CN106479482A - InP量子点及其制备方法 - Google Patents
InP量子点及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106479482A CN106479482A CN201610834922.1A CN201610834922A CN106479482A CN 106479482 A CN106479482 A CN 106479482A CN 201610834922 A CN201610834922 A CN 201610834922A CN 106479482 A CN106479482 A CN 106479482A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- inp
- mixed liquor
- presoma
- core
- preparation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/70—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/88—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
- C09K11/881—Chalcogenides
- C09K11/883—Chalcogenides with zinc or cadmium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
本发明提供了InP量子点及其制备方法。该制备方法包括:步骤S1,利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核;步骤S2,以第二InP核为核,使Zn前驱体、Se前驱体和可选的S前驱体通过外延生长法在第二InP核的表面形成包含ZnSexS1‑x或者ZnSe/ZnS的壳层,得到InP/ZnSexS1‑x量子点或者InP/ZnSe/ZnS量子点,0<x≤1。利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核使所得的第二InP核的颗粒尺寸更均一,半半峰宽变窄;所得到的InP量子点量子点壳层中同时含有Se元素和硫元素,使得壳层的包覆厚度及InP量子点的发光效率和稳定性得到进一步改善。
Description
技术领域
本发明涉及量子点材料领域,具体而言,涉及一种InP量子点及其制备方法。
背景技术
量子点是由数百到数千个原子组成的半导体纳米晶,其粒径小于或接近激子波尔半径。由于量子限域效应的影响,使其具有优良的发光性能,比如量子点材料具有发光波长可调、发光效率高、稳定性好等优点,在显示、照明、生物及太阳能电池等领域有着广泛的应用。
随着研究的深入,量子点技术已经逐渐地从实验室开发走向产品应用,将改变人们未来的生活方式。近年来,对于CdSe、CdS等II-VI族量子点材料的研究取得了极大的进展,包括其制备、表面修饰和应用等。然而,上述材料所含的重金属元素Cd对环境和人体都有较大的毒害作用,且不易通过代谢排出体外,在生物体内长期积累引起多种严重疾病。欧美等国家对进出口货物中的含Cd量都做了严格的规定。因此,发展性能优良的无Cd量子点材料成为了现阶段的研究重点。
InP是重要的III-V族无Cd量子点,其作为一种环境友好、直接带隙半导体材料成为人们研究的焦点。现有的InP合成技术,在其尺寸均一性、发光性能及稳定性上均有待提高。2015年Do等通过热注入法合成了InP/ZnS核壳量子点,但其发射峰半峰宽较大,绿光在40nm以上,红光在60nm以上;且量子产率较低,均在60%以下(Journal of MaterialsChemistry C,2015,3(15):3582-3591.)。2008年Reiss等通过一锅合成法制备了InP/ZnS纳米晶,但其可调发光波长窗口较小,无法合成600nm以上的红光量子点;另外其稳定性较差,在紫外光照射下,发光效率大大降低(Journal of the American Chemical Society,2008,130(35):11588-11589.)。上述缺点一方面是由于红色InP的成核和生长较难控制,难以得到尺寸分布均一、半峰宽窄的纳米晶颗粒;另一方面,InP和ZnS的晶格常数差距较大,在包覆中ZnS较难有效生长在InP颗粒表面,造成发光效率较低、稳定性较差。
因此,研发半峰宽窄、效率高且稳定性好的红色InP量子点,在无镉量子点材料的研究中占据重要位置,对照明、显示和生物等领域的应用都具有重要意义。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种InP量子点及其制备方法,以解决现有技术中的InP量子点发光效率低、稳定性差且色纯度低的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种InP量子点的制备方法,该制备方法包括:步骤S1,利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核;步骤S2,以第二InP核为核,使Zn前驱体、Se前驱体和可选的S前驱体通过外延生长法在第二InP核的表面形成包含ZnSexS1-x或者ZnSe/ZnS的壳层,得到InP/ZnSexS1-x量子点或者InP/ZnSe/ZnS量子点,0<x≤1。
进一步地,上述步骤S1的反应温度为150~330℃,优选为180~270℃。
进一步地,上述第二InP核在紫外可见光谱下的第一激子峰位置在440~600nm范围内可调。
进一步地,上述制备方法还包括第一InP核的制备过程,制备过程包括:将第一In前驱体、可选的第一配体与第一非络合溶剂混合形成第一混合液;将第一P前驱体、可选的第二配体,单独或混合形成第一P前驱体反应物;将第一P前驱体反应物加入到第一混合液中形成第一反应体系,加热使第一反应体系的反应温度保持在150~330℃,优选180~270℃,得到含有第一InP核的第二混合液。
进一步地,上述形成第一混合液的过程还包括将第一混合液加热至150~330℃的步骤,优选加热至180~270℃。
进一步地,上述第一In前驱体中In与第一P前驱体中P的摩尔比为0.5:1~10:1,优选为1:1~5:1。
进一步地,上述制备方法还包括InP纳米团簇的制备步骤,制备步骤包括:将第二In前驱体、可选的第三配体与第二非络合溶剂混合,形成第三混合液;将第二含P前驱体、可选的第四配体,单独或混合形成第二P前驱体反应物;将第二P前驱体反应物加入到第三混合液中形成第二反应体系,并使第二反应体系在25~150℃下反应,优选在100~120℃下反应,得到含有InP纳米团簇的第四混合液。
进一步地,上述形成第三混合液的过程还包括将第三混合液加热至100~200℃的步骤。
进一步地,上述步骤S1包括:将第二混合液和第四混合液混合,加热至150~330℃,优选为180~270℃,得到含有第二InP核的第五混合液。
进一步地,上述第一In前驱体和第二In前驱体各自独立地选自InCl3、In MA3和InAc3中的一种或多种;优选第一配体和第三配体各自独立地选自脂肪酸,更优选脂肪酸选自十四酸、十六酸、十八酸和十二酸中的一种或多种;优选第二配体和第四配体各自独立地选自胺配体和/或膦配体,更优选胺配体为脂肪胺,进一步优选脂肪胺选自正己胺、辛胺、十二胺和二丙胺中的一种或多种,优选膦配体选自三辛基膦、三丁基膦和三己基膦中的一种或多种;优选第一非络合溶剂和第二非络合溶剂各自独立地选自烯烃、烷烃、醚类和芳香族化合物中的一种或多种。
进一步地,上述InP量子点为InP/ZnSexS1-x,步骤S2包括:将可选的第五配体、Zn前驱体、Se前驱体和可选的S前驱体一起加入第五混合液中,形成第三反应体系;加热使第三反应体系在180~320℃下进行外延生长反应,优选在220~280℃下,形成InP/ZnSexS1-x量子点;InP量子点为InP/ZnSe/ZnS,步骤S2包括:将可选的第五配体、Zn前驱体、Se前驱体加入到第五混合液中进行第一外延反应,得到第六混合液;将S前驱体到第六混合液中进行第二外延反应,得到InP/ZnSe/ZnS量子点,其中第一外延反应和第二外延反应各自独立地在180~320℃下进行,优选各自独立地在220~280℃下进行。
进一步地,上述Zn前驱体为羧酸锌,优选羧酸锌选自醋酸锌、硬脂酸锌、油酸锌和十一烯酸锌中的一种或多种;优选Se前驱体选自Se-TOP溶液、Se-TBP溶液、Se-ODE溶液和Se粉-ODE悬浊液中的一种或多种;优选S前驱体选自S-TOP溶液、S-TBP溶液和S-ODE溶液中的一种或多种;优选第五配体选自饱和脂肪胺、不饱和脂肪胺、饱和脂肪酸和不饱和脂肪酸中的一种或多种。
根据本发明的另一方面,提供了一种InP量子点,包括:纳米晶核,纳米晶核为InP;以及包裹在纳米晶核上的壳层,壳层为ZnSexS1-x或者ZnSe/ZnS,其中0<x≤1,InP量子点发射波长在520~660nm范围内可调,且InP量子点的半峰宽为38~55nm,量子效率≥60%。
利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核时,InP纳米团簇的小颗粒团簇快速分解,并且在大颗粒第一InP核上扩散生长,在该过程中通过调节配体加入量、团簇溶液加入量、反应温度和时间控制紫外可见光谱第一激子峰位置;在扩散生长中,第一InP核颗粒大小的不同对生长存在影响,即纳米团簇溶解后的In前体和P前体在较小颗粒上生长较快,较大颗粒上生长较慢,从而使所得的第二InP核的颗粒尺寸更均一,半半峰宽变窄(上述半半峰宽是对于UV来说的,因为UV的峰出得不是很对称,所以无法用半峰宽来衡量,只能取半峰宽的一半,命名为半半峰宽);同时所形成的壳层中含有Se,InP和ZnSe的晶格常数差距较小,因此使壳层可以较为容易地包覆在第二InP核颗粒表面,进而使得本申请的InP/ZnSexS1-x或者InP/ZnSe/ZnS量子点具有较高的发光效率和较窄的半峰宽。壳层中同时含有Se元素和硫元素,使得壳层的包覆厚度及InP量子点的发光效率和稳定性得到进一步改善。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了根据本发明实施例1的InP纳米团簇的TEM图像和粒径分布柱状图;
图2示出了根据本发明实施例1的InP纳米团簇的UV检测图谱;
图3示出了根据本发明实施例1的第一InP核的TEM图像和粒径分布柱状图;
图4示出了根据本发明实施例1的第二InP核的TEM图像和粒径分布柱状图;
图5示出了根据本发明实施例1的第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核过程中,UV图谱的变化过程;
图6示出了根据本发明实施例1的InP/ZnSe0.3S0.7量子点的TEM图像和粒径分布柱状图;以及
图7示出了根据本发明实施例1的InP/ZnSe0.3S0.7量子点的PL荧光光谱。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
如背景技术所记载的,现有技术的InP量子点的发光效率低、稳定性差且色纯度低,为了解决该问题,本申请一种典型的实施方式提供了一种InP量子点的制备方法,该制备方法包括:步骤S1,利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核;步骤S2,以第二InP核为核,使Zn前驱体、Se前驱体和可选的S前驱体通过外延生长法在第二InP核的表面形成包含ZnSexS1-x或者ZnSe/ZnS的壳层,得到InP/ZnSexS1-x量子点或者InP/ZnSe/ZnS量子点,其中0<x≤1。
利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核时,InP纳米团簇的小颗粒团簇快速分解,并且在大颗粒第一InP核上扩散生长,在该过程中通过调节配体加入量、团簇溶液加入量、反应温度和时间控制紫外可见光谱第一激子峰位置;在扩散生长中,第一InP核颗粒大小的不同对生长存在影响,即纳米团簇溶解后的In前体和P前体在较小颗粒上生长较快,较大颗粒上生长较慢,从而使所得的第二InP核的颗粒尺寸更均一,半半峰宽变窄;同时所形成的壳层中含有Se,InP和ZnSe的晶格常数差距较小,因此使壳层可以较为容易地包覆在第二InP核颗粒表面,进而使得本申请的InP/ZnSexS1-x或者InP/ZnSe/ZnS量子点具有较高的发光效率和较窄的半峰宽。壳层在含有Se的前提下,同时含有硫元素,使得壳层的包覆厚度及InP量子点的发光效率和稳定性得到进一步改善。
为了进一步加快InP纳米团簇的分解,优选上述步骤S1的反应温度为150~330℃,优选为180~270℃。
在该过程中通过调节配体加入量、团簇溶液加入量、反应温度和时间控制紫外可见光谱第一激子峰位置,优选第二InP核在紫外可见光谱下的第一激子峰位置在440~600nm范围内可调。将上述参数控制在上述范围内,从而在下一步的外延生长中能够得到具有预设第一激子峰位置的InP量子点,同时有利于控制InP量子点的半峰宽在较窄的范围内。
上述制备方法所采用的第一InP核可以采用目前常规制备InP量子点的方式,为了更好地与InP纳米团簇配合,优选采用本申请优选后的方式,即上述制备方法还包括第一InP核的制备过程,该制备过程包括:将第一In前驱体、可选的第一配体与第一非络合溶剂混合形成第一混合液;将第一P前驱体、可选的第二配体,单独或混合形成第一P前驱体反应物;将第一P前驱体反应物加入到第一混合液中形成第一反应体系,加热使第一反应体系的反应温度保持在150~330℃,优选180~270℃,得到含有第一InP核的第二混合液。利用上述流程且在上述温度下制备的第一InP核的粒径较大且粒径分布更为均匀,更有利于InP纳米团簇在其上的扩散生长。
进一步优选形成第一混合液的过程还包括将第一混合液加热至150~330℃的步骤,优选加热至180~270℃。以提供更具有反应活性的第一混合液,提高第一InP核的生成速度。
为了增加In的利用率,优选上述第一In前驱体中In与第一P前驱体中P的摩尔比为0.5:1~10:1,优选为1:1~5:1。
本申请中为了保证后续纳米团簇具有较合适的分解速度,优选采用本申请的方法予以制备,即上述制备方法还包括InP纳米团簇的制备步骤,制备步骤包括:将第二In前驱体、可选的第三配体与第二非络合溶剂混合,形成第三混合液;将第二含P前驱体、可选的第四配体,单独或混合形成第二P前驱体反应物;将第二P前驱体反应物加入到第三混合液中形成第二反应体系,并使第二反应体系在25~150℃下反应,优选在100~120℃下反应,得到含有InP纳米团簇的第四混合液。同样地,为了提供更具有反应活性的第三混合液,提高InP纳米团簇的生成速度,优选形成第三混合液的过程还包括将第三混合液加热至100~200℃的步骤。
利用上述过程制备了第二混合液和第四混合液后,不需要将其中的第一InP核和InP纳米团簇分离,直接进行下一步的反应即可,优选上述步骤S1包括:将第二混合液和第四混合液混合,加热至150~330℃,优选为180~270℃,得到含有第二InP核的第五混合液。
本申请上述过程所涉及的原料,均可从现有技术中常用的原料中进行选择,为了提高产率,优选上述第一In前驱体和第二In前驱体各自独立地选自InCl3、InMA3和InAc3中的一种或多种;优选第一配体和第三配体各自独立地选自脂肪酸,更优选脂肪酸选自十四酸、十六酸、十八酸和十二酸中的一种或多种;优选第二配体和第四配体各自独立地选自胺配体和/或膦配体,更优选胺配体为脂肪胺,进一步优选脂肪胺选自正己胺、辛胺、十二胺和二丙胺中的一种或多种,优选膦配体选自三辛基膦、三丁基膦和三己基膦中的一种或多种;优选第一非络合溶剂和第二非络合溶剂各自独立地选自烯烃、烷烃、醚类和芳香族化合物中的一种或多种。
本申请的步骤S2可以在采用前述方法形成第二InP核后,直接进行,当InP量子点为InP/ZnSexS1-x时,优选上述步骤S2包括:将可选的第五配体、所述Zn前驱体、所述Se前驱体和可选的所述S前驱体一起加入所述第五混合液中,形成第三反应体系;加热使所述第三反应体系在180~320℃下进行外延生长反应,优选在220~280℃下,形成所述InP/ZnSexS1-x量子点。外延生长在上述温度范围内进行,既能保证外延生长的顺利进行,而且保证外延生长的均匀性。当InP量子点为InP/ZnSe/ZnS时,上述步骤S2包括:将可选的第五配体、Zn前驱体、Se前驱体加入到第五混合液中进行第一外延反应,得到第六混合液;将S前驱体到第六混合液中进行第二外延反应,得到InP/ZnSe/ZnS量子点,其中第一外延反应和第二外延反应各自独立地在180~320℃下进行,优选各自独立地在220~280℃下进行。
本申请步骤S2所涉及的原料,均可从现有技术中常用的原料中进行选择,为了提高产率,优选上述Zn前驱体为羧酸锌,优选羧酸锌选自醋酸锌、硬脂酸锌、油酸锌和十一烯酸锌中的一种或多种;优选Se前驱体选自Se-TOP溶液、Se-TBP溶液、Se-ODE溶液和Se粉-ODE悬浊液中的一种或多种;优选S前驱体选自S-TOP溶液、S-TBP溶液和S-ODE溶液中的一种或多种;优选第五配体选自饱和脂肪胺、不饱和脂肪胺、饱和脂肪酸和不饱和脂肪酸中的一种或多种。
在本申请另一种典型的实施方式中,提供了一种InP量子点,该InP量子点包括纳米晶核和包裹在纳米晶核上的壳层,纳米晶核为InP;壳层为ZnSexS1-x,其中0<x≤1,InP量子点发射波长在520~660nm范围内可调,且InP量子点的半峰宽为38~55nm,量子效率≥60%。所形成的壳层中具有Se,InP和ZnSe的晶格常数差距较小,因此使壳层可以较为容易地包覆在InP颗粒表面,进而使得本申请的InP量子点具有较高的发光效率和稳定性。此外,由于本申请提供的InP量子点的半峰宽为38~55nm,因此其发光颜色较为纯净。
以下将结合实施例和对比例,进一步说明本申请的有益效果。
实施例1
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至140℃形成第三混合液。在140℃稳定10min后,将第三混合液降温至90℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.045mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至90℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在90℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。对第四混合液中的InP纳米团簇进行TEM检测和UV测试,其中的TEM图像和粒径分布柱状图和UV图像分别如图1和图2所示。
第二InP核的合成
将0.27mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.8mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至230℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在230℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在230℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。对第二混合液中的第一InP核和第四混合液中的第二InP核进行TEM检测,其中,第一InP核的TEM图像和粒径分布柱状图如图3所示,第二InP核的TEM图像和粒径分布柱状图如图4所示,TEM图像中颗粒较均一。第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核的UV检测图谱变化如图5所示,随着核的生长UV图谱逐渐红移,且半半峰宽逐渐变窄。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至250℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.09mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.21mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在250℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。其中,InP/ZnSeS量子点的TEM检测结果如图6所示,图6显示颗粒分布均一,形貌良好;PL荧光光谱图像如图7所示,图7显示峰形对称性良好,且无拖尾。
实施例2
InP纳米团簇的合成:
将0.1mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.3mmol十四酸和1.5g正二十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至100℃形成第三混合液。在100℃稳定10min后,将第三混合液降温至25℃,然后将0.033mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.033mmol三辛基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至25℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在25℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.045mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.05mmol十二酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至150℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在150℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在150℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSe的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至180℃,并向其中加入0.2mmol丙酸锌、0.4mmol油胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.4mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在180℃下反应30min后,降至室温得到含有InP/ZnSe的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSe溶液。
实施例3
InP纳米团簇的合成:
将0.1mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.3mmol十四酸和1.5g正二十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至100℃形成第三混合液。在100℃稳定10min后,将第三混合液降温至60℃,然后将0.033mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.033mmol三辛基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至60℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在60℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.09mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至180℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol十二胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在180℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在180℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至220℃,并向其中加入0.2mmol丙酸锌、0.4mmol油胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.2mmol)、S-TBP(硫-三丁基膦,0.18mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在220℃下反应30min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例4
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液降温至80℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.045mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至80℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在80℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.18mmol In(MA)3(醋酸铟)、0.6mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至200℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在200℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在200℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至240℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.06mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.24mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在240℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例5
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.13mmol InCl3(氯化铟)、0.8mmol十八酸和4.0g十八烯加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至140℃形成第三混合液。在140℃稳定10min后,将第三混合液降温至100℃,然后将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol十二胺组成的第二P前驱体反应物快速注入至100℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在100℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.36mmol InCl3(氯化铟)、1mmol十六酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至250℃保温,得到第一混合液。将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol三丁基膦形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在250℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在250℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时20min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至260℃,并向其中加入0.5mmol油酸锌、1mmol十八胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.2mmol)、S-TBP(硫-三丁基膦,0.3mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在260℃下反应50min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例6
InP纳米团簇的合成:
将0.2mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.2mmol InCl3(氯化铟)、1.6mmol十八酸和6.0g十八烯加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在160℃稳定10min后,将第三混合液降温至120℃,然后将0.15mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.15mmol十二胺组成的第二P前驱体反应物快速注入至120℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在120℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.45mmol InCl3(氯化铟)、1.4mmol十六酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至270℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol三丁基膦形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在270℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在270℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时30min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至280℃,并向其中加入0.5mmol油酸锌、1mmol十八胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.25mmol)、S-ODE(硫-十八烯,0.25mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在280℃下反应50min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例7
InP纳米团簇的合成:
将0.4mmol InCl3(氯化铟)、1.6mmol十六酸和6.0g十八烯加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至180℃形成第三混合液。在180℃稳定10min后,将第三混合液降温至130℃,然后将0.15mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.15mmol辛胺组成的第二P前驱体反应物快速注入至130℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在130℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.3mmol InCl3(氯化铟)、0.3mmol In(Ac)3(醋酸铟)、1.8mmol十八酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至300℃保温,得到第一混合液。将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol三辛基膦形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在300℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在300℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时30min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至300℃,并向其中加入0.6mmol油酸锌、1.2mmol十八胺、Se-ODE(硒-十八烯,0.36mmol)、S-TBP(硫-三丁基膦,0.24mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在300℃下反应50min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例8
InP纳米团簇的合成:
将0.4mmol InCl3(氯化铟)、1.6mmol十六酸和6.0g十八烯加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至200℃形成第三混合液。在200℃稳定10min后,将第三混合液降温至150℃,然后将0.15mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.15mmol辛胺组成的第二P前驱体反应物快速注入至150℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在150℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.45mmol InCl3(氯化铟)、0.45mmol In(Ac)3(醋酸铟)、2.7mmol十八酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至330℃保温,得到第一混合液。将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol三辛基膦形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在330℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在330℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时30min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至320℃,并向其中加入0.6mmol油酸锌、1.2mmol十八胺、Se-ODE(硒-十八烯,0.54mmol)、S-TBP(硫-三丁基膦,0.06mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在320℃下反应50min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例9
InP纳米团簇的合成:
将0.1mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十四酸和1.5g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液降温至100℃,然后将0.033mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.033mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至100℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在100℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.03mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.03mmol十四酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol十六胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在120℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在120℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSe的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至220℃,并向其中加入0.2mmol丙酸锌、0.4mmol油胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.2mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在220℃下反应30min后,降至室温得到含有InP/ZnSe的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSe溶液。
实施例10
InP纳米团簇的合成:
将0.4mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.3mmol十四酸和1.5g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液降温至100℃,然后将0.15mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.15mmol十二胺组成的第二P前驱体反应物快速注入至100℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在100℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将1.35mmol In(MA)3(十四酸铟)、1.4mmol十四酸和6.0g异三十烷加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至350℃保温,得到第一混合液。将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol十六胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在350℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在350℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时30min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至280℃,并向其中加入0.5mmol丙酸锌、1mmol油胺、Se-TBP(硒-三丁基膦,0.3mmol)、S-TBP(硫-三丁基膦,0.2mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在280℃下反应50min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例11
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液升温至180℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.045mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至180℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在180℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.18mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.6mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至200℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在200℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在200℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至240℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.06mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.24mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在240℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例12
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液升温至180℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.045mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至180℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在180℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.18mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.6mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至200℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在200℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在200℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至150℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.06mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.24mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在150℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
实施例13
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)、0.1mmol十二酸和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至140℃形成第三混合液。在140℃稳定10min后,将第三混合液降温至90℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.045mmol三丁基膦组成的第二P前驱体反应物快速注入至90℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在90℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。
第二InP核的合成
将0.27mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.8mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至230℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在230℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在230℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSe/ZnS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至250℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.09mmol)反应10min后再加入S-TOP(硫-三辛基膦,0.21mmol)反应30min,形成第三反应体系,降至室温得到含有InP/ZnSe/ZnS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSe/ZnS溶液。
实施例14
InP纳米团簇的合成:
将0.13mmol In(MA)3(十四酸铟)和2.0g异三十烷加入到50mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至120℃形成第三混合液。在120℃稳定10min后,将第三混合液降温至80℃,然后将0.045mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)第二P前驱体反应物快速注入至80℃的第三混合液中形成第二反应体系,使第二反应体系在80℃下反应5min后得到含InP纳米团簇的第四混合液。第二InP核的合成
将0.18mmol In(MA)3和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至230℃保温,得到第一混合液。将0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在230℃下反应8min后得到含第一InP核的第二混合液。在230℃下,将前述步骤合成的含InP纳米团簇的第四混合液滴加至含第一InP核的第二混合液中,用时10min制得生长后的含有第二InP核的第五混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第二InP核的第五混合液的温度稳定至240℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.06mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.24mmol)形成第三反应体系,使第三反应体系在240℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSeS溶液。
对比例1
InP核的合成
将0.27mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.8mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至230℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在230℃下反应8min,然后再补加0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物,最后得到含第一InP核的第二混合液。
InP/ZnSeS的包覆合成
将含有第一InP核的第二混合液的温度稳定至250℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.09mmol)、S-TOP(硫-三辛基膦,0.21mmol)形成第二反应体系,使第二反应体系在250℃下反应40min后,降至室温得到含有InP/ZnSeS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSe0.3S0.7溶液。
对比例2
InP核的合成
将0.27mmol In(Ac)3(醋酸铟)、0.8mmol十四酸和6.0g十八烯加入到100mL三口烧瓶中,并将该三口烧瓶在N2排气状态下加热至230℃保温,得到第一混合液。将0.09mmolTMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物快速注入第一混合液中形成第一反应体系,使第一反应体系在230℃下反应8min,然后再补加0.09mmol TMS-P(三(三甲基硅)膦)和0.09mmol辛胺形成的第一P前驱体反应物,最后得到含第一InP核的第二混合液。
InP/ZnSe/ZnS的包覆合成
将含有第一InP核的第二混合液的温度稳定至250℃,并向其中加入0.3mmol硬脂酸锌、0.6mmol油酸、Se-TOP(硒-三辛基膦,0.09mmol)反应10min后再加入S-TOP(硫-三辛基膦,0.21mmol)反应30min,形成第三反应体系,降至室温得到含有InP/ZnSe/ZnS的产物体系,用甲醇三次萃取该产物体系,得到萃取物;用丙酮沉淀该萃取物,并将沉淀物离心,然后将离心后得到的沉淀溶解在甲苯中,得到InP/ZnSe/ZnS溶液。
对实施例1~14和对比例1、2中制备得到的InP/ZnSexS1-x和InP/ZnSe/ZnS量子点进行各项检测表征,采用透射电镜检测纳米晶的尺寸和粒度分布,采用紫外光谱和荧光光谱测定量子点的吸收和发射光谱,采用积分球检测量子效率,测试结果记录在表1中。其中,实施例1~14和对比例1、2中制备的量子点均为微球状和闪锌矿结构。
表1
由表1中实施例1~14的数据可以看出,本申请所得到的量子点的PL半峰宽在38~55nm,量子效率在60%以上,PL的位置(发射波长)在520~660nm范围内可调,且半峰宽和量子效率明显优于对比例得到的量子点。另外,根据实施例1~8可以看出,随着第一InP核制备温度的升高,其颗粒尺寸逐渐增大。并且随着InP纳米团簇加入量的增加,第二InP核的颗粒尺寸逐渐增大。通过调节ZnSeS包覆中各前驱体的加入量,可控制包覆层的组成和厚度。根据对比例1和实施例1的对比可以看出,第一InP核直接包覆生成的InP/ZnSe0.3S0.7半峰宽偏大,效率偏低。根据实施例9~10可以才看出,在第一和第二InP核的制备中,过高或者过低的In:P比及反应温度不利于颗粒的尺寸和均一性控制,并使得InP/ZnSeS半峰宽偏大,效率偏低。根据实施例11可以才看出,过高的InP团簇制备温度,不利于其在第一InP核上的扩散生长,得到的InP/ZnSeS发射波长偏小,半峰宽偏大,效率偏低。根据实施例12可以看出,过低的ZnSeS包覆温度,使得包覆效果减弱,效率降低。根据实施例14的结果可以看出,即使没有使用配体,适当提高第一InP核的合成温度也可以合成InP量子点,只是相对于实施例4,来说,量子效率降低,但是仍高于对比例的量子效率。
从以上的描述中,可以看出,本发明上述的实施例实现了如下技术效果:
利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核时,InP纳米团簇的小颗粒团簇快速分解,并且在大颗粒第一InP核上扩散生长,在该过程中通过调节配体加入量、团簇溶液加入量、反应温度和时间控制紫外可见光谱第一激子峰位置;在扩散生长中,第一InP核颗粒大小的不同对生长存在影响,即纳米团簇溶解后的In前体和P前体在较小颗粒上生长较快,较大颗粒上生长较慢,从而使所得的第二InP核的颗粒尺寸更均一,半半峰宽变窄;同时所形成的壳层中含有Se,InP和ZnSe的晶格常数差距较小,因此使壳层可以较为容易地包覆在第二InP核颗粒表面,进而使得本申请的InP/ZnSexS1-x或者InP/ZnSe/ZnS量子点具有较高的发光效率和较窄的半峰宽。壳层中同时含有Se元素和S元素,使得壳层的包覆厚度及InP量子点的发光效率和稳定性得到进一步改善。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (13)
1.一种InP量子点的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
步骤S1,利用第一InP核和InP纳米团簇制备第二InP核;
步骤S2,以所述第二InP核为核,使Zn前驱体、Se前驱体和可选的S前驱体通过外延生长法在所述第二InP核的表面形成包含ZnSexS1-x或者ZnSe/ZnS的壳层,得到InP/ZnSexS1-x量子点或者InP/ZnSe/ZnS量子点,0<x≤1。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1的反应温度为150~330℃,优选为180~270℃。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述第二InP核在紫外可见光谱下的第一激子峰位置在440~600nm范围内可调。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括所述第一InP核的制备过程,所述制备过程包括:
将第一In前驱体、可选的第一配体、第一非络合溶剂混合形成第一混合液;
将第一P前驱体、可选的第二配体,单独或混合形成第一P前驱体反应物;
将所述第一P前驱体反应物加入到所述第一混合液中形成第一反应体系,加热使所述第一反应体系的反应温度保持在150~330℃,优选180~270℃,得到含有所述第一InP核的第二混合液。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述形成第一混合液的过程还包括将第一混合液加热至150~330℃的步骤,优选加热至180~270℃。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述第一In前驱体中In与所述第一P前驱体中P的摩尔比为0.5:1~10:1,优选为1:1~5:1。
7.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括所述InP纳米团簇的制备步骤,所述制备步骤包括:
将第二In前驱体、可选的第三配体、第二非络合溶剂混合,形成第三混合液;
将第二含P前驱体、可选的第四配体,单独或混合形成第二P前驱体反应物;
将所述第二P前驱体反应物加入到所述第三混合液中形成第二反应体系,并使所述第二反应体系在25~150℃下反应,优选在100~120℃下反应,得到含有所述InP纳米团簇的第四混合液。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述形成第三混合液的过程还包括将第三混合液加热至100~200℃的步骤。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1包括:
将所述第二混合液和所述第四混合液混合,加热至150~330℃,优选为180~270℃,得到含有所述第二InP核的第五混合液。
10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述第一In前驱体和第二In前驱体各自独立地选自InCl3、In MA3和InAc3中的一种或多种;优选所述第一配体和所述第三配体各自独立地选自脂肪酸,更优选所述脂肪酸选自十四酸、十六酸、十八酸和十二酸中的一种或多种;优选所述第二配体和所述第四配体各自独立地选自胺配体和/或膦配体,更优选所述胺配体为脂肪胺,进一步优选所述脂肪胺选自正己胺、辛胺、十二胺和二丙胺中的一种或多种,优选所述膦配体选自三辛基膦、三丁基膦和三己基膦中的一种或多种;优选所述第一非络合溶剂和第二非络合溶剂各自独立地选自烯烃、烷烃、醚类和芳香族化合物中的一种或多种。
11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述InP量子点为InP/ZnSexS1-x,所述步骤S2包括:
将可选的第五配体、所述Zn前驱体、所述Se前驱体和可选的所述S前驱体一起加入所述第五混合液中,形成第三反应体系;
加热使所述第三反应体系在180~320℃下进行外延生长反应,优选在220~280℃下,形成所述InP/ZnSexS1-x量子点;
所述InP量子点为InP/ZnSe/ZnS,所述步骤S2包括:
将可选的第五配体、所述Zn前驱体、所述Se前驱体加入到所述第五混合液中进行第一外延反应,得到第六混合液;
将所述S前驱体到所述第六混合液中进行第二外延反应,得到所述InP/ZnSe/ZnS量子点,其中所述第一外延反应和所述第二外延反应各自独立地在180~320℃下进行,优选各自独立地在220~280℃下进行。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,所述Zn前驱体为羧酸锌,优选所述羧酸锌选自醋酸锌、硬脂酸锌、油酸锌和十一烯酸锌中的一种或多种;优选所述Se前驱体选自Se-TOP溶液、Se-TBP溶液、Se-ODE溶液和Se粉-ODE悬浊液中的一种或多种;优选所述S前驱体选自S-TOP溶液、S-TBP溶液和S-ODE溶液中的一种或多种;优选所述第五配体选自饱和脂肪胺、不饱和脂肪胺、饱和脂肪酸和不饱和脂肪酸中的一种或多种。
13.一种InP量子点,其特征在于,包括:
纳米晶核,所述纳米晶核为InP;以及
包裹在所述纳米晶核上的壳层,所述壳层为ZnSexS1-x或者ZnSe/ZnS,其中0<x≤1,
所述InP量子点发射波长在520~660nm范围内可调,且所述InP量子点的半峰宽为38~55nm,量子效率≥60%。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610834922.1A CN106479482B (zh) | 2016-09-20 | 2016-09-20 | InP量子点及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610834922.1A CN106479482B (zh) | 2016-09-20 | 2016-09-20 | InP量子点及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106479482A true CN106479482A (zh) | 2017-03-08 |
CN106479482B CN106479482B (zh) | 2018-11-06 |
Family
ID=58267527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610834922.1A Active CN106479482B (zh) | 2016-09-20 | 2016-09-20 | InP量子点及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106479482B (zh) |
Cited By (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108384531A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-08-10 | 纳晶科技股份有限公司 | Iii-v族核壳量子点的制备方法及含其的器件、组合物 |
CN108546553A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-18 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-ii-vi合金量子点、其制备方法及其应用 |
CN108641720A (zh) * | 2018-06-08 | 2018-10-12 | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 | 一种量子点及其合成方法 |
CN108795425A (zh) * | 2017-04-28 | 2018-11-13 | Tcl集团股份有限公司 | 核壳结构的InP/ZnS纳米晶的制备方法 |
CN108893120A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-11-27 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳量子点、其制备方法及应用 |
CN108893119A (zh) * | 2018-07-18 | 2018-11-27 | 纳晶科技股份有限公司 | InP基合金量子点的制备方法及量子点、器件及组合物 |
CN109575913A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-04-05 | 深圳扑浪创新科技有限公司 | 一种具有核壳结构的磷化铟量子点及其制备方法和用途 |
CN110028948A (zh) * | 2018-01-11 | 2019-07-19 | 三星电子株式会社 | 无镉量子点、其制造方法、包括其的组合物、量子点-聚合物复合物和显示器件 |
CN110157411A (zh) * | 2019-06-26 | 2019-08-23 | 纳晶科技股份有限公司 | Ⅱ-ⅲ-ⅴ-ⅵ合金量子点的制备方法及其应用 |
CN110317609A (zh) * | 2019-08-06 | 2019-10-11 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点、其制备方法及光电器件 |
CN110373187A (zh) * | 2019-07-01 | 2019-10-25 | 浙江大学 | Iii-v族量子点的制备方法 |
CN110373194A (zh) * | 2019-07-30 | 2019-10-25 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳型量子点、其制备方法及其应用 |
CN110506096A (zh) * | 2017-04-12 | 2019-11-26 | 浙江大学 | Iii-v族量子点及其制备方法 |
CN110616072A (zh) * | 2018-06-20 | 2019-12-27 | 深圳Tcl工业研究院有限公司 | 一种InP量子点的后处理方法 |
CN110746974A (zh) * | 2018-07-24 | 2020-02-04 | Tcl集团股份有限公司 | 量子点及其制备方法 |
CN110819347A (zh) * | 2018-08-09 | 2020-02-21 | 纳晶科技股份有限公司 | 无镉量子点及其制备方法 |
US10590340B2 (en) | 2018-01-11 | 2020-03-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
CN111117621A (zh) * | 2020-01-07 | 2020-05-08 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点核和核壳量子点的制备方法及量子点材料、组合物 |
CN111234821A (zh) * | 2018-11-29 | 2020-06-05 | 三星显示有限公司 | 量子点、包括其的组合物或复合物以及包括其的显示装置 |
KR102137824B1 (ko) * | 2019-11-27 | 2020-07-24 | 주식회사 신아티앤씨 | 양자점 및 이의 제조방법 |
CN111484849A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点及其制备方法、量子点墨水、发光器件及其制备方法 |
CN111662715A (zh) * | 2019-03-05 | 2020-09-15 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种核壳量子点及其制备方法与量子点膜及发光二极管 |
WO2020211834A1 (zh) * | 2019-04-18 | 2020-10-22 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 利用新型磷前驱体制备磷化铟纳米晶的方法及其制备的磷化铟纳米晶 |
CN111826158A (zh) * | 2019-04-18 | 2020-10-27 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 磷化铟纳米晶的制备方法 |
WO2020216265A1 (zh) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-iii-v-vi族量子点、其制备方法及量子点光电器件 |
CN111971367A (zh) * | 2018-03-28 | 2020-11-20 | 大邱庆北科学技术院 | 具有用于高色纯度显示屏的发光波长及小的半值宽度的红色发光量子点及其制备方法 |
US10851298B2 (en) | 2018-08-30 | 2020-12-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electronic device including quantum dots |
CN112048300A (zh) * | 2019-06-05 | 2020-12-08 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种无镉量子点及其制备方法、量子点光电器件 |
CN112143496A (zh) * | 2019-06-28 | 2020-12-29 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 红光磷化铟纳米晶的制备方法及由其制备的产品 |
CN112266791A (zh) * | 2020-10-14 | 2021-01-26 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 一种量子点及其制备方法、量子点膜、显示装置 |
EP3733812A4 (en) * | 2017-12-29 | 2021-05-19 | TCL Technology Group Corporation | QUANTUM POINT, MANUFACTURING METHOD FOR IT AND USE OF IT |
CN113637477A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-12 | 浙江臻纳科技有限公司 | InP量子点及制备方法、InP/ZnSe、InP/ZnSe/ZnS量子点 |
CN113637469A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-11-12 | 浙江臻纳科技有限公司 | 一种无镉量子点及其制备方法 |
WO2022017464A1 (zh) * | 2020-07-23 | 2022-01-27 | 纳晶科技股份有限公司 | 纳米晶的制备方法、纳米晶及含其的光学膜、发光器件 |
US20220259495A1 (en) * | 2019-05-03 | 2022-08-18 | Merck Patent Gmbh | Method for synthesizing a semiconducting nanosized material |
US11512254B2 (en) | 2019-10-07 | 2022-11-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, and an electronic device including the same |
CN116875314A (zh) * | 2023-02-27 | 2023-10-13 | 中国计量大学 | 一种InP/ZnSexS1-x/ZnS量子点的制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103113882A (zh) * | 2013-02-20 | 2013-05-22 | 杭州纳晶科技有限公司 | 具有核-壳结构的纳米晶量子点及其制备方法 |
CN103952137A (zh) * | 2014-04-29 | 2014-07-30 | 吉林大学 | 一种白光量子点材料及制备方法 |
WO2014140936A2 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Nanoco Technologies, Ltd. | Multi-layer-coated quantum dot beads |
-
2016
- 2016-09-20 CN CN201610834922.1A patent/CN106479482B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103113882A (zh) * | 2013-02-20 | 2013-05-22 | 杭州纳晶科技有限公司 | 具有核-壳结构的纳米晶量子点及其制备方法 |
WO2014140936A2 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Nanoco Technologies, Ltd. | Multi-layer-coated quantum dot beads |
CN103952137A (zh) * | 2014-04-29 | 2014-07-30 | 吉林大学 | 一种白光量子点材料及制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
CHRISTIAN IPPEN等: "InP/ZnSe/ZnS: A Novel Multishell System for InP Quantum Dots for Improved Luminescence Efficiency and Its application in a Light-Emitting Device", 《JOURNAL OF INFORMATION DISPLAY》 * |
JAEHOON LIM等: "Highly Efficient Cadmium-Free Quantum Dot Light-Emitting Diodes Enabled by the Direct Formation of Excitons within InP@ZnSeS Quantum Dots", 《ACS NANO》 * |
Cited By (69)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110506096B (zh) * | 2017-04-12 | 2023-04-28 | 浙江大学 | Iii-v族量子点及其制备方法 |
CN110506096A (zh) * | 2017-04-12 | 2019-11-26 | 浙江大学 | Iii-v族量子点及其制备方法 |
CN108795425A (zh) * | 2017-04-28 | 2018-11-13 | Tcl集团股份有限公司 | 核壳结构的InP/ZnS纳米晶的制备方法 |
EP3733812A4 (en) * | 2017-12-29 | 2021-05-19 | TCL Technology Group Corporation | QUANTUM POINT, MANUFACTURING METHOD FOR IT AND USE OF IT |
US11499095B2 (en) | 2017-12-29 | 2022-11-15 | Tcl Technology Group Corporation | Quantum dot, preparation method therefor and use thereof |
US11781063B2 (en) | 2018-01-11 | 2023-10-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
US10590340B2 (en) | 2018-01-11 | 2020-03-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
CN110028948A (zh) * | 2018-01-11 | 2019-07-19 | 三星电子株式会社 | 无镉量子点、其制造方法、包括其的组合物、量子点-聚合物复合物和显示器件 |
US10975298B2 (en) | 2018-01-11 | 2021-04-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
US11845888B2 (en) | 2018-01-11 | 2023-12-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cadmium free quantum dots |
US11312901B2 (en) | 2018-01-11 | 2022-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
CN108384531B (zh) * | 2018-03-12 | 2020-07-07 | 纳晶科技股份有限公司 | Iii-v族核壳量子点的制备方法及含其的器件、组合物 |
CN108384531A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-08-10 | 纳晶科技股份有限公司 | Iii-v族核壳量子点的制备方法及含其的器件、组合物 |
CN111971367B (zh) * | 2018-03-28 | 2023-04-14 | 大邱庆北科学技术院 | 具有用于高色纯度显示屏的发光波长及小的半值宽度的红色发光量子点及其制备方法 |
CN111971367A (zh) * | 2018-03-28 | 2020-11-20 | 大邱庆北科学技术院 | 具有用于高色纯度显示屏的发光波长及小的半值宽度的红色发光量子点及其制备方法 |
EP3760692A4 (en) * | 2018-03-28 | 2021-10-20 | Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology | RED-EMITTING QUANTUM BOXES HAVING A NARROW TOTAL WIDTH AT MID-HEIGHT AND EMISSION WAVELENGTH FOR APPLICATION TO HIGH PURITY COLOR DISPLAY, AND THEIR PREPARATION PROCESS |
US11525084B2 (en) | 2018-05-10 | 2022-12-13 | Najing Technology Corporation Limited | II-II-VI alloy quantum dot, preparation method therefor and application thereof |
CN108546553B (zh) * | 2018-05-10 | 2022-12-02 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-ii-vi合金量子点、其制备方法及其应用 |
CN108546553A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-09-18 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-ii-vi合金量子点、其制备方法及其应用 |
CN108641720A (zh) * | 2018-06-08 | 2018-10-12 | 嘉兴纳鼎光电科技有限公司 | 一种量子点及其合成方法 |
CN110616072A (zh) * | 2018-06-20 | 2019-12-27 | 深圳Tcl工业研究院有限公司 | 一种InP量子点的后处理方法 |
CN108893119B (zh) * | 2018-07-18 | 2021-06-25 | 纳晶科技股份有限公司 | InP基合金量子点的制备方法及量子点、器件及组合物 |
CN108893119A (zh) * | 2018-07-18 | 2018-11-27 | 纳晶科技股份有限公司 | InP基合金量子点的制备方法及量子点、器件及组合物 |
CN110746974A (zh) * | 2018-07-24 | 2020-02-04 | Tcl集团股份有限公司 | 量子点及其制备方法 |
CN110819347B (zh) * | 2018-08-09 | 2022-10-04 | 纳晶科技股份有限公司 | 无镉量子点及其制备方法 |
CN110819347A (zh) * | 2018-08-09 | 2020-02-21 | 纳晶科技股份有限公司 | 无镉量子点及其制备方法 |
CN108893120A (zh) * | 2018-08-13 | 2018-11-27 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳量子点、其制备方法及应用 |
CN108893120B (zh) * | 2018-08-13 | 2022-07-29 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳量子点、其制备方法及应用 |
US11060026B2 (en) | 2018-08-30 | 2021-07-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electronic device including quantum dots |
US10851298B2 (en) | 2018-08-30 | 2020-12-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electronic device including quantum dots |
CN111234821B (zh) * | 2018-11-29 | 2023-09-26 | 三星显示有限公司 | 量子点、包括其的组合物或复合物以及包括其的显示装置 |
US11760930B2 (en) | 2018-11-29 | 2023-09-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Quantum dots, a composition or composite including the same, and an electronic device including the same |
CN111234821A (zh) * | 2018-11-29 | 2020-06-05 | 三星显示有限公司 | 量子点、包括其的组合物或复合物以及包括其的显示装置 |
CN109575913A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-04-05 | 深圳扑浪创新科技有限公司 | 一种具有核壳结构的磷化铟量子点及其制备方法和用途 |
CN109575913B (zh) * | 2019-01-22 | 2022-05-24 | 深圳扑浪创新科技有限公司 | 一种具有核壳结构的磷化铟量子点及其制备方法和用途 |
CN111484849A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点及其制备方法、量子点墨水、发光器件及其制备方法 |
CN111484849B (zh) * | 2019-01-25 | 2023-01-13 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点及其制备方法、量子点墨水、发光器件及其制备方法 |
CN111662715B (zh) * | 2019-03-05 | 2022-09-06 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种核壳量子点及其制备方法与量子点膜及发光二极管 |
CN111662715A (zh) * | 2019-03-05 | 2020-09-15 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种核壳量子点及其制备方法与量子点膜及发光二极管 |
CN111826158A (zh) * | 2019-04-18 | 2020-10-27 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 磷化铟纳米晶的制备方法 |
US11827827B2 (en) | 2019-04-18 | 2023-11-28 | Suzhou Xingshuo Nanotech Co., Ltd. | Method for preparing indium phosphide nanocrystal by using novel phosphorus precursor and indium phosphide nanocrystal prepared by the same |
CN111826158B (zh) * | 2019-04-18 | 2021-08-20 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 磷化铟纳米晶的制备方法 |
WO2020211834A1 (zh) * | 2019-04-18 | 2020-10-22 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 利用新型磷前驱体制备磷化铟纳米晶的方法及其制备的磷化铟纳米晶 |
CN111849456A (zh) * | 2019-04-26 | 2020-10-30 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-iii-v-vi族量子点及其制备方法 |
CN111849456B (zh) * | 2019-04-26 | 2021-12-14 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-iii-v-vi族量子点及其制备方法 |
WO2020216265A1 (zh) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种ii-iii-v-vi族量子点、其制备方法及量子点光电器件 |
US20220259495A1 (en) * | 2019-05-03 | 2022-08-18 | Merck Patent Gmbh | Method for synthesizing a semiconducting nanosized material |
US11873434B2 (en) * | 2019-05-03 | 2024-01-16 | Merck Patent Gmbh | Method for synthesizing a semiconducting nanosized material |
CN112048300A (zh) * | 2019-06-05 | 2020-12-08 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种无镉量子点及其制备方法、量子点光电器件 |
CN112048300B (zh) * | 2019-06-05 | 2023-02-07 | 纳晶科技股份有限公司 | 一种无镉量子点及其制备方法、量子点光电器件 |
CN110157411A (zh) * | 2019-06-26 | 2019-08-23 | 纳晶科技股份有限公司 | Ⅱ-ⅲ-ⅴ-ⅵ合金量子点的制备方法及其应用 |
WO2020259624A1 (zh) * | 2019-06-26 | 2020-12-30 | 纳晶科技股份有限公司 | Ⅱ-ⅲ-ⅴ-ⅵ合金量子点的制备方法及其应用 |
CN112143496B (zh) * | 2019-06-28 | 2021-08-20 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 红光磷化铟纳米晶的制备方法及由其制备的产品 |
CN112143496A (zh) * | 2019-06-28 | 2020-12-29 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 红光磷化铟纳米晶的制备方法及由其制备的产品 |
WO2021000892A1 (zh) * | 2019-07-01 | 2021-01-07 | 浙江大学 | Iii-v族量子点的制备方法 |
CN110373187A (zh) * | 2019-07-01 | 2019-10-25 | 浙江大学 | Iii-v族量子点的制备方法 |
CN110373194A (zh) * | 2019-07-30 | 2019-10-25 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳型量子点、其制备方法及其应用 |
CN110373194B (zh) * | 2019-07-30 | 2022-09-02 | 纳晶科技股份有限公司 | 核壳型量子点、其制备方法及其应用 |
CN110317609A (zh) * | 2019-08-06 | 2019-10-11 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点、其制备方法及光电器件 |
US11512254B2 (en) | 2019-10-07 | 2022-11-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, and an electronic device including the same |
US11981850B2 (en) | 2019-10-07 | 2024-05-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Quantum dots, and an electronic device including the same |
KR102137824B1 (ko) * | 2019-11-27 | 2020-07-24 | 주식회사 신아티앤씨 | 양자점 및 이의 제조방법 |
CN111117621A (zh) * | 2020-01-07 | 2020-05-08 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点核和核壳量子点的制备方法及量子点材料、组合物 |
CN111117621B (zh) * | 2020-01-07 | 2022-12-02 | 纳晶科技股份有限公司 | 量子点核和核壳量子点的制备方法及量子点材料、组合物 |
WO2022017464A1 (zh) * | 2020-07-23 | 2022-01-27 | 纳晶科技股份有限公司 | 纳米晶的制备方法、纳米晶及含其的光学膜、发光器件 |
CN112266791A (zh) * | 2020-10-14 | 2021-01-26 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 一种量子点及其制备方法、量子点膜、显示装置 |
CN113637469A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-11-12 | 浙江臻纳科技有限公司 | 一种无镉量子点及其制备方法 |
CN113637477A (zh) * | 2021-08-20 | 2021-11-12 | 浙江臻纳科技有限公司 | InP量子点及制备方法、InP/ZnSe、InP/ZnSe/ZnS量子点 |
CN116875314A (zh) * | 2023-02-27 | 2023-10-13 | 中国计量大学 | 一种InP/ZnSexS1-x/ZnS量子点的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106479482B (zh) | 2018-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106479482A (zh) | InP量子点及其制备方法 | |
CN106479481B (zh) | ZnSe/III-V族/ZnSexS1-x或ZnSe/III-V族/ZnSe/ZnS量子点及其制备方法 | |
TWI619856B (zh) | 高量子產率之InP/ZnS奈米結晶的連續合成 | |
CN108192606A (zh) | 全无机钙钛矿量子点制备方法 | |
CN103450904B (zh) | 具有核-壳结构的掺杂半导体纳米晶量子点及其制备方法 | |
CN100572500C (zh) | 环糊精修饰的CdTe量子点的水相制备方法 | |
CN105670633B (zh) | 一种微通道反应器连续制备量子点的方法 | |
CN111117602B (zh) | 具有梯度核壳结构的大尺寸磷化铟量子点的制备方法 | |
CN110734767B (zh) | 一种制备尺寸可控的有机相硒化银量子点的方法 | |
CN111139060B (zh) | 具有周期核壳结构的超大尺寸磷化铟量子点的制备方法 | |
CN103361066A (zh) | 一步法合成CdSe/CdS核壳结构量子点的制备方法 | |
CN102786299A (zh) | 掺杂Mn和Zn元素的超顺磁性铁氧体纳米微球及其制备方法 | |
CN104781185B (zh) | 合成氮化物纳米晶体的方法 | |
CN106566553A (zh) | 合成ZnxCd1‑xSe,ZnxCd1‑xSe/ZnS和ZnxCd1‑xSe/ZnS/ZnS合金量子点的方法 | |
CN109970887A (zh) | 一种聚合物配体、量子点及其制备方法 | |
CN107866577B (zh) | 一种瞬动微流管反应器制备单分散银粉的方法 | |
CN105018069B (zh) | 一种具有长荧光寿命的核壳结构量子点及其水相制备方法 | |
CN111303882B (zh) | 无镉量子点及其制备方法 | |
CN110358528A (zh) | 制造具有可控的发射波长的量子棒的方法 | |
CN105967154A (zh) | 单分散ii-vi族量子点的制备方法 | |
CN105152144B (zh) | 一种合成三元纤锌矿硫硒化锰纳米棒的方法 | |
CN103059839B (zh) | 具有窄的发光的纳米粒子的制备 | |
CN110373177B (zh) | 量子点及其制备方法 | |
He et al. | Preparation and characterization of ZnSe quantum dots by the cation-inverting-injection method in aqueous solution | |
CN109971457A (zh) | 一种钙钛矿量子点及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract | ||
EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20170308 Assignee: Zhejiang Najing Technology Co., Ltd. Assignor: NNCRYSTAL COMPANY Contract record no.: 2019330000012 Denomination of invention: InP quantum dot and preparation method thereof Granted publication date: 20181106 License type: Common License Record date: 20190125 |