WO2011158677A1 - 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2011158677A1
WO2011158677A1 PCT/JP2011/062882 JP2011062882W WO2011158677A1 WO 2011158677 A1 WO2011158677 A1 WO 2011158677A1 JP 2011062882 W JP2011062882 W JP 2011062882W WO 2011158677 A1 WO2011158677 A1 WO 2011158677A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
layer
film mirror
silver
film
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/062882
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
美佳 本田
Original Assignee
コニカミノルタオプト株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタオプト株式会社 filed Critical コニカミノルタオプト株式会社
Priority to EP11795585.6A priority Critical patent/EP2584384A4/en
Priority to JP2012520374A priority patent/JPWO2011158677A1/ja
Priority to US13/703,751 priority patent/US20130081612A1/en
Publication of WO2011158677A1 publication Critical patent/WO2011158677A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
    • H01L31/0547—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means comprising light concentrating means of the reflecting type, e.g. parabolic mirrors, concentrators using total internal reflection
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S2023/87—Reflectors layout
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/52—PV systems with concentrators

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror for reflecting sunlight provided with a reflective layer having coating silver and a reflecting device for solar power generation using the same.
  • Natural energy such as coal energy, biomass energy, nuclear energy, wind energy, and solar energy is currently being considered as alternative energy to replace fossil fuel energy such as oil and natural gas.
  • fossil fuel energy such as oil and natural gas.
  • the most stable and abundant amount of natural energy is considered to be solar energy.
  • a glass mirror Since the reflection device is exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc. due to solar heat, a glass mirror has been conventionally used. Glass mirrors are highly durable to the environment, but large glass mirrors that break during transportation become quite heavy, so it is necessary to provide the strength of the frame on which the mirrors are installed. I had a problem of being bulky. Furthermore, glass mirrors are easily damaged, and it is necessary to consider not to be injured at the damaged part when replacing them. In many cases, they are installed indoors, and the working environment (wind, rain, sand, dust, etc.) ), And skill is required for replacement work at the time of replacement.
  • a film mirror using a resin film is a glass mirror.
  • the problem that the reflectance and the regular reflectance deteriorate due to various factors becomes apparent.
  • a silver plating layer may be formed on the back side of the resin film during silver plating, and when using nitric acid or the like to wipe it off, It will cause deterioration of the resin film. Moreover, the adhesiveness between the reflective layer formed by the plating method and the resin film cannot be ensured.
  • a reflective film mirror in which a subbing layer is formed on a resin film, a copper plating layer is formed thereon, and then a silver plating layer is formed by a displacement plating method using a difference in ionization tendency.
  • a displacement plating method using a difference in ionization tendency.
  • a reflective film in which an undercoat layer, a metal reflective layer, a primer layer, and a weather resistant resin layer are formed on a plastic film is described (for example, see Patent Document 1).
  • a metal reflective layer can be formed by vapor deposition on a chipped undercoat layer.
  • the primer layer which is a light reflecting surface, smoothness is not sufficient and a desired regular reflectance can be obtained. Can not.
  • a method using a vapor deposition method has been studied as a method for forming the reflective layer, a large dedicated facility such as a vacuum chamber for performing vapor deposition is required, and the load as a manufacturing facility is large.
  • a reflective layer is formed on the substrate by a wet method using a reflective film coating liquid composition containing an organic silver complex compound.
  • a method of forming a postcoat layer and a transparent overcoat layer on the top is disclosed (for example, see Patent Document 2).
  • the method of forming a reflective layer by a wet coating method does not require a large dedicated facility as in the vapor deposition method, and is excellent in terms of productivity, but because of the wet coating method, the surface profile of the undercoat layer that is the lower layer As a result, the smoothness of the surface of the reflective layer, which is the light reflecting surface, is impaired, and a high regular reflectance cannot be obtained.
  • the transparent overcoat layer that is directly exposed to sunlight or the atmosphere is deteriorated.
  • the development of a film mirror for solar reflection having high specular reflectance, excellent weather resistance, and scratch resistance is eagerly desired.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to produce solar light that can be manufactured with simple production equipment, has high regular reflectance, and has excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion.
  • An object of the present invention is to provide a reflection film mirror and a solar power generation reflection device using the same.
  • a film mirror for solar light reflection having a polymer film substrate, a reflective layer composed of coating silver, and a protective coating layer in order from the side on which sunlight is incident, the reflective layer containing a silver complex compound
  • a film mirror for reflecting sunlight which is formed by applying and baking a liquid.
  • the silver complex compound is obtained by reacting a silver compound represented by the following general formula (1) with at least one selected from compounds represented by the following general formulas (2) to (4):
  • the film mirror for sunlight reflection according to 1 or 2 characterized in that it is characterized in that
  • X is an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a cyano group, a cyanate group, a carbonate group, a nitrate group, a nitrite group, a sulfate group, a phosphate group, a thiocyanate group, a chlorate group, a perchlorate group, a tetrafluoroborate And at least one selected from a group, an acetylacetonate group, a carboxylate group, and derivatives thereof, and n is an integer of 1 to 4. ]
  • R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, It is at least one selected from an alkyl group substituted with a functional group, an aryl group substituted with a functional group, a heterocyclic compound group, a polymer compound, and derivatives thereof.
  • a solar power generation reflecting device wherein the solar reflective film mirror according to any one of 1 to 7 above is disposed on a holding member via an adhesive layer.
  • a solar reflective film mirror that can be manufactured with simple production equipment, has high regular reflectance, and has excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion, and a solar power generation reflective device using the film mirror could be provided.
  • the present inventor has, in order from the side on which sunlight is incident, a polymer film substrate, a reflective layer composed of coating silver, and a solar reflective film having a protective coating layer It is a mirror, and the reflective layer is formed by applying and baking a coating solution containing a silver complex compound, and can be manufactured with a simple production facility by a film mirror for solar reflection. It has been found that a solar reflective film mirror having a high regular reflectance and excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion can be realized, and as a result, the present invention has been achieved.
  • the film mirror for sunlight reflection of the present invention is characterized by having a structure having a polymer film substrate, a reflective layer made of coating silver, and a protective coating layer in order from the side on which sunlight enters.
  • FIG. 1A to FIG. 1C are schematic cross-sectional views showing an example of a typical layer structure of a solar reflective film mirror of the present invention and a solar power generation reflective device using the same.
  • FIG. 1A shows an example of the configuration of the film mirror for reflecting sunlight according to the present invention.
  • a solar reflective film mirror 1 is a reflective layer 3 made of coated silver according to the present invention on a polymer film substrate 2 from the upper part of the paper on the sunlight incident side. Is formed by coating and baking a coating solution containing a silver complex compound. Next, the protective coating layer 4 is formed on the reflective layer 3 to shield and protect the reflective layer 3 made of coating silver from outside air.
  • a polymer film substrate 2 having extremely high surface smoothness is disposed on the sunlight incident side, and a coating solution containing a silver complex compound is applied thereon by a wet coating method to reflect the polymer film substrate 2.
  • a coating solution containing a silver complex compound is applied thereon by a wet coating method to reflect the polymer film substrate 2.
  • the layer 3 it is possible to form a reflective surface having excellent smoothness and high regular reflection on the reflective layer 3 in contact with the polymer film substrate 2 that is a reflective surface of sunlight.
  • the reflective layer 3 is shielded from the outside air by the polymer film substrate 2 and the protective coating layer 4, has excellent durability, and further, by disposing the polymer film substrate 2 on the sunlight incident side. It was possible to realize excellent light resistance.
  • the polymer film base material 2 and the reflective layer 3 comprised from the coating silver which concerns on this invention are shown between the polymer film base material 2 and the reflective layer 3 comprised from the coating silver which concerns on this invention.
  • the polymer film base material 2 and reflection For the purpose of improving the adhesion with the layer 3, a configuration in which an undercoat layer 5 is provided is shown.
  • the undercoat layer 5 should have a thin film configuration as much as possible from the viewpoint of transmission to the surface of the reflective layer 3 without impairing the surface profile of the polymer film substrate 2 having high surface smoothness. Is preferred. Therefore, the thickness of the undercoat layer 5 is preferably 10 nm or more and 1.0 ⁇ m or less.
  • FIG. 1C is a schematic cross-sectional view showing an example of a typical layer configuration of a solar power generation reflecting device using the solar reflective film mirror of the present invention.
  • the solar reflective film mirror 1 shown in FIG. 1B is fixed to a holding member 8, for example, a metal member such as an aluminum support, through an adhesive layer 7 to form a solar power generation reflecting device 6.
  • Polymer film substrate As a material for the polymer film substrate, for example, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, acrylic, polycarbonate, polyolefin (especially cycloolefin resin), cellulose, or polyamide is used in terms of flexibility and weight reduction. Preferred are monolayer films or coextruded films. Among these, excellent in weather resistance, and in particular, an acrylic copolymer obtained by copolymerizing at least two or more acrylic monomers, or a cycloolefin resin is preferable.
  • acrylic copolymers include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, and butyl methacrylate.
  • One or more monomers selected from monomers having no functional group in the side chain such as alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate
  • alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate
  • monomers selected from monomers such as 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, etc.
  • a monomer having a functional group such as OH or COOH in the side chain of the mer (hereinafter referred to as a functional monomer) or a combination of two or more thereof, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk Examples include acrylic copolymers having a weight average molecular weight of 40,000 to 1,000,000, preferably 100,000 to 400,000, obtained by copolymerization by a polymerization method such as a polymerization method.
  • Tg polymer such as ethylhexyl methacrylate
  • mass% 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylic acid, itacone
  • Acrylic polymers such as the functional monomer contains 0 to 10% by weight of an equal is most preferred.
  • the cycloolefin resin that can be suitably used for the polymer film substrate according to the present invention is a polymer resin containing an alicyclic structure.
  • a preferred cycloolefin resin is a resin obtained by polymerizing or copolymerizing a cyclic olefin.
  • cyclic olefin examples include norbornene, dicyclopentadiene, tetracyclododecene, ethyltetracyclododecene, ethylidenetetracyclododecene, tetracyclo [7.4.0.110, 13.02,7] trideca-2,4, Polycyclic unsaturated hydrocarbons such as 6,11-tetraene and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, cyclo Examples thereof include monocyclic unsaturated hydrocarbons such as octene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7-methano-1H-indene, cycloheptene, cyclopentadiene, cyclohexadiene,
  • Preferred cycloolefin resins may be those obtained by addition copolymerization of monomers other than cyclic olefins.
  • addition copolymerizable monomers include ethylene, ⁇ -olefins such as ethylene, propylene, 1-butene and 1-pentene; 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl- And dienes such as 1,4-hexadiene and 1,7-octadiene.
  • cycloolefin resins include the following norbornene resins.
  • the norbornene-based resin preferably has a norbornene skeleton as a repeating unit. Specific examples thereof include, for example, JP-A Nos. 2003-139950, 2003-14901, and 2003-161832.
  • ZEONEX ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Arton manufactured by JSR Corporation
  • APPEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. APL8008T, APL6509T, APL6013T, APL5014DP, APL6015T
  • APL8008T APL6509T, APL6013T, APL5014DP, APL6015T
  • APL8008T APL6509T
  • APL6013T APL6013T
  • APL5014DP APL6015T
  • the thickness of the polymer film is not particularly limited, but is preferably 9 ⁇ m or more and 175 ⁇ m or less, more preferably 12 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • the thickness is 9 ⁇ m or more, generation of wrinkles and breakage when processing a film mirror for sunlight reflection can be prevented, and if it is 175 ⁇ m or less, uneven thickness and sagging can be prevented and a highly uniform base material is formed. can do.
  • the surface of the polymer film substrate may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment or the like from the viewpoint of improving the adhesion with the reflective layer or the undercoat layer.
  • the polymer film substrate according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of improving weather resistance and light resistance.
  • an ultraviolet absorber used for the polymer film substrate according to the present invention it has an excellent ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less, and has little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of utilization of sunlight. Those are preferred.
  • Examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. However, benzophenone compounds, less colored benzotriazole compounds, and triazine compounds are preferable. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 10-182621 and 8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 6-148430 and 2003-113317 may be used.
  • benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ′′, 4 ′′, 5 ′′, 6 ′′ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy 3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-
  • TINUVIN 171 TINUVIN 900
  • TINUVIN 928 TINUVIN 360
  • LA31 manufactured by ADEKA
  • RUVA-100 Otsuka Chemical
  • benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy-) 5-benzoylphenylmethane) and the like, but are not limited thereto.
  • the polymer film substrate according to the present invention preferably contains an antioxidant or a stabilizer.
  • the antioxidant that can be preferably applied to the polymer film substrate according to the present invention include a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a phosphite-based antioxidant.
  • phenolic antioxidants examples include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t- Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl- ⁇ - (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propi , Triethylene glycol bis [3- (3-
  • thiol-based antioxidant examples include distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- ( ⁇ -lauryl-thiopropionate), and the like.
  • phosphite antioxidant examples include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol.
  • Diphosphite bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4'-biphenylene-diphosphonite 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.
  • the following light stabilizer can be used together with the antioxidant.
  • hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-Tetrame Lupiperidine, tetrakis (2,2,2,
  • nickel-based UV stabilizers include [2,2'-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
  • a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable.
  • bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) is preferable.
  • a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.
  • a reflective layer composed of coating silver is provided on a polymer film substrate, and the coating liquid containing the silver complex compound is applied and baked. It is formed.
  • a polymer film substrate having extremely high surface smoothness is disposed on the sunlight incident side, and a silver complex compound is contained thereon by a wet coating method.
  • the coating liquid By applying and baking the coating liquid to form a reflective layer, the reflective layer surface that is in contact with the polymer film substrate that is the reflective surface of sunlight is provided with a reflective surface that is extremely smooth and has high regular reflection. It can be formed.
  • the reflective layer according to the present invention is not particularly limited as long as it is formed using a coating solution containing a silver complex compound, but as a silver complex compound to be used, silver represented by the following general formula (1) It is preferable to use a silver complex compound obtained by reacting a compound with at least one selected from compounds represented by the following general formulas (2) to (4).
  • X is an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, a cyano group, a cyanate group, a carbonate group, a nitrate group, a nitrite group, a sulfate group, a phosphate group, a thiocyanate group, a chlorate group, or a perchlorate group.
  • Tetrafluoroborate group acetylacetonate group, carboxylate group and derivatives thereof, specifically, for example, silver oxide, silver thiocyanate, silver sulfide, silver chloride, silver cyanide Silver cyanate, silver carbonate, silver nitrate, silver nitrite, silver sulfate, silver phosphate, silver perchlorate, silver tetrafluoroborate, silver acetylacetonate, silver acetate, silver lactate, silver oxalate and its derivatives Although it is mentioned, it is not limited to this.
  • n is an integer of 1 to 4.
  • R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, an aliphatic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an alicyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
  • R 1 to R 6 Specific examples of the group represented by R 1 to R 6 include a hydrogen atom, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, amyl, hexyl, ethylhexyl, heptyl, octyl, isooctyl, Nonyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, docodecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, aryl, hydroxy, methoxy, hydroxyethyl, methoxyethyl, 2-hydroxypropyl, methoxypropyl, cyanoethyl, ethoxy, butoxy, hexyloxy, methoxyethoxy Ethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, hexamethyleneimine, morpho
  • Specific compounds include, for example, ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, n-butylammonium n-butylcarbamate, Isobutylammonium isobutylcarbamate, t-butylammonium t-butylcarbamate, 2-ethylhexylammonium 2-ethylhexylcarbamate, octadecylammonium octadecylcarbamate, 2-methoxyethylammonium 2-methoxyethylcarbamate, 2-cyano Tyl ammonium 2-cyanoethyl carbamate, dibutyl ammonium dibutyl carbamate, dioctadecyl ammonium dioctadecyl carbamate, methyl decy
  • ammonium carbamate or ammonium carbonate compound are not particularly limited.
  • primary amine and secondary amine are used.
  • a tertiary amine, or a mixture of at least one or more of these and carbon dioxide an ammonium carbamate compound can be prepared, and when 0.5 mole of water is further added per mole of the amine, an ammonium carbonate compound When 1 mol or more of water is added, an ammonium bicarbonate compound can be obtained.
  • alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, glycerin, etc.
  • Glycols ethyl acetate, butyl acetate, acetates such as carbitol acetate, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, hydrocarbons such as hexane, heptane, Examples include aromatics such as benzene and toluene, and halogen-substituted solvents such as chloroform, methylene chloride, and carbon tetrachloride, or mixed solvents thereof. Carbon dioxide is bubbled in the gas phase.
  • ammonium carbamate or ammonium carbonate derivative used in the present invention can be used a solid phase dry ice, it can be reacted in supercritical (supercritical) state.
  • any known method may be used in addition to the above method as long as the structure of the final substance is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent, reaction temperature, concentration or catalyst for production, and the production yield is not affected.
  • An organic silver complex compound can be produced by reacting the ammonium carbamate or ammonium carbonate compound thus produced with a silver compound.
  • a silver compound for example, at least one silver compound as shown in Formula 1 and at least one ammonium carbamate or ammonium carbonate derivative as shown in Formulas 2 to 4 and a mixture thereof can be used under normal pressure or a nitrogen atmosphere.
  • alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol and butanol
  • glycols such as ethylene glycol and glycerin
  • ethyl acetate Acetates such as butyl acetate and carbitol acetate
  • ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane
  • ketones such as methyl ethyl ketone and acetone
  • hydrocarbons such as hexane and heptane
  • aromatics such as benzene and toluene Tribe Chloroform, methylene chloride, and the like halogenated solvent or a mixed solvent such as carbon tetrachloride
  • Te Tribe Chloroform
  • methylene chloride and the like halogenated solvent or a mixed solvent such as carbon tetrachloride
  • the reaction can be performed directly without using a solvent in a normal pressure or pressurized state of a nitrogen atmosphere, or can be performed using a solvent.
  • any known method may be used as long as the structure of the final material is the same. That is, it is not necessary to specifically limit the solvent for the production, the reaction temperature, the concentration or the presence or absence of the catalyst, and the production yield is not affected.
  • Examples of the silver complex compound used in the present invention include a silver complex compound having a structure represented by the following general formula (5) described in JP-T-2008-530001.
  • the coating solution for forming a reflective layer used for forming a highly reflective and highly glossy reflective layer according to the present invention contains the silver complex compound according to the present invention, and if necessary, a solvent, a stabilizer, A leveling agent, a thin film auxiliary agent, a reducing agent, and an additive for a thermal decomposition reaction accelerator may be included in the coating liquid for forming a reflective layer according to the present invention.
  • Examples of the stabilizer that can be used in the coating liquid for forming the reflective layer include amine compounds such as primary amines, secondary amines, and tertiary amines, and the above ammonium carbamates, ammonium carbonates, ammonium bicarbonate compounds, or Phosphine, phosphite, phosphorous compounds such as phosphate, sulfur compounds such as thiol and sulfide, and at least one of these mixtures, and amine compounds Specifically, for example, methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, isoamylamine, n-hexylamine, 2-ethylhexyl Min, n-heptylamine, n-octylamine, isooctylamine, nonylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine, oct
  • ammonium carbamate, carbonate, and bicarbonate compounds include ammonium carbamate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, ethylammonium ethylcarbamate, isopropylammonium isopropylcarbamate, and n-butyl.
  • R 3 P include a phosphorus compound represented by (RO) 3 P or (RO) 3 PO.
  • R represents an alkyl or aryl group having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include tributylphosphine, triphenylphosphine, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, dibenzyl phosphate, triethyl phosphate and the like.
  • sulfur compound examples include butanethiol, n-hexanethiol, diethyl sulfide, tetrahydrothiophene, aryl disulfide, 2-mercaptobenzoazole, tetrahydrothiophene, octylthioglycolate, and the like.
  • the amount of such a stabilizer used is not particularly limited. However, the content is preferably 0.1% to 90% in terms of molar ratio with respect to the silver compound.
  • examples of the thin film auxiliary that can be used in the coating liquid for forming the reflective layer include organic acids and organic acid derivatives, or at least one or a mixture thereof. Specifically, for example, acetic acid, butyric acid (valeric acid), valeric acid (pivalic acid), hexanoic acid, octanoic acid, 2-ethyl-hexanoic acid, neodecanoic acid, lauric acid ( Lauric acid), stearic acid, naphthalic acid, and the like.
  • organic acid derivatives include ammonium acetate, ammonium citrate, ammonium laurate, ammonium lactate, and ammonium maleate.
  • Organic acid ammonium salts such as ammonium oxalate and ammonium molybdate, Au, Cu, Zn, Ni, Co, Pd, Pt, Ti, V, Mn, Fe, Cr, Zr, Nb, Mo, W, Ru, Cd, Ta, Re, O
  • organic acid metal salts such as silver octanoate, silver neodecanoate, cobalt stearate, nickel naphthalate and cobalt naphthalate.
  • the amount of the thin film auxiliary used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 25% in terms of molar ratio with respect to the silver complex compound.
  • Examples of the reducing agent that can be used in the coating solution for forming the reflective layer include Lewis acid or weak Bronsted acid. Specific examples include hydrazine, hydrazine monohydrate, acetohydrazide, sodium borohydride. Or amine compounds such as potassium boron hydroxide, dimethylamine borane and butylamine borane, metal salts such as ferrous chloride and iron lactate, hydrogen, hydrogen iodide, carbon monoxide, aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde and glyoxal Examples thereof include a compound, a formic acid compound such as methyl formate, butyl formate and triethyl-o-formic acid, and a mixture thereof containing at least one reducing organic compound such as glucose, ascorbic acid and hydroquinone.
  • Alkylamines piperidine, N-methylpiperidine, piperazine, N, N'-dimethylpiperazine, 1-amino-4methylpiperazine, pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, amine compounds such as morpholine, acetone oxime, dimethylglyoxime, Alkyl oximes such as 2-butanone oxime and 2,3-butadione monooxime, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and triethylene glycol, methoxyethylamine Alkoxyalkylamines such as ethoxyethylamine and methoxypropylamine, alkoxyalkanols such as methoxyethanol, methoxypropanol and ethoxyethanol, ketones such as acetone, methylethylketone and methylisobutylketone, acetol and diacetone alcohol Examples thereof include ketone alcohols, polyhydric phenol compounds, phenol resins, alkyd resins,
  • a solvent may be required for adjusting the viscosity of the coating solution for forming the reflective layer and for forming a smooth thin film.
  • the solvent that can be used in this case include water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-methoxypropanol, and butanol.
  • Alcohols such as ethylhexyl alcohol and terpineol, glycols such as ethylene glycol and glycerin, ethyl acetate, butyl acetate, methoxypropyl acetate, carbitol acetate, acetates such as ethyl carbitol acetate, methyl cellosolve, butyl cellosolve, Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, ketones such as 1-methyl-2-pyrrolidone, hexane, hept Hydrocarbons such as ethylene, dodecane, paraffin oil, mineral spirits, aromatics such as benzene, toluene, xylene, and halogen-substituted solvents such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, aceton
  • the coating method applied to form the reflective layer by applying the reflective layer coating solution containing the silver complex compound according to the present invention on the polymer film substrate is a wet coating method.
  • a wet coating method There are no particular restrictions, such as spin coating, dip coating, extrusion coating, roll coating, spray coating, gravure coating, wire bar coating, air knife coating, slide popper coating, curtain coating, screen printing method, inkjet printing method, etc.
  • a coating method using a known solution can be appropriately selected and used.
  • a reflective layer is formed on a polymer film substrate, and then a baking treatment is performed to form a reflective mirror surface.
  • the calcination treatment can also be performed by heat treatment in a normal inert atmosphere, but if necessary, in air, nitrogen, carbon monoxide, or between hydrogen gas and air or other inert gas. Treatment with a mixed gas is also possible.
  • the heat treatment is usually in the range of 80 to 400 ° C., preferably 90 to 300 ° C., more preferably in the temperature range of 100 to 250 ° C., although it depends on the constituent material of the polymer film substrate to be applied. preferable.
  • a method of performing heat treatment in two or more stages of low temperature and high temperature within the above temperature range is preferable from the viewpoint of the uniformity of the reflective film. For example, the treatment can be performed at 80 to 150 ° C. for 1 to 30 minutes and then at 150 to 300 ° C. for 1 to 30 minutes.
  • the protective coating layer contains a corrosion inhibitor, prevents corrosion deterioration of the metal forming the reflective layer, for example, silver, and adheres to the adhesive layer formed on the protective coating layer when constructing a solar power generation reflective device. It contributes to the improvement of strength.
  • a resin that can be used for forming the protective coating layer a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin, An acrylic resin is preferable, and a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate is more preferable.
  • isocyanate various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.
  • the thickness of the protective coating layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, weather resistance and the like.
  • a method for forming the protective coating layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorptive group for silver are preferably used.
  • the term “corrosion” refers to a phenomenon in which metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by the environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • the undercoat layer contains an antioxidant and the protective coating layer contains a corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver is also preferable.
  • the optimum amount of the corrosion inhibitor varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably within the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .
  • Corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, imidazole It is desirable to select from a compound having a ring, a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a thiourea, a compound having a mercapto group, a naphthalene-based compound, or a mixture thereof.
  • amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, o-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-N-dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolamine benzoate, dicyclohexyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium benzoate, diisopropylammonium Itoraito, cyclohexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexyl
  • Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl- 3,4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3- Triazole, benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2, 4-triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'- Droxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, and 2-mercaptobenzo.
  • Examples include thiazole and the like, or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, and 1-benzyl-2.
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and mixtures thereof.
  • thioureas examples include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
  • mercaptoacetic acid thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto
  • naphthalene-based compounds examples include thionalide.
  • an antioxidant and a stabilizer can also be used.
  • the antioxidant and the stabilizer include the same antioxidants and stabilizers that can be applied to the polymer film substrate described above.
  • the resin used for the undercoat layer according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the conditions of heat resistance and smoothness in addition to the above-mentioned adhesion, polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable. Furthermore, it is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflective layer, and the like.
  • wet coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • a scratch preventing layer In the film mirror for sunlight reflection of the present invention, a scratch preventing layer can be provided as the outermost layer of the film mirror. This scratch preventing layer is provided for preventing scratches.
  • the scratch prevention layer can be composed of acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, and the like.
  • silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.
  • the active energy ray-curable acrylic resin or thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, or a reactive diluent as a polymerization curing component.
  • Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
  • the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
  • various additives can be further blended in the scratch-preventing layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.
  • the leveling agent is particularly effective in reducing surface irregularities when a scratch-preventing layer is applied.
  • a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. is suitable as the silicone leveling agent.
  • a gas barrier layer may be provided for the purpose of preventing deterioration of humidity, particularly deterioration of various functional layers protected by the film base and the film base due to high humidity. it can.
  • the moisture barrier property of the gas barrier layer is that the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is 100 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, preferably 50 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, more preferably 20 g. It is preferable to adjust the moisture barrier property of the gas barrier layer so as to be not more than / m 2 ⁇ day / ⁇ m. Also.
  • the oxygen permeability is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the water vapor transmission rate can be measured by, for example, a water vapor transmission rate measuring device PERMATRAN-W3-33 manufactured by MOCON.
  • the gas barrier layer applicable to the present invention is mainly formed of a metal oxide.
  • a metal oxide silicon oxide, aluminum oxide, or a composite starting from silicon oxide and aluminum oxide is used. Oxides, zinc oxide, tin oxide, indium oxide, niobium oxide, chromium oxide, and the like can be mentioned. In particular, from the viewpoint of water vapor barrier properties, silicon oxide, aluminum oxide, or a composite oxide starting from silicon and aluminum is preferable.
  • a multilayer film in which a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 to 1.8 at a wavelength of 550 nm and a high refractive index film having a refractive index of 1.85 to 2.8 at a wavelength of 550 nm are alternately laminated.
  • the low refractive index film material include silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, and aluminum nitride.
  • the high refractive index film material include niobium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium oxide, tantalum oxide, and zirconium oxide.
  • the thickness of the gas barrier layer made of a metal oxide is preferably in the range of 5 to 800 nm, more preferably in the range of 10 to 300 nm.
  • a gas barrier layer made of a silicon oxide layer or an aluminum oxide layer or a composite oxide formed using silicon oxide or aluminum oxide as a starting material on a film substrate is against a gas such as oxygen, carbon dioxide, air, or water vapor. Excellent barrier action.
  • the silicon oxide layer or the aluminum oxide layer, or the composite oxide layer using silicon oxide and aluminum oxide as a starting material has a thickness of 1 ⁇ m or less, and the average value of each light transmittance is 90% or more. It is preferable. Thereby, there is no light loss and sunlight can be reflected efficiently.
  • a sacrificial anticorrosive layer can be provided on the solar reflective film mirror of the present invention.
  • the sacrificial anticorrosive layer as used in the present invention is a layer that protects a reflective layer composed of metal by sacrificial anticorrosion, and by disposing the sacrificial anticorrosive layer between the reflective layer and the film base, It is possible to improve the corrosion resistance of the reflection layer.
  • the sacrificial anticorrosive layer is preferably copper having a higher ionization tendency than silver, and the sacrificial anticorrosive layer made of copper can suppress deterioration of silver by being provided under a reflective layer made of silver. it can.
  • the solar power generation reflecting device of the present invention fixes the solar reflective film mirror 1 to a holding member 8, for example, a metal member such as an aluminum support, via an adhesive layer 7. It is formed by.
  • the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminate agent, a wet laminate agent, an adhesive agent, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • a dry laminate agent e.g., a dry laminate agent, a wet laminate agent, an adhesive agent, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber and the like are used.
  • the laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out the roll method continuously from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 ⁇ m from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed and the like.
  • a metal support for example, a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, A metal material having a high thermal conductivity such as a chrome-plated steel plate or a stainless steel plate can be used.
  • a plated steel plate, stainless steel plate, aluminum plate or the like having good corrosion resistance.
  • the solar power generation reflective device of the present invention can be applied as a solar power generation film mirror for the purpose of collecting sunlight.
  • the reflector When used as a reflector for solar thermal power generation, the reflector is shaped like a bowl (semi-cylindrical), and a cylindrical member having fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member.
  • the form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form.
  • flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector.
  • produces electricity by converting a thermal energy in a power generation part is also mentioned as one form.
  • the reflection device for solar power generation of the present invention is particularly preferably used.
  • Example 1 Production of film mirror for sunlight reflection
  • Polymer film substrate 1 a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film) having a thickness of 60 ⁇ m was used.
  • a silver reflective layer having a thickness of 150 nm is coated on the polymer film substrate 1 by applying the prepared silver reflective layer coating solution 1 by a gravure coating method, followed by heating and baking in an infrared oven at 150 ° C. for 10 minutes. 1 was formed.
  • a polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and a TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate) are mixed on the silver reflective layer 1 at a resin solid content ratio of 10: 2.
  • a topcoat layer coating solution prepared by applying a glycol dimercaptoacetate as a corrosion inhibitor to the coated resin so as to have a weight of 0.3 g / m 2 is coated by a gravure coating method to obtain a thickness of 0
  • undercoat layer 350.0 g of solid polyester with an acid value of 30 to 70 mg KOH / g as a cured resin, 350.0 g of solid epoxy with EEW 600 to 1500 as a bisphenol A type, and powder mate (amide-modified polyether manufactured by Troy) as a leveling agent ) 10.0 g, 8.0 g of amide wax (manufactured by Lubrizol) as an adhesion promoter, 10.0 g of tinuvin 405 (manufactured by Ciba Japan) as light stabilizer, and 200.0 g of titanium oxide as a color pigment (white) was put into a Henschel mixer, mixed uniformly, and then pulverized into particles of an appropriate size through an extrusion process. The pulverized powder was applied onto the polymer film substrate 1 using a corona electrostatic spray gun and then treated in an oven at 150 ° C. for 30 minutes to form an undercoat surface.
  • Precoat layer formation KR255 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is a silicone-based cured resin, was applied on the formed undercoat layer using a spray gun and then treated in an oven at 150 ° C. for 3 hours to form a precoat layer. .
  • thermoplastic polymethyl methacrylate resin film (weight average molecular weight 100,000, number average molecular weight 50000; hereinafter simply referred to as an acrylic film) having a thickness of 60 ⁇ m was used.
  • the silver reflective layer coating solution 1 is applied on the polymer film substrate 2 by a gravure coating method, it is heated and fired at 100 ° C. for 10 minutes in an infrared oven to form a silver reflective layer having a thickness of 150 nm. did.
  • a polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and a TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate) were mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer.
  • a protective coating layer coating liquid prepared so that the amount after application of glycol dimercaptoacetate as a corrosion inhibitor was 0.3 g / m 2 was coated by a gravure coating method, and the thickness was adjusted to 0.
  • a protective coating layer having a thickness of 1 ⁇ m was formed, and the film mirror 4 having the layer configuration shown in FIG.
  • the film mirror 4 has the same layer configuration as that shown in FIG. 1B except that the undercoat layer shown below is formed between the polymer film substrate (acrylic film) 2 and the silver reflective layer. A film mirror 6 in which the sunlight incident side was the polymer film substrate surface side was produced.
  • undercoat layer Polyester-based resin, melamine-based resin, TDI (tolylene diisocyanate) -based isocyanate, and HMDI-based isocyanate are mixed in a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2, and glycol dimercaptoacetate is further added as a corrosion inhibitor.
  • the undercoat layer coating solution adjusted so that the applied amount after coating is 0.2 g / m 2 is coated on one surface of the polymer film substrate 2 by a gravure coating method to form an undercoat layer having a thickness of 0.1 ⁇ m. did.
  • film mirror 7 the present invention
  • the film mirror 7 was produced in the same manner except that the polymer film substrate 3 which was an acrylic film containing the following ultraviolet absorber was used instead of the polymer film substrate 2. did.
  • film mirror 8 the present invention
  • the film mirror 8 was produced in the same manner except that the polymer film substrate 4 which was an acrylic film containing the following antioxidant was used instead of the polymer film substrate 2. did.
  • Tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-) is used as a hindered amine stabilizer when forming an acrylic film, which is a biaxially stretched thermoplastic polymethyl methacrylate resin film (weight average molecular weight 100000, number average molecular weight 50000).
  • 4-Piperidyl) 1,2,3,4-butanetetracarboxylate was added to an acrylic film in an amount of 5% by mass to prepare a polymer film substrate 5 having a thickness of 60 ⁇ m.
  • Table 1 shows the structures of the film mirrors 1 to 13 produced above.
  • the spot diameter of the reflected spot was measured using a small working autocollimator WV-60 manufactured by Nikon Engineering, whose internal configuration is shown in FIG.
  • the spot is a circle with an effective observation area of 28 mm in diameter
  • the surface of the film mirror is mirror-like and the reflection efficiency is high
  • the same spot diameter as the light beam incident on the film mirror is obtained on the monitor through the CCD sensor. Therefore, the closer the initial spot diameter is to 28 mm, the better the reflection efficiency.
  • the film mirror prepared above was allowed to stand for 30 days in an environment at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, and then irradiated with a xenon lamp on the solar light incident surface side of the film mirror (radiation intensity using a Suga test machine SX75). 180 W / m 2 168 hours). Subsequently, the regular reflectance of 5 degrees was measured by the same method as described above after irradiation with the xenon lamp. It represents that it is excellent in a weather resistance, so that there are few fluctuation widths with respect to said initial 5 degree
  • the film mirror of the present invention has excellent specular reflectivity and excellent scratch resistance, weather resistance and adhesion to the comparative example.
  • Example 2 Production of solar power generation reflector
  • Acrylic pressure-sensitive adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is applied to the surface of each of the produced film mirrors opposite to the sunlight incident surface to form a pressure-sensitive adhesive layer. After that, it was fixed on a 1 mm-thick aluminum support as a holding member to produce a solar power generation reflection device.
  • the present invention is configured as described above, it can be used as a film mirror for reflecting sunlight and a reflecting device for solar thermal power generation.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

　太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。

Description

太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
　本発明は、コーティング銀を有する反射層を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関するものである。
　近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。従って近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。
　石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
　しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。
　これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
　反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損する、大型のガラス製ミラーになると、かなり質量となるため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、プラントの建設費がかさむといった問題を抱えていた。更に、ガラス製ミラーは破損しやすく、交換時には破損部でけがをしない様な配慮が必要となり、また、多くの場合、屋内に設置されている場合が多く、作業環境（風雨、砂、埃等）による影響もあり、交換時には交換作業に熟練が要求されている。
　上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製の反射シートに置き換える方法が、例えば、特開２００５－５９３８２号公報等に開示されている。
　しかしながら、太陽熱発電用光反射フィルム（以下、「太陽光反射用フィルムミラー」、「フィルムミラー」、あるいは単に「ミラー」ともいう）として用いる場合、樹脂フィルムを用いたフィルムミラーでは、ガラス製ミラーに比べ、様々な要因により、反射率及び正反射率が劣化する問題が顕在化する。
　例えば、樹脂フィルム上に銀メッキ法により反射層を形成する方法では、銀メッキ時に樹脂フィルムの裏面側にも銀メッキ層が形成されてしまう場合があり、それを拭き取るため硝酸等を使用すると、樹脂フィルムの劣化を引き起こすことになる。また、メッキ法で形成した反射層と樹脂フィルムとの間での密着性を確保することができない。
　一方、樹脂フィルム上に下引き層を形成し、その上に銅メッキ層を形成した後、イオン化傾向の違いを利用した置換メッキ法により銀メッキ層を形成する反射用フィルムミラーが知られているが、この方法では、環境上課題を抱えている銅化合物を使用すること、置換メッキ法における置換メッキ速度を制御することが難しく、形成した銀メッキ層の平滑性や均一性を確保できにくいため、高い正反射率を得ることができない。
　一方、プラスチックフィルム上に、下塗り層、金属反射層、プラーマー層、耐候性樹脂層を形成した反射フィルムが記載されている（例えば、特許文献１参照）が、塗布方式で形成した表面均一性に欠ける下塗り層上に、蒸着法により金属反射層を形成しうる方法であり、光線反射面である金属反射層とプラーマー層の界面では、平滑性が十分でなく所望の正反射率を得ることができない。加えて、反射層の形成方法として、蒸着法を用いる方法の検討もなされてはいるが、蒸着を行うための真空チャンバー等の大型の専用設備が必要となり、製造設備としての負荷が大きい。
　上記課題に対し、基材上に、下塗り層を形成した後、その上に有機銀錯体化合物を含有する反射膜コーティング液組成物を用いて湿式法により反射層を形成し、必要に応じてその上にポストコート層、透明上塗り層を形成する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。確かに、湿式塗布法により反射層を形成する方法では、蒸着法のように大型の専用設備が不要となり生産性という観点では優れている反面、湿式塗布法ゆえに、下層である下塗り層の表面プロファイルの影響を受けるため、光線反射面である反射層表面の平滑性が損なわれるため、高い正反射率を得ることができないこと、加えて、太陽光や大気に直接晒される透明上塗り層が劣化するという耐久性に課題を抱えており、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率、優れた耐候性及び耐擦過性を備えた太陽光反射用フィルムミラーの開発が切望されている。
特開２００５－２８０１３１号公報 特表２００９－５３５６６１号公報
　本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
　本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
　１．太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
　２．前記高分子フィルム基材と反射層との間に、下塗り層を有することを特徴とする前記１記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　３．前記銀錯体化合物が、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）～（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られることを特徴とする前記１又は２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　一般式（１）
　　　ＡｇｎＸ
〔式中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、ｎは１～４の整数である。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  
〔式中、Ｒ１～Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１～３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１～３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、官能基が置換されたアルキル基、官能基が置換されたアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。〕
　４．前記高分子フィルム基材の厚さが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることを特徴とする前記１～３のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　５．前記高分子フィルム基材が、アクリル系樹脂フィルムまたはポリオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする前記１～４のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　６．前記高分子フィルム基材が、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記１～５のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　７．前記高分子フィルム基材が、酸化防止剤または安定剤を含有することを特徴とする前記１～６のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
　８．保持部材上に、粘着層を介して前記１～７のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーを配置したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
　本発明により、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーとそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。
本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。 比較例の太陽光反射用フィルムミラーの層構成の一例を示す概略断面図である。 比較例の太陽光反射用フィルムミラーの層構成の一例を示す概略断面図である。 実施例のスポット径に用いるオートコリメーターの内部構成を示す概略図である。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
　本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラーにより、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦過性及び密着性を備えた太陽光反射用フィルムミラーを実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。
　以下、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの詳細について説明する。
　（太陽光反射用フィルムミラー、太陽熱発電用反射装置の構成）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーは、太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する構成であることを特徴とする。
　図１Ａから図１Ｃは、本発明の太陽光反射用フィルムミラー及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
　図１Ａには、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの構成の一例を示してある。
　図１Ａに示した構成では、太陽光反射用フィルムミラー１は、太陽光の入射側である紙面上部より、高分子フィルム基材２上に、本発明に係るコーティング銀から構成される反射層３を、銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成する。次いで、反射層３上に、コーティング銀から構成される反射層３を外気から遮断し、保護する保護コーティング層４から構成されている。
　本発明で規定するように、太陽光の入射側に極めて表面平滑性が高い高分子フィルム基材２を配置し、その上に湿式塗布方式により銀錯体化合物を含有する塗布液を塗布して反射層３を形成することにより、太陽光の反射面である高分子フィルム基材２に接する反射層３に、極めて平滑性に優れ、高い正反射を備えた反射面を形成することができる。加えて、反射層３は、外気に対し、高分子フィルム基材２と保護コーティング層４により遮断され、耐久性に優れ、更に太陽光入射側に、高分子フィルム基材２を配置することにより、優れた耐光性を実現することができたものである。
　また、図１Ｂに示した太陽光反射用フィルムミラー１では、高分子フィルム基材２と、本発明に係るコーティング銀から構成される反射層３との間に、高分子フィルム基材２と反射層３との密着性を向上させる目的で、下塗り層５を設けた構成を示してある。この様な構成とする場合には、高い表面平滑性を有する高分子フィルム基材２の表面プロファイルを損なうことなく、反射層３面に伝達する観点から、下塗り層５は極力薄膜構成とすることが好ましい。従って、下塗り層５の膜厚は、１０ｎｍ以上、１．０μｍ以下であることが好ましい。
　図１Ｃは、本発明の太陽光反射用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置の代表的な層構成の一例を示す概略断面図である。
　図１Ｂに示した太陽光反射用フィルムミラー１を、粘着層７を介して保持部材８、例えば、アルミニウム支持体等の金属製部材に固定して、太陽熱発電用反射装置６を形成する。
　（太陽光反射用フィルムミラー）
　次いで、本発明の太陽光反射用フィルムミラーの各構成要素について説明する。
　（高分子フィルム基材）
　高分子フィルム基材の材料としては、フレキシブル性や軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン（特に、シクロオレフィン樹脂）、セルロース、ポリアミドのいずれかを含む単層フィルムまたは共押し出しフィルムが好ましい。これらの中でも、耐候性に優れ、特に、少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体、またはシクロオレフィン樹脂が好適である。
　好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２－ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０～９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０～５０質量％、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０～１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。
　また、本発明に係る高分子フィルム基材に好適に用いることのできるシクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ－２，４，６，１１－テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４－ジメチルシクロペンテン、３－メチルシクロヘキセン、２－（２－メチルブチル）－１－シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ－テトラヒドロ－４，７－メタノ－１Ｈ－インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。
　好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテンなどのエチレン又はα－オレフィン；１，４－ヘキサジエン、４－メチル－１，４－ヘキサジエン、５－メチル－１，４－ヘキサジエン、１，７－オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
　シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、例えば、特開２００３－１３９９５０号公報、特開２００３－１４９０１号公報、特開２００３－１６１８３２号公報、特開２００３－１９５２６８号公報、特開２００３－２１１５８８号公報、特開２００３－２１１５８９号公報、特開２００３－２６８１８７号公報、特開２００４－１３３２０９号公報、特開２００４－３０９９７９号公報、特開２００５－１２１８１３号公報、特開２００５－１６４６３２号公報、特開２００６－７２３０９号公報、特開２００６－１７８１９１号公報、特開２００６－２１５３３３号公報、特開２００６－２６８０６５号公報、特開２００６－２９９１９９号公報等に記載されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
　高分子フィルムの厚さは、特に制限はないが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１２μｍ以上、１００μｍ以下である。
　厚さが９μｍ以上であれば、太陽光反射用フィルムミラー加工時のしわの発生や破損を防止することができ、１７５μｍ以下であれば偏肉やたるみを防止でき均一性の高い基材を形成することができる。
　高分子フィルム基材表面は、反射層あるいは下塗り層との密着性を向上させる観点から、コロナ放電処理、プラズマ処理等が施されていてもよい。
　（紫外線吸収剤）
　本発明に係る高分子フィルム基材においては、耐候性並びに耐光性向上の観点から紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に使用される紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
　本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０－１８２６２１号、同８－３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６－１４８４３０号、特開２００３－１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－（３″，４″，５″，６″－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール）、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）－フェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－（１－メチル－１－フェニルエチル）－５′－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール、オクチル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートと２－エチルヘキシル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
　また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、ＲＵＶＡ－１００（大塚化学製）が挙げられる。
　ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン、ビス（２－メトキシ－４－ヒドロキシ－５－ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　（酸化防止剤、安定剤）
　本発明に係る高分子フィルム基材においては、酸化防止剤または安定剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に好ましく適用することのできる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、２，２′－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、テトラキス－〔メチレン－３－（３′、５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、４，４′－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４′－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリス（３′、５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシベンジル）－Ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９－ビス［１，１－ジ－メチル－２－〔β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－２，４，８，１０－テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
　チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル－３，３′－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリル－チオプロピオネート）等を挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス－（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）４，４′－ビフェニレン－ジホスホナイト、２，２′－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
　また、本発明に係る高分子フィルム基材においては、上記酸化防止剤と共に、下記の光安定剤を用いることもできる。
　ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、１－メチル－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、１－［２－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－４－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ベンゾイルオキシ－２，２、６，６－テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタン－テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４，５］デカン－２，４－ジオン等が挙げられる。
　その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノレート）〕－２－エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル－ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
　特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、または１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
　（反射層）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、高分子フィルム基材上にコーティング銀から構成される反射層を有し、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする。
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、前述のように、太陽光の入射側に極めて表面平滑性が高い高分子フィルム基材を配置し、その上に湿式塗布方式により銀錯体化合物を含有する塗布液を塗布、焼成して反射層を形成することにより、太陽光の反射面である高分子フィルム基材に接する反射層面に、極めて平滑性に優れ、高い正反射を備えた反射面を形成することができるものである。
　本発明に係る反射層では、銀錯体化合物を含有する塗布液を用いて形成されたものであれば、特に制限はないが、用いる銀錯体化合物として、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）～（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られる銀錯体化合物を用いることが好ましい。
　（一般式（１）～（４）で表される化合物）
　以下、一般式（１）で表される銀化合物と、一般式（２）～（４）で表される化合物の詳細について説明する。
　はじめに、一般式（１）で表される銀化合物について説明する。
　一般式（１）
　　　ＡｇｎＸ
　上記一般式（１）において、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、具体的には、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。ｎは１～４の整数である。
　次いで、下記一般式（２）～（４）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  
　上記一般式（２）～（４）において、Ｒ１～Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１～３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１～３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、置換基を有するアルキル基、置換基を有するアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。
　また、Ｒ１～Ｒ６で表される基としては、具体的には、例えば、水素原子や、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、エチルヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アリール、ヒドロキシ、メトキシ、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、２－ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル、シアノエチル、エトキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、カルボキシメチル、トリメトキシシリルプロピル、トリエトキシシリルプロピル、フェニル、メトキシフェニル、シアノフェニル、フェノキシ、トリル、ベンジル等の各基及びその誘導体、ポリアリールアミンやポリエチレンアミンのような高分子化合物及びこれらの誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
　具体的な化合物としては、例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム　エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカルバメート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカルバメート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカルバメート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカルバメート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカルバメート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム　モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム　エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　バイカーボネート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　バイカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　バイカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　バイカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム　モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム　バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム　バイカーボネート、及びその誘導体から選択される１種または２種以上の混合物などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
　一方、上記のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物の種類及び製造方法は、特に制限はなく、例えば、米国特許第４，５４２，２１４号（１９８５．９．１７）では、第１アミン、第２アミン、第３アミン、または少なくとも１つ以上のこれらの混合物と二酸化炭素からアンモニウムカルバメート系化合物が製造できると記述しており、前記アミン１モル当り水０．５モルをさらに添加すると、アンモニウムカーボネート系化合物が得られて、水１モル以上を添加する場合は、アンモニウムバイカーボネート系化合物を得ることができる。この際、常圧または加圧状態で特別な溶媒を使用せずに直接製造するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などが挙げられて、二酸化炭素は、気相状態でバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）するか、固体相ドライアイスを使用することができて、超臨界（ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ）状態でも反応することができる。本発明で使用されるアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体の製造には、上記の方法の他にも、最終物質の構造が同一であれば、公知のいかなる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
　このように製造されたアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート系化合物と銀化合物とを反応して、有機銀錯体化合物を製造することができる。例えば、式１に示したような少なくとも一つ以上の銀化合物と、式２～４に示したような少なくとも一つ以上のアンモニウムカルバメートまたはアンモニウムカーボネート誘導体及びこれらの混合物を、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用する場合、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、カルビトールアセテートのようなアセテート類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタンのような炭化水素系、ベンゼン、トルエンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。
　本発明で使用される銀錯体化合物の製造には、上記の方法の他に、本発明に係る一般式（１）で表される銀化合物と、一つ以上のアミン化合物とが混合された溶液を製造した後、二酸化炭素を反応して、銀錯体化合物を製造することもできる。上記のように、窒素雰囲気の常圧または加圧状態で、溶媒を使用せずに直接反応するか、溶媒を使用して反応することができる。しかしながら、最終物質の構造が同一であれば、公知の如何なる方法を使用してもよい。即ち、製造のための溶媒、反応温度、濃度または触媒の使用有無などを特に限定する必要はなく、製造収率にも影響しない。
　本発明で使用される銀錯体化合物は、特表２００８－５３０００１号公報に記載の下記一般式（５）で表される構造の銀錯体化合物を挙げることができる。
　一般式（５）
　　　Ａｇ（Ａ）ｍ
　上記一般式（５）において、Ａは、前記一般式（２）～（４）で表される化合物であり、ｍは、０．５～１．５である。
　本発明に係る高反射で、かつ高光沢の反射層を形成のために使用される反射層形成用塗布液は、本発明に係る銀錯体化合物を含み、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤（Ｌｅｖｅｌｉｎｇ　ａｇｅｎｔ）、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明に係る反射層形成用塗布液に含むことができる。
　反射層形成用塗布液に用いることのできる安定剤としては、例えば、第１アミン、第２アミンまたは第３アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、またはホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、ホスファイ（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスフェート（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）のようなリン化合物、チオール（ｔｈｉｏｌ）やスルフィド（ｓｕｌｆｉｄｅ）のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、２－エチルヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、２－エタノールアミン、メトキシエチルアミン、２－ヒドロキシプロピルアミン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、ｎ－ブトキシアミン、２－ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、２，２－（エチレンジオキシ）ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
　アンモニウムカルバメート、カーボネート、バイカーボネート系化合物として具体的に例えば、アンモニウムカルバメート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂａｍａｔｅ）、アンモニウムカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｃａｒｂｏｎａｔｅ）、アンモニウムバイカーボネート（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｂｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）、エチルアンモニウム　エチルカルバメート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカルバメート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカルバメート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカルバメート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカルバメート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカルバメート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカルバメート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカルバメート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカルバメート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカルバメート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカルバメート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカルバメート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカルバメート、モルホリニウム　モルホリンカルバメート、ピリジウムエチルヘキシルカルバメート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルバイカルバメート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカルバメート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカルバメート、エチルアンモニウム　エチルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　イソプロピルカーボネート、イソプロピルアンモニウム　バイカーボネート、ｎ－ブチルアンモニウム　ｎ－ブチルカーボネート、イソブチルアンモニウム　イソブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　ｔ－ブチルカーボネート、ｔ－ブチルアンモニウム　バイカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルヘキシルカーボネート、２－エチルヘキシルアンモニウム　バイカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　２－メトキシエチルカーボネート、２－メトキシエチルアンモニウム　バイカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　２－シアノエチルカーボネート、２－シアノエチルアンモニウム　バイカーボネート、オクタデシルアンモニウム　オクタデシルカーボネート、ジブチルアンモニウム　ジブチルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　ジオクタデシルカーボネート、ジオクタデシルアンモニウム　バイカーボネート、メチルデシルアンモニウム　メチルデシルカーボネート、ヘキサメチレンイミンアンモニウム　ヘキサメチレンイミンカーボネート、モルホリンアンモニウム　モルホリンカーボネート、ベンジルアンモニウム　ベンジルカーボネート、トリエトキシシリルプロピルアンモニウム　トリエトキシシリルプロピルカーボネート、ピリジウム　バイカーボネート、トリエチレンジアミニウム　イソプロピルカーボネート、トリエチレンジアミニウム　バイカーボネート、及びその誘導体などが挙げられる。
　また、リン化合物としては、一般式として、Ｒ３Ｐ、（ＲＯ）３Ｐまたは（ＲＯ）３ＰＯで表されるリン化合物で挙げられる。ここでＲは、炭素数１～２０のアルキルまたはアリール基を示し、具体的に例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジベンジルホスフェート、トリエチルホスフェートなどが挙げられる。
　そして、硫黄化合物として、具体的に例えば、ブタンチオール、ｎ－ヘキサンチオール、ジエチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、アリールジスルフィド、２－メルカプトベンゾアゾール、テトラヒドロチオフェン、オクチルチオグリコレートなどが挙げられる。
　このような安定剤の使用量は、特に制限する必要はない。しかしながら、その含量は、銀化合物に対し、モル比で０．１％～９０％が好ましい。
　また、反射層形成用塗布液に用いることのできる薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、または少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸（Ｂｕｔｙｒｉｃ　ａｃｉｄ）、吉草酸（Ｖａｌｅｒｉｃ　ａｃｉｄ）、ピバル酸（Ｐｉｖａｌｉｃ　ａｃｉｄ）、ヘキサン酸、オクタン酸、２－エチル－ヘキサン酸、ネオデカン酸（Ｎｅｏｄｅｃａｎｏｉｃ　ａｃｉｄ）、ラウリン酸（Ｌａｕｒｉｃ　ａｃｉｄ）、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Ａｕ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｃｄ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ａｌ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ａｃ、Ｔｈなどのような金属を含むシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、２－エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、銀錯体化合物に対して、モル比で０．１～２５％が好ましい。
　反射層形成用塗布液に用いることのできる還元剤としては、ルイス酸または弱いブレンステッド酸（ｂｒｏｎｓｔｅｄ　ａｃｉｄ）が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウムまたは水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第１塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル－ｏ－ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含むこれらの混合物を挙げることができる。
　反射層形成用塗布液に用いることのできる熱分解反応促進剤としては、具体的に例えば、エタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ヘキサノールアミン、ジメチルエタノールアミンのようなヒドロキシアルキルアミン類、ピペリジン、Ｎ－メチルピペリジン、ピペラジン、Ｎ，Ｎ′－ジメチルピペラジン、１－アミノ－４メチルピペラジン、ピロリジン、Ｎ－メチルピロリジン、モルホリンのようなアミン化合物、アセトンオキシム、ジメチルグリオキシム、２－ブタノンオキシム、２，３－ブタジオンモノオキシムのようなアルキルオキシム類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類、メトキシエチルアミン、エトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミンのようなアルコキシアルキルアミン類、メトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、アセトール、ジアセトンアルコールのようなケトンアルコール類、多価フェノール化合物、フェノール樹脂、アルキド樹脂、ピロール、エチレンジオキシチオフェン（ＥＤＯＴ）のような酸化重合性樹脂などが挙げられる。
　なお、反射層形成用塗布液の粘度調節や円滑な薄膜形成のために溶媒が必要な場合があるが、この際使用できる溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１－メトキシプロパノール、ブタノール、エチルヘキシルアルコール、テルピネオールのようなアルコール類、エチレングリコール、グリセリンのようなグリコール類、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテートのようなアセテート類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、１－メチル－２－ピロリドンのようなケトン類、ヘキサン、ヘプタン、ドデカン、パラフィンオイル、ミネラルスピリットのような炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族、そしてクロロホルムやメチレンクロライド、カーボンテトラクロライドのようなハロゲン置換溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、またはこれらの混合溶媒などを使用することができる。
　次いで、反射層形成用塗布液を用いた本発明に係る反射層の形成方法について説明する。
　本発明において、高分子フィルム基材上に、本発明に係る銀錯体化合物を含有する反射層塗布液を塗布して反射層を形成するのに適用する塗布方式としては、湿式塗布方式であれば特に制限はなく、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布、スライドポッパー塗布、カーテン塗布、スクリーン印刷法、インクジェット印字法等の公知の溶液を用いた塗布方法を適宜選択して用いることができる。
　上記方法に従って、高分子フィルム基材上に、反射層を形成した後、焼成処理を施して反射鏡面を形成する。
　焼成処理は、通常の不活性雰囲気下で熱処理をすることにより行うこともできるが、必要に応じて、空気、窒素、一酸化炭素中で、あるいは水素ガスと空気または他の不活性ガスとの混合ガスでも処理が可能である。熱処理は、適用する高分子フィルム基材の構成材料にもよるが、通常は８０～４００℃の範囲であり、好ましくは９０～３００℃、更には１００～２５０℃の温度範囲で熱処理することが好ましい。付加的に上記温度範囲内で、低温と高温の２段階以上で加熱処理する方法が、反射膜の均一性の観点からは好ましい。例えば、８０～１５０℃で１～３０分間の処理を行った後、１５０～３００℃で１～３０分間の処理することができる。
　（保護コーティング層）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、上記反射層上に保護コーティング層を有することを特徴とする。
　保護コーティング層は、腐食防止剤を含み、反射層を形成する金属、例えば、銀の腐食劣化を防ぐとともに、太陽熱発電用反射装置を構成する際、保護コーティング層上に形成する粘着層との接着力向上に寄与するものである。
　保護コーティング層の形成に用いることのできる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
　保護コーティング層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　保護コーティング層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　本発明に係る保護コーティング層が含有する反射層の腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。
　また、本発明に係るフィルムミラーにおいては、下塗り層が酸化防止剤を含有し、かつ保護コーティング層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様も好ましい。
　なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１～１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
　（銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤）
　本発明に適用可能な銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　アミン類およびその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２－Ｎ－ジメチルエタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１，３－プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ－エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピロール環を有する物としては、例えば、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－２，５ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２－エタンジオール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
　本発明に係る保護コーティング層に用いられる反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子フィルム基材に適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることができる。
　（下塗り層）
　本発明の太陽光反射用フィルムにおいては、高分子フィルム基材と反射層との密着性を向上させる観点から、高分子フィルム基材と反射層間に下塗り層を設けることが好ましい。
　本発明に係る下塗り層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　本発明において、下塗り層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　下塗り層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知の湿式コーティング方法が使用できる。
　（その他の構成要素）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、必要に応じ、下記の示す各機能層を形成してもよい。
　（傷防止層）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。この傷防止層は、傷防止のために設けられる。
　傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
　活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
　アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
　また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
　市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ（株）；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
　本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
　レベリング剤は、特に、傷防止層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン－ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
　（ガスバリア層）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーにおいては、湿度の変動、特に高湿度によるフィルム基材及びフィルム基材で保護される各種機能層の劣化を防止することを目的として、ガスバリア層を設けることができる。
　本発明において、ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、更に好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるようにガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。水蒸気透過度は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３－３３にて測定できる。
　本発明に適用可能なガスバリア層は、主には金属酸化物により形成されるが、金属酸化物からなるガスバリア層としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、または珪素、アルミニウムを出発材料とした複合酸化物が好ましい。そのほか波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３５から１．８の低屈折率層と、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８５から２．８である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティングなどのＰＶＤ法（物理蒸着法）、あるいは、ＣＶＤ法（化学蒸着法）などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物からなるガスバリア層の厚さは５～８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０～３００ｎｍの範囲である。
　本発明において、フィルム基材上に酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料として形成した複合酸化物からなるガスバリア層は、酸素、二酸化炭素、空気などのガスまたは水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。
　さらに、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は、膜厚がそれぞれ１μｍ以下であり、それぞれの光線透過率の平均値は９０％以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。
　（犠牲防食層）
　本発明の太陽光反射用フィルムミラーには、犠牲防食層を設けることができる。本発明でいう犠牲防食層とは、金属から構成される反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を反射層とフィルム基材との間に配置することにより、金属からなる反射層の耐食性を向上させることができる。本発明において、犠牲防食層としては、銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の犠牲防食層は、銀から構成される反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。
　（太陽熱発電用反射装置）
　次いで、本発明の太陽光反射用フィルムミラーを適用した太陽熱発電用反射装置について、説明する。
　本発明の太陽熱発電用反射装置は、図１Ｃで示したように、太陽光反射用フィルムミラー１を、粘着層７を介して保持部材８、例えば、アルミニウム支持体等の金属製部材に固定することにより形成されている。
　（粘着層）
　粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウェットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
　ラミネート方法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
　粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１～５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
　（保持部材）
　本発明の太陽熱発電用反射装置において、保持部材としては金属支持体を用いることが好ましく、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
　（太陽熱発電用反射装置）
　本発明の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的の太陽熱発電用フィルムミラーとして適用することができる。太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用反射装置が特に好適に用いられる。
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
　「実施例１；太陽光反射用のフィルムミラーの作製」
　（フィルムミラー１の作製：比較例）
　（高分子フィルム基材１の準備）
　高分子フィルム基材１として、厚さ６０μｍの２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を用いた。
　（銀錯体化合物を含有する銀反射層塗布液１の調製）
　攪拌器付き５００ｍｌのシュレンクフラスコに、アンモニウムカルバメート系化合物として２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルカルバメート（表１には、化合物１と記載）の６５．０ｇ（２１５ミリモル）を１５０．０ｇのイソプロパノールに溶解させた後、銀化合物として酸化銀の２０．０ｇ（８６．２ミリモル）を添加して、常温で反応させた。この反応溶液は、最初は黒色懸濁液として反応が進行し、銀錯体化合物の生成に伴い徐々に黒色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、２時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として２－ヒドロキシ－２－メチルプロピルアミンの２．５ｇと、溶媒としてｎ－ブタノールの８５．０ｇとアミルアルコールの５０．０ｇを添加して攪拌した後、濾過孔径０．４５μｍのメンブレンフィルタを使用して濾過し、熱分析（ＴＧＡ）した結果、銀含量が４．８７質量％の銀反射層塗布液１を調製した。
　（フィルムミラーの作製）
　上記高分子フィルム基材１上に、上記調製した銀反射層塗布液１をグラビアコート法により塗布した後、赤外線オーブンで、１５０℃、１０分間加熱、焼成して、厚さ１５０ｎｍの銀反射層１を形成した。
　次いで、銀反射層１上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１、日本合成化学社製）と、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．３ｇ／ｍ２となるよう調整したトップコート層塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのトップコート層を形成し、図２Ａに記載の層構成からなり、太陽光入射側がトップコート層面側であるフィルムミラー１を作製した。
　（フィルムミラー２の作製：比較例）
　上記フィルムミラー１の作製において、高分子フィルム基材１と銀反射層１との間に、下記に示す下塗り層及びプレコート層を形成した以外は同様にして、図２Ｂに記載の層構成からなり、太陽光入射側がトップコート層面側であるフィルムミラー２を作製した。
　（下塗り層の形成）
　硬化樹脂として酸価が３０～７０ｍｇＫＯＨ／ｇの固状ポリエステル３５０．０ｇと、ビスフェノールＡタイプとしてＥＥＷ６００～１５００の固状エポキシ３５０．０ｇに、レベリング剤としてパウダーメート（アミド変性ポリエーテル；トロイ社製造）１０．０ｇ、付着増進剤としてアミドワックス（ルーブリゾール社製造）８．０ｇ、光安定剤としてチヌビン４０５（チバ・ジャパン社製）１０．０ｇ、着色顔料（白色）としてチタニウム酸化物２００．０ｇをヘンシェルミキサーに入れて、均一に混合した後、押出工程を経て、適切な大きさの粒子に粉砕した。この粉砕された粉体を、コロナ静電スプレーガンを使用して高分子フィルム基材１上に塗布した後、１５０℃のオーブンで３０分間処理し、下塗り面を形成した。
　（プレコート層の形成）
　上記形成した下塗り層上に、シリコーン系硬化樹脂であるＫＲ２５５（信越化学工業（株）製）を、スプレーガンを用いて塗装した後、１５０℃のオーブンで３時間処理し、プレコート層を形成した。
　（フィルムミラー３の作製：比較例）
　上記フィルムミラー２の作製において、トップコート層の形成に用いたトップコート層塗布液に、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ１７１（チバ・ジャパン社製）を０．０５ｇ／ｍ２となるように添加した以外が同様にして、フィルムミラー３を作製した。
　（フィルムミラー４の作製：本発明）
　高分子フィルム基材２として、厚さ６０μｍの２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００；以下、単にアクリルフィルムという）を用いた。
　上記高分子フィルム基材２上に、前記銀反射層塗布液１をグラビアコート法により塗布した後、赤外線オーブンで、１００℃、１０分間加熱、焼成して、厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成した。
　次いで、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１、日本合成化学社製）と、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した保護コーティング層塗布液を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの保護コーティング層を形成し、図１Ａに記載の層構成からなり、太陽光入射側が高分子フィルム基材側であるフィルムミラー４を作製した。
　（フィルムミラー５の作製：比較例）
　上記フィルムミラー４の作製において、銀反射層の形成を、銀反射層塗布液１を用いた湿式塗布法に代えて、従来公知の真空蒸着法により厚さ１５０ｎｍの銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー５を作製した。
　（フィルムミラー６の作製：本発明）
　上記フィルムミラー４の作製において、高分子フィルム基材（アクリルフィルム）２と銀反射層との間に、下記に示す下塗り層を形成した以外は同様にして、図１Ｂに記載の層構成からなり、太陽光入射側が高分子フィルム基材面側であるフィルムミラー６を作製した。
　（下塗り層の形成）
　ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート，ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後の付量が０．２ｇ／ｍ２となるよう調整した下塗り層塗布液を、高分子フィルム基材２の片面にグラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの下塗り層を形成した。
　（フィルムミラー７の作製：本発明）
　上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の紫外線吸収剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材３を用いた以外は同様にして、フィルムミラー７を作製した。
　（高分子フィルム基材３の作製）
　２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ９２８（チバ・ジャパン社製）をアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材３を作製した。
　（フィルムミラー８の作製：本発明）
　上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の酸化防止剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材４を用いた以外は同様にして、フィルムミラー８を作製した。
　（高分子フィルム基材４の作製）
　２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、イオウ系酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）をアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材４を作製した。
　（フィルムミラー９の作製：本発明）
　上記フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム基材２に代えて、下記の安定剤を含有するアクリルフィルムである高分子フィルム基材５を用いた以外は同様にして、フィルムミラー９を作製した。
　（高分子フィルム基材５の作製）
　２軸延伸の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００）であるアクリルフィルムの製膜時に、ヒンダードアミン系安定剤としてテトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレートをアクリルフィルムに５質量％含有させて、厚さ６０μｍの高分子フィルム基材５を作製した。
　（フィルムミラー１０の作製：本発明）
　上記フィルムミラー７の作製において、高分子フィルム基材３に代えて、特開２００８－３３５９号公報の段落〔０４７６〕～〔０４８０〕記載の方法で作製した厚さ６０μｍのシクロオレフィン樹脂フィルムである高分子フィルム基材６を用いた以外は同様にして、フィルムミラー１０を作製した。
　（フィルムミラー１１の作製：本発明）
　上記フィルムミラー７の作製において、高分子フィルム基材３に代えて、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み６０μｍ）を高分子フィルム基材７として用いた以外は同様にして、フィルムミラー１１を作製した。
　（フィルムミラー１２の作製：本発明）
　上記フィルムミラー７の作製において、銀反射層の形成に用いたアンモニウムカルバメート系化合物として、化合物１である２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルカルバメートに代えて、化合物２としてモルホリニウム　モルホリンカルバメートを用いて銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー１２を作製した。
　（フィルムミラー１３の作製：本発明）
　上記フィルムミラー７の作製において、銀反射層の形成に用いたアンモニウムカルバメート系化合物として、化合物１である２－エチルヘキシルアンモニウム　２－エチルカルバメートに代えて、アンモニウムカーボネート系化合物としてジブチルアンモニウム　ジブチルカーボネート（化合物３）を用いて銀反射層を形成した以外は同様にして、フィルムミラー１３を作製した。
　上記作製したフィルムミラー１～１３の構成を、表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
  
　（フィルムミラーの評価）
　（初期のスポット径の測定）
　上記作製したフィルムミラーについて、図３に内部構成を示したニコンエンジニアリング社製の小型ワーキングオートコリメーターＷＶ－６０を用いて、反射スポットのスポット径を計測した。スポットは、有効観測領域が直径２８ｍｍの円形とし、フィルムミラー表面が鏡面で反射効率が高い場合は、フィルムミラーに入射した光束径と同じスポット径がＣＣＤセンサを通してモニター上に得られる。従って、初期スポット径が２８ｍｍに近いほど、反射効率に優れていることを表す。
　（初期の５度正反射率の測定）
　上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側における５度正反射率を測定した。日立社製の分光光度計　Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行なった。波長範囲は２５０ｎｍ～２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域（４００ｎｍ～８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。
　（耐擦過性の評価）
　上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側を、新東科学株式会社摩擦摩耗試験機（トライボステーションＴＹＰＥ：３２、移動速度４０００ｍｍ／ｍｉｎ．）を使用し、１０００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた日本スチールウール株式会社製の品番＃００００のスチールウールを２０往復させた。次いで、２０往復後に、上記と同様の方法でスポット径の測定を行った。上記の初期のスポット径の測定値に対し、変動幅が少ないほど、耐擦過性に優れていることを表す。
　（耐候性の評価）
　上記作製したフィルムミラーを、温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で３０日間放置後したのち、フィルムミラーの太陽光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機　ＳＸ７５を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２　１６８時間）を行った。次いで、キセノンランプ照射後に上記と同様の方法で５度正反射率を測定した。上記の初期の５度正反射率に対し、変動幅が少ないほど、耐候性に優れていることを表す。
　（密着性の評価）
　ＪＩＳ　Ｋ　５４００に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、反射層を形成した面側に、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、高分子フィルム基材と反射層との密着性評価を評価した。
　Ａ：剥離がまったく認められない
　Ｂ：剥離した碁盤目数が、１個以上、５個以下である
　Ｃ：剥離した碁盤目数が、６個以上、１０個以下である
　Ｄ：剥離した碁盤目数が、１１個以上、２０個以下である
　Ｅ：剥離した碁盤目数が、２１個以上である
　以上により得られた結果を、表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
　表２に記載の結果より明らかな様に、本発明のフィルムミラーは、比較例に対し、優れた正反射性を有すると共に、耐擦過性、耐候性及び密着性に優れていることが分かる。
　「実施例２；太陽熱発電用反射装置の作製」
　上記作製した各フィルムミラーの太陽光入射面とは反対側の面側に、アクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を、５μｍの厚さとなる様に塗布して粘着層を形成した後、保持部材として厚さ１ｍｍのアルミニウム支持体上に固着させて、太陽熱発電用反射装置を作製した。
　（太陽熱発電用反射装置の評価）
　上記作製した太陽熱発電用反射装置について、実施例１に記載の方法と同様にして、正反射性、耐擦過性、耐候性と、様々な温湿度環境下で耐久性を確認した結果、本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、比較例に対し良好な結果を得ることができることを確認することができた。
　本発明は、以上のように構成されていることから、太陽光を反射する太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置として利用できる。
　１　太陽光反射用フィルムミラー
　２　高分子フィルム基材
　３　反射層
　４　保護コーティング層
　５　下塗り層
　６　太陽熱発電用反射装置
　７　粘着層
　８　保持部材
　９　プレコート層

Claims (8)

  1. 　太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム基材、コーティング銀から構成される反射層及び保護コーティング層を有する太陽光反射用フィルムミラーであって、該反射層が銀錯体化合物を含有する塗布液を、塗布、焼成して形成されたものであることを特徴とする太陽光反射用フィルムミラー。
  2. 　前記高分子フィルム基材と反射層との間に、下塗り層を有することを特徴とする請求項１記載の太陽光反射用フィルムミラー。
  3. 　前記銀錯体化合物が、下記一般式（１）で表される銀化合物と、下記一般式（２）～（４）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種とを反応させて得られることを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
    　一般式（１）
    　　　ＡｇｎＸ
    〔式中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、シアノ基、シアネート基、カーボネート基、ニトレート基、ニトライト基、サルフェート基、ホスフェート基、チオシアネート基、クロレート基、パークロレート基、テトラフルオロボレート基、アセチルアセトネート基、カルボキシレート基及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種であり、ｎは１～４の整数である。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
      
    〔式中、Ｒ１～Ｒ６は、互いに独立して、水素原子、炭素数が１～３０の脂肪族アルキル基、炭素数が１～３０の脂環族アルキル基、アリール基、アラルキル基、官能基が置換されたアルキル基、官能基が置換されたアリール基、ヘテロ環化合物基、高分子化合物及びその誘導体から選ばれる少なくとも１種である。〕
  4. 　前記高分子フィルム基材の厚さが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
  5. 　前記高分子フィルム基材が、アクリル系樹脂フィルムまたはポリオレフィン系樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１～４のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
  6. 　前記高分子フィルム基材が、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
  7. 　前記高分子フィルム基材が、酸化防止剤または安定剤を含有することを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラー。
  8. 　保持部材上に、粘着層を介して請求項１～７のいずれか一項に記載の太陽光反射用フィルムミラーを配置したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
PCT/JP2011/062882 2010-06-15 2011-06-06 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 WO2011158677A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP11795585.6A EP2584384A4 (en) 2010-06-15 2011-06-06 FILM MIRROR FOR SUNLIGHT REFLECTION AND REFLECTIVE DEVICE FOR POWER GENERATION FROM SUNWATER HEAT
JP2012520374A JPWO2011158677A1 (ja) 2010-06-15 2011-06-06 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
US13/703,751 US20130081612A1 (en) 2010-06-15 2011-06-06 Film mirror for reflecting sunlight and reflective device for solar thermal power generation

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-135938 2010-06-15
JP2010135938 2010-06-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011158677A1 true WO2011158677A1 (ja) 2011-12-22

Family

ID=45348083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/062882 WO2011158677A1 (ja) 2010-06-15 2011-06-06 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20130081612A1 (ja)
EP (1) EP2584384A4 (ja)
JP (1) JPWO2011158677A1 (ja)
WO (1) WO2011158677A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014099260A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Ushio Inc ソーラシミュレータ
WO2016009755A1 (ja) * 2014-07-14 2016-01-21 富士フイルム株式会社 太陽熱発電用反射板
JP2019008278A (ja) * 2017-06-28 2019-01-17 凸版印刷株式会社 発色構造体、表示体、発色構造体の製造方法
KR20190131478A (ko) * 2017-01-18 2019-11-26 가부시키가이샤 시마노 은 경막층을 구비한 표면 장식 구조 및 그 형성 방법
US11592605B2 (en) 2017-06-28 2023-02-28 Toppan Printing Co., Ltd. Color developing structure having concave-convex layer, method for producing such structure, and display

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100242953A1 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Ppg Industries Ohio, Inc. Solar reflecting mirror having a protective coating and method of making same
KR101531891B1 (ko) * 2011-04-20 2015-06-29 주식회사 잉크테크 은 잉크 조성물
KR101741771B1 (ko) * 2012-03-27 2017-05-30 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 은도금 도장체
US20140121297A1 (en) * 2012-10-31 2014-05-01 Imrae Corporation Solar Reflective Coating
US20150322271A1 (en) 2014-05-09 2015-11-12 Prc-Desoto International, Inc. Chromate free pretreatment primer
CN104635285B (zh) * 2015-01-30 2017-01-25 宁波长阳科技股份有限公司 一种高挺性涂布反射膜及其制备方法
DE102015114094A1 (de) * 2015-08-25 2017-03-02 Alanod Gmbh & Co. Kg Reflektierendes Verbundmaterial mit lackiertem Aluminium-Träger und mit einer Silber-Reflexionsschicht und Verfahren zu dessen Herstellung

Citations (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4542214A (en) 1982-03-04 1985-09-17 Air Products And Chemicals, Inc. Carbamate and carbonate salts of tertiary amines
JPH06148430A (ja) 1992-11-11 1994-05-27 Konica Corp 偏光板用保護フィルム
JPH0732537A (ja) * 1993-07-21 1995-02-03 Mitsui Toatsu Chem Inc 反射シート
JPH08337574A (ja) 1995-05-18 1996-12-24 Ciba Geigy Ag ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン
JPH10182621A (ja) 1996-11-20 1998-07-07 Ciba Specialty Chem Holding Inc ヒドロキシフェニルトリアジン
JP2003014901A (ja) 2001-04-27 2003-01-15 Jsr Corp 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
JP2003113317A (ja) 2001-10-04 2003-04-18 Konica Corp 光学フィルム及びそれを用いた偏光板と表示装置と紫外線吸収性ポリマー
JP2003139950A (ja) 2001-10-30 2003-05-14 Sekisui Chem Co Ltd 位相差フィルムの製造方法
JP2003161832A (ja) 2001-11-22 2003-06-06 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板
JP2003195268A (ja) 2001-12-25 2003-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 表示装置用プラスチック基板及びその製造方法
JP2003211588A (ja) 2002-01-21 2003-07-29 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体及びその製造方法
JP2003211589A (ja) 2002-01-23 2003-07-29 Nippon Zeon Co Ltd 積層体及びその製造方法
JP2003268187A (ja) 2002-03-15 2003-09-25 Sekisui Chem Co Ltd 透明樹脂組成物及び光学フィルム
JP2004133209A (ja) 2002-10-10 2004-04-30 Sekisui Chem Co Ltd 位相差フィルム及びその製造方法
JP2004309979A (ja) 2003-04-10 2004-11-04 Jsr Corp 位相差フィルムおよび偏光板
JP2005059382A (ja) 2003-08-12 2005-03-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 三次元成形機で成形可能な鏡面ミラーシートおよびその製造方法
JP2005121813A (ja) 2003-10-15 2005-05-12 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルム及び偏光板
JP2005164632A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Jsr Corp 光学用フィルムおよび偏光板
JP2005280131A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Reiko Co Ltd 反射フイルム
JP2006072309A (ja) 2004-08-05 2006-03-16 Nitto Denko Corp 位相差フィルム、その製造方法、光学フィルム、画像表示装置、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2006178191A (ja) 2004-12-22 2006-07-06 Jsr Corp 偏光フィルムの製造方法および偏光フィルム
JP2006215333A (ja) 2005-02-04 2006-08-17 Nippon Zeon Co Ltd 位相差フィルム
JP2006268065A (ja) 2004-08-05 2006-10-05 Nitto Denko Corp 位相差フィルム、光学フィルム、画像表示装置、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2006299199A (ja) 2005-04-25 2006-11-02 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルム用樹脂組成物及び光学フィルム
JP2008003359A (ja) 2006-06-23 2008-01-10 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2008530001A (ja) 2005-02-07 2008-08-07 インクテック カンパニー リミテッド 有機銀錯体化合物及びこれを用いた薄膜形成方法
JP2009535661A (ja) 2006-04-29 2009-10-01 インクテック カンパニー リミテッド 有機銀錯体化合物を含む反射膜コーティング液組成物及びこれを用いた反射膜の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5251064A (en) * 1991-03-08 1993-10-05 Southwall Technologies Inc. Lighting fixture reflector containing ultraviolet absorber
TW314600B (ja) * 1995-05-31 1997-09-01 Mitsui Toatsu Chemicals
US7612937B2 (en) * 2001-02-09 2009-11-03 Alliance For Sustainable Energy, Llc Advanced ultraviolet-resistant silver mirrors for use in solar reflectors
CN1237376C (zh) * 2001-04-24 2006-01-18 三井化学株式会社 灯反射器和反射器
JP2007052100A (ja) * 2005-08-16 2007-03-01 Konica Minolta Opto Inc 光学反射部材
GB0722906D0 (en) * 2007-11-22 2008-01-02 Pilkington Group Ltd Mirror
KR100881456B1 (ko) * 2007-12-07 2009-02-06 주식회사 잉크테크 산화 은의 제조방법
US20120277719A1 (en) * 2011-04-27 2012-11-01 Massachusetts Institute Of Technology Coating compositions, methods and coated devices

Patent Citations (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4542214A (en) 1982-03-04 1985-09-17 Air Products And Chemicals, Inc. Carbamate and carbonate salts of tertiary amines
JPH06148430A (ja) 1992-11-11 1994-05-27 Konica Corp 偏光板用保護フィルム
JPH0732537A (ja) * 1993-07-21 1995-02-03 Mitsui Toatsu Chem Inc 反射シート
JPH08337574A (ja) 1995-05-18 1996-12-24 Ciba Geigy Ag ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン
JPH10182621A (ja) 1996-11-20 1998-07-07 Ciba Specialty Chem Holding Inc ヒドロキシフェニルトリアジン
JP2003014901A (ja) 2001-04-27 2003-01-15 Jsr Corp 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム
JP2003113317A (ja) 2001-10-04 2003-04-18 Konica Corp 光学フィルム及びそれを用いた偏光板と表示装置と紫外線吸収性ポリマー
JP2003139950A (ja) 2001-10-30 2003-05-14 Sekisui Chem Co Ltd 位相差フィルムの製造方法
JP2003161832A (ja) 2001-11-22 2003-06-06 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板
JP2003195268A (ja) 2001-12-25 2003-07-09 Fuji Photo Film Co Ltd 表示装置用プラスチック基板及びその製造方法
JP2003211588A (ja) 2002-01-21 2003-07-29 Nippon Zeon Co Ltd 樹脂積層体及びその製造方法
JP2003211589A (ja) 2002-01-23 2003-07-29 Nippon Zeon Co Ltd 積層体及びその製造方法
JP2003268187A (ja) 2002-03-15 2003-09-25 Sekisui Chem Co Ltd 透明樹脂組成物及び光学フィルム
JP2004133209A (ja) 2002-10-10 2004-04-30 Sekisui Chem Co Ltd 位相差フィルム及びその製造方法
JP2004309979A (ja) 2003-04-10 2004-11-04 Jsr Corp 位相差フィルムおよび偏光板
JP2005059382A (ja) 2003-08-12 2005-03-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 三次元成形機で成形可能な鏡面ミラーシートおよびその製造方法
JP2005121813A (ja) 2003-10-15 2005-05-12 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルム及び偏光板
JP2005164632A (ja) 2003-11-28 2005-06-23 Jsr Corp 光学用フィルムおよび偏光板
JP2005280131A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Reiko Co Ltd 反射フイルム
JP2006072309A (ja) 2004-08-05 2006-03-16 Nitto Denko Corp 位相差フィルム、その製造方法、光学フィルム、画像表示装置、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2006268065A (ja) 2004-08-05 2006-10-05 Nitto Denko Corp 位相差フィルム、光学フィルム、画像表示装置、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2006178191A (ja) 2004-12-22 2006-07-06 Jsr Corp 偏光フィルムの製造方法および偏光フィルム
JP2006215333A (ja) 2005-02-04 2006-08-17 Nippon Zeon Co Ltd 位相差フィルム
JP2008530001A (ja) 2005-02-07 2008-08-07 インクテック カンパニー リミテッド 有機銀錯体化合物及びこれを用いた薄膜形成方法
JP2006299199A (ja) 2005-04-25 2006-11-02 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルム用樹脂組成物及び光学フィルム
JP2009535661A (ja) 2006-04-29 2009-10-01 インクテック カンパニー リミテッド 有機銀錯体化合物を含む反射膜コーティング液組成物及びこれを用いた反射膜の製造方法
JP2008003359A (ja) 2006-06-23 2008-01-10 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2584384A4

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014099260A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Ushio Inc ソーラシミュレータ
WO2016009755A1 (ja) * 2014-07-14 2016-01-21 富士フイルム株式会社 太陽熱発電用反射板
JPWO2016009755A1 (ja) * 2014-07-14 2017-04-27 富士フイルム株式会社 太陽熱発電用反射板
KR20190131478A (ko) * 2017-01-18 2019-11-26 가부시키가이샤 시마노 은 경막층을 구비한 표면 장식 구조 및 그 형성 방법
KR102503975B1 (ko) * 2017-01-18 2023-02-28 가부시키가이샤 시마노 은 경막층을 구비한 표면 장식 구조 및 그 형성 방법
JP2019008278A (ja) * 2017-06-28 2019-01-17 凸版印刷株式会社 発色構造体、表示体、発色構造体の製造方法
US11592605B2 (en) 2017-06-28 2023-02-28 Toppan Printing Co., Ltd. Color developing structure having concave-convex layer, method for producing such structure, and display

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2011158677A1 (ja) 2013-08-19
EP2584384A1 (en) 2013-04-24
US20130081612A1 (en) 2013-04-04
EP2584384A4 (en) 2015-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011158677A1 (ja) 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
WO2015041015A1 (ja) 複合フィルムおよび太陽光反射用フィルムミラー
JP5920211B2 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2011128501A (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽光集光用ミラー
JP5691811B2 (ja) フィルムミラー、太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置
JPWO2013094633A1 (ja) 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
US20130283793A1 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system comprising the solar light collecting mirror
JP2011158751A (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
JP5962014B2 (ja) フィルムミラー及びその製造方法
WO2011096151A1 (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽光集光用ミラー
JP2015121806A (ja) フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー
JP2012047861A (ja) フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー
JP5794232B2 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2011077982A1 (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
WO2012026311A1 (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2011203553A (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー
US20140150429A1 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system having solar light collecting mirror
JP5672071B2 (ja) フィルムミラーの製造方法、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
JPWO2011096248A1 (ja) 太陽熱発電用光反射フィルム、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置
JP5747547B2 (ja) フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置
WO2011114861A1 (ja) 太陽光集光用ミラー、それを用いたトラフ式太陽熱発電装置及びトラフ式太陽光発電装置
JP2012053382A (ja) 太陽熱発電用光反射フィルム及び太陽熱発電用反射装置
WO2012056953A1 (ja) 太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置
JP2011158752A (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2011158665A1 (ja) フィルムミラー、及び太陽熱発電用反射装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11795585

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012520374

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13703751

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011795585

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE