JP2002116313A

JP2002116313A - 反射シート及びそれを用いたリフレクター

Info

Publication number: JP2002116313A
Application number: JP2000311162A
Authority: JP
Inventors: Hirotaka Yoshida; 吉田　　浩隆; Shin Fukuda; 福田　　伸
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 2000-10-11
Filing date: 2000-10-11
Publication date: 2002-04-19

Abstract

(57)【要約】【課題】高反射率を示す銀を反射層に使用した、
耐光性、湿熱耐久性の優れた反射シートを提供するこ
と、および同反射シートを用いたランプリフレクターに
適したリフレクターを提供すること。【解決手段】高分子フィルム上に、下地層、銀層、銀
を主体とする合金層、透明酸化物層を順に構成した反射
シート。および該反射シートを、高分子フィルム側を接
着面として、成形体と接着剤により貼り合わせて得られ
るリフレクター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、銀を高分子フィル
ム上に積層して構成する反射シート及びそれを用いたリ
フレクターに関する。さらに詳しくは、耐光性、耐湿熱
性に優れた銀を主体とする多層の構成からなる反射シー
ト及びそれを用いたリフレクター。

【０００２】

【従来の技術】近年、反射層として銀を用いた反射体
が、液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクタ
ーを中心に、蛍光灯の反射傘などに用いられている。こ
れらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄膜
層／接着層／アルミ板からなるいわゆる銀反射板や、Ｐ
ＥＴ／銀薄膜層／白塗装／接着層／アルミ蒸着層／高分
子フィルム／白塗装からなるいわゆる銀反射シートであ
る。これらは、透明高分子フィルムであるＰＥＴを銀の
保護層として用いることにより、従来からの問題点であ
った大気暴露による銀の硫化、酸化を防止し、高反射率
を維持することに成功した。例えば、上記銀反射板の信
頼性を例に挙げると、高温試験（８０℃）で１０００時
間行ったが、硫化などによる黒化は観察されず、また、
反射率の低下も観察されなかった。

【０００３】しかしながら、８０℃の高温下で、光照射
を行ったところ、数百から数千時間で銀が紫色に変色
し、反射率が急激に低下するという新たな問題がある。
また、耐湿熱性試験（８０℃、相対湿度９０％）を行っ
たところ、点状の白点が多数発生し、反射率が低下する
という問題がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高反
射率を示す銀を反射層に使用し、かつ耐光性、湿熱耐久
性の優れた反射シート、および同反射シートを用いたリ
フレクターを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきこと
に、高分子フィルム上に、下地層、銀層、銀を主体とす
る合金層、透明酸化物層の４層を順に構成した反射シー
トを、高分子フィルム側を接着面として、成形体と接着
剤により貼り合わせることにより、上記の課題を解決出
来ることを見いだし、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち本発明は、少なくとも高分子フィ
ルム（Ａ）、下地層（Ｂ）、銀層（Ｃ）、銀を主体とす
る合金層（Ｄ）、透明酸化物層（Ｅ）の構成ＡＢＣＤＥ
からなることを特徴とす反射シートを提供する。

【０００７】３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた、照射
強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を、反射体温度１
００℃で３００時間照射後でも反射率が９０％以上を保
つ反射シートは、本発明の好ましい態様である。

【０００８】前記下地層（Ｂ）が、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
ラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、
酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜
鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）から
なる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層である反射シート
は、本発明の好ましい態様である。

【０００９】前記銀層（Ｃ）の厚みが、７０〜４００ｎ
ｍである反射シートは、本発明の好ましい態様である。

【００１０】前記銀を主体とする合金層（Ｄ）が、銀に
対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量％含
有している合金からなる層であり、該合金層の膜厚が、
５〜４０ｎｍである反射シートも、本発明の好ましい態
様である。

【００１１】前記透明酸化物層（Ｅ）が、酸化アルミニ
ウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、イ
ンジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２
０ｎｍの透明酸化物、あるいは厚みが、１〜５０ｎｍで
あるような珪素酸化物層である反射シートも、本発明の
好ましい態様である。

【００１２】また本発明は、前記の反射シートの高分子
フィルム層（Ａ）側を接着面をとして、支持体に接着剤
層を介して積層してなるリフレクターを提供する。

【００１３】前記支持体が、アルミ板、真鍮板、ステン
レス板、鋼板、或いはプラスチックのいずれかからなる
板またはシートであるリフレクターは、本発明の好まし
い態様である。

【００１４】前記高分子フィルム（Ａ）と支持体との接
着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚
みが０．５μm以上５０μm以下であるリフレクターも、
本発明の好ましい態様である。

【００１５】前記載のリフレクターを、、光源を覆うよ
うに設置して使用できるように、反射シート側を内側に
折り曲げたリフレクターも、本発明の好ましい態様であ
る。

【００１６】前記高分子フィルム（Ａ）と支持体との接
着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚
みが０．５μm以上５０μm以下であり、かつ、反射シー
ト側の曲率半径が５ｍｍ以下であるリフレクターも、本
発明の好ましい態様である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、少なくとも高分子フィルム（Ａ）、下地層
（Ｂ）、銀層（Ｃ）、銀を主体とする合金層（Ｄ）、透
明酸化物層（Ｅ）の構成ＡＢＣＤＥからなることを特徴
とす反射シート、およびそれを用いたリフレクターを提
供するものである。

【００１８】以下にそれぞれを詳細に説明する。本発明
の反射シートは、高分子フィルム（Ａ）上に下地層
（Ｂ）、銀層（Ｃ）、銀を主体とする合金層（Ｄ）、透
明酸化物層（Ｅ）の４層を形成した反射シートであり、
また、本発明のリフレクターとは、該反射シートを高分
子フィルム側を接着面として、支持体に接着させたもの
である。

【００１９】本発明における高分子フィルム（Ａ）は、
例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノ
ールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、
ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン
類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体
類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミ
ド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスル
ホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂など
の各種プラスチックからなるフィルムが挙げられる。本
発明における高分子フィルム（Ａ）は、必ずしもこれら
に限定されるものではなく、本発明の目的に耐える程度
の常用耐熱温度を有するものであれば使用できる。耐熱
性の高いフィルムを用いれば、高温で使用できる反射シ
ートを得ることができる。使用される高分子フィルム
（Ａ）の厚みは、特に限定されるものではないが、通常
は１０〜１５０μｍ程度が好ましく用いられる。

【００２０】本発明の反射シートにおいて、反射層は高
分子フィルム上に形成される少なくとも４層からなるも
のである。高分子フィルム側からの下地層（Ｂ）、銀層
（Ｃ）、銀を主体とする合金層（Ｄ）、透明酸化物層
（Ｅ）である。

【００２１】下地層（Ｂ）には、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムな
どの金属単体、または、酸化アルミニウムが０〜５重量
％ドープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとスズの酸
化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が好ましく用いられ
る。

【００２２】銀層（Ｃ）には、基本的には銀単体である
ことが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。

【００２３】銀を主体とする合金の金属層（Ｄ）には、
銀に対し銅及びパラジウムが合わせて２重量％以下の範
囲で含有している合金が好ましく用いられる。

【００２４】透明酸化物層（Ｅ）には、酸化アルミニウ
ムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛や、インジウム
とスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物などが好ましく
用いられる。

【００２５】上記下地層（Ｂ）、銀層（Ｃ）、銀を主体
とする合金層（Ｄ）および透明酸化物層（Ｅ）における
金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式
法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ
膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀
鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総
称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空
蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ
法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜する
ロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好まし
く用いられる。

【００２６】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００２７】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用し
うる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のタ
ーゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し
うるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度
は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％
以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法
が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、
スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガ
スを用いて行うこともある。

【００２８】本発明の下地層（Ｂ）において、金属層を
用いた場合、その厚みは、および５〜５０ｎｍが好まし
く、より好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚み薄
すぎると、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀
層に凝集を発生させる。また、５０ｎｍより厚くしても
その効果に変化が無い。また、透明酸化物を用いた場
合、該層の厚みは、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好
ましくは、５〜１０ｎｍである。

【００２９】本発明の銀層（Ｃ）の厚みは、十分な金属
層の形成および反射率の観点から、７０〜４００ｎｍが
好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに
好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。

【００３０】本発明の銀を主体とする合金の金属層
（Ｄ）の厚みは、バリヤー効果および銀層の特性発現の
観点から、５〜４０ｎｍが好ましい。

【００３１】本発明の透明酸化物層（Ｅ）の厚みは、１
〜２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜７ｎｍ、さ
らに好ましくは１〜５ｎｍである。この層の厚みが薄す
ぎる場合は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の
銀層に凝集を発生させる。また、２０ｎｍより厚くして
もその効果に変化が無い。

【００３２】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。

【００３３】また、反射層を透明高分子フィルム（層）
上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電
処理、グロー放電処理等の処理は、反射層と高分子フィ
ルムの密着性を向上させる効果があるので、本発明の実
施にあたって採用してもよい。また他の処理も当業者の
技術的常識の範囲で適宜採用することができる。

【００３４】このようにして作製された反射シートの、
金属反射層側から測定される反射率は典型的には、５５
０ｎｍの波長の光に対して９０％以上であり、より詳し
くは９２％以上であり、さらに好ましくは９４％以上で
ある。

【００３５】また、本発明の反射シートの両面に、透明
な保護層を設けてもよい。このような保護層により、反
射シートの表面硬度、耐光性、ガスバリヤ性、耐水性な
ど外的環境因子の影響をさらに抑制することができる。
このような保護層の形成に利用できる物質の例として
は、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹
脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリロニト
リル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などの
珪素樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂などの有機物
質の他に酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタンなどの無機物
が有用である。４００ｎｍ以下、好ましくは３８０ｎｍ
以下の波長の光をカットし、好ましくは１０％以下にカ
ットする能力を有するものを積層することは銀層の光り
劣化（紫外線劣化）を防止するうえで好ましい。

【００３６】透明保護層の形成方法としては、コーティ
ング、フィルムのラミネートなど、既存の方法があげら
れる。また、この透明保護層の膜厚は、光り反射機能を
低下させず、かつ、可撓性を損なわない範囲で、保護効
果を発揮する必要があり、その材料、用途に応じて適宜
変更して用いられる。

【００３７】光照射後の反射シートの劣化の程度を調べ
る光熱劣化促進試験（光促進劣化試験とも言う）の照射
光としては、３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた、照射
強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を用いる。擬似太
陽光とは、屋外での晴天時の太陽光と同様なスペクトル
をもつ光である。具体的には、キセノンランプに光学フ
ィルターを組み合わせて擬似太陽光スペクトルを得るの
である。さらにＵＶカットフィルターにより、３９０ｎ
ｍ以下の波長をカットする。こうして得られた光の照射
強度をサンプルの表面でおよそ５００ｍＷ／ｃｍ²と
し、光熱劣化促進試験を行う。この様にすることによ
り、問題となる光劣化を短時間で発生させることが可能
となる。

【００３８】光熱劣化促進試験は、試料に上記光を照射
すると共に、さらにサンプルを１００℃に加熱して行
う。１００℃に加熱することによりさらに劣化が促進さ
れる。試料の加熱は、試料を保持したアルミ板の下に板
状ヒーターを設置し、このヒーターを温調機（温度コン
トローラー）で制御することで行った。温調は、アルミ
板の上に密着させた熱電対により温度を測定して行っ
た。

【００３９】本発明のリフレクターは、前述の反射シー
トを、接着剤を介して板状成形体である支持体に固定し
たものである。用いられる接着剤は、熱または触媒の助
けにより接着される接着剤であり、具体的には、シリコ
ン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着
剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤な
ど一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ系接
着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた好適
に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性
と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用で
きる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、
ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましく
は連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が
使用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚み
は、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。

【００４０】反射シートと板状成形体との接着は、反射
シートの高分子フィルム側への接着剤のコーティング、
乾燥、ローラーによる板状成形体とのラミネート、の手
順により行われる。接着剤のコーティング方法は、基材
や接着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用
されているのは、グラビアコーター方式及び、リバース
コーター方式である。グラビアコーター方式では、接着
剤に一部浸されているグラビアロールを回転させ、バッ
クアップロールによって送られるフィルムを接着剤の付
着したグラビアロールに接触させることによりコーティ
ングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤の
粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方
式も、グラビアコーター方式に類似した方法だが、コー
ティングロールに付着する接着剤の量を、それに接して
設置されているメタリングロールによって調整する。コ
ーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート温
度は接着剤の種類によってまちまちであるが、上記にか
かげた一般的な接着剤を用いる場合は１００℃前後であ
る。

【００４１】この接着剤による反射シートと、板状成形
体との接着強度は、１８０度ピール強度で測定して１０
０ｇ／ｃｍ以上である事が好ましい。この接着強度にあ
まりに達しない場合には、板金加工した際、反射シート
の、板状成形体からの剥がれなどが生じ、変形などを引
き起こす可能性があるためである。

【００４２】板状成形体には、アルミニウム、アルミニ
ウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼などが使用さ
れるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のよ
うに使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ
加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を
効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発光
によって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好
適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強
い。ステンレス鋼は機械的が適度にあり、また耐蝕性に
優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機
械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電
気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える
必要がある時に好ましく用いられる。

【００４３】板状成形体には、またプラスチックの板や
シートを用いることができる。用いられる材質として
は、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、ポリブチレンテレフタラー（ＰＢＴ）、アクリル
樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン（Ｐ
ＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポ
リアレリート、ポリエーテルイミド、ポリイミドなどの
ホモポリマー、またはコポリマーが挙げられる。特に好
ましくは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであ
り、該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白
色のものが好まれる。支持体としての高分子フィルムの
厚みは、コスト低減及び、曲げやすさからは、薄い方が
好ましく、反射シートとのラミネートする際の取扱い
（ハンドリング）性及び、形状保持性からは、厚い方が
好まれる。好ましいフィルムの厚みは、５μｍ〜５００
μｍ、より好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、さ
らに好ましくは１５μｍ〜１００μｍである。

【００４４】本発明品である反射シートの構成、及び電
気特性の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜
層、接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透
過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定で
きる。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）
によりできる。また、接着剤の材料分析は高分子フィル
ムと板状成形体を引き剥がして接着剤を露出させ、適当
な溶媒にそれを溶かした試料を作成し、その赤外分光
（ＩＲ）をとることでできる。銀薄膜層及び、板状成形
体の材料分析は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）によりでき
る。さらに、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）で
は蛍光Ｘ線分光より微細な部分の元素分析が行える。ま
た、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、二次イオン質量分
析法（ＳＩＭＳ）により組成分析、及び深さプロファイ
ルをとることで厚さも知ることができる。

【００４５】本発明の反射シートは、リフレクター用に
好適である。また本発明のリフレクターは、液晶ディス
プレイ装置に用いられるランプリフレクターに好適であ
る。本発明の理解を助けるために図を用いて説明する。
図１は本発明の反射シートの層構成を示す断面図であ
り、高分子フィルム（Ａ）が５、下地層（Ｂ）が４、銀
層（Ｃ）が３、銀を主体とする合金層（Ｄ）が２、透明
酸化物層（Ｅ）が１とＡＢＣＤＥの順で構成されている
反射シートを示している。図２は、該反射シートを用い
たリフレクターの層構成を示す断面図である。高分子フ
ィルム層（Ａ）５側を接着面として、支持体７に接着剤
層６を介して積層した積層体よりなるリフレクターが示
されている。図３は本発明のリフレクターを、好適な実
施態様であるランプリフレクターに成形した態様を示す
図である。図４には図３のランプリフレクターの断面が
示されている。図５に、本発明のランプリフレクターを
液晶ディスプレイのバックライトユニットに取付けた態
様を示した。該装置では図３に示したランプリフレクタ
ーがランプ（冷陰極管）を覆うように設置して用いら
れ、その断面はＵ字型或いはコの字型で用いられてい
る。

【００４６】本発明のランプリフレクターは、上記リフ
レクターを、成形加工することにより得られる。加工の
手順としては、例えば、まず板材から所望の型に打ち抜
き加工、穴あけ加工続いて、折り曲げ加工することによ
って製造する。

【００４７】折り曲げ加工は直線縁に沿って板材を曲げ
る加工法であり、例えばプレスを用いたＶ型曲げ、Ｕ型
曲げが、またタンゼントベンダーを用いた折り畳み曲げ
が使用される。

【００４８】ランプリフレクター用としては、リフレク
ターを、光源を覆うように設置して使用できるように、
反射シート側を内側に折り曲げて成形することが好まし
い。

【００４９】本発明のランプリフレクター用としては、
高分子フィルム（Ａ）と支持体との接着強度が１００ｇ
／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚みが０．５μm以
上５０μm以下であり、かつ、反射シート側の曲率半径
が５ｍｍ以下であることが好ましい。

【００５０】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は、これら実施例によって何ら制限される
ものではない。

【００５１】（実施例１）ポリエチレンテレフタラート
（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％
のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）
をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッ
タガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成
した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出す
ことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度
９９．９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％の
アルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍにな
るように成形した。続いて、このシートをスパッタ装置
から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッ
タ法にて純度９９．９％のＡＰＣ１％（Ａｇに対し、Ｐ
ｄとＣｕが合計で１重量％配合された合金）をターゲッ
トとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、ＡＰＣ１％が膜厚８ｎｍになるように成形した。

【００５２】続いて、このシートをスパッタ装置から取
り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法にて純度
９９．９％のＳｉＯ₂をターゲットとし、純度９９．５
％のアルゴンをスパッタガスとして、ＳｉＯ₂を膜厚５
ｎｍになるように成形した。できたシートを日立自記分
光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設
置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を
行ったところ、反射率９５．６た。続いて、このシート
の光熱劣化試験を行った。光源には山下電装(株)のソー
ラシミュレータ型式ＹＳＳ−５０５Ｈを用い、東芝化成
工業(株)のシャープカットフィルターＬ−３９０ｎｍを
用い、３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた、照射強度５
００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光下で行った。また反射シ
ートは１００℃に加熱した。この条件下で３００時間経
過した後、反射率を測したところ、９３．９％であっ
た。

【００５３】（比較例１）反射層にＡＰＣ１％をスパッ
タしなかったこと以外は、実施例１に準じて反射シート
を作製した。得られたシートの全反射率を測定したとこ
ろ、９６．１％であった。続いて、実施例１と同様の光
熱劣化促進実験を３００時間行った後、再度、全反射率
を測定したところ、６５．３％と低下しており、反射体
として十分な反射率を得ることができなくなった。

【００５４】

【発明の効果】本発明の反射シートを用いることで、長
時間の過酷な使用時においても高輝度アルミ板よりも反
射率が高く、かつ、反射率の低下のないリフレクターを
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射シートの一例を示す断面図

【図２】本発明のリフレクターの一例を示す断面図

【図３】本発明のリフレクターを成形加工したランプ
リフレクターの一例

【図４】ランプリフレクターの断面構成

【図５】液晶表示装置バックライトユニットに取付け
たランプリフレクターの一例

【符号の説明】

１透明酸化物層２銀を主体とする合金層３銀層４下地層５高分子フィルム６接着剤層７支持体８ランプリフレクター

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/13357 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５３０Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA10 DA14 DA17 2H091 FA14Z FA41Z FB02 FB06 FB08 FC01 LA16 4F100 AA17E AA19B AA19E AA20E AA25B AA25E AA33B AA33E AB03E AB04E AB10E AB16B AB17B AB17D AB24C AB24D AB25B AB31D AK01A AK01E AS00B AT00E BA05 BA06 CB00 GB41 JA20 JD15 JK06 JL00 JL09 JN01B JN01E JN06 YY00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも高分子フィルム（Ａ）、下地
層（Ｂ）、銀層（Ｃ）、銀を主体とする合金層（Ｄ）、
透明酸化物層（Ｅ）の構成ＡＢＣＤＥからなることを特
徴とす反射シート。
【請求項２】３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた、照
射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を、反射体温度
１００℃で３００時間照射後でも反射率が９０％以上を
保つことを特徴とする請求項１記載の反射シート。
【請求項３】下地層（Ｂ）が、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
ラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または、
酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜
鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）から
なる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴
とする請求項１または２に記載の反射シート。
【請求項４】銀層（Ｃ）の厚みが、７０〜４００ｎｍ
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の反射シート。
【請求項５】銀を主体とする合金層（Ｄ）が、銀に対
し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量％含有
している合金からなる層であり、該合金層の膜厚が、５
〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜４のいず
れかに記載の反射シート。
【請求項６】透明酸化物層（Ｅ）が、酸化アルミニウ
ムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、または、イン
ジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０
ｎｍの透明酸化物、あるいは厚みが、１〜５０ｎｍであ
るような珪素酸化物層であることを特徴とする請求項１
〜５記載の反射シート。
【請求項７】請求項1〜６のいずれかに記載の反射シー
トの高分子フィルム層（Ａ）側を接着面として、支持体
に接着剤層を介して積層した積層体よりなるリフレクタ
ー。
【請求項８】前記支持体が、アルミ板、真鍮板、ステ
ンレス板、鋼板、或いはプラスチックのいずれかよりな
る板またはシートであることを特徴とする請求項７に記
載のリフレクター。
【請求項９】高分子フィルム（Ａ）と支持体との接着
強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚み
が０．５μm以上５０μm以下であることを特徴とする請
求項７または８に記載のリフレクター。
【請求項１０】前記積層体を打ち抜き加工することを
特徴とする請求項７〜９に記載のリフレクター。
【請求項１１】請求項７〜１０に記載のリフレクター
を、光源を覆うように設置して使用できるように、反射
シート側を内側に折り曲げて成形することを特徴とする
ランプリフレクター。
【請求項１２】高分子フィルム（Ａ）と支持体との接着
強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚み
が０．５μm以上５０μm以下であり、かつ、反射シート
側の曲率半径が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求
項１１に記載のランプリフレクター。