WO2014155847A1 - フィルムミラー及び太陽光反射装置 - Google Patents

フィルムミラー及び太陽光反射装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2014155847A1
WO2014155847A1 PCT/JP2013/082849 JP2013082849W WO2014155847A1 WO 2014155847 A1 WO2014155847 A1 WO 2014155847A1 JP 2013082849 W JP2013082849 W JP 2013082849W WO 2014155847 A1 WO2014155847 A1 WO 2014155847A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin
layer
film mirror
metal
group
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/082849
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
英美 磯部
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Publication of WO2014155847A1 publication Critical patent/WO2014155847A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S2023/84—Reflective elements inside solar collector casings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror and a sunlight reflecting device using the film mirror.
  • the protective layer, the metal reflective layer, the resin base material having a thickness of 100 ⁇ m or more, and the ultraviolet blocking layer are provided in this order, and have self-supporting property, and A film mirror excellent in durability against reflected light, and a sunlight reflecting device using the film mirror are provided.
  • the film mirror has an advantage not found in a glass reflector that is lightweight and flexible, it does not have a self-supporting property, so that it is practically difficult to use the film mirror alone. Therefore, the film mirror is generally used by providing a support property by sticking it to the metal substrate on the back surface, and the film mirror described in JP2012-242714A is also an aluminum plate. Pasting to is done. However, the process of bonding the thin sheet-like film mirror and the metal substrate is complicated, and when fine wrinkles are generated in the bonding process, the reflection performance is lowered.
  • the thermal expansion coefficient of the resin substrate and the metal substrate that the film mirror has greatly differ since the thermal expansion coefficient of the resin substrate and the metal substrate that the film mirror has greatly differ, if the film mirror with the metal substrate attached is used in a harsh environment such as a desert for a long time, There is concern that peeling occurs at the interface with the metal substrate, the flatness of the metal reflection layer is impaired, and the reflectance is lowered. Furthermore, the film mirror to which the metal substrate is attached is inferior in lightness, and operations such as transportation and installation are complicated.
  • the resin reflection sheet itself supportability.
  • the resin may be deteriorated from the back surface side by the reflected light from the ground. Since the conventional resin reflecting sheet is premised on being attached to a metal substrate on the back surface thereof, no protective means against light from the back surface side is taken.
  • This invention is made
  • the subject of this invention shows the self-support property, and was excellent in the durability with respect to the reflected light, without using a metal support base material.
  • Another object of the present invention is to provide a sunlight reflecting device that uses the film mirror of the present invention and is lightweight and excellent in durability against reflected light.
  • the resin binder is at least one selected from the group consisting of a polycarbonate resin, a polyester resin, a norbornene resin, an acrylic resin, a fluorine resin, an olefin resin, and a polyurethane resin.
  • ⁇ 4> The film mirror according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the metal of the metal reflective layer is silver or an alloy containing silver.
  • ⁇ 5> The film mirror according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, further including a resin intermediate layer between the metal reflective layer and the resin base material.
  • the ultraviolet blocking layer is at least one selected from the group consisting of a layer containing an organic ultraviolet absorber and a resin binder, a layer containing a pigment and a resin binder, a metal layer, and a metal oxide layer.
  • ⁇ 8> The film mirror according to ⁇ 7>, wherein the ultraviolet blocking layer is a layer containing a white pigment and a resin binder.
  • the resin base material has a multilayer structure.
  • the thickness of the resin substrate located closest to the light incident side among the plurality of resin substrates constituting the multilayer structure is 100 ⁇ m or more.
  • ⁇ 12> The film mirror according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, wherein the light transmittance of the ultraviolet blocking layer in a wavelength region of 200 nm to 380 nm is 5% or less.
  • ⁇ 13> The film mirror according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, which is used for collecting sunlight.
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • “(meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate
  • “(meth) acryl” represents both and / or acryl and methacryl.
  • the term “process” is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term is used as long as the intended purpose of the process is achieved. include.
  • the “light incident side” means a side on which sunlight reflected by the metal reflection layer is incident.
  • the “back surface” of a film mirror means the surface on the opposite side to the side which the sunlight reflected by a metal reflection layer injects.
  • the film mirror which shows self-support property and was excellent in durability with respect to the reflected light can be provided, without using metal support base materials.
  • the film mirror of the present invention it is possible to provide a sunlight reflecting device that is lightweight and excellent in durability against reflected light.
  • the film mirror of this invention has a protective layer, a metal reflective layer, a resin base material with a thickness of 100 ⁇ m or more, and an ultraviolet blocking layer in this order from the light incident side.
  • self-supporting properties are exhibited and durability against reflected light is excellent without using a metal support substrate.
  • self-supporting property means that the film mirror can maintain its form even if it is not supported by other members.
  • the film mirror of the present invention has a self-supporting property by having a resin substrate having a thickness of 100 ⁇ m or more, and it is possible to use a single film mirror without being attached to a metal support substrate as in the past. Can be used.
  • the thickness of the resin base material is set to 100 ⁇ m or more, and an ultraviolet blocking layer is provided on the side opposite to the metal reflective layer side of the resin base material.
  • a film mirror that exhibits self-supporting properties and excellent durability against reflected light without using a supporting substrate is realized.
  • the resin substrate and the metal support substrate that the film mirror has There is no risk of interfacial peeling due to the difference in thermal expansion coefficient.
  • the film mirror of the present invention has a resin substrate having a thickness of 100 ⁇ m or more. According to the film mirror of the present invention, since the thickness of the resin base material is 100 ⁇ m or more, it shows self-supporting property, and when used, it is affixed to a metal support base material such as aluminum like a conventional film mirror. There is no need to attach it, and the film mirror can be used alone. Moreover, according to the film mirror of this invention, the process affixed on metal support base materials, such as aluminum, becomes unnecessary, and the reduction of manufacturing cost is realizable. Furthermore, since it is not necessary to affix a metal support substrate, it is lightweight, and workability such as transportation and installation is improved.
  • the lower limit of the thickness of the resin substrate is preferably 150 ⁇ m or more, more preferably 180 ⁇ m or more, and further preferably 200 ⁇ m or more, from the viewpoint of further improving self-supporting properties.
  • the upper limit of the thickness of the resin base material is not particularly limited, and may be defined from the viewpoints of flexibility, weight reduction, and handling during production, but is manufactured by roll-to-roll. In view of the above, 1000 ⁇ m or less is preferable, 600 ⁇ m or less is more preferable, and 500 ⁇ m or less is still more preferable.
  • the resin constituting the resin base material is not particularly limited, but from the viewpoint of flexibility and weight reduction, for example, phenol resin, epoxy resin, polyimide resin, bismaleimide triazine (BT) resin, polyphenylene ether (PPE) ) Resin, tetrafluoroethylene resin, polyester resin (eg, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), etc.), polyamide resin (including aramid resin), polyethersulfone, triacetylcellulose, polyvinyl chloride, poly Vinylidene chloride, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polybutadiene, polyacetylene and the like are suitable.
  • phenol resin epoxy resin
  • polyimide resin bismaleimide triazine (BT) resin
  • PPE polyphenylene ether
  • Resin tetrafluoroethylene resin
  • polyester resin eg, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN),
  • polyester resins and polyimide resins are particularly suitable.
  • these resins may be used alone, or a plurality of resins may be used in combination.
  • a resin film obtained by molding glass epoxy, liquid crystal polymer, or the like into a film shape can also be used.
  • the resin substrate in the present invention may have either a single layer structure or a multilayer structure composed of a plurality of layers.
  • the plurality of resin substrates constituting the multilayer structure may be composed of the same resin or may be composed of different resins.
  • the bonding method of the plurality of substrates constituting the multilayer structure is not particularly limited, for example, a method of heat-sealing by heating, pressurizing, or the like, and bonding through an adhesive Examples thereof include a method and a method of forming another substrate on the surface of the substrate by a coating method or the like. Among these, the method of bonding through an adhesive is preferable from the viewpoint of easy adhesion.
  • the unevenness of the surface of the adhesive layer interposed between the resin base materials affects the surface of the resin base material, thereby forming on the resin base material.
  • the specularity of the metal reflective layer is impaired and the reflectance is lowered.
  • the thickness of the resin substrate that is located closest to the light incident side among the plurality of resin substrates constituting the multilayer structure, that is, closest to the metal reflective layer is 100 ⁇ m. The above is preferable.
  • the layer thickness of the adhesive for laminating a plurality of resin base materials is as thin as possible within the range in which the adhesiveness can be secured from the viewpoint of improving the smoothness of the metal reflective layer.
  • the thickness is preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the resin base material may be subjected to a surface treatment in order to facilitate the formation of a layer provided on one or both surfaces thereof.
  • a surface treatment include treatment for decomposing and activating the surface of the resin base material by UV irradiation, ozone treatment, plasma treatment, corona treatment, flame treatment, and the like.
  • other surface treatments include treatment with an alkaline solution such as hydrazine, sodium hydroxide solution, and potassium hydroxide solution, treatment with an acidic solution such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid.
  • the resin base material may be subjected to a cleaning treatment with water or an organic solvent such as methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, N-methylpyrrolidone, or acetone in order to remove dirt on the surface.
  • an organic solvent such as methanol, ethanol, toluene, ethyl acetate, N-methylpyrrolidone, or acetone
  • the resin base material in the present invention has a surface roughness (Ra) of preferably 50 nm or less, more preferably 20 nm or less, and more preferably 5 nm or less from the viewpoint of improving the reflection performance of the film mirror. More preferably it is.
  • the surface roughness (Ra) here is an arithmetic average roughness obtained in accordance with JIS B0601 (1994).
  • the resin substrate may contain a plasticizer from the viewpoint of maintaining flexibility, and may contain an antioxidant, a radical scavenger, and the like from the viewpoint of preventing deterioration of the film itself.
  • the film mirror of the present invention has an ultraviolet blocking layer on the side opposite to the metal reflective layer side of the resin substrate.
  • the film mirror of the present invention has a resin substrate having a thickness of 100 ⁇ m or more and exhibits self-supporting properties. Therefore, like a conventional film mirror, the film mirror is made of a metal such as aluminum. There is no need to affix to the support substrate, and the film mirror can be used alone. However, when the film mirror is used alone outdoors, the light reflected from the ground hits the back surface of the film mirror, and the resin constituting the resin base material deteriorates.
  • the deterioration of the resin constituting the resin base material also leads to the deterioration of the metal reflection layer, leading to a decrease in the performance of the film mirror.
  • an ultraviolet blocking layer is provided on the side of the resin substrate opposite to the metal reflective layer side, thereby suppressing deterioration of the resin substrate due to reflected light.
  • the “ultraviolet blocking layer” refers to a layer having a light transmittance of 20% or less in a wavelength region of 200 nm to 380 nm.
  • the ultraviolet blocking layer include a layer containing an ultraviolet blocking agent capable of blocking ultraviolet rays in a resin, a metal layer capable of blocking ultraviolet rays formed by vapor deposition, and a metal oxide layer.
  • the ultraviolet blocking agent either an organic ultraviolet absorbing agent or an inorganic ultraviolet blocking agent can be used. In the present specification, these are collectively referred to as “ultraviolet ray blocking agents”.
  • the organic ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include ultraviolet absorbers such as benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, hindered amine, triazine, and benzoate.
  • benzophenone ultraviolet absorbers examples include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ', 4,4' -Tetrahydroxy-benzophenone and the like.
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole.
  • 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1, 1,3,3-tetramethylbutyl) phenol] (molecular weight 659; examples of commercially available products are “LA31” manufactured by ADEKA), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol (molecular weight 447.6; examples of commercially available products include “Tinuvin 234” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like.
  • phenyl salicylate ultraviolet absorber examples include phenylsalicylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like.
  • hindered amine ultraviolet absorber examples include bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate.
  • triazine ultraviolet absorbers examples include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy- 4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy- 4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- ( 2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5- Liazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxy
  • benzoate UV absorber examples include 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate (molecular weight 438.7; examples of commercially available products include Sumitomo Chemical Co., Ltd.). “Sumisorb 400”) manufactured by the company. An ultraviolet absorber can be used 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the inorganic ultraviolet shielding agent examples include one or more metals selected from white pigments such as titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide, carbon black, black iron oxide, and copper / chromium / cobalt / iron. Examples thereof include black pigments such as complex oxides.
  • These inorganic UV screening agents may be those whose surfaces are coated with aluminum (Al) compounds, silicon (Si) compounds, organic dispersants, etc. in order to suppress the catalytic function or stabilize as fine particles. Good.
  • These inorganic ultraviolet shielding agents may be used in combination with extender pigments such as barium sulfate, aluminum hydroxide, aluminum oxide, calcium hydroxide, calcium oxide, calcium carbonate, and mica.
  • the ultraviolet blocking agent is preferably an inorganic ultraviolet blocking agent rather than an organic ultraviolet absorbing agent, and among the ultraviolet blocking agents, it is difficult to absorb heat and is a resin due to heat.
  • a white pigment such as titanium oxide is more preferable than a black pigment such as carbon black.
  • the resin as the binder containing the ultraviolet blocking agent is preferably one that can form a film or a layer excellent in strength, durability against heat and light, adhesion to an adjacent layer, and the like.
  • the resin include cellulose ester resins, polycarbonate resins, polyarylate resins, polysulfone (including polyethersulfone) resins, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, alkyd resins, polyethylene, and polypropylene.
  • acrylic resins are preferable from the viewpoints of weather resistance, handleability, and cost.
  • the UV blocking layer in addition to the UV blocking agent and the resin, for example, a crosslinking agent capable of crosslinking the resin, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid (leveling agent), an antioxidant, and an antifoaming agent.
  • a crosslinking agent capable of crosslinking the resin for example, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid (leveling agent), an antioxidant, and an antifoaming agent.
  • a crosslinking agent capable of crosslinking the resin
  • a surfactant for example, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid (leveling agent), an antioxidant, and an antifoaming agent.
  • Examples of the metal forming the metal layer as the ultraviolet blocking layer include metals such as aluminum, stainless steel, iron, copper, nickel, silver, gold, chromium, and indium. Among these, excellent ultraviolet blocking ability Aluminum is preferable in that it has excellent processing characteristics and is lightweight.
  • Examples of the metal oxide forming the metal oxide layer as the ultraviolet blocking layer include metal oxides such as titanium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, lead oxide, tin oxide, and indium oxide. Among these, Zinc oxide is preferable because of its high ultraviolet shielding property and easy thin film formation.
  • the content of the UV blocking agent in the UV blocking layer is such that the light transmittance of the UV blocking layer in the wavelength region of 200 nm to 380 nm is 20% or less. It may be adjusted so that Further, when the ultraviolet blocking layer is a layer made of a metal film or a metal oxide film, the thickness of the ultraviolet blocking layer is set so that the light transmittance of the ultraviolet blocking layer in the wavelength region of 200 nm to 380 nm is 20% or less. Can be adjusted.
  • the UV blocking layer preferably has a light transmittance of 15% or less in the wavelength region of 200 nm to 380 nm, more preferably 5% or less, from the viewpoint of sufficiently suppressing deterioration of the resin substrate due to reflected light. preferable.
  • the ultraviolet blocking layer only needs to be provided on the side opposite to the metal reflecting layer side of the resin base material, and does not need to be the outermost layer when viewed from the light incident side. That is, as long as the effect of the present invention is not impaired, another layer may be provided on the surface of the ultraviolet blocking layer opposite to the light incident side.
  • Method of forming ultraviolet blocking layer For example, the following method is mentioned as a method of forming the ultraviolet blocking layer on the surface of the resin substrate. However, the present invention is not limited to these methods.
  • the ultraviolet blocking agent, the resin, and various additives used in combination are dissolved or dispersed in a solvent to prepare an ultraviolet blocking layer coating solution, and this ultraviolet blocking layer coating solution is prepared by a conventionally known coating method.
  • a method in which a metal capable of blocking ultraviolet rays is vapor-deposited on the surface of a resin substrate to form an ultraviolet blocking layer which is a metal vapor-deposited film.
  • (3) A method in which a metal metal foil or a metal vapor-deposited film capable of blocking the ultraviolet rays is bonded to the surface of the resin substrate by heat or an adhesive.
  • the thickness of the ultraviolet blocking layer is not particularly limited as long as a necessary ultraviolet blocking function is exhibited, but it is generally preferable that the thickness is in the range of 0.005 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the film mirror of the present invention has a metal reflective layer on a resin base material, but may have a resin intermediate layer between them for the purpose of improving the adhesion between the resin base material and the metal reflective layer. Good.
  • the resin intermediate layer include an easy-adhesion layer for facilitating adhesion of a metal, and a plating undercoat polymer layer that is useful when a metal reflective layer is formed by a plating method. It may be composed of two or more layers.
  • an easy-adhesion layer may be provided in order to improve the adhesion between the resin substrate and the metal reflective layer.
  • the easy-adhesion layer improves the adhesion between the resin base material and the undercoat polymer layer, resulting in adhesion between the resin base material and the metal reflective layer. More improved.
  • the easy-adhesion layer preferably contains the same resin as that constituting the resin substrate, or a resin having affinity with the resin that constitutes the resin substrate, from the viewpoint of adhesion with the adjacent resin substrate.
  • the resin having affinity with the resin constituting the resin substrate include resins having similar thermal properties such as glass transition point, elastic modulus, and linear expansion coefficient.
  • thermosetting resin examples include epoxy resins, phenol resins, polyimide resins, unsaturated polyester resins, bismaleimide resins, isocyanate resins, and the like.
  • thermoplastic resin examples include acrylic resin, polyester resin, urethane resin, polyolefin resin, ethylene acrylic acid copolymer resin, ethylene acrylic acid ester copolymer resin, phenoxy resin, polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfone, polyphenylene sulfide, Examples thereof include polyphenyl ether and polyether imide.
  • thermoplastic resin and the thermosetting resin may be used alone or in combination.
  • the combined use of two or more kinds of resins is performed for the purpose of exhibiting a more excellent effect by compensating for each defect.
  • a crosslinking agent When using a thermoplastic resin, it is preferable to use a crosslinking agent as needed.
  • a crosslinking agent having a plurality of reactive groups that react with a functional group such as a carboxylic acid group, a hydroxyl group, an amino group, and a mercaptan group, which the thermoplastic resin has, is preferable.
  • Preferred types of reactive groups include carbodiimide groups, oxazoline groups, isocyanate groups, epoxy groups, melamines and the like.
  • Examples of the compound having a plurality of these reactive groups include cross-linking agents such as carnodilite (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.), Epocross (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Denacol (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), becamine (manufactured by DIC North Nippon Polymer Co., Ltd.) Is commercially available.
  • the addition amount of the crosslinking agent is preferably adjusted so that the functional group of the thermoplastic resin and the reactive group of the crosslinking agent are equivalent, but in order to obtain appropriate film properties, the addition amount of the crosslinking agent is You may increase / decrease suitably.
  • the easy-adhesion layer may be provided with various additives such as a surfactant, an antistatic agent, and waxes as a coating material, a mat material made of organic or inorganic fine particles. You may add 1 type (s) or 2 or more types.
  • any additive is added, it is preferably added in the range of more than 0% by mass to 50% by mass or less, and more than 0% by mass to 20% by mass with respect to the resin as the main component. It is more preferable to add in the range of% or less.
  • the additive is used in a range exceeding 50% by mass with respect to the resin, there is a concern that properties such as strength inherent in the resin itself are deteriorated.
  • the easy-adhesion layer is obtained by applying a coating solution in which each of the above-described components is dispersed or dissolved in water, or a coating solution in which each component is dissolved in an organic solvent that can be dissolved, to the resin base material by a method such as coating. It can be formed by hardening by heating and / or light irradiation.
  • the heating temperature and time may be selected so that the coating solvent can be sufficiently dried, but from the viewpoint of production suitability, the drying temperature is 190 ° C. or lower and the drying time is within 10 minutes. More preferably, the drying temperature is 40 ° C. to 180 ° C. and the drying time is within 5 minutes.
  • the solvent used in preparing the coating solution is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the above-described components. From the viewpoint of ease of drying and workability, a solvent having a boiling point that is not too high is preferable. Specifically, a solvent having a boiling point of about 40 ° C. to 150 ° C. may be selected. Specifically, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, water and the like described in JP-A 2007-154306, paragraph [0045] can be used.
  • water is particularly preferable from the viewpoint of suppressing VOC (Volatile Organic Compounds, volatile organic compounds).
  • VOC Volatile Organic Compounds, volatile organic compounds.
  • the above exemplified solvents can be used alone or in combination.
  • the concentration of the solid content in the coating solution is suitably 1% by mass to 50% by mass.
  • the thickness of the easy-adhesion layer in the present invention is generally 0.05 ⁇ m to 5 ⁇ m, and preferably 0.1 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the plating undercoat polymer layer in the present invention includes at least reduced metal particles and a plating undercoat polymer described later.
  • the composition containing a metal precursor is contacted with the layer by a method such as immersion. It is also preferable to form a polymer undercoat polymer layer containing reduced metal particles by forming a polymer layer containing a metal precursor and then reducing the metal precursor contained in the undercoat polymer layer.
  • the plating undercoat polymer used for forming the plating undercoat polymer layer will be described.
  • the plating undercoat polymer used to form the plating undercoat polymer layer has at least a functional group that interacts with the metal precursor (hereinafter, referred to as “interactive group” as appropriate), and has water resistance and chemical resistance. From the viewpoint, it is preferable to have a polymerizable group as necessary.
  • an acrylic polymer, polyether, polyacrylamide, polyamide, polyimide, methacrylic polymer, polyester, polyurethane, ethylene acrylic acid copolymer, and the like are preferable, and an acrylic polymer is more preferable.
  • the plating undercoat polymer preferably has the polymerizable group and the interactive group in the molecule, and when the polymerizable group has the polymerizable group, the polymerizable group is added to at least the main chain terminal and the side chain of the polymer. It only has to have in either.
  • the plating undercoat polymer include a polymer composed of the structural unit having the polymerizable group and the structural unit having the interactive group, and the like. It may be a polymer comprising a functional group.
  • the plating undercoat polymer may contain 2 or more types of polymeric groups, and may contain 2 or more types of interactive groups.
  • a polymeric group may be introduce
  • the plating undercoat polymer may contain structural units other than the structural unit containing a polymeric group and the structural unit containing an interactive group according to the objective.
  • a structural unit other than the structural unit containing a polymerizable group and a structural unit containing an interactive group when it is used as a plating undercoat composition, it becomes excellent in solubility in water or an organic solvent, and is uniform.
  • Various layers can be formed.
  • a preferable embodiment of the plating undercoat polymer includes an acrylic polymer having an acidic group and a polymerizable group as an interactive group in the side chain.
  • an acrylic polymer having an acidic group and a polymerizable group as an interactive group in the side chain includes an acrylic polymer having an acidic group and a polymerizable group as an interactive group in the side chain.
  • a polymerizable group, an interactive group and the like contained in the plating undercoat polymer will be described in detail.
  • the polymerizable group of the plating undercoat polymer is a functional group capable of forming a chemical bond between polymers or between the polymer and the base layer (undercoat layer provided on the resin substrate or the support substrate) by applying energy. Any group may be used.
  • the polymerizable group include a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group. Among these, a radical polymerizable group is preferable from the viewpoint of reactivity.
  • radical polymerizable group examples include methacryloyl group, acryloyl group, itaconic acid ester group, crotonic acid ester group, isocrotonic acid ester group, maleic acid ester group, styryl group, vinyl group, acrylamide group and methacrylamide group. It is done. Among these, methacryloyl group, acryloyl group, vinyl group, styryl group, acrylamide group, and methacrylamide group are preferable, and methacryloyl group, acryloyl group, acrylamide group, and methacrylamide are preferable from the viewpoint of radical polymerization reactivity and synthetic versatility.
  • a group is more preferable, and from the viewpoint of alkali resistance, an acrylamide group and a methacrylamide group are more preferable.
  • the polymerizable group introduced into the acrylic polymer include various polymerizations such as (meth) acrylic groups such as (meth) acrylate groups and (meth) acrylamide groups, vinyl ester groups of carboxylic acids, vinyl ether groups, and allyl ether groups. Sexual groups are preferred.
  • the interacting group of the plating undercoat polymer is a functional group that interacts with the metal precursor (for example, a coordination group, a metal ion adsorbing group, etc.), and can form an electrostatic interaction with the metal precursor.
  • a functional group, a nitrogen-containing functional group that can form a coordination with a metal precursor, a sulfur-containing functional group, an oxygen-containing functional group, or the like can be used.
  • Specific examples of the interactive group include amino group, amide group, imide group, urea group, triazole ring, imidazole group, pyridine group, pyrimidine group, pyrazine group, triazine group, piperidine group, piperazine group, pyrrolidine group and pyrazole.
  • nitrogen-containing functional groups such
  • the interactive group may be a non-dissociable functional group or an ionic polar group.
  • the plating undercoat polymer may have these at the same time, but preferably has an ionic polar group as an interactive group and does not have a non-dissociable functional group.
  • a carboxylic acid group or a sulfonic acid is used from the viewpoint of adhesion to the resin base material of the plating undercoat polymer (in the case where the above easy-adhesion layer is formed on the resin base material).
  • Groups, phosphoric acid groups, and boronic acid groups are particularly preferred from the standpoint of excellent affinity for and the availability of raw materials.
  • An ionic polar group such as a carboxylic acid group can be introduced into the plating undercoat polymer by copolymerizing a radical polymerizable compound having an acidic group.
  • the polymers described in paragraphs [0106] to [0112] of JP-A-2009-007540 are preferably used. Can do.
  • the polymer having a radical polymerizable group and an interactive group composed of an ionic polar group the polymers described in paragraphs [0065] to [0070] of JP-A-2006-135271 are preferably used. be able to.
  • a polymer having a radical polymerizable group an interactive group composed of a non-dissociative functional group, and an interactive group composed of an ionic polar group
  • paragraph [0010] of JP 2010-248464 A is disclosed. Polymers described in paragraphs [0030] to [0108] of [0128], JP 2010-84196 A, and US Patent Application Publication No. 2010-080964 can be preferably used.
  • the plating undercoat polymer layer preferably contains a radical polymerization initiator such as a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator in order to increase sensitivity to energy application.
  • the radical polymerization initiator is not particularly limited, and generally known ones are used. However, when energy is applied, the plating undercoat polymer can generate active sites that interact with the resin substrate and the easy-adhesion layer, that is, as the plating undercoat polymer, a polymer having a polymerization initiation site in the polymer skeleton is used. In such a case, it is not necessary to add these radical polymerization initiators.
  • the amount of the radical polymerization initiator contained in the composition for forming the plating undercoat polymer layer is the amount of the composition for forming the plating undercoat polymer layer. Although it is selected depending on the configuration, it is generally preferably about 0.05% by mass to 30% by mass, and preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass in the composition for forming a plating undercoat polymer layer. More preferably, it is about mass%.
  • the plating undercoat polymer layer is formed, for example, by applying a composition for forming a plating undercoat polymer layer on the surface of the resin base material or the easy-adhesion layer provided on the resin base material and applying energy. Can be formed.
  • an easy adhesion treatment for example, corona treatment, plasma treatment, etc.
  • the method of providing a polymer layer containing a plating undercoat polymer on the resin substrate is not particularly limited.
  • a method of immersing a resin substrate in a composition for forming a plating undercoat polymer layer, or a plating undercoat polymer The method of apply
  • a method of applying a plating undercoat polymer layer forming composition on a resin substrate is preferred.
  • the coating amount of the plating undercoat polymer layer forming composition is preferably from the viewpoint of a sufficient interaction with the later-described metal precursor is 0.05g / m 2 ⁇ 10g / m 2 on a solid basis 0.3 g / m 2 to 5 g / m 2 is particularly preferable.
  • the composition for forming a plating undercoat polymer layer applied to a resin substrate or the like is preferably dried at 20 ° C. to 60 ° C. for 1 second to 2 hours, and then dried at a temperature exceeding 60 ° C. for 1 second to 2 hours. More preferably, after drying at 20 ° C. to 60 ° C. for 1 second to 20 minutes, drying at a temperature exceeding 60 ° C. for 1 second to 20 minutes.
  • the polymer When energy is applied after applying the composition for forming a plating undercoat polymer layer on the surface of the resin substrate or the easy adhesion layer provided on the resin substrate, the polymer has in the energy application region. An interaction is formed between the polymerizable groups or the polymerizable group of the polymer and the resin base material or the easy-adhesion layer provided on the resin base material. Alternatively, a plated undercoat polymer layer immobilized on the resin substrate via an easy-adhesion layer is formed. In this way, the resin substrate and the plating undercoat polymer layer are firmly adhered.
  • the energy application method examples include heating and exposure.
  • As an energy application method by exposure specifically, light irradiation by a UV lamp, visible light, or the like is possible.
  • Examples of the light source used for exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and a chemical lamp.
  • Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays.
  • g-line, i-line, deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are used.
  • Exposure power in order to readily proceed polymerization, for suppressing the degradation of the polymer, and preferably the polymer is in the range from the viewpoint to the formation of 10mJ / cm 2 ⁇ 8000mJ / cm 2 good interaction , and more preferably in the range of 100mJ / cm 2 ⁇ 3000mJ / cm 2.
  • exposure may be performed in an atmosphere in which substitution with an inert gas such as nitrogen, helium, or carbon dioxide is performed, and the oxygen concentration is suppressed to 600 ppm or less, preferably 400 ppm or less.
  • Energy application by heating can be performed by, for example, a general heat heat roller, laminator, hot stamp, electric heating plate, thermal head, laser, blower dryer, oven, hot plate, infrared dryer, heating drum, or the like.
  • the temperature is preferably 20 ° C. to 200 ° C., in order to facilitate the polymerization and to suppress thermal denaturation of the resin base material, and preferably 40 ° C. to 120 ° C. More preferably, it is ° C.
  • a step of removing unreacted polymer may be provided as appropriate.
  • a method for removing unreacted polymer for example, a solvent for dissolving the polymer, or in the case of an alkali-soluble polymer, an alkaline developer (sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, ammonia water, sodium hydroxide aqueous solution) or the like is plated. The method of making it contact the resin base material in which the undercoat polymer layer was formed is mentioned.
  • the thickness of the plating undercoat polymer layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 ⁇ m to 10 ⁇ m, and preferably 0.3 ⁇ m to 5 ⁇ m from the viewpoint of adhesion to the resin base material. More preferred.
  • the surface roughness (Ra) of the plating undercoat polymer layer is preferably 20 nm or less, and more preferably 10 nm or less, from the viewpoint of reflection performance.
  • the surface roughness (Ra) here is an arithmetic average roughness obtained in accordance with JIS B0601 (1994).
  • the plating undercoat polymer layer in the present invention contains reduced metal particles.
  • Reduced metal particles contained in the plating undercoat polymer layer are obtained by applying a metal precursor to the plating undercoat polymer layer and reducing the metal precursor to form reduced metal particles. It is done. When the metal precursor is applied to the plating undercoat polymer layer, the metal precursor adheres to the interactive group by interaction.
  • the metal precursor used in the present invention is not particularly limited as long as it functions as an electrode by changing to a metal by a reduction reaction, but preferably functions as an electrode for plating in the formation of a metal reflective layer. It is done. Specifically, metal ions such as Au, Pt, Pd, Ag, Cu, Ni, Al, Fe, and Co are used. These metal ions become zero-valent metal particles by a reduction reaction.
  • the metal ion which is a metal precursor is contained in the composition for forming a plating undercoat polymer layer as a metal salt.
  • the metal salt to be used is not particularly limited as long as it is dissolved in an appropriate solvent and dissociated into a metal ion and a base (anion).
  • a metal ion the thing which said metal salt dissociated can be used suitably.
  • Ag ion, Cu ion, Al ion, Ni ion, Co ion, Fe ion, Pd ion and the like can be mentioned.
  • those capable of multidentate coordination are preferable, in particular, the types of functional groups capable of coordination, In terms of number and catalytic ability, Ag ions, Cu ions, and Pd ions are preferred.
  • the Ag ions those obtained by dissociating silver compounds as shown below can be suitably used.
  • the silver compound include silver nitrate, silver acetate, silver sulfate, silver carbonate, silver cyanide, silver thiocyanate, silver chloride, silver bromide, silver chromate, silver chloranilate, silver salicylate, silver diethyldithiocarbamate, Examples include silver diethyldithiocarbamate and silver p-toluenesulfonate.
  • silver nitrate is preferable from the viewpoint of water solubility.
  • the Cu ions those obtained by dissociating copper compounds as shown below can be suitably used.
  • copper compounds include copper nitrate, copper acetate, copper sulfate, copper cyanide, copper thiocyanate, copper chloride, copper bromide, copper chromate, copper chloranilate, copper salicylate, copper diethyldithiocarbamate, diethyldithio Examples include copper carbamate and copper p-toluenesulfonate. Among these, copper sulfate is preferable from the viewpoint of water solubility.
  • the metal precursor is preferably applied to the formed plating undercoat polymer layer as a dispersion or solution (metal precursor liquid).
  • a method of providing for example, after forming a plating undercoat polymer layer on a resin substrate using a composition for forming a plating undercoat polymer layer, a composition containing a metal precursor on the surface of the plating undercoat polymer layer ( And a method of applying a dispersion or solution).
  • the method of immersing the resin base material in which the plating undercoat polymer layer was formed in the composition (dispersion liquid or solution) containing a metal precursor is mentioned.
  • the metal precursor is brought into contact with the plating undercoat polymer layer by a dispersion or solution containing the metal precursor, and interaction by intermolecular force such as van der Waals force, or interaction by coordination bond by lone pair of electrons. Can be adsorbed on the interaction group in the plating undercoat polymer.
  • the concentration of the metal precursor in the dispersion or solution containing the metal precursor is preferably 0.001% by mass to 50% by mass, and 0.005%. More preferably, the content is from 30% by mass to 30% by mass.
  • Water or an organic solvent is used as a solvent for the metal precursor dispersion and solution. By containing water or an organic solvent, the permeability of the metal precursor to the polymer layer is improved, and the metal precursor can be efficiently adsorbed to the interactive group.
  • the particle diameter of the metal precursor is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 1 nm to 100 nm, and more preferably 1 nm to 60 nm. More preferably it is.
  • the particle diameter of the reduced metal particles can be controlled to a desired size.
  • the particle diameter is an average primary particle diameter (volume conversion), and is read from an image of SEM (S-5200, manufactured by Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Co.).
  • the metal precursor may be previously contained in the composition for plating undercoat polymer layer.
  • the content of the metal precursor in the composition for plating undercoat polymer layer is 0 with respect to the total amount of the composition. It is preferably 5% by mass to 100% by mass, and more preferably 1% by mass to 50% by mass.
  • Metal ions which are metal precursors applied to the plating undercoat polymer layer, are reduced by a metal activation liquid (reducing liquid).
  • the metal activation liquid includes a reducing agent that can reduce a metal precursor (mainly metal ions) to a zero-valent metal, and a pH adjuster for activating the reducing agent.
  • concentration of the reducing agent with respect to the entire metal activation liquid is preferably 0.05% by mass to 50% by mass, and more preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
  • boron-based reducing agents such as sodium borohydride and dimethylamine borane
  • reducing agents such as formaldehyde and hypophosphorous acid
  • reduction with an aqueous alkaline solution containing formaldehyde is preferred.
  • the concentration of the pH adjusting agent with respect to the entire metal activation liquid is preferably 0.05% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.1-5% by mass.
  • As the pH adjuster acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sodium hydrogen carbonate, aqueous ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like can be used.
  • the temperature during the reduction is preferably 10 ° C. to 100 ° C., more preferably 20 ° C. to 70 ° C. These concentrations and temperatures are within the above ranges in view of the particle diameter of the metal precursor, the surface roughness (Ra) of the polymer layer, the conductivity (surface resistance value), and the deterioration of the reducing solution during reduction. It is preferable.
  • the particle diameter of the reduced metal particles contained in the plating undercoat polymer layer is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 1 nm to 100 nm, and further preferably 1 nm to 60 nm. preferable. By being in this range, the reflectance after plating becomes good.
  • the particle diameter here is read from an SEM (S-5200, manufactured by Hitachi High-Tech Manufacturing & Service) image.
  • the surface resistance value of the plating undercoat polymer layer containing the reduced metal particles is preferably 0.001 ⁇ / ⁇ or more and 100 ⁇ / ⁇ or less, and more preferably 0.03 ⁇ / ⁇ or more and 50 ⁇ / ⁇ or less. Within this range, the plated surface is formed uniformly and smoothly, and the reflectance is good.
  • the surface roughness (Ra) of the plating undercoat polymer layer containing the reduced metal particles is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, from the viewpoint of reflection performance.
  • the surface roughness (Ra) here is an arithmetic average roughness obtained in accordance with JIS B0601 (1994).
  • the plating undercoat polymer layer containing the metal particles thus obtained is suitably used when a metal reflective layer described in detail below is formed by a plating method that is a wet method, and plating is performed using the plating undercoat polymer layer.
  • the metal reflective layer formed by the method is excellent in adhesion to the resin substrate and surface smoothness.
  • the metal reflective layer in the present invention is provided directly on the resin base material or via the above-described resin intermediate layer provided as desired.
  • a metal reflective layer is a reflective layer comprised with the metal film containing a metal.
  • the metal that forms the metal reflection layer is not particularly limited as long as it reflects light, but a metal that reflects both visible light and infrared light is preferable. Examples of the metal that reflects both visible light and infrared light include silver and aluminum.
  • the metal forming the metal reflection layer in the present invention is preferably silver or an alloy containing silver from the viewpoint of light reflection performance. According to silver or an alloy containing silver, the reflectance in the visible light region of the film mirror can be increased, and the dependency of the reflectance on the incident angle can be reduced.
  • the visible light region here means a wavelength region of 400 nm to 700 nm.
  • the incident angle means an angle with respect to a line perpendicular to the film surface.
  • the silver alloy is one or more metals selected from the group consisting of silver and gold, palladium, tin, gallium, indium, copper, titanium, and bismuth in that the durability of the silver-containing metal layer is improved.
  • An alloy consisting of As the silver alloy an alloy of silver and gold is particularly preferable from the viewpoints of heat and humidity resistance, reflectance, and the like.
  • the metal reflective layer is a film made of a silver alloy
  • the silver content is 90 atomic% to 99.8 atomic% in the total (100 atomic%) of silver and other metals in the metallic reflective layer.
  • the content of other metals is preferably 0.2 atomic% to 10 atomic% from the viewpoint of durability.
  • the surface roughness (Ra) of the metal reflective layer is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, and even more preferably 5 nm or less.
  • the surface roughness (Ra) here is an arithmetic average roughness obtained in accordance with JIS B0601 (1994).
  • the metal reflective layer in the present invention can be formed by either a wet method or a dry method.
  • the wet method include an electroplating method, an electroless plating method, a silver complex coating firing method, and the like.
  • the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.
  • a metal reflective layer by performing dry plating such as vacuum deposition using a plating undercoat polymer layer containing reduced metal particles. According to this method, since the surface of the plating undercoat polymer layer is covered with metal, it is possible to form a metal reflective layer that has better adhesion than ordinary vapor deposition and is strong against heat.
  • the metal reflective layer by a plating method from the viewpoint that it is possible to form a metal reflective layer having better adhesion to the resin intermediate layer.
  • the metal reflective layer is formed by electroplating.
  • a conventionally known method can be used as the electroplating method.
  • the metal reflective layer can be formed by electroplating the resin intermediate layer.
  • metal compounds used for plating include silver nitrate, silver acetate, silver sulfate, silver carbonate, silver methanesulfonate, silver ammonia, silver cyanide, silver thiocyanate, silver chloride, silver bromide, silver chromate, and chloranil.
  • Examples thereof include silver compounds such as silver oxide, silver salicylate, silver diethyldithiocarbamate, silver diethyldithiocarbamate, and silver p-toluenesulfonate.
  • silver methanesulfonate is preferable from the viewpoint of environmental impact and smoothness.
  • a metal layer containing another metal such as copper, nickel, chromium, iron, or the like may be provided as a base metal layer between the resin intermediate layer and the metal reflective layer.
  • a base metal layer having an appropriate thickness the reflectance can be improved by smoothing the surface, and pinholes can be reduced.
  • the thickness of the metal reflective layer is preferably 0.05 ⁇ m to 2.0 ⁇ m from the viewpoint of not creating irregularities that scatter pinholes or light on the surface of the metal reflective layer. More preferably, it is 5 ⁇ m.
  • the thickness of a metal reflective layer can be controlled by adjusting the metal concentration contained in a plating bath, or a current density.
  • the surface of the metal reflective layer is treated with strong acid, strong alkali, etc.
  • a metal oxide film may be formed.
  • Anti-discoloring agents are roughly classified into those having an adsorbing group that adsorbs metals and those that prevent oxidation.
  • discoloration inhibitor examples include thioether-based, thiol-based, Ni-based organic compound-based, benzotriazole-based, imidazole-based, oxazole-based, tetrazaindene-based, pyrimidine-based, and thiadiazole-based discoloration inhibitors.
  • the film mirror of the present invention has a protective layer on the light incident side of the metal reflective layer in order to prevent deterioration and breakage of the metal reflective layer due to sunlight, rainwater, dust, etc., and to stabilize the specularity.
  • the protective layer in the present invention contains a resin as a binder.
  • the resin used for forming the protective layer is transparent, in particular, in addition to strength, durability against heat and light, air and moisture barrier properties, and adhesion between the protective layer and the adjacent layer (for example, a metal reflective layer). What can form the film or layer excellent in the transmittance
  • Examples of the resin used for forming the protective layer include cellulose ester resins, polycarbonate resins, polyarylate resins, polysulfone (including polyethersulfone) resins, polyester resins (for example, polyethylene terephthalate (PET), Polyethylene naphthalate (PEN), etc.), olefin resins (eg, polyethylene, polypropylene, etc.), cellulose diacetate resin, cellulose triacetate resin, cellulose acetate propionate resin, cellulose acetate butyrate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, ethylene Vinyl alcohol resin, ethylene vinyl acetate resin, ethylene acrylic acid ester copolymer, ethylene acrylic acid copolymer, norbornene resin, polymethylpente Resins, polyamide resins, fluorine resins, polymethyl methacrylate, acrylic resin, polyurethane resin or the like.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN Polyethylene naphthalate
  • polycarbonate-based resins polyester-based resins, norbornene-based resins, acrylic resins, fluorine-based resins, olefin-based resins, polyurethane-based resins, and the like are preferable, and acrylic resins are more preferable from the viewpoint of light transmittance.
  • the protective layer in the present invention may contain a crosslinking agent.
  • a cross-linked structure is formed in the protective layer, so that the strength is further improved and the adhesiveness with the adjacent metal reflective layer is further improved.
  • the crosslinking agent can be selected depending on the correlation with the resin constituting the protective layer, and examples thereof include a carbodiimide compound, an isocyanate compound, an epoxy compound, an oxetane compound, a melamine compound, and a bisvinylsulfone compound.
  • a carbodiimide compound an isocyanate compound
  • an epoxy compound an oxetane compound
  • a melamine compound a bisvinylsulfone compound
  • the protective layer contains additives such as an ultraviolet absorber, a photopolymerization initiator, an antistatic agent, a coating aid (leveling agent), an antioxidant, and an antifoaming agent. May be.
  • Method for forming protective layer For example, as a method for forming the protective layer on the surface of the metal reflective layer, the following method may be mentioned. However, the present invention is not limited to these methods. (1) By dissolving the resin and components used in combination as required in a solvent to prepare a coating solution for forming a protective layer, applying this coating solution for forming a protective layer on the surface of the metal reflective layer, and drying. A method of forming a protective layer. (2) The protective layer forming coating solution of (1) above is applied on the surface of the metal reflective layer and dried to form a film on the surface of the metal reflective layer. A method of forming a protective layer by applying UV irradiation or the like.
  • the thickness of the protective layer is preferably from 3 ⁇ m to 30 ⁇ m, more preferably from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m, from the viewpoints of achieving necessary protective functions and durability and suppressing reduction in light reflectivity. .
  • the film mirror of the present invention Since the film mirror of the present invention has excellent durability against the light incident side opposite to the light incident side reflected by the metal reflective layer, that is, the light from the back surface, the film mirror is installed outdoors, and the back surface is from the ground. It can be suitably used as a film mirror for collecting sunlight exposed to reflected light.
  • the film mirror of the present invention is useful as a solar light collecting film mirror used for solar thermal power generation installed in a place exposed to strong sunlight such as a desert.
  • the film mirror of this invention since the film mirror of this invention has self-supporting property, it is not necessary to stick metal base materials, such as aluminum, to the whole back surface, and it is lightweight compared with the conventional film mirror. Therefore, according to the film mirror of the present invention, it is possible to reduce the burden of complicated work such as transportation and outdoor installation.
  • the solar light reflection device of the present invention is formed by supporting the film mirror of the present invention on a support member having a light transmitting region. Since the film mirror of the present invention has self-supporting property as described above, it is not necessary to support the entire surface with a support member, and since it has excellent durability against light from the back surface, There is no need to cover the entire backside. According to the sunlight reflecting device of the present invention, since the supporting member that supports the film mirror of the present invention over the entire surface is not required, it is lightweight and has excellent workability such as outdoor installation.
  • the solar reflective apparatus of this invention is equipped with the film mirror of this invention which has the outstanding durability with respect to the light from a back surface, the solar heat installed in places exposed to strong sunlight, such as a desert It is useful as a solar reflective device for power generation.
  • the system for supporting the film mirror of the present invention on the support member may be point support or surface support.
  • point support it is sufficient that the film mirror is fixed by a support member and one or more support points.
  • a method of supporting the film mirror only by support legs can be mentioned.
  • surface support it is only necessary to support and support the surface of a member having a light-transmitting region. The shape of the support surface depends on the shape of the support member. And the like.
  • the material of the support member is not particularly limited, and examples thereof include metals such as steel, copper, aluminum, copper-plated steel, tin-plated steel, aluminum-plated steel, stainless steel, and chrome-plated steel, and resins.
  • metals such as steel, copper, aluminum, copper-plated steel, tin-plated steel, aluminum-plated steel, stainless steel, and chrome-plated steel, and resins.
  • plated steel, stainless steel plate, and aluminum are preferable from the viewpoint of corrosion resistance, and aluminum is more preferable from the viewpoint of weight reduction.
  • Example 1 -Formation of plating undercoat polymer layer- On one surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (A4300, double-sided easy adhesion treatment, thickness: 250 ⁇ m, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), which is a resin base material, a plating undercoat polymer layer forming coating solution prepared by the following method is applied. The film was applied by a bar coating method so that the film thickness after drying was about 0.5 ⁇ m. Next, after drying at 25 ° C. for 10 minutes and at 80 ° C.
  • PET polyethylene terephthalate
  • UV exposure (wavelength: 254 nm, UV exposure amount: 1000 mJ / mm) using a UV irradiation apparatus (UV lamp: metal halide lamp, manufactured by GS Yuasa). cm 2 ) to form a plating undercoat polymer layer.
  • UV lamp metal halide lamp, manufactured by GS Yuasa.
  • the weight average molecular weight (calculated by the standard polystyrene conversion method using gel permeation chromatography (GPC)) of the acrylic polymer 1 is 53,000, and the content of carboxylic acid groups in the acrylic polymer 1 is 4 It was 3 meq / g.
  • a PET film on which a plating undercoat polymer layer was formed (hereinafter, appropriately referred to as a PET film with a plating undercoat polymer layer) was immersed in a 1% by mass aqueous sodium hydrogen carbonate solution for 5 minutes and then washed with pure water. Next, this immersed and washed PET film with an undercoat polymer layer is immersed in a 1% by mass aqueous silver nitrate solution for 5 minutes, then washed with pure water, and the plating undercoat polymer layer is a metal that is an electroless plating catalyst. A precursor (silver ions) was applied.
  • the following electroplating process was performed with respect to the plating undercoat polymer layer which has reduced silver on the surface, and the silver reflection layer (thickness: 100 nm) was formed.
  • the electroplating solution Dyne Silver Bright PL50 (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.) adjusted to pH 8.0 with 8M potassium hydroxide was prepared.
  • a PET film with a plating undercoat polymer layer having reduced silver on the surface was immersed in this electroplating solution, plated at 0.5 A / dm 2 for 20 seconds, and then washed by pouring with pure water for 1 minute.
  • the plated PET film was immersed in a 10% by mass aqueous solution of Dyne Silver ACC (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.) for 90 seconds, and then washed by pouring with pure water for 1 minute.
  • the silver reflective layer which is a metal reflective layer was formed on PET film.
  • the surface roughness (Ra) of the metal reflective layer was measured using an atomic force microscope (AFM), it was about 4 nm.
  • protective layer-forming coating solution 1 was applied on the plated surface of the metal reflective layer obtained above by a bar coating method so that the dry weight was 10 g / m 2 . And this was dried at 130 degreeC for 1 minute, and the protective layer 1 was formed.
  • the following protective layer-forming coating solution 2 was applied on the protective layer 1 by a bar coating method so that the dry weight was 8 g / m 2 . And after drying this at 130 degreeC for 1 minute, the protective layer 2 was formed by irradiating a high pressure mercury lamp so that irradiation amount might be set to 500 mJ / cm ⁇ 2 > in nitrogen atmosphere.
  • UV blocking layer forming coating solution 1 On the surface of the PET film opposite to the side on which the protective layer is formed, the following UV blocking layer forming coating solution 1 is applied by a bar coating method so that the film thickness after drying is about 10 ⁇ m. Then, an ultraviolet blocking layer was formed by drying at 120 ° C. for 10 minutes. The transmittance of the formed ultraviolet blocking layer at a wavelength of 200 nm to 380 nm was measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). It was 5% or less.
  • UV-3100 ultraviolet visible near infrared spectrophotometer
  • Example 1 having a protective layer, a metal reflective layer, a resin intermediate layer (plating undercoat polymer layer), a resin base material, and an ultraviolet blocking layer in this order was produced.
  • Example 2 In Example 1, on the surface opposite to the side on which the protective layer of the PET film was formed, the following ultraviolet blocking layer forming coating solution 2 was dried so that the film thickness after drying was about 10 ⁇ m.
  • a film mirror of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet blocking layer was formed by applying it by the bar coating method and drying at 120 ° C. for 10 minutes.
  • the transmittance of the formed ultraviolet blocking layer at a wavelength of 200 nm to 380 nm was measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). It was 5% or less.
  • UV-3100 ultraviolet visible near infrared spectrophotometer
  • Example 3 In Example 1, on the surface opposite to the side on which the protective layer of the PET film was formed, the following UV blocking layer forming coating solution 3 was dried so that the film thickness after drying was about 10 ⁇ m.
  • a film mirror of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet blocking layer was formed by applying it by the bar coating method and drying at 120 ° C. for 10 minutes.
  • the transmittance of the formed ultraviolet blocking layer at a wavelength of 200 nm to 380 nm was measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). It was 5% or less.
  • UV-3100 ultraviolet visible near infrared spectrophotometer
  • Example 4 In Example 1, a radio frequency sputtering (RF) method (target: zinc oxide (ZnO), sputtering gas: Ar / O) is formed on the surface of the PET film opposite to the side on which the protective layer is formed. 2 ), a film mirror of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet blocking layer made of zinc oxide having a thickness of 200 nm was formed. The transmittance of the formed ultraviolet blocking layer at a wavelength of 200 nm to 380 nm was measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). It was 5% or less.
  • UV-3100 ultraviolet visible near infrared spectrophotometer
  • Example 5 In Example 1, a radio frequency sputtering (RF) method (target: aluminum (Al), sputtering gas: Ar) is used on the surface of the PET film opposite to the side on which the protective layer is formed. Then, a film mirror of Example 5 was produced in the same manner as Example 1 except that an ultraviolet blocking layer made of aluminum having a thickness of 200 nm was formed. The transmittance of the formed ultraviolet blocking layer at a wavelength of 200 nm to 380 nm was measured using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV-3100, manufactured by Shimadzu Corporation). It was 5% or less.
  • UV-3100 ultraviolet visible near infrared spectrophotometer
  • Example 6 In the same manner as in Example 1, the film mirror of Example 6 is a PET film having a plating undercoat polymer layer, a metal reflective layer, and a protective layer formed on one surface, and the following method.
  • a PET film on which an ultraviolet blocking layer was formed was prepared, and these two types of films were prepared by bonding using an adhesive.
  • Adhesives obtained by dissolving 41.8% by mass of LIS-825 (manufactured by Toyo Ink) and 3% by mass of LCR-901 (manufactured by Toyo Ink) as an adhesive in 55.2% by mass of ethyl acetate. The agent solution was used.
  • the coating liquid 1 for forming an ultraviolet blocking layer is dried so that the film thickness after drying is about 10 ⁇ m.
  • the ultraviolet blocking layer was formed by coating by a bar coating method and drying at 120 ° C. for 10 minutes.
  • an adhesive is applied to the surface of the PET film opposite to the side on which the ultraviolet blocking layer is formed by a bar coating method so as to have a thickness of about 10 ⁇ m, at room temperature for 2 minutes and at 80 ° C. After drying for 10 minutes, the surface of this adhesive was bonded with a roller so that the surface of the PET film on which the protective layer or the like was formed was opposite to the surface on which the protective layer was formed.
  • Example 1 a film mirror of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet blocking layer was not formed on one surface of the PET film as the resin substrate.
  • a resin base material on which an ultraviolet blocking layer was formed (hereinafter referred to as “ultraviolet blocking layer forming substrate”) constituting the film mirrors of Examples 1 to 6 was produced by the following method.
  • the ultraviolet blocking layer-forming base materials constituting the film mirrors of Examples 1 to 5 were each formed on one surface of a PET film (A4300, double-sided easy adhesion treatment, thickness: 250 ⁇ m, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). It was produced by forming an ultraviolet blocking layer in the same manner as in Examples 1 to 5.
  • the UV blocking layer-forming substrate constituting the film mirror of Example 6 is the same method as Example 6 on one surface of a PET film (A4300, double-sided easy adhesion treatment, thickness: 250 ⁇ m, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). Then, after forming the ultraviolet blocking layer, the PET film (A4300, double-sided easy-adhesion treated) was performed on the surface of the PET film opposite to the side where the ultraviolet blocking layer was formed by the same method as in Example 6. , Thickness: 250 ⁇ m, manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
  • Two UV blocking layer-forming base materials constituting the film mirrors of Examples 1 to 6 produced by the above method were prepared and cut into a width of 30 mm and a length of 150 mm, respectively. Then, one of the two sheets is placed in a xenon lamp light resistance tester (Ci5000, power: 180 W, Black Panel Temperature: 83 ° C., manufactured by ATLAS) so that the ultraviolet blocking layer is irradiated with ultraviolet rays.
  • the barrier layer was placed with the side facing up and allowed to stand for 1000 hours under the conditions of a temperature of 55 ° C. and a humidity of 50% RH (hereinafter referred to as “wet heat treatment”).
  • the film was pulled with a force of 100 mm / min, and the elongation until the ultraviolet blocking layer-forming substrate was broken was measured.
  • Two resin base materials used in the film mirror of Comparative Example 1 were prepared and each cut into a width of 30 mm and a length of 150 mm.
  • One of the two sheets was placed in a xenon lamp light resistance tester and allowed to stand for 1000 hours (wet heat treatment) under conditions of a temperature of 55 ° C. and a humidity of 50% RH.
  • the resin base material which performed wet heat processing and the resin base material (equivalent to the resin base material before wet heat processing) which did not perform wet heat processing, respectively, it pulled by the force of 100 mm / min in the length direction, and resin The elongation until the substrate broke was measured.
  • the durability test from the viewpoint of adhesion was performed by a method according to the tape test method of JIS K5400.
  • Samples for measurement were prepared by cutting the film mirrors of Examples 1 to 6 into a width of 100 mm and a length of 100 mm.
  • Each sample was placed in a xenon lamp light resistance tester (Ci5000, power: 180 W, Black Panel Temperature: 83 ° C., manufactured by ATLAS) with the ultraviolet blocking layer side up so that the ultraviolet blocking layer was irradiated with ultraviolet rays.
  • a xenon lamp light resistance tester Ci5000, power: 180 W, Black Panel Temperature: 83 ° C., manufactured by ATLAS
  • the film mirror of the comparative example 1 was cut
  • the sample was placed in a xenon lamp light resistance tester (Ci5000, power: 180 W, Black Panel Temperature: 83 ° C., manufactured by ATLAS) with the resin substrate side facing up, at a temperature of 55 ° C. and a humidity of 50% RH. It was left to stand for 1000 hours (wet heat treatment) under the conditions.
  • the protective layer of the film mirror after the wet heat treatment was cut using a cutter to reach the ground surface in 11 vertical and horizontal directions at 1 mm intervals.
  • an adhesive tape (CT24, manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was affixed to the surface where the protective layer was cut, scraped with poppy rubber from above, and after the adhesive tape was completely adhered, it was peeled off in a vertical direction. .
  • the durability which looked at the adhesiveness of the resin base material and the metal-plating undercoat polymer layer from the adhesiveness to the metal-plating undercoat polymer layer by visual observation was evaluated. The results are shown in Table 1. The evaluation criteria are as follows. Those that are practically acceptable are classified as “A”.
  • the resin substrate is provided with an ultraviolet blocking layer containing an ultraviolet blocking agent, or an ultraviolet blocking layer made of a metal or metal oxide film, on the side opposite to the metal reflective layer side.
  • the resin base material and a layer adjacent to the resin base material (for example, a plating undercoat polymer layer) can be suppressed while reducing the break strength of the resin base material due to light incident from the side opposite to the metal reflective layer side of the base material. It was revealed that the adhesion to the

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

　光入射側から、保護層と、金属反射層と、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材と、紫外線遮断層と、をこの順に有する、自己支持性を有し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れるフィルムミラー。

Description

フィルムミラー及び太陽光反射装置
　本発明は、フィルムミラー及びそれを用いた太陽光反射装置に関する。
　近年、石油、石炭、天然ガス等に代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究がさかんに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光を利用する太陽エネルギーは、安定供給が可能なエネルギーとして更なる開発が期待されている。
　その一方で、太陽エネルギーにはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、巨大な反射鏡を用いて太陽光を集光しようという試みがなされている。
　これまで、太陽光を集光するための反射鏡は、屋外に設置され、太陽光に起因する紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、ガラス製のものが用いられてきた。しかしながら、ガラス製の反射鏡は、耐候性に優れるものの、重量があり、破損しやすく、かつ、柔軟性に欠けるため、取り扱い難い。そこで、最近では、ガラス製の反射鏡を、軽量で柔軟性のある樹脂製の反射シートに置き換えることが考えられている。
　しかしながら、樹脂製の反射シートを太陽光集光用フィルムミラーとして用いると、太陽光に長期間晒されることで樹脂が劣化し、フィルムミラーの反射率が低下するという問題があった。
　この問題に対しては、金属反射層の光入射側とは反対側に紫外線吸収剤を含有する層を設ける試みがなされている（例えば、特開２０１２－２４２７１４号公報参照）。特開２０１２－２４２７１４号公報に記載されたフィルムミラーによれば、銀反射層を支持する層を、２つの紫外線非耐性ポリマー層を紫外線吸収剤が含まれた粘着層で貼り合わせたものとすることで、銀反射層を透過した紫外線による銀反射層を支持するポリマー層の劣化を抑制できるとされている。
　本発明の態様によれば、光入射側から、保護層と、金属反射層と、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材と、紫外線遮断層と、をこの順に有する、自己支持性を有し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れるフィルムミラー、並びにそれを用いた太陽光反射装置が提供される。
　フィルムミラーは、軽量で柔軟性を有するというガラス製の反射鏡にはない利点を有する反面、自己支持性を有さないため、単体での使用は実用上困難である。そのため、フィルムミラーは、その裏面に金属基板に貼り付けることで支持性を持たせて使用されることが一般的であり、特開２０１２－２４２７１４号公報に記載されたフィルムミラーについても、アルミニウム板への貼り付けが行なわれている。
　しかしながら、薄いシート状のフィルムミラーと金属基板とを接着する工程は煩雑であり、接着工程において微細なシワが発生した場合には反射性能の低下をもたらす。また、フィルムミラーが有する樹脂基材と金属基板とは、熱膨張率が大きく異なるため、金属基板が貼り付けられたフィルムミラーを砂漠等の過酷な環境下で長期間使用すると、樹脂基材と金属基板との界面で剥離が生じ、金属反射層の平面性が損なわれて、反射率の低下を引き起こすことが懸念される。さらに、金属基板が貼り付けられたフィルムミラーは、軽量性に劣り、運搬や設置といった作業が煩雑なものとなる。
　そこで、樹脂反射シート自体に支持性を持たせることも考えられるが、裏面に設けられた金属製の基板を取り除くと、地面からの照り返しの光によって、裏面側から樹脂の劣化が生じ得る。従来の樹脂反射シートは、その裏面に金属製の基板に貼り付けることを前提としているため、裏面側からの光に対する防御手段が何ら講じられていない。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、金属製の支持基材を用いることなく、自己支持性を示し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れたフィルムミラーを提供することにある。
　また、本発明の他の課題は、本発明のフィルムミラーを用いた、軽量で、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れた太陽光反射装置を提供することにある。
　上記課題を達成するための具体的な手段は、以下の通りである。
＜１＞　光入射側から、保護層と、金属反射層と、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材と、紫外線遮断層と、をこの順に有するフィルムミラー。
＜２＞　保護層が紫外線吸収剤と樹脂バインダーを含む第１保護層とフッ素系樹脂を含む第２保護層とを含む、＜１＞に記載のフィルムミラー。
＜３＞　樹脂バインダーが、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂、およびポリウレタン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、＜２＞に記載のフィルムミラー。
＜４＞　金属反射層の金属が、銀、又は銀を含む合金である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜５＞　金属反射層と樹脂基材との間に樹脂中間層を更に有する、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜６＞　樹脂中間層が、還元された金属粒子を含む、めっき下塗りポリマー層である、＜５＞に記載のフィルムミラー。
＜７＞　紫外線遮断層が、有機紫外線吸収剤と樹脂バインダーとを含む層、顔料と樹脂バインダーとを含む層、金属層、および金属酸化物層からなる群より選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜８＞　紫外線遮断層が、白色顔料と樹脂バインダーとを含む層である、＜７＞に記載のフィルムミラー。
＜９＞　樹脂基材が、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂を含む基材である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜１０＞　樹脂基材が多層構造である＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜１１＞　多層構造を構成する複数の樹脂基材のうち、最も光入射側に位置する樹脂基材の厚みが１００μｍ以上である＜１０＞に記載のフィルムミラー。
＜１２＞　２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における紫外線遮断層の光線透過率が５％以下である＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜１３＞　太陽光集光用として用いられる＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載のフィルムミラーが、光透過性領域を有する支持部材に支持されてなる太陽光反射装置。
　本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、“（メタ）アクリレート”は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、“（メタ）アクリル”は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表す。
　さらに、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、「光入射側」とは、金属反射層により反射する太陽光が入射する側を意味する。
　また、本明細書において、フィルムミラーの「裏面」とは、金属反射層により反射する太陽光が入射する側とは反対側の面を意味する。
　本発明によれば、金属製の支持基材を用いることなく、自己支持性を示し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れたフィルムミラーを提供することができる。
　また、本発明のフィルムミラーを用いることで、軽量で、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れた太陽光反射装置を提供することができる。
　以下、本発明の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
［フィルムミラー］
　本発明のフィルムミラーは、光入射側から、保護層と、金属反射層と、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材と、紫外線遮断層と、をこの順に有することを特徴とする。
　本発明のフィルムミラーによれば、金属製の支持基材を用いることなく、自己支持性を示し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れる。ここで、「自己支持性」とは、他の部材による支持がなくても、フィルムミラー単体でその形態を保ち得ることをいう。
　本発明のフィルムミラーは、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材を有することで、自己支持性を有するものとなり、従来のように、金属製の支持基材に貼り付けなくても、フィルムミラー単体での使用が可能となる。しかしながら、屋外に設置されるフィルムミラーは、その裏面に地面からの照り返しの光を受けるため、裏面側からフィルムミラーを構成する樹脂の劣化が進行する。
　本発明においては、樹脂基材の厚みを１００μｍ以上とし、且つ、樹脂基材の金属反射層側とは反対側に、紫外線遮断層を有する構成とすることで、従来のように、金属製の支持基材を用いなくても、自己支持性を示し、且つ、照り返しの光に対する耐久性に優れるフィルムミラーを実現する。
　また、本発明においては、金属製の支持基材を貼り付ける必要がないので、砂漠等の過酷な環境下で長期間使用しても、フィルムミラーが有する樹脂基材と金属製の支持基材との熱膨張率の差による界面剥離が生じる恐れがない。
　さらに、本発明においては、金属製の支持基材を貼り付ける接着工程が不要となるので、接着工程で発生し得るシワに起因する反射性能の低下が生じることがなく、また、製造コストの削減も可能となる。
　そして、本発明においては、金属製の支持基材を貼り付ける必要がないので、使用時の軽量化を実現することができ、運搬や設置等の作業性が良好なものとなる。
　以下、本発明のフィルムミラーの構成について、詳細に説明する。
＜樹脂基材＞
　本発明のフィルムミラーは、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材を有する。
　本発明のフィルムミラーによれば、樹脂基材の厚みが１００μｍ以上であるので、自己支持性を示し、その使用に際して、従来のフィルムミラーのように、アルミ等の金属製の支持基材に貼り付ける必要がなく、フィルムミラー単体で使用することができる。
　また、本発明のフィルムミラーによれば、アルミ等の金属製の支持基材に貼り付ける工程が不要となり、製造コストの削減を実現することができる。
　さらに、金属製の支持基材の貼り付けを要しないので、軽量であり、運搬、設置等の作業性が良好となる。
　樹脂基材の厚みの下限値は、自己支持性がより向上する観点から、１５０μｍ以上が好ましく、１８０μｍ以上がより好ましく、２００μｍ以上が更に好ましい。
　樹脂基材の厚みの上限値は、特に限定されるものではなく、フレキシブル性、軽量化、及び生産時のハンドリングの観点から規定すればよいが、ロールツーロール（Roll-to-Roll）による製造という観点から、１０００μｍ以下が好ましく、６００μｍ以下がより好ましく、５００μｍ以下が更に好ましい。
　樹脂基材を構成する樹脂は、特に限定されるものではないが、フレキシブル性及び軽量化の観点から、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン（ＢＴ）樹脂、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、ポリアミド樹脂（アラミド樹脂を含む）、ポリエーテルスルホン、トリアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアセチレン等が好適である。これらの中でも、ポリエステル樹脂及びポリイミド樹脂が特に好適である。
　本発明においては、これらの樹脂を単独で用いてもよいし、複数の樹脂を組み合わせて用いてもよい。
　その他、ガラスエポキシ、液晶ポリマー等をフィルム状に成形した樹脂フィルムを用いることもできる。
　本発明における樹脂基材は、単層構造、又は複数の層からなる多層構造のいずれであってもよい。樹脂基材が多層構造である場合、この多層構造を構成する複数の樹脂基材は、同じ樹脂で構成されていてもよいし、異なる樹脂で構成されていてもよい。
　樹脂基材が多層構造である場合、多層構造を構成する複数の基材の接着方法は、特に限定されず、例えば、加熱、加圧等によって熱融着する方法、接着剤を介して貼り合わせる方法、基材の表面に塗布法等により別の基材を形成する方法等が挙げられる。これらの中でも、接着容易性の観点から、接着剤を介して貼り合わせる方法が好ましい。
　複数の基材を、接着剤を介して貼り合わせる場合、樹脂基材間に介在する接着剤層の表面の凹凸が樹脂基材の表面に影響を与えることで、樹脂基材上に形成される金属反射層の鏡面性が損なわれ、反射率が低下する懸念がある。このような接着剤による影響を抑制するために、多層構造を構成する複数の樹脂基材のうち、最も光入射側に位置する、すなわち、最も金属反射層に近接する樹脂基材の厚みを１００μｍ以上とすることが好ましい。
　多層構造である樹脂基材において、複数の樹脂基材を貼り合わせる接着剤の層厚は、金属反射層の平滑性をより良好にするという観点から、接着性を確保できる範囲内で、できるだけ薄いことが好ましく、例えば、１μｍ～３０μｍであることが好ましい。
　樹脂基材は、その一方又は両方の面に設けられる層の形成を容易にするために、表面処理が施されていてもよい。
　表面処理としては、例えば、ＵＶ照射、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、火炎処理等により、樹脂基材の表面を分解活性化させる処理が挙げられる。その他の表面処理としては、ヒドラジン、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液による処理、硫酸、塩酸、硝酸等の酸性溶液による処理等が挙げられる。また、樹脂基材には、その表面の汚れを落とすために、水や、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、Ｎ－メチルピロリドン、アセトン等の有機溶剤による洗浄処理が施されていてもよい。
　本発明における樹脂基材は、フィルムミラーの反射性能をより良好なものとする観点から、表面粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。ここでいう表面粗さ（Ｒａ)は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。
　樹脂基材は、柔軟性を維持する観点から、可塑剤を含んでいてもよく、また、フィルム自体の劣化を防ぐ観点から、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤等を含んでいてもよい。
＜紫外線遮断層＞
　本発明のフィルムミラーは、樹脂基材の金属反射層側とは反対側に、紫外線遮断層を有する。本発明のフィルムミラーは、上述のように、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材を有し、自己支持性を示すため、従来のフィルムミラーのように、支持のために、アルミ等の金属製の支持基材に貼り付ける必要がなく、フィルムミラー単体で使用することができる。しかしながら、屋外において、フィルムミラーを単体で使用すると、地面からの照り返しの光がフィルムミラーの裏面に当たり、樹脂基材を構成する樹脂が劣化する。樹脂基材を構成する樹脂の劣化は、金属反射層の劣化にもつながり、フィルムミラーの性能の低下を招く。本発明においては、樹脂基材の金属反射層側とは反対側に、紫外線遮断層を設けることで、照り返しの光による樹脂基材の劣化を抑制する。
　本発明において、「紫外線遮断層」とは、２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における光線透過率が２０％以下である層をいう。
　紫外線遮断層としては、樹脂に紫外線を遮断し得る紫外線遮断剤を含有させた層、蒸着等により形成された紫外線を遮断し得る金属層、金属酸化物層等が挙げられる。
　紫外線遮断剤としては、有機系の紫外線吸収剤及び無機系の紫外線遮蔽剤のいずれも使用することができる。本明細書では、これらを「紫外線遮断剤」と総称する。
　有機系の紫外線吸収剤は、特に限定されるものではなく、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、ヒンダードアミン系、トリアジン系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤が挙げられる。
　ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４－ジヒドロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ドデシロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシ－ベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシ－ベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシ－ベンゾフェノン等が挙げられる。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（２’－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては、ＡＤＥＫＡ社製の「ＬＡ３１」）、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン２３４」）等が挙げられる。
　サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート、２－４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
　ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート等が挙げられる。
　トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、〔２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－（ヘキシル）オキシフェノール〕（市販品の例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン１５７７ＦＦ」）、〔２－［４，６－ビス（２，４ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル］－５－（オクチルオキシ）フェノール〕（市販品の例としては、サイテックインダストリーズ社製の「ＣＹＡＳＯＲＢ　ＵＶ－１１６４」）、２-(４,６-ビス(２,４-ジメチルフェニル)-１,３,５-トリアジン-２-イル)-５-ヒドロキシフェニル, とオキシラン[(Ｃ１０～Ｃ１６アルキルオキシ)メチル]オキシランとの反応生成物（市販品の例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン４００」）等が挙げられる。
　ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては、住友化学社製の「Ｓｕｍｉｓｏｒｂ４００」）等が挙げられる。
　紫外線吸収剤は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　無機系の紫外線遮蔽剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム等の白色顔料、カーボンブラック、黒色酸化鉄、銅／クロム／コバルト／鉄から選択される１種以上の金属が含まれる複合酸化物等の黒色顔料が挙げられる。
　これらの無機系の紫外線遮蔽剤は、触媒機能を抑えたり、微粒子として安定化させたりするために、表面をアルミニウム（Ａｌ）化合物、ケイ素（Ｓｉ）化合物、有機物分散剤等でコーティングされたものでもよい。また、これらの無機系の紫外線遮蔽剤は、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、マイカ等の体質顔料を併用してもよい。
　本発明においては、紫外線遮断剤は、耐久性の観点から、有機系の紫外線吸収剤よりも無機系の紫外線遮蔽剤が好ましく、また、紫外線遮蔽剤の中でも、熱を吸収し難く、熱による樹脂の劣化が生じ難い点において、カーボンブラック等の黒色顔料よりも、酸化チタン等の白色顔料がより好ましい。
　紫外線遮断剤を含ませるバインダーとしての樹脂は、強度、熱や光に対する耐久性、隣接する層との密着性等に優れたフィルム又は層を形成し得るものが好ましい。
　樹脂としては、例えば、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アルキド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、エチレンアクリル酸エステル共重合体、エチレンアクリル酸共重合体、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリアミド、フッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、アクリルシリコン樹脂等が挙げられる。
　これらの中でも、耐候性、取り扱い性、及びコストの観点から、アクリル樹脂が好ましい。
　紫外線遮断層には、上記紫外線遮断剤及び上記樹脂以外に、例えば、上記樹脂を架橋し得る架橋剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤（レベリング剤）、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤が含有されていてもよい。
　紫外線遮断層としての金属層を形成する金属としては、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼、鉄、銅、ニッケル、銀、金、クロム、インジウム等の金属が挙げられ、これらの中でも、優れた紫外線遮断能を有するだけでなく、加工特性に優れ、且つ、軽量である点において、アルミニウムが好ましい。
　紫外線遮断層としての金属酸化物層を形成する金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化鉛、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物等が挙げられ、これらの中でも、紫外線遮蔽性が高く、薄膜形成が容易な点において、酸化亜鉛が好ましい。
　紫外線遮断層が上記樹脂に上記紫外線遮断剤を含ませた層である場合、紫外線遮断層における紫外線遮断剤の含有量は、２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における紫外線遮断層の光線透過率が２０％以下となるように調整すればよい。
　また、紫外線遮断層が金属膜又は金属酸化物膜からなる層である場合には、２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における紫外線遮断層の光線透過率が２０％以下となるように、紫外線遮断層の厚みを調整すればよい。
　紫外線遮断層は、照り返しの光による樹脂基材の劣化を十分に抑制する観点から、２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における光線透過率が１５％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
　本発明のフィルムミラーにおいて、紫外線遮断層は、樹脂基材の金属反射層側とは反対側に備えられていればよく、光入射側からみて最外層である必要はない。すなわち、本発明の効果を損なわない範囲において、紫外線遮断層の光入射側とは反対側の面上に、更に他の層が設けられていてもよい。
〔紫外線遮断層の形成方法〕
　例えば、樹脂基材の面上に、紫外線遮断層を形成する方法としては、以下の方法が挙げられる。但し、本発明においては、これらの方法に限定されるものではない。
（１）上記紫外線遮断剤、上記樹脂、及び所望により併用される各種添加剤を溶剤に溶解又は分散させ、紫外線遮断層塗布液を調製し、この紫外線遮断層塗布液を従来公知のコーティング方法により樹脂基材の面上に塗布し、乾燥させることにより、紫外線遮断層を形成する方法。
（２）樹脂基材の面上に、上記紫外線を遮断し得る金属を蒸着して、金属蒸着膜である紫外線遮断層を形成する方法。
（３）樹脂基材の面上に、上記紫外線を遮断し得る金属の金属箔や金属蒸着フィルムを、熱又は接着剤により、貼り合わせる方法。
　紫外線遮断層の厚みは、必要な紫外線遮断機能を発揮されれば、特に限定されるものではないが、一般的には、０．００５μｍ～１５０μｍの範囲内であることが好ましい。
＜樹脂中間層＞
　本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に金属反射層を有するが、樹脂基材と金属反射層との密着性を向上させる目的で、両者の間に、樹脂中間層を有していてもよい。
　樹脂中間層としては、金属を接着し易くするための易接着層、金属反射層をめっき法により形成する場合に有用なめっき下塗りポリマー層等が挙げられ、これらは単層で構成されても、２層以上の複数層で構成されるものであってもよい。
〔易接着層〕
　本発明においては、樹脂基材と金属反射層との密着性を向上させるために、易接着層を設けてもよい。易接着層上に、めっき下塗りポリマー層を設ける場合には、易接着層が樹脂基材とめっき下塗りポリマー層との接着性を向上させるため、結果として、樹脂基材と金属反射層との密着性がより向上する。
　易接着層は、隣接する樹脂基材との密着性の観点から、樹脂基材を構成する樹脂と同じ樹脂、又は樹脂基材を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含んでいることが好ましい。　樹脂基材を構成する樹脂と親和性を有する樹脂としては、例えば、ガラス転移点や弾性率、線膨張係数といった熱的物性が互いに近い樹脂が挙げられる。
　易接着層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、又はこれらの混合物が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、エチレンアクリル酸共重合樹脂、エチレンアクリル酸エステル共重合樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
　なお、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは、それぞれ単独で用いてもよいし、併用してもよい。２種以上の樹脂の併用は、それぞれの欠点が補うことでより優れた効果を発現させる目的で行なわれる。
　熱可塑性樹脂を用いる場合には、必要に応じて、架橋剤を使用することが好ましい。架橋剤の種類としては、熱可塑性樹脂が有するカルボン酸基、水酸基、アミノ基、メルカプタン基等の官能基と反応する反応性基を複数有する架橋剤が好ましい。好ましい反応性基の種類としては、カルボジイミド基、オキサゾリン基、イソシアネート基、エポキシ基、メラミン等があげられる。これらの反応性基を複数有する化合物としては、例えば、カルノジライト（日清紡社製）、エポクロス（日本触媒社製）、デナコール（ナガセケムテックス社製）、ベッカミン（ＤＩＣ北日本ポリマ社製）等の架橋剤が市販されている。
　架橋剤の添加量は、熱可塑性樹脂が有する官能基と架橋剤の反応性基とが当量となるように調合することが好ましいが、適切な膜物性を得るために、架橋剤の添加量を適宜増減してもよい。
　易接着層には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、有機又は無機微粒子からなるマット材、塗布助剤として界面活性剤、帯電防止剤、ワックス類等の各種添加剤を１種又は２種以上添加してもよい。
　いずれの添加剤も、添加される場合には、主成分となる樹脂に対して、０質量％を超えて５０質量％以下の範囲で添加されることが好ましく、０質量％を超えて２０質量％以下の範囲で添加されることがより好ましい。添加剤を、樹脂に対して５０質量％を超える範囲で用いると、樹脂自体が本来有する強度等の特性が低下する懸念がある。
〔易接着層の形成方法〕
　易接着層は、上述の各成分を水に分散又は溶解させた塗布液、若しくは、各成分を溶解可能な有機溶媒に溶解させた塗布液を、塗布等の方法により樹脂基材に付与し、加熱及び／又は光照射により硬膜化させることにより形成することができる。
　加熱の温度及び時間は、塗布溶剤が十分乾燥し得る条件を選択すればよいが、製造適性の点からは、乾燥温度が１９０℃以下であり、且つ、乾燥時間が１０分以内であることが好ましく、乾燥温度が４０℃～１８０℃であり、且つ、乾燥時間が５分以内であることがより好ましい。
　塗布液を調製する際に用いられる溶媒は、上述の各成分を溶解又は分散し得るものであれば、特に限定されるものではない。乾燥の容易性及び作業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、具体的には、沸点４０℃～１５０℃程度のものを選択すればよい。具体的には、特開２００７－１５４３０６号公報の段落［００４５］に記載されている、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、水等を用いることができる。これらの中でも、特にＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、揮発性有機化合物）抑制の観点から水が好ましい。上記の例示溶媒は、単独、又は、混合して用いることができる。塗布溶液中の固形分の濃度は、１質量％～５０質量％が適当である。なお、水を溶媒として用いる場合には、上記易接着層に含まれる樹脂を水分散物又は水溶性化物とすることが好ましい。
　本発明における易接着層の厚みは、一般に、０．０５μｍ～５μｍであり、０．１μｍ～３μｍであることが好ましい。
〔めっき下塗りポリマー層〕
　本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子と後述のめっき下塗りポリマーとを少なくとも有する。
　本発明においては、金属前駆体と後述のめっき下塗りポリマーとを含む組成物を用いて、樹脂基材上に塗布等の方法により金属前駆体を含むめっき下塗りポリマー層を形成する
ことが好ましい。また、本発明においては、後述のめっき下塗りポリマーを含む組成物を用いて樹脂基材上に層を形成した後、該層に、金属前駆体を含む組成物を浸漬等の方法によって接触させて、金属前駆体を含むポリマー層を形成し、然る後、該下塗りポリマー層に含まれる金属前駆体を還元することにより、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を形成することも好ましい。
（めっき下塗りポリマー）
　めっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーについて説明する。
　めっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーは、金属前駆体と相互作用する官能基（以下、適宜「相互作用性基」と称する。）を少なくとも有するとともに、耐水性及び耐薬品性の観点から、必要に応じて、重合性基を有することが好ましい。
　めっき下塗りポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、メタクリルポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、エチレンアクリル酸共重合体等が好ましく、アクリルポリマーがより好ましい。
　めっき下塗りポリマーは、分子内に上記重合性基と上記相互作用性基とを有することが好ましく、上記重合性基を有する場合には、この重合性基をポリマーの主鎖末端及び側鎖の少なくともいずれかに有していればよい。めっき下塗りポリマーとしては、例えば、上記重合性基を有する構成単位と、上記相互作用性基を有する構成単位とを含んで構成されるポリマー等が挙げられ、同一の構成単位に重合性基と相互作用性基とを含んで構成されるポリマーでもよい。また、めっき下塗りポリマーは、２種以上の重合性基を含んでいてもよく、２種以上の相互作用性基を含んでいてもよい。また、重合性基は、ポリマーの作製後に高分子反応により導入されてもよい。
　また、めっき下塗りポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含むことで、めっき下塗り組成物としたときに、水又は有機溶剤への溶解性に優れたものとなり、均一な層を形成することができる。
　めっき下塗りポリマーの好ましい態様としては、相互作用性基としての酸性基と重合性基とを側鎖に有するアクリルポリマーが挙げられる。
　以下、めっき下塗りポリマーに含まれる重合性基、相互作用性基等について詳述する。
－重合性基－
　めっき下塗りポリマーが有する重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、又は、ポリマーと下地層（樹脂基材又は支持基材上に設けられた下塗り層）との間で化学結合を形成し得る官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
　ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。これらの中でも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が好ましく、ラジカル重合反応性及び合成汎用性の観点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基がより好ましく、耐アルカリ性の観点から、アクリルアミド基、及びメタクリルアミド基が更に好ましい。
　アクリルポリマーに導入される重合性基としては、例えば、（メタ）アクリレート基、（メタ）アクリルアミド基等の（メタ）アクリル基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基等の各種重合性基が好ましい。
－相互作用性基－
　めっき下塗りポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基等）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成し得る官能基、金属前駆体と配位形成し得る含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基等を使用することができる。
　相互作用性基の具体例としては、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、トリアゾール環、イミダゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アルキルアミン構造を含む基、シアノ基、シアネート基（Ｒ－Ｏ－ＣＮ）等の含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ－オキシド構造を含む基、Ｓ－オキシド構造を含む基、Ｎ－ヒドロキシ構造を含む基等の含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、スルホキシド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基等の含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基等の含リン官能基；塩素、臭素等のハロゲン原子を含む基等が挙げられ、塩構造をとり得る官能基においては、それらの塩も使用することができる。
　相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよい。なお、めっき下塗りポリマーは、これらを同時に有していてもよいが、好ましくは、相互作用性基として、イオン性極性基を有し、非解離性官能基を有さない方がよい。
　イオン性極性基としては、めっき下塗りポリマーの樹脂基材（樹脂基材上に上記易接着層が形成されている場合には、易接着層）に対する密着性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びボロン酸基が挙げられ、これらの中でも適度な酸性（他の官能基を分解しない）を有する点、他の官能基に影響を与える懸念が少ない点、めっきの層との親和性に優れる点、及び原料が入手容易であるという点から、カルボン酸基が特に好ましい。
　カルボン酸基等のイオン性極性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに導入することができる。
　ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００９－００７５４０号公報の段落［０１０６］～［０１１２］に記載のポリマー等を好適に使用することができる。
　また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６－１３５２７１号公報の段落［００６５］～［００７０］に記載のポリマー等を好適に使用することができる。
　さらに、ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０－２４８４６４号公報の段落［００１０］～［０１２８］、特開２０１０－８４１９６号公報、及び米国特許出願公開２０１０－０８０９６４号明細書の段落［００３０］～［０１０８］に記載のポリマー等を好適に使用することができる。
　めっき下塗りポリマー層は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、光重合開始剤、熱重合開始剤等のラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、一般に公知のものが使用される。
　但し、エネルギー付与により、めっき下塗りポリマーが、樹脂基材や易接着層と相互作用する活性点を生成し得る場合、すなわち、めっき下塗りポリマーとして、ポリマー骨格中に重合開始部位を有するポリマーを用いるような場合には、これらのラジカル重合開始剤を添加しなくてもよい。
　めっき下塗りポリマー層を形成するための組成物（以下、適宜、「めっき下塗りポリマー層形成用組成物」と称する。）に含有させるラジカル重合開始剤の量は、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の構成に応じて選択されるが、一般的には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に、０．０５質量％～３０質量％程度であることが好ましく、０．１質量％～１０．０質量％程度であることがより好ましい。
〔めっき下塗りポリマー層の形成方法〕
－めっき下塗りポリマー層形成用組成物の塗布－
　めっき下塗りポリマー層は、例えば、上記樹脂基材、又は、上記樹脂基材上に設けられた易接着層の面上に、めっき下塗りポリマー層形成用組成物を塗布し、エネルギーを付与することにより形成することができる。
　上記樹脂基材上に、めっき下塗りポリマー層を直接設ける場合には、予め樹脂基材の表面にエネルギーを付与する等の易接着処理（例えば、コロナ処理、プラズマ処理等）を施しておくことが好ましい。
　樹脂基材上に、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層を設ける方法は、特に限定されるものではなく、例えば、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に樹脂基材を浸漬する方法や、めっき下塗りポリマー層形成用組成物を樹脂基材上に塗布する方法等が挙げられる。得られる層の厚みを制御し易い点において、めっき下塗りポリマー層形成用組成物を樹脂基材上に塗布する方法が好ましい。
　めっき下塗りポリマー層形成用組成物の塗布量は、後述する金属前駆体との十分な相互作用を形成させる観点から、固形分換算で０．０５ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．３ｇ／ｍ２～５ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
　樹脂基材等へ塗布しためっき下塗りポリマー層形成用組成物は、２０℃～６０℃で１秒間から２時間乾燥させた後、６０℃を超える温度で１秒間～２時間乾燥させることが好ましく、２０℃～６０℃で１秒間～２０分間乾燥させた後、６０℃を超える温度で１秒間～２０分間乾燥させることがより好ましい。
　上記樹脂基材、又は、上記樹脂基材上に設けられた易接着層の面上に、めっき下塗りポリマー層形成用組成物を塗布した後、エネルギーを付与すると、エネルギー付与領域において、ポリマーが有する重合性基同士、又は、ポリマーが有する重合性基と、上記樹脂基材、若しくは、上記樹脂基材上に設けられた易接着層との間に相互作用が形成され、樹脂基材上に（又は、易接着層を介して樹脂基材上に）固定化されためっき下塗りポリマー層が形成される。このようにして、樹脂基材とめっき下塗りポリマー層とが強固に密着することとなる。
－エネルギーの付与－
　エネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光が挙げられる。
　露光によるエネルギー付与方法としては、具体的には、ＵＶランプ、可視光線等による光照射が可能である。露光で使用する光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ－ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。
　露光パワーは、重合を容易に進行させるため、ポリマーの分解を抑制するため、及びポリマーが良好な相互作用を形成するためといった観点から１０ｍＪ／ｃｍ２～８０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２～３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることがより好ましい。
　なお、露光は、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で行なってもよい。
　加熱によるエネルギー付与は、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等により行なうことができる。
　また、加熱によりエネルギー付与を行なう場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また、樹脂基材の熱変性を抑制するため、２０℃～２００℃であることが好ましく、４０℃～１２０℃であることがより好ましい。
－未反応めっき下塗りポリマーの除去－
　エネルギー付与後は、更に適宜、未反応のポリマーを除去する工程を設けてもよい。未反応のポリマーの除去方法としては、例えば、ポリマーを溶解する溶剤や、アルカリ可溶性のポリマーの場合はアルカリ系現像液（炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液）等を、めっき下塗りポリマー層が形成された樹脂基材に接触させる方法が挙げられる。
　めっき下塗りポリマー層の厚みは、特に限定されるものではないが、上記樹脂基材等との密着性の観点から、０．０５μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～５μｍであることがより好ましい。
　めっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。ここでいう表面粗さ（Ｒａ)は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。
－還元された金属粒子－
　本発明におけるめっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子を含む。めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、めっき下塗りポリマー層に、金属前駆体を付与し、この金属前駆体を還元して、金属前駆体を還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体をめっき下塗りポリマー層に付与すると、上記相互作用性基に、金属前駆体が相互作用により付着する。
－金属前駆体－
　本発明において用いられる金属前駆体は、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に限定されないが、金属反射層の形成において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。
　具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏ等の金属イオンが用いられる。これらの金属イオンは、還元反応によって０価の金属粒子となる。
　金属前駆体である金属イオンは、金属塩としてめっき下塗りポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
　使用される金属塩としては、適切な溶剤に溶解して金属イオンと塩基（陰イオン）とに解離されるものであれば、特に限定されるものではなく、Ｍ（ＮＯ３）ｎ、ＭＣｌｎ、Ｍ２／ｎ（ＳＯ４）、Ｍ３／ｎ（ＰＯ４）（Ｍは、ｎ価の金属原子を表す）等が挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。例えば、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ａｌイオン、Ｎｉイオン、Ｃｏイオン、Ｆｅイオン、Ｐｄイオン等が挙げられ、中でも、多座配位可能なものが好ましく、特に、配位可能な官能基の種類、数、及び触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、及びＰｄイオンが好ましい。
　Ａｇイオンとしては、以下に示すような銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、及びｐ－トルエンスルホン酸銀が挙げられる。これらの中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。
　Ｃｕイオンとしては、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、及びｐ－トルエンスルホン酸銅が挙げられる。これらの中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。
　金属前駆体は、分散液又は溶液（金属前駆体液）として、形成されためっき下塗りポリマー層に付与されることが好ましい。
　付与の方法としては、例えば、めっき下塗りポリマー層形成用組成物を用いて樹脂基材上にめっき下塗りポリマー層を形成した後、このめっき下塗りポリマー層の面上に金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）を塗布する方法が挙げられる。また、めっき下塗りポリマー層が形成された樹脂基材を、金属前駆体を含む組成物（分散液又は溶液）に浸漬する方法が挙げられる。
　金属前駆体は、めっき下塗りポリマー層に、金属前駆体を含む分散液又は溶液を接触させ、ファンデルワールス力のような分子間力による相互作用、又は、孤立電子対による配位結合による相互作用を利用することで、めっき下塗りポリマー中の相互作用基に吸着させることができる。
　金属前駆体の吸着を十分に行なわせるという観点から、金属前駆体を含む分散液又は溶液中の金属前駆体の濃度は、０．００１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．００５質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　金属前駆体の分散液及び溶液に用いる溶媒には、水や有機溶媒が用いられる。水や有機溶剤を含有することで、ポリマー層に対する金属前駆体の浸透性が向上し、相互作用性基に効率よく金属前駆体を吸着させることができる。
　金属前駆体のめっき下塗りポリマー層への付与に、分散液を用いる場合、金属前駆体の粒子径は、１ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～１００ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～６０ｎｍであることが更に好ましい。金属前駆体の粒子径を上記範囲内とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。
　なお、ここでいう粒子径とは、平均１次粒子径（体積換算）のことであり、ＳＥＭ（Ｓ－５２００、日立ハイテクマニファクチャ＆サービス社製）の画像から読み取ったものである。
　なお、金属前駆体は、予め、めっき下塗りポリマー層用組成物に含有させてもよく、その場合、めっき下塗りポリマー層用組成物における金属前駆体の含有量は、組成物全量に対して、０．５質量％～１００質量％であることが好ましく、１質量％～５０質量％であることがより好ましい。
　めっき下塗りポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンは、金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と、該還元剤を活性化するためのｐＨ調整剤を含む。
　金属活性化液全体に対する還元剤の濃度は、０．０５質量％～５０質量％であることが好ましく、０．１質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸等の還元剤を用いることが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
　金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度は、０．０５質量％～１０質量％であることが好ましく、０．１～５質量％であることがより好ましい。
　ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用することが可能である。
　還元時の温度は、１０℃～１００℃であることが好ましく、２０℃～７０℃であることが更に好ましい。
　これら濃度や温度は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）、導電性（表面抵抗値）、及び還元液の劣化の観点から、上記範囲内であることが好ましい。
　めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子の粒子径は、反射性能の観点から、１ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～１００ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～６０ｎｍであることが更に好ましい。この範囲内にあることで、めっき後の反射率が良好となる。
　なお、ここでいう粒子径は、ＳＥＭ（Ｓ－５２００、日立ハイテクマニファクチャ＆サービス社製）画像から読み取ったものである。
　還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面抵抗値は、０．００１Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましく、０．０３Ω／□以上５０Ω／□以下であることがより好ましい。この範囲内であると、均一及び平滑にめっき面が形成され、反射率が良好となる。
　また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。ここでいう表面粗さ（Ｒａ)は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。
　このようにして得られた金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、以下に詳述する金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられ、めっき下塗りポリマー層を用いてめっき法により形成された金属反射層は、樹脂基材との密着性と表面平滑性とに優れる。
＜金属反射層＞
　本発明における金属反射層は、樹脂基材上に、直接設けられるか、又は、所望により設けられる既述の樹脂中間層を介して設けられる。
　金属反射層は、金属を含有する金属膜で構成される反射層である。金属反射層を形成する金属としては、光を反射する金属であれば、特に限定されるものではないが、可視光及び赤外光の両方を反射する金属が好ましい。可視光及び赤外光の両方を反射する金属としては、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。
　本発明における金属反射層を形成する金属は、光の反射性能の観点から、銀、又は銀を含む合金が好ましい。銀、又は銀を含む合金によれば、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。ここでいう可視光領域とは、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長領域を意味する。また、入射角とは、膜面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
　銀合金としては、銀含有金属層の耐久性が向上する点において、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属とからなる合金が好ましい。銀合金としては、銀と金との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
　例えば、金属反射層が銀合金からなる膜である場合、銀の含有量は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０原子％～９９．８原子％であることが好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２原子％～１０原子％であることが好ましい。
　金属反射層の表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。金属反射層の表面粗さ（Ｒａ）を、上記範囲内とすると、得られたフィルムミラーの反射率が向上するので、太陽光を効率良く集光することが可能となる。ここでいう表面粗さ（Ｒａ)は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。
〔金属反射層の形成方法〕
　本発明における金属反射層は、湿式法又は乾式法のいずれの方法でも形成することができる。湿式法としては、例えば、電気めっき法、無電解めっき法、銀錯体塗布焼成法等が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
　本発明においては、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して、真空蒸着等の乾式めっきを行なうことにより、金属反射層を形成することが好ましい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性が良く、且つ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。
　また、本発明においては、樹脂中間層との密着性に、より優れた金属反射層の形成が可能となる点において、金属反射層をめっき法により形成することが特に好ましい。
　以下、金属反射層を電気めっき法により形成する場合について、説明する。
　電気めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。
　本発明においては、樹脂中間層が電極としての機能を有する場合には、樹脂中間層に対して電気めっきを行なうことにより、金属反射層を形成することができる。
　めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ－トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
　また、本発明においては、樹脂中間層と金属反射層との間に、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄等の他の金属を含有する金属層を下地金属層として設けてもよい。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率の向上、及びピンホールの低減が可能となる。
　金属反射層の厚みは、金属反射層の表面に、ピンホールや光を散乱させるような凹凸を作らないという観点から、０．０５μｍ～２．０μｍであることが好ましく、０．０８～０．５μｍであることがより好ましい。
　なお、電気めっき法により金属反射層を形成する場合には、金属反射層の厚みは、めっき浴中に含まれる金属濃度、又は、電流密度を調整することで制御することができる。
　本発明においては、電気めっきの後、金属反射層の反射性能や耐久性を向上させるために、金属反射層の表面を強酸、強アルカリ等で処理したり、金属反射層の表面に無機皮膜や金属酸化皮膜を形成したりしてもよい。また、金属反射層の表面に、変色防止剤を含む変色防止剤層を更に設けてもよい。
　変色防止剤としては、金属を吸着する吸着基を有するものと、酸化を防止するものとに大別される。変色防止剤の例としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系等の変色防止剤が挙げられる。
＜保護層＞
　本発明のフィルムミラーでは、太陽光、雨水、砂塵等による金属反射層の劣化や破損を防止し、鏡面性の安定化を図るために、上記金属反射層の光入射側に、保護層を有する。
　本発明における保護層は、バインダーとして樹脂を含有する。保護層の形成に用いられる樹脂は、強度、熱や光に対する耐久性、空気や水分の遮断性、保護層と隣接する層（例えば、金属反射層）との密着性に加え、透明性、特にフィルムミラーが必要とする波長の光に対する透過性に優れたフィルム又は層を形成し得るものが好ましい。
　保護層の形成に用いられる樹脂としては、例えば、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）系樹脂、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、オレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等）、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、エチレンビニルアルコール樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、エチレンアクリル酸エステル共重合体、エチレンアクリル酸共重合体、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン系樹脂等を挙げることができる。
　これらの中でも、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂等が好ましく、光透過性の観点からアクリル樹脂がより好ましい。
　本発明における保護層には、架橋剤が含有されていてもよい。架橋剤が含有されていると、保護層中に架橋構造が形成されるため、強度がより向上するとともに、隣接する金属反射層との密着性がより向上する等の利点がもたらされる。
　架橋剤としては、保護層を構成する樹脂との相関により選択することができ、例えば、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メラミン化合物、ビスビニルスルオン化合物などが挙げられ、効果の観点からは、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、及びエポキシ化合物からなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤が好ましい。
　保護層には、上記の各成分に加え、例えば、紫外線吸収剤、光重合開始剤、帯電防止剤、塗布助剤（レベリング剤）、酸化防止剤、消泡剤等の添加剤が含有されていてもよい。
〔保護層の形成方法〕
　例えば、金属反射層の面上に保護層を形成する方法としては、以下の方法が挙げられる。但し、本発明においては、これらの方法に限定されるものではない。
（１）上記樹脂及び所望により併用される成分を溶剤に溶解させ、保護層形成用塗布液を調製し、この保護層形成用塗布液を金属反射層の面上に塗布し、乾燥させることにより、保護層を形成する方法。
（２）上記（１）の保護層形成用塗布液を金属反射層の面上に塗布し、乾燥させて、金属反射層の面上に膜を形成した後、この膜に対して、加熱、ＵＶ照射等を施すことにより、保護層を形成する方法。
（３）上記樹脂及び所望により併用される成分の混合物を、上記樹脂が溶融する温度まで加熱した後、得られた溶融物を金属反射層の面上にキャストすることにより、保護層を形成する方法。
（４）上記樹脂及び所望により併用される各成分の混合物を予め成形してフィルムとし、このフィルムを、粘着剤を用いて金属反射層に貼り合わせるか、又は、熱ラミネート等により金属反射層に融着させることにより、保護層を形成する方法。
　保護層の膜厚は、必要な保護機能と耐久性とを達成し、且つ、光反射能低減を抑制するといった観点から、３μｍ～３０μｍであることが好ましく、５μｍ～１０μｍであることがより好ましい。
［太陽光集光用フィルムミラー］
　本発明のフィルムミラーは、金属反射層で反射する光の入射側とは反対側、すなわち、裏面からの光に対して優れた耐久性を有するので、屋外に設置され、その裏面が地面からの照り返しの光に晒される太陽光集光用フィルムミラーとして好適に用いることができる。特に、本発明のフィルムミラーは、砂漠等の強い太陽光に晒される場所に設置される太陽熱発電に用いられる太陽光集光用フィルムミラーとして有用である。
　また、本発明のフィルムミラーは、自己支持性を有しているので、その裏面全体にアルミ等の金属製の基材を貼り付ける必要がなく、従来のフィルムミラーに比して軽量である。したがって、本発明のフィルムミラーによれば、運搬や屋外での設置といった煩雑な作業の負担を低減することができる。
［太陽光反射装置］
　本発明の太陽光反射装置は、本発明のフィルムミラーが光透過性領域を有する支持部材に支持されてなる。本発明のフィルムミラーは、上述のように、自己支持性を有しているので、その全面を支持部材で支える必要がなく、また、裏面からの光に対して優れた耐久性を有するので、その裏面全体を覆う必要がない。本発明の太陽光反射装置によれば、本発明のフィルムミラーを全面で支える支持部材を必要としないので、軽量であり、屋外での設置等の作業性に優れる。
　また、本発明の太陽光反射装置は、裏面からの光に対して優れた耐久性を有する本発明のフィルムミラーを備えているので、砂漠等の強い太陽光に晒される場所に設置される太陽熱発電用太陽光反射装置として有用である。
　本発明の太陽光反射装置において、本発明のフィルムミラーを支持部材に支持する方式としては、点支持であっても、面支持であってもよい。点支持の場合には、フィルムミラーが支持部材と１点以上の支持点により固定化されていればよく、例えば、支持脚のみで支える方法が挙げられる。面支持の場合には、光透過性領域を有する形状の部材の面と接触して支えられていればよく、支持面の形状は、支持部材の形状にもよるが、例えば、枠状、格子状等が挙げられる。
　支持部材の材料は、特に限定されるものではなく、例えば、鋼、銅、アルミニウム、銅めっき鋼、錫めっき鋼、アルミニウムめっき鋼、ステンレス鋼、クロムめっき鋼等の金属、樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐食性の観点から、めっき鋼、ステンレス板、及びアルミニウムが好ましく、軽量化の観点から、アルミニウムがより好ましい。
　以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［フィルムミラーの作製］
〔実施例１〕
－めっき下塗りポリマー層の形成－
　樹脂基材であるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ４３００、両面易接着処理済、厚み：２５０μｍ、東洋紡社製）の一方の面上に、下記の方法により調製しためっき下塗りポリマー層形成用塗布液を、乾燥後の膜厚が約０．５μｍとなるように、バーコート法により塗布した。次いで、２５℃で１０分間、及び８０℃で５分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＵＶランプ：メタルハライドランプ、ＧＳユアサ社製）を用いて、ＵＶ露光（波長：２５４ｎｍ、ＵＶ露光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、めっき下塗りポリマー層を形成した。
－めっき下塗りポリマー層形成用塗布液の調製－
　下記構造のアクリルポリマー１（下記構造における各繰り返し単位の数字は、質量換算の組成比を表す。）（７質量部）、１－メトキシ－２プロパノール（７４質量部）、及び水（１９質量部）の混合溶液に、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ－４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加し、攪拌することにより、アクリルポリマー１を含むめっき下塗りポリマー層形成用塗布液を調製した。なお、アクリルポリマー１の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出）は、５．３万であり、アクリルポリマー１におけるカルボン酸基の含有量は、４．３ｍｅｑ／ｇであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 
（金属前駆体の付与）
　めっき下塗りポリマー層が形成されたＰＥＴフィルム（以下、適宜、めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムと称する。）を、１質量％炭酸水素ナトリウム水溶液中に５分間浸漬させた後、純水で洗浄した。
　次に、この浸漬及び洗浄後のめっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを、１質量％硝酸銀水溶液中に５分間浸漬させた後、純水で洗浄し、めっき下塗りポリマー層に無電解めっき触媒である金属前駆体（銀イオン）を付与した。
（金属前駆体の還元）
　次に、金属前駆体である銀イオンが付与されためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを、４０ｍｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウムと２．２質量％のホルマリンとを含むアルカリ水溶液（ｐＨ１２）（還元液に相当）に浸漬させた後、純水で洗浄することにより、めっき下塗りポリマー層に付与された銀イオンを還元した。
－金属反射層の形成－
（電気めっき）
　次に、還元銀を表面に有するめっき下塗りポリマー層に対して、以下の電気めっき処理を行ない、銀反射層（厚み：１００ｎｍ）を形成した。
　電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ８．０に調整したものを調製した。この電気めっき液に、還元銀を表面に有するめっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを浸漬させ、０．５Ａ／ｄｍ2にて２０秒間めっきした後、純水で１分間掛け流しにより洗浄した。
　電気めっき後処理として、めっき後のＰＥＴフィルムを、ダインシルバーＡＣＣ（大和化成社製）の１０質量％水溶液に９０秒間浸漬させた後、純水で１分間掛け流しにより洗浄した。このようにして、ＰＥＴフィルム上に、金属反射層である銀反射層を形成した。
　金属反射層の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約４ｎｍであった。
－保護層の形成－
　上記にて得られた金属反射層のめっき処理面上に、下記の保護層形成用塗布液１を、乾燥重量が１０ｇ／ｍ２となるようにバーコート法により塗布した。そして、これを１３０℃で１分間乾燥することにより、保護層１を形成した。
～保護層形成用塗布液１の組成～
・ダイヤナールＢＲ－１０２　　　　　　　　　　　　　　　２１質量部
〔アクリル樹脂、三菱レーヨン社製〕（バインダー）
・Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
〔ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、住友化学社製〕（紫外線吸収剤）
・シクロヘキサノン（溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
・メガファックＦ－７８０Ｆ　　　　　　　　　　　　　０．０４質量部
〔フッ素系界面活性剤、固形分：３０質量％、ＤＩＣ社製〕（塗布助剤）
　次に、保護層１の上に、下記の保護層形成用塗布液２を、乾燥重量が８ｇ／ｍ２となるようにバーコート法により塗布した。そして、これを１３０℃で１分間乾燥した後、窒素雰囲気下で、照射量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように高圧水銀灯を照射することにより、保護層２を形成した。
－保護層形成用塗布液２の組成－
・ディフェンサＦＨ－７００　　　　　　　　　　　　　　　２２質量部
〔フッ素系ＵＶ硬化樹脂、固形分：９１質量％、ＤＩＣ社製〕（ハードコート剤）
・シクロヘキサノン（溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
・メチルエチルケトン（溶剤）　　　　　　　　　　　　　　７２質量部
・メガファックＦ－７８０Ｆ　　　　　　　　　　　　　０．０４質量部
〔フッ素系界面活性剤、固形分：３０質量％、ＤＩＣ社製〕（塗布助剤）
－紫外線遮断層の形成－
　上記ＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面上に、下記の紫外線遮断層形成用塗布液１を、乾燥後の膜厚が約１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させることにより、紫外線遮断層を形成した。
　なお、形成された紫外線遮断層の波長２００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３１００、島津製作所社製）を用いて測定したところ、上記の全波長域において、５％以下であった。
－紫外線遮断層形成用塗布液１の組成－
・ジュリマーＥＴ４１０　　　　　　　　　　　　　　　　　６８質量部
〔アクリル樹脂、固形分：３０質量％、日本純薬社製〕（バインダー）
・エポクロスＷＳ－７００　　　　　　　　　　　　　　２４．５質量部
〔オキサゾリン化合物、固形分：２５質量％、日本触媒社製〕（架橋剤）
・ナロアクティーＣＬ９５の１質量％水溶液　　　　　　　　　３質量部
〔ナロアクティーＣＬ９５・・・ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、固形分：１００質量％、三洋化成工業社製〕（界面活性剤）
・ＭＦ－５７６５　Ｗｈｉｔｅ　　　　　　　　　　　　　４．５質量部
〔酸化チタン系着色剤、固形分：６６．５質量％、大日精化工業社製〕（紫外線遮断剤）
　このようにして、光入射側から、保護層、金属反射層、樹脂中間層（めっき下塗りポリマー層）、樹脂基材、及び紫外線遮断層をこの順に有する実施例１のフィルムミラーを作製した。
〔実施例２〕
　実施例１において、上記ＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面上に、下記の紫外線遮断層形成用塗布液２を、乾燥後の膜厚が約１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させることにより、紫外線遮断層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、実施例２のフィルムミラーを作製した。
　なお、形成された紫外線遮断層の波長２００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３１００、島津製作所社製）を用いて測定したところ、上記の全波長域において、５％以下であった。
－紫外線遮断層形成用塗布液２の組成－
・ジュリマーＥＴ４１０　　　　　　　　　　　　　　　　　６５質量部
〔アクリル樹脂、固形分：３０質量％、日本純薬社製〕（バインダー）
・エポクロスＷＳ－７００　　　　　　　　　　　　　　　　２３質量部
〔オキサゾリン化合物、固形分：２５質量％、日本触媒社製〕（架橋剤）
・ナロアクティーＣＬ９５の１質量％水溶液　　　　　　　　　３質量部
〔ナロアクティーＣＬ９５・・・ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、固形分：１００質量％、三洋化成工業社製〕（界面活性剤）
・ＭＦ－５６３０　Ｂｌａｃｋ　　　　　　　　　　　　　　　９質量部
〔カーボンブラック系着色剤、固形分：３１．５質量％、大日精化工業社製〕（紫外線遮断剤）
〔実施例３〕
　実施例１において、上記ＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面上に、下記の紫外線遮断層形成用塗布液３を、乾燥後の膜厚が約１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させることにより、紫外線遮断層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、実施例３のフィルムミラーを作製した。
　なお、形成された紫外線遮断層の波長２００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３１００、島津製作所社製）を用いて測定したところ、上記の全波長域において、５％以下であった。
－紫外線遮断層形成用塗布液３の組成－
・ジュリマーＥＴ４１０　　　　　　　　　　　　　　　　　５４質量部
〔アクリル樹脂、固形分：３０質量％、日本純薬社製〕（バインダー）
・エポクロスＷＳ－７００　　　　　　　　　　　　　　１９．５質量部
〔オキサゾリン化合物、固形分：２５質量％、日本触媒社製〕（架橋剤）
・ナロアクティーＣＬ９５の１質量％水溶液　　　　　　　　　３質量部
〔ナロアクティーＣＬ９５・・・ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、固形分：１００質量％、三洋化成工業社製〕（界面活性剤）
・ＴＩＮＵＶＩＮ　４００－ＤＷ　　　　　　　　　　　２３．５質量部
〔紫外線吸収剤、有効成分：１０質量％、固形分：２０質量％、ＢＡＳＦジャパン社製〕
（紫外線遮断剤）
〔実施例４〕
　実施例１において、上記ＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面上に、高周波スパッタリング（Radio frequency sputtering：ＲＦ）法（ターゲット：酸化亜鉛（ＺｎＯ）、スパッタリングガス：Ａｒ／Ｏ２）を用いて、膜厚２００ｎｍの酸化亜鉛からなる紫外線遮断層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、実施例４のフィルムミラーを作製した。
　なお、形成された紫外線遮断層の波長２００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３１００、島津製作所社製）を用いて測定したところ、上記の全波長域において、５％以下であった。
〔実施例５〕
　実施例１において、上記ＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面上に、高周波スパッタリング（Radio frequency sputtering：ＲＦ）法（ターゲット：アルミニウム（Ａｌ）、スパッタリングガス：Ａｒ）を用いて、膜厚２００ｎｍのアルミニウムからなる紫外線遮断層を形成したこと以外は実施例１と同様にして、実施例５のフィルムミラーを作製した。
　なお、形成された紫外線遮断層の波長２００ｎｍ～３８０ｎｍにおける透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３１００、島津製作所社製）を用いて測定したところ、上記の全波長域において、５％以下であった。
〔実施例６〕
　実施例６のフィルムミラーは、実施例１と同様にして、一方の面上に、めっき下塗りポリマー層、金属反射層、及び保護層を形成したＰＥＴフィルムと、下記の方法により、一方の面上に、紫外線遮断層を形成したＰＥＴフィルムと、を準備し、これら２種類のフィルムを、接着剤を用いて貼り合わせることにより作製した。
　接着剤として、ＬＩＳ―８２５（東洋インキ社製）４１．８質量％、及びＬＣＲ－９０１（東洋インキ社製）３質量％を、酢酸エチル５５．２質量％に溶解させることにより得られた接着剤溶液を用いた。
　ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、両面易接着処理済、厚み：２５０μｍ、東洋紡社製）の一方の面上に、上記の紫外線遮断層形成用塗布液１を、乾燥後の膜厚が約１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１２０℃で１０分間乾燥させることにより、紫外線遮断層を形成した。
　次に、ＰＥＴフィルムの紫外線遮断層が形成された側とは反対側の面上に、接着剤を厚さ約１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、室温で２分間及び８０℃で１０分間乾燥させた後、この接着剤の面と、保護層等を形成したＰＥＴフィルムの保護層が形成された側とは反対側の面とが対向するように、ローラーで貼り合せた。
〔比較例１〕
　実施例１において、樹脂基材であるＰＥＴフィルムの一方の面上に、紫外線遮断層を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例１のフィルムミラーを作製した。
［耐久性評価］
１．破断強度
　実施例１～実施例６のフィルムミラーを構成する、紫外線遮断層が形成された樹脂基材（以下、「紫外線遮断層形成基材」という。）を以下の方法により作製した。
　実施例１～実施例５のフィルムミラーを構成する紫外線遮断層形成基材は、ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、両面易接着処理済、厚み：２５０μｍ、東洋紡社製）の一方の面上に、それぞれ実施例１～実施例５と同様の方法で、紫外線遮断層を形成することにより作製した。
　実施例６のフィルムミラーを構成する紫外線遮断層形成基材は、ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、両面易接着処理済、厚み：２５０μｍ、東洋紡社製）の一方の面上に、実施例６と同様の方法で、紫外線遮断層を形成した後、このＰＥＴフィルムの紫外線遮断層が形成された側とは反対側の面上に、実施例６と同様の方法で、ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、両面易接着処理済、厚み：２５０μｍ、東洋紡社製）を貼り合わせることにより作製した。
　上記の方法により作製した実施例１～実施例６のフィルムミラーを構成する紫外線遮断層形成基材をそれぞれ２枚用意し、それぞれ幅３０ｍｍ×長さ１５０ｍｍに裁断した。そして、２枚のうち１枚を、キセノンランプ耐光性試験機（Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ　Ｐａｎｅｌ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃、ＡＴＬＡＳ社製）内に、紫外線遮断層に紫外線が照射されるように、紫外線遮断層側を上にして配置し、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で１０００時間放置（以下、「湿熱処理」という。）した。
　そして、湿熱処理を施した紫外線遮断層形成基材、及び、湿熱処理を施していない紫外線遮断層形成基材（湿熱処理前の紫外線遮断層形成基材に相当）について、それぞれ長さ方向に、１００ｍｍ／分の力で引っ張り、紫外線遮断層形成基材が破断するまでの伸びを測定した。
　比較例１のフィルムミラーで用いた樹脂基材を２枚用意し、それぞれ幅３０ｍｍ×長さ１５０ｍｍに裁断した。そして、２枚のうち１枚を、キセノンランプ耐光性試験機内に配置し、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で１０００時間放置（湿熱処理）した。
　そして、湿熱処理を施した樹脂基材、及び、湿熱処理を施していない樹脂基材（湿熱処理前の樹脂基材に相当）について、それぞれ長さ方向に、１００ｍｍ／分の力で引っ張り、樹脂基材が破断するまでの伸びを測定した。
　得られた測定値から、破断強度保持率（％）（湿熱処理後の破断強度／湿熱処理前の破断強度×１００）を算出し、以下の評価基準に従って、樹脂基材の破断強度からみた耐久性を評価した。結果を表１に示す。
　なお、実用上許容できるものは、「Ａ」及び「Ｂ」に分類されるものである。
（評価基準）
　　Ａ：破断強度保持率が９０％以上である。
　　Ｂ：破断強度保持率が８０％を超えて９０％未満である。
　　Ｃ：破断強度保持率が８０％以下である。
２．密着性からみた耐久性
　試験は、ＪＩＳ　Ｋ５４００のテープ試験方法に準じた方法にて行なった。
　実施例１～実施例６のフィルムミラーを幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍに裁断して、測定用の試料を準備した。各試料を、キセノンランプ耐光性試験機（Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ　Ｐａｎｅｌ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃、ＡＴＬＡＳ社製）内に、紫外線遮断層に紫外線が照射されるように、紫外線遮断層側を上にして配置し、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で１０００時間放置（湿熱処理）した。
　また、比較例１のフィルムミラーを幅１００ｍｍ×長さ１００ｍｍに裁断して、測定用の試料を準備した。試料を、キセノンランプ耐光性試験機（Ｃｉ５０００、パワー：１８０Ｗ、Ｂｌａｃｋ　Ｐａｎｅｌ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ：８３℃、ＡＴＬＡＳ社製）内に、樹脂基材側を上にして配置し、温度５５℃、湿度５０％ＲＨの条件下で１０００時間放置（湿熱処理）した。
　湿熱処理後のフィルムミラーの保護層に対して、カッターを用いて、１ｍｍ間隔で縦横それぞれ１１本ずつ素地面に達する切れ込みを入れた。そして、保護層の切れ込みを入れた面に、粘着テープ（ＣＴ２４、ニチバン社製）を貼り付け、その上からケシゴムでこすり、粘着テープを完全に付着させた後、垂直方向に勢いよく引き剥がした。そして、樹脂基材を構成する樹脂のめっき下塗りポリマー層への付着状態を目視にて観察することにより、樹脂基材とめっき下塗りポリマー層との密着性からみた耐久性を評価した。結果を表１に示す。評価基準については、以下のとおりである。
　なお、実用上許容できるものは、「Ａ」に分類されるものである。
（評価基準）
　　Ａ：樹脂基材を構成する樹脂のめっき下塗りポリマー層への付着が認められない。
　　Ｂ：樹脂基材を構成する樹脂のめっき下塗りポリマー層への付着が認められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 
　表１に示すように、樹脂基材の金属反射層側とは反対側に、紫外線遮断剤を含む紫外線遮断層、また、金属や金属酸化物の膜からなる紫外線遮断層を設けることで、樹脂基材の金属反射層側とは反対側からの光入射に起因する樹脂基材の破断強度の低下を抑制できるとともに、樹脂基材と該樹脂基材と隣接する層（例えば、めっき下塗りポリマー層）との密着性を維持できることが明らかとなった。
　本発明の具体的態様の前記記述は、記述と説明の目的で提供するものである。開示された、まさにその形態に本発明を限定することを企図するものでもなく、或いは網羅的なものを企図するものでもない。明らかに、当業者が多くの修飾や変形をすることができることは自明である。該態様は、本発明の概念やその実際の応用を最もよく説明するために選定されたものであって、それによって、当業者の他者が企図する特定の用途に適合させるべく種々の態様や種々の変形をなすことができるように、当業者の他者に本発明を理解せしめるためのものである。
　２０１３年３月２９日出願の日本特許出願第２０１３－０７４３８５号公報は、その開示全体がここに参照文献として組み込まれるものである。
  本明細書に記述された全ての刊行物や特許出願、並びに技術標準は、それら個々の刊行物や特許出願、並びに技術標準が引用文献として特別に、そして個々に組み込むことが指定されている場合には、該引用文献と同じ限定範囲においてここに組み込まれるものである。本発明の範囲は下記特許請求の範囲及びその等価物に拠って決定されることを企図するものである。

Claims (14)

  1. 　光入射側から、保護層と、金属反射層と、厚みが１００μｍ以上の樹脂基材と、紫外線遮断層と、をこの順に有するフィルムミラー。
  2. 　前記保護層が紫外線吸収剤と樹脂バインダーを含む第１保護層とフッ素系樹脂を含む第２保護層とを含む、請求項１に記載のフィルムミラー。
  3. 　前記樹脂バインダーが、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂、アクリル樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂、およびポリウレタン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載のフィルムミラー。
  4. 　前記金属反射層の金属が、銀、又は銀を含む合金である、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  5. 　前記金属反射層と前記樹脂基材との間に樹脂中間層を更に有する、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  6. 　前記樹脂中間層が、還元された金属粒子を含む、めっき下塗りポリマー層である、請求項５に記載のフィルムミラー。
  7. 　前記紫外線遮断層が、有機紫外線吸収剤と樹脂バインダーとを含む層、顔料と樹脂バインダーとを含む層、金属層、および金属酸化物層からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  8. 　前記紫外線遮断層が、白色顔料と樹脂バインダーとを含む層である、請求項７に記載のフィルムミラー。
  9. 　前記樹脂基材が、ポリエステル樹脂またはポリイミド樹脂を含む基材である、請求項１～請求項８のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  10. 　前記樹脂基材が多層構造である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  11. 　前記多層構造を構成する複数の樹脂基材のうち、最も光入射側に位置する樹脂基材の厚みが１００μｍ以上である請求項１０に記載のフィルムミラー。
  12. 　２００ｎｍ～３８０ｎｍの波長領域における前記紫外線遮断層の光線透過率が５％以下である請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  13. 　太陽光集光用として用いられる請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  14. 　請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載のフィルムミラーが、光透過性領域を有する支持部材に支持されてなる太陽光反射装置。
PCT/JP2013/082849 2013-03-29 2013-12-06 フィルムミラー及び太陽光反射装置 WO2014155847A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-074385 2013-03-29
JP2013074385A JP2014199311A (ja) 2013-03-29 2013-03-29 フィルムミラー及び太陽光反射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014155847A1 true WO2014155847A1 (ja) 2014-10-02

Family

ID=51622881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/082849 WO2014155847A1 (ja) 2013-03-29 2013-12-06 フィルムミラー及び太陽光反射装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2014199311A (ja)
WO (1) WO2014155847A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09209162A (ja) * 1996-02-01 1997-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd 無電解めっき層付きシートの製造方法、感光性シート及び金属パターンの形成方法
JP2000180615A (ja) * 1998-12-11 2000-06-30 Mitsui Chemicals Inc 反射体及びそれを用いた反射部材
JP2002122717A (ja) * 2000-10-18 2002-04-26 Oike Ind Co Ltd 耐久性反射フイルム
JP2011150316A (ja) * 2009-12-21 2011-08-04 Konica Minolta Opto Inc 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2012048015A (ja) * 2010-08-27 2012-03-08 Toyobo Co Ltd 反射シート

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09209162A (ja) * 1996-02-01 1997-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd 無電解めっき層付きシートの製造方法、感光性シート及び金属パターンの形成方法
JP2000180615A (ja) * 1998-12-11 2000-06-30 Mitsui Chemicals Inc 反射体及びそれを用いた反射部材
JP2002122717A (ja) * 2000-10-18 2002-04-26 Oike Ind Co Ltd 耐久性反射フイルム
JP2011150316A (ja) * 2009-12-21 2011-08-04 Konica Minolta Opto Inc 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2012048015A (ja) * 2010-08-27 2012-03-08 Toyobo Co Ltd 反射シート

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014199311A (ja) 2014-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5960073B2 (ja) ミラーフィルム、その製造方法、および太陽熱発電装置用または太陽光発電装置用ミラーフィルム
US20160170192A1 (en) Composite film and film mirror for solar light reflection
WO2015037397A1 (ja) ハードコートフィルム及びフィルムミラー
JP2014199363A (ja) フィルムミラー
EP2960688A1 (en) Sunlight-collecting film mirror and method for producing same
JP2016137666A (ja) 光反射フィルム、ならびにこれを用いた光反射体および光反射装置
JP2011158751A (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
JP5630012B2 (ja) 易接着性熱可塑性樹脂フィルム
JP2016157043A (ja) 太陽光集光フィルムミラー及びその製造方法
WO2014208255A1 (ja) フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法
US20150198753A1 (en) Film mirror
JP5833036B2 (ja) ミラーフィルム、その製造方法、及びそれを用いた反射鏡
JP2014193545A (ja) 凹面鏡及びその加工方法
JP5794232B2 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
WO2014155861A1 (ja) フィルムミラー及びそれを用いた太陽光反射板
WO2014155847A1 (ja) フィルムミラー及び太陽光反射装置
WO2014122991A1 (ja) 太陽光集光用反射鏡
WO2014156401A1 (ja) フィルムミラー
JP2014199348A (ja) フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法
JP2014199319A (ja) 太陽光集光用フィルムミラーの製造方法および太陽光集光用フィルムミラー
JP2014194469A (ja) 太陽光集光用フィルムミラー及びその製造方法、並びに太陽光反射板
JP2014199297A (ja) フィルムミラー
JP2015077786A (ja) 複合フィルム
WO2014155860A1 (ja) ミラーユニット及びそれを用いた太陽光反射板
WO2014122845A1 (ja) フィルムミラー及びそれを用いて作製された太陽光反射板

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13879987

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13879987

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1