JPH085806A - 反射体およびそれを用いた液晶表示用バックライトランプリフレクター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 透明高分子フィルム（Ａ）、膜厚が７０及
至３００ｎｍの銀を主体とした合金薄膜層（Ｂ）、接着
層（Ｃ）、成形体（Ｄ）が、ＡＢＣＤの順に形成された
反射体であって、銀を主体とした合金薄膜層が、銀−金
合金、もしくは、銀−白金合金、もしくは、銀−パラジ
ウム合金層であり、透明高分子フィルムが、ポリエチレ
ンテレフタレート等、アルミニウム板等を用いる反射板
とその反射板を用いた液晶表示用バックライトランプリ
フレクター。 【効果】 耐光性が著しく改善された反射板を提供
し、信頼性のきわめて高い液晶表示用バックライトラン
プリフレクターが提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、銀を用いた反射体に関
し、さらに詳しくは、液晶表示素子用のバックライトユ
ニットに好適に使用し得る反射体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】蛍光灯や白熱灯用の反射体としては、従
来はしばしば鏡面研磨されたアルミニウム板が用いられ
てきた。さらに、近年反射体は、液晶用バックライトユ
ニットやカメラのストロボ用の反射傘として重要な産業
上の用途を占めるに至った。反射体に用いる金属として
は、反射率が高い金属である、アルミニウム、銀、金等
が用いられるが、なかでも、アルミニウムおよび銀は可
視領域での反射率がおおむね９０％以上であることより
好適に用いられる。さらに、銀はアルミニウムよりも３
８０ｎｍ以上の波長の光に対してはより高い反射率を有
し、反射体としては優れた性質を持つことが知られてい
る。銀の１つの欠点は、高価であることであったので、
本発明者らは、透明プラスチックフィルム上に銀薄膜を
形成し、そのフィルムを板状の成形体に接着することに
より折り曲げ加工等が可能で、かつ、鏡面研磨されたア
ルミニウムよりも反射率の高い反射板に関する技術を開
示してきた（特開平１−２９９０２９号）。

【０００３】また、我々は、銀薄膜が蛍光灯等の光照射
下で、徐々に変質し反射率が低下する現象を見いだし、
さらに、この変質の原因が紫外線であることを突き止
め、透明高分子フィルムに紫外線吸収剤を含有せしめる
ことにより、銀薄膜の光照射下における安定性を大幅に
改善できる技術を開示した（特開平５−１６２２２７
号）。しかしならがら、より最近になり、液晶用のバッ
クライトにおいては輝度をより高めるためにより高い管
電流の蛍光管が使用されるようになったため、蛍光管か
ら放射される紫外線量が増大したばかりでなく使用温度
も高くなってきた。さらに、電源からのリーク電流を低
減するために、冷陰極管ではなく熱陰極管の使用も検討
されているが、これも環境温度の上昇につながり反射体
にとって過酷な使用環境の原因になる。以上述べたよう
に、従来よりも過酷な使用環境で、従来使用していた銀
薄膜を透明高分子フィルムに形成した反射体を使用して
いたところ、反射率が徐々に低下するという全く予期せ
ぬ現象に遭遇した。そこで、我々はこの原因を鋭意調査
したところ、反射率の低下は、連続薄膜であった銀が、
大きさが約０．１〜１０００ｎｍ程度の島状に変化して
いると云う予期せぬ現象に原因があることを発見した。

【０００４】銀薄膜を安定化させるという観点において
は、銀の拡散防止方法として、銀薄膜に金を含有させる
技術が特開昭５３−８３５８２号に開示されているが、
該技術においては、酸化物層に挟まれた銀薄膜の拡散防
止のために金が有用とされており、従って、「銀の拡散
を防ぎ、導電性、赤外光反射能、可視光透過率の劣化を
防ぐのが目的」であった。しかしながら、本願の目的で
ある可視光反射率の劣化を防ぐこと、すなわち、銀薄膜
が島状に変化することを抑制する方法に関しては何ら教
示するものではなかった。

【０００５】また、特開平１−２９９０２９号には、銀
の中にパラジュウウムを含有させた薄膜を熱線反射膜と
して利用する技術が開示されているが、この発明におい
ても、透過率を変化させないためにパラジウムを添加す
ることは述べられているが、可視光反射率の劣化に関し
ては何ら述べられておらず、また、同発明においては銀
を主体とする合金薄膜層は３〜３０ｎｍと極めて薄いも
のであって、本願の技術思想とは全く異なるものであっ
た。さらに、特公昭５４−３０６５０号においては、銀
蒸着膜の表面の構造欠陥部分を、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｃｒ、ＰｔおよびＰｄよりなる群から選ばれた１種
又は２種以上の金属無機材料の極薄膜の微粒子によりみ
たす技術が開示されているが、具体的にはこの発明にお
いては銀薄膜の上に上記金属層を積層するものであって
本願とは本質的に異なるものである上に、銀薄膜層が島
状に変化することを抑制する方法についてはなんら教え
るものではなかった。さらに、成書において指摘されて
いることとしては、「貴金属の実際知識」山本勇三編
著、東洋経済新報社頁１４６に、不変色銀合金に関する
記述がある。しかしながら、同書においては、不変色合
金は、金、白金、パラジウムを原子比で等量以上加えな
ければならないことが明記されており、本願発明の範囲
からは全く逸脱しており、可視光反射率の改善方法なら
びに厚さが７０ｎｍから３００ｎｍの薄膜状の銀の安定
性には何ら言及されておらず、銀薄膜が島状に変化する
ことを抑制する方法に関しては具体的にも例示的にも何
ら教えるものではなかったのである。さらに、繰り返し
になるが、同書でいうところの原子比で等量以上という
範囲は、本発明とは全く異なるものであったのである。
また、「薄膜の基本技術」金原粲著、東京大学出版頁８
９から９４には、金属は、通常の「かたまり（バルク）
状態」である時より、薄膜状態では島状になりやすいこ
とが述べられているが、同書においてもその抑制方法に
関してはなんら具体的もしくは例示的な記述は見られな
かったのである。

【０００６】バックライトランプリフレクターの用途に
使用する場合、例えば、環境温度８０℃で少なくとも５
０００時間以上でも反射率が低下しないことが要請さ
れ、また、反射率も９３％以上であることが好ましい。
そこで、本発明者等は、このように銀薄膜が島状に変化
することを防ぐ方法を鋭意研究し、さまざまな膜厚の銀
に対してさまざまな元素を添加して、反射率の安定性を
評価したところ、膜厚が、好ましくは、７０ｎｍから３
００ｎｍの銀薄膜に対して本願に示す範囲の、金、白
金、もしくは、パラジウムを添加することにより、純銀
の薄膜層と比べても初期反射率をほとんど低下させるこ
となく、しかも、高紫外線照射量かつ高温の環境下にお
いても銀単独で用いた場合の反射率の低下、すなわち、
銀薄膜が島状になること、を防ぎ、従って、より過酷な
使用条件においても長期にわたってアルミニウムよりも
高い反射率を維持し得る反射体を得られることを見いだ
し本発明に到達したものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、銀が
島状になることを防ぎ、耐久性の優れた銀薄膜を主体と
する反射体を提供し、かつ、同反射体を用いた液晶用バ
ックライトユニットを提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、上記
課題を解決するためになされたものであって、反射体に
して、少なくとも、透明高分子フィルム（Ａ）、膜厚が
好ましくは、７０及至３００ｎｍの銀を主体とした合金
薄膜層（Ｂ）、接着層（Ｃ）、成形体（Ｄ）が、ＡＢＣ
Ｄの順に形成された反射体であり、また、銀を主体とし
た合金薄膜層が、金を３及至１６重量％含有する合金層
である反射体であり、また、銀を主体とした合金薄膜層
が、白金を３及至１６重量％含有する合金層である反射
体であり、また、銀を主体とした合金薄膜層が、パラジ
ウムを２及至８重量％含有する合金層である反射体であ
り、また、透明高分子フィルムが、ポリエチレンテレフ
タレートもしくはポリエーテルスルフォンもしくはポリ
カーボネートである反射体であり、また、成形体が、ア
ルミニウムもしくはアルミニウム合金板である反射体で
あり、また、成形体が、少なくとも亜鉛を３０及至４０
重量％含有した銅亜鉛合金板である反射体であり、ま
た、成形体が、少なくとも、クロムを１６及至２０重量
％、ニッケルを８及至１２重量％含んだオーステナイト
系ステンレス鋼板である反射体であり、成形体が、鉄を
主成分とし、炭素含有量が２重量％以下の鋼板である反
射体であり、また、成形体が、高分子フィルムもしくは
高分子シートである反射体であり、また、この高分子フ
ィルムもしくは高分子シートの波長４５０〜７５０ｎｍ
の可視光線に対する透過率が１％以下である反射体であ
り、また、高分子フィルムもしくは高分子シートが、不
透明か、もしくは、金属蒸着されたものか、もしくは、
塗料が塗布されているか、もしくは、これらが組み合わ
されものである反射体であり、また、波長４８０ｎｍか
ら７８０ｎｍの光に対する全反射率が９３％以上である
反射体であり、また、上記いずれかの反射体を加工成形
してなる液晶表示用バックライトランプリフレクターで
ある。以下、本発明を詳細に説明する。

【０００９】まず、添付図面について説明するに、図１
は、本発明になる反射板の断面構成図の例であり、図２
は、反射板を成形加工したランプリフレクターの例を示
す図であり、図３は、ランプリフレクターの断面の構成
を示す図であり、図４は液晶表示素子バックライトユニ
ットに取り付けたランプリフレクターを示す図である
る。ここで、１０は透明高分子層もしくはフィルム、２
０は銀を主体とした合金薄膜層、３０は接着層、４０は
成形体、５０はランプリフレクター、６０は蛍光管、７
０は導光板を示す。

【００１０】本発明における透明高分子層（Ａ）の材料
は、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムが使用
できるが、必ずしもこれらに限定されるわけではなく、
透明であり、ある程度常用耐熱温度が高いものであれば
使用できる。耐熱性の高いフィルムを用いれば、高温で
使用できる反射板が得られることは言うまでもない。上
記透明高分子層（Ａ）の厚さには特に限定的な制限値は
ないが、１０〜１５０μm が好ましく用いられる。使用
する高分子層の光学特性は、波長５５０ｎｍの光の光線
透過率が８０％以上であることが好ましい。より好まし
くは、波長５００〜７００ｎｍの光に対して、光線透過
率が８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であ
る。光線透過率が８０％よりあまり低いと、反射フィル
ムとした時の全反射率が所望の値に達しなくなる。な
お、透明高分子層に、紫外線を遮断する性質をもたせる
ことにより銀層の耐候性を向上させることは当業者が理
解しているところであろう。

【００１１】本発明においては、かかる透明高分子層１
０の一方の主面上に、図１に示すように、銀を主体とす
る薄膜層２０を形成するが、かかる銀薄膜の形成法は、
湿式法及び乾式法があるが、乾式の方法が好ましく用い
られる。乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的
に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビー
ム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオン
ビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とり
わけ、本発明には連続的に成膜するロールツロール方式
が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。なお、合金
を真空蒸着するには二源蒸着法が好ましく用いられる。

【００１２】真空蒸着法では銀や合金の原材料を電子ビ
ーム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、薄膜を形成する。イオンプレーティング方ではア
ルゴン等のガスを好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．
１Ｐａ）以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放
電を起こしてもよい。

【００１３】スパッタ法では、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ｒｆマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルｒｆスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のター
ゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネ
オン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
９９．０％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５
％以上である。スパッタ法では、合金薄膜を得るには、
合金をターゲットを用いれば良い。また、選択スパッタ
リングが起こることを考慮して、ターゲット組成を調整
しておくことも当業者の設計事項の範囲内であろう。

【００１４】銀を主体とする薄膜層の厚さは、目的に応
じて任意に選択しうるが、通常、７０ｎｍ〜３００ｎｍ
が好ましく、より好ましくは７０ｎｍ〜２００ｎｍであ
る。膜厚が７０ｎｍ未満で、あまり薄いと、銀の膜厚が
十分でないために、透過する光が存在し、反射率が十分
でなくなる。一方、膜厚があまり厚く３００ｎｍを大幅
に越えると、反射率は上昇せず、飽和傾向を示す上に、
銀層の高分子フィルムに対する密着性が低下するので好
ましくない。

【００１５】膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射
干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法等があるが、
水晶振動子法では成膜中に膜厚の測定が可能なので所望
の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜条件
を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜
厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚制御する方
法もある。なお、銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない
程度の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステ
ン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マ
ンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよい。

【００１６】さらに、銀を主体とした合金層を形成した
後、該層の保護やフィルムの滑り性の向上のために、イ
ンコネル、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、
モリブデン、タングステン等の単金属層もしくは合金層
を１０ｎｍ〜３０ｎｍ程度積層することが有効であるこ
とは、当業者が理解できるところであろう。

【００１７】合金薄膜層を透明高分子フィルム（ 透明
高分子フィルム層 ）上に設ける際に、該高分子フィル
ム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理、表面化学
処理、粗面化処理等を行うことが銀薄膜層と高分子フィ
ルムの密着性を向上させる上で効果があることは当業者
の技術的常識の範囲であろう。銀を主体とした合金薄膜
層は、金を好ましくは３及至１６重量％、より好ましく
は６〜１２重量パーセント、さらにより好ましくは７〜
１０重量％含有する薄膜層である。または、白金を３及
至１６重量％、より好ましくは５〜１２重量％、さら
に、より好ましくは７〜１０重量％含有する金を主体と
する合金層である。または、銀を主体として合金薄膜層
が、パラジウムを好ましくは２及至８重量％、より好ま
しくは３〜６重量％、さらにより好ましくは４〜５重量
％含有する合金層である。合金が含有量がこの範囲より
もあまり少ないと、実用的に供する際に行われる信頼性
試験において反射率低下を防止できない。また、この範
囲よりも含有量があまり多いと、９３％以上という所望
の初期反射率が得られない。

【００１８】本発明で用いられる接着剤は、熱または触
媒の助けにより接着される接着剤であり具体的には、シ
リコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接
着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤
など一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ系
接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた好
適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、速攻
性と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用
できる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化
型、ホットメルト型、二液混合型に大別されるが、好ま
しくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト
型が使用される。熱接着剤の厚みには、特に限定はない
が、通常０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜２
０μｍ程度である。

【００１９】高分子フィルムと板状成形体との接着は、
銀薄膜層への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーに
よる板状成形体とのラミネート、の手順により行われ
る。接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類
によって多くの方法があるが、広く使用されているのは
グラビアコーター方式及びリバースコーター方式であ
る。グラビアコーター方式では、接着剤に一部分が浸さ
れているグラビアロールを回転させ、バックアップロー
ルによって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビ
アロールに接触させることでコーティングする。コーテ
ィング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御するこ
とで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアロ
ール方式に類似した方法だが、コーティングロールに付
着する接着剤の量を、それに接して設置されているメタ
リングロールによって調整する。コーティングされた接
着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類に
よってまちまちであるが、上記に掲げた一般的な接着剤
を用いる場合は１００℃前後である。この接着剤による
銀を主体とする合金薄膜層を形成した透明高分子フィル
ムと板状成形体との密着強度は、１８０度ピール強度で
測定して１００ｇ／ｃｍ以上であることが望ましい。こ
の密着強度にあまり達しない場合には、ストロボ用反射
体として板金加工した際、銀を主体とする合金薄膜層を
形成した透明高分子フィルムの板状成形体からの剥がれ
等が生じ、変形等を引き起こす可能性があるためであ
る。

【００２０】板状成形体には、アルミニウム、アルミ合
金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用されるが、
これらの金属にはそれぞれ長所があり次のように使い分
けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優
れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大
気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反
射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適に利用で
きる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強い。ステン
レス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕性にすぐれ
てい。鋼亜鉛合金すなわち黄銅またはしんちゅうは、機
械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なため電
気的な端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを抑え
る必要がある時に好ましく用いられる。

【００２１】プラスチックの板やシートを用いることが
できるのは勿論のことである。さらに、プラスチックフ
ィルムを用いる場合、特に、外観の美しく保つために、
金属蒸着フィルムや塗装を施したフィルムをラミネート
することがよい。また、銀薄膜が１００ｎｍ程度の膜厚
の場合には透過する光を１％以下に抑えるために、同様
に金属蒸着フィルムや塗装を施すことが好ましいのであ
る。かくして、作製された反射板の、透明高分子フィル
ム側から測定される反射率は典型的には５５０ｎｍの波
長の光に対して９３％以上であり、より詳しくは４８０
ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で９３％以上である。

【００２２】本発明品である銀反射体の構成、及び電気
特性の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、
接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型
電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定でき
る。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）に
よりできる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状
成形体を引き剥して接着剤を露出させ、適当な溶媒にそ
れを溶かした試料を作製し、その赤外分光（ＩＲ）をと
ることでできる。銀薄膜層及び板状形成体の材料分析
は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ
線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光よ
り微細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形
成された高分子フィルムを、接着層から引き剥し銀薄膜
層を露出させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）によ
り組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも
知ることができる。さらに、液晶バックライト用ランプ
リフレクターに関する技術に関しては、特開平２−１６
０２１５号、特開平３−２３８４９０号、特開平４−６
２５１９号または特開平４−２６７２２２号等が開示さ
れており、反射体を打ち抜き加工を行った後に、曲げ加
工を行うことで得られる。実際に使用に供するランプリ
フレクターの形態の例を図２に、その断面の構成をを図
３に示す。以下、実施例により本発明の実施の態様の一
例を説明する。

【００２３】

【実施例】なお、反射率は、分光光度計（日立製作所、
Ｕ３４００）により測定した。また、ランプリフレクタ
ーとして評価用には蛍光管としてＦＣ２ＥＸ／１００Ｔ
３（東芝ライテック）を用い、雰囲気温度は恒温室で制
御した。 （実施例１）ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
さ２５μm、全光線透過率＝８７％、ＵＶ吸収材入り）
に、スパッタリング法で、銀−１６重量％金合金をスパ
ッタした。水晶式膜厚モニターで銀合金層の膜厚を測定
しながら、１２０ｎｍの膜厚になったところでスパッタ
を停止した。そのフィルムの金属側とアルミニウム板
（Ａ１０５０、厚さ０．５ｍｍ）とをポリエステル系ホ
ットメルト型接着剤（東洋紡、バイロンＡＳ５００）で
接着し、銀反射板を形成した。それを打ち抜き加工によ
ってランプリフレクターを得た。

【００２４】（実施例２）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−４重量％金合金をスパッタした以外は実施例
１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレクター
の形状に加工した。

【００２５】（実施例３）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−１２重量％白金合金をスパッタした以外は実
施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレク
ターの形状に加工した。

【００２６】（実施例４）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−４重量％白金合金をスパッタした以外は実施
例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレクタ
ーの形状に加工した。

【００２７】（実施例５）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−７重量％パラジウム合金をスパッタした以外
は実施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフ
レクターの形状に加工した。

【００２８】（実施例６）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−２重量％パラジウム合金をスパッタした以外
は実施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフ
レクターの形状に加工した。

【００２９】（実施例７）ポリカーボネートフィルム
（厚さ２５μm、全光線透過率＝８７％、ＵＶ吸収材入
り）に、スパッタリング法で、銀−７重量％白金合金を
スパッタした。水晶式膜厚モニターで銀合金層の膜厚を
測定したところ８０ｎｍであった。そのフィルムの金属
側とステンレス板（ＳＵＳ３０４、厚さ０．３ｍｍ）と
をポリエステル系ホットメルト型接着剤（ユニチカ、エ
リーテルＵＥ−３２２０）で接着し、銀反射板を形成し
た。それを打ち抜き加工によってランプリフレクターを
得た。

【００３０】（実施例８）合金層の膜厚が２５０ｎｍで
ある以外は、実施例８と同様な手順で反射板を作製し、
ランプリフレクターの形状に加工した。

【００３１】（実施例９）ポリエーテルスルフォンフィ
ルム（厚さ２５μm、全光線透過率＝８７％、ＵＶ吸収
材入り）に、スパッタリング法で、銀−８重量％金合金
をスパッタした。水晶式膜厚モニターで銀合金層の膜厚
を測定したところ１７０ｎｍであった。そのフィルムの
金属側と黄銅板（Ｃ２８０１、厚さ０．３ｍｍ）とをポ
リエステル系ホットメルト型接着剤（ユニチカ、エリー
テルＵＥ−３２２０）で接着し、銀反射板を形成した。
それを打ち抜き加工によってランプリフレクターを得
た。

【００３２】（実施例１０）ポリエーテルスルフォンフ
ィルム（厚さ２５μm、全光線透過率＝８７％、ＵＶ吸
収材入り）に、スパッタリング法で、銀−８重量％金合
金をスパッタした。水晶式膜厚モニターで銀合金層の膜
厚を測定したところ１４０ｎｍであった。そのフィルム
の金属側にアルミニウムを８０ｎｍ蒸着した厚さ２５μ
ｍのポリエチレンテレフタレートフィルムをポリエステ
ル系ホットメルト型接着剤（ユニチカ、エリーテルＵＥ
−３２２０）で金属面どうしで接着し、銀反射板を形成
した。らに、反射面として使用しない面にチタニア系の
白色顔料を含む塗装を行った。このフィルムを切り抜い
た。

【００３３】（比較例１）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−２０重量％金合金をスパッタした以外は実施
例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレクタ
ーの形状に加工した。

【００３４】（比較例２）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−２重量％金合金をスパッタした以外は実施例
１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレクター
の形状に加工した。

【００３５】（比較例３）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−２０重量％白金合金をスパッタした以外は実
施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレク
ターの形状に加工した。

【００３６】（比較例４）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−２重量％白金合金をスパッタした以外は実施
例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフレクタ
ーの形状に加工した。

【００３７】（比較例５）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−１５重量％パラジウム合金をスパッタした以
外は実施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリ
フレクターの形状に加工した。

【００３８】（比較例６）銀−１５重量％金合金の代わ
りに、銀−１重量％パラジウム合金をスパッタした以外
は実施例１と同様の手順で反射板を作製し、ランプリフ
レクターの形状に加工した。

【００３９】（比較例７）ポリカーボネートフィルム
（厚さ２５μm、全光線透過率＝８７％、ＵＶ吸収材入
り）に、スパッタリング法で、銀−７重量％白金合金を
スパッタした。水晶式膜厚モニターで銀合金層の膜厚を
測定したところ５０ｎｍであった。そのフィルムの金属
側とステンレス板（ＳＵＳ３０４、厚さ０．３ｍｍ）と
をポリエステル系ホットメルト型接着剤（ユニチカ、エ
リーテルＵＥ−３２２０）で接着し、銀反射板を形成し
た。それを打ち抜き加工によってランプリフレクターに
して、蛍光管を設置した。

【００４０】（比較例８）高輝度アルミ板を加工してラ
ンプリフレクターを得た。上記実施例をおよび比較例で
作製したランプリフレクターを、図３に示す様に実装
し、雰囲気温度８０℃、相対湿度６０％で蛍光管を点灯
させ、点灯後１０００、２０００、５０００、１０００
０時間での波長５５０ｎｍでの反射率を測定した。その
結果を、表１に示す。表中の値は全反射率（％）を示
す。以上、実施例、比較例の結果を表１に示す。

【００４１】

【表１】 上記実施例および比較例から、本発明による反射板を用
いると、初期の反射率が、９３％以上であり、５０００
時間経過後も高輝度アルミよりも高い反射率を維持して
いることがわかる。なお、本発明になる実施例１〜１０
のランプリフレクターに関しては、６０℃、９０％Ｒ
Ｈ、１０００時間の恒温恒湿試験後に於いても、反射率
が高輝度アルミよりも高かったことを付記しておく。

【００４２】

【発明の効果】本発明を用いれば、長期間の過酷な使用
時においても高輝度アルミ板よりも反射率が充分に高
く、かつ、反射率の低下のない反射板を得ることがで
き、さらに、本発明になる反射板から高信頼性の液晶表
示用バックライトランプリフレクターを得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射板の断面構造を示す図

【図２】ランプリフレクターの外観を示す図

【図３】ランプリフレクターの断面の構成を示す図

【図４】バックライトユニットの概略を示す図

【符号の説明】

１０ 透明高分子層 ２０ 銀を主体とした合金薄膜層 ３０ 接着層 ４０ 成形体 ５０ ランプリフレクター ６０ 蛍光管 ７０ 導光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 信弘 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 反射体にして、少なくとも、透明高分子
   フィルム（Ａ）、銀を主体とした合金薄膜層（Ｂ）、接
   着層（Ｃ）、成形体（Ｄ）が、ＡＢＣＤの順に形成され
   た反射体。
2. 【請求項２】 銀を主体とした合金薄膜層が、金を３及
   至１６重量％含有する合金層である請求項１に記載の反
   射体。
3. 【請求項３】 銀を主体とした合金薄膜層が、白金を３
   及至１６重量％含有する合金層である請求項１に記載の
   反射体。
4. 【請求項４】 銀を主体とした合金薄膜層が、パラジウ
   ムを２及至８重量％含有する合金層である請求項１に記
   載の反射体。
5. 【請求項５】 透明高分子フィルムが、ポリエチレンテ
   レフタレートもしくはポリエーテルスルフォンもしくは
   ポリカーボネートである、請求項１〜４の何れかに記載
   の反射体。
6. 【請求項６】 成形体が、アルミニウムもしくはアルミ
   ニウム合金板である、請求項１〜５の何れかに記載の反
   射体。
7. 【請求項７】 成形体が、少なくとも亜鉛を３０及至４
   ０重量％含有した銅亜鉛合金板である請求項１〜５の何
   れかに記載の反射体。
8. 【請求項８】 成形体が、少なくとも、クロムを１６及
   至２０重量％、ニッケルを８及至１２重量％含んだオー
   ステナイト系ステンレス鋼板である請求項１〜５の何れ
   かに記載の反射体。
9. 【請求項９】 成形体が、鉄を主成分とし、炭素含有量
   が２重量％以下の鋼板である請求項１〜５の何れかに記
   載の反射体。
10. 【請求項１０】 成形体が、高分子フィルムもしくは高
    分子シートである請求項１〜５の何れかに記載の反射
    体。
11. 【請求項１１】 高分子フィルムもしくは高分子シート
    の波長４５０〜７５０ｎｍの可視光線に対する透過率が
    １％以下である請求項１０に記載の反射体。
12. 【請求項１２】 高分子フィルムもしくは高分子シート
    が、不透明か、もしくは、金属蒸着されたものか、もし
    くは、塗料が塗布されているか、もしくは、これらが組
    み合わされものである請求項１０に記載の反射体。
13. 【請求項１３】 波長４８０ｎｍから７８０ｎｍの光に
    対する全反射率が９３％以上である請求項１〜１２の何
    れかに記載の反射体。
14. 【請求項１４】 請求項１〜１３の何れかに記載の反射
    体を加工成形してなる液晶表示用バックライトランプリ
    フレクター。