JP2004145239A - 反射シート及びそれを用いたリフレクター、サイドライト型バックライト装置、液晶表示装置 - Google Patents
反射シート及びそれを用いたリフレクター、サイドライト型バックライト装置、液晶表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】ＡｇやＡｌを主体とする金属層を反射体に用いて高反射率を示す反射シートを提供し、かつ、同反射シートを用いたリフレクター、さらには輝度ムラが発生し難い同反射シートを用いたサイドライト型バックライト装置およびそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】高分子フィルム上に、高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を積層して構成した反射シートを、高分子フィルム側を接着面として、成形体と接着剤により貼り合わせることにより得られる反射体を用い、ランプリフレクターに加工する。また、高分子フィルム上に拡散層を塗布して、輝度が極めて高く輝度ムラが発生し難いサイドライト型バックライト装置を得ることが出来る。
【選択図】図１
【解決手段】高分子フィルム上に、高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を積層して構成した反射シートを、高分子フィルム側を接着面として、成形体と接着剤により貼り合わせることにより得られる反射体を用い、ランプリフレクターに加工する。また、高分子フィルム上に拡散層を塗布して、輝度が極めて高く輝度ムラが発生し難いサイドライト型バックライト装置を得ることが出来る。
【選択図】図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子フィルム上にＡｇやＡｌを積層して構成する反射シート及びそれを用いたリフレクター、さらにはサイドライト型のバックライト装置およびそれを備えた液晶表示装置に関する。さらに詳しくは、高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層の構成からなる反射シート及びそれを用いたリフレクター、さらにはサイドライト型のバックライト装置およびそれを備えた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、反射体としてＡｇやＡｌを用いた薄膜が、液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターを中心に、蛍光灯の反射傘などに用いられている。これらはＡｇやＡｌ薄膜層／接着層／アルミ板から形成される反射板やＡｇやＡｌ薄膜層／白塗装／接着層／アルミ蒸着層／高分子フィルム／白塗装から形成されるいわゆる反射シートであり、例えば特許２５０３１６０号公報（特許文献１）、特開平７―３２５３７号公報（特許文献２）、特開２００２−１１６３１３号公報（特許文献３）、特開２０００−２２１３１１号公報（特許文献４）等で報告されている。
【０００３】
最近、液晶表示装置の高画素数化に伴い、バックライトの輝度向上が求められている。ここで、バックライトの輝度を上げるための手法として、光源からの光を余すこと無く利用できる反射率の高い反射体を用いることが挙げられる。現在は、Ａｇ薄膜層を用いた反射体が用いられているが、市場からはより反射率の高い反射体が求められている。
【０００４】
一方Ａｇは、単膜としては高い反射率を示すが、Ａｇそのものの値段が高いためコスト面で問題がある。そのため、Ａｇの代わりに値段の安いＡｌ薄膜を用いた反射体も液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターに使用されている。しかしながらＡｌはＡｇと比べ反射率が低いため、前述の理由からＡｌ薄膜層を用いた反射体の反射率向上が求められている。
【０００５】
またバックライトの方式に関しては、近年液晶ディスプレイの更なる軽量化、薄型化が必須事項となっていることや、輝度の均一性、光源からの熱が液晶パネルに伝わりにくいこと等の理由により、光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板を用いその一端に配置された光源からの光を多重反射させることで面光源化するサイドライト式バックライトが多く用いられている。
【０００６】
導光板の下には白ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルム等からなる乱反射部材が配設されている場合が多く、この乱反射部材で光を拡散させることにより、均一な輝度を得ることができる。しかしながらこの乱反射部材では、正反射成分が殆ど無いため全体としては均一であるが十分な輝度を得ることができないという問題がある。この問題を解決するために、透明性又は透光性を有する表面を粗面化したフィルムにＡｇやＡｌを蒸着したシートを用いると、白ＰＥＴに比べ輝度は向上する。しかしながら、市場からはさらに高い輝度が求められている。
【特許文献１】特許２５０３１６０号公報
【特許文献２】特開平７―３２５３７号公報
【特許文献３】特開２００２−１１６３１３号公報
【特許文献４】特開２０００−２２１３１１号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、優れた反射率を有する反射シートを提供し、かつ同反射シートを用いたリフレクター及びサイドライト型バックライト装置、液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきことに、高分子フィルム上に高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を積層した反射シートを形成することにより、上記の課題を解決出来ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、
（１）少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｇを主体とする金属層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｃ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９７．０％以上あることを特徴とする反射シートであり、
（２）少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｌを主体とする金属層（Ｅ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｅ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｅ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９１．０％以上あることを特徴とする反射シートであり、
（３）拡散反射率が１％以上、２０％以下である反射シートであり、
（４）高屈折率層（Ａ）の屈折率が、１．７０以上、４．００以下であり、該層の厚みが２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下であることを特徴とする反射シートであり、
（５）低屈折率層（Ｂ）の屈折率が、１．２０以上、１．８０以下であり、該層の厚みが３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする反射シートであり、
（６）上記の反射シートと、支持体（Ｆ）とを積層してなるリフレクターであり、
（７）光源を覆うことのできるように反射シート側を内側に曲げて使用することを特徴とするリフレクター。
（８）上記の反射シートを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置であり、
（９）上記のリフレクターを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置であり、
（１０）上記のサイドライト型バックライト装置を備えることを特徴とする液晶表示装置
に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
本発明の反射シートは、高分子フィルム上に高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を形成した反射シートである。本発明の反射シートは、その拡散反射率が１％以上、２０％以下であっても良い。また、本発明のリフレクターとは、該反射シートを内側に、好ましくは曲率半径が５ｍｍ以下になるように曲げたものである。また、本発明のサイドライト型バックライト装置とは、上記の反射シートやリフレクターを、導光板横の光源周りや導光板下に備えていることを特徴とする。
【００１２】
本発明における高分子フィルム（Ｄ）は、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば使用できる。透明性に特に制限はない。耐熱性の高いフィルムを用いれば、高温で使用できる反射シートが得られることは言うまでもない。
【００１３】
他の例として、後述する粘着剤シートや接着剤シートを高分子フィルムとして用いることも可能である。前者の粘着剤シートは架橋型の粘着剤であることが好ましく、後者の接着剤シートはホットメルト型接着剤であることが好ましい。
【００１４】
使用される高分子フィルム（Ｄ）の厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１０〜２５０μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍ用いられる。後述するリフレクターに用いる場合は特に１０〜１５０μｍであることが好ましい。
【００１５】
本発明の反射シートにおいて、反射層は高分子フィルム上に形成される積層体からなるものである。反射層は少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）および金属層（Ｃ）または金属層（Ｅ）とから成り３層以上、３１層以下、好ましくは３層以上、２１層以下、更に好ましくは３層以上、１１層以下である。金属層は基本的に１層で良いが、２層以上にしても良い。高屈折率層、低屈折率層の積層数が増えると、反射率は高くなるがコスト面が問題となる場合がある。
【００１６】
上記の多層構造における各層の位置関係は、高屈折率層／低屈折率層／金属層の順になる組合せが一つ以上あればよい。具体的には金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、又は金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）を好ましい例として挙げることが出来る。
【００１７】
高分子フィルム（Ｄ）は、上記反射層の多層構造において任意の位置に配置する事ができるが、好ましくは高分子フィルムの片面に上記反射層が形成される構成、即ち
高分子フィルム（Ｄ）／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、高分子フィルム（Ｄ）／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、高分子フィルム／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、又は高分子フィルム／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）が好ましい例として挙げられる。また、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、又は金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）も好ましい例として挙げられるがこの場合は高分子フィルムが透明であることが望ましい。
【００１８】
本発明の反射シートの一例を図１に示した。図１の反射シートは高分子フィルム４０上にＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００１９】
ここで高屈折率とは、屈折率が１．７０以上、４．００以下であること、また低屈折率とは屈折率が１．２０以上、１．８０以下であることをいう。ただし一般的に用いられている高屈折率層は屈折率が、２．００以上、３．００以下であり、低屈折率層は屈折率が１．３０以上、１．６０以下である。また本発明では、反射シートで用いられる高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差が重要となる。好ましくは屈折率の差が０．３以上、２．８以下、さらに好ましくは屈折率の差が０．５以上、２．０以下である。
【００２０】
上記のＡｇやＡｌを主体とする金属層（Ｃ）、金属層（Ｅ）には、ＡｇやＡｌ単体或いは、ＡｇやＡｌを主体とした合金が好ましく用いられる。またこれらＡｇやＡｌを主体とした合金の純度は１００％であることが好ましいが、実際には金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ネオジム、カドミウム、アンチモン、スズ、亜鉛、ニオブなどを含有することがある。含有する不純物としての金属の割合は、反射率を考慮すると０．０１％以上、２０．０％以下が好ましい。不純物含有量がこの範囲にあれば、上記のＡｇ合金やＡｌ合金は、その組合せによって、耐久性が向上することがある。具体的な銀合金の例としては、銀と金とからなる合金、銀と銅とからなる合金、銀とニッケルとからなる合金、銀とパラジウムとからなる合金、銀とネオジムとからなる合金、銀とインジウムとからなる合金、銀とスズとからなる合金、銀とタングステンとからなる合金、銀とチタンとからなる合金、銀とクロムとからなる合金、銀とパラジウムと銅とからなる合金、銀とパラジウムと金とからなる合金、銀とネオジムと金とからなる合金、銀とネオジムと銅とからなる合金、銀とインジウムとスズとからなる合金等が挙げられるが、この限りではない。またアルミニウム合金の例としては、アルミニウムと金とからなる合金、アルミニウムと銅とからなる合金、アルミニウムとニッケルからなる合金、アルミニウムとネオジムとからなる合金、アルミニウムとパラジウムとからなる合金、アルミニウムとマンガンとからなる合金、アルミニウムとチタンとからなる合金、アルミニウムとスズとからなる合金、アルミニウムとインジウムとからなる合金、アルミニウムと亜鉛とからなる合金、アルミニウムとニオブとからなる合金、アルミニウムとクロムとからなる合金等が挙げられるが、この限りではない。
【００２１】
上記の低屈折率層（Ｂ）には、珪素酸化物、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム化合物、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジム、酸化アルミニウム、フッ化セリウム等が好ましく用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、無機物でも有機物のいずれも使用できる。
【００２２】
上記の高屈折率層（Ａ）には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化ネオジム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマス等が好ましく用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、無機物でも有機物のいずれも使用できる。
【００２３】
高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、金属薄膜層（Ｃ）、金属薄膜層（Ｅ）の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００２４】
真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても良い。
【００２５】
スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。
【００２６】
スパッタ法においては、原材料は金属の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスを用いて行うこともある。
【００２７】
ここで、第１層であるＡｇやＡｌを主体とする金属層（Ｃ）、金属層（Ｅ）において、その厚みは、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下である。該層の厚みが１５０ｎｍ以上あれば、金属層の反射率はほとんど変わらないが、厚すぎるとコストが大きくなり実用的ではなくなってしまう。５０ｎｍより薄い場合は、光が金属層を透過してしまい、反射率は低くなってしまう。
【００２８】
第２層である低屈折率層の厚みは、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関して、より好ましい膜厚は３０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１１５ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１１０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３５ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１４０ｎｍ以下である。
【００２９】
第３層である高屈折率層の厚みは、２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましい膜厚は２５ｎｍ以上、９０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以上、６５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは４０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。
【００３０】
上記の低屈折率層（Ｂ）、高屈折率層（Ａ）の膜厚は、反射率を向上させる波長領域に応じて適宜選択する事が出来る。
【００３１】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００３２】
また、反射層を高分子フィルム（Ｄ）上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等を行うことが反射層と高分子フィルムとの密着性を向上させる効果があることは当業者の技術的常識の範囲であろう。また、高分子フィルム（Ｄ）の表面に上記以外の金属や金属酸化物を蒸着させることで反射層と高分子フィルムとの密着性を向上させることもできる場合がある。
【００３３】
また、本発明においては反射体の反射層とは反対側に凹凸形状を有することが好ましい。凹凸の高さは０．１μｍ以上、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．５〜３０μｍである。このような凹凸形状を形成することによって操作性の改善の他、接着力を向上出来る場合がある。
【００３４】
凹凸形状を形成する方法としては、高分子フィルム表面にエンボス加工を施し凹凸構造を形成する方法、ＳｉＯ２などの粒子を高分子フィルム表面に高圧空気とともに吹き付けるサンドブラスト法、エッチング等の化学的方法、粒子を塗布する方法等があり、必要な形状に応じてその方法は選択される。
【００３５】
上記のような反射シートの一例を図２に示した。図２の反射シートは、易滑層５０を有する高分子フィルム４０上に、ＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００３６】
上記した様な種々の方法で作製された反射シートの、金属反射層側から測定される全光線反射率は典型的には、Ａｇを主体とした金属層を用いた場合、５５０ｎｍの波長の光に対して９７％以上であり、より好ましくは９８％以上であり、さらに好ましくは９８．５％以上である。また、Ａｌを主体とした金属層を用いた場合、５５０ｎｍの波長の光に対して９１％以上であり、より好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。 一般的な反射シートでは、金属層の劣化を防ぐために、透明金属酸化物等からなる保護層を金属層上に積層する必要がある。しかしながら本発明の反射シートでは、ＡｇやＡｌを主体とする金属層上に低屈折率層、高屈折率層が積層されており、これらが保護層の役割も果している。
【００３７】
本発明のリフレクターは、前述の反射シートを、を支持体に積層したものである。ここでいう積層とは、反射シートを板状やシート状成形体である支持体に固定することである。固定する方法は、接着剤や粘着剤による貼合、高分子フィルム（Ｄ）を介して積層する場合は熱融着や溶剤を用いてフィルム表面を選択的に溶解させた後に接着する方法などが挙げられるが、接着剤、粘着剤を用いる方法が好ましく用いられる。
【００３８】
本発明のリフレクターの一例を図３に示した。図３のリフレクターは、高分子フィルム４０上にＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させた反射シートと支持体７０とを接着材層６０で貼合させたものである。
【００３９】
上記の接着剤は、熱または触媒の助けにより接着される接着剤であり、具体的には、シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤など一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ系接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた好適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用できる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００４０】
粘着剤としてはゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等である。中でもアクリル系粘着剤は、安価であるために広く用いられる。
【００４１】
反射シートと板状成形体との接着剤、粘着剤を用いた貼合は、反射シートの高分子フィルム側もしくは反射層側への接着層、粘着層を形成した後、支持体と貼合するのが好ましい方法である。上記の接着層、粘着層の形成方法として具体的には接着剤、粘着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる板状成形体とのラミネートの手順で行わう方法や接着剤シート、粘着剤シートを反射シートと貼合する方法が好ましい例として挙げられる。上記の内、接着剤、粘着剤のコーティング方法は、基材や接着剤、粘着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用されているのは、グラビアコーター方式及び、リバースコーター方式である。グラビアコーター方式では、接着剤、粘着剤に一部浸されているグラビアロールを回転させ、バックアップロールによって送られるフィルムを接着剤、粘着剤の付着したグラビアロールに接触させることによりコーティングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤、粘着剤の粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアコーター方式に類似した方法だが、コーティングロールに付着する接着剤、粘着剤の量を、それに接して設置されているメタリングロールによって調整する。コーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤、粘着剤の種類によってまちまちであるが、上記にかかげた一般的な接着剤を用いる場合は７０℃以上、１２０℃以下であり、好ましくは７５℃以上、１１５℃以下であり、さらに好ましくは８０℃以上、１１０℃以下である。また粘着剤の場合は０℃以上、６０℃以下であり、好ましくは１０℃以上、５５℃以下であり、さらに好ましくは２０℃以上、５０℃以下である。。また、上記の接着層、粘着層を反射層側に形成する場合は、反射層の劣化等を伴わない接着剤、粘着剤を選択する必要がある。
【００４２】
この接着剤、粘着剤による反射シートと、板状成形体との接着強度は、１８０度ピール強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上である事が好ましい。この接着強度に達しない場合には、板金加工した際、反射シートの、板状成形体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす可能性があるためである。
【００４３】
板状成形体には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。また形状記憶合金を用いれば加工性に優れる等の利点がある。
【００４４】
プラスチックの板やシート を用いることができるのは勿論のことである。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリイミドなどのホモポリマーまたは、コポリマー、環状オレフィンコポリマー等があげられる。特に好ましくは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであり、該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色のものが好まれる。支持体としての高分子フィルムの厚みは、コスト低減及び、曲げやすさからは、薄い方が好ましく、反射シートとのラミネートする際の取扱い（ハンドリング）性及び、形状保持性からは、厚い方が好まれる。好ましいフィルムの厚みは、５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは１５μｍ以上１００μｍ以下である。また、後述する曲げ加工が困難な場合は、環状オレフィンポリマー等の形状記憶樹脂を用いて解決することもできる。
【００４５】
本発明のランプリフレクターは反射率、耐久性、成形性に優れるので液晶表示装置に用いられるバックライト用ランプリフレクターに好適であり、高輝度で美しい画像を提供できる。本発明のランプリフレクターは上記の反射シートおよび必要に応じて貼合される支持体とからなるリフレクターを所定の形状に打ち抜き加工し、例えば図４に示すような形状に曲げ加工して冷陰極菅を覆うような形状に作製されたランプリフレクター８０を好ましい例として挙げることが出来る。また、上記打ち抜き加工を行う場合、事前に好適なサイズに枚葉化しても良い。枚葉加工、打ち抜き加工、曲げ加工を異なる設備で行う等の理由で輸送が必要となる場合、数十枚単位のシートを重ねた後真空パック包装して輸送することが好ましい。この際、包装材は平滑性の良いものが好ましく、エアキャップなど凹凸のあるものを用いるとシート表面に微少な変形が起こりランプリフレクターとしての性能を低下させることがある。
【００４６】
加工する際には、例えば図５に示した断面図のように、ＡｇやＡｌを主体とする層３０と低屈折率層２０と高屈折率層１０とからなる反射層が最内側となり、支持体が最外側になるように配置する。また必要に応じて穴あけ加工等の工程を加えても良い。
【００４７】
曲げ加工後の形状は使用方法によって異なるが、Ｕ字型、コの字型、Ｖ字型などが好ましい。その際の曲げ加工時の曲率半径は５ｍｍ以下、好ましくは４ｍｍ以下である。
【００４８】
具体的な加工法としてはプレスを用いたＶ字曲げ、Ｕ字曲げ、またはダンゼントベンダーを用いた折り畳み曲げ等が挙げられる。
【００４９】
本発明の反射体は成形性に優れており、上記の様な加工を行っても反射層に皺や浮き上がりが発生しない。このことにより本発明の反射体から得られるランプリフレクターはサイドライト型バックライト装置に組み込むと高輝度で輝線の発生しない美しい映像を実現できる。
【００５０】
使用する光源としては、例えば、白熱電球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプなどが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられる。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよく、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いられる。
【００５１】
蛍光ランプに電流を供給する導線としては一般的な被覆導線が用いられるが、被覆材に硫黄が含有されていると、経時劣化により硫化水素などの硫化物を発生させ、反射層や他の部材を劣化させる可能性があるので、硫黄フリーの被覆材を用いた導線を用いることが好ましい。
【００５２】
本発明のランプリフレクターは、例えば図６に示したようなバックライトユニットにおいて、導光板１００の横に配置された光源９０を覆うように設置されるランプリフレクター８０の様に使用される。
【００５３】
本発明のランプリフレクターは薄膜状の反射層が光源側最外層に位置するので透明樹脂等で保護されたリフレクターの様な樹脂中に光が閉じこめられることが無い。このため、輝度を高めても輝線等が発生せず、高輝度で美しい映像を実現できる。
【００５４】
また、反射率が向上するため内部温度も低くなり、耐久性が向上する効果もある。
【００５５】
本発明の反射シートは、サイドライト型バックライト装置の導光板下反射体としても好適に用いられる。この場合、反射シートのその拡散反射率が１％以上、２０％以下であることが好ましく、更に好ましくは１７％以下、特に好ましくは１５％以下である。
【００５６】
本発明の上記の拡散反射シートにおける拡散反射は、高分子フィルム（Ｄ）上に凹凸層を形成させたり、凹凸形状を有する高分子フィルム上に上記と同様の方法で反射層を形成したり、上記の反射シート上に凹凸層を形成することによって発現させることが出来る。
【００５７】
上記の凹凸層の形成方法としては、例えば、（１）粒子などの固形物を樹脂と混練してフィルム、シート状に成形する方法、（２）粒子などの固形物を半溶融状態のフィルム、シートに散布後冷却して定着させる方法、（３）スクリーン印刷のような印刷技術を利用して転写する方法、（４）熱可塑性樹脂をシート、フィルムに成形する際に凹凸形状を有する冷却ロールを使用し，ロールの凹凸形状を突起物として転写する方法、（５）マイクロ金型を利用して形成する方法、（６）サンドブラスト法等の研磨、摩擦過程を有する方法、（７）フォトリソグラフィーを利用して形成する方法、（８）エッチング法を利用して形成する方法、（９）微粒子を好ましくはバインダー樹脂を用いて塗布させることにより突起物を形成する方法等が挙げられる。又、上記等の方法で得られる突起物を熱処理等で変形させることも可能である。これらの中でも（９）の微粒子をバインダー樹脂によって塗布する方法が好ましく用いられる。
【００５８】
塗布する微粒子としては、例えばアクリル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレート、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダ等からなる無機微粒子や酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性透明微粒子等も用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるわけではない。中でもアクリル樹脂或いはシリカが好ましい。
【００５９】
上記突起物の大きさは用いられる導光板に左右されるが、好ましい最大幅は、０．１μｍ以上、５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下である。また好ましい突起物の高さは、０．１〜４５μｍ、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下である。である。突起物の形状には特に制限は無く、粒子型、ドーム型、山型、ピラミッド型、円柱型、角柱型、台形、プリズム型、不定形等を例示することができる。また単段形状であっても多段形状であっても良くこれらの形状が混在していたり、多段に組み合わさっていても良い。突起物は、１ｍｍ２あたり２個以上、１００個以下有することが好ましく、さらに好ましくは５個以上、９０個以下である。
【００６０】
上記粒子の粒径分布は小さい方が好ましく、平均粒子径に対する粒子径の標準偏差の割合は５０％以下であることが好ましい。さらに好ましくは４０％以下である。但し必要に応じて２種類以上の粒子を用いることもできる。この場合、主成分の粒子の割合が５０％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。平均粒子径の分布は、少量の粒子を分散させた溶液を動的光散乱法により測定することで求めることができる。また粒子を撮影したＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）写真から無作為に選んだ１００個の粒子径より求めることができる。また粒子径はＳＥＭ写真以外に光学顕微鏡を用いても読み取ることができる。また得られた写真又は像を画像処理することからも粒径分布を求めることができる。
【００６１】
上記粒子は、バインダーとなる樹脂中に分散させた状態で塗布されることが好ましい。バインダー樹脂として用いるものとしては、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これらは高分子フィルム及び粒子との密着性を考慮して選択される。これらのなかでは、アクリル樹脂が好ましい。
【００６２】
通常これら粒子をバインダー樹脂に分散させるためには溶媒を用いる。溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも基材高分子フィルムや粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題なく使用できる。また、必要に応じてイソシアネート類やメラミン類などの架橋剤、ぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられることもある。
【００６３】
粒子のバインダー樹脂に対する配合率は、粒子がバインダー樹脂に対して０．１質量％以上、１０質量％以下であることが好ましい。配合率が０．１質量％より小さい場合に、必要な反射光の拡散特性が得られないため好ましくない。また１０質量％より大きい場合には、光の拡散性が強くなりすぎるため好ましくない。
【００６４】
上記の粒子とバインダー樹脂を含む混合液を高分子フィルムに塗布する方法としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、走行中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ法、比較的運転技術を要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティング出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗工、高生産性、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来るなどの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げられるが、どの方法においても特に問題無く塗布できる。
【００６５】
粒子を含む塗工液は、高分子フィルム（Ｄ）上にｗｅｔ状態で塗工量１０ｇ／ｍ２以上、４０ｇ／ｍ２以下で塗布することが好ましい。塗布量は高分子フィルム（Ｄ）上のバインダー層の厚みに反映され、１０ｇ／ｍ２より小さくすると、塗布液中に含まれる粒子の量が不足し、必要な反射光の拡散特性を得られない場合があり好ましくない。また塗布液量を４０ｇ／ｍ２より大きくすると粒子がバインダー樹脂に埋もれてしまい、好ましくない。つまり上述範囲で粒子配合量と塗布液の塗布量を調整することで、高分子フィルム上に１ｍ２あたり、２個以上、１００個以下の突起物を得ることができる。突起物の高さは触針粗さ計や表面形状測定装置などにより容易に測定することができる。
【００６６】
本発明における拡散反射シートの金属反射層側から測定される拡散反射率は、５５０ｎｍの波長の光に対して１％以上、２０％以下であり、より好ましくは１％以上、１８％以下であり、さらに好ましくは１％以上、１５％以下である。
【００６７】
また高分子フィルム（Ｄ）の反射層と反対面に易滑処理がなされていても良い。易滑処理を施すことで、液晶表示装置を組み付ける際の作業性が向上する。
【００６８】
図７に上記のような反射シートの一例を示す。図７の反射シートは、例えば上記の粒子を含む塗工液を塗工して形成される凹凸層１１０、および易滑層５０を有する高分子フィルム４０の凹凸層１１０側に、ＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００６９】
また本発明のサイドライト型バックライト装置では、高分子フィルム上に前述の拡散層を有する反射シートを導光板下反射体として使用することを特徴とする。本発明のサイドライト型バックライト装置は、上記の拡散層を有する反射シートを用いているので、反射面に歪みが生じた場合でも輝度ムラが発生し難く、また従来の装置に比べ格段の輝度向上を実現することができる。
【００７０】
本発明のサイドライト型バックライト装置の一例を図８に示す。図８のサイドライト型バックライト装置は、導光板１００の側面に光源９０、ランプリフレクター８０を付し、表示面側に拡散シート１３０、表示面と反対側に導光板下反射体１２０を配置したものである。
【００７１】
また、本発明の液晶表示装置は上記のサイドライト型バックライト装置を用いたことを特徴とする。本発明の液晶表示装置は、上記のサイドライト型バックライト装置を用いているので、反射面に歪みが生じた場合でも輝度ムラが発生し難く、また従来の装置に比べ格段の輝度向上を実現することができる。
【００７２】
本発明品である反射シートの反射率、構成、及び電気特性の代表的な評価方法を以下に説明する。本発明品である反射シートの反射率は、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、反射層側で測定することができる。ここでいう反射率は、アルミナ白板の反射率を１００％として換算する。ＡｇやＡｌを主体とした金属層、高屈折率層、低屈折率層、接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。金属層、高屈折率層、低屈折率層の材料の屈折率は、エリプソメーターで測定することができる。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）測定により可能である。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状成形体を引き剥がして接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれを溶かした試料を作成し、その赤外分光（ＩＲ）測定を行うことで可能である。銀薄膜層及び、板状成形体の材料分析は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）測定により可能である。さらに、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部分の元素分析が行える。また、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）により組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも知ることができる。
【００７３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｇ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９９．２％であった。またこの反射シートをホットメルト型接着材（ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板とを１００℃に加熱したラミネーターロールを通すことで接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したところ２００ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６５０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例２
ＴｉＯ２を膜厚８０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例１に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９８．３％であった。また、該シートを実施例１と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２５０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６００ｃｄ／ｍ２であった。
実施例３
ＳｉＯ２を膜厚６０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例１に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９９．０％であった。また、該シートを実施例１と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２２５ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６３０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例４
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｌ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９５．７％であった。またこの反射シートをホットメルト型接着材（ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板とを１００℃に加熱したラミネーターロールを通すことで接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したところ２４０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５７０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例５
ＴｉＯ２を膜厚８０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例４に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９３．１％であった。また、該シートを実施例４と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２３０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５５０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例６
ＳｉＯ２を膜厚６０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例４に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９４．９％であった。また、該シートを実施例４と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２５０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５６０ｃｄ／ｍ２であった。
比較例１
反射層をＡｇ層のみとしたこと以外は、実施例１に準じて反射シートを作製した。得られたシートの全反射率を測定したところ、９６．５％であった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５７０ｃｄ／ｍ２であった。
比較例２
反射層をＡｌ層のみとしたこと以外は、実施例４に準じて反射シートを作製した。得られたシートの全反射率を測定したところ、８８．７％であった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５２０ｃｄ／ｍ２であった。
以上の結果を表１に示しておく。
【００７４】
【表１】
実施例７
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を０．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｇ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９９．０％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は４．７％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６４０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例８
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を４．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例７に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９８．７％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は７．６％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例９
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を９．３質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例７に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９８．５％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は９．４％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６００ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例１０
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を０．５質量％とし、固形分比が３５質量％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｌ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．８％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は３．８％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５４０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった
実施例１１
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を４．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例１０に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．６％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は６．７％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例１２
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を９．３質量％とし、固形分比が３５質量％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例１０に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．５％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は９．１％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５２０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
比較例３
反射層をＡｇ層のみとしたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９６．４％、拡散反射率は４．５％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５６０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
比較例４
反射層をＡｌ層のみとしたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は８９．０％、拡散反射率は４．３％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例１
アクリル粒子の配合量を１０．５質量％としたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９８．５％、拡散反射率は２１．４％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４６０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例２
アクリル粒子の配合量を０．０５質量％としたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９８．７％、拡散反射率は０．８％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６８０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合、面光源の輝度ムラについて観察すると輝度ムラが発生していた。
参考例３
アクリル粒子の配合量を１０．５質量％としたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９４．３％、拡散反射率は２２．１％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４００ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例４
アクリル粒子の配合量を０．０５質量％としたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９４．５％、拡散反射率は０．７％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合、面光源の輝度ムラについて観察すると輝度ムラが発生していた。
【００７５】
【表２】
【００７６】
【発明の効果】
本発明の薄膜の構成によって、優れた反射率を有する反射シートを提供することができ、かつ同反射シートを用いたリフレクター、サイドライト型バックライト装置、液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射シートの一例を示す断面図その１
【図２】本発明の反射シートの一例を示す断面図その２
【図３】本発明のリフレクターの一例を示す断面図
【図４】本発明のリフレクターを成形加工したランプリフレクターの一例
【図５】ランプリフレクターの断面構成
【図６】サイドライト型バックライトユニットに取付けたランプリフレクターの一例
【図７】本発明の拡散反射シートの一例を示す断面図
【図８】サイドライト型バックライト装置の一例
【符号の説明】
１０ 高屈折率層
２０ 低屈折率層
３０ ＡｇやＡｌを主体とする金属層
４０ 高分子フィルム
５０ 易滑層
６０ 接着材層
７０ 支持体
８０ ランプリフレクター
９０ 光源
１００ 導光板
１１０ 凹凸層
１２０ 導光板下反射体
１３０ 拡散層
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子フィルム上にＡｇやＡｌを積層して構成する反射シート及びそれを用いたリフレクター、さらにはサイドライト型のバックライト装置およびそれを備えた液晶表示装置に関する。さらに詳しくは、高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層の構成からなる反射シート及びそれを用いたリフレクター、さらにはサイドライト型のバックライト装置およびそれを備えた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、反射体としてＡｇやＡｌを用いた薄膜が、液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターを中心に、蛍光灯の反射傘などに用いられている。これらはＡｇやＡｌ薄膜層／接着層／アルミ板から形成される反射板やＡｇやＡｌ薄膜層／白塗装／接着層／アルミ蒸着層／高分子フィルム／白塗装から形成されるいわゆる反射シートであり、例えば特許２５０３１６０号公報（特許文献１）、特開平７―３２５３７号公報（特許文献２）、特開２００２−１１６３１３号公報（特許文献３）、特開２０００−２２１３１１号公報（特許文献４）等で報告されている。
【０００３】
最近、液晶表示装置の高画素数化に伴い、バックライトの輝度向上が求められている。ここで、バックライトの輝度を上げるための手法として、光源からの光を余すこと無く利用できる反射率の高い反射体を用いることが挙げられる。現在は、Ａｇ薄膜層を用いた反射体が用いられているが、市場からはより反射率の高い反射体が求められている。
【０００４】
一方Ａｇは、単膜としては高い反射率を示すが、Ａｇそのものの値段が高いためコスト面で問題がある。そのため、Ａｇの代わりに値段の安いＡｌ薄膜を用いた反射体も液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターに使用されている。しかしながらＡｌはＡｇと比べ反射率が低いため、前述の理由からＡｌ薄膜層を用いた反射体の反射率向上が求められている。
【０００５】
またバックライトの方式に関しては、近年液晶ディスプレイの更なる軽量化、薄型化が必須事項となっていることや、輝度の均一性、光源からの熱が液晶パネルに伝わりにくいこと等の理由により、光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板を用いその一端に配置された光源からの光を多重反射させることで面光源化するサイドライト式バックライトが多く用いられている。
【０００６】
導光板の下には白ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）フィルム等からなる乱反射部材が配設されている場合が多く、この乱反射部材で光を拡散させることにより、均一な輝度を得ることができる。しかしながらこの乱反射部材では、正反射成分が殆ど無いため全体としては均一であるが十分な輝度を得ることができないという問題がある。この問題を解決するために、透明性又は透光性を有する表面を粗面化したフィルムにＡｇやＡｌを蒸着したシートを用いると、白ＰＥＴに比べ輝度は向上する。しかしながら、市場からはさらに高い輝度が求められている。
【特許文献１】特許２５０３１６０号公報
【特許文献２】特開平７―３２５３７号公報
【特許文献３】特開２００２−１１６３１３号公報
【特許文献４】特開２０００−２２１３１１号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、優れた反射率を有する反射シートを提供し、かつ同反射シートを用いたリフレクター及びサイドライト型バックライト装置、液晶表示装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきことに、高分子フィルム上に高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を積層した反射シートを形成することにより、上記の課題を解決出来ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、
（１）少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｇを主体とする金属層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｃ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９７．０％以上あることを特徴とする反射シートであり、
（２）少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｌを主体とする金属層（Ｅ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｅ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｅ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９１．０％以上あることを特徴とする反射シートであり、
（３）拡散反射率が１％以上、２０％以下である反射シートであり、
（４）高屈折率層（Ａ）の屈折率が、１．７０以上、４．００以下であり、該層の厚みが２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下であることを特徴とする反射シートであり、
（５）低屈折率層（Ｂ）の屈折率が、１．２０以上、１．８０以下であり、該層の厚みが３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする反射シートであり、
（６）上記の反射シートと、支持体（Ｆ）とを積層してなるリフレクターであり、
（７）光源を覆うことのできるように反射シート側を内側に曲げて使用することを特徴とするリフレクター。
（８）上記の反射シートを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置であり、
（９）上記のリフレクターを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置であり、
（１０）上記のサイドライト型バックライト装置を備えることを特徴とする液晶表示装置
に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
本発明の反射シートは、高分子フィルム上に高屈折率層、低屈折率層、ＡｇやＡｌを主体とする金属層を形成した反射シートである。本発明の反射シートは、その拡散反射率が１％以上、２０％以下であっても良い。また、本発明のリフレクターとは、該反射シートを内側に、好ましくは曲率半径が５ｍｍ以下になるように曲げたものである。また、本発明のサイドライト型バックライト装置とは、上記の反射シートやリフレクターを、導光板横の光源周りや導光板下に備えていることを特徴とする。
【００１２】
本発明における高分子フィルム（Ｄ）は、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば使用できる。透明性に特に制限はない。耐熱性の高いフィルムを用いれば、高温で使用できる反射シートが得られることは言うまでもない。
【００１３】
他の例として、後述する粘着剤シートや接着剤シートを高分子フィルムとして用いることも可能である。前者の粘着剤シートは架橋型の粘着剤であることが好ましく、後者の接着剤シートはホットメルト型接着剤であることが好ましい。
【００１４】
使用される高分子フィルム（Ｄ）の厚みは、特に限定されるものではないが、通常は１０〜２５０μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍ用いられる。後述するリフレクターに用いる場合は特に１０〜１５０μｍであることが好ましい。
【００１５】
本発明の反射シートにおいて、反射層は高分子フィルム上に形成される積層体からなるものである。反射層は少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）および金属層（Ｃ）または金属層（Ｅ）とから成り３層以上、３１層以下、好ましくは３層以上、２１層以下、更に好ましくは３層以上、１１層以下である。金属層は基本的に１層で良いが、２層以上にしても良い。高屈折率層、低屈折率層の積層数が増えると、反射率は高くなるがコスト面が問題となる場合がある。
【００１６】
上記の多層構造における各層の位置関係は、高屈折率層／低屈折率層／金属層の順になる組合せが一つ以上あればよい。具体的には金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、又は金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）を好ましい例として挙げることが出来る。
【００１７】
高分子フィルム（Ｄ）は、上記反射層の多層構造において任意の位置に配置する事ができるが、好ましくは高分子フィルムの片面に上記反射層が形成される構成、即ち
高分子フィルム（Ｄ）／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、高分子フィルム（Ｄ）／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、高分子フィルム／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）、又は高分子フィルム／金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）が好ましい例として挙げられる。また、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）、又は金属層（Ｃ，Ｅ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／低屈折率層（Ｂ）／高屈折率層（Ａ）／高分子フィルム（Ｄ）も好ましい例として挙げられるがこの場合は高分子フィルムが透明であることが望ましい。
【００１８】
本発明の反射シートの一例を図１に示した。図１の反射シートは高分子フィルム４０上にＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００１９】
ここで高屈折率とは、屈折率が１．７０以上、４．００以下であること、また低屈折率とは屈折率が１．２０以上、１．８０以下であることをいう。ただし一般的に用いられている高屈折率層は屈折率が、２．００以上、３．００以下であり、低屈折率層は屈折率が１．３０以上、１．６０以下である。また本発明では、反射シートで用いられる高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差が重要となる。好ましくは屈折率の差が０．３以上、２．８以下、さらに好ましくは屈折率の差が０．５以上、２．０以下である。
【００２０】
上記のＡｇやＡｌを主体とする金属層（Ｃ）、金属層（Ｅ）には、ＡｇやＡｌ単体或いは、ＡｇやＡｌを主体とした合金が好ましく用いられる。またこれらＡｇやＡｌを主体とした合金の純度は１００％であることが好ましいが、実際には金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ネオジム、カドミウム、アンチモン、スズ、亜鉛、ニオブなどを含有することがある。含有する不純物としての金属の割合は、反射率を考慮すると０．０１％以上、２０．０％以下が好ましい。不純物含有量がこの範囲にあれば、上記のＡｇ合金やＡｌ合金は、その組合せによって、耐久性が向上することがある。具体的な銀合金の例としては、銀と金とからなる合金、銀と銅とからなる合金、銀とニッケルとからなる合金、銀とパラジウムとからなる合金、銀とネオジムとからなる合金、銀とインジウムとからなる合金、銀とスズとからなる合金、銀とタングステンとからなる合金、銀とチタンとからなる合金、銀とクロムとからなる合金、銀とパラジウムと銅とからなる合金、銀とパラジウムと金とからなる合金、銀とネオジムと金とからなる合金、銀とネオジムと銅とからなる合金、銀とインジウムとスズとからなる合金等が挙げられるが、この限りではない。またアルミニウム合金の例としては、アルミニウムと金とからなる合金、アルミニウムと銅とからなる合金、アルミニウムとニッケルからなる合金、アルミニウムとネオジムとからなる合金、アルミニウムとパラジウムとからなる合金、アルミニウムとマンガンとからなる合金、アルミニウムとチタンとからなる合金、アルミニウムとスズとからなる合金、アルミニウムとインジウムとからなる合金、アルミニウムと亜鉛とからなる合金、アルミニウムとニオブとからなる合金、アルミニウムとクロムとからなる合金等が挙げられるが、この限りではない。
【００２１】
上記の低屈折率層（Ｂ）には、珪素酸化物、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム化合物、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジム、酸化アルミニウム、フッ化セリウム等が好ましく用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、無機物でも有機物のいずれも使用できる。
【００２２】
上記の高屈折率層（Ａ）には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化ネオジム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ビスマス等が好ましく用いられるが、特にこれに限定されるものではなく、無機物でも有機物のいずれも使用できる。
【００２３】
高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、金属薄膜層（Ｃ）、金属薄膜層（Ｅ）の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００２４】
真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても良い。
【００２５】
スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。
【００２６】
スパッタ法においては、原材料は金属の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスを用いて行うこともある。
【００２７】
ここで、第１層であるＡｇやＡｌを主体とする金属層（Ｃ）、金属層（Ｅ）において、その厚みは、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下である。該層の厚みが１５０ｎｍ以上あれば、金属層の反射率はほとんど変わらないが、厚すぎるとコストが大きくなり実用的ではなくなってしまう。５０ｎｍより薄い場合は、光が金属層を透過してしまい、反射率は低くなってしまう。
【００２８】
第２層である低屈折率層の厚みは、３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関して、より好ましい膜厚は３０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１１５ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１１０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３５ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下、さらに好ましくは３５ｎｍ以上、１４０ｎｍ以下である。
【００２９】
第３層である高屈折率層の厚みは、２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下が好ましい。波長５５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましい膜厚は２５ｎｍ以上、９０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下である。ここで、波長４５０ｎｍや６５０ｎｍの光で高反射率が必要とされる場合、波長４５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは２０ｎｍ以上、８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以上、６５ｎｍ以下である。また波長６５０ｎｍの全光線反射率に関しては、より好ましくは３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下、さらに好ましくは４０ｎｍ以上、９５ｎｍ以下である。
【００３０】
上記の低屈折率層（Ｂ）、高屈折率層（Ａ）の膜厚は、反射率を向上させる波長領域に応じて適宜選択する事が出来る。
【００３１】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００３２】
また、反射層を高分子フィルム（Ｄ）上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理等を行うことが反射層と高分子フィルムとの密着性を向上させる効果があることは当業者の技術的常識の範囲であろう。また、高分子フィルム（Ｄ）の表面に上記以外の金属や金属酸化物を蒸着させることで反射層と高分子フィルムとの密着性を向上させることもできる場合がある。
【００３３】
また、本発明においては反射体の反射層とは反対側に凹凸形状を有することが好ましい。凹凸の高さは０．１μｍ以上、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．５〜３０μｍである。このような凹凸形状を形成することによって操作性の改善の他、接着力を向上出来る場合がある。
【００３４】
凹凸形状を形成する方法としては、高分子フィルム表面にエンボス加工を施し凹凸構造を形成する方法、ＳｉＯ２などの粒子を高分子フィルム表面に高圧空気とともに吹き付けるサンドブラスト法、エッチング等の化学的方法、粒子を塗布する方法等があり、必要な形状に応じてその方法は選択される。
【００３５】
上記のような反射シートの一例を図２に示した。図２の反射シートは、易滑層５０を有する高分子フィルム４０上に、ＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００３６】
上記した様な種々の方法で作製された反射シートの、金属反射層側から測定される全光線反射率は典型的には、Ａｇを主体とした金属層を用いた場合、５５０ｎｍの波長の光に対して９７％以上であり、より好ましくは９８％以上であり、さらに好ましくは９８．５％以上である。また、Ａｌを主体とした金属層を用いた場合、５５０ｎｍの波長の光に対して９１％以上であり、より好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９３％以上である。 一般的な反射シートでは、金属層の劣化を防ぐために、透明金属酸化物等からなる保護層を金属層上に積層する必要がある。しかしながら本発明の反射シートでは、ＡｇやＡｌを主体とする金属層上に低屈折率層、高屈折率層が積層されており、これらが保護層の役割も果している。
【００３７】
本発明のリフレクターは、前述の反射シートを、を支持体に積層したものである。ここでいう積層とは、反射シートを板状やシート状成形体である支持体に固定することである。固定する方法は、接着剤や粘着剤による貼合、高分子フィルム（Ｄ）を介して積層する場合は熱融着や溶剤を用いてフィルム表面を選択的に溶解させた後に接着する方法などが挙げられるが、接着剤、粘着剤を用いる方法が好ましく用いられる。
【００３８】
本発明のリフレクターの一例を図３に示した。図３のリフレクターは、高分子フィルム４０上にＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させた反射シートと支持体７０とを接着材層６０で貼合させたものである。
【００３９】
上記の接着剤は、熱または触媒の助けにより接着される接着剤であり、具体的には、シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤など一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ系接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた好適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用できる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００４０】
粘着剤としてはゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等である。中でもアクリル系粘着剤は、安価であるために広く用いられる。
【００４１】
反射シートと板状成形体との接着剤、粘着剤を用いた貼合は、反射シートの高分子フィルム側もしくは反射層側への接着層、粘着層を形成した後、支持体と貼合するのが好ましい方法である。上記の接着層、粘着層の形成方法として具体的には接着剤、粘着剤のコーティング、乾燥、ローラーによる板状成形体とのラミネートの手順で行わう方法や接着剤シート、粘着剤シートを反射シートと貼合する方法が好ましい例として挙げられる。上記の内、接着剤、粘着剤のコーティング方法は、基材や接着剤、粘着剤の種類によって多くの方法があるが、広く使用されているのは、グラビアコーター方式及び、リバースコーター方式である。グラビアコーター方式では、接着剤、粘着剤に一部浸されているグラビアロールを回転させ、バックアップロールによって送られるフィルムを接着剤、粘着剤の付着したグラビアロールに接触させることによりコーティングする。コーティング量はロールの回転数、接着剤、粘着剤の粘度を制御することで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアコーター方式に類似した方法だが、コーティングロールに付着する接着剤、粘着剤の量を、それに接して設置されているメタリングロールによって調整する。コーティングされた接着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤、粘着剤の種類によってまちまちであるが、上記にかかげた一般的な接着剤を用いる場合は７０℃以上、１２０℃以下であり、好ましくは７５℃以上、１１５℃以下であり、さらに好ましくは８０℃以上、１１０℃以下である。また粘着剤の場合は０℃以上、６０℃以下であり、好ましくは１０℃以上、５５℃以下であり、さらに好ましくは２０℃以上、５０℃以下である。。また、上記の接着層、粘着層を反射層側に形成する場合は、反射層の劣化等を伴わない接着剤、粘着剤を選択する必要がある。
【００４２】
この接着剤、粘着剤による反射シートと、板状成形体との接着強度は、１８０度ピール強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上である事が好ましい。この接着強度に達しない場合には、板金加工した際、反射シートの、板状成形体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす可能性があるためである。
【００４３】
板状成形体には、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のように使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用いられる。また形状記憶合金を用いれば加工性に優れる等の利点がある。
【００４４】
プラスチックの板やシート を用いることができるのは勿論のことである。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリイミドなどのホモポリマーまたは、コポリマー、環状オレフィンコポリマー等があげられる。特に好ましくは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであり、該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色のものが好まれる。支持体としての高分子フィルムの厚みは、コスト低減及び、曲げやすさからは、薄い方が好ましく、反射シートとのラミネートする際の取扱い（ハンドリング）性及び、形状保持性からは、厚い方が好まれる。好ましいフィルムの厚みは、５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは１５μｍ以上１００μｍ以下である。また、後述する曲げ加工が困難な場合は、環状オレフィンポリマー等の形状記憶樹脂を用いて解決することもできる。
【００４５】
本発明のランプリフレクターは反射率、耐久性、成形性に優れるので液晶表示装置に用いられるバックライト用ランプリフレクターに好適であり、高輝度で美しい画像を提供できる。本発明のランプリフレクターは上記の反射シートおよび必要に応じて貼合される支持体とからなるリフレクターを所定の形状に打ち抜き加工し、例えば図４に示すような形状に曲げ加工して冷陰極菅を覆うような形状に作製されたランプリフレクター８０を好ましい例として挙げることが出来る。また、上記打ち抜き加工を行う場合、事前に好適なサイズに枚葉化しても良い。枚葉加工、打ち抜き加工、曲げ加工を異なる設備で行う等の理由で輸送が必要となる場合、数十枚単位のシートを重ねた後真空パック包装して輸送することが好ましい。この際、包装材は平滑性の良いものが好ましく、エアキャップなど凹凸のあるものを用いるとシート表面に微少な変形が起こりランプリフレクターとしての性能を低下させることがある。
【００４６】
加工する際には、例えば図５に示した断面図のように、ＡｇやＡｌを主体とする層３０と低屈折率層２０と高屈折率層１０とからなる反射層が最内側となり、支持体が最外側になるように配置する。また必要に応じて穴あけ加工等の工程を加えても良い。
【００４７】
曲げ加工後の形状は使用方法によって異なるが、Ｕ字型、コの字型、Ｖ字型などが好ましい。その際の曲げ加工時の曲率半径は５ｍｍ以下、好ましくは４ｍｍ以下である。
【００４８】
具体的な加工法としてはプレスを用いたＶ字曲げ、Ｕ字曲げ、またはダンゼントベンダーを用いた折り畳み曲げ等が挙げられる。
【００４９】
本発明の反射体は成形性に優れており、上記の様な加工を行っても反射層に皺や浮き上がりが発生しない。このことにより本発明の反射体から得られるランプリフレクターはサイドライト型バックライト装置に組み込むと高輝度で輝線の発生しない美しい映像を実現できる。
【００５０】
使用する光源としては、例えば、白熱電球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプなどが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられる。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよく、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いられる。
【００５１】
蛍光ランプに電流を供給する導線としては一般的な被覆導線が用いられるが、被覆材に硫黄が含有されていると、経時劣化により硫化水素などの硫化物を発生させ、反射層や他の部材を劣化させる可能性があるので、硫黄フリーの被覆材を用いた導線を用いることが好ましい。
【００５２】
本発明のランプリフレクターは、例えば図６に示したようなバックライトユニットにおいて、導光板１００の横に配置された光源９０を覆うように設置されるランプリフレクター８０の様に使用される。
【００５３】
本発明のランプリフレクターは薄膜状の反射層が光源側最外層に位置するので透明樹脂等で保護されたリフレクターの様な樹脂中に光が閉じこめられることが無い。このため、輝度を高めても輝線等が発生せず、高輝度で美しい映像を実現できる。
【００５４】
また、反射率が向上するため内部温度も低くなり、耐久性が向上する効果もある。
【００５５】
本発明の反射シートは、サイドライト型バックライト装置の導光板下反射体としても好適に用いられる。この場合、反射シートのその拡散反射率が１％以上、２０％以下であることが好ましく、更に好ましくは１７％以下、特に好ましくは１５％以下である。
【００５６】
本発明の上記の拡散反射シートにおける拡散反射は、高分子フィルム（Ｄ）上に凹凸層を形成させたり、凹凸形状を有する高分子フィルム上に上記と同様の方法で反射層を形成したり、上記の反射シート上に凹凸層を形成することによって発現させることが出来る。
【００５７】
上記の凹凸層の形成方法としては、例えば、（１）粒子などの固形物を樹脂と混練してフィルム、シート状に成形する方法、（２）粒子などの固形物を半溶融状態のフィルム、シートに散布後冷却して定着させる方法、（３）スクリーン印刷のような印刷技術を利用して転写する方法、（４）熱可塑性樹脂をシート、フィルムに成形する際に凹凸形状を有する冷却ロールを使用し，ロールの凹凸形状を突起物として転写する方法、（５）マイクロ金型を利用して形成する方法、（６）サンドブラスト法等の研磨、摩擦過程を有する方法、（７）フォトリソグラフィーを利用して形成する方法、（８）エッチング法を利用して形成する方法、（９）微粒子を好ましくはバインダー樹脂を用いて塗布させることにより突起物を形成する方法等が挙げられる。又、上記等の方法で得られる突起物を熱処理等で変形させることも可能である。これらの中でも（９）の微粒子をバインダー樹脂によって塗布する方法が好ましく用いられる。
【００５８】
塗布する微粒子としては、例えばアクリル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレート、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダ等からなる無機微粒子や酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性透明微粒子等も用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるわけではない。中でもアクリル樹脂或いはシリカが好ましい。
【００５９】
上記突起物の大きさは用いられる導光板に左右されるが、好ましい最大幅は、０．１μｍ以上、５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下である。また好ましい突起物の高さは、０．１〜４５μｍ、好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下である。である。突起物の形状には特に制限は無く、粒子型、ドーム型、山型、ピラミッド型、円柱型、角柱型、台形、プリズム型、不定形等を例示することができる。また単段形状であっても多段形状であっても良くこれらの形状が混在していたり、多段に組み合わさっていても良い。突起物は、１ｍｍ２あたり２個以上、１００個以下有することが好ましく、さらに好ましくは５個以上、９０個以下である。
【００６０】
上記粒子の粒径分布は小さい方が好ましく、平均粒子径に対する粒子径の標準偏差の割合は５０％以下であることが好ましい。さらに好ましくは４０％以下である。但し必要に応じて２種類以上の粒子を用いることもできる。この場合、主成分の粒子の割合が５０％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。平均粒子径の分布は、少量の粒子を分散させた溶液を動的光散乱法により測定することで求めることができる。また粒子を撮影したＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）写真から無作為に選んだ１００個の粒子径より求めることができる。また粒子径はＳＥＭ写真以外に光学顕微鏡を用いても読み取ることができる。また得られた写真又は像を画像処理することからも粒径分布を求めることができる。
【００６１】
上記粒子は、バインダーとなる樹脂中に分散させた状態で塗布されることが好ましい。バインダー樹脂として用いるものとしては、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これらは高分子フィルム及び粒子との密着性を考慮して選択される。これらのなかでは、アクリル樹脂が好ましい。
【００６２】
通常これら粒子をバインダー樹脂に分散させるためには溶媒を用いる。溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも基材高分子フィルムや粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題なく使用できる。また、必要に応じてイソシアネート類やメラミン類などの架橋剤、ぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられることもある。
【００６３】
粒子のバインダー樹脂に対する配合率は、粒子がバインダー樹脂に対して０．１質量％以上、１０質量％以下であることが好ましい。配合率が０．１質量％より小さい場合に、必要な反射光の拡散特性が得られないため好ましくない。また１０質量％より大きい場合には、光の拡散性が強くなりすぎるため好ましくない。
【００６４】
上記の粒子とバインダー樹脂を含む混合液を高分子フィルムに塗布する方法としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、走行中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ法、比較的運転技術を要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティング出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗工、高生産性、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来るなどの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げられるが、どの方法においても特に問題無く塗布できる。
【００６５】
粒子を含む塗工液は、高分子フィルム（Ｄ）上にｗｅｔ状態で塗工量１０ｇ／ｍ２以上、４０ｇ／ｍ２以下で塗布することが好ましい。塗布量は高分子フィルム（Ｄ）上のバインダー層の厚みに反映され、１０ｇ／ｍ２より小さくすると、塗布液中に含まれる粒子の量が不足し、必要な反射光の拡散特性を得られない場合があり好ましくない。また塗布液量を４０ｇ／ｍ２より大きくすると粒子がバインダー樹脂に埋もれてしまい、好ましくない。つまり上述範囲で粒子配合量と塗布液の塗布量を調整することで、高分子フィルム上に１ｍ２あたり、２個以上、１００個以下の突起物を得ることができる。突起物の高さは触針粗さ計や表面形状測定装置などにより容易に測定することができる。
【００６６】
本発明における拡散反射シートの金属反射層側から測定される拡散反射率は、５５０ｎｍの波長の光に対して１％以上、２０％以下であり、より好ましくは１％以上、１８％以下であり、さらに好ましくは１％以上、１５％以下である。
【００６７】
また高分子フィルム（Ｄ）の反射層と反対面に易滑処理がなされていても良い。易滑処理を施すことで、液晶表示装置を組み付ける際の作業性が向上する。
【００６８】
図７に上記のような反射シートの一例を示す。図７の反射シートは、例えば上記の粒子を含む塗工液を塗工して形成される凹凸層１１０、および易滑層５０を有する高分子フィルム４０の凹凸層１１０側に、ＡｇやＡｌを主体とする金属層３０、低屈折率層２０、高屈折率層１０を積層させたものである。
【００６９】
また本発明のサイドライト型バックライト装置では、高分子フィルム上に前述の拡散層を有する反射シートを導光板下反射体として使用することを特徴とする。本発明のサイドライト型バックライト装置は、上記の拡散層を有する反射シートを用いているので、反射面に歪みが生じた場合でも輝度ムラが発生し難く、また従来の装置に比べ格段の輝度向上を実現することができる。
【００７０】
本発明のサイドライト型バックライト装置の一例を図８に示す。図８のサイドライト型バックライト装置は、導光板１００の側面に光源９０、ランプリフレクター８０を付し、表示面側に拡散シート１３０、表示面と反対側に導光板下反射体１２０を配置したものである。
【００７１】
また、本発明の液晶表示装置は上記のサイドライト型バックライト装置を用いたことを特徴とする。本発明の液晶表示装置は、上記のサイドライト型バックライト装置を用いているので、反射面に歪みが生じた場合でも輝度ムラが発生し難く、また従来の装置に比べ格段の輝度向上を実現することができる。
【００７２】
本発明品である反射シートの反射率、構成、及び電気特性の代表的な評価方法を以下に説明する。本発明品である反射シートの反射率は、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、反射層側で測定することができる。ここでいう反射率は、アルミナ白板の反射率を１００％として換算する。ＡｇやＡｌを主体とした金属層、高屈折率層、低屈折率層、接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。金属層、高屈折率層、低屈折率層の材料の屈折率は、エリプソメーターで測定することができる。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）測定により可能である。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状成形体を引き剥がして接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれを溶かした試料を作成し、その赤外分光（ＩＲ）測定を行うことで可能である。銀薄膜層及び、板状成形体の材料分析は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）測定により可能である。さらに、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より微細な部分の元素分析が行える。また、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）により組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも知ることができる。
【００７３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｇ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９９．２％であった。またこの反射シートをホットメルト型接着材（ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板とを１００℃に加熱したラミネーターロールを通すことで接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したところ２００ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６５０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例２
ＴｉＯ２を膜厚８０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例１に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９８．３％であった。また、該シートを実施例１と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２５０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６００ｃｄ／ｍ２であった。
実施例３
ＳｉＯ２を膜厚６０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例１に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９９．０％であった。また、該シートを実施例１と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２２５ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１６３０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例４
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）上に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｌ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９５．７％であった。またこの反射シートをホットメルト型接着材（ＳＫダイン５２７３）を用いて、厚さ２ｍｍの真鍮板とを１００℃に加熱したラミネーターロールを通すことで接着した。接着後、１８０度ピール強度で測定したところ２４０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５７０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例５
ＴｉＯ２を膜厚８０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例４に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９３．１％であった。また、該シートを実施例４と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２３０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５５０ｃｄ／ｍ２であった。
実施例６
ＳｉＯ２を膜厚６０ｎｍとなるよう形成したこと以外は、実施例４に準じて反射シートを得た。該シートの５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率は９４．９％であった。また、該シートを実施例４と同様の接着材を用い真鍮板と接着した。接着後１８０度ピール強度で測定したところ２５０ｇ／ｃｍであった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５６０ｃｄ／ｍ２であった。
比較例１
反射層をＡｇ層のみとしたこと以外は、実施例１に準じて反射シートを作製した。得られたシートの全反射率を測定したところ、９６．５％であった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５７０ｃｄ／ｍ２であった。
比較例２
反射層をＡｌ層のみとしたこと以外は、実施例４に準じて反射シートを作製した。得られたシートの全反射率を測定したところ、８８．７％であった。この反射シートを液晶表示装置のバックライト部のランプリフレクターとして用いると輝度は、１５２０ｃｄ／ｍ２であった。
以上の結果を表１に示しておく。
【００７４】
【表１】
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を０．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｇ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９９．０％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は４．７％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６４０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例８
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を４．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例７に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９８．７％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は７．６％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例９
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を９．３質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例７に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９８．５％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は９．４％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６００ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例１０
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を０．５質量％とし、固形分比が３５質量％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、Ａｌ（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、膜厚１５０ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％のＳｉＯ２をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてＳｉＯ２を膜厚９５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、ＴｉＯ２（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＴｉＯ２を膜厚５５ｎｍになるように形成した。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．８％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は３．８％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５４０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった
実施例１１
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を４．５質量％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例１０に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．６％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は６．７％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
実施例１２
平均粒子径が２０μｍのアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しアクリル粒子の配合量を９．３質量％とし、固形分比が３５質量％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い拡散層を得た。次に、この拡散層上にＤＣマグネトロンスパッタ法で反射層を成膜した方法に関しては、実施例１０に準じた。できた反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったところ、反射率９４．５％であった。また５５０ｎｍにおける拡散反射率は９．１％であった。この反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５２０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
比較例３
反射層をＡｇ層のみとしたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９６．４％、拡散反射率は４．５％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５６０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
比較例４
反射層をＡｌ層のみとしたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は８９．０％、拡散反射率は４．３％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例１
アクリル粒子の配合量を１０．５質量％としたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９８．５％、拡散反射率は２１．４％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４６０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例２
アクリル粒子の配合量を０．０５質量％としたこと以外は、実施例７に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９８．７％、拡散反射率は０．８％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１６８０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合、面光源の輝度ムラについて観察すると輝度ムラが発生していた。
参考例３
アクリル粒子の配合量を１０．５質量％としたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９４．３％、拡散反射率は２２．１％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１４００ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラについても観察したが輝度ムラは発生しなかった。
参考例４
アクリル粒子の配合量を０．０５質量％としたこと以外は、実施例１０に準じて反射シートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９４．５％、拡散反射率は０．７％であった。次にこの反射シートを導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、面光源装置を得た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると、１５３０ｃｄ／ｍ２であった。セットした反射シートに故意に歪みを与えた場合、面光源の輝度ムラについて観察すると輝度ムラが発生していた。
【００７５】
【表２】
【発明の効果】
本発明の薄膜の構成によって、優れた反射率を有する反射シートを提供することができ、かつ同反射シートを用いたリフレクター、サイドライト型バックライト装置、液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射シートの一例を示す断面図その１
【図２】本発明の反射シートの一例を示す断面図その２
【図３】本発明のリフレクターの一例を示す断面図
【図４】本発明のリフレクターを成形加工したランプリフレクターの一例
【図５】ランプリフレクターの断面構成
【図６】サイドライト型バックライトユニットに取付けたランプリフレクターの一例
【図７】本発明の拡散反射シートの一例を示す断面図
【図８】サイドライト型バックライト装置の一例
【符号の説明】
１０ 高屈折率層
２０ 低屈折率層
３０ ＡｇやＡｌを主体とする金属層
４０ 高分子フィルム
５０ 易滑層
６０ 接着材層
７０ 支持体
８０ ランプリフレクター
９０ 光源
１００ 導光板
１１０ 凹凸層
１２０ 導光板下反射体
１３０ 拡散層
Claims (10)
- 少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｇを主体とする金属層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｃ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９７．０％以上あることを特徴とする反射シート。
- 少なくとも高屈折率層（Ａ）、低屈折率層（Ｂ）、Ａｌを主体とする金属層（Ｅ）、高分子フィルム（Ｄ）からなる反射シートであって、上記の（Ａ）層、（Ｂ）層、（Ｅ）層が（Ａ）／（Ｂ）／（Ｅ）の順に位置し、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率が９１．０％以上あることを特徴とする反射シート。
- 拡散反射率が１％以上、２０％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射シート。
- 高屈折率層（Ａ）の屈折率が、１．７０以上、４．００以下であり、該層の厚みが２０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射シート。
- 低屈折率層（Ｂ）の屈折率が、１．２０以上、１．８０以下であり、該層の厚みが３０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射シート。
- 請求項１又は２に記載の反射シートと、支持体（Ｆ）とを積層してなるリフレクター。
- 光源を覆うことのできるように反射シート側を内側に曲げて使用することを特徴とする請求項６記載のリフレクター。
- 請求項１、２に記載の反射シートを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置。
- 請求項６に記載のリフレクターを備えることを特徴とするサイドライト型バックライト装置
- 請求項８，９に記載のサイドライト型バックライト装置を備えることを特徴とする液晶表示装置。
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