | |
WO2023027157A1 (ja) | 赤外線硬化型インク組成物、赤外線硬化物、赤外線硬化物の製造方法 | |
WO2023008536A1 (ja) | 近赤外線硬化型インク組成物、近赤外線硬化膜、近赤外線硬化物の製造方法 | |
JP2010059040A (ja) | 微粒子の製造方法及びその製造方法により得られる熱線遮蔽用微粒子 | |
JP2014214299A (ja) | 近赤外線吸収粒子、その製造方法、分散液およびその物品 | |
JP2014175385A (ja) | Ito粒子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160510 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160727 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160823 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20161222 |