JPH0876112A

JPH0876112A - 反射シート

Info

Publication number: JPH0876112A
Application number: JP6295083A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kawamoto; 悟志川本; Shin Fukuda; 福田　　伸; Nobuhiro Fukuda; 信弘福田
Original assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date: 1994-06-29
Filing date: 1994-11-29
Publication date: 1996-03-22

Abstract

(57)【要約】【構成】透明高分子フィルム１０の一方の面上に銀を
含む高反射層２０を形成した、反射率が９０％以上であ
り、かつ、拡散反射率が２５％乃至８５％である反射シ
ート。【効果】反射型の液晶表示装置において、好適に用い
られる、高い反射率と適度な拡散反射率を有する反射シ
ートを提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＯＡ機器などに使用さ
れる反射シートに関するものであり、特に反射型の液晶
表示装置に用いられる反射シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】現在の液晶表示装置の主流はバックライ
ト型の液晶表示装置であり、これらの表示装置の裏面に
用いられている反射シートには、主に拡散反射率が９０
％以上の白色顔料入り樹脂シートが用いられている。し
かしながら、バックライト型の液晶表示装置では、蛍光
管を点灯するために消費電力が大きいという問題があ
る。よって今後普及することが期待されている小型の携
帯情報機器においては、消費電力の少ない反射型の液晶
表示装置に期待が寄せられている。

【０００３】本発明者らは、図４に示すような反射型の
液晶表示装置の反射シートについて、輝度と、視野角の
観点より検討した。その結果、現在一般的に使用されて
いる反射面にアルミを用いた反射シートまたは反射板で
は十分な輝度が得られていない事が分かった。そこで、
白色顔料入り樹脂シート及び銀反射シートについて試験
したところ、白色顔料入り樹脂シートでは、視野角は十
分であったが輝度が不足するという問題があった。また
銀反射シートでは、視野が狭く、また、外光の写り込み
があるという問題があることを見出した。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高い反射率
を有し、且つ、制御された拡散反射率を有する反射シー
トを提供するためになされたものであり、反射型の液晶
装置において、視野角と輝度のバランスを従来より高次
元で達成するものである。すなわち、本発明は、反射率
を９０％以上に保ちながら、拡散反射率を２５〜８５％
有する反射シートを提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するため手段】本発明者らは、かかる問題
を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、透明高分子
フィルム内に添加剤を加えることにより、もしくは、一
主面に凹凸処理を加えること等により適度な曇価と光線
透過率を制御せしめたうえ、平坦なフィルム面に銀薄膜
層を形成することにより、反射型液晶用反射シートに好
適に用いる事が可能である反射シートを見いだし本発明
に到達した。

【０００６】すなわち、本発明は、（１）透明高分子フ
ィルムの一方の主面上に少なくとも銀薄膜層が形成され
たシートであって、該銀薄膜層が形成されていない主面
から測定される反射率が９０％以上であり、かつ、拡散
反射率が２５％乃至８５％である反射シートであり、ま
たは、（２）透明高分子フィルムの、光線透過率が７５
％以上であり、かつ、曇価が１０％乃至７０％である
（１）記載の反射シートであり、または、（３）透明高
分子フィルムが白色顔料系の添加剤を含有している
（１）記載の反射シートであり、または、（４）透明高
分子フィルムの一主面が凹凸加工されている（１）記載
の反射シートであり、または、（５）平坦なフィルム面
に銀薄膜層が形成された（１）または（４）記載の反射
シートであり、または、（６）透明高分子フィルムのレ
ターデーション値が１００ｎｍ以下である（１）記載の
反射シートであり、または（７）（１）〜（６）の何れ
かに記載の反射シートからなる反射型液晶用反射シー
ト、に関するものである。

【０００７】ここで反射率とは、正反射率と拡散反射率
の和である。反射率は例えば日立自記分光光度計Ｕ−３
４００形により、１５０φの積分球を用いて測定する。
また拡散反射率は、上記測定法において、正反射光をラ
イトトラップにて除き、測定できる。これらは当業者が
一般的に用いる測定方法である。

【０００８】本発明のもっとも簡単な反射シートの例を
図１に示す。透明高分子フィルム１０の一方の主面上
に、銀薄膜層２０が形成されている。本発明における透
明高分子フィルムの材料は、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリエステル、ポリエーテルスルホン、ポリカーボ
ネート等が使用できるが、必ずしもこれらに限定される
わけではなく、透明であり、ある程度ガラス転移温度が
高いものであれば使用できる。

【０００９】なお、偏光を制御して表示を行うＳＴＮ液
晶、ＴＮ液晶表示装置等においては、上記条件に加え
て、光学等方性が重要であり、この際には、三酢酸セル
ロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルス
ルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネイト
系樹脂等の光学異方性の小さいフィルムが用いられる。
光学異方性が大きい透明光分子フィルムを用いた反射シ
ートでは、かかる液晶表示装置に組み込んだ際に着色が
観察され、また文字部分のコントラストが小さくなる欠
点が生じる。このため、使用できる透明光分子フィルム
のレターデーション値の限度は、１００ｎｍ以下であ
り、より好ましくは６０ｎｍ以下であり、更により好ま
しくは３０ｎｍ以下である。このレターデーション値
（Ｒ）はフィルムの厚み（ｄ）とフィルムの複屈折率
（フィルム面内における任意の方向の屈折率ｎ₁と、ｎ₁
に直交する方向の屈折率ｎ₂の差）の積で表される。

【００１０】透明高分子フィルムの厚みには限定的な値
はないが、２５〜１５０μｍ程度のものが好ましく用い
られる。使用する高分子フィルムの光学特性は、波長５
５０ｎｍの光線透過率が７５％以上であり、かつ、曇価
が１０％〜７０％の範囲であることが好ましい。より好
ましくは、波長５００〜７００ｎｍの範囲の光に対し
て、光線透過率が７５％以上であり、曇価が１０％〜７
０％である。光線透過率が７５％よりも低いと、反射シ
ートとした時の反射率が所望の値に達しなくなる。ま
た、曇価が低すぎると、十分な拡散反射率が得られず、
一方、曇価が大きすぎる場合には拡散反射率が大きくな
りすぎる。

【００１１】上記光学特性は、高分子フィルム内に適当
な添加剤を加えることにより制御することができる。添
加剤としては、アルミナ、チタニア（チタン白）、酸化
鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭
酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、珪酸ソ
ーダ等のいわゆる白色顔料系の粒状物、針状物等を挙げ
ることができる。これら顔料の寸法は１００ｎｍ乃至１
０μｍの範囲であるが、添加量は上記の光学特性を満た
すように適当に選択する。例えば、０．１及至２重量％
の範囲で制御された高分子フィルムを用いることが好ま
しい。

【００１２】また、高分子フィルムの一主面上に凹凸加
工を施すことにより上記光学特性を得ることもできる。
高分子フィルム上の凹凸は、凹凸を形成したロール等に
加熱溶融した高分子フィルムを押しつけることにより得
られるし、適当な有機溶媒や薬品等により高分子フィル
ム表面を処理することによっても得られる。また、サン
ドブラストにより得ることもできる。これらの処理は銀
薄膜層を形成する前に施してもよいし、銀薄膜層を形成
した後に施してもよい。凹凸処理を施した高分子フィル
ムはフィルムメーカーより、直接入手することもでき
る。例えばポリエステルフィルムを例に上げれば、帝人
（株）より入手が可能であり、ＳＭタイプはポリエステ
ルフィルム面にサンドブラスト加工を行ったものであ
り、ＨＰＥまたはＣＩＥタイプはポリエステルフィルム
面にエンボス加工を施したものである。

【００１３】凹凸処理を施したフィルムを用いる場合に
は、銀薄膜層を平坦なフィルム面に形成する事が好まし
い。凹凸処理を施した面に銀薄膜層を形成した場合と、
平坦なフィルム面に銀薄膜を形成した場合を比べると、
平坦な面に銀薄膜を形成した場合の方が反射率が高い。
ここで平坦なフィルム面とは、表面粗さにより定義する
事ができ、表面粗さが１．０μｍ以下のフィルム面であ
り、より好ましくは表面荒さが０．５μｍ以下のフィル
ム面であり、更に好ましくは表面荒さが０．２μｍ以下
のフィルム面である。表面粗さは、Ｒａ（中心線平均粗
さ）と、Ｒｍａｘ（最大高さ）、Ｒｚ（十点平均粗さ）
の算術平均値とした。これらの測定は、ＪＩＳＢ０６
０１に従い、触針粗さ計にて行う。なお、銀の耐光性を
向上させるために、高分子フィルムが紫外線を吸収する
特性を有することが好ましいことは、当業者が理解する
ところである。

【００１４】銀薄膜の形成法は、湿式法および乾式法が
ある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から銀を
析出させて膜を形成する方法である。具体例を挙げると
すれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成
膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加
熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオン
プレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、
スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成
膜するロールツロール方式が可能な真空成膜法が好まし
く用いられる。

【００１５】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以下で
基材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガスを
０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以上導入させ、高
周波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよい。スパ
ッタ法では、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ｒｆマグネ
トロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲス
パッタ法、コンベンショナルｒｆスパッタ法、コンベン
ショナルＤＣスパッタ法等を使用し得る。スパッタ法に
おいては、原材料は銀の板状のターゲットを用いればよ
く、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等を使用し得るが、好ましくはア
ルゴンが用いられる。ガスの純度は、９９％以上が好ま
しいが、より好ましくは９９．５％以上である。

【００１６】以上のごとくして形成される銀薄膜層の厚
さは、７０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、より好ましく
は１００ｎｍ〜２００ｎｍである。これより薄いと、銀
の膜厚が十分でないために、透過する光が存在し、反射
率が十分でなくなる。一方、膜厚をこれよりさらに厚く
しても、それ以上反射率は上昇せず、飽和傾向を示す上
に、銀層の高分子フィルムに対する密着性が低下するの
で好ましくない。膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し
反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法等がある
が、水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能なので所
望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の
条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間
と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜を制御す
る方法もある。

【００１７】銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない程度
の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、
モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マンガ
ン、チタン等の金属不純物が含まれてもよい。銀薄膜層
を形成した後、銀薄膜層の保護やフィルムの滑り性の向
上の目的のため、図２に示すように、インコネル、クロ
ム、ニッケル、チタン、アルミニウム、モリブデン、タ
ングステン等の単金属もしくは合金の金属層３０を１０
ｎｍ〜３０ｎｍ程度積層した形態の反射シートとするこ
とも有効であることは、当業者が理解しうるところであ
ろう。銀薄膜層を透明高分子フィルム上に設ける際に、
高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処
理、表面化学処理、粗面化処理等を行うことは、銀薄膜
層と高分子フィルムの密着性を向上させる手段として当
業者が用いる常套手段であろう。

【００１８】かくして作製された反射シートの反射率
は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９２
％以上であり、更により好ましくは９４％以上であっ
て、かつ拡散反射率は、好ましくは２５及至８５％であ
り、より好ましくは２５及至８０％であり、更により好
ましくは３０及至８０％である。これらの反射シートを
反射型液晶装置に使用する場合、使用する液晶装置にお
いて差はあるが、拡散反射率が２５％より小さいと、視
野が狭くなり、また、外界の写り込みが顕著化し使用で
きなくなる。また拡散反射率が８５％を越えると、輝度
の低下が大きく使用できにくくなる。

【００１９】本発明の反射シートは、図１のごとく単独
で使用してもかまわないし、また、図３に示すように、
別の高分子フィルムや適当な成形物に接着した反射シー
トとして使用しても良い。なお、成形物に接着して使用
する場合、銀を形成した主面の銀層の面、もしくは、銀
層面に形成された他種の金属の面（図２）に接着層もし
くは粘着層が設けられていることが、利用上有効であ
る。

【００２０】さらに、接着剤、もしくは、粘着剤に剥離
容易な状態にて付着させられた保護用のシートを設ける
ことも使用上好ましい形態とみなせる。該保護用シート
としては、紙製、または、高分子製のシートが用いられ
る。この場合、使用時には保護用シートを剥離してもよ
いし、剥離せずにそのままも使用してもよい。用いる保
護用シートと、接着剤、もしくは、粘着剤の薄膜層との
接着には、容易な剥離を保証するために必要の応じて微
量の離形剤を分布介在させる。該保護用シートには、本
発明の反射体を所望の形状に裁断する場合の便宜ため
に、方眼状の案内線を印刷することもできる。

【００２１】図４に本発明にかかる反射シートの反射型
液晶装置への実施形態の一例を示す。図４は反射型液晶
パネルの概略図であり、本発明とは特に関連の深くない
部分、例えば、透明導電層、配向膜等は簡略化され、表
示されてない。上面から入射した光は偏光フィルム６
０、透明基板７０、液晶８０、透明基板７０、偏光フィ
ルム６０を通過した後に、最下面に位置する本発明にか
かる反射シートに反射されて戻る。反射シート１００の
直前で偏光フィルム６０を通過した光は、反射シート１
００で反射され、再び偏光フィルム６０を通過するので
あるが、この際に、反射シート１００において偏光状態
が変化すると、再び偏光フィルム６０を通過する際に透
過光量が低下する。本発明にかかる反射シートは、９０
％以上の光を反射し、必要な視野角と均一な輝度を実現
するとともに、かかる光の偏光状態の変化を最小限とす
るので、その結果としてこれまでよりも高い輝度と視野
角を得る事ができる。

【００２２】

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。尚、反射シートの評価は以下の方法で行った。台の
上に反射シートを置き、法線に対して約３０°の角度で
２個の白色電球を設置し反射シートを照らした。次に反
射シートから３０ｃｍの位置に輝度計をセットし、０°
〜６０°における輝度値を測定した。この値を、白色顔
料入り樹脂シートの値と比較した。ここで、液晶分野で
は０.１％の向上も重要であり、本発明における２〜２
０％に及ぶ輝度の向上は非常に大きなものである。

【００２３】〔実施例１〕帝人（株）製テトロンフィル
ムＦ７（ポリエステルフィルム、厚さ３６μｍ、全光線
透過率＝８４．９％、曇価＝１３．０％）に、ＤＣマグ
ネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲッ
トとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、銀を膜厚１００ｎｍになるように形成した。そのフ
ィルムをスパッタ装置から取り出すことなく、インコネ
ル６２５をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。
得られた試料の反射率と拡散反射率を高分子フィルム側
から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したとこ
ろ、反射率＝９３．２％、拡散反射率＝２５．４％の反
射シートを得た。この反射シートの輝度を評価したとこ
ろ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、１０２
であった。

【００２４】〔実施例２〕帝人（株）製テトロンフィル
ムＵ４（ポリエステルフィルム、厚さ２５μｍ、全光線
透過率＝７５．５％、曇価＝６７．０％）に、ｒｆマグ
ネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲッ
トとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、銀を膜厚１５０ｎｍになるように形成した。そのフ
ィルムをスパッタ装置から取り出すことなく、タングス
テンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。得ら
れた試料の反射率と拡散反射率を高分子フィルム側から
分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、反
射率＝９２．４％、拡散反射率＝８３．３％の反射シー
トを得た。この反射シートの輝度を評価したところ、白
色顔料入り樹脂シートを１００とすると、１０２であっ
た。

【００２５】〔実施例３〕ユニチカ（株）製片面マット
処理ポリエステルフィルム５０ＣＮＳ（厚さ２５μｍ、
全光線透過率＝８１．８％、曇価＝６９．３％）の平滑
面に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％
の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをス
パッタガスとして、銀を膜厚８０ｎｍになるように形成
した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積
層した。得れた試料の反射率と拡散反射率を高分子フィ
ルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定した
ところ、反射率＝９０．２％、拡散反射率＝７８．７％
の反射シートを得た。この反射シートの輝度を評価した
ところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、１
１０であった。

【００２６】〔実施例４〕ユニチカ（株）製片面マット
処理ポリエステルフィルム６００ＰＳ（厚さ３１μｍ、
全光線透過率＝８１．０％、曇価＝５４．７％）の平滑
面に、電子ビーム式真空蒸着法で、純度９９．９％の銀
を蒸着した。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定し
たところ２００ｎｍであった。得れた試料の反射率と拡
散反射率を高分子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−
３４００）で測定したところ、反射率＝９０．８％、拡
散反射率＝６２．６％の反射シートを得た。この反射シ
ートの輝度を評価したところ、白色顔料入り樹脂シート
を１００とすると、１２０であった。

【００２７】〔実施例５〕帝人（株）製テトロンフィル
ムＳＭ（片面凹凸化処理、厚さ２５μｍ、全光線透過率
＝８３．０％、曇価＝６０．１％）の平滑面に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとして、純度９９．５％のクリプトンをスパッタガ
スとして、銀を膜厚１００ｎｍになるように形成した。
そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことなく、モ
リブデンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。
得られた試料の反射率と拡散反射率を高分子フィルム側
から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したとこ
ろ、反射率＝９０．６％、拡散反射率＝７１．７％の反
射シートを得た。この反射シートの輝度を評価したとこ
ろ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、１１５
であった。

【００２８】〔実施例６〕白色顔料としてアルミナを樹
脂に対して０．２％混入した白色顔料入りポリエステル
フィルム（厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８２．７％、
曇価＝１５．３％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法
で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純度９９．
５％のアルゴンをスパッタガスとして、銀を膜厚８０ｎ
ｍになるように形成した。そのフィルムをスパッタ装置
から取り出すことなく、インコネル７５０をさらに銀薄
膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。得られた試料の反射率
と拡散反射率を高分子フィルム側から分光光度計（日立
Ｕ−３４００）で測定したところ、反射率＝９１．８
％、拡散反射率＝２７．７％の反射シートを得た。この
反射シートの輝度を評価したところ、白色顔料入り樹脂
シートを１００とすると、１０４であった。

【００２９】〔実施例７〕レターデーション値が７６ｎ
ｍである富士写真フィルム（株）製フジタックフィルム
（三酢酸セルロースフィルム）の片面にサンドブラスト
により凹凸処理を行った。この高分子フィルム（厚さ３
８μｍ、全光線透過率＝８４．６％、曇価＝７０．０
％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、インコネル６２５をさらに銀薄膜層上に１０ｎ
ｍ厚に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を
高分子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）
で測定したところ、反射率＝９１．６％、拡散反射率＝
８４．７％の反射シートを得た。この反射シートの輝度
を評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１００と
すると、１０２であった。

【００３０】〔実施例８〕レターデーション値が７６ｎ
ｍである富士写真フィルム（株）製フジタックフィルム
（三酢酸セルロースフィルム）のクリヤータイプ（厚さ
３８μｍ、全光線透過率＝８８．５％、曇価＝１．３
％）に、ｒｆマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を高分
子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、反射率＝９５．８％、拡散反射率＝２．
３５％の反射シートを得た。更にこのフィルムの高分子
フィルム面を有機溶媒たるシクロヘキサノンにより処理
し、凹凸加工を施したところ、反射率＝９１．９％、拡
散反射率＝５８．５％の反射シートを得た。この反射シ
ートの輝度を評価したところ、白色顔料入り樹脂シート
を１００とすると、１１６であった。

【００３１】〔実施例９〕レターデーション値が５０ｎ
ｍである三井東圧化学（株）製ＴＡＬＰＡ１０００（ポ
リエーテルスルホンフィルム）の片面にサンドブラスト
により凹凸処理を行った。この高分子フィルム（厚さ５
０μｍ、全光線透過率＝８１．７％、曇価＝６１．１
％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、インコネル６２５をさらに銀薄膜層上に１０ｎ
ｍ厚に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を
高分子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）
で測定したところ、反射率＝９１．４％、拡散反射率＝
７３．０％の反射シートを得た。この反射シートの輝度
を評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１００と
すると、１１２であった。

【００３２】〔実施例１０〕白色顔料として酸化チタン
を樹脂に対して０．１％混入した、レターデーション値
が５０ｎｍであるポリエーテルスルホンフィルム（厚さ
５０μｍ、全光線透過率＝８３．２％、曇価＝４２．１
％）に、ｒｆマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を高分
子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、反射率＝９２．７％、拡散反射率＝５
８．７％の反射シートを得た。この反射シートの輝度を
評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とす
ると、１２０であった。

【００３３】〔比較例１〕アルミ反射シート（反射率＝
８７．０％、拡散反射率＝７９．３％）の輝度を評価し
たところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、
９３であった。

【００３４】〔比較例２〕アルミ反射シート（反射率＝
８５．６％、拡散反射率＝６７．６％）の輝度を評価し
たところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、
９６であった。

【００３５】〔比較例３〕アルミ反射シート（反射率＝
８５．７％、拡散反射率＝６５．７％）の輝度を評価し
たところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、
９５であった。比較例１〜３に示した様に、反射率が本
発明で規定する９０％より小さい場合、輝度が大きく低
下し、本発明の目的を達成できない。

【００３６】〔比較例４〕帝人（株）製テトロンフィル
ムＳ６（厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８４．７％、曇
価＝９．８％）に、ｒｆマグネトロンスパッタ法で、純
度９９．９％の銀をターゲットとし、純度９９．５％の
アルゴンをスパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍに
なるように形成した。そのフィルムをスパッタ装置から
取り出すことなく、タングステンをさらに銀薄膜層上に
１０ｎｍ厚に積層した。得られた試料の反射率と拡散反
射率を高分子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４
００）で測定したところ、反射率＝９２．８％、拡散反
射率＝２３．６％の反射シートを得た。この反射シート
の輝度を評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１
００とすると、９１であった。この様に、曇価が１０％
より小さい透明高分子フィルムを用いた場合、目的とす
る拡散反射率が得られない。また、拡散反射率が本発明
で規定する値よりも小さい場合、十分な視野角が得られ
ず、全体として輝度が低下し、本発明の目的を達成する
事ができない。

【００３７】〔比較例５〕ポリエステルフィルム（厚さ
５０μｍ、全光線透過率＝７５．３％、曇価＝７１．２
％）に、ｒｆマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を高分
子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、反射率＝９０．３％、拡散反射率＝８
６．３％の反射シートを得た。この反射シートの輝度を
評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とす
ると、９８であった。この様に、曇価が７０％より大き
い透明高分子フィルムを用いた場合、目的とする拡散反
射率が得られない。また、拡散反射率が本発明で規定す
る値よりも大きい場合、輝度が低下し、本発明の目的を
達成する事ができない。

【００３８】〔比較例６〕ポリエステルフィルム（厚さ
７５μｍ、全光線透過率＝７４．５％、曇価＝６５．５
％）に、ｒｆマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるように
形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すこ
となく、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の反射率と拡散反射率を高分
子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、反射率＝８７．６％、拡散反射率＝６
５．３％の反射シートを得た。この反射シートの輝度を
評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とす
ると、９４であった。この様に、全光線透過率が７５％
より小さい透明高分子フィルムを用いた場合、目的とす
る反射率が得られない。また、反射率が本発明で規定す
る値よりも小さい場合、輝度が低下し、本発明の目的を
達成する事ができない。

【００３９】〔比較例７〕ユニチカ（株）製片面マット
処理ポリエステルフィルム６００ＰＳ（厚さ３１μｍ、
全光線透過率＝８１．０％、曇価＝５４．７％）のマッ
ト処理面（表面粗さ＝２．５μｍ）に、電子ビーム式真
空蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。水晶式膜
厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ２００ｎｍで
あった。得られた試料の反射率と拡散反射率を高分子フ
ィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定し
たところ、反射率＝７７．７％、拡散反射率＝５２．１
％の反射シートを得た。この反射シートの輝度を評価し
たところ、白色顔料入り樹脂シートを１００とすると、
７１であった。この様に、フィルムの凹凸加工面に銀薄
膜層が形成された場合、反射率が著しく低下し、本発明
の目的を達成する事ができない。

【００４０】〔比較例８〕帝人（株）製テトロンフィル
ムＳＭ（片面凹凸化処理、厚さ２５μｍ、全光線透過率
＝８３．０％、曇価＝６０．１％）の凹凸面（表面粗さ
＝２．７μｍ）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純
度９９．９％の銀をターゲットとして、純度９９．５％
のクリプトンをスパッタガスとして、銀を膜厚１００ｎ
ｍになるように形成した。そのフィルムをスパッタ装置
から取り出すことなく、モリブデンをさらに銀薄膜層上
に１０ｎｍ厚に積層した。得られた試料の反射率と拡散
反射率を高分子フィルム側から分光光度計（日立Ｕ−３
４００）で測定したところ、反射率＝７９．０％、拡散
反射率＝６１．９％の反射シートを得た。この反射シー
トの輝度を評価したところ、白色顔料入り樹脂シートを
１００とすると、８０であった。この様に、フィルムの
凹凸加工面に銀薄膜層が形成された場合、反射率が著し
く低下し、本発明の目的を達成する事ができない。

【００４１】

【発明の効果】ＴＮ型液晶、ＳＴＮ型液晶、ゲスト・ホ
スト型液晶、高分子分散型液晶等を用いた反射型表示装
置の反射シートに好適に用いることができる反射体を提
供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射シートの構造断面図

【図２】本発明の反射シートの構造断面図

【図３】本発明の反射シートの構造断面図

【図４】反射型液晶表示装置概略図

【符号の説明】

１０透明高分子フィルム２０銀薄膜層３０金属層４０接着層または粘着層５０高分子フィルムまたは高分子シート６０偏光フィルム７０透明基板８０液晶９０シーラント１００反射シート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明高分子フィルムの一方の主面上に少
なくとも銀薄膜層が形成されたシートであって、該銀薄
膜層が形成されていない主面から測定される反射率が９
０％以上であり、かつ、拡散反射率が２５％乃至８５％
である反射シート。
【請求項２】透明高分子フィルムの、光線透過率が７
５％以上であり、かつ、曇価が１０％乃至７０％である
請求項１記載の反射シート。
【請求項３】透明高分子フィルムが白色顔料系の添加
剤を含有している請求項１記載の反射シート。
【請求項４】透明高分子フィルムの一主面が凹凸加工
されている請求項１記載の反射シート。
【請求項５】平坦なフィルム面に銀薄膜層が形成され
た請求項１または請求項４記載の反射シート。
【請求項６】透明高分子フィルムのレターデーション
値が１００ｎｍ以下である請求項１記載の反射シート。
【請求項７】請求項１〜６の何れかに記載の反射シー
トからなる反射型液晶用反射シート。