JP2001033605A

JP2001033605A - 反射体及びそれを用いた反射部材

Info

Publication number: JP2001033605A
Application number: JP11207264A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kawamoto; 悟史川本; Yumi Goto; 優実後藤; Shin Fukuda; 福田　　伸
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1999-07-22
Filing date: 1999-07-22
Publication date: 2001-02-09

Abstract

(57)【要約】【構成】透明高分子フィルム１０、チタン２０、銀薄
膜層３０からなる反射体およびそれを用いた反射部材。【効果】本発明の反射体を用いることにより、透明高
分子フィルム１０と銀薄膜層３０の界面において起こ
る、光熱劣化（熱により加速される光劣化で、劣化部分
が赤紫色に変色する）を抑えることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射率の高い銀を
用いた反射体及びそれを用いた反射部材に関する。更に
詳しくは、耐光性、耐熱性に優れた銀を用いた反射体及
びそれを用いた反射部材に関する。本発明の反射体およ
び反射部材の使用例としては、液晶表示装置のバックラ
イトのランプリフレクター、プリンター及びファックス
等に用いられる反射鏡、蛍光灯の反射傘、ストロボの反
射傘、コンパクトの鏡等が挙げられるが、これ以外にも
ほとんどすべての光反射体を挙げることができる。

【０００２】

【従来の技術】銀は可視光域及び赤外域に高い反射率を
持ち、また電気及び熱の伝導率が金属中で最大であるこ
とから、可視光線反射材料及び熱線反射材料、電気配線
材料として注目されている。一般的に、大気中で酸化す
ることはないが、大気中の亜硫酸ガス、硫黄と反応し黒
色の硫化銀を生成する。また、オゾンと反応し黒色の酸
化銀（ＡｇＯ）を生成する。

【０００３】大気による銀の硫化を防止する方法として
は、銀を合金化する方法が知られている。例えば、電気
接点用には、３〜４０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、また、
Ｃｄを含む銀が、更には１０ｗｔ％のＡｕを含む銀が用
いられている。また、歯科用には２５ｗｔ％のＰｄと１
０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、装飾用には５〜２０ｗｔ％
のＣｕを含む銀が用いられている。また、銀の実用性能
に関しては「貴金属の実際知識」山本勇三編著、東洋経
済新報社昭和５７年頁７２〜１５３に詳しく述べら
れている。

【０００４】その他の硫化防止方法としては、銀を金属
層または金属酸化物層、金属硫化物層、合金層、下塗り
樹脂層、保護樹脂層により被覆する方法が知られてい
る。例えばガラス上に銀を成膜した後に、ＣｕとＳｎか
らなる合金層を積層し、更に樹脂層を積層することによ
り銀の腐食を防止し、また、耐スクラッチ性を高める方
法が知られている（特開昭４９−１０７５４７）。ま
た、本発明者等においても、銀薄膜層の両面にアルミ、
チタン等からなる金属層を用いることにより、銀薄膜層
の光、熱、ガス等による腐食を防止することができるこ
とが示されている（特開平１−２７９２０１）。

【０００５】近年、反射体として銀を用いた高反射率の
反射体が液晶表示装置のバックライト部のランプリフレ
クターを中心に、蛍光灯の反射傘等に用いられている。
これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄
膜層／接着剤層／アルミ板の層構成からなるいわゆる反
射板（銀反射板）や、ＰＥＴ／銀薄膜層／接着剤層／ア
ルミ薄膜層／ＰＥＴ／光遮蔽層からなるいわゆる反射シ
ート（銀反射シート）である。これらは、透明高分子フ
ィルムであるＰＥＴと接着剤層で銀を被覆することによ
り従来からの問題点であった大気曝露による銀の硫化、
酸化を防止し、高反射率を維持することに成功した。た
とえば上記銀反射板および銀反射シートを８０℃の恒温
槽中に１０００時間放置したが、硫化等による黒色、黄
色の変色は観察されず、また反射率も低下しなかった。
また６０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽に１０００時間放
置したが同様に変色及び反射率の低下は観察されなかっ
た。

【０００６】近年、Ｑ−ＰＡＮＥＬ社（米国）のＱＵＶ
試験器を用いて、上記銀反射板及び銀反射シートの紫外
線照射試験を行ったところ、反射面が赤紫色に変色する
という結果を得た。これらはこれまでに一般的に知られ
ていた銀の硫化、酸化による黒色、黄褐色、黄色といっ
た色とは明らかにことなり、またＰＥＴフィルム自身の
紫外線劣化による黄変とも異なっていた。そこで光照射
下において起こる銀薄膜の反射率低下を光劣化と呼ぶこ
とにした。これらに対して我々は、波長３８０ｎｍから
３００ｎｍにおける光線の透過率が、１０％以下である
可撓性の基板の片面に銀を含む金属薄膜を積層すること
により、可視光線での反射率を著しく低下することな
く、光（紫外線）、熱などに対する耐久性を改善した反
射体（特開平５−１６２２２７）を提供してきた。

【０００７】透明高分子フィルム／銀からなる反射体の
紫外線劣化に関して更に検討を行ったところ、驚くべき
ことに、紫外線を除いた可視光照射においても同様に赤
紫色に変色することを見いだした。更に該可視光による
光劣化は、常温では非常にゆっくりと進行するものの、
高温下では急速に進行することが分かった。よって今後
この劣化を光熱劣化と呼ぶ。

【０００８】図１に光熱劣化したサンプルの断面透過電
子顕微鏡写真（断面ＴＥＭ写真）を示す。サンプルはＰ
ＥＴ／Ａｇからなる反射体であり、照射強度５００ｍＷ
／ｃｍ²、サンプル温度１００℃の促進劣化試験（光熱
劣化促進試験）を３００時間行ったものである。ＰＥＴ
と銀の界面において、直径数十ｎｍの粒子が観察され
た。また、粒子はＰＥＴ中に侵入していることが分かっ
た。粒子を電子線プローブマイクロアナライザー（ＥＰ
ＭＡ）にて分析したところ銀であることが分かった。

【０００９】光熱劣化の特徴を以下にまとめる。（１）
光熱劣化は高分子フィルムと銀薄膜層の界面に特有の劣
化である。（２）ＥＰＭＡにて光熱劣化部分を分析した
ところ、従来の銀の劣化で検出された硫黄、塩素、酸素
が検出されなかった。（３）高分子フィルムと銀薄膜層
の界面以外の銀薄膜部分では劣化が観察されない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、本発明者ら
が見いだした光熱劣化による反射体の変色を防止するこ
とを目的とする。更に詳しくは、高温下の光照射におい
て顕著に観察される反射体の変色を防止し、光照射後も
９０％以上の反射率を維持することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明者ら
は、かかる問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結
果、透明高分子フィルムと銀薄膜層とからなる反射体に
おいて、透明高分子フィルムと銀薄膜層の間に４価で存
在し、ルチルやアナターゼに類似した歪んだ八面体配位
構造をとるチタンを用いることにより光熱劣化を防止で
きることを見出した。本発明はかかる知見によりなされ
るに至ったものである。すなわち、本発明は、（１）少なくとも、透明高分子フィルム（Ａ）、チタン
（Ｂ）、銀薄膜層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの透明高分
子フィルム（Ａ）側を反射面とする反射体であり、該透
明高分子フィルム側より測定した反射率が９０％以上で
あり、該チタンが４価として存在し、ルチルやアナター
ゼに類似した歪んだ八面体配位構造をとっていることを
特長とする反射体、（２）（１）に記載の反射体の銀薄膜層（Ｃ）側を支持
体に接着剤層を介して積層してなる反射部材、（３）（２）に記載の反射部材からなる液晶表示装置用
のランプリフレクターに関するものである。

【００１２】先ず、添付図面について説明するに、図２
は本発明の最も簡単な反射体の構造断面図であり、図３
は図２に示した反射体と金属板５０とを接着剤層４０を
介してラミネートして作製した反射部材の構造断面図で
ある。図６は本発明の反射部材の使用例の一例を示す概
略図である。ここでは液晶表示装置のバックライトでの
使用例を示した。ランプ８０を囲むように使用されてい
るのが本発明の反射部材（ランプリフレクター）７０で
ある。

【００１３】我々がここで言う反射体とは、反射体に入
射する光を元の媒質に戻す物体のことであり、主にここ
では可視領域の光の９０％以上を、元の媒質に戻す物体
のことであり、更に好ましくは可視領域の光の９２％以
上を元の媒質に戻す物体のことである。図２を用いて本
発明の反射体による反射の概略を説明すると、透明高分
子フィルム１０側から入射した光は、そのほとんどが透
明高分子フィルム１０及びチタン２０を通過し、銀薄膜
層３０に達し、銀薄膜層３０で反射し、チタン２０及び
透明高分子フィルム１０を透過し、再び元の媒質中に戻
る。

【００１４】図３に示した反射部材の製造方法として
は、透明高分子フィルム１０の片面にチタンを付着さ
せ、更に該チタン付着面に銀薄膜層を形成し、該銀薄膜
層面に接着剤層４０を塗布し、該接着剤層と金属板５０
とをラミネートする方法があげられる。接着剤層と金属
板とのラミネートは接着剤塗布後に続けて行うのが一般
的であるが、これ以外にも、塗布工程とラミネート工程
を分離して行うことができる。例えば熱可塑性のポリエ
ステル系接着剤を用いた際には、塗布済みの接着剤を熱
ロールで溶融させることにより、任意の時点にラミネー
トを行うことができる。

【００１５】本発明における透明高分子フィルムには、
ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ
スチレン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリイミド（ＰＩ）、三酢酸セルロース系樹脂、
ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、フッ素系
樹脂等が使用できるが、必ずしもこれらに限定されるわ
けではなく、透明であり、ある程度ガラス転移温度が高
いものであれば使用できる。

【００１６】透明高分子フィルムの厚みには限定的な値
はないが、好ましくは１０〜２００μｍ程度が、より好
ましくは１０〜１００μｍ程度が、更により好ましくは
２５〜５０μｍ程度が用いられる。使用する透明高分子
フィルムの光学特性は、波長５５０ｎｍの光線透過率が
８０％以上であることが好ましい。より好ましくは、波
長５００〜６００ｎｍの範囲の光に対して光線透過率が
８０％以上であり、更に好ましくは波長４００〜８００
ｎｍの範囲の光に対して光線透過率が８０％以上であ
る。光線透過率が８０％よりも低いと、反射体とした時
の反射率が９０％を下回り、反射体としての性能上好ま
しくない。なお、銀の耐光性を向上させるために透明高
分子フィルムが紫外線を吸収する特性を有することが好
ましいことは、本発明者らが既に開示している（ＵＳ−
５２７６６００）。

【００１７】銀薄膜層の形成法は、湿式法および乾式法
がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から銀
を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると
すれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成
膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加
熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオン
プレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、
スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成
膜するロールツロール方式が可能な真空成膜法が好まし
く用いられる。

【００１８】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以下で
基材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガスを
０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以上導入させ、高
周波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよい。

【００１９】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスには、ヘリウム、ネ
オン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以
上である。

【００２０】銀薄膜層の厚さは、７０ｎｍ〜３００ｎｍ
が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜２００ｎｍで
ある。あまり薄いと銀の膜厚が十分でないために透過す
る光が存在し反射率が低下する。一方、厚すぎる場合に
は反射率は上昇せず飽和傾向を示す上に、銀の資源を有
効に利用するという観点からも好ましくない。

【００２１】銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない程度
の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、
モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マンガ
ン、チタン、アルミ等の金属不純物が含まれてもよい。
使用する銀層の純度は９９％以上が好ましく、より好ま
しくは９９．９％以上、更により好ましくは９９．９９
％以上である。

【００２２】本発明において膜厚の測定は、触針粗さ
計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動
子法等があるが、水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定
可能なので所望の膜厚を得るのに適している。また、前
もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行
い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間によ
り膜を制御する方法もある。

【００２３】チタンの形成法は、乾式法が好ましく用い
られる。乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的
に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビー
ム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオン
ビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とり
わけ、本発明には連続的に成膜するロールツロール方式
が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。

【００２４】チタンの付着量は、好ましくは５×１０¹⁴
原子／ｃｍ²乃至１×１０¹⁶原子／ｃｍ²であり、より好
ましくは１×１０¹⁵原子／ｃｍ²乃至８×１０¹⁵原子／
ｃｍ ²であり、更により好ましくは２×１０¹⁵原子／ｃ
ｍ²乃至６×１０¹⁵原子／ｃｍ ²である。チタンの量があ
まり少なすぎると本発明の目的とする光熱劣化に対する
十分な効果が得られない。またあまり多すぎると、初期
反射率が低下し、反射体として好ましくない。

【００２５】チタンの付着量は、膜厚モニター等で測定
できるが、一般的には連続膜である１００ｎｍ程度の膜
を形成した際に要した時間を参考に、計算で求めること
ができる。具体的には、ｔ（秒）間ある特定の条件にて
形成したチタンの膜厚がＤ（ｎｍ）であったとすると、
該チタンの密度ρ（ｇ／ｃｍ³）、原子量Ｍから、付着
したチタンの量Ｎ（原子／ｃｍ²）は、Ｎ＝Ｄ×ρ×
６．０２×１０¹⁶／Ｍで求めることができる。従って、
所望であるところの、チタン量ｎ（原子／ｃｍ²）を透
明高分子フィルム表面に付着させるには、同条件にてｔ
×（ｎ／Ｎ）秒間処理を行えばよいことになる。また、
水晶式の膜厚モニターを使用する場合、測定周波数の減
少がδｆ（Ｈｚ）であったときに、付着したチタンの量
がＮ（原子／ｃｍ²）であれば、実際にｎ（原子／ｃ
ｍ²）だけのチタンを付着させるのに必要な周波数の減
少はδｆ×（ｎ／Ｎ）で計算できる。

【００２６】実際の計算例を示すと、ＰＥＴ表面にスパ
ッタリングにてチタンを１００ｎｍ形成した。この時１
０００秒間の時間を要した。付着したチタンの量は上記
式より約６×１０¹⁷原子／ｃｍ²である。従って、該チ
タンを同条件のスパッタリングにて３×１０¹⁵原子／ｃ
ｍ²付着させるためには、１０００秒×（３×１０¹⁵原
子／ｃｍ²）／（６×１０¹⁷原子／ｃｍ²）＝５秒より、
５秒間処理をすればよいことになる。

【００２７】透明高分子フィルム表面に付着したチタン
量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、ラザフォード後方
散乱分光法（ＲＢＳ）、付着金属を溶解させた後に行う
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光法、２次イオン質
量分析法（ＳＩＭＳ）、レーザー誘起蛍光分光法（ＬＩ
Ｆ）、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）等で調査が可能であ
る。実際の定量は、ＩＣＰやＲＢＳが好ましく用いられ
るが、実用的にはＸＰＳが好ましい。ＸＰＳで実際に測
定する時には、光電子の脱出深さを考慮して付着金属量
の評価を行う。例えば、ＸＰＳによるチタンの表面濃度
が、８０％であったとする。光電子の平均的な脱出深さ
は、２原子層であるから、３×１０¹⁵（２原子層）×
０．８＝２．４×１０¹⁵原子／ｃｍ²の原子が付着して
いると評価できる。なお、ＸＰＳの測定値を前もってＩ
ＣＰにより校正しておくことで測定精度が向上する。

【００２８】チタンの状態分析については非破壊で測定
が行えるX線吸収微細構造（XAFS）分析を用いた。XAFS
の原理と得られる情報は以下のように説明できる。原子
がX線のエネルギーを吸収すると内殻電子が殻の束縛を
離れ、光電子として飛び出して行く。この時の遷移状態
や、近傍の原子との干渉効果がスペクトルに微細構造を
作り出し、注目元素の状態あるいは構造を決定すること
ができる。また、この吸収エネルギーは元素に固有であ
るため、多成分系の試料でも特定元素のみの情報を得る
ことができる。ルチルとアナターゼは酸化チタンであ
る。酸化チタンには、鉱物のルチル、板チタン石（ブル
ッカイト）、鋭錐石（アナターゼ）に対応する３種の変
態が存在する。いずれもチタンに酸素が６配位した歪ん
だ８面体の稜が共有された構造をとるが、ルチルは正方
晶系でルチル型構造を、板チタン石型は斜方晶系を、鋭
錐石（アナターゼ）は正方晶系をとる。

【００２９】透明高分子フィルム、チタン、銀薄膜層か
らなる反射体の銀薄膜層面に、クロム、ニッケル、チタ
ン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の単金
属もしくは合金、またはインコネル、インコロイ、モネ
ル、ハステロイ、ステンレス、ジェラルミン等の合金層
を１０ｎｍ〜３０ｎｍ積層することは銀薄膜層の保護や
フィルムの滑り性向上のため有効である。また、透明高
分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処
理、表面化学処理、粗面化処理等を行うことは、チタン
及び銀薄膜層の高分子フィルムへの密着性を向上させる
手段として当業者が用いる常套手段であろう。

【００３０】かくして作製された反射体及び反射部材の
反射率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましく
は９２％以上であり、更に好ましくは９４％以上であ
る。なお、本発明において反射率は特に明記しない限り
５５０ｎｍの波長の光に対しての値をいうものとする。

【００３１】本発明で支持体（金属板または高分子シー
ト等）とのラミネートに用いられる接着剤（粘着剤も含
む）としては、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着
剤、ウレタン系接着剤、シリコン系接着剤、エポキシ系
接着剤、メラミン系接着剤等があげられるが、必ずしも
これらの種類に限定されるわけではなく、実用上の接着
強度があれば良い。接着強度としては１８０度ピール強
度の測定値が１００ｇ／ｃｍあれば十分であり、好まし
くは５００ｇ／ｃｍであり、より好ましくは１０００ｇ
／ｃｍである。あまりに密着強度が小さいと、反射体と
して曲率半径１〜５ｍｍ程度に曲げた時に、透明高分子
フィルム側が金属板または高分子シートより浮き上がる
等の事態を引き起こすのであまり好ましくない。

【００３２】接着剤層の厚みとしては、０．５μｍ〜５
０μｍが好ましく、より好ましくは１μｍ〜２０μｍで
あり、更に好ましくは２μｍ〜１０μｍである。あまり
に厚すぎると材料費の点からコスト増となり好ましくな
い。あまりに薄すぎると十分な接着強度が得られない。

【００３３】接着剤の塗布方法としては、バーコート
法、メイヤーバーコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、ダイコート法等があげられるが、これらは
使用する接着剤の種類、粘度、塗布量、塗布速度、得ら
れる面状態等を考慮して選定される。

【００３４】本発明の反射体には、銀薄膜層と反対側の
透明高分子フィルム上に透明な保護層を設けても良い。
このような保護層により、反射シートの表面硬度、耐光
性、耐ガス性、耐水性など外的環境因子の影響をさらに
抑制することができる。このような保護層の形成に利用
できる物質の例としては、例えば、ポリメタクリル酸メ
チルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、
ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケ−トより
得られる重合体などの珪素樹脂、ポリエステル樹脂、フ
ッ素樹脂などの有機物質の他に酸化珪素、酸化亜鉛、酸
化チタンなどの無機物質が有用であり、特に４００ｎｍ
以下、好ましくは３８０ｎｍ以下の波長の光をカット
し、好ましくは１０％以下にカットする能力を有するも
のを積層することは銀層の光劣化（紫外線劣化）を防止
する上で好ましい。

【００３５】透明保護層の形成方法としては、コ−ティ
ング、フィルムのラミネ−トなど、既存の方法があげら
れる。また、この透明保護層の膜厚は、光反射能を低下
させず、かつ可撓性を損なわない範囲で、保護効果を発
揮する必要があり、その材料、用途に応じて適宜変更し
て用いられる。

【００３６】支持体として用いられる金属板としては、
アルミ板、アルミ合金板、真鍮板、ステンレス板、鋼板
等が上げられるが、必ずしもこれらに限定されるわけで
はなく、反射部材の用途により選択される。例えば、ア
ルミは軽量かつ加工性に優れ、また熱伝導率が高くそれ
にかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるた
め、ノートパソコンなどのＬＣＤのバックライトに用い
られる反射部材に好適に利用できる。アルミ合金は軽量
かつ機械的強度が強いことから、構造部材を兼ねる反射
部材に好適に利用できる。ステンレスは機械的強度が高
度にあり、また耐食性にすぐれているので、屋外で使用
される反射部材をはじめ、材料の薄板化が必要な用途に
好適に用いられる。真鍮（黄銅）、すなわち銅亜鉛合金
は機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なた
めアースを必要とする反射部材に好適に用いられる。鋼
板は安価であることから、コストを優先する用途である
蛍光灯用反射傘等に好適に用いられる。

【００３７】支持体としての金属板の厚みは、コスト低
減及び曲げやすさの観点からは薄い方が好ましく、銀薄
膜層などとラミネートする際の取扱いの容易さや形状保
持性の観点からは、厚い方が良い。金属板の好ましい厚
みは０．０５ｍｍ〜５ｍｍであり、さらに好ましくは
０．１ｍｍ〜１ｍｍであり、よりさらに好ましくは０．
２ｍｍ〜０．８ｍｍである。

【００３８】支持体に用いられる高分子フィルムとして
は、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
−ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ−ト（ＰＥ
Ｎ）、ポリブチレンテレフテレ−ト（ＰＢＴ）、アクリ
ル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルホン（Ｐ
ＥＳ）、ポリエ−テルエ−テルケトン（ＰＥＥＫ）、ポ
リアリレ−ト、ポリエ−テルイミド、ポリイミドなどの
ホモポリマ−またはコポリマ−があげられる。特に好ま
しくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、
該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色の
ものが好まれる。また該高分子フィルムの厚みは、コス
ト低減及び、曲げ易さからは薄い方が好ましく、銀薄膜
層等とラミネートする際の取扱い（ハンドリング）性及
び形状保持性からは、厚みは厚い方が良い。好ましいフ
ィルムの厚みは、５μｍ〜５００μm、さらに好ましく
は１０μｍ〜２００μmであり、１５μm〜１００μｍが
好ましく用いられる。

【００３９】本発明品である反射体の構成、及び組成の
代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接着剤
層、支持体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。高分子
フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）を行うことに
よりできる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と支持
体を引き剥して接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれを
溶かした試料を作製し、その赤外分光（ＩＲ）を行うこ
とできる。銀薄膜層及び支持体の材料分析は、蛍光Ｘ線
分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ線マイクロア
ナライザ（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部分
の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形成された高分
子フィルムを、接着剤層から引き剥し銀薄膜層を露出さ
せれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）により組成分
析、及び深さプロファイルをとることで厚さも知ること
ができる。本発明品である反射体の耐光性、耐熱性評価
を、下記の光熱劣化促進試験により行った。

【００４０】光熱劣化促進試験（光促進劣化試験とも言
う）の照射光としては、３９０ｎｍ以下の波長の光を除
いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を用い
る。擬似太陽光とは屋外での晴天時の太陽光と同様なス
ペクトルを持つ光である。具体的には、キセノンランプ
に光学フィルムターを組み合わせて疑似太陽光スペクト
ルを得るのである。さらに、ＵＶカットフィルターによ
り、３９０ｎｍ以下の波長の光をカットする。こうして
得られた光の照射強度をサンプル表面でおよそ５００ｍ
Ｗ／ｃｍ²とし、光熱劣化促進試験を行った。この様に
することにより産業上問題となる透明高分子フィルムと
銀薄膜との界面で発生する光劣化を短時間で発生させる
ことが可能なのである。

【００４１】光熱劣化促進試験の照射光は、３９０ｎｍ
以下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²
の疑似太陽光であると書いたが、より詳細には透過限界
波長が３９０ｎｍのＵＶカットフィルターを用いて紫外
線をカットした照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の疑似太陽
光である。

【００４２】透過限界波長とは、例えば透過率がＡ％に
なる波長と、透過率がＢ％になる波長の中間値で表され
ていることが多く（例えば透過率が７２％になる波長と
５％になる波長の中間の波長を言う）、これらの値と実
質的に除かれる波長の値が異なることは当業者の知ると
ころである。

【００４３】図４に本発明において用いられた、透過限
界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフィルターを通して得
られた疑似太陽光のスペクトルの一例を示す。このスペ
クトル図より、今回用いた照射光は、実質的には３６０
ｎｍ以下の紫外光を除いた光であるということもでき
る。

【００４４】透過限界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフ
ィルターとしてはシグマ光機（株）のシャープカットフ
ィルター品番ＳＣＦ−５０Ｓ−３９Ｌ（透過限界波長３
９０ｎｍ、波長３６０ｎｍにおける透過率が１％以下）
が、また、東芝化成工業（株）のシャープカットフィル
ターＬ−３９（透過限界波長３９０ｎｍ、波長３６０
ｎｍにおける透過率が１％以下）がある。光学特性にお
いてはほぼ同様であり、どちらを用いても同様の試験結
果が得られている。

【００４５】光熱劣化促進試験はサンプルに上記光を照
射すると共に、さらにサンプルを１００℃に加熱して行
った。１００℃に加熱することにより更に劣化を促進さ
せた。加熱は、サンプルを保持したアルミ板の下に板状
のヒーターを設置し、このヒーターを温調機で制御する
ことで行った。温調はアルミ板上に密着させた熱電対に
より温度を測定し行った。

【００４６】

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。光熱劣化促進試験は、３９０ｎｍ以下の波長の光を
除いた照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を用い
て行った。また、反射体は１００℃に加熱した。光源に
は山下電装（株）のソーラシミュレータ型式ＹＳＳ−５
０５Ｈを用いた。また、東芝化成工業（株）シャープ
カットフィルターＬ−３９を用いて、３９０ｎｍ以下
の波長の光を除いた。反射体の反射率は、日立自動自記
分光光度計（Ｕ−３４００）に１５０φ積分球を設置し
測定した。標準サンプル（リファレンス）には酸化アル
ミニウムからなる標準白色板を用いた。透明高分子フィ
ルムの全光線透過率（平行光線透過率＋拡散透過率）は
日立自動自記分光光度計（Ｕ−３４００）に１５０φ積
分球を設置し、サンプルを積分球の試料側光束入口に固
定し測定した。

【００４７】〔実施例１〕透明高分子フィルム（帝人
（株）製ポリエステルフィルム、テトロンフィルムタイ
プＨＢ３、厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８８．２％）
の片面にＤＣマグネトロンスパッタリング法にてチタン
を、続いて銀を形成した。チタンは付着量が３×１０¹⁵
原子／ｃｍ²となるように、また銀は膜厚が１５０ｎｍ
となるようにスパッタリング時間を調整した。

【００４８】〔比較例１〕実施例１においてチタンを形
成しない以外は、同様に行った。上記実施例および比較
例の初期反射率、光熱劣化促進試験３００時間後反射率
を表１に示す。これより、実施例１において光熱劣化が
防止されていることが分かる。

【００４９】

【表１】

【００５０】更に実施例１について、Ｘ線吸収微細構造
分析（ＸＡＦＳ）を行った。図５にＸＡＦＳにより得ら
れたスペクトルの一例を示す。図には実施例１（図中の
Ｆｉｌｍに相当）の他比較のためにチタン（図中のＴｉ
ｍｅｔａｌに相当）及び酸化チタンのアナターゼ（図
中のＡｎａｔａｓｅに相当）、ルチル（図中のＲｕｔｉ
ｌｅに相当）のスペクトルも記載した。尚、ＸＡＦＳ測
定で得られたスペクトルは、スペクトル間の比較を行う
ため、バックグラウンドの除去及び、規格化を行った。
４９６０〜４９７０ｅＶ間に存在するピーク、また、そ
れより高エネルギー側でのスペクトルの立ちあがり位
置、及びスペクトル形状全体の比較から実施例１より得
られたスペクトルはルチル及びアナターゼに類似してい
ることが分かる。ルチル及びアナターゼ中のチタンは４
価で６つの酸素が配位した歪んだ８面体構造をとってい
ることから、よって実施例１におけるチタンも上記構造
に非常に近い構造を取っていることが分かる。

【００５１】

【発明の効果】透明高分子フィルム（Ａ）と銀薄膜層
（Ｃ）との界面に４価として存在し、ルチルやアナター
ゼに類似した歪んだ八面体配位構造をとっているチタン
を用いることにより、上記透明高分子フィルムと銀薄膜
層の界面においておこる、光熱劣化を抑えることができ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】光熱劣化したサンプルの断面透過電子顕微鏡写
真（断面ＴＥＭ写真）

【図２】本発明の最も簡単な反射体の構造断面図

【図３】本発明の最も簡単な反射部材の構造断面図

【図４】本発明において用いられた、透過限界波長が３
９０ｎｍのＵＶカットフィルターを通して得られた疑似
太陽光のスペクトルの一例

【図５】Ｘ線吸収微細構造分析（ＸＡＦＳ）により得ら
れたスペクトルの一例

【図６】本発明の反射体の使用例の一例を示す概略図

【符号の説明】

１０透明高分子フィルム２０チタン３０銀薄膜層４０接着剤層５０金属板６０導光板７０反射部材（ランプリフレクター）８０ランプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H042 DA04 DA11 DA15 DA17 DA18 DA20 DA21 DC02 DC04 DE04 2H091 FA14Z FA41Z FB08 FB13 FC02 FC06 FC25 FC27 FD15 GA17 LA03 LA04 5G435 AA12 EE27 FF03 FF08 GG24 HH02 HH08 KK07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、透明高分子フィルム
（Ａ）、チタン（Ｂ）、銀薄膜層（Ｃ）からなる構成Ａ
ＢＣの透明高分子フィルム（Ａ）側を反射面とする反射
体であり、該透明高分子フィルム側より測定した反射率
が９０％以上であり、該チタンが４価として存在し、ル
チルやアナターゼに類似した歪んだ八面体配位構造をと
っていることを特長とする反射体。
【請求項２】請求項１に記載の反射体の銀薄膜層
（Ｃ）側を支持体に接着剤層を介して積層してなる反射
部材。
【請求項３】請求項２に記載の反射部材からなる液晶
表示装置用のランプリフレクター。