JP2011150316A - 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の目的は、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【解決手段】銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【選択図】なし
【解決手段】銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
【選択図】なし
Description
本発明は、太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置に関する。
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとして、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、(1)太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに(2)太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、質量が重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきたが(例えば特許文献1参照)、樹脂は外部環境に対して弱く、また反射層に銀などの金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素などが透過し、銀を腐食してしまうといった問題もあり、樹脂製ミラーの適用は困難であった。
太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、特許文献2に開示されているように、金属層を可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましい。しかしながら、銀は耐候性に劣り、酸素・水蒸気・硫黄などで劣化しやすいという問題がある。この問題に対し、特許文献2では、プラスチック基板が銀膜層の保護層として機能していると考えられる。しかしながら、プラスチックは空気中の水蒸気や酸素を透過しやすいため、酸化により銀が劣化することにより、ミラーの反射率が低下するという問題も招く。
さらに、太陽光を反射する目的でミラーを使用する場合、ミラーを屋外で使用することが多い。屋外で使用する場合には、ミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境下では銀の酸化劣化が早まり、ミラーの反射率の低下の問題はより顕著な問題となる。
銀の腐食防止技術については、銀反射層の光入射面側の隣接層として樹脂層等腐食防止層を塗設する方法が既に知られている(例えば特許文献3参照)。しかしながら、このような技術でも太陽光反射用のミラーとして用いられた場合には、屋外の厳しい環境下におかれるため、腐食に対して十分な効果が得られず、反射率の低下を十分に解消することができなかった。
また、銀を用いたミラーの劣化を防止する一つの手段として、紫外線吸収剤と腐食防止剤を含有する層を銀の上層として設ける方法も提案されている(例えば特許文献4参照)。このような技術によれば、銀層の腐食による反射率の低下はある程度抑制することが可能であり、紫外線によるプラスチック基材の劣化もある程度抑制することができる。しかしながら、このような技術をもってしても、温湿度の変化が大きい非常に過酷な環境下で用いられることの多い太陽熱発電用フィルムミラーとして用いられた場合には、正反射率の低下を十分に抑制することが困難であることが判明した。太陽熱発電用の反射ミラーにおいては、太陽光を所望の位置に集光させる必要がある為、高い反射率を維持するだけでなく、高い正反射率を維持する必要がある為、更なる改善が求められていた。また、特許文献4では、銀よりもイオン化傾向の高い銅等の金属層を、光入射面から遠い側の銀の隣接層として設けて銀の犠牲防蝕層とすることで、銀の腐食を防止する方法も検討されているが、このような方法を用いても、フィルムミラーの高い正反射率を維持することは困難であった。
従って、本発明の目的は、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置を提供することである。
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
1.銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
2.前記入射光側の隣接層が、前記酸化防止剤及び前記腐食防止剤を含有する樹脂からなる層であることを特徴とする前記1に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
3.前記銀反射層の入射光側から遠い側の隣接層として、銅層が設けられることを特徴とする前記1または2に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
4.前記太陽熱発電用フィルムミラーが、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂層、前記銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されており、前記樹脂基材上に設けられた樹脂層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする前記3に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
5.前記1〜4のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
6.前記1〜4のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを金属支持体上に貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
本発明によれば、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、正反射率の低下を十分に長期間抑制することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用フィルムミラー、及びその製造方法を提供することができる。
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明者らは鋭意検討の結果、銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有する太陽熱発電用フィルムミラーにより、過酷な環境下で長時間使用された場合であっても、フィルムミラーの正反射率の低下を十分に防止できることを見出した。
本発明者らの検討の結果、特許文献4に記載の技術のように銀反射層の腐食を防止するための腐食防止剤を含有する層を設けた場合であっても、太陽熱発電用フィルムミラーのように過酷な環境下で用いられる場合には、銀反射層に隣接する樹脂層が、太陽光露光時に樹脂層内で発生するペルオキシラジカル(−ROO・)及び酸素ラジカル(O・)により劣化することで変質し、それに伴い、銀反射層に変形が生じることで正反射率の低下を引き起こすことが明らかになった。そこで、銀反射層の腐食を抑制するベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チオール系化合物、チオエーテル系化合物、テトラザイデイン系化合物、チアジアゾール系化合物などの腐食防止剤に加えて、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物から選ばれる酸化防止剤を添加することで、上述のペルオキシラジカル(−ROO・)及び酸素ラジカル(O・)を捕捉することが可能となり、銀反射層自体の劣化による反射率の低下だけではなく、樹脂層の劣化による正反射率の低下が抑えることが可能となり、過酷な環境下であっても高い正反射率を維持することができるフィルムミラーを得ることができた。さらに、ラジカルの濃度が低い環境下においてベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チオール系化合物、チオエーテル系化合物、テトラザイデイン系化合物、チアジアゾール系化合物などの腐食防止剤の酸化的分解は大きく低減するため、銀反射層表面の金属原子のイオン化も効果的に抑制されるため、銀反射層の腐食防止効果も更に高めることが可能となった。
本発明では、以下の記載において、銀反射層に対して入射光側に隣接する酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層、または該化合物を含有する樹脂からなる層を樹脂層1と呼称する。銀反射層を挟んで樹脂層1と反対側に、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層、または該化合物を含有する樹脂からなる層が設けられる場合は、これを樹脂層2と呼称する。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂からなる層(樹脂層2)、銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層(樹脂層1)、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されていることが好ましい。該樹脂基材上に設けられた樹脂層(樹脂層2)は、前記酸化防止剤及び腐食防止剤を含有することが好ましい。
図1に本発明に好ましい太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す。
樹脂基材3上に酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層2(樹脂層2)、銅層4、銀反射層5、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層1(樹脂層1)、紫外線吸収剤を含有する樹脂層6の順で積層されて太陽熱発電用フィルムミラー10を形成する。Lは入射光を表す。
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層1、紫外線吸収剤を含有する樹脂層6の間には該樹脂層を接着する為の接着層7を設けてもよい。また、樹脂基材3の銀反射層5とは反対側に粘着層8を介して、金属基材9を貼り合わせて太陽熱発電用反射装置11としてもよい。
以下、本発明について詳細な説明をする。
(樹脂基材)
本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
本発明に係る樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましくポリエチレンテレフタレートフィルム(PET)であることが好ましい。
該フィルムは溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10〜300μmの範囲内である。好ましくは20〜200μm、更に好ましくは30〜100μmである。
(銀反射層)
本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10〜150nmが好ましく、より好ましくは30〜100nmである。
本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあっても良いが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。
(銅層)
本発明に係る銅層の形成法としては、銀反射層同様に湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
本発明に係る銅層の形成法としては、銀反射層同様に湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銅層を蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
(酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する隣接層)
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーに係る酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する隣接層は、酸化防止剤及び腐食防止剤の混合物のみから形成される層、または酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層であるが、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層が好ましく用いられる。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーに係る酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する隣接層は、酸化防止剤及び腐食防止剤の混合物のみから形成される層、または酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層であるが、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有した樹脂からなる層が好ましく用いられる。
さらに好ましくは酸化防止剤及び腐食防止剤を合計で0.01質量%から10質量%含有した樹脂層を用いるのがよい。さらに、酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に用いる樹脂は、接着剤層としての機能を有するものがよく、銀反射層と樹脂基材(樹脂フィルム)との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に用いる樹脂は、樹脂基材(樹脂フィルム)と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性があることが好ましい。
当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
当該酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
〈酸化防止剤〉
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に使用できる酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を2種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する層に使用できる酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を2種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
<ヒンダードフェノール系化合物>
式中、R11〜R16は水素原子または置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
また、R11は水素原子、R12、R16はt−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−{2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、“IRGANOX1076”及び“IRGANOX1010”という商品名で市販されている。
(ヒンダードアミン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(B)で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(B)で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
<ヒンダードアミン系化合物>
式中、R21〜R27は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。R24は水素原子、メチル基、R27は水素原子、R22、R23、R25、R26はメチル基が好ましい。
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)デカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、N,N′,N″,N″′−テトラキス−[4,6−ビス−〔ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ〕−トリアジン−2−イル]−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルフォリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕]等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらの中でも、ジブチルアミンと1,3,5−トリアジンとN,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔{(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量(Mn)が2,000〜5,000のものが好ましい。
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、“TUNUVIN144”及び“TUNUVIN770DF”、株式会社ADEKAから“ADK STAB LA−52”という商品名で市販されている。
<リン系化合物>
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、ホスファイト(phosphite)、ホスホナイト(phosphonite)、ホスフィナイト(phosphinite)、または第3級ホスファン(phosphane)からなる群より選ばれるリン系化合物が好ましく、具体的には下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)、(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、ホスファイト(phosphite)、ホスホナイト(phosphonite)、ホスフィナイト(phosphinite)、または第3級ホスファン(phosphane)からなる群より選ばれるリン系化合物が好ましく、具体的には下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)、(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
式中、Ph1及びPh′1は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph1及びPh′1はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph1及びPh′1は互いに同一でもよく、異なってもよい。Xは単結合、硫黄原子または−CHR6−基を表す。R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基または炭素数5〜8のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph2及びPh′2は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph2及びPh′2はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。Ph2及びPh′2は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph3は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph3はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基または炭素数7〜12のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph4は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph4は炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
式中、Ph5、Ph′5及びPh″5は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ph5、Ph′5及びPh″5は炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;トリフェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物;トリフェニルホスフィナイト、2,6−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物;トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン系化合物;等が挙げられる。
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“SumilizerGP”、株式会社ADEKAから“ADK STAB PEP−24G”、“ADK STAB PEP−36”及び“ADK STAB 3010”、BASFジャパン株式会社から“IRGAFOS P−EPQ”、及び“IRGAFOS12”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。
〈腐食防止剤〉
酸化防止剤及び腐食防止剤含有層に使用できる腐食防止剤としては、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物の腐食防止剤群からの中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を2種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
酸化防止剤及び腐食防止剤含有層に使用できる腐食防止剤としては、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物の腐食防止剤群からの中から選ぶことができる。また、これらの選択可能な化合物を2種以上合わせて使用することもできる。以下に選択可能な酸化防止剤の一般式を示す。
<ベンズトリアゾール系化合物>
式中、R21〜R27は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。
ベンゾトリアゾール系化合物としては、2−(2′−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
上記タイプのベンゾトリアゾール系化合物は、例えば、BASFジャパン社から、TINUVIN P、TINUVIN234、TINUVIN328という商品名で市販されている。
<イミダゾール系化合物>
式中、R51〜R54は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。R51は水素原子が好ましい。
イミダゾール系化合物としては、2−メチルイミダゾール、2−メルカプトイミダゾール、5,6−ジメチルベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
上記タイプのイミダゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
<イオウ系化合物>
式中、R61及びR62は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Sumilizer TPL−R”及び“Sumilizer TP−D”という商品名で市販されている。
<テトラザインデン系化合物>
式中、R71〜R73は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。
テトラザインデン系化合物としては、7−ヒドロキシ−5−メチル[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ピリミジン、5,6−ジメチル[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ピリミジン−7−オル、5−メチル−2−(メチルチオ)−1,3,4−トリアザインドリジン−7−オル等が挙げられる。
上記タイプのテトラザインデン系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
<チアジアゾール系化合物>
式中、R81及びR82は置換基を表す。置換基としては前記一般式(A)のR11〜R15で表される置換基と同義である。
チアジアゾール系化合物としては、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール、5−(エチルチオ)−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、5,5′−(エチレンジチオ)ビス(1,3,4−チアジアゾール−2−チオール)等が挙げられる。
上記タイプのチアジアゾール系化合物は、例えば、シグマアルドリッチ社から、前記化合物名と同じ商品名で市販されている。
<紫外線吸収剤を含有する樹脂層>
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を含有した樹脂層を有することが好ましい。
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を含有した樹脂層を有することが好ましい。
紫外線吸収剤を含有する樹脂層としては、従来公知の種々の樹脂に紫外線吸収剤を分散させたフィルムを用いることができる。基材となる樹脂フィルムとしては例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
特にアクリルフィルムを用いることが好ましい。また溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
(紫外線吸収剤)
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系紫外線吸収剤等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系紫外線吸収剤等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2′−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、2−4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
紫外線吸収剤の使用量は、0.1〜20質量%、好ましくは1〜15質量%、さらに好ましくは3〜10質量%である。20質量%よりも多いと密着性が悪くなり、0.1質量%より少ないと耐候性改良効果が小さい。
(接着層)
本発明に用いられる接着層は銀反射層と樹脂基材(樹脂フィルム)、または樹脂層との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材(樹脂フィルム)と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
本発明に用いられる接着層は銀反射層と樹脂基材(樹脂フィルム)、または樹脂層との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材(樹脂フィルム)と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
当該接着層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
当該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
(傷防止層)
本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
当該傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム(登録商標)”シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール(登録商標)”シリーズなど)、新中村株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、DIC株式会社;(商品名“UNIDIC(登録商標)”シリーズなど)、東亞合成株式会社;(商品名“アロニックス(登録商標)”シリーズなど)、日本油脂株式会社;(商品名“ブレンマー(登録商標)”シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD(登録商標)”シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど)などの製品を利用することができる。
本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体(例えば東レダウコーニング(株)製SH190)が好適である。
(太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さ)
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75〜250μmが好ましく、更に好ましくは90〜230μm、更に好ましくは100〜220μmである。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75〜250μmが好ましく、更に好ましくは90〜230μm、更に好ましくは100〜220μmである。
(太陽熱発電用反射装置)
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽熱発電用反射装置として用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽熱発電用反射装置として用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1〜50μm程度の範囲であることが好ましい。
〈金属基材〉
太陽熱発電用反射装置の金属基材(金属支持体)としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
太陽熱発電用反射装置の金属基材(金属支持体)としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
また、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは金属基材以外の他基材に張り合せることもでき、該他基材は、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが挙げられる。
貼り合わせるフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常12〜250μmの範囲であることが好ましい。
また、これらの他基材は本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1]
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂とTDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中に、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系のIRGANOX1010(BASFジャパン社製)および腐食防止剤としてベンズトリアゾール系のTINUVIN234(BASFジャパン社製)を樹脂固形分に対して3質量%となるように調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂層2を形成した。続いて樹脂層2の上に前処理として、ランタンアルミネート(La2xAl2yO3(x+y))からなる密着安定剤(M3 Patinal,メルク社製)を真空蒸着で50nm積層させ、密着安定剤の上に、銅層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銅層を形成し、更に銅層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成した。続いて、銀反射層上に、樹脂層2と同じ組成の組成物を樹脂層2の積層と同じ方法により積層させることで樹脂層1を形成した。続いて、接着層としてアクリル樹脂接着剤(昭和高分子社製)を厚さ10μmの厚さでコートし、接着層の上に紫外線吸収剤を含有する樹脂層として紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム(KORAD CLRAR05005、ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製) 50μmを積層させ、実施例1の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。続いて、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂接着剤(昭和高分子社製)を厚さ10μmの厚さでコートし、厚さ0.1mmで、たて4cm×よこ5cmのアルミ板(住友軽金属社製)上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置を作製した。
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂とTDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中に、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系のIRGANOX1010(BASFジャパン社製)および腐食防止剤としてベンズトリアゾール系のTINUVIN234(BASFジャパン社製)を樹脂固形分に対して3質量%となるように調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂層2を形成した。続いて樹脂層2の上に前処理として、ランタンアルミネート(La2xAl2yO3(x+y))からなる密着安定剤(M3 Patinal,メルク社製)を真空蒸着で50nm積層させ、密着安定剤の上に、銅層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銅層を形成し、更に銅層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成した。続いて、銀反射層上に、樹脂層2と同じ組成の組成物を樹脂層2の積層と同じ方法により積層させることで樹脂層1を形成した。続いて、接着層としてアクリル樹脂接着剤(昭和高分子社製)を厚さ10μmの厚さでコートし、接着層の上に紫外線吸収剤を含有する樹脂層として紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム(KORAD CLRAR05005、ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製) 50μmを積層させ、実施例1の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。続いて、基材樹脂に粘着層としてアクリル樹脂接着剤(昭和高分子社製)を厚さ10μmの厚さでコートし、厚さ0.1mmで、たて4cm×よこ5cmのアルミ板(住友軽金属社製)上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置を作製した。
[実施例2]
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazole(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazole(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例2のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazole(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazole(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例2のサンプルを得た。
[実施例3]
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetate(和光純薬工業社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetate(和光純薬工業社製)を用いることで実施例3のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetate(和光純薬工業社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetate(和光純薬工業社製)を用いることで実施例3のサンプルを得た。
[実施例4]
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例4のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例4のサンプルを得た。
[実施例5]
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例5のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(シグマアルドリッチ社製)を、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(シグマアルドリッチ社製)を用いることで実施例5のサンプルを得た。
[実施例6]
実施例1で、樹脂層1の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤のTINUVIN770DF(BASFジャパン社製)を、樹脂層2の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤のTINUVIN770DF(BASFジャパン社製)を用いることで実施例5のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤のTINUVIN770DF(BASFジャパン社製)を、樹脂層2の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤のTINUVIN770DF(BASFジャパン社製)を用いることで実施例5のサンプルを得た。
[実施例7]
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを用いることで実施例7のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを用いることで実施例7のサンプルを得た。
[実施例8]
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを用いることで実施例8のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを用いることで実施例8のサンプルを得た。
[実施例9]
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを用いることで実施例9のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを用いることで実施例9のサンプルを得た。
[実施例10]
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを用いることで実施例9のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを用いることで実施例9のサンプルを得た。
[実施例11]
実施例1で、樹脂層1の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤IRGAFOS12(BASFジャパン社製)を、樹脂層2の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤IRGAFOS12(BASFジャパン社製)を用いることで実施例11のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤IRGAFOS12(BASFジャパン社製)を、樹脂層2の酸化防止剤のIRGANOX1010の代わりに酸化防止剤IRGAFOS12(BASFジャパン社製)を用いることで実施例11のサンプルを得た。
[実施例12]
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを用いることで実施例12のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の2−methylimidazoleを用いることで実施例12のサンプルを得た。
[実施例13]
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを用いることで実施例13のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤のgrycol dimercaptoacetateを用いることで実施例13のサンプルを得た。
[実施例14]
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを用いることで実施例14のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidineを用いることで実施例14のサンプルを得た。
[実施例15]
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを用いることで実施例15のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを、樹脂層2の腐食防止剤のTINUVIN234の代わりに腐食防止剤の1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiolを用いることで実施例15のサンプルを得た。
[実施例16]
実施例1で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例16のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例16のサンプルを得た。
[実施例17]
実施例2で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例17のサンプルを得た。
実施例2で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例17のサンプルを得た。
[実施例18]
実施例3で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例18のサンプルを得た。
実施例3で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例18のサンプルを得た。
[実施例19]
実施例4で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例19のサンプルを得た。
実施例4で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例19のサンプルを得た。
[実施例20]
実施例5で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例20のサンプルを得た。
実施例5で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例20のサンプルを得た。
[実施例21]
実施例6で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例21のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例21のサンプルを得た。
[実施例22]
実施例7で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例22のサンプルを得た。
実施例7で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例22のサンプルを得た。
[実施例23]
実施例8で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例23のサンプルを得た。
実施例8で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例23のサンプルを得た。
[実施例24]
実施例9で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例24のサンプルを得た。
実施例9で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例24のサンプルを得た。
[実施例25]
実施例10で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例25のサンプルを得た。
実施例10で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例25のサンプルを得た。
[実施例26]
実施例11で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例16のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例16のサンプルを得た。
[実施例27]
実施例12で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例27のサンプルを得た。
実施例12で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例27のサンプルを得た。
[実施例28]
実施例13で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例28のサンプルを得た。
実施例13で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例28のサンプルを得た。
[実施例29]
実施例14で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例29のサンプルを得た。
実施例14で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例29のサンプルを得た。
[実施例30]
実施例15で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例30のサンプルを得た。
実施例15で、樹脂層2に酸化防止剤および腐食防止剤を添加しないことにより実施例30のサンプルを得た。
[実施例31]
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ0.005質量%添加することで実施例31のサンプルを得た。
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ0.005質量%添加することで実施例31のサンプルを得た。
[実施例32]
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ1.0質量%添加することで実施例32のサンプルを得た。
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ1.0質量%添加することで実施例32のサンプルを得た。
[実施例33]
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ5.0質量%添加することで実施例33のサンプルを得た。
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ5.0質量%添加することで実施例33のサンプルを得た。
[実施例34]
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ8.0質量%添加することで実施例34のサンプルを得た。
実施例1で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ8.0質量%添加することで実施例34のサンプルを得た。
[実施例35]
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ0.005質量%添加することで実施例35のサンプルを得た。
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ0.005質量%添加することで実施例35のサンプルを得た。
[実施例36]
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ1.0質量%添加することで実施例36のサンプルを得た。
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ1.0質量%添加することで実施例36のサンプルを得た。
[実施例37]
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ5.0質量%添加することで実施例37のサンプルを得た。
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ5.0質量%添加することで実施例37のサンプルを得た。
[実施例38]
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ8.0質量%添加することで実施例38のサンプルを得た。
実施例16で、酸化防止剤および腐食防止剤をそれぞれ8.0質量%添加することで実施例38のサンプルを得た。
[比較例1]
実施例1で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例1のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例1のサンプルを得た。
[比較例2]
実施例6で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例2のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例2のサンプルを得た。
[比較例3]
実施例11で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例3のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1と樹脂層2に腐食防止剤を添加しないことにより比較例3のサンプルを得た。
[比較例4]
実施例1で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例4のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例4のサンプルを得た。
[比較例5]
実施例2で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例5のサンプルを得た。
実施例2で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例5のサンプルを得た。
[比較例6]
実施例3で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例6のサンプルを得た。
実施例3で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例6のサンプルを得た。
[比較例7]
実施例4で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例7のサンプルを得た。
実施例4で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例7のサンプルを得た。
[比較例8]
実施例5で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例8のサンプルを得た。
実施例5で、樹脂層1と樹脂層2に酸化防止剤を添加しないことにより比較例8のサンプルを得た。
[比較例9]
実施例1で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例9のサンプルを得た。
実施例1で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例9のサンプルを得た。
[比較例10]
実施例2で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例10のサンプルを得た。
実施例2で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例10のサンプルを得た。
[比較例11]
実施例3で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例11のサンプルを得た。
実施例3で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例11のサンプルを得た。
[比較例12]
実施例4で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例12のサンプルを得た。
実施例4で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例12のサンプルを得た。
[比較例13]
実施例5で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例13のサンプルを得た。
実施例5で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例13のサンプルを得た。
[比較例14]
実施例6で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例14のサンプルを得た。
実施例6で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例14のサンプルを得た。
[比較例15]
実施例7で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例15のサンプルを得た。
実施例7で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例15のサンプルを得た。
[比較例16]
実施例8で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例16のサンプルを得た。
実施例8で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例16のサンプルを得た。
[比較例17]
実施例9で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例17のサンプルを得た。
実施例9で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例17のサンプルを得た。
[比較例18]
実施例10で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例18のサンプルを得た。
実施例10で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例18のサンプルを得た。
[比較例19]
実施例11で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例19のサンプルを得た。
実施例11で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例19のサンプルを得た。
[比較例20]
実施例12で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例20のサンプルを得た。
実施例12で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例20のサンプルを得た。
[比較例21]
実施例13で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例21のサンプルを得た。
実施例13で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例21のサンプルを得た。
[比較例22]
実施例14で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例22のサンプルを得た。
実施例14で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例22のサンプルを得た。
[比較例23]
実施例15で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例23のサンプルを得た。
実施例15で、樹脂層1に酸化防止剤と腐食防止剤を添加しないことにより比較例23のサンプルを得た。
表1、表2に示す上記サンプル作製に用いた酸化防止剤、腐食防止剤は以下のように番号をつけた。
酸化防止剤 AO−1:IRGANOX1010(ヒンダードフェノール系)
AO−2:TINUVIN770DF(ヒンダードアミン系)
AO−3:IRGAFOS12(リン系)
腐食防止剤 AR−1:TINUVIN234(ベンズトリアゾール系)
AR−2:2−methylimidazole(イミダゾール系)
AR−3:grycol dimercaptoacetate(イオウ系)
AR−4:7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(テトラザインデン系)
AR−5:1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(チアジアゾール系)
《評価》
上記作製した太陽光集光ミラーについて、下記の方法により劣化試験を行い、評価を行い、結果を表1、表2に示した。
AO−2:TINUVIN770DF(ヒンダードアミン系)
AO−3:IRGAFOS12(リン系)
腐食防止剤 AR−1:TINUVIN234(ベンズトリアゾール系)
AR−2:2−methylimidazole(イミダゾール系)
AR−3:grycol dimercaptoacetate(イオウ系)
AR−4:7−Hydroxy−5−methyl[1,2,4]triazolo[1,5−a]pyrimidine(テトラザインデン系)
AR−5:1,3,4−Thiadiazole−2,5−dithiol(チアジアゾール系)
《評価》
上記作製した太陽光集光ミラーについて、下記の方法により劣化試験を行い、評価を行い、結果を表1、表2に示した。
(劣化評価)
得られたサンプルを温度95℃、湿度95%RHの条件で90日間放置することで、強制劣化を試みた。
得られたサンプルを温度95℃、湿度95%RHの条件で90日間放置することで、強制劣化を試みた。
1.正反射率の耐候性評価
島津製作所社製の分光光度計「UV265」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、350nmから700nmまでの平均反射率として測定した。
島津製作所社製の分光光度計「UV265」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、350nmから700nmまでの平均反射率として測定した。
フィルムミラーの正反射率を測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、100mWメタルハライドランプ(岩崎電気製)72時間照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
劣化試験後に正反射率低下量1%未満・・◎
劣化試験後に正反射率低下量1%以上2%未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量2%以上・・×
2.正反射率の耐硫化性評価
フィルムミラーの100mWメタルハライドランプ 72時間照射処理をした後、10%硫化アンモニウム水溶液に2時間浸漬させた際の初期状態からの正反射率の低下率を算出した。以下に耐硫化性試験の評価基準を記す。
劣化試験後に正反射率低下量1%以上2%未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量2%以上・・×
2.正反射率の耐硫化性評価
フィルムミラーの100mWメタルハライドランプ 72時間照射処理をした後、10%硫化アンモニウム水溶液に2時間浸漬させた際の初期状態からの正反射率の低下率を算出した。以下に耐硫化性試験の評価基準を記す。
劣化試験後に正反射率低下量5%未満・・◎
劣化試験後に正反射率低下量5%以上7%未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量7%以上9%未満・・△
劣化試験後に正反射率低下量9%以上・・×
3.膜密着性の耐候性評価
密着性評価はJIS K5400の碁盤目セロハンテープはく離試験により評価した。即ち、強制劣化後のサンプル表面にカッターナイフで1mm間隔の碁盤目状に切り込みを入れ、セロハンテープ(ニチバン社製)を貼り付けた後はく離し、はく離部の割合を調べた。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
劣化試験後に正反射率低下量5%以上7%未満・・○
劣化試験後に正反射率低下量7%以上9%未満・・△
劣化試験後に正反射率低下量9%以上・・×
3.膜密着性の耐候性評価
密着性評価はJIS K5400の碁盤目セロハンテープはく離試験により評価した。即ち、強制劣化後のサンプル表面にカッターナイフで1mm間隔の碁盤目状に切り込みを入れ、セロハンテープ(ニチバン社製)を貼り付けた後はく離し、はく離部の割合を調べた。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
劣化試験後に膜はく離部の割合が3%未満・・○
劣化試験後に膜はく離部の割合が3%以上・・×
劣化試験後に膜はく離部の割合が3%以上・・×
上記評価により、本発明のサンプル1〜38は比較例に対し、正反射率、硫化処理後の正反射率、及び膜密着性の耐候性評価に優れていることが明らかである。
1 酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層(樹脂層1)
2 酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層(樹脂層2)
3 樹脂基材
4 銅層
5 銀反射層
6 紫外線吸収剤を含有する樹脂層
7 接着層
8 粘着層
9 金属基材
10 太陽熱発電用フィルムミラー
11 太陽熱発電用反射装置
L 入射光
2 酸化防止剤及び腐食防止剤を含有する樹脂からなる層(樹脂層2)
3 樹脂基材
4 銅層
5 銀反射層
6 紫外線吸収剤を含有する樹脂層
7 接着層
8 粘着層
9 金属基材
10 太陽熱発電用フィルムミラー
11 太陽熱発電用反射装置
L 入射光
Claims (6)
- 銀反射層と、該銀反射層の少なくとも入射光側の隣接層とを有する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、前記入射光側の隣接層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
- 前記入射光側の隣接層が、前記酸化防止剤及び前記腐食防止剤を含有する樹脂からなる層であることを特徴とする請求項1に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
- 前記銀反射層の入射光側から遠い側の隣接層として、銅層が設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
- 前記太陽熱発電用フィルムミラーが、少なくとも樹脂基材、該樹脂基材上に設けられた樹脂層、前記銅層、前記銀反射層、前記入射光側の隣接層、紫外線吸収剤を含有する樹脂層の順で積層されており、前記樹脂基材上に設けられた樹脂層が、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤及び、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、イオウ系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物から選ばれる少なくとも1種の腐食防止剤を含有することを特徴とする請求項3に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を蒸着により形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーを金属支持体上に貼り合せてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
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-
2010
- 2010-12-16 JP JP2010280248A patent/JP2011150316A/ja active Pending
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