JP2000180615A

JP2000180615A - 反射体及びそれを用いた反射部材

Info

Publication number: JP2000180615A
Application number: JP10352818A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kawamoto; 悟志川本; Masayoshi Gotou; 優美後藤; Shin Fukuda; 福田　　伸
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1998-12-11
Filing date: 1998-12-11
Publication date: 2000-06-30

Abstract

(57)【要約】【課題】透明高分子フィルム１０と銀薄膜層２０の界
面において起こる光熱劣化を抑制する。【解決手段】少なくとも、透明高分子フィルム
（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）からなる構成ＡＢの透明高分子
フィルム側を反射面とする反射体において、透明高分子
フィルム（Ａ）としてアシル基を持つ高分子を使用す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射率の高い銀を用
いた反射体及びそれを用いた反射部材に関する。更に詳
しくは、耐光性、耐熱性に優れた銀を用いた反射体及び
それを用いた反射部材に関する。本発明の反射体および
反射部材の使用例としては、液晶表示装置のバックライ
トのランプリフレクター（ランプハウス）、プリンター
及びＦＡＸ等に用いられる反射鏡、蛍光灯の反射傘、ス
トロボの反射傘、コンパクトの鏡等が挙げられるが、こ
れ以外にもほとんどすべての光反射体を挙げることがで
きる。

【０００２】

【従来の技術】銀は可視光域及び赤外域に高い反射率を
持ち、また電気及び熱の伝導率が金属中で最大であるこ
とから、可視光線反射材料及び熱線反射材料、電気配線
材料として注目されている。一般的に、銀は大気中で酸
化することはないが、大気中の亜硫酸ガス、硫黄と反応
し黒色の硫化銀を生成する。また、オゾンと反応し黒色
の酸化銀（ＡｇＯ）を生成する。

【０００３】大気による銀の硫化を防止する方法として
は、銀を合金化する方法が知られている。例えば、電気
接点用には、３〜４０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、また、
Ｃｄを含む銀が、更には１０ｗｔ％のＡｕを含む銀が用
いられている。また、歯科用には２５ｗｔ％のＰｄと１
０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、装飾用には５〜２０ｗｔ％
のＣｕを含む銀が用いられている。また、銀の実用性能
に関しては「貴金属の実際知識」山本勇三編著、東洋経
済新報社昭和５７年頁７２〜１５３に詳しく述べら
れている。

【０００４】その他の硫化防止方法としては、銀を金属
層または金属酸化物層、金属硫化物層、合金層、下塗り
樹脂層、保護樹脂層により被覆する方法が知られてい
る。例えばガラス上に銀を成膜した後に、ＣｕとＳｎか
らなる合金層を積層し、更に樹脂層を積層することによ
り銀の腐食を防止し、また、耐スクラッチ性を高める方
法が知られている（特開昭４９−１０７５４７）。ま
た、本発明者らも、銀薄膜層の両面にアルミ、チタン等
からなる金属層を用いることにより、銀薄膜層の光、
熱、ガス等による腐食を防止することができることを示
している（特開平１−２７９２０１）。

【０００５】近年、反射体として銀を用いた高反射率の
反射体が液晶表示装置のバックライト部のランプリフレ
クターを中心に、蛍光灯の反射傘等に用いられている。
これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄
膜層／接着剤層／アルミ板の層構成からなるいわゆる反
射板（銀反射板）や、ＰＥＴ／銀薄膜層／接着剤層／ア
ルミ薄膜層／ＰＥＴ／光遮蔽層からなるいわゆる反射シ
ート（銀反射シート）である。これらは、透明高分子フ
ィルムであるＰＥＴと接着剤層により銀を被覆すること
により従来からの問題点であった大気曝露による銀の硫
化、酸化を防止し、高反射率を維持することに成功し
た。たとえば上記銀反射板および銀反射シートを８０℃
の恒温槽中に１０００時間放置したが、硫化等による黒
色、黄色の変色は観察されず、また反射率も低下しなか
った。また６０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽に１０００
時間放置したが同様に変色及び反射率の低下は観察され
なかった。

【０００６】近年、Ｑ−ＰＡＮＥＬ社（米国）のＱＵＶ
試験器を用いて、上記銀反射板及び銀反射シートの紫外
線照射試験を行ったところ、反射面が赤紫色に変色する
という結果を得た。これらはこれまでに一般的に知られ
ていた銀の硫化、酸化による黒色、黄褐色、黄色といっ
た色とは明らかに異なり、またＰＥＴフィルム自身の紫
外線劣化による黄変とも異なっていた。そこで光照射下
において起こる銀薄膜の反射率低下を光劣化と呼ぶこと
にした。これらに対して本発明者らは、波長３００ｎｍ
から３８０ｎｍにおける光線の透過率が、１０％以下で
ある可撓性の基板の片面に銀を含む金属薄膜を積層する
ことにより、可視光線での反射率を著しく低下すること
なく、光（紫外線）、熱などに対する耐久性を改善した
反射体（特開平５−１６２２２７）を提供してきた。

【０００７】透明高分子フィルム／銀からなる反射体の
紫外線劣化に関して更に検討を行ったところ、驚くべき
ことに、紫外線を除いた可視光照射においても同様に赤
紫色に変色することを見いだした。更に該可視光による
光劣化は、常温では非常にゆっくりと進行するものの、
高温下では急速に進行することが分かった。よって今後
この劣化を光熱劣化と呼ぶ。

【０００８】図１に光熱劣化したサンプルの断面透過電
子顕微鏡写真（断面ＴＥＭ写真）を示す。サンプルはＰ
ＥＴ／Ａｇからなる反射体であり、照射強度５００ｍＷ
／ｃｍ²、サンプル温度１００℃の促進劣化試験（光熱
劣化促進試験）を約３００時間行ったものである。ＰＥ
Ｔと銀の界面において、直径数十ｎｍの粒子が観察され
た。また、粒子はＰＥＴ中に侵入していることが分かっ
た。粒子を電子線プローブマイクロアナライザー（ＥＰ
ＭＡ）にて分析したところ銀であることが分かった。

【０００９】光熱劣化の特徴を以下にまとめる。（１）
従来の銀の劣化（酸化・硫化）とは異なる。（２）光熱
劣化は高分子フィルムと銀薄膜層の界面に特有の劣化で
ある。（３）高分子フィルムと銀薄膜層の界面以外の銀
薄膜部分では劣化が観察されない。

【００１０】光熱劣化による反射体の変色を防止する方
法として、本発明者らはこれまでに、透明高分子フィル
ム（Ａ）の片面に金属を含むプラズマによる表面処理を
行い、更に該表面処理面に銀薄膜層（Ｂ）を形成するこ
とにより、透明高分子フィルムと銀薄膜層の界面におい
ておこる変色を抑えることが可能であること見いだし開
示している（特開平０９−１５０４８２）。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は本発明
者らが見いだした光熱劣化による反射体の変色を防止す
ることにある。更に詳しくは、高温下の光照射において
顕著に観察される反射体の変色を防止し、光照射後も高
い反射率を維持することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明者ら
は、かかる問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結
果、透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）からな
る構成ＡＢの透明高分子フィルム側を反射面とする反射
体において、透明高分子フィルム（Ａ）にアセチルセル
ロースフィルムを用いることにより、光熱劣化を防止す
ることが可能であることを見出した。本発明はかかる知
見によりなされるに至ったものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】すなわち、本発明は、（１）少
なくとも、透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）
からなる構成ＡＢの透明高分子フィルム側を反射面とす
る反射体にして、透明高分子フィルム（Ａ）がアシル基
を持つ高分子からなることを特徴とする反射体である。

【００１４】先ず、添付図面について説明するに、図２
は本発明の最も簡単な反射体の構造断面図である。透明
高分子フィルム１０と銀薄膜層２０からなる反射体であ
る。図３は図２に示した反射体と金属板４０とを接着剤
層３０を介してラミネートして作製した反射部材の構造
断面図である。図４は図２に示した反射体と高分子フィ
ルム５０とを接着剤層３０を介してラミネートして作成
した反射部材の構造断面図である。図５は図４に示した
反射部材に更に光遮蔽層６０を積層した反射部材であ
る。図６は図５に示した反射部材の接着剤層３０と高分
子フィルム５０との間に金属層７０を設けた反射部材で
ある。図７は図５に示した反射部材の高分子フィルム５
０と光遮蔽層６０の間に金属層７０を設けた反射部材で
ある。図８は本発明の反射部材を、透明高分子フィルム
側を内側にして折り曲げた液晶表示装置用ランプリフレ
クター９０の使用例を示す図である。ランプリフレクタ
ー９０はランプ１００を包み込むように設置される。

【００１５】ここで言う反射体とは、反射体に入射する
光を元の媒質に戻す物体のことであり、主にここでは可
視領域の光を元の媒質に戻す物体のことを言う。更に詳
細に説明すると、好ましくは波長５５０ｎｍの光の８０
％以上を元の媒質に戻す物質のことであり、より好まし
くは波長４００から７００ｎｍの光の８０％を元の媒質
に戻す物質のことである。図２を用いて本発明の反射体
による反射の概略を説明すると、透明高分子フィルム１
０側から入射した光は、そのほとんどが透明高分子フィ
ルムを透過し銀薄膜層２０に達し、銀薄膜層２０で反射
し、透明高分子フィルム１０を透過し再び元の媒質中に
戻る。

【００１６】図３に示した反射部材の製造方法として
は、一例を挙げると透明高分子フィルム１０の片面に銀
薄膜層を形成し、該銀薄膜層面に接着剤層３０を塗布
し、該接着剤層と金属板４０とをラミネートする方法が
ある。接着剤層と金属板とのラミネートは接着剤塗布後
に続けて行うのが一般的であるが、これ以外にも、塗布
工程とラミネート工程を分離して行うことができる。例
えば熱可塑性のポリエステル系接着剤を用いた際には、
塗布済みの接着剤を熱ロールで加熱溶融させることによ
り、任意の時点にラミネートを行うことができる。

【００１７】図４に示した反射部材は、図３における金
属板４０を高分子フィルム５０に置き換えることで図３
に示した反射部材と同様に製造することができる。

【００１８】図５に示した反射部材は図４の反射部材に
更に光遮蔽層をコーティングにより塗布することで製造
できる。

【００１９】図６に示した反射部材は図５における高分
子フィルム５０の代わりに、高分子フィルム５０に蒸着
等により金属層７０を成膜したフィルムを用い、金属層
側を接着剤層側にしてラミネートすることで製造でき
る。

【００２０】図７に示した反射部材は図６における、高
分子フィルム５０に蒸着等により金属層７０を成膜した
フィルムを、高分子フィルム側を接着剤層側にしてラミ
ネートすることで製造できる。

【００２１】本発明における透明高分子フィルムには、
アシル基を持つ高分子フィルムが用いられる。アシル基
とは、カルボン酸ＲＣＯＯＨからＯＨを除いた残基ＲＣ
Ｏ−の総称であり、例えばホルミル基ＨＣＯ−、アセチ
ル基ＣＨ₃ＣＯ−、マロニル基−ＣＯＣＨ₂ＣＯ−、ベ
ンゾイル基Ｃ₆Ｈ₅ＣＯ−、シンナモイル基Ｃ₆Ｈ₅Ｃ
Ｈ＝ＣＨＣＯ−があげられる。

【００２２】アシル基を持つ高分子フィルムとしてはア
セチルセルロースフィルムがあげられる。アセチルセル
ロースフィルムはセルロースの酢酸エステルであり、精
製セルロースに硫酸、塩化亜鉛などの存在下で無水酢酸
を作用させることにより得られる。セルロースの全ての
水酸基がアセチル化されると酢酸含量６２．５％のトリ
アセチルセルロースが得られる。ここでアセトンなどの
溶剤に対する溶解性を高めるには、これを一部けん化し
アセチル化度を５２〜６０％くらいにして使用する。こ
れらは、プラスチック（アセチル化度５２〜５３．
５）、ラッカー（アセチル化度５４〜５６％）、電気絶
縁物（アセチル化度６０〜６２％）、アセテートレーヨ
ン（アセチル化度５５〜６０％）などに用いられてい
る。アセチルセルロースフィルムのアセチル化度につい
ては特に限定されないが、工業的には平面性、透明性に
優れ、写真フィルムのベースフィルム、偏光板等に用い
られているトリアセチルセルロースフィルムが好ましく
用いられている。

【００２３】透明高分子フィルムの厚みには限定的な値
はないが、好ましくは１０〜２００μｍ程度が、より好
ましくは１０〜１００μｍ程度が、更により好ましくは
２５〜５０μｍ程度が用いられる。使用する透明高分子
フィルムの光学特性は、波長５５０ｎｍの光線透過率が
８０％以上であることが好ましい。より好ましくは、波
長５００〜６００ｎｍの範囲の光に対して光線透過率が
８０％以上であり、更に好ましくは波長４００〜８００
ｎｍの範囲の光に対して光線透過率が８０％以上であ
る。光線透過率が８０％よりも低いと、反射体とした時
の反射率低下し、反射体としての性能上好ましくない。
なお、銀の耐光性を向上させるために透明高分子フィル
ムが紫外線を吸収する特性を有することが好ましいこと
は、本発明者らが既に開示している（ＵＳＰ５，２７
６，６００）。

【００２４】透明高分子フィルムが紫外線を吸収する方
法としては、フィルム表面に紫外線吸収層を形成する方
法と、紫外線吸収剤を高分子に添加する方法とがあげら
れる。紫外線吸収剤としては酸化チタンや酸化亜鉛、酸
化セシウム（IV）、ジルコニア系酸化物等の無機物が、
更に環状イミノエステルやベンゾトリアゾール等の有機
物があげられる。有効な量の紫外線吸収剤量とは、波長
３００ｎｍから波長３８０ｎｍの紫外線を吸収するのに
有効な量の紫外線吸収剤量を言う。更に詳しくは、当該
透明高分子フィルムの波長３００ｎｍから波長３８０ｎ
ｍの透過率が３０％以下であり、より好ましくは２０％
以下であり、更により好ましくは１０％以下である。

【００２５】銀薄膜層の形成法は、湿式法および乾式法
がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から銀
を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると
すれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成
膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加
熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオン
プレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、
スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成
膜するロールツロール方式が可能な真空成膜法が好まし
く用いられる。真空蒸着法では銀の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇さ
せ、好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以
下で基材表面に蒸着させる。

【００２６】イオンプレーティング法では真空蒸着法と
同様に銀の蒸気圧を上昇させ基材表面に蒸着させるが、
この際にアルゴン等のガスを０．１ｍＴｏｒｒ（約０．
０１Ｐａ）以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー
放電を起こし、蒸発中の銀粒子をイオン化する。

【００２７】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスには、ヘリウム、ネ
オン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以
上である。

【００２８】銀薄膜層の厚さは、７０ｎｍ〜３００ｎｍ
が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜２００ｎｍで
ある。あまり薄いと銀の膜厚が十分でないために透過す
る光が存在し反射率が低下する。一方、厚すぎる場合は
反射率が上昇せず飽和傾向を示す上に、銀の資源を有効
に利用するという観点からも好ましくない。銀薄膜層に
は、性能に害を及ぼさない程度の、金、白金、銅、ニッ
ケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タン
タル、クロム、インジュウム、マンガン、チタン、アル
ミ等の金属不純物が含まれてもよい。銀の防食性を高め
る観点からは上記金属を適量含むことが好ましい。一
方、反射性能の観点からは、使用する銀層の純度は９９
％以上が好ましく、より好ましくは９９．９％以上であ
る。

【００２９】本発明において膜厚の測定は、触針粗さ
計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動
子法等があるが、水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定
可能なので所望の膜厚を得るのに適している。また、前
もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行
い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間によ
り膜を制御する方法もある。光熱劣化を防止する上で、
透明高分子フィルムに金属を含むプラズマによる表面処
理を行うことが好ましいことは、本発明者らが既に開示
している（特開平０９−１５０４８２）。

【００３０】金属を含むプラズマとは、例えば真空装置
内に放電ガスを導入し、ＤＣグロー放電またはＲＦグロ
ー放電によりプラズマを生成したところに、電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱等で蒸発させた金属の蒸発粒子
を導入することで得ることができる。また、金属のハロ
ゲン化物、水素化物等を該プラズマ中で分解反応させる
ことにより得ることができる。また、所望の金属を陰極
にしたＤＣグロー放電またはＲＦグロー放電によりプラ
ズマを発生することにより、金属を含むプラズマが得ら
れのである。簡易的にはスパッタ法にて陰極に金属を用
いて得ることができる他に、上記以外の既存の蒸着法
（アーク蒸着法、レーザー蒸着法、クラスターイオンビ
ーム蒸着等）とＲＦ及びＤＣグロー放電によるプラズマ
とを組み合わせることによっても得ることができる。

【００３１】金属を含むプラズマによる表面処理方法に
用いられる金属としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔ
ｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、
Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂ、Ｂｉ等があげられる。なかで
もＴｉ、Ｗ、Ｃｒ、Ｖ、Ｚｎ、Ｃｕが好ましい。

【００３２】金属を含むプラズマによる表面処理とは、
上記金属を含むプラズマに透明高分子フィルム表面を曝
露することにより達成できる。その際、フィルム温度が
上昇しないように裏面より透明高分子フィルムを冷却す
ることがある。また、ロールツロール装置を用いること
により長尺のフィルムを連続的に金属を含むプラズマに
より処理することが可能になるので、該装置が工業的に
好ましく用いられる。金属を含むプラズマによる表面処
理の処理量は、透明高分子フィルムの処理面に付着した
金属原子量を用いて表すことができる。該処理面に付着
する金属の量は、好ましくは５×１０¹⁴原子／ｃｍ²乃
至１×１０¹⁶原子／ｃｍ²であり、より好ましくは１×
１０¹⁵原子／ｃｍ²乃至８×１０¹⁵原子／ｃｍ²であ
り、更により好ましくは２×１０¹⁵原子／ｃｍ²乃至６
×１０¹⁵原子／ｃｍ²である。処理面に付着する金属の
量があまり少なすぎると光熱劣化に対する十分な効果が
得られない。またあまり多すぎると、初期反射率が低下
する。

【００３３】付着金属の量は、膜厚モニター等で測定で
きるが、一般的には連続膜として考えられる１００ｎｍ
程度の膜を形成した際に要した時間を参考に、計算で求
めることができる。具体的には、ｔ（秒）間ある特定の
条件にて表面処理を行った際に付着した金属層の膜厚が
Ｄ（ｎｍ）であったとすると、該金属の密度ρ（ｇ／ｃ
ｍ³）、原子量Ｍから、付着した金属の量Ｎ（原子／ｃ
ｍ²）は、Ｎ＝Ｄ×ρ×６．０２×１０¹⁶／Ｍで求める
ことができる。従って、所望であるところの、金属量ｎ
（原子／ｃｍ²）を表面に付着させるには、同条件にて
ｔ×（ｎ／Ｎ）秒間処理を行えばよいことになる。ま
た、水晶式の膜厚モニターを使用する場合、測定周波数
の減少がδｆ（Ｈｚ）であったときに、付着した金属の
量がＮ（原子／ｃｍ²）であれば、実際にｎ（原子／ｃ
ｍ²）だけの金属を付着させるのに必要な周波数の減少
はδｆ×（ｎ／Ｎ）で計算できる。

【００３４】透明高分子フィルムに金属を含むプラズマ
による表面処理を行い、更に該表面処理面に銀薄膜層を
形成した後、さらに銀薄膜層の保護やフィルムの滑り性
の向上のため、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウ
ム、モリブデン、タングステン等の単金属もしくは合
金、またはインコネル、インコロイ、モネル、ハステロ
イ、ステンレス、ジェラルミン等の合金層を５ｎｍ〜３
０ｎｍ積層することが有効である。なお、該表面処理の
前に透明高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロ
ー放電処理、表面化学処理、粗面化処理等を行うこと
は、銀薄膜層と高分子フィルムの密着性を向上させる手
段として当業者が用いる常套手段であろう。

【００３５】かくして作製された反射体の反射率は、好
ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上
であり、更に好ましくは９０％以上である。なお、本発
明において反射率は特に明記しない限り５５０ｎｍの波
長の光に対しての値をいうものとする。

【００３６】以下に本発明の反射体の評価に用いた光熱
劣化促進試験方法について述べる。光熱劣化促進試験
（光促進劣化試験とも言う）の照射光としては、３９０
ｎｍ以下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃ
ｍ²の擬似太陽光を用いる。擬似太陽光とは屋外での晴
天時の太陽光と同様なスペクトルを持つ光である。具体
的には、キセノンランプに光学フィルムターを組み合わ
せて疑似太陽光スペクトルを得るのである。さらに、Ｕ
Ｖカットフィルターにより、３９０ｎｍ以下の波長の光
をカットする。こうして得られた光の照射強度をサンプ
ル表面でおよそ５００ｍＷ／ｃｍ²とし、光熱劣化促進
試験を行った。この様にすることにより産業上問題とな
る透明高分子フィルムと銀薄膜との界面で発生する光劣
化を短時間で発生させることが可能なのである。

【００３７】光熱劣化促進試験の照射光は、３９０ｎｍ
以下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²
の疑似太陽光であると書いたが、実際は透過限界波長が
３９０ｎｍのＵＶカットフィルターを用いて紫外線をカ
ットした照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の疑似太陽光であ
る。

【００３８】透過限界波長とは、例えば透過率がＡ％に
なる波長と、透過率がＢ％になる波長の中間値で表され
ていることが多く（例えば透過率が７２％になる波長と
５％になる波長の中間の波長を言う）、これらの値と実
質的に除かれる波長の値が異なることは当業者の知ると
ころである。

【００３９】図９に本発明において用いられた、透過限
界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフィルターを通して得
られた疑似太陽光のスペクトルの一例を示す。このスペ
クトル図より、今回用いた照射光は、実質的には３６０
ｎｍ以下の紫外光を除いた光であるということもでき
る。

【００４０】透過限界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフ
ィルターとしてはシグマ光機（株）のシャープカットフ
ィルター品番ＳＣＦ−５０Ｓ−３９Ｌ（透過限界波長３
９０ｎｍ、波長３６０ｎｍにおける透過率が１％以下）
が、また、東芝化成工業（株）のシャープカットフィル
ターＬ−３９（透過限界波長３９０ｎｍ、波長３６０
ｎｍにおける透過率が１％以下）がある。光学特性にお
いてはほぼ同様であり、どちらを用いても同様の試験結
果が得られている。

【００４１】光熱劣化促進試験では、上記光を照射する
と共に、サンプルを１００℃に加熱して行った。サンプ
ルを加熱することにより劣化を促進させることができ
る。加熱は、サンプルを保持するアルミ板の下に板状の
ヒーターを設置し、このヒーターを温調機で制御するこ
とで行った。温調はアルミ板上に密着させた熱電対によ
り温度を測定し行った。

【００４２】本発明で金属板または高分子フィルムとの
ラミネートに用いられる接着剤（粘着剤も含む）として
は、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着剤、ウレタ
ン系接着剤、シリコン系接着剤、エポキシ系接着剤、メ
ラミン系接着剤等があげられるが、必ずしもこれらの種
類に限定されるわけではなく、実用上の接着強度があれ
ば良い。接着強度としては１８０度ピール強度の測定値
が１００ｇ／ｃｍあれば十分であり、好ましくは５００
ｇ／ｃｍであり、より好ましくは１０００ｇ／ｃｍであ
る。あまりに密着強度が小さいと、反射体として曲率半
径１〜５ｍｍ程度に曲げた時に、透明高分子フィルム側
が金属板または高分子フィルムより浮き上がる等の事態
を引き起こすので好ましくない。

【００４３】接着剤層の厚みとしては、０．５μｍ〜５
０μｍが好ましく、より好ましくは１μｍ〜２０μｍで
あり、更に好ましくは２μｍ〜１０μｍである。あまり
に厚すぎると材料費の点からコスト増となり好ましくな
い。あまりに薄すぎると十分な接着強度が得られない。
接着剤の塗布方法としては、バーコート法、メイヤーバ
ーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、マ
イクログラビヤコート法、ダイコート法等があげられる
が、これらは使用する接着剤の種類、粘度、塗布量、塗
布速度、得られる面状態等を考慮して選定される。

【００４４】本発明の反射体には、銀薄膜層と反対側の
透明高分子フィルム上に透明な保護層を設けても良い。
このような保護層により、反射体の表面硬度、耐光性、
耐ガス性、耐水性など外的環境因子の影響をさらに抑制
することができる。このような保護層の形成に利用でき
る物質の例としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル
などのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリ
メタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより得ら
れる重合体などの珪素樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素
樹脂などの有機物質の他に酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チ
タンなどの無機物質があり、特に４００ｎｍ以下、好ま
しくは３８０ｎｍ以下の波長の光をカットし、更に好ま
しくは１０％以下にカットする能力を有するものを積層
することは銀層の光劣化（紫外線劣化）を防止する上で
好ましい。

【００４５】透明保護層の形成方法としては、コーティ
ング、ドライフィルムのラミネートなど、既存の方法が
あげられる。また、この透明保護層の膜厚は、光反射能
を低下させず、かつ可撓性を損なわない範囲で、保護効
果を発揮する必要があり、その材料、用途に応じて適宜
変更して用いられる。

【００４６】支持体として用いられる金属板としては、
アルミ板、アルミ合金板、真鍮板、ステンレス板、鋼板
等が上げられるが、必ずしもこれらに限定されるわけで
はなく、反射部材の用途により選択される。例えば、ア
ルミは軽量かつ加工性に優れ、また熱伝導率が高くそれ
にかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるた
め、ノートパソコンなどのＬＣＤのバックライトに用い
られる反射部材に好適に利用できる。アルミ合金は軽量
かつ機械的強度が強いことから、構造部材を兼ねる反射
部材に好適に利用できる。ステンレスは機械的強度が高
度にあり、また耐食性にすぐれているので、屋外で使用
される反射部材をはじめ、材料の薄板化が必要な用途に
好適に用いられる。真鍮（黄銅）、すなわち銅亜鉛合金
は機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なた
めアースを必要とする反射部材に好適に用いられる。鋼
板は安価であることから、コストを優先する用途である
蛍光灯用反射傘等に好適に用いられる。

【００４７】支持体としての金属板の厚みは、コスト低
減及び曲げやすさの観点からは薄い方が好ましく、銀薄
膜層などとラミネートする際の取扱いの容易さや形状保
持性の観点からは、厚い方が良い。金属板の好ましい厚
みは０．０２ｍｍ〜５ｍｍであり、さらに好ましくは
０．０５ｍｍ〜１ｍｍであり、よりさらに好ましくは
０．１ｍｍ〜０．５ｍｍである。

【００４８】支持体に用いられる高分子フィルムとして
は、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、ポリブチレンテレフテレート（ＰＢＴ）、アクリ
ル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルホン（Ｐ
ＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポ
リアリレート、ポリエーテルイミド、ポリイミドなどの
ホモポリマーまたはコポリマーがあげられる。特に好ま
しくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、
該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色の
ものが好まれる。また該高分子フィルムの厚みは、コス
ト低減及び、曲げ易さからは薄い方が好ましく、銀薄膜
層等とラミネートする際の取扱い（ハンドリング）性及
び形状保持性からは、厚みは厚い方が良い。好ましいフ
ィルムの厚みは、５μｍ〜５００μm、さらに好ましく
は１０μｍ〜２００μmであり、１５μｍ〜１００μｍ
が好ましく用いられる。

【００４９】光遮蔽層としては、白色顔料を樹脂中に分
散させた白色塗装が用いられる。白色顔料としてはアル
ミナ、チタニア（チタン白）、酸化鉛（鉛白）、酸化亜
鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バ
リウム、チタン酸カリウム、珪酸ソーダ等があげられ
る。バインダー樹脂としてはアクリル系樹脂や、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が用
いられる。

【００５０】金属層としては、クロム、ニッケル、チタ
ン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の単金
属もしくは合金が、又はインコネル、インコロイ、モネ
ル、ハステロイ、ステンレス、ジェラルミン等の合金を
使用することができる。しかしながら、特にこれらの金
属に限定されるのではなく、銀薄膜のピンホールに起因
する光抜けを防止できるものであればどんな金属でも構
わない。工業的には安価なアルミニウムが用いられる
が、膜厚は３０ｎｍもあれば十分である。

【００５１】本発明品である銀反射体の構成、及び組成
の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接着
剤層、支持体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕
微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。高分
子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）を行うこと
によりできる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と支
持体を引き剥して接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれ
を溶かした試料を作製し、その赤外分光（ＩＲ）を行う
ことできる。銀薄膜層及び支持体の材料分析は、蛍光Ｘ
線分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ線マイクロ
アナライザ（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部
分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形成された高
分子フィルムを、接着剤層から引き剥し銀薄膜層を露出
させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）により組成分
析、及び深さプロファイルをとることで厚さも知ること
ができる。

【００５２】反射率は分光光度計に積分球を設置して測
定した。具体的には、日立自動自記分光光度計（型式：
Ｕ−３４００）に１５０φ積分球（型式：１５０−０９
０１）を設置し測定した。標準サンプル（リファレン
ス）には酸化アルミニウムからなる標準白色板を用い
た。

【００５３】

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。銀薄膜の成膜はＤＣマグネトロンスパッタにより行
った。はじめに透明高分子フィルムを真空槽内にセット
し、真空槽内を２．６×１０^-3Ｐａまで真空排気し、続
いてスパッタガスとしてアルゴンガスを真空槽内に１．
５×１０^-1Ｐａまで導入し、ＤＣグロー放電を起こし
た。用いたターゲットの直径は１０ｃｍであり、ターゲ
ット基板間距離は５０ｍｍである。また放電電圧は約３
２０Ｖ、電流値は０．２５Ａである。５分のプレスパッ
タの後、６分間成膜し、銀薄膜を１５０ｎｍ成膜した。
成膜速度は２５ｎｍ／分である。成膜中の基板加熱は行
っていない。

【００５４】光熱劣化促進試験は、３９０ｎｍ以下の波
長の光を除いた照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽
光を用いて行った。また、反射体は１００℃に加熱し
た。光源には山下電装（株）のソーラシミュレータ、型
式ＹＳＳ−５０５Ｈを用いた。また、東芝化成工業
（株）シャープカットフィルターＬ−３９を用い
て、３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた。反射体の反射
率は、日立自記分光光度計（Ｕ−３４００）に１５０φ
積分球を設置し測定した。標準サンプル（リファレン
ス）には酸化アルミニウムからなる標準白色板を用い
た。

【００５５】〔実施例１〕トリアセチルセルロースフィ
ルム（富士写真フィルム（株）、商品名ＦＵＪＩＴＡ
Ｃ、クリアー品、膜厚３８μｍ）上に銀をＤＣマグネト
ロンスパッタにより成膜し透明高分子フィルム／銀薄膜
からなる試料を作製した。

【００５６】〔比較例１〕ポリエステルフィルム（東レ
（株）、型番Ｔ−６０、膜厚２５μｍ）上に銀をＤＣマ
グネトロンスパッタにより成膜し透明高分子フィルム／
銀薄膜からなる試料を作製した。

【００５７】〔比較例２〕高密度ポリエチレンフィルム
（東洋整機樹脂加工（株）、型番ＳＭＫＵ、一軸延伸フ
ィルム、膜厚２５μｍ）上に銀をＤＣマグネトロンスパ
ッタにより成膜し透明高分子フィルム／銀薄膜からなる
試料を作製した。

【００５８】〔比較例３〕ポリプロピレンフィルム（東
レ（株）、商品名トレファン、膜厚５０μｍ）上に銀を
ＤＣマグネトロンスパッタにより成膜し透明高分子フィ
ルム／銀薄膜からなる試料を作製した。

【００５９】〔比較例４〕ポリエーテルスルフォンフィ
ルム（三井化学（株）、商品名ＴＡＬＰＡ、型番１００
０ＧＰ、膜厚２５μｍ）上に銀をＤＣマグネトロンスパ
ッタにより成膜し透明高分子フィルム／銀薄膜からなる
試料を作製した。

【００６０】〔比較例５〕ポリエーテルナフタレンフィ
ルム（アイ・シー・アイ・ジャパン（株）、商品名カラ
デックス、型番１０３０、膜厚２５μｍ）上に銀をＤＣ
マグネトロンスパッタにより成膜し透明高分子フィルム
／銀薄膜からなる試料を作製した。

【００６１】上記実施例及び比較例にて作製したサンプ
ルについて行った光熱劣化促進試験の結果を図１０に示
す。透明高分子フィルムとして、ポリエステルフィル
ム、高密度ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテル
ナフタレンフィルムを用いた場合には約２００時間で急
激に反射率が低下している。一方、透明高分子フィルム
としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた際に
は、１３００時間まで試験を行ったが反射率大きな低下
は観察されていない。測定値にばらつきがあるがこれは
熱によるサンプルの変形等に起因する測定誤差である。
これより透明高分子フィルムにアセチルセルロースフィ
ルムを用いることにより光と熱により起こる反射率の低
下（光熱劣化）を抑制することができることが分かる。

【００６２】

【発明の効果】透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜層
（Ｂ）からなる構成ＡＢの透明高分子フィルム側を反射
面とする反射体において、透明高分子フィルム（Ａ）に
アセチルセルロースフィルムを用いることにより、光と
熱により起こる反射率の低下を防止することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】光熱劣化した反射体の断面の粒子構造を表す
電子顕微鏡写真を示す図面である。

【図２】本発明の反射体の構造断面図である。

【図３】本発明の反射部材の構造断面図である。

【図４】本発明の反射部材の構造断面図である。

【図５】本発明の反射部材の構造断面図である。

【図６】本発明の反射部材の構造断面図である。

【図７】本発明の反射部材の構造断面図である。

【図８】液晶表示装置用ランプリフレクターの使用例
を示す図面である。

【図９】透過限界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフィ
ルターを通して得られた疑似太陽光のスペクトルを示す
図面である。

【図１０】光熱劣化促進試験の結果を示す図面であ
る。

【符号の説明】

１０透明高分子フィルム２０銀薄膜層３０接着剤層４０金属板５０高分子フィルム６０光遮蔽層７０金属層８０導光板９０ランプリフレクター１００ランプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H042 DA04 DA11 DA18 DA21 DC01 DC02 DC04 DC07 DE04 2H048 CA04 CA05 CA13 CA18 CA24 4F100 AB01C AB03C AB04C AB10C AB24B AB31C AJ06A AK01A AK01C AT00C BA02 BA03 BA07 BA10A BA10B BA10C CA07A EH66B GB41 GB90 JM02B JN01A JN06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、透明高分子フィルム
（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）からなる構成ＡＢの透明高分子
フィルム側を反射面とする反射体にして、透明高分子フ
ィルム（Ａ）がアシル基を持つ高分子からなることを特
徴とする反射体。
【請求項２】アシル基がアセチル基であることを特徴
とする請求項１に記載の反射体。
【請求項３】アシル基を持つ高分子がアセチルセルロ
ースであることを特徴とする請求項１に記載の反射体。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の反射
体の銀薄膜層（Ｂ）側を支持体に接着剤層を介して積層
してなる反射部材。
【請求項５】支持体が金属板または高分子フィルムで
ある請求項４に記載の反射部材。
【請求項６】金属板がアルミ板、真鍮板、ステンレス
板、鋼板のいずれかである請求項５に記載の反射部材
【請求項７】請求項４乃至６のいずれかに記載の反射
部材を、透明高分子フィルム側を内側に折り曲げ、光源
を覆うように設置して使用することを特徴とする液晶表
示装置用ランプリフレクター。
【請求項８】透明高分子フィルムが波長３００ｎｍか
ら３８０ｎｍの紫外線を吸収するのに有効な量の紫外線
吸収剤を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれ
かに記載の反射体及び反射部材。