JP5747547B2 - フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置 - Google Patents
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Description
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光反射用ミラーとして用いることもできるが、耐久性の点から、前記樹脂基材の銀反射層を有する側と反対側の面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることが好ましい。
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
前記銀反射層は、有機銀錯体化合物を含む溶液を塗布し、焼成することにより形成されたものであることを特徴とする。
このような有機銀錯体化合物の例は、公知である特表2009−535661号、特表2010−500475号各公報等に記載されており、下記一般式(1)で表される銀化合物と、一般式(2)〜(4)で表されるアンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して得られる有機銀錯体化合物であることが好ましい。
本発明の高反射、高光沢の反射面の形成のために使用される銀コーティング液組成物は、前記の有機銀錯体化合物を含有し、必要に応じて、溶媒、安定剤、レベリング剤(Leveling agent)、薄膜補助剤、還元剤、熱分解反応促進剤の添加剤を、本発明の銀コーティング組成物に含有することができる。
前記有機銀錯体化合物としては、銀と、アンモニウムカルバメート系化合物又はアンモニウムカーボネート系化合物との錯体が、単に焼成することによって銀を析出することが出来ることから好ましく用いられる。
一般式(1)の具体例としては、例えば、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられるが、これに限定されるものではない。
(一般式(5)において、Aは、一般式(2)〜(4)の化合物であり、mは、0.5〜1.5である。)
(安定剤)
一方、前記安定剤としては例えば、第1アミン、第2アミン又は第3アミンのようなアミン化合物や、前記アンモニウムカルバメート、アンモニウムカーボネート、アンモニウムバイカーボネート系化合物、又はホスフィン(phosphine)、ホスファイ(phosphite)、ホスフェート(phosphate)のようなリン化合物、チオール(thiol)やスルフィド(sulfide)のような硫黄化合物と、少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられ、アミン化合物としては、具体的に例えば、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、n−ヘキシルアミン、2−エチルヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、イソオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ドコデシルアミン、シクロプロピルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、アリールアミン、ヒドロキシアミン、アンモニウムヒドロキシド、メトキシアミン、2−エタノールアミン、メトキシエチルアミン、2−ヒドロキシプロピルアミン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン、メトキシプロピルアミン、シアノエチルアミン、エトキシアミン、n−ブトキシアミン、2−ヘキシルオキシアミン、メトキシエトキシエチルアミン、メトキシエトキシエトキシエチルアミン、ジメチルアミン、ジプロピルアミン、ジエタノールアミン、ヘキサメチレンイミン、モルホリン、ピペリジン、ピペラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、2,2−(エチレンジオキシ)ビスエチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピロール、イミダゾール、ピリジン、アミノアセトアルデヒドジメチルアセタル、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、アニリン、アニシジン、アミノベンゾニトリル、ベンジルアミン及びその誘導体、そしてポリアリールアミンやポリエチレンイミンのような高分子化合物及びその誘導体などのようなアミン化合物が挙げられる。
また、薄膜補助剤としては、有機酸及び有機酸誘導体、又は少なくとも一つ以上のこれらの混合物が挙げられる。具体的に例えば、酢酸、酪酸(Butyric acid)、吉草酸(Valeric acid)、ピバル酸(Pivalic acid)、ヘキサン酸、オクタン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ネオデカン酸(Neodecanoic acid)、ラウリン酸(Lauric acid)、ステアリン酸、ナフタル酸などの有機酸が挙げられ、有機酸誘導体としては、具体的に例えば、酢酸アンモニウム塩、クエン酸アンモニウム塩、ラウリン酸アンモニウム塩、乳酸アンモニウム塩、マレイン酸アンモニウム塩、シュウ酸アンモニウム塩、モリブデン酸アンモニウム塩などの有機酸アンモニウム塩と、Au、Cu、Zn、Ni、Co、Pd、Pt、Ti、V、Mn、Fe、Cr、Zr、Nb、Mo、W、Ru、Cd、Ta、Re、Os、Ir、Al、Ga、Ge、In、Sn、Sb、Pb、Bi、Sm、Eu、Ac、Thなどのような金属を含有するシュウ酸マンガン、酢酸金、シュウ酸パラジウム、2−エチルヘキサン酸銀、オクタン酸銀、ネオデカン酸銀、ステアリン酸コバルト、ナフタル酸ニッケル、ナフタル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。前記薄膜補助剤の使用量は、特に限定されないが、有機銀錯体化合物に対して、モル比で0.1〜25%が好ましい。
前記還元剤としては、ルイス酸又は弱いブレンステッド酸(bronsted acid)が挙げられ、具体的に例えば、ヒドラジン、ヒドラジンモノハイドレート、アセトヒドラジド、水酸化ホウ素ナトリウム又は水酸化ホウ素カリウム、ジメチルアミンボラン、ブチルアミンボランのようなアミン化合物、第1塩化鉄、乳酸鉄のような金属塩、水素、ヨウ化水素、一酸化炭素、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、グリオキサールのようなアルデヒド化合物、ギ酸メチル、ギ酸ブチル、トリエチル−o−ギ酸のようなギ酸化合物、グルコース、アスコルビン酸、ヒドロキノンのような還元性有機化合物を少なくとも一つ以上含有するこれらの混合物を挙げることができる。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最外層として、UV吸収剤含有ハードコート層を設ける。本発明に係るUV吸収剤含有ハードコート層は、UV吸収剤を含有し、傷防止と紫外線を遮蔽する性能が高く、容易に形成することが可能である。
UV吸収剤含有ハードコート層のバインダーとして好ましく用いられる前記アクリル系樹脂は、アクリル系UV硬化性樹脂を紫外線で硬化して形成することが好ましい。
前記トリアジン系UV吸収剤は下記一般式(I)で表わされる。
式中、Q1は1,3,5−トリアジン環を表す。Q2は芳香族環を表し、好ましくはベンゼン環を表わす。
前記無機UV吸収剤は、好ましくは金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に20質量%以上の濃度で分散させて、6μm厚のフィルムを形成したときに、UV−B域(290−320nm)域における光線透過率を10%以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機UV吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機UV吸収剤が、被覆層により表面被覆され、数平均粒径(被覆層を含む)が、10nm以上、100nm以下の無機UV吸収剤微粒子であることが好ましい。また、被覆層には無機UV吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、被覆層を有することはなお好ましい。ここでいう被覆層とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド(チタンまたはアルミニウムの)、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質(コラーゲン、エラスチン)、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物を含有し、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な1つまたは複数の手段により、無機UV吸収剤の表面に設けることが出来る。
また、UV吸収剤含有ハードコート層と隣接する樹脂層との界面の密着性が太陽光照射により劣化するのを防止するために、UV吸収剤含有ハードコート層は酸化防止剤を含有することが好ましい。
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−{2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、BASFジャパン(株)から、“IRGANOX1076”及び“IRGANOX1010”という商品名で市販されている。
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)デカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;トリフェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物;トリフェニルホスフィナイト、2,6−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物;トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン系化合物;等が挙げられる。
前記UV吸収剤含有ハードコート層と前記銀反射層の間に、UV吸収剤含有層を設けることにより、該銀反射層に届く紫外線を低減し紫外線遮断能力の耐久性を向上することができ、熱湿環境下UV照射後の耐擦傷性を高め、熱湿環境下UV照射後の正反射率を高めることができる。
前記腐食防止剤含有層は前記銀反射層に隣接して設けられることが好ましい。腐食防止剤には、腐食防止剤が含有される。該腐食防止剤の分子量は800以下であることが好ましい。このような低分子の腐食防止剤を添加することによって、銀反射層との界面に腐食防止剤が移動しやすくなり、腐食防止機能が向上すると考えられ、これにより劣化が抑制されると考えられる。
前記腐食防止剤は銀に対する吸着性基を有することが好ましい。
本発明の基材は樹脂性であり、該基材としては従来公知の樹脂フィルムを用いることができる。
攪拌器付き500mlのシュレンク(Schlenk)フラスコに、2−エチルヘキシルアンモニウム2−エチルカルバメート65.0g(215ミリモル)を150.0gのイソプロパノールに溶解させた後、酸化銀20.0g(86.2ミリモル)を添加して、常温で反応した。前記反応溶液は、最初は黒色懸濁液(Slurry)で反応が進行され、錯化合物が生成されるにつれて段々色が薄くなり、透明に変わることが観察されて、2時間反応した結果、無色透明な溶液が得られた。この溶液に、安定剤として2−ヒドロキシ−2−メチルプロピルアミン2.5gに、溶媒としてn−ブタノール85.0gとアミルアルコール50.0gを添加して攪拌した後、0.45ミクロンのメンブレンフィルタ(membrane filter)を使用してフィルタし、熱分析(TGA)した結果、銀含量4.87質量%の銀コーティング液組成物を製造した。
〔試料1の作製:参考例1〕
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、エスペル9940A(日立化成工業株式会社製、ポリエステル系樹脂)、MM−A(パナソニック電工株式会社製、メラミン樹脂)、トリレンジイソシアネート(三井化学ファイン株式会社製、ジイソシアネート架橋剤)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)(三井化学ファイン株式会社製)を樹脂固形分比率で20:1:1:2:に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmのアンカー層を形成した。アンカー層上に、前記銀コーティング液組成物を、加熱乾燥後の銀の膜厚が80nmとなるように塗布した後、ドライオーブンにて100℃、3分間加熱乾燥し、銀反射層を形成した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するTinuvin477を樹脂固形分に対して0.1質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料2を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するTinuvin477を樹脂固形分に対して1.5質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料3を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するTinuvin477を樹脂固形分に対して6.5質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料4を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するTinuvin477を樹脂固形分に対して10質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料5を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するTinuvin477を樹脂固形分に対して11質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料6を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に酸化亜鉛 NANOFINE−50は添加せず、Tinuvin477の添加量を樹脂固形分に対して1.5質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料7を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層にTinuvin477は添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料8を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層にTinuvin477及びNANOFINE−50は添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料9を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層にTinuvin477及びNANOFINE−50は添加せず、ベンゾトリアゾール系UV吸収剤としてTinuvin234を樹脂固形分に対して1.5質量%添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料10を作製した。
前記試料10の作製において、ベンゾトリアゾール系UV吸収剤としてTinuvin234(BASFジャパン(株)製)を樹脂固形分に対して5質量%添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料11を作製した。
前記試料1の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層にTinuvin477及びNANOFINE−50は添加せず、ベンゾフェノン系UV吸収剤としてCHIMASSORB 81(BASFジャパン(株)製)を樹脂固形分に対して1.5質量%添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料12を作製した。
前記試料12の作製において、ベンゾフェノン系UV吸収剤としてCHIMASSORB 81(BASFジャパン(株)製)を樹脂固形分に対して5質量%添加したほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料13を作製した。
前記試料3の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するNANOFINE−50を樹脂固形分に対して25質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料14を作製した。
前記試料3の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加するNANOFINE−50を樹脂固形分に対して40質量%に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料15を作製した。
樹脂基材/アンカー層/銀反射層までは前記試料1と同様に作製した後、この銀反射層上に、エスペル9940A(日立化成工業株式会社製、ポリエステル系樹脂)とトリレンジイソシアネート(三井化学ファイン株式会社製、ジイソシアネート架橋剤)とを樹脂固形分比率(質量比)で10:2に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてMM−A(パナソニック電工株式会社製、メラミン樹脂、分子量50,000)を樹脂固形分に対して10質量%となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの腐食防止層(トップコート下層)を形成した。
前記試料16の作製において、トップコート上層にUV吸収剤としてTinuvin477(BASFジャパン(株)製)を添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料17を作製した。
前記試料16の作製において、トップコート下層に腐食防止剤としてTinuvin234(BASFジャパン(株)製、分子量447.6)を樹脂固形分に対して10質量%、トップコート上層にUV吸収剤としてTinuvin477(BASFジャパン(株)製)を樹脂固形分に対して1.5質量%となる量を添加し、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料18を作製した。
前記試料16の作製において、トップコート下層に腐食防止剤としてTinuvin234(BASFジャパン(株)製)を樹脂固形分に対して10質量%となる量を添加し、トップコート上層にはTinuvin477(BASFジャパン(株)製)を添加せず、ほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料19を作製した。
前記試料18の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に酸化防止剤としてヒンダードアミン系化合物のTinuvin152を樹脂固形分に対して1質量%添加したほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料20を作製した。
前記試料20の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加したNANOFINE−50を、数平均粒径20nmの無機UV吸収剤である、Sicotrans Red L2815(酸化鉄;BASFジャパン(株)製)、CeO−X01(酸化セリウム;株式会社イオックス製)、NANOFINE−50(酸化亜鉛;堺化学工業株式会社製)、STR−60(酸化チタン;堺化学工業株式会社製)に変え、その添加量を表2に記載のように樹脂固形分に対して15質量%に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料21〜24を作製した。
前記試料20の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加したNANOFINE−50を、数平均粒径150nmの無機UV吸収剤である、CM−1000(酸化鉄;ケミライト工業株式会社製)、CERIGUARD S−3018−02(酸化セリウム;大東化成工業株式会社製)、MZ−300(酸化亜鉛;テイカ株式会社製)、MT−700B(酸化チタン;テイカ株式会社製)に変え、その添加量を表2に記載のように樹脂固形分に対して15質量%に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料25〜28を作製した。
前記試料20の作製において、UV吸収剤含有ハードコート層に添加したNANOFINE−50を、数平均粒径20nm(被覆厚さ5nmを含む)のシリカ被覆無機UV吸収剤である、Concelight BP−10S(酸化鉄;日揮触媒化成株式会社製)、CERIGUARDSC−6832(酸化セリウム;大東化成工業株式会社製)、FINEX−50W−LP2(酸化亜鉛;堺化学工業株式会社製)、STR−100A−LP(酸化チタン;堺化学工業株式会社製)に変え、その添加量を表2に記載のように添加量を樹脂固形分に対して15質量%に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料29〜32を作製した。
前記試料20の作製において銀反射層の形成方法を特開2010−237415号公報の実施例1に記載のように、アンモニア性硝酸銀水溶液を含む銀メッキ液をブドウ糖で還元する無電解の銀鏡反応によりアンカー層表面に銀を析出させて形成するものに変え、そのほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料33を作製した。
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って湿熱処理後の耐擦傷性およびUV劣化処理後の耐擦傷性の評価を行った。
各試料を、岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、65℃相対湿度60%の環境下で1000W96時間の紫外線照射を行った後、フィルムミラーの最表層面を#0000のスチールウールに500g/cm2の荷重をかけて、ストローク50mm、速度500mm/minで10回往復摩擦した後に下記の基準に従って、湿熱処理後及びUV劣化処理後の耐擦傷性を評価した。
○:傷本数が1本〜5本
△:傷本数が6本〜10本
×:傷本数が10本より多い
〔湿熱環境下UV照射後の正反射率の測定〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、65℃相対湿度60%の環境下で96時間紫外線照射を行ったのち、以下の測定を行った。
7 : 正反射率の平均値が、90%以上である
6 : 正反射率の平均値が、85%以上90%未満である
5 : 正反射率の平均値が、80%以上85%未満である
4 : 正反射率の平均値が、75%以上80%未満である
3 : 正反射率の平均値が、70%以上75%未満である
2 : 正反射率の平均値が、65%以上70%未満である
1 : 正反射率の平均値が、65%未満である
上記評価結果を表1、2に示す。
Claims (11)
- 樹脂基材上に有機銀錯体化合物を含む塗布液を塗布し、焼成することにより形成され少なくとも一層の銀反射層を有するフィルムミラーにおいて、該樹脂基材に対して該銀反射層よりも離れた位置にUV吸収剤含有ハードコート層を有し、
前記UV吸収剤含有ハードコート層が無機UV吸収剤、トリアジン系UV吸収剤、およびアクリル系UV硬化性樹脂を硬化した樹脂を含有し、
前記無機UV吸収剤がシリコーンまたは酸化ケイ素を含有する被覆層により表面被覆されていることを特徴とするフィルムミラー。 - 前記無機UV吸収剤が酸化ケイ素被覆酸化鉄、酸化ケイ素被覆酸化セリウム、酸化ケイ素被覆酸化亜鉛またはこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載のフィルムミラー。
- 前記樹脂基材、前記銀反射層、腐蝕防止剤含有層、UV吸収剤含有層および前記UV吸収剤含有ハードコート層を順に有することを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムミラー。
- 前記腐蝕防止剤含有層に含有される腐蝕防止剤の分子量が800以下であることを特徴とする請求項3に記載のフィルムミラー。
- 前記UV吸収剤含有ハードコート層が酸化防止剤を含有し、該酸化防止剤を前記UV吸収剤含有ハードコート層の全質量に対し0.1〜5質量%含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする請求項5に記載のフィルムミラー。
- 前記UV吸収剤含有ハードコート層が、前記トリアジン系UV吸収剤を前記UV吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対して0.1〜10質量%含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記UV吸収剤含有ハードコート層が、前記無機UV吸収剤を前記UV吸収剤含有ハードコート層の樹脂固形分に対して1〜50質量%含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記無機UV吸収剤が数平均粒径10nm〜100nmの微粒子であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記銀反射層は銀と有機銀錯体化合物を含有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載のフィルムミラーと金属支持体が粘着剤層を介して貼合されてなる太陽熱発電用反射装置。
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