JP3250888B2 - 艶消し反射フィルム - Google Patents
艶消し反射フィルムInfo
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Description
ィルムにおいて、高い全反射率と適度な拡散反射率を有
する耐光性の艶消しタイプの反射フィルムに関する。
ばしば鏡面研磨したアルミニウム板が用いられている。
しかしながら、アルミニウムでは反射率が十分でないと
いう問題があったため、アルミニウムに代えて銀を透明
高分子フィルム上に薄膜層として形成せしめた反射フィ
ルムがある。該反射フィルムは反射率が90%以上でし
かも優れた加工性を有する。しかしながら、上記反射フ
ィルムにおいては、正反射率が高く、蛍光灯の反射フィ
ルムとして用いた場合には、光沢が多く、特定の角度か
ら見ると眩しいという欠点がある。そこで、我々は、フ
ィルムの少なくとも一方の主面に凹凸をつけた、いわゆ
る、マット処理を施したフィルムに銀薄膜層を形成し、
艶消し反射フィルムとして用いることを試みたが、この
方法では、拡散反射率が著しく増大し、しかも、正反射
率および全反射率が減少するという問題に直面した。ま
た、さらに検討したところ、銀薄膜層を形成した反射体
は、製作したときには高反射率が得られるが、熱、光等
の環境因子により、特に紫外線の光によって反射体の反
射率が著しく低下するという欠点があることがわかっ
た。そこで、有機系で均一溶解性の紫外線吸収剤を含ん
だ高分子フィルムを用いる事により、耐光性を高めた
が、該高分子フィルム上に成膜した銀薄膜にはピンホー
ルが多数存在するという欠点が存在する事を我々は見い
だした。
問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、透明高
分子フィルム内に紫外線吸収性の固形物を加える事によ
り、ピンホールの少ない銀薄膜を得る事が出来る事を見
いだした。なお、かかる紫外線吸収性の固形物等の添加
により、適度な曇価と光線透過率を制御せしめたうえ、
銀薄膜層を形成することにより、蛍光灯や白熱灯の艶消
し反射材に好適に用いる事が可能である耐光性の反射フ
ィルムを得る事が出来るのである。
記の問題を解決するためになされたものであって、一方
の主面上に銀薄膜層が形成された高分子フィルムにおい
て、銀が形成されていない主面から測定した、全反射率
が93%以上であり、かつ、拡散反射率が4%乃至14
%の耐光性の艶消し反射フィルムを提供するものであ
る。以下、添付図面を参照しながら、本発明を説明す
る。図1は、本発明の艶消し反射フィルムの断面構造の
一例を示す図であり、図2は同じく銀薄膜層の上にさら
に湿度、空気、塩分等からの保護層としての金属層を形
成した艶消し反射フィルムの断面構造の一例を示す図で
ある。図において、10は紫外線吸収性の固形物を含む
高分子フィルム、20は銀薄膜層、30は金属保護層で
ある。本発明における高分子フィルムの材料は、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエーテルス
ルフォン、ポリカーボネート等が使用できるが、必ずし
もこれらに限定されるわけではなく、透明であり、ある
程度ガラス転移温度が高いものであれば使用できる。
5〜150μmが好ましく用いられる。使用する高分子
フィルムの光学特性は、波長380〜300nmにおけ
る光線透過率が10%以下であり、好ましくは、さら
に、波長550nmの光の全光線透過率が85%以上で
あり、かつ、曇価が2%〜7%の範囲であることが好ま
しい。より好ましくは、波長500〜700nmの範囲
の光に対して、光線透過率が85%以上であり、曇価が
2%〜7%である。光線透過率が余り低く、例えば85
%よりも低いと、反射フィルムとした時の全反射率が所
望の値に達しなくなる。また、曇価が低すぎると、十分
な拡散反射率が得られず、一方、曇価が大きすぎる場合
には拡散反射率が大きくなりすぎるのである。
記光学特性は、高分子フィルム内に適当な紫外線吸収性
の固形物を加えることにより制御できることを我々は見
いだした。該紫外線吸収性の固形物(以下固形UV吸収
剤と省略する)を用いる事により、驚くべきことに、有
機系で均一溶解性の紫外線吸収剤を用いるときに比べ、
直径10μm以上のピンホールを約10分の1に減少せ
しめることができる。さらに、紫外線を遮断する事によ
り、銀の耐光性が向上し、反射率の低下が抑制されるの
である。本発明で使用する該固形UV吸収剤としては、
酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セシウム(IV)、光学ガラ
ス(DF6等)、ジルコニア系酸化物や、均一溶解性の
紫外線吸収剤を含有する有機物微粒子等を挙げる事が出
来る。これらは400nmより短波長の紫外線を吸収す
る。添加量は、フィルム厚みと吸収剤の種類により、ま
たさらに言えば、波長380〜300nmにおける光線
透過率が10%以下であるように、また好ましくは、波
長550nmの光に対する全透過率が85%以上であ
り、かつ曇値が2%乃至7%になるように、適宜実験的
に容易に決定される。例えばポリマーフィルムの膜厚を
25μm とすると、酸化亜鉛では0.02〜0.04重
量%程度、酸化チタンでは0.03〜0.06重量%程
度であればよい。
あれば、添加剤を用いて調整する事ができる。添加剤と
しては、アルミナ、酸化鉛(鉛白)、炭酸カルシウム、
炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、珪酸
ソーダ等のいわゆる白色顔料系の粒状物、針状物等を挙
げることができる。これらの固形UV吸収剤及び添加剤
粒子の寸法は100nm乃至10μmの範囲であるが、
上記の光学特性を満たすように制御された高分子フィル
ムを用いることが重要である。
法および乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であ
り、溶液から銀を析出さて膜を形成する方法である。具
体例を挙げると、銀鏡反応等がある。一方、乾式法と
は、真空成膜法の総称であり、具体的に例示すると、抵
抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、インビームアシスト真空蒸着
法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的
に成膜するロールツウロール方式が可能な真空成膜法が
好ましく用いられる。真空蒸着法においては、銀の原材
料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸
気圧を上昇させ、好ましくは0.1mTorr(約0.
01Pa)以下で基材表面に蒸着させる。この際に、ア
ルゴン等のガスを0.1mTorr(約0.01Pa)
以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こ
してもよい。
タ法、rfマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ECRスパッタ法、コンベンショナルrfスパ
ッタ法、コンベンショナルDCスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスには、ヘリウム、ネ
オン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
99%以上が好ましいが、より好ましくは99.5%以
上である。
nm〜300nmが好ましく、より好ましくは60nm
〜100nmである。50nm未満では、銀の膜厚が十
分でないために、透過する光が存在し、反射率が十分で
なくなる。一方、膜厚を300nmを越えても、反射率
はあまりそれ以上上昇せず、飽和傾向を示す上に、銀層
の高分子フィルムに対する密着性が低下するので好まし
くない。膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射干渉
計、マイクロバランス、水晶振動子法等があるが、水晶
振動子法では成膜中に膜厚が測定可能なので所望の膜厚
を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定
めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の
関係を調べた上で、成膜時間により膜を制御する方法も
ある。銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない程度の、
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マンガン、
チタン等の金属不純物が含まれてもよい。銀層を形成し
た後、銀層の保護やフィルムの滑り性の向上の目的のた
め、図2に示すように、インコネル、クロム、ニッケ
ル、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン
等の単金属もしくは合金を10nm〜30nm程度積層
することが有効であることは、当業者が容易に認識しう
るところであろう。なお、銀薄膜層を透明高分子フィル
ム上に設ける際に、高分子フィルム表面に、コロナ放電
処理、グロー放電処理、表面化学処理、粗面化処理等を
行うことが銀薄膜層と高分子フィルムの密着性を向上さ
せる上で効果があることも当業者が理解しているところ
であろう。
は、単独で使用してもかまわないし、また、適当な成形
物に接着して使用しても良い。また、成形物に接着して
使用する場合、銀を形成した主面の銀層の面、もしく
は、銀層面に形成された他種の金属の面に接着層もしく
は粘着層が設けられていることが、利用上有効である。
さらに、接着剤、もしくは、粘着剤に剥離容易な状態に
て付着させられた保護用のシートを設けることも使用上
好ましい形態とみなせる。該保護用シートとしては、紙
製、または、プラスチック製のシートが用いられる。用
いる保護用シートと、接着剤、もしくは、粘着剤の薄膜
層との接着には、容易な剥離を保証するために、必要の
応じて微量の離形剤を分布介在させる。該保護用シート
には、本発明の反射体を所望の形状に裁断する場合の便
宜ために、方眼状の案内線が印刷することもできる。以
下、実施例により本発明の実施の態様の一例を説明す
る。
0〜300nmでの光線透過率が8%以下、波長550
nmでの全光線透過率が88.0%、曇価が2.5%)
に、電子ビーム式真空蒸着法で、純度99.9%の銀を
蒸着した。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定した
ところ100nmであった。得れた試料の全反射率と拡
散反射率を分光光度計(日立U−3400)で測定した
ところ、全反射率=94.8%、拡散反射率=6.0%
の反射フィルムを得た。この反射シートを蛍光管に巻き
付けて透過光を観察したところ、直径10μm以上のピ
ンホールは1cm2 当たり約100個と非常に少なかっ
た。またこの光反射シートの耐紫外線劣化促進試験(具
体的には、紫外線光の400〜315nmの波長の光を
反射シートに1000時間照射)を行い、波長550n
mの入射光の反射率を測定したところ、94.8%であ
り、反射率の減少は観察されなかった。
80〜300nmでの光線透過率が5%以下、波長55
0nmでの全光線透 過率が86.8%、曇価が4.5
%)に、DCマグネトロンスパッタ法で、純度99.9
%の銀をターゲットとし、純度99.5%のアルゴンを
スパッタガスとしてフィルム上に膜厚100nmになる
ように形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り
出すことなく、インコネル750をさらに銀薄膜層上に
10nm厚に積層した。得れた試料の全反射率と拡散反
射率を分光光度計(日立U−3400)で測定したとこ
ろ、全反射率=95.1%、拡散反射率=7.5%の反
射フィルムを得た。この反射シートを蛍光管に巻き付け
て透過光を観察したところ、直径10μm以上のピンホ
ールは1cm2 当たり約80個と非常に少なかった。ま
たこの光反射シートの耐紫外線劣化促進試験(具体的に
は、紫外線光の400〜315nmの波長の光を反射シ
ートに1000時間照射)を行い、波長550nmの入
射光の反射率を測定したところ、95.0%であり、反
射率の減少は観察されなかった。
樹脂の微粒子を分散させたPETフィルム(波長380
〜300nmでの光線透過率が5%以下、波長550n
mでの全光線透過率が85.8%、曇価が6.2%)
に、rfマグネトロンスパッタ法で、純度99.9%の
銀を、ターゲットとし、純度99.5%のアルゴンをス
パッタガスとして、フィルム上に膜厚100nmになる
ように形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り
出すことなく、タングステンをさらに銀薄膜層上に10
nm厚に積層した。得れた試料の全反射率と拡散反射率
を分光光度計(日立U−3400)で測定したところ、
全反射率=93.9%、拡散反射率=13.2%の反射
フィルムを得た。この反射シートを蛍光管に巻き付けて
透過光を観察したところ、直径10μm以上のピンホー
ルは1cm2 当たり約110個と非常に少なかった。ま
たこの光反射シートの耐紫外線劣化促進試験(具体的に
は、紫外線光の400〜315nmの波長の光を反射シ
ートに1000時間照射)を行い、波長550nmの入
射光の反射率を測定したところ、93.9%であり、反
射率の減少は観察されなかった。
〜300nmでの光線透過率が10%以下、全光線透過
率=87.7%、曇価=3.1%)に、DCマグネトロ
ンスパッタ法で、純度99.9%の銀をターゲットと
し、スパッタガスとして純度99.5%のアルゴンを用
い、フィルム上に膜厚100nmになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル750をさらに銀薄膜層上に10nm厚
に積層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計(日立U−3400)で測定したところ、全反
射率=95.1%、拡散反射率=8.0%の反射フィル
ムを得た。この光反射シートの耐紫外線劣化促進試験
(具体的には、紫外線光の400〜315nmの波長の
光を反射シートに1000時間照射)を行い、波長55
0nmの入射光の反射率を測定したところ、95.0%
であり、反射率の減少は観察されなかった。しかしこの
反射シートを蛍光管に巻き付けて透過光を観察したとこ
ろ、直径10μm 以上のピンホールが1cm2 当たり約
1200個と非常に多かった。これは、おそらく、紫外
線吸収剤が表面にブリードしてきて、その部分では、銀
薄膜の密着力が弱くなり、ピンホールが形成されるので
はないかと推察される。
ことができる耐光性の艶消し反射体を提供することがで
きる。
図
図
Claims (3)
- 【請求項1】 波長380〜300nmにおける光線透
過率が10%以下である紫外線を実質的に遮断する高分
子フィルムの一方の主面上に銀薄膜層が形成されたフィ
ルムであって、該銀薄膜層が形成されていない主面から
測定される全反射率が93%以上であり、かつ、拡散反
射率が4%乃至14%である艶消し反射フィルム。 - 【請求項2】 該高分子フィルムの、波長550nmの
光に対する全透過率が85%以上であり、かつ、曇価が
2%乃至7%である請求項1に記載の艶消し反射フィル
ム。 - 【請求項3】 高分子フィルム内に、紫外線吸収性の固
形物を添加してなる請求項1もしくは2に記載の艶消し
反射フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25298793A JP3250888B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 艶消し反射フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25298793A JP3250888B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 艶消し反射フィルム |
Publications (2)
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JPH07108643A JPH07108643A (ja) | 1995-04-25 |
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Family
ID=17244932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25298793A Expired - Lifetime JP3250888B2 (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 艶消し反射フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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1993
- 1993-10-08 JP JP25298793A patent/JP3250888B2/ja not_active Expired - Lifetime
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