WO2012090987A1 - 機能性フィルム、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

機能性フィルム、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置 Download PDF

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望月　誠
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コニカミノルタオプト株式会社
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    • Y02E10/52—PV systems with concentrators

Definitions

  • the present invention relates to a functional film, a film mirror, and a solar power generation reflector using the film mirror.
  • a method for solving the problem that the energy density of solar energy is low in the above problem in utilizing solar energy by collecting solar energy with a huge reflector has been proposed. Since the reflecting device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, and the like, a glass mirror has been conventionally used. Although glass mirrors are highly environmentally durable, they can be damaged during transportation, and it is necessary to reinforce the frame on which heavy mirrors are installed. There was a problem that it was expensive.
  • a film mirror as a mirror for solar power generation that is lightweight and highly flexible and has low production cost and transportation cost.
  • the film mirror suppresses corrosion of silver by laminating a layer made of a resin on a silver reflection layer provided on a film substrate. Furthermore, durability is improved by suppressing deterioration by laminating a resin layer containing a UV absorber on the upper layer and suppressing damage by providing a hard coat layer or the like on the outermost surface.
  • high-pressure water discharge and brushing are regularly performed for the purpose of suppressing a decrease in reflectance caused by adhesion of dust and the like to the mirror surface. Yes.
  • patent document 1 The technique of patent document 1 is mentioned regarding the film mirror for solar power generation already reported.
  • an acrylic layer containing a UV absorber is provided on the outermost layer of the film, and a decrease in reflectance due to discoloration of the resin layer due to UV exposure is suppressed.
  • the PET reflection layer and the adhesive layer are sandwiched between the silver reflection layer and the acrylic layer, and when the cleaning by brushing is performed after outdoor exposure for more than half a year, the silver reflection layer and the PET layer There was a problem that peeling occurred and the reflectance was greatly reduced.
  • the main object of the present invention is light weight, flexibility, excellent weather resistance, and even when washed after being installed outdoors for a long period of time, it does not peel off at the interface with the reflective layer, and can be applied to sunlight.
  • it is to provide a film mirror having a good regular reflectance and a solar power generation reflecting device using the film mirror.
  • one aspect of the present invention is A film mirror provided with a reflective layer on a film substrate, An anticorrosion layer provided adjacent to the light reflection side of the reflection layer, and a hard coat layer provided on the light reflection side of the anticorrosion layer,
  • the anticorrosion layer has a silicone-modified resin and is formed to contain a silane coupling agent, and the hard coat layer has a UV absorber.
  • the hard coat layer is provided on the outermost surface on the light reflection side.
  • the silicone-modified resin is an acrylic silicone resin.
  • the anticorrosion layer contains a corrosion inhibitor.
  • the hard coat layer contains an antioxidant.
  • the reflective layer is a silver reflective layer.
  • another aspect of the present invention is a solar power generation reflecting device, wherein the film mirror is attached to a support.
  • a functional film in which a silver layer is provided on a film substrate, An anticorrosion layer provided adjacent to the reflection side of the silver layer, and a hard coat layer provided on the reflection side of the anticorrosion layer,
  • the anticorrosion layer has a silicone-modified resin and is formed to contain a silane coupling agent, and the hard coat layer has a UV absorber.
  • the reflective layer does not change color, and even when stress is applied due to a cleaning operation or the like, the interface with the reflective layer is not easily peeled off. It is possible to provide a film mirror capable of maintaining the rate over a long period of time and a solar power generation reflector using the film mirror.
  • the present invention can be applied not only to a film mirror but also to a functional film such as a thermal barrier film having a silver layer that reflects heat rays.
  • the phenomenon that the silver reflective layer turns reddish purple when an acrylic silicone resin consisting of an acrylic resin and a silane coupling agent is used as an anticorrosion layer is It was found to be a phenomenon peculiar to a film mirror for use, and a phenomenon that occurs when an unreacted silane coupling agent is exposed to UV in a state adjacent to a silver reflective layer.
  • a long anticorrosive layer comprising a silicone-modified resin and a silane coupling agent is provided on the silver reflection layer, and a hard coat layer containing a UV absorber is provided on the outermost surface.
  • FIGS. 1, 2, and 3 Three examples of the configuration of the film mirror for solar power generation of the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3.
  • Film mirrors 10a, 10b, and 10c for solar thermal power generation as shown in FIGS. 1, 2, and 3, on a substrate 3 as a film substrate having an adhesive layer 2 on the side opposite to the light reflecting side,
  • As a constituent layer at least the reflective layer 5, the corrosion prevention layer 6 laminated adjacent to the light reflection side of the reflection layer 5, and the hard coat layer 9 laminated on the outermost surface on the light reflection side are provided.
  • the corrosion prevention layer 6 is a corrosion prevention layer that includes at least a silicone-modified resin and includes a silane coupling agent.
  • the hard coat layer 9 contains a UV absorber.
  • an anchor layer 4 may be provided between the base material 3 and the reflective layer 5 (see FIGS. 1 and 2), and the corrosion prevention layer 6 and the hard coat layer 9 may be provided. It is also a preferable aspect to provide the adhesive layer 7 and the translucent resin layer 8 between them (see FIG. 1). As another form, the form of FIG. 3 in which the corrosion prevention layer 6 and the translucent resin layer 8 are joined to the reflective layer 5 without providing the adhesive layer 7 is also a preferable aspect. In the case of such a configuration, the translucent resin layer 8 can be provided by coating, so that improvement in productivity can be expected.
  • the present invention can be applied not only to a film mirror but also to a functional film such as a heat shield film having a silver layer (reflective layer) that reflects heat rays.
  • the silver layer is preferably a thin layer of 20 nm or less.
  • Film base material As a film base material in this invention, a resin film or a glass film can be used.
  • ⁇ Resin film> As a film base used for the film mirror or functional film of the present invention, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
  • the film substrate may be a film produced by melt casting film formation or a film produced by solution casting film formation.
  • the thickness of the film substrate is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 ⁇ m. The thickness is preferably 20 to 200 ⁇ m, more preferably 30 to 100 ⁇ m.
  • a glass film As a film substrate used for the film mirror or functional film of the present invention, a glass film can also be used.
  • the glass film is preferably a glass film obtained from a glass roll formed by a downdraw method. That is, a glass obtained from a glass roll formed by a downdraw method, such as disclosed in JP 2010-132347 A, having a glass film with exposed front and back surfaces, wound on a protective sheet in a roll shape. A film is preferred.
  • the glass film formed by the down draw method with the front and back surfaces exposed is wound as it is together with the protective sheet into a roll to form a glass roll. Therefore, it is not necessary to perform a film forming process for forming a protective film such as a polymer layer on both the front and back surfaces of the glass film in the process before packing, and the polymer layer and the like from the surface of the glass film in the process after unpacking. It is not necessary to perform a removal process for removing the protective film.
  • the pre-packing process can be shortened by an amount that does not require the process of forming the protective film, so the percentage of foreign matter adhering to the front and back surfaces of the glass film can be reduced as much as possible, and the protective film is derived after unpacking The situation that the foreign material to remain cannot also arise.
  • the cleanliness of the front and back surfaces of the glass film derived from the downdraw method can be favorably maintained.
  • the advantage is that cleanliness can be ensured in the state of the unpolished surface without performing subsequent surface polishing of the glass film as in the case of molding by the float method. There is also.
  • the exposed front and back surfaces of the glass film are protected by a protective sheet in a glass roll state.
  • the front and back of a glass film are the glass surfaces in which protective films, such as a polymer layer, are not formed, the situation where a glass film and a protective sheet adhere firmly at the stage which wound up. Therefore, the damage of the glass film in the state of the glass roll can be surely reduced, and the separability between the glass film and the protective sheet can be maintained well, so the damage of the glass film during unpacking is reduced as much as possible. can do.
  • the glass film is kept wound for a long time, it is not warped and can be easily fed to the next process. Furthermore, since it can be made into a long glass film by winding it, it can be cut with a free length after that, and it becomes possible to deal with substrates of various sizes, and waste of the glass film is achieved. Can be prevented.
  • the thickness of the glass film is preferably in the range of 1.0 to 200 ⁇ m. More preferably, the thickness is 30 to 150 ⁇ m, and still more preferably 50 to 120 ⁇ m. When the thickness is 1 ⁇ m or more, it is possible to withstand the tension at the time of winding in a roll shape, so that breakage can be prevented, and by making the thickness 200 ⁇ m or less, the winding property as a roll can be maintained well. .
  • the arithmetic average roughness Ra of both end surfaces in the width direction of the glass film is 0.1 ⁇ m or less.
  • “arithmetic mean roughness Ra” is a value measured in accordance with JIS B0601: 2001.
  • both end surfaces in the width direction of the glass film are configured by cut surfaces cut by laser cutting.
  • laser cutting here also includes laser cleaving in addition to laser fusing.
  • Anchor layer An anchor layer consists of resin and makes a film base material and a reflection layer contact
  • the resin used for the anchor layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness.
  • the film substrate is a resin film
  • polyester resin, acrylic resin Resins, melamine resins, epoxy resins, polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins, or the like can be used alone or in combination.
  • a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.
  • the thickness of the anchor layer is preferably 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably 0.1 to 1 ⁇ m. If the thickness of the anchor layer is in the above range, the adhesion is good and the effect of forming the anchor layer is great, and the unevenness on the surface of the film substrate can be obscured, the smoothness becomes good, As a result, the reflectance of the reflective layer is increased.
  • the thickness of the anchor layer is greater than 3 ⁇ m, improvement in adhesion cannot be expected, and smoothness may deteriorate due to occurrence of coating unevenness.
  • a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method, or the like can be applied.
  • the reflective layer is a layer made of a metal or the like having a function of reflecting sunlight.
  • the surface reflectance of the reflective layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more.
  • This reflective layer is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au.
  • Al or Ag is a main component from the viewpoint of reflectance and corrosion resistance, and two or more such metal thin films may be formed.
  • a silver reflecting layer mainly containing silver is particularly preferable.
  • a layer made of a metal oxide such as SiO 2 or TiO 2 may be provided on the reflective layer to further improve the reflectance.
  • a wet method or a dry method can be used as a method for forming a reflective layer (for example, also referred to as a silver reflective layer or a silver layer) in the present invention.
  • the wet method is a general term for a plating method or a metal complex solution coating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction and silver layer formation by firing of silver complex ink.
  • the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specifically includes a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, and a sputtering method.
  • a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, in the film mirror manufacturing method of the present invention, it is preferable to form the reflective layer by vapor deposition of silver.
  • the thickness of the reflective layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.
  • Corrosion prevention layer (corrosion prevention layer) is provided adjacent to the reflection layer, and is for preventing corrosion of the material of the reflection layer (for example, silver).
  • corrosion refers to a phenomenon in which an environmental substance surrounding a metal material (silver) is chemically or electrochemically eroded or materially deteriorated (see JIS Z0103-2004).
  • the corrosion prevention layer that can be used in the present invention needs to have a silicone-modified resin and include a silane coupling agent.
  • the corrosion prevention layer having at least a silicone-modified resin and including a silane coupling agent can maintain high film adhesion with the reflective layer even when installed for a long time in an outdoor environment.
  • the silicone-modified resin is a resin having a siloxane bond part (—Si—O—) n at the main chain, side chain, or terminal part of the resin skeleton.
  • n is an integer of 1 or more.
  • the silicone-modified resin used in the present invention may be, for example, a resin in which a polysiloxane structure is bonded to a resin that is a main skeleton in a graft form, or a resin in which a silane coupling agent is bonded to a resin that is a main skeleton. May be.
  • Sites other than siloxane bonds in silicone-modified resins include, for example, cellulose esters, polyesters, polycarbonates, polyarylate, polysulfone (including polyethersulfone), polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and other polyesters, cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose.
  • those having an acrylic resin skeleton and an alkyd resin skeleton such as acrylic silicone and silicone alkyd are preferable, and an acrylic silicone resin having an acrylic resin skeleton is more preferable. More preferably, an acrylic resin skeleton having an amino group is used.
  • silicone-modified resin in which the polysiloxane structure is bonded to the resin skeleton in a graft form include Beckolite M-6665-60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Beckolite M-6650-60 (Dainippon Ink).
  • Baysilone Resin UD-460M (Bayern), KP-541 (Shin-Etsu Silicone), KP-543 (Shin-Etsu Silicone), KP-545 (Shin-Etsu Silicone), KP-549 (Manufactured by Shin-Etsu Silicone), KP-550 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), Metatron (manufactured by Daiho Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • acrylic resin having an amino group in the skeleton examples include PTC-05 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC-0505 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC-05-B2 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC.
  • silane coupling agent examples include 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- Glycidoxyethoxytrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl- Butylidene) propylamine, N-phenyl-3-amin
  • the corrosion inhibitor that can be used for the corrosion prevention layer can be selected from the group of corrosion inhibitors of benztriazole compounds, imidazole compounds, sulfur compounds, tetrazaindene compounds, and thiadiazole compounds. Two or more of these selectable compounds can be used in combination.
  • the general formula of selectable corrosion inhibitors is shown below.
  • Benztriazole-based compound The benztriazole-based compound is represented by the following general formula (1).
  • R 41 to R 45 represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trifluoromethyl group, t-butyl group), A cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group (eg, benzyl group, 2-phenethyl group, etc.), an aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), alkoxy Groups (eg methoxy, ethoxy, isopropoxy, butoxy), aryloxy (eg phenoxy), cyano, acylamino (e
  • benzotriazole compounds include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole and the like.
  • the above type of benzotriazole compounds are commercially available from Ciba Japan under the trade names TINUVIN P, TINUVIN 234, and TINUVIN 328, for example.
  • R 51 to R 54 represent a substituent.
  • the substituent is synonymous with the substituent represented by R 41 to R 45 in the general formula (1).
  • R 51 is preferably a hydrogen atom.
  • Specific examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-mercaptoimidazole, 5,6-dimethylbenzimidazole, 2-mercaptobenzimidazole and the like.
  • the above-mentioned type of imidazole compound is commercially available, for example, from Sigma-Aldrich under the same trade name as the above-described compound name.
  • R 61 and R 62 represent a substituent.
  • the substituent is synonymous with the substituent represented by R 41 to R 45 in the general formula (1).
  • Specific examples of the sulfur compound include butanediol bisthioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, triethylene glycol dimercaptan, dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropioate.
  • Distearyl 3,3-thiodipropionate Distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis ( ⁇ -lauryl-thio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like.
  • the above-mentioned type of sulfur compounds are commercially available from Sakai Chemical Co., Ltd. under the trade names BDTG, TMTG, PETG, TMTP, and PETP.
  • Tetrazaindene compound is represented by the following general formula (4).
  • R 71 to R 73 each represents a substituent.
  • the substituent is synonymous with the substituent represented by R 41 to R 45 in the general formula (1).
  • Specific examples of tetrazaindene compounds include 7-hydroxy-5-methyl [1,2,4] triazolo [1,5-a] pyrimidine, 5,6-dimethyl [1,2,4] triazolo [1 , 5-a] pyrimidin-7-ol, 5-methyl-2- (methylthio) -1,3,4-triazaindolizin-7-ol, and the like.
  • the tetrazaindene type compound of the above type is commercially available, for example, from Sigma-Aldrich under the same product name as the above-described compound name.
  • R 81 and R 82 represent a substituent.
  • the substituent is synonymous with the substituent represented by R 41 to R 45 in the general formula (1).
  • Specific examples of thiadiazole compounds include 1,3,4-thiadiazole-2,5-dithiol, 5- (ethylthio) -1,3,4-thiadiazole-2-thiol, 5,5 ′-(ethylenedithio) And bis (1,3,4-thiadiazole-2-thiol).
  • the above type of thiadiazole-based compound is commercially available, for example, from Sigma-Aldrich under the same product name as that described above.
  • the hard coat layer is provided on the light reflecting side of the anticorrosive layer of the film mirror, and is preferably provided as the outermost surface layer.
  • the hard coat layer 9 is laminated on the acrylic resin layer 8 and provided on the outermost surface.
  • the film mirror 10b shown in FIG. It is laminated on the layer 6 and provided on the outermost surface.
  • the hard coat layer is provided to prevent the surface of the film mirror from being scratched or soiled, and to carry the UV absorber so that it functions efficiently and for a long time.
  • This hard coat layer can be formed by UV curing or heat curing using, for example, an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, an organic silicate compound, a silicone resin, or the like as a binder.
  • the hard coat layer needs to contain a UV absorber made of an organic material or an inorganic material. Moreover, you may make it contain a photosensitizer, a photoinitiator, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.
  • the UV curable hard coat is a hard coat obtained by curing a resin by a UV irradiation process.
  • the UV irradiation step refers to irradiation with energy (ultraviolet rays) of 80 mj or more using a high-pressure mercury lamp or the like.
  • UV curable resin examples include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tris (hydroxyethyl (meth) acrylate), tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Examples include (meth) acrylate resins mainly composed of (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyfunctional urethanized (meth) acrylate, and the like.
  • the polyfunctional urethanized (meth) acrylate is a polyisocyanate having at least two isocyanato groups (—NCO) in the molecule, such as isophorone diisocyanate or hexamethylene diisocyanate, and trimethylolpropane di ( A urethane bond and at least two compounds obtained by addition reaction of a compound having one hydroxyl group and at least one (meth) acryloyl group in the molecule, such as (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate It is a compound having a (meth) acryloyl group.
  • UV curable resins can be used alone or in admixture of two or more.
  • UV curable resin examples include Kayalad DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad DPCA-20 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad DPCA-30 (Nippon Kayaku ( Kayarad DPCA-60 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad D-310 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayalad D- 330 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad PET-30 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad GPO-303 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayarad TMPTA (Nippon Kayaku Co., Ltd.) Kayarad THE-330 (manufactured
  • the UV curable resin as described above is usually used by mixing with a photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator for example, commercially available products such as Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals), Irgacure 184 (Ciba Specialty Chemicals), and Lucillin TPO (BASF) are suitable. Can be used.
  • thermosetting hard coat is a hard coat obtained by curing a resin by a heating process.
  • a resin for example, an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, It can be formed by using an organic silicate compound, a silicone-based resin, or the like and cured by a method including a heating step.
  • the resin heating step means that the coated binder resin is treated and cured in an atmosphere of 40 ° C. or higher for 1 minute or longer.
  • a treatment of 1 minute to several days is required in an atmosphere of 40 to 150 ° C.
  • thermosetting resin for example, silicone resins or silicone-modified resins, acrylic resins, phenol resins, epoxy resins, polyester resins, polyurethane resins, melamine resins, urea resins can be used. However, in the present invention, it is preferable to use a silicone resin or a silicone-modified resin.
  • the ionizing radiation curable siloxane compound include organic silicon compounds having a molecular weight of 5000 or less and having a plurality of functional groups that react and crosslink by irradiation with ionizing radiation, for example, a polymerizable double bond group.
  • organic silicon compounds having a molecular weight of 5000 or less and having a plurality of functional groups that react and crosslink by irradiation with ionizing radiation, for example, a polymerizable double bond group.
  • one-end vinyl functional polysiloxane, both-end vinyl functional polysiloxane, or vinyl functional polysiloxane obtained by reacting these compounds may be used.
  • This composition is three-dimensionally cross-linked by dehydration condensation of silanol groups to obtain a high hardness coating.
  • the silicone-modified resin used for the hard coat layer 9 in the present invention is a graft copolymer having silicone in the side chain.
  • An acrylic graft copolymer having silicone as a side chain is preferred.
  • the above-mentioned acrylic-modified silicone is a silicone represented by the following general formula (6): A product obtained by condensing the acrylic compound represented by the general formula (7) can be given.
  • R 6 and R 7 each represent a monovalent aliphatic hydrocarbon group, phenyl group or monovalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • q is a positive number of 1 or more.
  • R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 9 represents a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group.
  • Two R 9 may be the same or different from each other.
  • Z represents a chlorine atom, a methoxy group or an ethoxy group.
  • R 6 and R 7 in the general formula (6) are a monovalent aliphatic hydrocarbon group, a phenyl group or a monovalent halogenated hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and an acyl group.
  • Examples of the monovalent halogenated hydrocarbon include, for example, 3,3,3-trifluoro.
  • a propyl group, a 4,4,4-trifluoro-3,3-difluorobutyl group, a 2-chloroethyl group and the like can be mentioned.
  • Particularly preferred as R 6 and R 7 is a methyl group.
  • q is a positive number of 1 or more, but from the copolymerization of an acrylic modified silicone derived from a high molecular weight silicone having a q number of 100 or more and a radical polymerizable monomer.
  • Various shapes such as jelly, jelly, and solid can be obtained.
  • the acrylsilane compound represented by the general formula (7) include ⁇ -methacryloxypropyldimethylchlorosilane, ⁇ -methacryloxypropyldimethylethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyldiphenylchlorosilane, and ⁇ -acryloxypropyldimethyl.
  • Examples include chlorosilane, ⁇ -methacryloxypropyltriethoxysilane, and ⁇ -methacryloxypropyltrichlorosilane.
  • These acrylic silane compounds can be easily obtained by reacting a silicon compound and a compound having an aliphatic multiple bond in the presence of chloroplatinic acid according to the method of JP-B-33-9969.
  • radical copolymerization of an acrylic-modified silicone and a radical polymerizable monomer can be performed by a conventionally known method, such as a radiation irradiation method or a method using a radical polymerization initiator.
  • the silicone copolymer thus obtained is a comb-shaped graft copolymer having a radical polymerizable monomer as a trunk and silicone as a branch.
  • silicone copolymers include Cymac US-150, US-270, US-350, US-450, Reseda GP-700 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Sircoat NP730, Sircoat NP720 (above, (Manufactured by Koken Co., Ltd.).
  • silica fine particles are used in the curable resin composition used for forming the hard coat layer. Is preferably added.
  • the silica fine particles include powdery silica and colloidal silica, and those having an average particle diameter in the range of 0.01 to 20 ⁇ m are preferably used.
  • the silica fine particles are preferably those that do not affect the light transmittance of the hard coat film, and for that purpose, the primary particle diameter is preferably in the range of 10 to 350 nm, and in the range of 10 to 50 nm. More preferably, it is within.
  • the average particle size of the silica fine particles described above can be measured, for example, by observation with a transmission electron microscope.
  • the primary particle size of the silica fine particles is, for example, dispersed in a solvent such as isopropyl alcohol.
  • the dispersion can be measured by a Coulter particle size distribution measurement method, a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or the like. Among these, the Coulter particle size distribution measurement method is common.
  • the shape of the silica fine particles may be spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or indefinite, but in order to disperse the particles appropriately without agglomerating in the curable resin. , Preferably spherical.
  • the specific surface area of the silica fine particles is preferably in the range of 0.1 to 3000 m 2 / g, more preferably 1 m 2 / g or more, especially 10 m 2. / G or more and 1500 m 2 / g or less is more preferable.
  • Such silica fine particles are also commercially available. Examples of commercially available silica fine particles include methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), IPA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), and MEK-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
  • NBA-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • XBA-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • DMAC-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-UP manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-OUP manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-20 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-40 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-C Nonsan Chemical Industries, Ltd.
  • ST-N Nonsan Chemical Industry Co., Ltd.
  • ST-O Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
  • ST-50 Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
  • ST-OL Nissan) Chemical Industry Co., Ltd.
  • powdered silica examples include Aerosil 130 (Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil 300 (Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil 380 (Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil TT600 (Nippon Aerosil Co., Ltd.).
  • Aerosil OX50 produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.
  • Sildex H31 produced by Asahi Glass Co., Ltd.
  • Sildex H32 produced by Asahi Glass Co., Ltd.
  • Sildex H51 produced by Asahi Glass Co., Ltd.
  • Sildex H52 Asahi Glass Co., Ltd.
  • Sildex H121 Asahi Glass Co., Ltd.
  • Sildex H122 Asahi Glass Co., Ltd.
  • E220A Nippon Silica Industry Co., Ltd.
  • E220 Nippon Silica Industry Co., Ltd.
  • Silysia 470 manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd.
  • SG flake manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
  • a leveling agent is preferably added to the curable resin composition used for forming the hard coat layer in order to ensure the surface smoothness of the resulting hard coat layer.
  • a leveling agent is an agent having an effect of adding to a paint to reduce the surface tension of the paint and improving the surface smoothness of the paint film.
  • Substances generally used as leveling agents include, for example, polyacrylate polymers such as polyalkyl acrylate, polyvinyl ether polymers such as polyalkyl vinyl ether, dimethyl polysiloxane, methylphenyl polysiloxane, and polyethers and polyesters. Examples thereof include silicone polymers such as organically modified polysiloxane introduced with aralkyl and the like.
  • a leveling agent having a fluorine atom can be obtained, for example, by copolymerizing a monomer having a fluorine-containing group.
  • Specific examples of commercially available products include Surflon “S-381”, “S-382”, “SC-101”, “SC-102”, “SC-103”, “SC-104” (any Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), FLORAD “FC-430”, “FC-431”, “FC-173” (all manufactured by Fluorochemicals-Sumitomo 3M), F-top “EF352”, “EF301”, “EF303” ( All are manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd., Schwegau Fluer "8035”, “8036” (all manufactured by Schwegman), "BM1000”, “BM1100” (all manufactured by BM Himmy), MegaFuck “F” -171 ",” F-470 ",” RS-75 “,”
  • the curable resin composition used for the formation of the hard coat layer is UV-absorbed in order to improve the weather resistance of the resulting hard coat layer and the resin layer below the hard coat layer. It is preferable to add an agent.
  • the obtained hard coat layer preferably contains a UV absorber made of an organic compound, a UV absorber made of an inorganic compound, or both. In the case of an organic system, a triazine UV absorber is preferably used.
  • the inorganic UV absorber is mainly a metal oxide pigment, and is dispersed in an acrylic resin at a concentration of 20% by mass or more to form a film having a thickness of 6 ⁇ m. It is a compound having a function of reducing the light transmittance in the UV-B region (290-320 nm) to 10% or less.
  • the inorganic UV absorber applicable to the present invention is particularly preferably selected from titanium oxide, zinc oxide, iron oxide, cerium oxide or a mixture thereof.
  • an average particle diameter of 5 nm and 500 nm are preferable, and an average basic particle of 10 nm and 100 nm is particularly preferable. It is a metal oxide particle having a particle size and a maximum particle size distribution of 150 nm or less.
  • Such coated or uncoated metal oxide pigments are described in more detail in the patent application “EP-A-0 518 773” (European patent).
  • the inorganic UV absorbent fine particles having an average particle size of 10 nm or more and 100 nm or less of the surface coated with the inorganic UV absorbent It may be. Moreover, since there exists an effect which improves the dispersibility of inorganic UV absorber particles by surface-coating an inorganic UV absorber, it is more preferable.
  • the surface-coated inorganic UV absorbers herein include amino acids, beeswax, fatty acids, fatty alcohols, anionic surfactants, lecithin, fatty acid sodium salts, potassium salts, zinc salts, iron salts or aluminum salts, metal alkoxides.
  • the amount used when the inorganic UV absorber is used alone is 1 to 30% by mass, preferably 5 to 25% by mass, more preferably 15 to 20% by mass with respect to the total mass of the UV absorbing layer (hard coat layer 9). It is. When the amount is more than 30% by mass, the adhesion is deteriorated. When the amount is less than 1% by mass, the weather resistance improving effect is small.
  • the amount of the inorganic UV absorber used is preferably 3 to 20% by mass, preferably based on the total mass of the UV absorbing layer (hard coat layer 9).
  • the amount of the organic UV absorber used is 0.1 to 10% by mass, preferably 0.5 to 5% by mass.
  • the transparency of the hard coat layer is high and the weather resistance is also good.
  • the low molecular triazine UV absorber preferably used in the present invention is represented by the following general formula (8).
  • Q 1 -Q 2 -OH (8) In the above formula (8), Q 1 represents a 1,3,5-triazine ring, and Q 2 represents an aromatic ring.
  • the compound of the general formula (8) is more preferably a compound represented by the following general formula (9).
  • R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms; an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms; a phenyl group; a phenyl group, a hydroxy group , An alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkoxy group having 5 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 3 to 18 carbon atoms, a halogen atom, —COOH, —COOR 4 , —O—CO—R 5 , —O—CO—O—R 6 , —CO—NH 2 , —CO—NHR 7 , —CO—N (R 7 ) (R 8 ), —CN, —NH 2 , —NHR 7 , —N ( R 7 ) (R 8 ), —NH—CO—R 5 , phenoxy group, phenoxy group substituted with an al
  • R 2 is independently of each other an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms; an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms; a phenyl group; a phenylalkyl group having 7 to 11 carbon atoms; —COOR 4 ; —CN; —NH—CO—R 5 ; a halogen atom; a trifluoromethyl group; —O—R 3 is represented.
  • R 3 represents the definition given for R 1 ;
  • R 4 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms; a phenyl group; a phenylalkyl having 7 to 11 carbon atoms A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms; or R 4 interrupted by one or more —O—, —NH—, —NR 7 —, —S— and OH, phenoxy group or carbon Represents an alkyl group having 3 to 50 carbon atoms which may be substituted with an alkylphenoxy group having 7 to 18 atoms;
  • R 5 represents H; an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; 2 to 18 carbon atoms A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms; a phenyl group; a phenylalkyl group having 7 to 11 carbon atoms; a bicycloalkyl group having 6 to 15 carbon atoms;
  • R 10 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; a phenyl group; a naphthyl group; or an alkylphenyl group having 7 to 14 carbon atoms
  • the groups R 11 are each independently H; an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; an alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms; a phenyl group; a phenylalkyl group having 7 to 11 carbon atoms; a halogen atom; an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms;
  • R 12 is an alkyl group having 1-18 carbon atoms; an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms; a phenyl group; carbon Represents a phenyl group substituted 1 to 3 times with an alkyl group having 1 to 8 children, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenoxy group having 3 to 8 carbon atoms, a
  • the benzophenone UV absorber is represented by the following general formula (10).
  • Q 1 and Q 2 each independently represents an aromatic ring.
  • X represents a substituent
  • Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom.
  • XY may be a hydrogen atom.
  • the benzophenone UV absorber include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ', 4,4' -Tetrahydroxy-benzophenone and the like.
  • the benztriazole UV absorber is represented by the following general formula (11).
  • R 1, R 2, R 3, R 4 and R 5 each independently represent a monovalent organic group, R 1, R 2 and at least one total number of carbon atoms in R 3 10 to 20 unsubstituted branched or straight chain alkyl groups are represented.
  • the benztriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benztriazole and 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benztriazole.
  • the polymer UV absorber used in the present invention refers to a compound having a weight average molecular weight of 500 or more.
  • the weight average molecular weight can be measured with a gel permeation chromatography (GPC) apparatus.
  • the polymer UV absorber used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (12), and more preferably a benztriazole-based polymer UV absorber having a benztriazole group.
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 12 and R 13 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
  • R 13 represents a benzophenone group or a benzotriazole group.
  • l, m, and n represent an integer of 1 or more.
  • Examples of the alkyl group represented by R 12 and R 13 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and 1-methylbutyl.
  • Examples of the aryl group represented by R 12 and R 13 include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, an ethylphenyl group, a benzyl group, and a phenethyl group.
  • Examples of other polymer UV absorbers include compounds described in JP-A-2004-42614.
  • the antioxidant can be selected from, for example, a group of antioxidants such as hindered phenol compounds, hindered amine compounds, and phosphorus compounds. Specific examples of hindered phenol compounds include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl.
  • hindered amine compounds include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-benzyloxy-2,2) , 6,6-Tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6- Pentamethyl-4-piperidyl) 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-but
  • Hindered amine compounds of the above type are commercially available from Ciba Japan, for example, under the trade names “TUNUVIN 144” and “TUNUVIN 770”, and from Adeka Corporation “ADK STAB LA-52”.
  • Specific examples of the phosphorus compound include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-).
  • t-butylphenyl) phosphite 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 6- [ 3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butyldibenz [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine
  • Monophosphite compounds such as pin and tridecyl phosphite; 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butyl Diphosphite compounds such as phenyl-di-tridecyl phosphite), 4,4′-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12-C15) phosphite); triphenylphosphonite, tetrakis (2,4-
  • Phosphorus compounds of the above type are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd. “Sumilizer GP”, from ADEKA Co., Ltd. “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36” and “ADK STAB 3010”, Ciba Japan Co., Ltd. It is commercially available under the trade name “IRGAFOS P-EPQ” from the company and “GSY-P101” from Sakai Chemical Industry Co., Ltd.
  • the coating solution used for forming the hard coat layer has a solid content of ionizing radiation curable resin of 30 to 70 masses using at least one of ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone as a solvent. It can obtain by diluting so that it may become%.
  • the solvent concentration is too high when the coating solution is applied onto the substrate, and the coating solution has a thickness of 10 to 30 ⁇ m.
  • an adhesive layer 7 and a second resin base material 8 may be provided between the corrosion prevention layer 6 and the hard coat layer 9 as in the film mirror 10a shown in FIG.
  • Adhesive layer The adhesive layer formed on the film mirror 10a according to the present invention is not particularly limited as long as it has a function of enhancing the adhesion between the corrosion prevention layer and the translucent resin layer. Therefore, the adhesive layer needs to have adhesion and smoothness for closely attaching the corrosion prevention layer and the translucent resin layer.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflective layer, and the like.
  • the adhesive layer is a resin
  • polyester resin acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide resin, chloride
  • a single resin such as vinyl resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, or a mixed resin thereof can be used.
  • a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.
  • a method for forming the adhesive layer 7 a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method or the like can be used.
  • the adhesive layer is a metal oxide
  • silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, lanthanum oxide, lanthanum nitride, or the like formed by various vacuum film formation methods can be used.
  • a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, or a sputtering method can be used as the method for forming the adhesive layer (film formation method).
  • Translucent resin layer is a resin layer which consists of a resin material which has a light transmittance, and contains the ultraviolet absorber.
  • a translucent resin layer is a resin layer which consists of a resin material which has a light transmittance, and contains the ultraviolet absorber.
  • polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose acetate
  • PTT polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • TAC cellulose triacetate
  • CAP cellulose acetate propionate
  • Cellulose esters such as phthalate and cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone ( PES), polysulfones, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin Nylon, polymethyl methacrylate, acrylic or polyarylates,
  • Examples of the method for forming the translucent resin layer include a film formation method by melt casting and extrusion molding, and a method by coating. What is marketed as a conventionally well-known resin film can be used for the translucent resin layer manufactured by methods, such as a melt flow and extrusion molding.
  • a coating film that becomes the translucent resin layer 8 is applied by a coating method, various conventionally used coating methods such as spray coating, spin coating, and bar coating can be used.
  • a material that becomes a light-transmitting resin layer is directly applied on the surface of the reflective layer on the light incident side or on the surface of the constituent layer (for example, the corrosion prevention layer) provided on the light incident side of the silver reflective layer. By doing so, a translucent resin layer can be formed.
  • the smoothness of the translucent resin layer can be improved.
  • the center line average roughness (Ra) of the translucent resin layer formed by the coating method can be 3 nm or more and 20 nm or less. In other words, if the center line average roughness satisfies this value, the translucent resin film produced by melt film formation is not a translucent resin layer provided by bonding with an adhesive layer, but the translucent resin film. It can be considered that the conductive resin layer is provided by coating.
  • the thickness of the translucent resin layer is preferably 10 to 150 ⁇ m. More preferably, the thickness is 20 to 100 ⁇ m, and still more preferably 40 to 100 ⁇ m.
  • the center line average roughness (Ra), which is an index of smoothness of the translucent resin layer can be determined by a measuring method based on JIS B0601-1982.
  • acrylic can be suitably used as the material for forming the light-transmitting resin layer.
  • the translucent resin layer is formed of acrylic, the acrylic resin is hard, so that a plastic translucent resin layer may be contained in order to obtain an acrylic translucent resin layer that is soft and difficult to break.
  • the plasticizer include butyl rubber and butyl acrylate.
  • the acrylic translucent resin layer is preferably mainly composed of methacrylic resin.
  • the methacrylic resin is a polymer mainly composed of a methacrylic acid ester, and may be a homopolymer of a methacrylic acid ester, or a methacrylic acid ester of 50% by weight or more and other monomers of 50% by weight or less. A copolymer may also be used.
  • the methacrylic acid ester an alkyl ester of methacrylic acid is usually used.
  • a particularly preferred methacrylic resin is polymethyl methacrylate resin (PMMA).
  • the preferred monomer composition of the methacrylic resin is 50 to 100% by weight of methacrylic acid ester, 0 to 50% by weight of acrylic acid ester, and 0 to 49% by weight of other monomers based on the total monomers. More preferably, the methacrylic acid ester is 50 to 99.9% by weight, the acrylic acid ester is 0.1 to 50% by weight, and other monomers are 0 to 49% by weight.
  • examples of the alkyl methacrylate include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like, and the alkyl group usually has 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. It is. Of these, methyl methacrylate is preferably used.
  • alkyl acrylates include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like.
  • the alkyl group usually has 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. is there.
  • the monomer other than alkyl methacrylate and alkyl acrylate may be a monofunctional monomer, that is, a compound having one polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule, or a polyfunctional monofunctional monomer. Although it may be a monomer, that is, a compound having at least two polymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule, a monofunctional monomer is preferably used.
  • the monofunctional monomer include aromatic alkenyl compounds such as styrene, ⁇ -methylstyrene, and vinyl toluene, and alkenyl cyan compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile.
  • polyfunctional monomers examples include polyunsaturated carboxylic acid esters of polyhydric alcohols such as ethylene glycol dimethacrylate, butanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, and cinnamon.
  • Alkenyl esters of unsaturated carboxylic acids such as allyl acid
  • polyalkenyl esters of polybasic acids such as diallyl phthalate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate
  • aromatic polyalkenyl compounds such as divinylbenzene, etc.
  • alkyl methacrylate alkyl methacrylate
  • alkyl acrylate and monomers other than these, respectively, you may use those 2 or more types as needed.
  • the glass transition temperature of the methacrylic resin is preferably 40 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, from the viewpoint of heat resistance of the film. This glass transition temperature can be appropriately set by adjusting the type of monomer and the ratio thereof.
  • the methacrylic resin can be prepared by polymerizing the monomer component by a method such as suspension polymerization, emulsion polymerization or bulk polymerization. At that time, in order to obtain a suitable glass transition temperature or to obtain a viscosity showing a formability to a suitable film, it is preferable to use a chain transfer agent during the polymerization.
  • the amount of the chain transfer agent may be appropriately determined according to the type of monomer and the ratio thereof.
  • Specific examples of the ultraviolet absorber include those exemplified in the general description of the above [hard coat layer].
  • the ultraviolet absorber a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as heat energy or the like can be used. Furthermore, those that exhibit an effect when used in combination with an antioxidant or a colorant, or light stabilizers acting as a light energy conversion agent, called quenchers, can be used in combination.
  • quenchers light stabilizers acting as a light energy conversion agent
  • each of the above ultraviolet absorbers may be used in combination of two or more thereof as necessary.
  • an ultraviolet absorber other than the above-described ultraviolet absorber for example, a salicylic acid derivative, a substituted acrylonitrile, a nickel complex, or the like can be contained.
  • the content of the ultraviolet absorber in the translucent resin layer is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and further preferably 3 to 10% by mass.
  • the content of the ultraviolet absorber in the translucent resin layer is 0.17 to 2.28 g / m 2 per unit area of the film, more preferably 0.4 per unit area. 2.28 g / m 2 or more.
  • the translucent resin layer may contain an antioxidant. Specific examples of the antioxidant include those exemplified in the general description of the above [hard coat layer].
  • Phosphorus flame retardants used here include red phosphorus, triaryl phosphate ester, diaryl phosphate ester, monoaryl phosphate ester, aryl phosphonate compound, aryl phosphine oxide compound, condensed aryl phosphate ester, halogenated alkyl phosphorus. Examples thereof include one or a mixture of two or more selected from acid esters, halogen-containing condensed phosphates, halogen-containing condensed phosphonates, halogen-containing phosphites, and the like.
  • triphenyl phosphate 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenylphosphonic acid, tris ( ⁇ -chloroethyl) phosphate, tris (dichloropropyl) Examples thereof include phosphate and tris (tribromoneopentyl) phosphate.
  • the film mirror preferably has an adhesive layer for attaching the film mirror to the support.
  • the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like is used.
  • the laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out the roll method continuously from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually in the range of about 1 to 100 ⁇ m, preferably about 1 to 50 ⁇ m, from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.
  • Specific materials used for the adhesive layer include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., “Oribain BPW Series”, “BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. An adhesive can be suitably used.
  • Reflector for solar power generation include at least film mirrors 10a, 10b, and 10c, and a metal substrate as a support, as shown in FIGS. It consists of.
  • a metal plate, a resin plate, or a composite plate of metal and resin can be used.
  • a metal material having high thermal conductivity such as a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum-plated steel plate, an aluminum-based alloy-plated steel plate, a copper-plated steel plate, a tin-plated steel plate, a chrome-plated steel plate, or a stainless steel plate can be used.
  • resin plates acrylic resin plates, urethane resin plates, polystyrene resin plates, polyimide resin plates, phenolic resin plates, polycarbonate resin plates, alicyclic hydrocarbon resin plates, polypropylene resin plates
  • Polyolefin resin plates, melamine resin resin plates, and ABS resin plates can be used.
  • a composite board of a metal and resin what laminated
  • the foamable resin means a porous resin, and examples thereof include those composed of polystyrene, polyolefin, polyurethane, melamine resin, and polyimide compositions.
  • Example 1 (Preparation of film mirror No. 1 for solar power generation)
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used.
  • a resin in which a polyester resin, a melamine resin, a TDI isocyanate, and an HMDI isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2: is coated by a gravure coating method.
  • an anchor layer 4 having a thickness of 0.1 ⁇ m was formed, and a silver reflective layer having a thickness of 80 nm was formed as a reflective layer 5 on the anchor layer 4 by a vacuum deposition method.
  • a corrosion prevention layer 6 made of an acrylic silicone resin a hardener polyhard G21 containing ORIGITUXU # 100 clear, which is an acrylic resin having an amino group in the side chain, and a silane coupling agent having an epoxy group.
  • a solvent of origin thinner # 111NO2 (all manufactured by Origin Electric Co., Ltd.) in a mass ratio of 40:10:20 was coated by gravure coating and dried at 80 ° C. for 30 minutes to obtain a thickness of 0.1 ⁇ m. Were laminated.
  • an acrylic resin adhesive (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) is applied as a bonding layer 7 on the corrosion prevention layer 6 to a thickness of 10 ⁇ m, and a transparent resin layer 8 is formed on the bonding layer 7.
  • Technoloy S000 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • ZX-049 manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • a fluorine-based leveling agent is added to the resin solid content on the translucent resin layer 8 as a fluorine-based leveling agent.
  • Tinuvin 477 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.
  • a triazine-based UV absorber added in an amount of 1.0% by mass with respect to the resin solid content is applied by a gravure coat with a wet film thickness of 40 ⁇ m, and 80 ° C.
  • the hard coat layer 9 was provided by performing a heat treatment for 2 hours. Thus, the film mirror No. 1 was produced.
  • Example 2 (Preparation of film mirror No. 2 for solar power generation)
  • Film mirror No. for solar power generation 1 as a coating solution for forming the corrosion prevention layer 6, instead of using a mixed solution of ORIGITUXU # 100 clear, polyhard G21, a curing agent containing an epoxy group-containing silane coupling agent, and origin thinner # 111NO2 as a solvent.
  • Example 3 (Preparation of film mirror No. 3 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation
  • a film mirror No. 1 for solar thermal power generation was used by adding 5% by mass of Tinuvin 234 (manufactured by BASF) as a corrosion inhibitor to the coating solution for forming the corrosion prevention layer 6. 3 was produced.
  • Example 4 (Preparation of film mirror No. 4 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation 3 was prepared by adding 1.5% by mass of Tinuvin 152 as an antioxidant to the solution forming the hard coat layer 9 with respect to the resin solid content. 4 was produced.
  • Example 5 (Production of film mirror No. 5 for solar power generation)
  • Film mirror No. for solar power generation 4 the use of Technoloy S001 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a film thickness of 100 ⁇ m containing a UV absorber as the translucent resin layer 8 makes it possible to produce film mirror No. 1 for solar thermal power generation. 5 was produced.
  • Example 6 (Production of film mirror No. 12 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation In the production of the film mirror No. 1 for solar thermal power generation, the adhesive layer 7 and the translucent resin layer 8 are not provided. 12 was produced.
  • Example 7 (Production of film mirror No. 13 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation 2 is not provided with the adhesive layer 7 and the translucent resin layer 8, so that the film mirror No. 13 was produced.
  • Example 8 (Production of film mirror No. 14 for solar thermal power generation) Film mirror No. for solar power generation 3 is not provided with the adhesive layer 7 and the translucent resin layer 8, so that the film mirror No. 14 was produced.
  • Example 9 (Preparation of film mirror No. 15 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation In the production of the film mirror No. 4 for solar thermal power generation, the adhesive layer 7 and the translucent resin layer 8 are not provided. 15 was produced.
  • Example 10 (Preparation of film mirror No. 22 for solar thermal power generation)
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used.
  • a resin in which a polyester resin, a melamine resin, a TDI isocyanate, and an HMDI isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2: is coated by a gravure coating method.
  • an anchor layer 4 having a thickness of 0.1 ⁇ m was formed, and a silver reflecting layer 5 having a thickness of 80 nm was formed as a silver reflecting layer by a vacuum deposition method.
  • a corrosion prevention layer 6 made of an acrylic silicone resin a hardener polyhard G21 containing ORIGITUXU # 100 clear, which is an acrylic resin having an amino group in the side chain, and a silane coupling agent having an epoxy group.
  • a solution of origin thinner # 111NO2 (manufactured by Origin Electric Co., Ltd.) in a mass ratio of 40:10:20 was coated by gravure coating and dried at 80 ° C. for 30 minutes, resulting in a thickness of 0. A 1 ⁇ m corrosion prevention layer was formed.
  • Tinuvin 477 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.
  • a triazine-based UV absorber added in an amount of 1.0% by mass with respect to the resin solid content is applied by a gravure coat with a wet film thickness of 40 ⁇ m, and 80 ° C.
  • the hard coat layer 9 was provided by performing a heat treatment for 2 hours. Thus, the film mirror No. 22 was produced.
  • Example 11 (Preparation of film mirror No. 23 for solar thermal power generation) Film mirror No. for solar power generation
  • a coating solution for forming the corrosion prevention layer 6 instead of using a mixed solution of Orijitsuku # 100 clear, a curing agent polyhard G21 containing a silane coupling agent having an epoxy group, and a solvent origin thinner # 111NO2.
  • Example 12 (Preparation of film mirror No. 24 for solar power generation) Film mirror No. for solar power generation In the production of No. 10, by using 5 wt% of Tinuvin 234 (manufactured by BASF) as a corrosion inhibitor in the coating solution for forming the corrosion prevention layer 6, the film mirror No. 24 was produced.
  • Example 13 (Production of film mirror No. 25 for solar thermal power generation) Film mirror No. for solar power generation In the production of No. 24, the film mirror No. for solar power generation was used by adding 1.5% by mass of Tinuvin 152 as an antioxidant to the solution forming the hard coat layer 9 with respect to the resin solid content. 25 was produced.
  • Example 14 (Preparation of film mirror No. 26 for solar power generation)
  • Film mirror No. for solar power generation 25 the use of Technoloy S001 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having a film thickness of 100 ⁇ m containing a UV absorber as the translucent resin layer 8 allows the film mirror No. 1 for solar thermal power generation. 26 was produced.
  • Film mirror No. 29 for solar power generation 28 the resin for forming the corrosion prevention layer 6 is Beccolite M-6665-60 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), a silicone alkyd resin, and 2-glycid which is a silane coupling agent having an epoxy group.
  • Solar power generation by using a 15% by weight MEK diluted solution of PMMA (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having a molecular weight of 30000 instead of using a solution in which the mass ratio of xylethyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone) is 40: 1 is used.
  • Film mirror No. 29 was produced.
  • Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
  • A The average value of regular reflectance is 92% or more.
  • ⁇ The average value of regular reflectance is 87% or more and less than 92%.
  • ⁇ The average value of regular reflectance is 82% or more, 87%.
  • X The average value of regular reflectance is less than 82%
  • Table 1-1 and Table 1-2 show the results of evaluation of film adhesion after UV deterioration treatment, silver layer discoloration evaluation after UV deterioration treatment, evaluation of reflectance after UV deterioration treatment, and evaluation of sulfidation resistance.
  • a corrosion prevention layer 6 made of a silicone-modified resin and a silane coupling agent is laminated on the reflective layer 5, and a UV absorber is provided on the outermost surface.
  • the film mirror No. for solar power generation of the present invention having the hard coat layer 9 containing. 1-5, no. 12-15, no. Nos. 22 to 26 maintain the film adhesion between the reflective layer 5 and the resin layer (corrosion prevention layer 6) even after UV deterioration treatment, and do not cause discoloration of the reflective layer 5 and have excellent weather resistance. I understand that. Further, film mirror No. 1 for solar power generation in which an antioxidant is added to the hard coat layer 9. 4-5 and no. 15, no.
  • the film mirrors 10a, 10b, and 10c (film mirrors No. 1 to 5, No. 12 to 15, and No. 22 to 26 for solar power generation) of the present invention are lightweight, flexible, and weather resistant.
  • a film mirror having a good regular reflectance with respect to sunlight without peeling off at the interface between the reflective layer 5 and the corrosion prevention layer 6 even after cleaning after being installed outdoors for a long period of time Can be used.
  • the present invention is configured as described above, it can be used as a film mirror or a solar power generation reflecting device.

Abstract

　基材３に反射層５が設けられたフィルムミラー１０ａにおいて、反射層５の光反射側に隣接して積層されたシランカップリング剤を含んで形成されるシリコーン変性樹脂からなる腐食防止層６と、その光反射側の最表面に積層されたＵＶ吸収剤を含有するハードコート層９と、を備える構成にした。

Description

機能性フィルム、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置
　本発明は、機能性フィルム、フィルムミラー及びそのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
　近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとして、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の利用が検討されている。なかでも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており且つ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。
　太陽エネルギーを活用する上での上記課題における、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時などに破損してしまうことがあることや、その重量が重いミラーを設置する架台を強化する必要があることなどのため、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
　その一方で、軽量で柔軟性が高く、かつ生産コストおよび輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとして、フィルムミラーがある。フィルムミラーはフィルム基材に設けられた銀反射層上に樹脂からなる層を積層して銀の腐食を抑制している。さらに、その上層にＵＶ吸収剤を含んだ樹脂層を積層することによる劣化の抑制や、最表面にハードコート層などを設けることによる傷つき抑制などによって、耐久性の向上を図っている。
　また、太陽熱発電用のミラーは屋外環境下に設置されるため、ミラー表面に砂塵等の付着に起因する反射率低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われている。しかしながら、長期間屋外暴露したフィルムミラーにこれらの洗浄を施した場合、洗浄時に生じる応力により銀反射層とその上層の防食層とが剥離してしまい、反射率が低下するという問題があった。
　上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期間の屋外使用に耐えうるとともに、洗浄作業時に発生する応力によって銀反射層との剥離が生じないよう高い密着性を有する防食層の構築技術が課題となっていた。
　既に報告されている太陽熱発電用フィルムミラーに関して、特許文献１の技術が挙げられる。この文献におけるフィルムミラーでは、フィルムの最表層にＵＶ吸収剤を含んだアクリル層を設けており、ＵＶ露光に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。しかしながら特許文献１の場合、銀反射層とアクリル層の間にＰＥＴ層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外暴露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、銀反射層とＰＥＴ層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。
　また、特許文献２ではＵＶ露光による樹脂層の劣化をより強力に抑制する目的で、最表面のハードコート層に大量のＵＶ吸収剤を含有させることで樹脂の変色および脆弱化を抑制している。しかしながら、１年間以上の屋外暴露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、銀反射層と銀反射層上のアクリル樹脂からなる防食層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。
　また、特許文献３では銀反射層と強固に密着する樹脂として、アクリル樹脂とシランカップリング剤からなるアクリルシリコーン樹脂を防食層に用いることで、剥離の発生を抑制している。しかしながら、太陽熱発電用フィルムミラーの様に１年以上の長期にわたり太陽光に晒される条件下において、アクリルシリコーン樹脂を防食層に用いたとき、防食層の密着性は維持できるが銀反射層が赤紫色に変色してしまう問題があることがわかった。
　そのため、太陽熱発電に用いることができ、長期間屋外に暴露された後に洗浄作業による負荷をかけても高い密着性を有し、かつ変色も起きないフィルムミラーは未だ提案されていない。
特表２００９－５２０１７４号公報 米国特許第７５０７７７６号明細書 特開２００４－２０３０１４号公報
　そこで、本発明の主な目的は、軽量で柔軟性があり、耐候性に優れて長期間にわたり屋外設置された後に洗浄を行っても反射層との界面で剥離が生じることなく、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
　本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
　すなわち、本発明の一の態様は、
　フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
　前記反射層の光反射側に隣接して設けられた防食層と、前記防食層よりも光反射側に設けられたハードコート層とを備え、
　前記防食層はシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成され、前記ハードコート層はＵＶ吸収剤を有することを特徴としている。
　好ましくは、前記ハードコート層は、光反射側の最表面に設けられている。
　好ましくは、前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂である。
　好ましくは、前記防食層は、腐食防止剤を含有している。
　好ましくは、前記ハードコート層は、酸化防止剤を含有している。
　好ましくは、前記反射層は、銀反射層である。
　また、本発明の他の態様は、太陽熱発電用反射装置であって、上記フィルムミラーを、支持体に貼り付けて形成したことを特徴としている。
　また、本発明の他の態様は、
　フィルム基材に銀層が設けられた機能性フィルムであって、
　前記銀層の反射側に隣接して設けられた防食層と、前記防食層よりも反射側に設けられたハードコート層とを備え、
　前記防食層はシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成され、前記ハードコート層はＵＶ吸収剤を有することを特徴としている。
　本発明によれば、長期にわたり屋外環境下に晒されても反射層が変色することはなく、また洗浄作業等による応力を与えても反射層との界面に剥離が生じにくいので、高い正反射率を長期間にわたり維持することが可能なフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。また、本発明はフィルムミラーだけでなく、熱線を反射する銀層を有する遮熱フィルムの様な機能性フィルムにも適用可能である。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
　筆者らの鋭意検討の結果、アクリル樹脂とシランカップリング剤からなるアクリルシリコーン樹脂を防食層として用いた場合に銀反射層が赤紫色に変色する現象は、長期間屋外暴露して使用する太陽熱発電用フィルムミラーに特有な現象であり、未反応のシランカップリング剤が銀反射層に隣接した状態でＵＶ暴露された際に起きる現象であることがわかった。
　上記検討結果に基づき検討を継続した結果、銀反射層上にシリコーン変性樹脂とシランカップリング剤とからなる防食層を設け、かつ最表面にＵＶ吸収剤を含むハードコート層を設けることにより、長期間屋外に暴露された後に洗浄作業による負荷をかけても銀反射層と防食層との界面に剥離が生じ難い高い密着性を有し、かつ変色も起きないフィルムミラーとなることがわかった。これは、硬度の高いハードコートは熱伝導性が高いため、ＵＶ吸収剤がＵＶ光を熱に変換した際の放熱が効率よく進行するため、ＵＶ吸収剤がＵＶ光を熱に効率的に変換することができ、未反応のシランカップリング剤のＵＶ劣化を抑制したためであると考えられる。また、ＵＶ吸収剤がＵＶ光を熱に効率的に変換することができるため、ＵＶ吸収剤自身も長持ちし、ＵＶ吸収性能が長期間安定的に維持される。
　以下、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーについて詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
　本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の例を、図１、図２、図３を用いて３種類説明する。
　太陽熱発電用のフィルムミラー１０ａ、１０ｂ、１０ｃは、図１、図２、図３に示すように、光反射側とは反対側に粘着層２を有するフィルム基材としての基材３上に、構成層として少なくとも反射層５と、反射層５の光反射側に隣接して積層された腐食防止層６と、光反射側の最表面に積層されたハードコート層９とを備えている。なお、腐食防止層６は少なくともシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成された防食層である。また、ハードコート層９はＵＶ吸収剤を含有している。
　また、フィルムミラーの他の構成層として、基材３と反射層５の間にアンカー層４を設けてもよく（図１、図２参照）、また、腐食防止層６とハードコート層９の間に接着層７と透光性樹脂層８を設けること（図１参照）も好ましい態様である。
　また、他の形態として腐食防止層６と透光性樹脂層８とを、接着層７を設けずに反射層５に接合した図３の形態も好ましい態様である。このような構成である場合、透光性樹脂層８を塗布により設けることが可能となるため、生産性の向上が期待できる。尚、本発明はフィルムミラーだけでなく、熱線を反射する銀層（反射層）を有する遮熱フィルムの様な機能性フィルムにも適用可能である。その場合、銀層は２０ｎｍ以下と薄い層であることが好ましい。
（２）フィルム基材
　本発明におけるフィルム基材としては樹脂フィルムまたはガラスフィルムを用いることができる。
＜樹脂フィルム＞
　本発明のフィルムミラー又は機能性フィルムに用いられるフィルム基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
　中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましく、特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。このフィルム基材は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
　フィルム基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０～３００μｍの範囲内である。好ましくは２０～２００μｍ、さらに好ましくは３０～１００μｍである。
＜ガラスフィルム＞
　本発明のフィルムミラー又は機能性フィルムに用いられるフィルム基材としては、ガラスフィルムを用いることも可能である。
　当該ガラスフィルムとしては、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。すなわち、特開２０１０－１３２３４７号公報に開示されているような、ダウンドロー法によって成形された表裏面が露出したガラスフィルムを、保護シートに重ねてロール状に巻き取ったガラスロールより得られるガラスフィルムであることが好ましい。
　このような構成によれば、ダウンドロー法によって形成された表裏面が露出したガラスフィルムがそのままの状態で、保護シートとともにロール状に巻き取られてガラスロールが形成される。そのため、梱包前の工程で、ガラスフィルムの表裏面のいずれにもポリマー層等の保護膜を形成する成膜工程を行う必要がなく、開梱後の工程でも、ガラスフィルムの表面からポリマー層等の保護膜を除去する除去工程を行う必要もない。
　従って、保護膜を形成する工程が不要な分だけ梱包前の工程を短縮化できるので、ガラスフィルムの表裏面に異物が付着する割合を可及的に低減できると共に、開梱後に保護膜に由来する異物が残存するという事態も生じ得ない。その結果、ダウンドロー法に由来したガラスフィルムの表裏面の清浄性を良好に維持することができる。更に、ダウンドロー法により成形した表裏面であれば、フロート法により成形した場合のように事後的にガラスフィルムの表面研磨を行わなくても、未研磨面の状態で清浄性を確保できるという利点もある。
　また、ガラスフィルムの露出した表裏面は、ガラスロールの状態で保護シートにより保護される。しかも、ガラスフィルムの表裏面は、ポリマー層等の保護膜が形成されていないガラス面であるため、巻き取った段階で、ガラスフィルムと保護シートとが固着するという事態も生じ難い。従って、ガラスロールの状態でのガラスフィルムの破損を確実に低減でき、しかも、ガラスフィルムと保護シートとの分離性も良好に維持できるので、開梱時のガラスフィルムの破損も可及的に低減することができる。
　なお、ガラスフィルムは、長時間巻き取った状態が保持されたとしても、反りが発生することはなく容易に次工程へと送り込むことができる。さらに、巻き取ることによって長尺物のガラスフィルムとすることができることから、その後自由な長さで切断することができ、様々な大きさの基板に対応することが可能となり、ガラスフィルムの無駄を防止することができる。
　ガラスフィルムの厚さは、１．０～２００μｍの範囲内であることが好ましい。より好ましくは３０～１５０μｍであるが、更に好ましくは５０～１２０μｍの範囲内である。厚さが１μｍ以上であると、ロール状に巻き取る際のテンションに耐えることができるため破断を防ぐことができ、また、２００μｍ以下にすることで、ロールとしての巻き取り性を良好に維持できる。
　上記のような厚さにすれば、ガラスフィルムに適切な可撓性が付与される。そのため、ガラスフィルムを巻き取った際にガラスフィルムにかかる不当な応力を軽減することができ、破損を防止することができる。
　上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面の算術平均粗さＲａが、０．１μｍ以下であることが好ましい。ここで、「算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠して測定された値とする。
　このようにすれば、ガラスフィルムの幅方向の両端面に適切な平滑性が付与される。そのため、ガラスフィルムをロール状に巻き取る際に、ガラスフィルムの両端面に微細な傷が生じ難くなり、ガラスフィルム両端面からの破損を防止することができる。従って、ガラスフィルムの端面の微細な傷に起因する欠けにより発生するガラス粉（カレット）を低減できることから、ガラスフィルムの表裏面の清浄性を確保する上でも非常に有利となる。また、ガラスフィルムの端面と保護シートが接触した場合でも、ガラスフィルムの端面が保護シートに噛み込んで引っかかることがなく、ガラスフィルムと保護シートとの分離性を良好なものとすることができる。
　上記の構成において、前記ガラスフィルムの幅方向の両端面が、レーザー切断により切断された切断面で構成されていることが好ましい。なお、ここでいうレーザー切断には、レーザー溶断以外にも、レーザー割断も含まれる。
（３）アンカー層
　アンカー層は、樹脂からなり、フィルム基材と反射層とを密着させるものである。従って、アンカー層はフィルム基材と反射層とが密着する密着性、反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
　アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、特にフィルム基材が樹脂フィルムである場合は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用できる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　アンカー層の厚さは、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。アンカー層の厚さが、上記の範囲であると、密着性が良好になりアンカー層を形成した効果が大きく、またフィルム基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性が良好になり、結果的には反射層の反射率が高くなる。なお、アンカー層の厚さを３μｍより厚くても密着性の向上は望めず、塗りムラの発生により平滑性が悪くなる場合がある。
　このアンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法を適用できる。
（４）反射層
　反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
　反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層であることが好ましい。
　また、反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
　本発明における反射層（例えば銀反射層、銀層ともいう）の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
　湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成による銀層形成等がある。
　一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーの製造方法においては、反射層を銀の蒸着により形成することが好ましい。
　反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０～２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０～１５０ｎｍである。
（５）腐食防止層（防食層）
　腐食防止層（防食層）は、反射層に隣接して設けられ、反射層の材料（例えば、銀）の腐食を防止するためのものである。ここで、「腐食」とは、金属材料（銀）を取り囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。本発明で使用できる腐食防止層は、シリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成されている必要がある。少なくともシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成されている腐食防止層は、屋外環境下で長期にわたって設置しても反射層との高い膜密着性を保つことができる。
（５－１）シリコーン変性樹脂
　シリコーン変性樹脂とは、主鎖または側鎖または樹脂骨格の末端部にシロキサン結合部（－Ｓｉ－Ｏ－）ｎを有す樹脂である。ここで、ｎは１以上の整数である。
　本発明に用いるシリコーン変性樹脂は、例えば主骨格となる樹脂にポリシロキサン構造を有する樹脂がグラフト状に結合したものでもよいし、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させたものであってもよい。シリコーン変性樹脂のシロキサン結合以外の部位は、例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂等の樹脂骨格を持つものである。特に、アクリルシリコーンやシリコーンアルキド等、アクリル樹脂骨格、アルキド樹脂骨格を持つものが好ましく、より好ましくはアクリル樹脂骨格を持つアクリルシリコーン樹脂がよい。更に好ましくは、アクリル樹脂骨格中にアミノ基を有するものを用いるのがよい。
　樹脂骨格中にポリシロキサン構造がグラフト状に結合したシリコーン変性樹脂の具体例としては、ベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）、ベッコライトＭ－６６５０－６０（大日本インキ化学工業社製）、Baysilone Resin UD-460M（バイエルン社製）、ＫＰ－５４１（信越シリコーン社製）、ＫＰ－５４３（信越シリコーン社製）、ＫＰ－５４５（信越シリコーン社製）、ＫＰ－５４９（信越シリコーン社製）、ＫＰ－５５０（信越シリコーン社製）、メタトロン（大宝化学工業社製）等が挙げられる。
　また、骨格中にアミノ基を有するアクリル樹脂の具体例としては、ＰＴＣ－０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ－０５０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ－０５－Ｂ２（藤倉化成社製）、ＰＴＣ－０５Ｎ（藤倉化成社製）、ＰＴＣ－０５Ｎ－Ｂ２（藤倉化成社製）、オリジツーク＃１００クリヤ（オリジン電気社製）、オリジツーク＃２００クリヤ（オリジン電気社製）、Ｔ４０－ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ５０－ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ４０－ｂ１．５ｈ（オリジン電気社製）等が挙げられる。
（５－２）シランカップリング剤
　本発明に用いるシランカップリング剤としては、例えば、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－グリシドキシエトキシトリメトキシシラン、２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。なお、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させた場合であっても、未反応のシランカップリング剤やシランカップリング剤同士が反応した化合物等が、腐食防止層中に残存することもある。本発明によって、そのような残存したシランカップリング剤やカップリング剤同士が反応した化合物が紫外線によって引き起こす問題を防ぎ、それに伴い、シランカップリング剤の添加量を大きく気にすることなく、引き続き使用することが可能となる。
（５－３）腐食防止剤
腐食防止層には、腐食防止剤が添加されていることが好ましい。
　腐食防止層に用いることができる腐食防止剤としては、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物の腐食防止剤群からの中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を２種以上合わせて使用することもできる。
　以下に選択可能な腐食防止剤の一般式を示す。
（５－３－１）ベンズトリアゾール系化合物
　ベンズトリアゾール系化合物は、下記の一般式（１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  
　式中、Ｒ４１～Ｒ４５は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ－ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２－フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ－トリル基、ｐ－クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３－メチルウレイド基、３，３－ジメチルウレイド基、１，３－ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン－オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル－２－ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
　ベンゾトリアゾール系化合物の具体例としては、２－（２’－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
　上記タイプのベンゾトリアゾール系化合物は、例えば、チバ・ジャパン社から、ＴＩＮＵＶＩＮ　Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８という商品名で市販されている。
（５－３－２）イミダゾール系化合物
　イミダゾール系化合物は、下記の一般式（２）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  
　式中、Ｒ５１～Ｒ５４は置換基を表す。置換基としては上記した一般式（１）のＲ４１～Ｒ４５で表される置換基と同義である。なお、Ｒ５１は水素原子が好ましい。
　イミダゾール系化合物の具体例としては、２－メチルイミダゾール、２－メルカプトイミダゾール、５，６－ジメチルベンズイミダゾール、２－メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
　上記タイプのイミダゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、上記した化合物名と同じ商品名で市販されている。
（５－３－３）イオウ系化合物
　イオウ系化合物は、下記の一般式（３）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  
　式中、Ｒ６１及びＲ６２は置換基を表す。置換基としては上記した一般式（１）のＲ４１～Ｒ４５で表される置換基と同義である。
　イオウ系化合物の具体例としては、ブタンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリエチレングリコールジメルカプタン、ジラウリル３，３－チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル３，３－チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス（β－ラウリル－チオ－プロピオネート）、３，９－ビス（２－ドデシルチオエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
　上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、淀化学株式会社から、ＢＤＴＧ、ＴＭＴＧ、ＰＥＴＧ、ＴＭＴＰ、ＰＥＴＰという商品名で市販されている。
（５－３－４）テトラザインデン系化合物
　テトラザインデン系化合物は、下記の一般式（４）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
  
　式中、Ｒ７１～Ｒ７３は置換基を表す。置換基としては上記した一般式（１）のＲ４１～Ｒ４５で表される置換基と同義である。
　テトラザインデン系化合物の具体例としては、７－ヒドロキシ－５－メチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５－ａ］ピリミジン、５，６－ジメチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５－ａ］ピリミジン－７－オル、５－メチル－２－（メチルチオ）－１，３，４－トリアザインドリジン－７－オル等が挙げられる。
　上記タイプのテトラザインデン系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、上記した化合物名と同じ商品名で市販されている。
（５－３－５）チアジアゾール系化合物
　チアジアゾール系化合物は、下記の一般式（５）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
  
　式中、Ｒ８１及びＲ８２は置換基を表す。置換基としては一般式（１）のＲ４１～Ｒ４５で表される置換基と同義である。
　チアジアゾール系化合物の具体例としては、１，３，４－チアジアゾール－２，５－ジチオール、５－（エチルチオ）－１，３，４－チアジアゾール－２－チオール、５，５’－（エチレンジチオ）ビス（１，３，４－チアジアゾール－２－チオール）等が挙げられる。
　上記タイプのチアジアゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、上記した化合物名と同じ商品名で市販されている。
（６）ハードコート層
　ハードコート層は、フィルムミラーの防食層よりも光反射側に設けられ、好ましくは最表面層として設けられている。例えば、図１に示すフィルムミラー１０ａでは、ハードコート層９はアクリル樹脂層８上に積層されて最表面に設けられており、また図２に示すフィルムミラー１０ｂでは、ハードコート層９は腐食防止層６上に積層されて最表面に設けられている。ハードコート層は、フィルムミラーの表面に傷や汚れが付くことを防止する他、ＵＶ吸収剤を高効率かつ長期にわたり機能させるよう担持するために設けられている。
　このハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、ＵＶ硬化または熱硬化で形成することができる。
　本発明においては、ハードコート層に有機材料または無機材料からなるＵＶ吸収剤を含有させる必要がある。また、必要に応じて、光増感剤、光重合開始剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有させるようにしてもよい。
（６－１）ＵＶ硬化型ハードコート
　ＵＶ硬化型ハードコートとは、ＵＶ照射工程により樹脂を硬化させてなるハードコートである。ＵＶ照射工程とは、高圧水銀ランプ等を用いて８０ｍｊ以上のエネルギー（紫外線）を照射することをいう。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、多官能ウレタン化（メタ）アクリレート等を主成分とする（メタ）アクリレート系樹脂などが例示される。ここで、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートとは、例えば、イソホロンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネートのような、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（－ＮＣＯ）を有するポリイソシアネートに、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートやペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートのような、分子内に１個の水酸基および少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を付加反応させて得られる、ウレタン結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。これらのＵＶ硬化性樹脂は単独または２種以上混合して使用することができる。また、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートに、上述したようなウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることも可能である。
　また、ＵＶ硬化性樹脂としては市販されているものを好適に用いることができる。ＵＶ硬化性樹脂の市販品としては、具体的には、カヤラッドＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤＰＣＡ－２０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤＰＣＡ－３０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤＰＣＡ－６０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤＰＣＡ－１２０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤ－３１０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＤ－３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＧＰＯ－３０３（日本化薬（株）製）、カヤラッドＴＭＰＴＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッドＴＨＥ－３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッドＴＰＡ－３３０（日本化薬（株）製）、アロニックスＭ－３１５（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－３２５（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　上述したようなＵＶ硬化性樹脂は、通常、光重合開始剤と混合して使用される。光重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの市販品を好適に用いることができる。
（６－２）熱硬化型ハードコート
　熱硬化型ハードコートとは、加熱工程により樹脂を硬化させてなるハードコートであり、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、加熱工程を含む方法により硬化させて形成することができる。樹脂の加熱工程とは、塗布後のバインダー樹脂を４０℃以上の雰囲気下で１分以上処理して硬化させることをいう。熱硬化性樹脂層の架橋密度を十分なものとするために、４０～１５０℃の雰囲気下で、１分～数日処理を必要とする。十分な硬度を発現させるために、６０℃～１００℃の雰囲気下で３０分から２日間静置することが好ましい。
　熱硬化性樹脂としては、例えば、シリコーン系樹脂またはシリコーン変性系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂を用いることができるが、本発明においては、シリコーン系樹脂またはシリコーン変性系樹脂を用いることが好ましい。
　シリコーン系樹脂を構成する前駆体化合物は、ＲｍＳｉ（ＯＲ’）ｎの一般式で示されるものであり、ＲおよびＲ’は、炭素数１～１０のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
　具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラ－ｎ－ポロポキシシラン、テトラ－ｎ－ブトキシシラン、テトラ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ－ｉｓｏ－プロポキシシラン、テトラペンタ－ｎ－プロポキシシラン、テトラペンタ－ｎ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、テトラペンタ－ｔｅｒｔ－ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ－（２－アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－（２－アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－アミノベンジルアミノエチル）－γ－アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β－メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３－（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等のシランカップリング剤や、電離放射線硬化性シロキサン化合物を用いることもできる。電離放射線硬化性シロキサン化合物としては、具体的には、電離放射線の照射により反応し架橋する複数の官能基、例えば重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、またはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。この組成物は、シラノール基の脱水縮合により３次元架橋がなされ、高硬度の被膜が得られる。
　本発明でハードコート層９に用いるシリコーン変性系樹脂とはシリコーンを側鎖にもつグラフト共重合体である。好ましくはシリコーンを側鎖にもつアクリル系グラフト共重合体である。アクリル変性シリコーン高分子モノマーとラジカル重合性単量体をラジカル重合させて成るシリコーン系グラフト共重合体としては、上記のアクリル変性シリコーンが、下記の一般式（６）で示されるシリコーンと、下記の一般式（７）で示されるアクリル化合物とを縮合させて成る生成物をあげることができる。
　下記の式（６）中、Ｒ６およびＲ７は炭素数１～１０の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基または一価のハロゲン化炭化水素基を表す。ｑは１以上の正数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
  
　下記の式（７）中、Ｒ８は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ９はメチル基、エチルまたはフェニル基を表す。２個のＲ９は互いに同一もしくは異なっていてもよい。Ｚは塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
  
　上記した一般式（６）で示されるシリコーンは市販品として入手でき、目的にあったものを使用することができる。上記した一般式（６）におけるＲ６およびＲ７は炭素数１～１０の一価の脂肪族炭化水素基、フェニル基または一価のハロゲン化炭化水素である。炭素数１～１０の一価の脂肪族炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、アシル基等が挙げられ、一価のハロゲン化炭化水素としては、例えば３，３，３－トリフルオロプロピル基、４，４，４－トリフルオロ－３，３－ジフルオロブチル基、２－クロロエチル基等が挙げられる。Ｒ６およびＲ７として特に好ましいのはメチル基である。
　上記した一般式（６）でｑは１以上の正数であるが、一般にｑの数が１００以上という高分子量のシリコーンから誘導されるアクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体との共重合からはオイル状のものが得られやすい傾向にあり、ｑの数が１００以下という低分子量のシリコーンから誘導されるアクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体との共重合からは用いるモノマーの種類によりオイル状、ゼリー状、固体状等各種のものを得ることができる。
　また、上記した一般式（７）で示されるアクリルシラン化合物としては、例えばγ－メタクリルオキシプロピルジメチルクロロシラン、γ－メタクリルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、γ－メタクリルオキシプロピルジフェニルクロロシラン、γ－アクリルオキシプロピルジメチルクロロシラン、γ－メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ－メタクリルオキシプロピルトリクロロシラン等が挙げられる。これらのアクリルシラン化合物は、特公昭３３－９９６９号の方法等に従い、ケイ素化合物と脂肪族性多重結合を有する化合物とを塩化白金酸の存在下で反応させることにより容易に得られる。
　また、アクリル変性シリコーンとラジカル重合性単量体とのラジカル共重合は、従来公知の方法を使用でき、放射線照射法、ラジカル重合開始剤を用いる方法を使用できる。さらに紫外線照射法により共重合させる場合は、ラジカル重合開始剤として公知の増感剤を使用し、電子線照射により共重合させる場合はラジカル重合開始剤を使用する必要はない。このようにして得られたシリコーン共重合体は、ラジカル重合性単量体を幹とし、シリコーンを枝とする櫛形グラフト共重合体である。
　シリコーン共重合体の市販品としては、サイマックＵＳ－１５０、ＵＳ－２７０、ＵＳ－３５０、ＵＳ－４５０、レゼダＧＰ－７００（以上、東亞合成（株）製）、サーコートＮＰ７３０、サーコートＮＰ７２０（以上、動研社製）等を挙げることができる。
（６－３）シリカ微粒子
　充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るハードコート層を得るために、ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物中にシリカ微粒子を添加することが好ましい。
　シリカ微粒子としては、例えば、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１～２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０～３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０～５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、例えば、イソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。
　シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ハードコート層の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１～３０００ｍ２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ２／ｇ以上、また１５００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。
　このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ－ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ－ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ－ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ－ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ－ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ－ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。
　また、粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。
（６－４）レベリング剤
　ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層の表面平滑性を確保するために、レベリング剤を添加することが好ましい。
　レベリング剤とは、塗料に添加することでその塗料の表面張力を低下させ、塗膜の表面平滑性を向上させる効果のある薬剤である。
　レベリング剤として一般的に使用される物質としては、例えば、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー、ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマーなどが例示されるが、本発明ではこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものを用いることが最も好ましい。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。
　具体的に市販されている商品としては、例えばサーフロン「Ｓ－３８１」、「Ｓ－３８２」、「ＳＣ－１０１」、「ＳＣ－１０２」、「ＳＣ－１０３」、「ＳＣ－１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ－４３０」、「ＦＣ－４３１」、「ＦＣ－１７３」（何れもフロロケミカル－住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ－１７１」、「Ｆ－４７０」、「ＲＳ－７５」、「ＲＳ－７２－Ｋ」（何れも大日本インキ化学工業株式会社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ－０４９」、「ＺＸ－００１」、「ＺＸ－０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
（６－５）ＵＶ吸収剤
　ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層およびハードコート層よりも下層の樹脂層の耐候性を向上させるために、ＵＶ吸収剤を添加することが好ましい。得られたハードコート層は、有機化合物からなるＵＶ吸収剤または無機化合物からなるＵＶ吸収剤、もしくは両者を含有していることが好ましい。有機系の場合はトリアジン系ＵＶ吸収剤を用いることが好ましい。
（６－５－１）無機ＵＶ吸収剤
　無機ＵＶ吸収剤とは、主には金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成し、ＵＶ－Ｂ域（２９０－３２０ｎｍ）における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。
　また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、平均粒径が５ｎｍと５００ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、特許出願「ＥＰ－Ａ－０　５１８　７７３」（欧州特許）に記載されている。
　また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤を表面被覆したものの平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であってもよい。また、無機ＵＶ吸収剤を表面被覆することによって無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるためより好ましい。ここでいう表面被覆された無機ＵＶ吸収剤とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物により、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な特質の１つまたは複数の手段により表面処理を受けた無機ＵＶ吸収剤である。
　無機ＵＶ吸収剤を単独で用いる場合の使用量は、ＵＶ吸収層（ハードコート層９）の全質量に対し１～３０質量％、好ましくは５～２５質量％、さらに好ましくは１５～２０質量％である。３０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
　また、無機ＵＶ吸収剤を後述する有機ＵＶ吸収剤と併用して用いる場合、ＵＶ吸収層（ハードコート層９）の全質量に対し、無機ＵＶ吸収剤の使用量は３～２０質量％、好ましくは５～１０質量％であり、有機ＵＶ吸収剤の使用量は０．１～１０質量％、好ましくは０．５～５質量％である。このような使用量の範囲で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用すると、ハードコート層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。
（６－５－２）低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤
　本発明において好ましく用いられる低分子トリアジン系ＵＶ吸収剤は、下記の一般式（８）で表される。
　　　　　　　　　Ｑ１－Ｑ２－ＯＨ　・・・（８）
　上記の式（８）中、Ｑ１は１，３，５－トリアジン環を表し、Ｑ２は芳香族環を表す。
　一般式（８）の化合物は、さらに好ましくは下記の一般式（９）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
  
　上記の式（９）中、Ｒ１は炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基；炭素原子数３～１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１～１８のアルコキシ基、炭素原子数５～１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３～１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＲ４、－Ｏ－ＣＯ－Ｒ５、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－Ｒ６、－ＣＯ－ＮＨ２、－ＣＯ－ＮＨＲ７、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、－ＣＮ、－ＮＨ２、－ＮＨＲ７、－Ｎ（Ｒ７）（Ｒ８）、－ＮＨ－ＣＯ－Ｒ５、フェノキシ基、炭素原子数１～１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル－炭素原子数１～４のアルコキシ基、炭素原子数６～１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６～１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素原子数６～１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、または炭素原子数６～１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１～１８のアルキル基；ヒドロキシ基、炭素原子数１～４のアルキル基、炭素原子数２～６のアルケニル基または－Ｏ－ＣＯ－Ｒ５で置換された炭素原子数５～１２のシクロアルキル基；グリシジル基；－ＣＯ－Ｒ９または－ＳＯ２－Ｒ１０を表すか；あるいはＲ１は１以上の酸素原子で中断された及び／またはヒドロキシ基、フェノキシ基もしくは炭素原子数７～１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３～５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ１は－Ａ；－ＣＨ２－ＣＨ（ＸＡ）－ＣＨ２－Ｏ－Ｒ１２；－ＣＲ１３Ｒ’１３－（ＣＨ２）ｍ－Ｘ－Ａ；－ＣＨ２－ＣＨ（ＯＡ）－Ｒ１４；－ＣＨ２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２－ＸＡ；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
  
－ＣＲ１５Ｒ’１５－Ｃ（＝ＣＨ２）－Ｒ’’１５；－ＣＲ１３Ｒ’１３－（ＣＨ２）ｍ－ＣＯ－Ｘ－Ａ；－ＣＲ１３Ｒ’１３－（ＣＨ２）ｍ－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１５Ｒ’１５－Ｃ（＝ＣＨ２）－Ｒ’’１５または－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１５Ｒ’１５－Ｃ（＝ＣＨ２）－Ｒ’’１５（式中、Ａは－ＣＯ－ＣＲ１６＝ＣＨ－Ｒ１７を表す。）で表される定義の一つを表す。
　Ｒ２は、互いに独立して、炭素原子数６～１８のアルキル基；炭素原子数２～６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；－ＣＯＯＲ４；－ＣＮ；－ＮＨ－ＣＯ－Ｒ５；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；－Ｏ－Ｒ３を表す。
　Ｒ３はＲ１に対して与えられた定義を表し；Ｒ４は炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数３～１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ４は１以上の－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＮＲ７－、－Ｓ－で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７～１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３～５０のアルキル基を表し；Ｒ５はＨ；炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数２～１８のアルケニル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルケニル基；炭素原子数６～１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ６はＨ；炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数３～１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ７及びＲ８は互いに独立して炭素原子数１～１２のアルキル基；炭素原子数３～１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４～１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５～１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ７及びＲ８は一緒になって炭素原子数３～９のアルキレン基、炭素原子数３～９のオキサアルキレン基または炭素原子数３～９のアザアルキレン基を表し；Ｒ９は炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数２～１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６～１５のビシクロアルケニル基；または炭素原子数６～１５のトリシクロアルキル基を表し；Ｒ１０は炭素原子数１～１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７～１４のアルキルフェニル基を表し；基Ｒ１１は互いに独立してＨ；炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数３～６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；炭素原子数１～１８のアルコキシ基を表し；Ｒ１２は炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数３～１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１～８のアルキル基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数３～８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１～３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７～１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５～１２のシクロアルキル基；炭素原子数６～１５のトリシクロアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素原子数６～１５のビシクロアルケニルアルキル基；－ＣＯ－Ｒ５を表し；またはＲ１２は１以上の－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＮＲ７－、－Ｓ－で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７～１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３～５０のアルキル基を表し；Ｒ１３及びＲ’１３は互いに独立してＨ；炭素原子数１～１８のアルキル基；フェニル基を表し；Ｒ１４は炭素原子数１～１８のアルキル基；炭素原子数３～１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル－炭素原子数１～４のアルキル基を表し；Ｒ１５、Ｒ’１５及びＲ’’１５は互いに独立してＨまたはＣＨ３を表し；Ｒ１６はＨ；－ＣＨ２－ＣＯＯ－Ｒ４；炭素原子数１～４のアルキル基；またはＣＮを表し；Ｒ１７はＨ；－ＣＯＯＲ４；炭素原子数１～１７のアルキル基；またはフェニル基を表し；Ｘは－ＮＨ－；－ＮＲ７－；－Ｏ－；－ＮＨ－（ＣＨ２）ｐ－ＮＨ－；または－Ｏ－（ＣＨ２）ｑ－ＮＨ－を表し；及び指数ｍは数０～１９を表し；ｎは数１～８を表し；ｐは数０～４を表し；ｑは数２～４を表す；ただし一般式（９）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ１１の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む、である。
（６－５－３）低分子ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤
　ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤は、下記の一般式（１０）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
  
　上記の式（１０）中、Ｑ１及びＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子または窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であってもよい。
　ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤としては、例えば、２，４－ジヒドロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ドデシロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシ－ベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシ－ベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシ－ベンゾフェノン等が挙げられる。
（６－５－４）低分子ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤
　ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤は、下記の一般式（１１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
  
　上記の式（１１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に一価の有機基を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも１つは総炭素数１０～２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基を表す。
　ベンズトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（２’－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－（３’’，４’’，５’’，６’’－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５’－メチルフェニル）ベンズトリアゾール、２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンズトリアゾール－２－イル）フェノール）、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール、２（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール、（２（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール、２（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール、（２（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）－５－クロロベンズトリアゾール等が挙げられる。
（６－５－５）高分子型ＵＶ吸収剤
　本発明に用いられる高分子型ＵＶ吸収剤とは、重量平均分子量が５００以上の化合物をいう。重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置で測定することができる。
　本発明に用いられる高分子型ＵＶ吸収剤としては、下記の一般式（１２）で表される化合物が好ましく、中でもベンズトリアゾール基を有するベンズトリアゾール系高分子ＵＶ吸収剤がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
  
　上記の式（１２）中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１２及びＲ１３は水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ１３はベンゾフェノン基またはベンズトリアゾール基を表す。ｌ、ｍ及びｎは１以上の整数を表す。
　Ｒ１２及びＲ１３で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基、１，１－ジメチルブチル基、２，２－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、１，２－ジメチルブチル基、１，３－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の直鎖状、分枝鎖状もしくは環状のアルキル基等が挙げられる。
　Ｒ１２及びＲ１３で表されるアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。
　その他の高分子型ＵＶ吸収剤としては、例えば特開２００４－４２６１４号公報に記載の化合物が挙げられる。具体的には［２－ヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’－ジヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’－ジヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’－ジヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’－ジヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２－ジヒドロキシ－４－（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４－トリヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４－トリヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４－トリヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４－トリヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２，２’，４－トリヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［４－ヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［４－ヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［４－ヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［４－ヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［４－ヒドロキシ－４’－（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４’－メチル－４－（メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４’－メチル－４－（メタクリロイルオキシメトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４’－メチル－４－（メタクリロイルオキシオクトキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４’－メチル－４－（メタクリロイルオキシドデシロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－ヒドロキシ－４’－メチル－４－（メタクリロイルオキシベンジロキシ）ベンゾフェノン］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－（２’－ヒドロキシ－４’－メタクリロイルオキシエトキシ）ベンゾトリアゾール］－メタクリル酸メチル共重合体、［２－（２’－ヒドロキシ－４’－メタクリロイルオキシエトキシ）－５－クロロベンゾトリアゾール］－メタクリル酸メチル共重合体等が挙げられる。さらには２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］等の分子量５００以上の高分子型ＵＶ吸収剤も好適である。
（６－６）酸化防止剤
　ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、酸化防止剤を添加することが好ましい。
　ハードコート層が酸化防止剤を含有することによって、耐候性を向上することができる。
　酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。
　ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ－オクタデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオネート、ｎ－オクタデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－アセテート、ｎ－オクタデシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ｎ－ヘキシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ－ドデシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ－ドデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２－（ｎ－オクチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンゾエート、２－（ｎ－オクチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－フェニルアセテート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンゾエート、２－（２－ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－フェニル）プロピオネート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ－ビス－［エチレン３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ－ブチルイミノＮ，Ｎ－ビス－［エチレン３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２－（２－ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、２－（２－ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７－（３－メチル－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２－プロピレングリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン－ｌ－ｎ－オクタデカノエート－２，３－ビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス－［３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９－ビス－｛２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，１，１－トリメチロールエタン－トリス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２－ヒドロキシエチル７－（３－メチル－５－ｔブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２－ステアロイルオキシエチル７－（３－メチル－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６－ｎ－ヘキサンジオール－ビス［（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」及び「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」という商品名で市販されている。
　ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ－オクトキシ－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ－ベンジルオキシ－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ－シクロヘキシルオキシ－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ブチルマロネート、ビス（１－アクロイル－２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）２，２－ビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルメタクリレート、４－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］－１－［２－（３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、２－メチル－２－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）アミノ－Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
　また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’－テトラキス－［４，６－ビス－〔ブチル－（Ｎ－メチル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）アミノ〕－トリアジン－２－イル］－４，７－ジアザデカン－１，１０－ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジン－Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，６－ヘキサメチレンジアミンとＮ－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジンとＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝〕、１，６－ヘキサンジアミン－Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）とモルフォリン－２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６－モルフォリノ－ｓ－トリアジン－２，４－ジイル）〔（２，２，６，６，－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ〕－ヘキサメチレン〔（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノールと３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５－トリアジンとＮ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３－テトラメチルブチル）アミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイル｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００～５，０００のものが好ましい。
　上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、「ＴＵＮＵＶＩＮ１４４」及び「ＴＵＮＵＶＩＮ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＬＡ－５２」という商品名で市販されている。
　リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、１０－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、６－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェニル－ジ－トリデシルホスファイト）、４，４’－イソプロピリデン－ビス（フェニル－ジ－アルキル（Ｃ１２～Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）［１，１－ビフェニル］－４，４’－ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）［１，１－ビフェニル］－４，４’－ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６－ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６－ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。
　上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＰＥＰ－２４Ｇ」、「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＰＥＰ－３６」及び「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　３０１０」、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＦＯＳ　Ｐ－ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から「ＧＳＹ－Ｐ１０１」という商品名で市販されている。
（６－７）溶剤
　ハードコート層の形成に用いられる塗布液は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか１種以上を溶剤として電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０～７０質量％となるように希釈して得ることができる。ここで、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０質量％未満である場合には、塗布液を基材上に塗布した際に溶剤濃度が高すぎて１０～３０μｍの厚みの塗膜を得ることが難しく、また、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が７０質量％を超える場合には、塗布液の粘度が高すぎて塗膜にムラが発生し、平面性を損なうためである。
　また、図１に示すフィルムミラー１０ａのように、腐食防止層６とハードコート層９の間に、接着層７と第２の樹脂基材８を設けてもよい。
（７）接着層
　本発明に係るフィルムミラー１０ａに形成される接着層は、腐食防止層と透光性樹脂層との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、接着層は、腐食防止層と透光性樹脂層とを密着する密着性や平滑性が必要である。
　接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　接着層が樹脂である場合、上記の密着性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。この接着層７の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空成膜法により成膜したものを用いることができる。この接着層の形成方法（成膜方法）は、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが使用できる。
（８）透光性樹脂層
　透光性樹脂層は、光透過性を有する樹脂材料からなり、紫外線吸収剤を含有している樹脂層である。
　透光性樹脂層に用いる樹脂材料には特に制限はないが、薄膜を形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の合成樹脂を用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。
　この透光性樹脂層の形成方法としては、例えば溶融流涎, 押し出し成形による成膜方法や、塗布による方法を挙げることができる。溶融流涎や押し出し成形といった方法により製造される透光性樹脂層は、従来公知の樹脂フィルムとして市販されるものを使用することができる。塗布方式で透光性樹脂層８となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。そして、反射層の光入射側の面上、または銀反射層よりも光入射側に設けられた構成層（例えば、腐食防止層）の面上に、透光性樹脂層となる材料を直接塗布することによって、透光性樹脂層を形成することができる。
　こうした塗布方式で透光性樹脂層を形成することによって、透光性樹脂層の平滑性を高めることができる。具体的には、塗布方式で形成した透光性樹脂層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下にすることができる。換言すれば、中心線平均粗さがこの値を満たせば、溶融製膜によって製造された透光性樹脂フィルムを接着剤層で貼り合わせて設けられた透光性樹脂層ではなく、その透光性樹脂層が塗布によって設けられたものとみなすことができる。
　この透光性樹脂層の厚さは、１０～１５０μｍであることが好ましい。より好ましくは、２０～１００μｍであり、更に好ましくは、４０～１００μｍである。
　なお、透光性樹脂層の平滑性の指標となる中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１－１９８２に基づく測定方法により求めることができる。
　透光性樹脂層を形成する材料として、上記例示した樹脂材料の中では、アクリルを好適に用いることができる。
　透光性樹脂層をアクリルで形成する場合、アクリル樹脂は固いので、柔らかくて破損しにくいアクリル製の透光性樹脂層を得るため、可塑剤の微粒子を含有させてもよい。可塑剤の好ましい一例としては、例えば、ブチルゴムやブチルアクリレートなどが挙げられる。
　アクリル製の透光性樹脂層は、メタクリル樹脂を主成分としていることが好ましい。メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主体とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、メタクリル酸エステル５０重量％以上とこれ以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。ここで、メタクリル酸エステルとしては、通常、メタクリル酸のアルキルエステルが用いられる。特に好ましく用いられるメタクリル樹脂は、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）である。
　メタクリル樹脂の好ましい単量体組成は、全単量体を基準として、メタクリル酸エステルが５０～１００重量％、アクリル酸エステルが０～５０重量％、これら以外の単量体が０～４９重量％であり、より好ましくは、メタクリル酸エステルが５０～９９．９重量％、アクリル酸エステルが０．１～５０重量％、これら以外の単量体が０～４９重量％である。
　ここで、メタクリル酸アルキルの例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２－エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１～８、好ましくは１～４である。中でもメタクリル酸メチルが好ましく用いられる。
　また、アクリル酸アルキルの例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２－エチルヘキシルなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は通常１～８、好ましくは１～４である。
　また、メタクリル酸アルキル及びアクリル酸アルキル以外の単量体は、単官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素－炭素二重結合を１個有する化合物であってもよいし、多官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素－炭素二重結合を少なくとも２個有する化合物であってもよいが、単官能単量体が好ましく用いられる。そして、この単官能単量体の例としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエンの如き芳香族アルケニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルの如きアルケニルシアン化合物などが挙げられる。また、多官能単量体の例としては、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートの如き多価アルコールのポリ不飽和カルボン酸エステル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ケイ皮酸アリルの如き不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートの如き多塩基酸のポリアルケニルエステル、ジビニルベンゼンの如き芳香族ポリアルケニル化合物などが挙げられる。
　なお、上記のメタクリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、及びこれら以外の単量体は、それぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いてもよい。
　メタクリル樹脂は、フィルムの耐熱性の点から、そのガラス転移温度が４０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であることがより好ましい。このガラス転移温度は、単量体の種類やその割合を調整することにより、適宜設定することができる。
　メタクリル樹脂は、その単量体成分を、懸濁重合、乳化重合、塊状重合などの方法により重合させることにより調製することができる。その際、好適なガラス転移温度を得るため、又は好適なフィルムへの成形性を示す粘度を得るため、重合時に連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤の量は、単量体の種類やその割合などに応じて、適宜決定すればよい。
　また、紫外線吸収剤の具体例としては前記〔ハードコート層〕の一般記載に例示したものなどをなどが挙げられる。
　また、紫外線吸収剤としては上記した以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
　なお、上記紫外線吸収剤はそれぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
　透光性樹脂層への紫外線吸収剤の含有量は、０．１～２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１～１５質量％、さらに好ましくは３～１０質量％である。また、紫外線吸収剤の透光性樹脂層への含有量は、フィルム単位面積当たりの含有量が０．１７～２．２８ｇ／ｍ２で、より好ましくは単位面積当たりの含有量が０．４～２．２８ｇ／ｍ２以上である。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすことを防止できる。
　また、紫外線吸収剤入り透光性樹脂層の劣化を防止するために、透光性樹脂層に酸化防止剤を含有させてもよい。酸化防止剤の具体例としては前記〔ハードコート層〕の一般記載に例示したものなどをなどが挙げられる。
　また、透光性樹脂層に帯電防止剤を加えて、帯電防止性能を付与することも可能である。
　また、透光性樹脂層にリン系難燃剤を加えてもよい。ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。　具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナンスレン－１０－オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β－クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
（９）粘着層
　フィルムミラーは、フィルムミラーを支持体に貼り付けるための粘着層を有することが好ましい。
　粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１～１００μｍ程度、好ましくは１～５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。粘着層に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ　ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
（１０）太陽熱発電用反射装置
　太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂ、２０ｃは、図１、図２、図３に示すように、少なくともフィルムミラー１０ａ、１０ｂ、１０ｃと、支持体としての金属基材とから構成される。
（１０－１）支持体
　本発明の太陽熱発電用反射装置に用いられる支持体としては、金属板、樹脂板または金属と樹脂の複合板を用いることができる。金属板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。また、樹脂板としては、アクリル系樹脂板、ウレタン系樹脂板、ポリスチレン系樹脂板、ポリイミド系樹脂板、フェノール系樹脂板、ポリカーボネート系樹脂板、脂環式炭化水素系樹脂板、ポリプロピレン系樹脂板、ポリオレフィン系樹脂板、メラミン樹脂系樹脂板、ＡＢＳ系樹脂板を用いることができる。また、金属と樹脂の複合板としては、前記金属板および樹脂板を積層したものや、前記金属板と発泡性樹脂とを積層したもの等を用いることができる。ここで発泡性樹脂とは多孔質の樹脂を意味し、例えばポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリウレタン系、メラミン樹脂系、ポリイミド系の組成からなるものを挙げることができる。
　以下、具体的な実施例および比較例を挙げて本発明を説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
　なお、太陽熱発電用反射装置のＮｏ．１～１１が図１に示すフィルムミラー１０ａタイプのものであり、Ｎｏ．１２～２１が図２に示すフィルムミラー１０ｂタイプのものであり、Ｎｏ．２２～３３が図３に示すフィルムミラー１０ｃタイプのものである。
［実施例１］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１の作製）
基材３として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ系イソシアネート、ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２：に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成し、そのアンカー層４上に反射層５として真空蒸着法によって厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。この反射層５上に、アクリルシリコーン樹脂からなる腐食防止層６として、側鎖にアミノ基を有するアクリル樹脂であるオリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２（いずれもオリジン電気社製）を質量比で４０：１０：２０とした液をグラビアコート法によりコーティングして、８０℃下３０分間乾燥させることで厚さ０．１μｍの膜を積層した。続いて、この腐食防止層６の上に接着層７としてアクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層７の上に透光性樹脂層８としてＵＶ吸収剤を含まない膜厚１００μｍのアクリル樹脂であるテクノロイＳ０００（住友化学社製）を積層させた。続いて透光性樹脂層８上に、ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）にフッ素系レベリング剤としてＺＸ－０４９（富士化成工業社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％、トリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．０質量％となる量を添加したものをグラビアコートによってウェット膜厚４０μｍで塗布し、８０℃で２時間加熱処理を行ってハードコート層９を設けた。
　こうして、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１を作製した。
［実施例２］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いて腐食防止層６を形成することで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２を作製した。
［実施例３］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液に腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（BASF社製）を溶液に対して５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３を作製した。
［実施例４］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．４の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３の作製において、ハードコート層９を形成する溶液に、酸化防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．４を作製した。
［実施例５］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．５の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．４の作製において、透光性樹脂層８としてＵＶ吸収剤を含む膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．５を作製した。
［比較例１］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．６の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．５の作製において、腐食防止層６を形成する溶液にシランカップリング剤および腐食防止剤を添加しないものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．６を作製した。
［比較例２］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．７の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２の作製において、腐食防止層６を形成する溶液にシランカップリング剤を添加しないものを用い、透光性樹脂層８としてＵＶ吸収剤を含む膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を用い、ハードコート層９を形成する溶液に、酸化防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．７を作製した。
［比較例３］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．８の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．７の作製において、腐食防止層６を形成する樹脂としてシリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ希釈溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．８を作製した。
［比較例４］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．９の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．５の作製において、ハードコート層９を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．９を作製した。
［比較例５］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１０の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．９の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１０を作製した。
［比較例６］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１１の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．９の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ希釈溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１１を作製した。
［実施例６］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１２の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１の作製において、接着層７と透光性樹脂層８を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１２を作製した。
［実施例７］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１３の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２の作製において、接着層７と透光性樹脂層８を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１３を作製した。
［実施例８］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１４の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３の作製において、接着層７と透光性樹脂層８を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１４を作製した。
［実施例９］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１５の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．４の作製において、接着層７と透光性樹脂層８を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１５を作製した。
［比較例７］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１６の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１５の作製において、腐食防止層６を形成する溶液にシランカップリング剤を添加せず、ハードコート層９を形成する溶液に、酸化防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１６を作製した。
［比較例８］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１７の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１６の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１７を作製した。
［比較例９］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１８の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１６の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１Ｎｏ２の混合液を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ希釈溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１８を作製した。
［比較例１０］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１９の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．９の作製において、接着層７と透光性樹脂層８とハードコート層９を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１９を作製した。
［比較例１１］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２０の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１０の作製において、接着層７と第透光性樹脂層８とハードコート層９を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２０を作製した。
［比較例１２］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２１の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１１の作製において、接着層７と透光性樹脂層８とハードコート層９を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２１を作製した。
［実施例１０］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２２の作製）
　基材３として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ系イソシアネート，ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２：に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成し、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層５を形成した。この反射層５上に、アクリルシリコーン樹脂からなる腐食防止層６として、側鎖にアミノ基を有するアクリル樹脂であるオリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２（いずれもオリジン電気社製）を質量比で４０：１０：２０とした液をグラビアコート法によりコーティングして、８０℃下３０分間乾燥させることで、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。
　次に、上記腐食防止層６上に、アクリル樹脂（三菱レイヨン製アクリペットＶＨ）、ＵＶ吸収剤（ＢＡＳＦ製Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７）を固形分比９５：５で、ＭＥＫ中に固形分２０％で溶解した後、押し出しコーターにて上記銀反射層上に、膜厚３０μmとなるように塗布、乾燥（９０℃、１分）を行い、ＵＶ吸収剤入り透光性樹脂層８を形成した。
　続いて透光性樹脂層８上に、ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）にフッ素系レベリング剤としてＺＸ－０４９（富士化成工業社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％、トリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．０質量％となる量を添加したものをグラビアコートによってウェット膜厚４０μｍで塗布し、８０℃で２時間加熱処理を行ってハードコート層９を設けた。
　こうして、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２２を作製した。
［実施例１１］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２３の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１０の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いて腐食防止層６を形成することで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２３を作製した。
［実施例１２］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２４の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１０の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液に腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（BASF社製）を溶液に対して５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２４を作製した。
［実施例１３］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２５の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２４の作製において、ハードコート層９を形成する溶液に、酸化防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２５を作製した。
［実施例１４］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２６の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２５の作製において、透光性樹脂層８としてＵＶ吸収剤を含む膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２６を作製した。
［比較例１３］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２７の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２６の作製において、腐食防止層６を形成する溶液にシランカップリング剤および腐食防止剤を添加しないものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２７を作製した。
［比較例１４］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２８の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２３の作製において、腐食防止層６を形成する溶液にシランカップリング剤を添加しないものを用い、透光性樹脂層８としてＵＶ吸収剤を含む膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を用い、ハードコート層９を形成する溶液に、酸化防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１．５質量％添加したものを用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２８を作製した。
［比較例１５］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２９の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２８の作製において、腐食防止層６を形成する樹脂としてシリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ希釈溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２９を作製した。
［比較例１６］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３０の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．２６の作製において、ハードコート層９を設けないことで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３０を作製した。
［比較例１７］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３１の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３０の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂のベッコライトＭ－６６５２－６０（大日本インキ化学工業社製）溶液とエポキシ基を有するシランカップリング剤である２－グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３１を作製した。
［比較例１８］
（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３２の作製）
　太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３０の作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として、オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２の混合液を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ希釈溶液を用いることで、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３２を作製した。
［太陽熱発電用反射装置・太陽熱発電用フィルムミラーの評価］
　上記のように作製した太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１～２１について、下記の方法に従って、ＵＶ劣化処理後の膜密着性の評価、ＵＶ劣化処理後の銀層変色評価、ＵＶ劣化処理後の反射率の評価、耐硫化性の評価を行い、耐候性を評価した。
［ＵＶ劣化処理後の膜密着性の評価］
　各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で１５０ｍＷ、９６時間紫外線照射を行った後、フィルムミラーの最表面層を＃００００のスチールウールに１ｋｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、ストローク１００ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復摩擦行い、続いてＪＩＳ　Ｋ５４００規格に基づき碁盤目１００マスクロスカットした際のテープ剥離試験を行い、下記の基準で膜密着性を評価した。
　◎：膜剥離が０マス
　○：膜剥離が１マス以上５マス以下
　△：膜剥離が６マス以上１０マス以下
　×：膜剥離が１１マス以上
［ＵＶ劣化処理後の銀層変色の評価］
　各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で１５０ｍＷ、７日間紫外線照射を行った後、蛍光灯を試料に当てて目視観察した際に銀層の赤紫色変色が確認されるかを評価した。
　○：変色無し
　×：変色有り
［ＵＶ劣化処理後の反射率の評価］
　各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、下記の「正反射率測定」方法により正反射率を測定し、下記の基準に従って、ＵＶ劣化処理後の反射率射率を評価した。
　ここで、「正反射率測定」は、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
　◎：正反射率の平均値が、９２％以上である
　○：正反射率の平均値が、８７％以上、９２％未満である
　△：正反射率の平均値が、８２％以上、８７％未満である
　×：正反射率の平均値が、８２％未満である
［耐硫化性の評価］
　各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、端面を防水テープで封止して１０％硫化アンモニウム水溶液に２４時間浸漬し、上記した「正反射率測定」方法により正反射率を測定し、下記の基準に従って、耐硫化性を評価した。
　◎：正反射率の平均値が、８７％以上である
　○：正反射率の平均値が、８２％以上、８７％未満である
　△：正反射率の平均値が、７７％以上、８２％未満である
　×：正反射率の平均値が、７７％未満である
　これらＵＶ劣化処理後の膜密着性の評価、ＵＶ劣化処理後の銀層変色評価、ＵＶ劣化処理後の反射率の評価、耐硫化性の評価の結果を、表１－１、表１－２、表２、表３－１、表３－２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
  
　表１、表２、表３に示す結果から明らかなように、反射層５上にシリコーン変性樹脂およびシランカップリング剤からなる腐食防止層６が積層されており、かつ最表面にＵＶ吸収剤を含むハードコート層９を有している本発明の太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１～５、Ｎｏ．１２～１５、Ｎｏ．２２～２６はＵＶ劣化処理後であっても反射層５と樹脂層（腐食防止層６）との膜密着性を維持し、かつ反射層５の変色も起こしておらず、耐候性に優れていることがわかる。
　また、ハードコート層９に酸化防止剤を添加した太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．４～５およびＮｏ．１５、Ｎｏ．２５～２６ではハードコート層９内のＵＶ吸収剤の酸化劣化を酸化防止剤が抑制するため、ＵＶ照射後の膜密着性能の向上と、反射層５の入射光側に位置する樹脂層の黄変色抑制に由来するＵＶ照射後の反射率性能の向上が確認できる。
　また、腐食防止層６中に腐食防止剤を添加した太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．３～５、Ｎｏ．１４～１５、Ｎｏ．２４～２６では、硫化耐性がより高くなっていることがわかる。
　また、太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１とＮｏ．２およびＮｏ．２２とＮｏ．２３の比較により、腐食防止層６の樹脂としてはアクリルシリコーン樹脂の方がシリコーンアルキド樹脂よりも高い硫化耐性を示すことがわかる。
　一方で、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、ＵＶ吸収剤を含有するハードコート層９の何れかが不足している比較例の太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．６～１１、Ｎｏ．１６～２１、Ｎｏ．２７～３２では、ＵＶ照射後に膜の密着性低下と反射層５変色の両方または何れかが発生してしまい、屋外で長期にわたり使用することができないことがわかる。
　以上のように、本発明のフィルムミラー１０ａ、１０ｂ、１０ｃ（太陽熱発電用フィルムミラーＮｏ．１～５、Ｎｏ．１２～１５、Ｎｏ．２２～２６）は、軽量で柔軟性があり、耐候性に優れており、長期間にわたり屋外設置された後に洗浄を行っても反射層５と腐食防止層６の界面で剥離が生じることなく、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーとして使用できる。
　本発明は、以上のように構成されていることから、フィルムミラー、太陽熱発電用反射装置として利用できる。
　１　支持体
　２　粘着層
　３　基材（フィルム基材）
　４　アンカー層
　５　反射層（銀層）
　６　腐食防止層（防食層）
　７　接着層
　８　透光性樹脂層
　９　ハードコート層
　１０ａ、１０ｂ、１０ｃ　フィルムミラー
　２０ａ、２０ｂ、２０ｃ　太陽熱発電用反射装置

Claims (8)

  1. 　フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
    　前記反射層の光反射側に隣接して設けられた防食層と、前記防食層よりも光反射側に設けられたハードコート層とを備え、
    　前記防食層はシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成され、前記ハードコート層はＵＶ吸収剤を有することを特徴とするフィルムミラー。
  2. 　前記ハードコート層は、光反射側の最表面に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
  3. 　前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
  4. 　前記防食層は、腐食防止剤を含有していることを特徴とする請求項１～３の何れか一項に記載のフィルムミラー。
  5. 　前記ハードコート層は、酸化防止剤を含有していることを特徴とする請求項１～４の何れか一項に記載のフィルムミラー。
  6. 　前記反射層は、銀反射層であることを特徴とする請求項１～５の何れか一項に記載のフィルムミラー。
  7. 　請求項１～６の何れか一項に記載のフィルムミラーを、支持体に貼り付けて形成したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
  8. 　フィルム基材に銀層が設けられた機能性フィルムであって、
    　前記銀層の反射側に隣接して設けられた防食層と、前記防食層よりも反射側に設けられたハードコート層とを備え、
    　前記防食層はシリコーン変性樹脂を有し、シランカップリング剤を含んで形成され、前記ハードコート層はＵＶ吸収剤を有することを特徴とする機能性フィルム。
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