WO2012026311A1 - フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2012026311A1
WO2012026311A1 PCT/JP2011/068039 JP2011068039W WO2012026311A1 WO 2012026311 A1 WO2012026311 A1 WO 2012026311A1 JP 2011068039 W JP2011068039 W JP 2011068039W WO 2012026311 A1 WO2012026311 A1 WO 2012026311A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
film mirror
layer
resin
refractive index
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/068039
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
美佳 本田
Original Assignee
コニカミノルタオプト株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタオプト株式会社 filed Critical コニカミノルタオプト株式会社
Priority to JP2012530613A priority Critical patent/JPWO2012026311A1/ja
Publication of WO2012026311A1 publication Critical patent/WO2012026311A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror provided with a reflective layer, a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflection device using the same.
  • Natural energy such as coal energy, biomass energy, nuclear energy, wind energy, and solar energy is currently being considered as alternative energy to replace fossil fuel energy such as oil and natural gas.
  • fossil fuel energy such as oil and natural gas.
  • the most stable and abundant amount of natural energy is considered to be solar energy.
  • a glass mirror Since the reflection device is exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc. due to solar heat, a glass mirror has been conventionally used. Glass mirrors are highly environmentally durable, but large glass mirrors that are damaged during transportation become quite heavy, so it is necessary to increase the strength of the frame on which the mirrors are installed. I had a problem that it was bulky. Furthermore, glass mirrors are easily damaged, and it is necessary to consider not to be injured at the damaged part when replacing them. In many cases, they are installed outdoors, and the working environment (wind, rain, sand, dust, etc.) ), And skill is required for replacement work at the time of replacement.
  • Patent Document 1 discloses a method of replacing a glass mirror with a resin reflection sheet.
  • the glass mirror When the glass mirror is replaced with a resinous sheet or a thinner film, it can be wound into a roll, so that continuous film formation is possible, and production efficiency can be significantly increased.
  • resinous films have two drawbacks compared to glass. One is that the film surfaces stick to each other and deforms, and the second is that the film surfaces are easily damaged.
  • Patent Document 3 discloses a method of providing an optically transparent scratch-resistant easy-sliding layer on the surface in order to prevent scratching during punching.
  • this method is the order of forming the scratch-resistant easy-sliding layer after forming the silver layer, and there are problems such as scratches, peeling, corrosion deterioration, and oxidation deterioration of the silver layer in the course of forming the scratch-resistant easy-slip layer. is there. If a defect occurs in the silver layer, it cannot be used as a product and the yield is low.
  • JP 2005-59382 A Japanese Patent No. 3845435 Japanese Patent No. 3821596
  • the present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to produce a film mirror that can be manufactured with simple production equipment, has high regular reflectance, and has excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion. And a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflection device using the same.
  • a method for producing a film mirror comprising: bonding a polymer film of the above and a film including a reflective layer together through the adhesive layer.
  • a film mirror that can be manufactured with simple production equipment, has a high regular reflectance, and has excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion, a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflector using the film mirror could be provided.
  • the present inventor has an adhesive layer having a refractive index n ′ on a surface having surface irregularities with a 10-point average roughness Rz of 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, and a refractive index of A film mirror obtained by laminating a polymer film of n and a film including a reflective layer through the adhesive layer satisfies the formula (1) “
  • the film mirror can be manufactured with simple production equipment, has a high regular reflectance, and can realize a film mirror having excellent weather resistance, scratch resistance and adhesion, and has led to the present invention. It depends on you.
  • the film mirror of this invention is a structure which has a polymer film layer which has a polymer film, an adhesive layer, a silver reflection layer, and a protective coating layer in order from the sunlight incident side.
  • a polymer film having a rough surface with a 10-point average roughness Rz value of 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less is disposed on the sunlight incident side, and the difference in refractive index between the adhesive layer and the polymer film is set to 0.
  • the difference in refractive index between the adhesive layer and the polymer film is set to 0.
  • the inside of the film is reflected and absorbed and attenuates. If the polymer film and the adhesive layer have exactly the same refractive index, there is no interface reflection, but in practice, it is very difficult to select such a combination of the polymer film and the adhesive layer. On the other hand, at least one surface is rough and the refractive index difference with the adhesive layer is 0.1 or less, so that the ratio of the light reflected at the interface can be reduced, and more light is reflected by the silver reflecting surface that reflects sunlight. Power generation efficiency per unit area can be increased by reaching the layer.
  • the anchoring effect can be obtained because the adhesion penetrates into details and increases the adhesion. Furthermore, by arranging a polymer film on the sunlight incident side, it is possible to realize excellent light resistance and durability for protecting the silver reflective layer from the external environment in addition to the protective coating layer.
  • the film mirror is fixed to a holding member, for example, a metal material such as an aluminum support, through an adhesive layer, thereby forming a solar power generation reflection device.
  • Polymer film As a material for the polymer film substrate, for example, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, acrylic, polycarbonate, polyolefin (especially cycloolefin resin), cellulose, or polyamide is used in terms of flexibility and weight reduction. A monolayer or coextruded film containing is preferred. Among these, excellent in weather resistance, in particular, an acrylic copolymer obtained by copolymerizing at least two or more acrylic monomers, or a cycloolefin resin is preferable.
  • acrylic copolymers include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, and butyl methacrylate.
  • One or more monomers selected from monomers having no functional group in the side chain such as alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate
  • alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate
  • monomers selected from monomers such as 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, etc.
  • a monomer having a functional group such as OH or COOH in the side chain of the mer (hereinafter referred to as a functional monomer) or a combination of two or more thereof, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, bulk Examples include acrylic copolymers having a weight average molecular weight of 40,000 to 1,000,000, preferably 100,000 to 400,000, obtained by copolymerization by a polymerization method such as a polymerization method.
  • Tg polymer such as ethylhexyl methacrylate
  • mass% 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylic acid, itacone
  • Acrylic polymers such as the functional monomer contains 0 to 10% by weight of an equal is most preferred.
  • the cycloolefin resin that can be suitably used in the polymer film according to the present invention is a polymer resin containing an alicyclic structure.
  • a preferred cycloolefin resin is a resin obtained by polymerizing or copolymerizing a cyclic olefin.
  • cyclic olefin examples include norbornene, dicyclopentadiene, tetracyclododecene, ethyltetracyclododecene, ethylidenetetracyclododecene, tetracyclo [7.4.0.110, 13.02,7] trideca-2,4, Polycyclic unsaturated hydrocarbons such as 6,11-tetraene and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, 3,4-dimethylcyclopentene, 3-methylcyclohexene, 2- (2-methylbutyl) -1-cyclohexene, cyclo Examples thereof include monocyclic unsaturated hydrocarbons such as octene, 3a, 5,6,7a-tetrahydro-4,7-methano-1H-indene, cycloheptene, cyclopentadiene, cyclohexadiene,
  • Preferred cycloolefin resins may be those obtained by addition copolymerization of monomers other than cyclic olefins.
  • addition copolymerizable monomers include ethylene, ⁇ -olefins such as ethylene, propylene, 1-butene and 1-pentene; 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl- And dienes such as 1,4-hexadiene and 1,7-octadiene.
  • cycloolefin resins include the following norbornene resins.
  • the norbornene-based resin preferably has a norbornene skeleton as a repeating unit. Specific examples thereof include, for example, JP-A Nos. 2003-139950, 2003-14901, and 2003-161832.
  • ZEONEX ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Arton manufactured by JSR Corporation
  • APPEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. APL8008T, APL6509T, APL6013T, APL5014DP, APL6015T
  • APL8008T APL6509T, APL6013T, APL5014DP, APL6015T
  • APL8008T APL6509T
  • APL6013T APL6013T
  • APL5014DP APL6015T
  • the thickness of the polymer film is not particularly limited, but is preferably 9 ⁇ m or more and 175 ⁇ m or less, more preferably 12 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • the thickness is 9 ⁇ m or more, generation of wrinkles or breakage during film mirror processing can be prevented, and if it is 175 ⁇ m or less, uneven thickness and sagging can be prevented and a highly uniform base material can be formed. .
  • At least one surface of the polymer film surface is a rough surface having a surface roughness of 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • a method for forming the rough surface there are a method using surface unevenness transfer and a method of adding transparent fine particles. is there.
  • the method for imparting the surface irregularity shape to the polymer film is not particularly limited, but thermal imprinting and optical imprinting can be suitably used.
  • Thermal imprinting is a process in which a mold with a fine surface shape and a resin are heated, the mold is pressed against the resin, the mold and the resin are cooled, the mold is released, and then applied to the mold surface.
  • the resin used for thermal imprinting may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin, but a highly transparent resin is preferable.
  • Resins suitable for thermal imprinting include acrylic resins, silicone resins, various cycloolefin copolymers, polycarbonate, polystyrene, polyolefin, polyethylene terephthalate, and the like.
  • polyethylene terephthalate when polyethylene terephthalate is used, it is preferable to copolymerize isophthalic acid, cyclohexanedimethanol, naphthalate, spiroglycol, fluorene or the like in order to reduce crystallinity. This is because if the crystallinity is high, the film may crystallize and become white when heat imprinted.
  • optical imprinting means that a photocurable resin is applied on a base film, a mold having a fine surface shape is pressed against the resin application surface, and light such as ultraviolet rays is applied to the portion to produce light. This is a technique in which a curable resin is cured and then released, and the shape applied to the mold surface is transferred to the resin.
  • the resin suitable for optical imprint include acrylic resins.
  • the following coating method may be mentioned, but it is not limited to this method.
  • Dip coating method air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method and extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294), micro gravure coating method, etc.
  • the known methods are used, and among them, the microgravure coating method and the die coating method are preferable.
  • the micro gravure coating method used in the present invention is a method using a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and having a gravure pattern engraved on the entire circumference, and with respect to the transport direction of the polymer film.
  • the coating method is characterized in that the gravure roll is rotated in the reverse direction, and a surplus coating liquid is scraped off from the surface of the gravure roll by a doctor blade to transfer a certain amount of the coating liquid.
  • the haze H satisfies the formula: H (%) ⁇ 70 ⁇ Gs (%), and the difference between the refractive index Nd of the transparent fine particles and the refractive index Nb of the transparent resin (
  • Gs means 60 degree specular gloss.
  • the volume average particle size of the transparent fine particles is preferably from 0.5 to 10 ⁇ m, more preferably from 1 to 6 ⁇ m, and even more preferably from 2 to 4 ⁇ m.
  • the volume average particle size is too small, it is necessary to reduce the thickness of the rough surface layer accordingly, and it is not preferable because sufficient coating strength cannot be maintained. If the volume average particle size is too large, it is necessary to increase the thickness of the rough surface layer accordingly, which is technically difficult beyond the range that can be normally applied, and is not economical.
  • acrylic and styrene cross-linked particles for example, acrylic and styrene cross-linked particles, talc, glass beads, silicone particles and the like are used.
  • acrylic crosslinked particles are preferably used from the viewpoint of easy control of the refractive index and size.
  • the thickness of the rough surface layer is preferably 2 to 5 times the volume average particle diameter of the transparent fine particles, more preferably 2.5 to 3 times. If the thickness of the rough surface layer is within this range, transparent fine particles are included in the coating film, and gentle fine irregularities are formed on the coating film surface. It can be set as the resin film excellent in the optical characteristic with a low haze for a degree. If the thickness of the rough surface layer is too small with respect to the volume average particle diameter of the transparent fine particles, many protrusions are formed on the surface of the coating film due to the transparent fine particles, and the adhesive layer must be thickened in order to eliminate light scattering. The entire structure becomes unnecessarily thick. When the thickness of the rough surface layer is too large with respect to the volume average particle diameter of the transparent fine particles, projections for obtaining desired sliding performance cannot be obtained.
  • the polymer film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber from the viewpoint of improving weather resistance and light resistance.
  • the ultraviolet absorber used in the polymer film according to the present invention is excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and has little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of utilization of sunlight. preferable.
  • Examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. However, benzophenone compounds, less colored benzotriazole compounds, and triazine compounds are preferable. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 10-182621 and 8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 6-148430 and 2003-113317 may be used.
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzo Triazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ′′, 4 ′′, 5 ′′, 6 ′′ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2′-hydroxy 3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2-
  • TINUVIN 171, TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 360 (all manufactured by BASF Japan), LA31 (manufactured by ADEKA), RUVA-100 (Otsuka) Chemical).
  • benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy- 5-benzoylphenylmethane) and the like, but are not limited thereto.
  • the polymer film substrate according to the present invention preferably contains an antioxidant or a stabilizer.
  • the antioxidant that can be preferably applied to the polymer film substrate according to the present invention include a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a phosphite-based antioxidant.
  • phenolic antioxidants examples include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t- Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl- ⁇ - (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propi , Triethylene glycol bis [3- (3-
  • thiol-based antioxidant examples include distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- ( ⁇ -lauryl-thiopropionate), and the like.
  • phosphite antioxidant examples include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol.
  • Diphosphite bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.
  • the following light stabilizer can be used together with the antioxidant.
  • hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-Tetrame Lupiperidine, tetrakis (2,2,2,
  • nickel-based UV stabilizers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
  • a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable.
  • bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) is preferable.
  • a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.
  • the film mirror according to the present invention has an adhesive layer.
  • the adhesive layer is used to enhance the adhesion between the reflective layer made of metal and the resin base material (resin film) (adhesiveness), the one that enhances the adhesion between other constituent layers, the reflective layer made of metal It may have heat resistance that can withstand the heat when it is formed by vacuum deposition, etc., and smoothness to bring out the high reflection performance inherent to the reflective layer made of metal, but it must be made of resin Is preferred.
  • the resin used for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness.
  • Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide resin Resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with an agent.
  • polyester resins polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) are preferable.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 to 50 ⁇ m, more preferably 1 from the viewpoints of the effect of burying the unevenness of the particles and extinguishing light diffusion, and from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflecting material, and the like. ⁇ 30 ⁇ m.
  • a method for forming the adhesive layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • the reflective layer for example, silver or a silver alloy, gold, copper, aluminum, or an alloy thereof can be used. In particular, it is preferable to use silver.
  • a reflective layer serves as a reflective film that reflects light.
  • the visible light region means a wavelength region of 400 to 700 nm.
  • the incident angle means an angle with respect to a line perpendicular to the film surface.
  • the silver alloy is composed of silver and one or more other metals selected from the group consisting of gold, palladium, tin, gallium, indium, copper, titanium and bismuth from the viewpoint of improving the durability of the reflective layer. Alloys are preferred.
  • gold is particularly preferable from the viewpoint of high temperature humidity resistance and reflectance.
  • the reflective layer is a film made of a silver alloy
  • 90 to 99.8 atomic percent of silver is preferable in the total (100 atomic percent) of silver and other metals in the reflective layer.
  • the other metal is preferably 0.2 to 10 atomic% from the viewpoint of durability.
  • the film thickness of the reflective layer is preferably 60 to 300 nm, particularly preferably 80 to 200 nm. If the thickness of the reflective layer is less than 60 nm, the film thickness is thin and light is transmitted, so that the reflectance in the visible light region of the film mirror may be reduced. When the thickness of the reflective layer exceeds 300 nm, irregularities are likely to occur on the surface of the reflective layer, which causes light scattering, which may reduce the reflectance in the visible light region.
  • the reflective layer made of metal is preferably formed by wet plating, dry plating, or silver deposition.
  • the protective coating layer contains a corrosion inhibitor, prevents corrosion deterioration of the metal forming the reflective layer, for example, silver, and adheres to the adhesive layer formed on the protective coating layer when constructing a solar power generation reflective device. It contributes to the improvement of strength.
  • a resin that can be used for forming the protective coating layer a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin, An acrylic resin is preferable, and a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate is more preferable.
  • isocyanate various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.
  • the thickness of the protective coating layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, weather resistance and the like.
  • a method for forming the protective coating layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorptive group for silver are preferably used.
  • the term “corrosion” refers to a phenomenon in which metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by the environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • the undercoat layer contains an antioxidant and the protective coating layer contains a corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver is also preferable.
  • the optimum amount of the corrosion inhibitor varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .
  • the film mirror of the present invention preferably has a corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver.
  • a corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver Specifically, amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, compounds having an indazole ring, copper chelate compounds It is desirable to select at least one kind selected from the group, a thiourea, a compound having a mercapto group, a naphthalene series, or a mixture thereof.
  • amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, o-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-N-dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolamine benzoate, dicyclohexyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium benzoate, diisopropylammonium Itoraito, cyclohexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexyl
  • Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, and N-phenyl. -3,4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3- Triazole, benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2, 4-triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′- Droxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzo Examples include thiazole and the like, or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, and 1-benzyl-2.
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and mixtures thereof.
  • thioureas examples include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
  • mercaptoacetic acid thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto
  • naphthalene-based compounds examples include thionalide.
  • an antioxidant and a stabilizer can also be used.
  • the antioxidant and stabilizer include the same antioxidants and stabilizers that can be applied to the polymer film described above.
  • the resin used for the undercoat layer according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the conditions of heat resistance and smoothness in addition to the above-mentioned adhesion, polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable. Furthermore, it is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflective layer, and the like.
  • wet coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • a scratch-resistant easy-slip layer can be provided as the outermost layer of the film mirror. This scratch-resistant easy-slip layer is provided for preventing scratches.
  • the scratch-resistant easy-slip layer can be composed of an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, an organic silicate compound, a silicone resin, or the like.
  • silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.
  • the active energy ray-curable acrylic resin or thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, or a reactive diluent as a polymerization curing component.
  • Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
  • the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
  • Multifunctional acrylic paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol” series, etc.), Shin-Nakamura Co., Ltd. ( (Product name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (Product name “UNIDIC” series, etc.), Toagosei Co., Ltd. (Product name “Aronix” series, etc.), Nippon Oil and Fats Corporation; (Such as “series”), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (trade name “KAYARAD” series, etc.), Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (trade names “light ester” series, “light acrylate” series, etc.) it can.
  • various additives can be further blended in the scratch-resistant easy-sliding layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.
  • the leveling agent is particularly effective for reducing surface irregularities when a scratch-resistant easy-slip layer is applied.
  • a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. is suitable as the silicone leveling agent.
  • a gas barrier layer in the film mirror of the present invention, can be provided for the purpose of preventing deterioration of humidity, particularly deterioration of various functional layers protected by the film substrate and the film substrate due to high humidity.
  • the moisture barrier property of the gas barrier layer is such that the water vapor transmission rate at 40 ° C. and 90% RH is 100 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, preferably 50 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, more preferably 20 g. It is preferable to adjust the moisture barrier property of the gas barrier layer so as to be not more than / m 2 ⁇ day / ⁇ m. Also.
  • the oxygen permeability is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the water vapor transmission rate can be measured by, for example, a water vapor transmission rate measuring device PERMATRAN-W3-33 manufactured by MOCON.
  • the gas barrier layer applicable to the present invention is mainly formed of a metal oxide.
  • a metal oxide silicon oxide, aluminum oxide, or a composite starting from silicon oxide and aluminum oxide is used. Oxides, zinc oxide, tin oxide, indium oxide, niobium oxide, chromium oxide, and the like can be mentioned. In particular, from the viewpoint of water vapor barrier properties, silicon oxide, aluminum oxide, or a composite oxide starting from silicon and aluminum is preferable.
  • a multilayer film in which a low refractive index layer having a refractive index of 1.35 to 1.8 at a wavelength of 550 nm and a high refractive index film having a refractive index of 1.85 to 2.8 at a wavelength of 550 nm are alternately laminated.
  • the low refractive index film material include silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, and aluminum nitride.
  • the high refractive index film material include niobium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium oxide, tantalum oxide, and zirconium oxide.
  • the thickness of the gas barrier layer made of a metal oxide is preferably in the range of 5 to 800 nm, more preferably in the range of 10 to 300 nm.
  • a gas barrier layer made of a silicon oxide layer or an aluminum oxide layer or a composite oxide formed using silicon oxide or aluminum oxide as a starting material on a film substrate is against a gas such as oxygen, carbon dioxide, air, or water vapor. Excellent barrier action.
  • the silicon oxide layer or the aluminum oxide layer, or the composite oxide layer using silicon oxide and aluminum oxide as a starting material has a thickness of 1 ⁇ m or less, and the average value of each light transmittance is 90% or more. It is preferable. Thereby, there is no light loss and sunlight can be reflected efficiently.
  • the film mirror of the present invention can be provided with a sacrificial anticorrosive layer.
  • the sacrificial anticorrosive layer as used in the present invention is a layer that protects a reflective layer composed of metal by sacrificial anticorrosion, and by disposing the sacrificial anticorrosive layer between the reflective layer and the film base, It is possible to improve the corrosion resistance of the reflection layer.
  • the sacrificial anticorrosive layer is preferably copper having a higher ionization tendency than silver, and the sacrificial anticorrosive layer made of copper can suppress deterioration of silver by being provided under a reflective layer made of silver. it can.
  • the reflector for solar power generation of the present invention is formed by fixing a film mirror to a holding member, for example, a metal member such as an aluminum support, through an adhesive layer.
  • the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminate agent, a wet laminate agent, an adhesive agent, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • a dry laminate agent e.g., a dry laminate agent, a wet laminate agent, an adhesive agent, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber and the like are used.
  • the laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out the roll method continuously from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 ⁇ m from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed and the like.
  • a metal support for example, a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, A metal material having a high thermal conductivity such as a chrome-plated steel plate or a stainless steel plate can be used.
  • a plated steel plate, stainless steel plate, aluminum plate or the like having good corrosion resistance.
  • the solar power generation reflective device of the present invention can be applied as a solar power generation film mirror for the purpose of collecting sunlight.
  • the reflecting device is shaped like a bowl (semi-cylindrical), and a cylindrical member having fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member.
  • the form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form.
  • flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector.
  • produces electricity by converting a thermal energy in a power generation part is also mentioned as one form.
  • the reflection device for solar power generation of the present invention is particularly preferably used.
  • Example 1 Production of film mirror >> (Preparation of film mirror 1)
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 25 ⁇ m) was used as the resin substrate.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm was formed as a silver reflective layer by vacuum deposition.
  • an acrylic adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was applied to a thickness of 15 ⁇ m to form an adhesive layer.
  • a biaxially stretched polyester film is coated with an ethyl acetate solution of methyl acrylate: butyl acrylate copolymer (ratio 64:36, UV curable resin) by a gravure coating method and dried at 80 ° C. for 4 minutes. Later, the film mirror 1 of the comparative example was produced by irradiating ultraviolet rays so that the ultraviolet illuminance was 100 mJ / cm 2 .
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 25 ⁇ m) was used as the resin substrate.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm was formed as a silver reflective layer by vacuum deposition.
  • a resin in which a polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and a TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate) are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer.
  • a silver protective polymer layer 1 coated with 0.1 g / m 2 by a gravure coating method after adding glycol dimercaptoacetate as a corrosion inhibitor to 0.3 g / m 2 after coating. did. Furthermore, as a layer containing an ultraviolet absorber, a water-dispersed emulsion type benzotriazole polymer ultraviolet absorbing coating solution UVA-1383MG (manufactured by BASF) is coated by a gravure coating method and dried at 55 ° C. for 4 minutes. Then, a silver protective polymer layer 2 having a thickness of 3 ⁇ m was formed. The silver protective polymer layers 1 and 2 were combined to form a silver protective polymer layer.
  • a polymer film containing a resin filler with a particle diameter of 5 ⁇ m on one side after an adhesive layer is formed by applying an acrylic adhesive TSB-085 (manufactured by DIC) as an adhesive to a thickness of 10 ⁇ m on the silver protective polymer layer
  • the filler side was attached to the adhesive layer under the conditions of a nip roll temperature of 80 ° C. and a nip roll pressure of 2 MPa.
  • the polymer film is PMMA and the refractive index n is 1.495.
  • a film mirror 2 of the present invention was produced by applying an acrylic adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) to a thickness of 15 ⁇ m on the side opposite to the silver reflective layer side of the resin substrate to form an adhesive layer.
  • the film mirror 6 of the comparative example was produced by applying an acrylic adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) to a thickness of 15 ⁇ m on the side opposite to the silver reflecting layer side of the resin substrate to form an adhesive layer.
  • Refractive index Measure the reflectivity of the polymer film in the wavelength range of 300 to 800 nm using Olympus lens reflectometer USPM-250, and calculate the refractive index n of the polymer film from the difference in refractive index from air and the reflectivity. did. Similarly, the refractive index n ′ of the adhesive layer was calculated from the measured reflectance.
  • the ten-point average roughness Rz was measured using a white light interference type surface roughness measuring machine WYKO HD3300 manufactured by Veeco.
  • the spot diameter of the reflected spot was measured using, for example, a small working autocollimator WV-60 manufactured by Nikon Engineering.
  • the spot is a circle with an effective observation area of 28 mm in diameter, the surface of the film mirror is mirror-like and the reflection efficiency is high, the same spot diameter as the light beam incident on the film mirror is obtained on the monitor through the CCD sensor. Therefore, the closer the initial spot diameter is to 28 mm, the better the reflection efficiency.
  • the film mirror of the present invention has excellent specular reflectivity and excellent scratch resistance, weather resistance and adhesion to the comparative example.
  • Example 2 Preparation of solar power reflectors ⁇ The adhesive layer formed on the opposite side to the sunlight incident surface of each film mirror produced as described above was fixed on an aluminum support having a thickness of 1 mm as a holding member, to produce a solar power generation reflecting device.
  • the solar power generation reflector using the film mirror of the present invention was able to obtain good results compared to the comparative example.
  • the present invention is configured as described above, it can be used as a film mirror that reflects sunlight, a manufacturing method of a film mirror, and a solar power generation reflecting device.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

　十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ'の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせたフィルムミラーが、下記式（１）を満たすことを特徴とするフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置。　式（１）　｜ｎ－ｎ'｜＜０．１

Description

フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
　本発明は、反射層を備えたフィルムミラーとその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関するものである。
　近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。従って近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。
　石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
　しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。
　これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
　反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損する、大型のガラス製ミラーになると、かなりの重さとなるため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、プラントの建設費がかさむといった問題を抱えていた。更に、ガラス製ミラーは破損しやすく、交換時には破損部でけがをしない様な配慮が必要となり、また、多くの場合、屋外に設置されている場合が多く、作業環境（風雨、砂、埃等）による影響もあり、交換時には交換作業に熟練が要求されている。
　上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製の反射シートに置き換える方法が、例えば、特許文献１に開示されている。
　ガラス製ミラーを樹脂性のシートまたはさらに薄いフィルムの置き換えた場合はロール状に巻くことができるため連続製膜が可能になり、生産効率を格段に高めることができる。しかし樹脂性のフィルムはガラスに比べて２つの欠点が上げられる。１つはフィルム表面同士が貼り付き変形する点、２つめは傷つきやすいという欠点である。
　フィルムをロールに巻こうとするとフィルム同士がまだら状に貼り付きフィルムの変形、膜厚変化を引き起こす。貼り付きを解消する方法として滑り性を良くする表面処理が施される。たとえばフィルムの両端にエンボス加工を施したり、粒子を混ぜて表面凹凸を形成したりする方法がある。両端にエンボス加工を施した箇所は最終製品には使えずに生産途中に裁断する必要があり廃棄する部分が生じてしまう。粒子を混ぜる場合は、たとえば特許文献２に開示されているような方法が開発されているが、光の拡散が光学仕様の範囲内に入るように粒子径を制限したり粒子の個数を制限したりする必要が生じる。光学性能と滑り性能が取り合いとなり両立は難しかった。
　２つ目の問題については、打ち抜き加工時の傷付きを防止するため表面に光学的に透明な耐擦傷性易滑層を設ける方法が特許文献３に開示されている。しかしこの方法は銀層を形成した後に耐擦傷性易滑層を形成する順番であって、耐擦傷性易滑層製膜途中の銀層の傷付き、剥離、腐食劣化、酸化劣化が問題である。銀層で不良が発生した場合には製品として使えず歩留まりが低い。
特開２００５－５９３８２号公報 特許第３８４５４３５号 特許第３８２１５９６号
　本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦傷性及び密着性を備えたフィルムミラーとその製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
　本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
　１．十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ’の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせたフィルムミラーが、下記式（１）を満たすことを特徴とするフィルムミラー。
　式（１）　｜ｎ－ｎ’｜＜０．１
　２．前記接着層の厚さは５μｍから３０μｍの範囲であることを特徴とする前記１記載のフィルムミラー。
　３．前記高分子フィルムの表面が、直径１μｍ以上１０μｍ以下の粒子を含有することを特徴とする前記１又は２記載のフィルムミラー。
　４．前記反射層を含むフィルムの反射層が、銀反射層であることを特徴とする前記１～３のいずれか１項記載のフィルムミラー。
　５．前記１～４のいずれか１項記載のフィルムミラーを、十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ’の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせて製造することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
　６．前記１～４のいずれか１項記載のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置。
　本発明により、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦傷性及び密着性を備えたフィルムミラーとその製造方法及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
　本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ’の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせたフィルムミラーが、式（１）「｜ｎ－ｎ’｜＜０．１」を満たすことを特徴とするフィルムミラーにより、簡易な生産設備で製造でき、高い正反射率を有し、優れた耐候性、耐擦傷性及び密着性を備えたフィルムミラーを実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。
　以下、本発明のフィルムミラーの詳細について説明する。
　《フィルムミラー、太陽熱発電用反射装置の構成》
　本発明のフィルムミラーは、太陽光が入射する側から順に高分子フィルム、接着層、銀反射層及び保護コーティング層を有する高分子フィルム層を有する構成であることが好ましい。
　本発明において、太陽光の入射側に十点平均粗さＲｚ値が１μｍ以上１０μｍ以下の粗面を有する高分子フィルムを配置し、接着層の屈折率と高分子フィルムの屈折率差を０．１以下にすることにより、高分子フィルムの粗面の光散乱は無くなり赤外光から可視光範囲にわたって透明となる。高分子フィルムの少なくとも片面が粗面であることでハンドリング性がよくなりＲｏｌｌ　ｔｏ　Ｒｏｌｌと呼ばれる連続生産が可能となる。高分子フィルムの両面が平滑または屈折率差が０．１以上あった場合、高分子フィルムから接着層との界面では界面反射する光と出射する光とに分けられ、界面反射する光は高分子フィルム内部を反射吸収し減衰することになる。高分子フィルムと接着層がまったく同じ屈折率であれば界面反射は無いが、実際にはそのような高分子フィルムと接着層の組み合わせを選択することは非常に難しい。一方で少なくとも片面が粗面で接着層との屈折率差が０．１以下にすることで界面反射する光の割合を減らすことができ、より多くの光を太陽光の反射面である銀反射層に到達させ単位面積あたりの発電効率を高めることができる。
　加えて、高分子フィルムの粗面は表面凹凸によって表面積が増えるため接着が細部にまで入り込み接着性を上げるアンカー効果が得られる。更に太陽光入射側に、高分子フィルムを配置することにより、保護コーティング層に加えて銀反射層を外部環境から保護する優れた耐光性、耐久性を実現することができるのである。
　フィルムミラーを、粘着層を介して保持部材、例えば、アルミニウム支持体等の金属製材に固定して、太陽熱発電用反射装置を形成する。
　《フィルムミラー》
　次いで、本発明のフィルムミラーの各構成要素について説明する。
　〔高分子フィルム〕
　高分子フィルム基材の材料としては、フレキシブル性や軽量化の点で、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィン（特に、シクロオレフィン樹脂）、セルロース、ポリアミドのいずれかを含む単層または共押し出しフィルムが好ましい。これらの中でも、耐候性に優れ、特に、少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体、またはシクロオレフィン樹脂が好適である。
　好適なアクリル系共重合体としては、具体的には例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２－ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられ、中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０～９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０～５０質量％、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０～１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。
　また、本発明に係る高分子フィルムに好適に用いることのできるシクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ－２，４，６，１１－テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４－ジメチルシクロペンテン、３－メチルシクロヘキセン、２－（２－メチルブチル）－１－シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ－テトラヒドロ－４，７－メタノ－１Ｈ－インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。
　好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテンなどのエチレン又はα－オレフィン；１，４－ヘキサジエン、４－メチル－１，４－ヘキサジエン、５－メチル－１，４－ヘキサジエン、１，７－オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
　シクロオレフィン樹脂として、下記のノルボルネン系樹脂も挙げられる。ノルボルネン系樹脂は、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、例えば、特開２００３－１３９９５０号公報、特開２００３－１４９０１号公報、特開２００３－１６１８３２号公報、特開２００３－１９５２６８号公報、特開２００３－２１１５８８号公報、特開２００３－２１１５８９号公報、特開２００３－２６８１８７号公報、特開２００４－１３３２０９号公報、特開２００４－３０９９７９号公報、特開２００５－１２１８１３号公報、特開２００５－１６４６３２号公報、特開２００６－７２３０９号公報、特開２００６－１７８１９１号公報、特開２００６－２１５３３３号公報、特開２００６－２６８０６５号公報、特開２００６－２９９１９９号公報等に記載されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
　高分子フィルムの厚さは、特に制限はないが、９μｍ以上、１７５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１２μｍ以上、１００μｍ以下である。
　厚さが９μｍ以上であれば、フィルムミラー加工時のしわの発生や破損を防止することができ、１７５μｍ以下であれば偏肉やたるみを防止でき均一性の高い基材を形成することができる。
　高分子フィルム表面は、少なくとも片面が表面粗さ１μｍ以上１０μｍ以下の粗面となっており、粗面を形成する方法としては表面凹凸形状の転写を用いる方法と、透明微粒子を添加する方法とがある。
　表面凹凸形状を高分子フィルムに付与する方法としては特に限定されないが、熱インプリントや光インプリントを好適に用いることができる。
　熱インプリントとは、微細な表面形状が施された金型と樹脂を熱し、樹脂に金型を押し付け、金型と樹脂を冷却後、金型を離型し、金型表面に施された形状を樹脂へ転写させる手法である。ここで、熱インプリントに用いられる樹脂は熱可塑性樹脂であっても、熱硬化性樹脂であってもよいが、透明性の高い樹脂が好ましい。熱インプリントに適した樹脂としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、各種シクロオレフィンコポリマー、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。ここで、ポリエチレンテレフタレートを用いるときは、結晶性を低下させるために、イソフタル酸、シクロヘキサンジメタノール、ナフタレート、スピログリコール、フルオレン等を共重合することが好ましい。結晶性が高いと、熱インプリントした際にフィルムが結晶化し、白色化することがあるためである。
　一方、光インプリントとは、基材フィルム上に光硬化性樹脂を塗布し、微細な表面形状が施された金型を樹脂塗布面に押し付け、該部分に紫外線等の光線を照射し、光硬化性樹脂を硬化させ、その後離型し、金型表面に施された形状を樹脂へ転写させる手法である。光インプリントに適した樹脂としては、アクリル系樹脂が挙げられる。
　表面凹凸形状を付与するインプリント以外の手法としては、以下の塗布方法が挙げられるが、この方法に制限されない。
　ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許第２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
　本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０～１００ｍｍ、好ましくは約２０～５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを用い、且つ高分子フィルムの搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。
　透明微粒子を添加する場合は、ヘイズＨが式：Ｈ（％）＜７０－Ｇｓ（％）を満たすことが望ましく、透明微粒子の屈折率Ｎｄと透明樹脂の屈折率Ｎｂとの差（｜Ｎｄ－Ｎｂ｜）が０．０２以下であるのが好ましく、０．０１以下であるのがより好ましく、０．００５以下であるのがさらに好ましい。｜Ｎｄ－Ｎｂ｜があまり大きいと、ヘイズが高くなり易く、前記式：Ｈ（％）＜７０－Ｇｓ（％）を満たし難くなる。ここでＧｓは６０度鏡面光沢度を意味する。
　透明微粒子の体積平均粒径は、０．５～１０μｍであるのが好ましく、１～６μｍであるのがより好ましく、２～４μｍであるのがさらに好ましい。体積平均粒径があまりに小さいと、それに応じて粗面層の厚みを薄くする必要があり、十分な塗膜強度が保てなくなるため好ましくない。体積平均粒径があまりに大きいと、それに応じて粗面層の厚みを厚くする必要があり、通常塗工できる範囲を越えて技術的に困難となり、且つ、経済的でない。
　透明微粒子としては、例えば、アクリル系やスチレン系の架橋粒子のほか、タルク、ガラスビーズ、シリコーン粒子などが用いられる。なかでも、屈折率やサイズを制御し易い面から、アクリル系の架橋粒子を用いることが好ましい。
　粗面層の厚みは、透明微粒子の体積平均粒径の２～５倍であるのが好ましく、２．５～３倍であるのがより好ましい。粗面層の厚みがこの範囲にあれば、透明微粒子が塗膜に内包され、塗膜表面になだらかで微細な凹凸が形成されて、良好な滑り性能でありながら透明性が高い、つまり、光沢度の割にヘイズが低い光学特性の優れた樹脂フィルムとすることができる。粗面層の厚みが透明微粒子の体積平均粒径に対しあまりに小さいと、塗膜の表面に透明微粒子による多数の突起が形成され、光散乱を消すために接着層を厚くせねばならず、製品全体の構成が不必要に厚くなってしまう。粗面層の厚みが透明微粒子の体積平均粒径に対しあまりに大きいと、所望とする滑り性能とするための突起が得られない。
　（紫外線吸収剤）
　本発明に係る高分子フィルムにおいては、耐候性並びに耐光性向上の観点から紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルムに使用される紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ太陽光利用の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
　本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０－１８２６２１号、同８－３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６－１４８４３０号、特開２００３－１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－（３”，４”，５”，６”－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール）、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）－フェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－（１－メチル－１－フェニルエチル）－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール、オクチル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートと２－エチルヘキシル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
　また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもＢＡＳＦジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、ＲＵＶＡ－１００（大塚化学製）が挙げられる。
　ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン、ビス（２－メトキシ－４－ヒドロキシ－５－ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　（酸化防止剤、安定剤）
　本発明に係る高分子フィルム基材においては、酸化防止剤または安定剤を含有することが好ましい。本発明に係る高分子フィルム基材に好ましく適用することのできる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、テトラキス－〔メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリス（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）－Ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９－ビス［１，１－ジ－メチル－２－〔β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－２，４，８，１０－テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
　チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル－３，３′－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリル－チオプロピオネート）等を挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス－（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）４，４’－ビフェニレン－ジホスホナイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
　また、本発明に係る高分子フィルム基材においては、上記酸化防止剤と共に、下記の光安定剤を用いることもできる。
　ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、１－メチル－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、１－［２－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－４－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ベンゾイルオキシ－２，２、６，６－テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタン－テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４，５］デカン－２，４－ジオン等が挙げられる。
　その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノレート）〕－２－エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル－ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
　特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、または１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
　〔接着層〕
　本発明に係るフィルムミラーは、接着層を有する。接着層は金属からなる反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高めるために用いられるもの（密着性）や、他の構成層同士の接着性を高めるもの、金属からなる反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属からなる反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有するものであってもよいが、樹脂からなることが好ましい。
　接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。ポリエステル系樹脂では、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。
　接着層の厚さは、粒子の凹凸を埋めて光拡散を消す効果の観点と、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．５～５０μｍが好ましく、より好ましくは１～３０μｍである。
　接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　〔反射層〕
　反射層としては、例えば、銀または銀合金、その他、金、銅、アルミニウム、これらの合金も用いることができる。特に、銀を使用することが好ましい。このような反射層は、光を反射させる反射膜としての役割を果たす。反射層を銀または銀合金からなる膜とすることにより、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００～７００ｎｍの波長領域を意味する。入射角とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
　銀合金としては、反射層の耐久性が向上する点から、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスからなる群から選ばれる１種以上の他の金属とからなる合金が好ましい。他の金属としては、高温耐湿性、反射率の点から、金が特に好ましい。
　反射層が銀合金からなる膜である場合、銀は、反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０～９９．８原子％が好ましい。また、他の金属は、耐久性の点から０．２～１０原子％が好ましい。
　また、反射層の膜厚は、６０～３００ｎｍが好ましく、８０～２００ｎｍが特に好ましい。反射層の膜厚が６０ｎｍ未満では、膜厚が薄く、光を透過してしまうため、フィルムミラーの可視光領域での反射率が低下する恐れがある。反射層の膜厚が３００ｎｍを超えると、反射層の表面に凹凸が発生しやすくなり、これにより光の散乱が生じてしまい、可視光領域での反射率が低下するおそれがある。
　金属からなる反射層は、湿式めっき、乾式めっき、銀蒸着で形成することが好ましい。
　〔保護コーティング層〕
　本発明のフィルムミラーにおいては、上記反射層上に保護コーティング層を有することが好ましい。
　保護コーティング層は、腐食防止剤を含み、反射層を形成する金属、例えば、銀の腐食劣化を防ぐとともに、太陽熱発電用反射装置を構成する際、保護コーティング層上に形成する粘着層との接着力向上に寄与するものである。
　保護コーティング層の形成に用いることのできる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
　保護コーティング層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　保護コーティング層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　本発明に係る保護コーティング層が含有する反射層の腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。
　また、本発明に係るフィルムミラーにおいては、下塗り層が酸化防止剤を含有し、かつ保護コーティング層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様も好ましい。
　なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１～１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
　〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
　本発明のフィルムミラーは銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を有することが好ましい。具体的には、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　アミン類およびその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２－Ｎ－ジメチルエタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１，３－プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ－エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピロール環を有する物としては、例えば、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２－エタンジオール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
　本発明に係る保護コーティング層に用いられる反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子フィルムに適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることができる。
　〔下塗り層〕
　本発明のフィルムミラーにおいては、高分子フィルムと反射層との密着性を向上させる観点から、高分子フィルム基材と反射層間に下塗り層を設けることが好ましい。
　本発明に係る下塗り層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　本発明において、下塗り層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　下塗り層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知の湿式コーティング方法が使用できる。
　〔その他の構成要素〕
　本発明のフィルムミラーにおいては、必要に応じ、下記の示す各機能層を形成してもよい。
　（耐傷性易滑層）
　本発明のフィルムミラーにおいては、フィルムミラーの最外層として、耐傷性易滑層を設けることができる。この耐傷性易滑層は、傷防止のために設けられる。
　耐傷性易滑層層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
　活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
　アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
　また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
　市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ（株）；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズなど）、東亞合成株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
　本発明において、耐傷性易滑層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
　レベリング剤は、特に、耐傷性易滑層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン－ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
　（ガスバリア層）
　本発明のフィルムミラーにおいては、湿度の変動、特に高湿度によるフィルム基材及びフィルム基材で保護される各種機能層の劣化を防止することを目的として、ガスバリア層を設けることができる。
　本発明において、ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、更に好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるようにガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。水蒸気透過度は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ３－３３にて測定できる。
　本発明に適用可能なガスバリア層は、主には金属酸化物により形成されるが、金属酸化物からなるガスバリア層としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化クロム等が挙げられ、特に水蒸気バリア性の観点から酸化珪素、酸化アルミニウム、または珪素、アルミニウムを出発材料とした複合酸化物が好ましい。そのほか波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３５から１．８の低屈折率層と、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８５から２．８である高屈折率膜を交互に積層した多層膜であっても良い。低屈折率膜材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどが挙げられる。高屈折率膜材料としては、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウムなどが挙げられる。これらは真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティングなどのＰＶＤ法（物理蒸着法）、あるいは、ＣＶＤ法（化学蒸着法）などの真空プロセスにより形成される。金属酸化物からなるガスバリア層の厚さは５～８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０～３００ｎｍの範囲である。
　本発明において、フィルム基材上に酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料として形成した複合酸化物からなるガスバリア層は、酸素、二酸化炭素、空気などのガスまたは水蒸気に対する高いバリア作用に優れる。
　さらに、酸化珪素層または酸化アルミニウム層、または酸化珪素、酸化アルミニウムを出発材料とした複合酸化物層は、膜厚がそれぞれ１μｍ以下であり、それぞれの光線透過率の平均値は９０％以上であることが好ましい。これによって、光損失がなく、太陽光を効率よく反射することができる。
　（犠牲防食層）
　本発明のフィルムミラーには、犠牲防食層を設けることができる。本発明でいう犠牲防食層とは、金属から構成される反射層を犠牲防食により保護する層のことであり、犠牲防食層を反射層とフィルム基材との間に配置することにより、金属からなる反射層の耐食性を向上させることができる。本発明において、犠牲防食層としては、銀よりもイオン化傾向の高い銅が好ましく、銅の犠牲防食層は、銀から構成される反射層の下に設けることによって、銀の劣化を抑制することができる。
　《太陽熱発電用反射装置》
　次いで、本発明のフィルムミラーを適用した太陽熱発電用反射装置について、説明する。
　本発明の太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーを、粘着層を介して保持部材、例えば、アルミニウム支持体等の金属製部材に固定することにより形成されている。
　（粘着層）
　粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウェットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
　ラミネート方法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
　粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１～５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
　（保持部材）
　本発明の太陽熱発電用反射装置において、保持部材としては金属支持体を用いることが好ましく、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に、耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
　（太陽熱発電用反射装置）
　本発明の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的の太陽熱発電用フィルムミラーとして適用することができる。太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用反射装置が特に好適に用いられる。
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
　実施例１
　《フィルムミラーの作製》
　（フィルムミラー１の作製）
　樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このフィルムの片面に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。銀反射層上にアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を１５μｍ厚に塗布して粘着層を形成した。耐擦傷性易滑層として２軸延伸ポリエステルフィルム側にメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６、紫外線硬化樹脂）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥後に紫外線照度が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射して比較例のフィルムミラー１の作製を作製した。
　（フィルムミラー２の作製）
　樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このフィルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。銀反射層上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１、日本合成化学社製）と、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法により０．１μｍになるようコーティングしての銀保護ポリマー層１とした。さらにその上に紫外線吸収剤を含む層として、水分散エマルジョンタイプのベンゾトリアゾール系高分子型紫外線吸収コーティング液ＵＶＡ－１３８３ＭＧ（ＢＡＳＦ社製）をグラビアコート法によりコーティングして、５５℃で４分間乾燥し厚さ３μｍの銀保護ポリマー層２を形成した。銀保護ポリマー層１と２を合わせて銀保護ポリマー層とした。銀保護ポリマー層の上に、接着剤としてアクリル系の粘着剤ＴＳＢ－０８５（ＤＩＣ製）を１０μｍ厚に塗布して接着層を形成したのち、粒径５μｍの樹脂フィラーを片面に含む高分子フィルムのフィラー側を接着層にニップロール温度８０℃、ニップロール圧力２ＭＰａの条件によって貼り付けた。高分子フィルムはＰＭＭＡであり、屈折率ｎは１．４９５である。樹脂基材の銀反射層側とは逆側にアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を１５μｍ厚に塗布して粘着層を形成して本発明のフィルムミラー２を作製した。
　（フィルムミラー３の作製）
　フィルムミラー２の作製において、高分子フィルム上に耐傷性易滑層として、レベリング剤メガファックＲＳ７２Ｋ（ＤＩＣ製）を１％含むメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥後に紫外線照度が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように作製した以外は同様にして本発明のフィルムミラー３を作製した。
　（フィルムミラー４の作製）
　フィルムミラー２の作製において、屈折率ｎが１．４９５の高分子フィルム（ＰＭＭＡフィルム）の代わりに屈折率１．６２、十点平均粗さＲｚが０．８μｍのポリカーボネートフィルムを用いた以外は同様にして比較例のフィルムミラー４を作製した。
　（フィルムミラー５の作製）
　フィルムミラー２の作製において、十点平均粗さＲｚが１５μｍである高分子フィルムを用いた以外は同様にして比較例のフィルムミラー５を作製した。
　（フィルムミラー６の作製）
　フィルムミラー２の作製において粒径５μｍの樹脂フィラーを片面に含む高分子フィルムのフィラー側を接着層にニップロール温度８０℃、ニップロール圧力２ＭＰａの条件によって貼り付けた。高分子フィルムは、フッ素系樹脂ＴＦＥ／ＰＤＤ（テトラフルオロエチレン－パーフルオロジオキソールコポリマー）であり、屈折率ｎは１．３９５である。樹脂基材の銀反射層側とは逆側にアクリル系の粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業製）を１５μｍ厚に塗布して粘着層を形成して比較例のフィルムミラー６を作製した。
　（フィルムミラー７の作製）
　フィルムミラー６の作製において、高分子フィルム上に耐傷性易滑層として、レベリング剤メガファックＲＳ７２Ｋ（ＤＩＣ製）を１％含むメチルアクリレート：ブチルアクリレート共重合体（比率６４：３６）の酢酸エチル溶液をグラビアコート法によりコーティングし、８０℃で４分間乾燥後に紫外線照度が１００ｍＪ／ｃｍ２となるように作製した以外は同様にして本発明のフィルムミラー７を作製した。
　《フィルムミラーの測定》
　得られたフィルムミラーの高分子フィルムの屈折率ｎと十点平均粗さＲｚ、及び接着層の屈折率ｎ’は以下の方法で測定し結果を表１に示す。
　（屈折率）
　オリンパス製レンズ反射率測定機ＵＳＰＭ－２５０を用いて波長３００～８００ｎｍの波長領域における高分子フィルムの反射率を測定し、空気との屈折率差と反射率から高分子フィルムの屈折率ｎを計算した。同様に接着層の屈折率ｎ’も反射率測定値から計算した。
　（十点平均粗さＲｚ）
　十点平均粗さＲｚはＶｅｅｃｏ社製白色光干渉式表面粗さ測定機　ＷＹＫＯ　ＨＤ３３００を用いて測定した。
　《フィルムミラーの評価》
　〔初期のスポット径の測定〕
　上記作製したフィルムミラーについて、例えばニコンエンジニアリング社製の小型ワーキングオートコリメーターＷＶ－６０を用いて、反射スポットのスポット径を計測した。スポットは、有効観測領域が直径２８ｍｍの円形とし、フィルムミラー表面が鏡面で反射効率が高い場合は、フィルムミラーに入射した光束径と同じスポット径がＣＣＤセンサを通してモニター上に得られる。従って、初期スポット径が２８ｍｍに近いほど、反射効率に優れていることを表す。
　〔初期の５度正反射率の測定〕
　上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側における５度正反射率を測定した。日立社製の分光光度計　Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行った。波長範囲は２５０ｎｍ～２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域（４００ｎｍ～８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。
　〔耐擦過性の評価〕
　上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側を、新東科学株式会社摩擦摩耗試験機（トライボステーションＴＹＰＥ：３２、移動速度４０００ｍｍ／ｍｉｎ．）を使用し、１０００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけた日本スチールウール株式会社製の品番＃００００のスチールウールを２０往復させた。次いで、２０往復後に、上記と同様の方法でスポット径の測定を行った。上記の初期のスポット径の測定値に対し、変動幅が少ないほど、耐擦過性に優れていることを表す。
　〔耐候性の評価〕
　上記作製したフィルムミラーを、温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で３０日間放置後したのち、フィルムミラーの太陽光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機　ＳＸ７５を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２　１６８時間）を行った。次いで、キセノンランプ照射後に上記と同様の方法で５度正反射率を測定した。上記の初期の５度正反射率に対し、変動幅が少ないほど、耐候性に優れていることを表す。
　〔密着性の評価〕
　ＪＩＳ　Ｋ　５４００に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、反射層を形成した面側に、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、高分子フィルム基材と反射層との密着性評価を評価した。
　Ａ：剥離がまったく認められない
　Ｂ：剥離した碁盤目数が、１個以上、５個以下である
　Ｃ：剥離した碁盤目数が、６個以上、１０個以下である
　Ｄ：剥離した碁盤目数が、１１個以上、２０個以下である
　Ｅ：剥離した碁盤目数が、２１個以上である
　以上により得られた結果を、表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
  
　表１に記載の結果より明らかな様に、本発明のフィルムミラーは、比較例に対し、優れた正反射性を有すると共に、耐擦過性、耐候性及び密着性に優れていることが分かる。
　実施例２
　《太陽熱発電用反射装置の作製》
　上記作製した各フィルムミラーの太陽光入射面とは反対側に形成した粘着層を保持部材として厚さ１ｍｍのアルミニウム支持体上に固着させて、太陽熱発電用反射装置を作製した。
　《太陽熱発電用反射装置の評価》
　上記作製した太陽熱発電用反射装置について、実施例１に記載の方法と同様にして、初期のスポット径、初期の５度正反射性、耐擦過性、耐候性、密着性を評価した。耐久性は、北緯２４度東経１２５度の場所で３ヶ月間屋外暴露した後の５度正反射率である。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
   
　本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、比較例に対し良好な結果を得ることができた。
　本発明は、以上のように構成されていることから、太陽光を反射するフィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置として利用できる。

Claims (6)

  1. 　十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ’の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせたフィルムミラーが、下記式（１）を満たすことを特徴とするフィルムミラー。
    　式（１）　｜ｎ－ｎ’｜＜０．１
  2. 　前記接着層の厚さは５μｍから３０μｍの範囲であることを特徴とする請求項１記載のフィルムミラー。
  3. 　前記高分子フィルムの表面が、直径１μｍ以上１０μｍ以下の粒子を含有することを特徴とする請求項１又は２記載のフィルムミラー。
  4. 　前記反射層を含むフィルムの反射層が、銀反射層であることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項記載のフィルムミラー。
  5. 　請求項１～４のいずれか１項記載のフィルムミラーを、十点平均粗さＲｚが１μｍ以上１０μｍ以下の表面凹凸を持つ面に屈折率ｎ’の接着層を有し、かつ、屈折率がｎの高分子フィルムと、反射層を含むフィルムとを、該接着層を介して貼り合わせて製造することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
  6. 　請求項１～４のいずれか１項記載のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置。
PCT/JP2011/068039 2010-08-24 2011-08-08 フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 WO2012026311A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012530613A JPWO2012026311A1 (ja) 2010-08-24 2011-08-08 フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-186938 2010-08-24
JP2010186938 2010-08-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012026311A1 true WO2012026311A1 (ja) 2012-03-01

Family

ID=45723316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/068039 WO2012026311A1 (ja) 2010-08-24 2011-08-08 フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2012026311A1 (ja)
WO (1) WO2012026311A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015064312A1 (ja) * 2013-10-29 2015-05-07 コニカミノルタ株式会社 フィルムミラーおよびこれを用いた太陽熱反射用光反射装置
JP2016120894A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 大日本印刷株式会社 発熱板及び乗り物
JP2016124372A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 大日本印刷株式会社 発熱板及び乗り物
WO2020196760A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 三菱ケミカル株式会社 反射材

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61154942A (ja) * 1984-12-24 1986-07-14 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニー 耐腐食性反射鏡
JP2000111706A (ja) * 1998-09-30 2000-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
JP2003045234A (ja) * 2001-07-26 2003-02-14 Dainippon Printing Co Ltd 透明導電性フィルム
JP2005283743A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Kimoto & Co Ltd バックライト用光学部材およびこれを用いたバックライト
JP2006163033A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0719100B2 (ja) * 1989-06-22 1995-03-06 キヤノン株式会社 定着装置
JP2002154179A (ja) * 2000-11-21 2002-05-28 Kobe Steel Ltd アルミニウム合金薄板材及びそれを用いたヘリオスタット用凹面反射鏡並びにその製造方法
JP2004286943A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Ricoh Co Ltd 樹脂反射鏡およびその製造方法
JP4907102B2 (ja) * 2005-01-19 2012-03-28 三菱樹脂株式会社 意匠性被覆用積層シートおよび積層シート被覆金属板
JP2009139710A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Dainippon Printing Co Ltd 光学シートおよび面光源装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61154942A (ja) * 1984-12-24 1986-07-14 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニー 耐腐食性反射鏡
JP2000111706A (ja) * 1998-09-30 2000-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
JP2003045234A (ja) * 2001-07-26 2003-02-14 Dainippon Printing Co Ltd 透明導電性フィルム
JP2005283743A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Kimoto & Co Ltd バックライト用光学部材およびこれを用いたバックライト
JP2006163033A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015064312A1 (ja) * 2013-10-29 2015-05-07 コニカミノルタ株式会社 フィルムミラーおよびこれを用いた太陽熱反射用光反射装置
JP2016120894A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 大日本印刷株式会社 発熱板及び乗り物
JP2016124372A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 大日本印刷株式会社 発熱板及び乗り物
WO2020196760A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 三菱ケミカル株式会社 反射材

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2012026311A1 (ja) 2013-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9494338B2 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system having solar light collecting mirror
WO2011158677A1 (ja) 太陽光反射用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
WO2015002053A1 (ja) 光反射フィルム、ならびにこれを用いた光反射体および光反射装置
JP2011158751A (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
WO2012105351A1 (ja) 太陽光集光用ミラー及び当該太陽光集光用ミラーを有する太陽熱発電システム
WO2011096151A1 (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽光集光用ミラー
JPWO2012057004A1 (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2011122241A1 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2012026311A1 (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2011078157A1 (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP5660051B2 (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
JP5794232B2 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2013015190A1 (ja) 太陽光集光用ミラー及び当該太陽光集光用ミラーを有する太陽熱発電システム
WO2011096248A1 (ja) 太陽熱発電用光反射フィルム、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置
JP2012251695A (ja) 太陽光集光システム及びミラー
WO2011114861A1 (ja) 太陽光集光用ミラー、それを用いたトラフ式太陽熱発電装置及びトラフ式太陽光発電装置
JP2012220708A (ja) フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
JP2011158752A (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2012053382A (ja) 太陽熱発電用光反射フィルム及び太陽熱発電用反射装置
JP2012242714A (ja) フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法
JP2012108221A (ja) 太陽熱発電用反射板、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2013015612A (ja) 太陽光集光用ミラーの製造方法、太陽光集光用ミラー及びそれを有する太陽熱発電システム
JP2011206084A (ja) 反射装置
JP5593970B2 (ja) 太陽熱発電用反射装置
WO2012056953A1 (ja) 太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11819775

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012530613

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 11819775

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1