TWI391757B - 光學功能薄膜，相位差薄膜，光學功能層形成用組成物，及光學功能薄膜之製造方法 - Google Patents

Description

光學功能薄膜，相位差薄膜，光學功能層形成用組成物，及光學功能薄膜之製造方法

本發明係關於一種用於液晶顯示裝置等中之光學功能薄膜及其製造方法等；更具體而言，係關於一種具有無規水平配向之新穎排列形態；光學功能層與基材之密著性優異，且光學特性優異之光學功能薄膜。

液晶顯示裝置具有省電、輕、薄等特徵，故而替代習知之CRT顯示器，於近年來得以迅速普及。作為普通之液晶顯示裝置，可列舉：如圖6所示，具有入射側之偏光板102A、射出側之偏光板102B、液晶單元104者。偏光板102A以及102B，係以僅使具有特定振動方向之振動面之直線偏光(圖中，以箭頭示意性予以圖示)選擇性穿透之方式構成者，以正交尼科耳(crossed nicols)狀態對向配置而使各個振動方向互相成為直角之關係。又，液晶單元104係含有對應於像素之多個單元者，設置於偏光板102A與102B之間。

液晶顯示裝置係根據構成液晶單元之液晶分子之排列形態的不同，而以各種方式將其實用化，近年來以VA(Vertical Alignment)方式為主流。如此VA方式之液晶顯示裝置，最終主要廣泛應用於液晶電視用途。

於用於上述VA方式之液晶顯示裝置中之液晶單元中，液晶分子垂直配向，故而液晶單元整體具有發揮正C板作用之光學特性。例如，若圖6所示之液晶顯示裝置100之液晶單元104具有上述光學特性，則穿透入射側之偏光板102A之直線偏光穿透液晶單元104中非驅動狀態之單元部分時，以無相移(phase shift)之狀態穿透，被射出側之偏光板102B遮斷。相對於此，穿透液晶單元104中驅動狀態之單元部分時，直線偏光產生相移，相應該相移量之量的光穿透射出側之偏光板102B而射出。藉此，可藉由適當控制液晶單元104之每個單元的驅動電壓，而使射出側之偏光板102B側顯示期望之影像。再者，作為液晶顯示裝置100，並不限於上述光之穿透以及遮斷的態樣，亦創作出以自液晶單元104中非驅動狀態之單元部分射出之光穿透射出側之偏光板102B而射出，另一方面自驅動狀態之單元部分射出之光被射出側之偏光板102B遮斷的方式構成之液晶顯示裝置。

然而，若考慮直線偏光穿透上述VA方式之液晶單元104中非驅動狀態之單元部分之情況，由於液晶單元104具有雙折射性，厚度方向之折射率與面方向之折射率不同，故而雖穿透入射側之偏光板102A之直線偏光中沿液晶單元104之法線入射之光未產生相移而穿透，但穿透入射側之偏光板102A之直線偏光中於自液晶單元104之法線傾斜之方向入射之光，於穿透液晶單元104時產生相位差而成為橢圓偏光。上述現象係因於液晶單元104內以垂直方向配向之液晶分子發揮正C板作用而引起。再者，對穿透液晶單元104之光(穿透光)所產生之相位差之大小，亦受液晶單元104內封入之液晶分子之雙折射值或液晶單元104厚度、穿透光之波長等影響。

由於以上現象，即使液晶單元104內之某單元為非驅動狀態，原本直線偏光應直接穿透，被射出側偏光板102B遮斷之情況，一部分於自液晶單元104之法線傾斜之方向射出之光亦自射出側之偏光板102B漏出。因此，上述習知之液晶顯示裝置100中，相較於自正面觀察之圖像，具有自液晶單元104之法線傾斜之方向觀察之圖像的顯示品質，主要因對比度下降而惡化的問題(視角依存性之問題)。

為改善上述習知之液晶顯示裝置100中視角依存性問題，至今為止開發有多種技術，作為其代表性方法，有使用光學功能薄膜之方法。使用光學功能薄膜之方法為如圖6所示，將具有特定光學特性的光學功能薄膜60配置於液晶單元104與偏光板102B之間，藉此改善視角性問題的方法。用以改善此類視角性問題之光學功能薄膜，使用有表現出折射率異向性之相位差薄膜，其被廣泛用作為改善上述液晶顯示裝置之視角依存性之手段。

習知，作為上述相位差薄膜，通常為具有如圖7所示之如下構成：於任意透明基材71上設置配向層72，進而於該配向層72上形成具有液晶分子之相位差層73，藉由上述配向膜之配向控制力使上述液晶分子配向，並表現出所期望之折射率異向性。作為此種相位差薄膜，例如專利文獻1或專利文獻2中所揭示之、使具有膽固醇狀規則性之分子結構之相位差層(表現出雙折射性之相位差層)形成於具有配向層之基材上的相位差薄膜。又，專利文獻3中揭示有使含有圓盤形化合物之相位差層(表現出雙折射性之相位差層)形成於具有配向層之基材上的相位差薄膜。

上述相位差薄膜，於如下方面有用：藉由適宜設計相位差層之折射率異向性，以抵消液晶顯示裝置之液晶單元所產生之相位差，從而大幅改善液晶顯示裝置之視角依存性之問題。然而，習知之相位差薄膜，用以配向上述液晶分子之配向層為必需之構成，故而上述配向層與相位差層之密著性存在問題。

為解決該問題，例如專利文獻4中提出熱處理液晶與配向層而提高兩者密著性。然而，該方法於基材並非玻璃基板，而為耐濕熱性低之基材(例如TAC)之情況，因水分影響導致基材伸縮，受其影響有時液晶層剝離，對於易受水分影響之基材而言，並非充分之方法。又，亦具有因具有配向層而引起層間之多次反射，由此產生干涉不均的問題。

又，作為使用相位差薄膜改善採用上述VA方式之液晶顯示裝置之視角依存性之方法，通常，使用有使用具有作為負C板之功能之相位差薄膜，與具有作為A板或B板之功能之相位差薄膜之2張相位差薄膜的方法。作為如此之使用2張相位差薄膜的方法，例如，可使用如圖8(a)所示之以具有作為負C板之功能之相位差薄膜61及具有作為A板之功能之相位差薄膜62，夾持液晶單元104的方法，或如圖8(b)所示之於入射側之偏光板102A上積層具 有作為負C板之功能之相位差薄膜61與具有作為A板之功能之相位差薄膜62的方法。

此種使用2張相位差薄膜而改善視角依存性問題之方法，於如下方面有用：藉由變更相位差薄膜之組合，而改善使用有具有各種光學特性之液晶單元之液晶顯示裝置的視角依存性問題。然而，由於使用2張相位差薄膜，而具有液晶顯示裝置之厚度變厚，或者製造方法複雜化之問題。

又，如上所述作為相位差薄膜，通常為圖7所示者。然而，具有如此構成之相位差薄膜於藉由使用配向層，而變得容易排列液晶分子之方面有用，但上述配向層與相位差層之密著性方面存在問題。

針對上述問題，本發明者們開發一種具有基材以及直接形成於上述基材上且具有無規水平配向之棒狀化合物之光學功能層的相位差薄膜，來作為可不使用配向膜而表現所期望之光學特性之相位差薄膜。此種無配向膜之相位差薄膜，於如下方面有用，光學功能層與基材之密著性方面優異，且上述具有無規水平配向之棒狀化合物之光學功能層於作為負C板之光學特性之表現性方面優異，其作為於耐久性或光學特性之穩定性方面，具有超越習知之相位差薄膜之品質者而引起關注。

然而，上述無配向膜之相位差薄膜，通常，藉由於具有作為負C板之性質之基材上塗佈含有上述棒狀化合物之光學功能層形成用組成物而形成，而先前所使用之光學功 能層形成用組成物，存在具有難以形成均勻無規水平配向之情況，且具有光學功能層可能產生白濁的問題。

[專利文獻1]日本專利特開平3-67219號公報

[專利文獻2]日本專利特開平4-322223號公報

[專利文獻3]日本專利特開平10-312166號公報

[專利文獻4]日本專利特開2003-207644號公報

本發明係鑒於上述問題而開發完成者，其主要目的在於提供一種不使用配向膜，即可表現優異之光學特性，且各層之密著性優異，顯示品質優異的光學功能薄膜。

又，本發明之主要目的在於提供一種不使用配向層，而具有光學上作為負C板之性質，或光學上A板、B板及C板之任一性質的相位差薄膜。

進而，本發明之主要目的在於提供一種可形成透明性優異之光學功能層之光學功能層形成用組成物。

為解決上述課題，本發明提供一種光學功能薄膜，其係包含具有光學上作為負C板之性質的基材以及形成於上述基材上且具有棒狀化合物的光學功能層者，其特徵為，上述光學功能層直接形成於上述基材上，且於上述光學功能層中上述棒狀化合物形成無規水平配向。

根據本發明，藉由於上述具有光學上作為負C板之性質之基材上直接形成上述光學功能層，可使基材與光學功能層之密著力牢固，故而可獲得密著性優於習知之具有配向層之光學功能薄膜的光學功能薄膜。

又，根據本發明，於上述光學功能層中，上述棒狀化合物形成無規水平配向，藉此可使上述光學功能層成為折射率異向性之表現性優異，且透明性高者。

於上述發明中，上述基材之厚度方向延遲(Retardation)(Rth)較佳為20 nm~100 nm之範圍內。其原因在於藉由使上述基材之厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可無關上述棒狀化合物之種類，而使上述光學功能層中形成無規水平配向變得容易。又，藉由使上述基材之Rth為上述範圍內，可形成均勻之無規水平配向。

又，於上述發明中，上述基材較佳為由三乙醯基纖維素構成。其原因在於三乙醯基纖維素具有含有較大體積之側鏈之分子結構，故而藉由從三乙醯基纖維素構成基材，可使形成上述光學功能層之棒狀化合物變得容易滲透至基材中，故而可進一步提高基材與光學功能層之密著性。又，三乙醯基纖維素易表現光學上作為負C板之性質，故而使上述棒狀化合物易於形成無規水平配向。

又，於上述發明中，上述棒狀化合物較佳為具有聚合性官能基者。其原因在於藉由使上述棒狀化合物具有聚合性官能基，可聚合且固定上述棒狀化合物，故而藉由使上述棒狀化合物於形成無規水平配向之狀態下進行固定化，可獲得排列穩定性優異，難以產生光學特性變化的光學功能薄膜。

又，於上述發明中，上述棒狀化合物較佳為液晶性材料。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物為液晶性材料，可使上述光學功能層成為每單位厚度之光學特性之表現性均優異者。

又，於上述發明中，上述液晶性材料較佳為表現向列相之材料。其原因在於藉由使上述液晶性材料為表現向列相之材料，可更有效地形成無規水平配向。

又，於上述發明中，較佳為上述光學功能層之厚度為0.5 μ m~10 μ m之範圍內。其原因在於，若上述光學功能層之厚度厚於上述範圍，則根據上述棒狀化合物之種類，有時出現難以形成無規水平配向之情況。又，若上述光學功能層之厚度薄於上述範圍，則具有光學功能層無法表現必需之光學特性的可能性。

本發明提供一種相位差薄膜，其特徵為使用上述光學功能薄膜，上述光學功能薄膜之厚度方向之延遲(Rth)為50 nm~400 nm之範圍內。根據本發明，藉由使用上述光學薄膜，使厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可獲得例如可較佳地改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示元件之視角特性的相位差薄膜。

於上述發明中，面內之延遲(Re)較佳為0 nm~5 nm之範圍內。其原因在於，藉由使面內之延遲(Re)為上述範圍內，可將本發明之相位差薄膜用作例如可較佳地改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示元件之視角特性的相位差薄膜。

又，為解決上述問題，本發明提供一種相位差薄膜，其包含具有A板、B板及C板之任一性質的基材，與含有棒狀化合物的相位差層，其特徵為，上述相位差層直接形成於上述基材上，且於上述相位差層中上述棒狀化合物形成無規水平配向。

根據本發明，藉由於具有作為A板或B板性質以及作為負C板性質之基材上，直接形成上述相位差層，可使基材與相位差層之密著力牢固，故而可獲得密著性優於習知之具有配向層之相位差薄膜的相位差薄膜。

又，於本發明中，可藉由於上述相位差層中棒狀化合物形成無規水平配向，而使上述相位差層成為發揮負C板作用之光學特性的表現性優異者。藉由將此種相位差層積層於具有作為A板或B板，以及負C板之性質之基材上，而使整體表現出發揮A板或B板作用之光學特性，以及發揮負C板作用之光學特性。因此，可根據本發明獲得有助於液晶顯示裝置薄型化之相位差薄膜。

於本發明中，上述基材之面內延遲(Re)較佳為30 nm~200 nm之範圍內。其原因在於，藉由使本發明中所使用之基材之面內延遲(Re)為上述範圍內，可使本發明之相位差薄膜成為作為A板之性質優異者。

於本發明中，上述基材之厚度方向延遲(Rth)較佳為10 nm~150 nm之範圍內。其原因在於，藉由使本發明中所使用之基材之Rth為上述範圍內，可使上述相位差層中所含有之棒狀化合物形成更均勻之無規水平配向。

於本發明中，上述基材較佳為由環烯烴聚合物(COP)構成。其原因在於，環烯烴聚合物之水分吸收性以及穿透性低，故而藉由使本發明中所使用之基材由環烯烴聚合物(COP)構成，可使本發明之相位差薄膜成為光學特性之經時穩定性優異者。

於本發明中，上述棒狀化合物較佳為具有聚合性官能基者。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物具有聚合性官能基，可聚合且固定化上述棒狀化合物，故而藉由使上述棒狀化合物於形成無規水平配向之狀態下進行固定化，可獲得排列穩定性優異，難以產生光學特性變化的相位差薄膜。

於本發明中，上述棒狀化合物較佳為液晶性材料。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物為液晶性材料，可使上述相位差層成為每單位厚度之光學特性之表現性均優異者。

於本發明中，上述液晶性材料較佳為表現向列相之材料。其原因在於，藉由使上述液晶性材料為表現向列相之材料，可更有效地形成無規水平配向。

於本發明中，較佳為上述相位差層之厚度為0.3 μ m~10 μ m之範圍內。其原因在於，若上述相位差層之厚度厚於上述範圍，則根據上述棒狀化合物之種類，有時出現難以形成無規水平配向之情況。又，若上述相位差層之厚度薄於上述範圍，則具有相位差層無法表現必需之光學特性之可能性。

較佳為本發明之相位差薄膜之面內延遲(Re)為30 nm~200 nm之範圍內。其原因在於，藉由使面內延遲(Re)為上述範圍內，可獲得例如可較佳地改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性的相位差薄膜。

較佳為本發明之相位差薄膜之厚度方向延遲(Rth)為50 nm~300 nm之範圍內。藉由使厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可獲得例如可較佳地改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性的相位差薄膜。

進而，為解決上述問題，本發明提供一種光學功能層形成用組成物，其含有棒狀化合物與由醇系溶劑以及其他有機溶劑構成之混合溶劑，其特徵為，上述混合溶劑中之醇系溶劑量為5質量%~20質量%之範圍內。

根據本發明，藉由使上述混合溶劑中含有上述範圍內之醇系溶劑，可於使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時，形成無白濁，透明性優異之光學功能層。

於上述發明中，較佳為上述光學功能層形成用組成物係用以形成上述棒狀化合物形成無規水平配向之光學功能層者。其原因在於，上述棒狀化合物形成無規水平配向之光學功能層，即使無配向膜，亦可表現作為負C板之光學特性，故而例如，可於基板上直接塗佈本發明之光學功能層形成用組成物，形成光學功能層，藉此可形成與基板之密著性優異之光學功能層。

於上述發明中，上述棒狀化合物較佳為具有聚合性官能基者。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物具有聚合性官能基，可聚合且固定上述棒狀化合物，故而可使用本發明之光學功能層形成用組成物，形成排列穩定性與光學特性優異之光學功能層。

又，於上述發明中，上述棒狀化合物較佳為液晶性材料。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物為液晶性材料，可使用本發明之光學功能層形成用組成物，形成每單位厚度之光學特性之表現性優異的光學功能層。

進而於上述發明中，上述液晶性材料較佳為表現向列相之材料。其原因在於，藉由使上述液晶性材料為顯示向列相之材料，可使用本發明之光學功能層形成用組成物，形成棒狀化合物形成更均勻之無規水平配向的光學功能層。

本發明提供一種光學功能薄膜之製造方法，其特徵為，使用具有作為負C板之性質之基材與上述光學功能層形成用組成物，於上述基材上塗佈上述光學功能層形成用組成物，藉此製造具有基材，以及直接形成於上述基材上且含有形成無規水平配向之棒狀化合物之光學功能層的光學功能薄膜。

根據本發明，可藉由使用上述光學功能層形成用組成物形成光學功能層，而製造具有透明性優異之光學功能層的光學功能薄膜。

又，藉由於基材上直接形成上述光學功能層，可製造光學功能層與基材之密著性優異的光學功能薄膜。

進而，於根據本發明製造之光學功能薄膜之光學功能層中，上述棒狀化合物形成無規水平配向，故而可使藉由本發明製造之光學功能薄膜成為光學特性之表現性，尤其是發揮負C板作用之光學特性之表現性優異者。

本發明獲得如下效果：可不使用配向膜而表現優異之光學特性，且可獲得光學功能層與基材之密著性優異之光學功能薄膜。

又，本發明獲得如下效果：可不使用配向層，以單一之薄膜表現作為光學上之負C板，或者光學上之A板或B板以及負C板之光學特性，且獲得相位差層與基材之密著性優異之相位差薄膜。

進而，藉由本發明之光學功能層形成用組成物，可獲得形成透明性優異之光學功能層之效果。

以下，就本發明之光學功能薄膜、相位差薄膜、光學功能層形成用組成物、以及光學功能薄膜之製造方法進行詳細說明。

A.光學功能薄膜

首先，就本發明之光學功能薄膜進行說明。本發明之光學功能薄膜，係包含具有光學上作為負C板性質之基材、及形成於上述基材上且具有棒狀化合物之光學功能層者，其特徵為，上述光學功能層直接形成於上述基材上，並且於上述光學功能層中上述棒狀化合物形成無規水平配向。

繼而，參照圖，就本發明之光學功能薄膜進行說明。圖1係表示本發明之光學功能薄膜之一例之概略斜視圖。如圖1所示，本發明之光學功能薄膜10係具有基材1及直接形成於上述基材1上之光學功能層2者。於本發明之光學功能薄膜10中，基材1係具有光學上作為負C板之性質者，又，上述光學功能層2係含有形成無視水平配向之棒狀化合物3者。如圖1所示，本發明之光學功能薄膜10具有如下構成：於基材1上直接形成有光學功能層2，且不具備如圖7所示之作為習知光學功能薄膜中所必需的構成要件之配向層。

如圖1所示，本發明之光學功能薄膜，藉由於上述基材上直接形成光學功能層，而使基材與光學功能層牢固密著，故而具有不產生經時性層間剝離之優點。又，亦具有密著性提高，抗鹼性或返工性亦提高等優點。

藉由於上述基材上直接形成光學功能層而提高兩者密著力，可解釋為由如下機構引起者。即，藉由於基材上直接形成光學功能層，可使光學功能層中所含有之棒狀分子自基材表面滲透至基材中，故而於基材與光學功能層之黏接部不存在明確之界面，兩者成為「混合」形態。因此，相較於習知之藉由界面相互作用之黏接，其密著性顯著改善。

又，於習知之具有配向層之構成的光學功能薄膜中，亦具有於配向層與光學功能層之界面或配向層與基材之界面，光發生多次反射，產生干涉不均的問題。然而，根據本發明之光學功能薄膜，不具有如上述之配向層，又，上述基材與上述光學功能層之黏接部成為「混合」狀態，故而不存在明確的界面。因此，具有不會產生上述多次反射，不會產生因干涉不均造成品質降低的優點。

繼而對本發明中之無規水平配向進行說明。本發明中之無規水平配向為上述光學功能層中所含有之棒狀化合物形成的配向狀態，藉由具有如此之配向狀態，可使本發明之光學功能薄膜成為光學特性優異者。

本發明中之棒狀化合物之無規水平配向係至少具有如下3個特徵者。即，本發明中之上述無規水平配向係至少具有如下者：第1，於自垂直於光學功能層之表面之方向正視光學功能層之情況，棒狀化合物之排列方向為無規(以下，有時僅稱為「不規則性」)，第2，光學功能層中棒狀化合物所形成之域之大小小於可見光區域之波長(以下，有時僅稱為「分散性」)，第3，光學功能層中棒狀化合物進行面內配向(以下，有時僅稱為「面內配向性」)。

繼而，參考圖，對如此之本發明中之無規水平配向進行說明。圖2(a)係自垂直於以上述圖1中A所表示之光學功能層之表面的方向，正視本發明之光學功能薄膜之情況的概略圖。又，圖2(b)、(c)為圖2(a)中之B－B’線箭頭所示剖面圖。

首先，參照圖2(a)，對本發明中之無規水平配向所具有之「不規則性」進行說明。上述「不規則性」，如圖2(a)所示，係指於自垂直於光學功能層2之表面之方向正視本發明之光學功能薄膜10之情況，光學功能層2中棒狀化合物3呈無規排列。

此處，為說明本發明中上述棒狀化合物3之排列方向，而以圖2(a)中a所表示之分子長軸方向(以下，稱為分子軸)為基準進行考慮。因此，上述棒狀化合物之排列方向為無規，係表示上述光學功能層中所含有之棒狀化合物3之分子軸a所呈方向為無規。

除圖2(a)所例示之排列狀態以外，於棒狀化合物具有膽固醇狀結構之情況，由於上述分子軸a之方向整體為無規，故而形式上屬於上述「不規則性」，但本發明中之上述「不規則性」不含因膽固醇狀結構引起的形態。

繼而，參照圖2(a)對本發明中之無規水平配向所具有之「分散性」進行說明。上述「分散性」，如圖2(a)所示，係指於光學功能層2中棒狀化合物3形成域b之情況，域b之大小小於可見光區域之波長。於本發明中，上述域b之大小越小越佳，最佳為棒狀化合物為以單分子分散之狀態。

繼而，參照圖2(b)對本發明中無規水平配向所具有之「面內配向性」進行說明。上述「面內配向性」，如圖2(b)所示，係指光學功能層2中之棒狀化合物3以分子軸a相對於光學功能層2之法線方向A呈略垂直的方式進行配向。作為本發明中之上述「面內配向性」，不僅如圖2(b) 所示，上述光學功能層2中之所有棒狀化合物3之分子軸a相對於上述法線方向A呈略垂直的情況，亦包含例如圖2(c)所示，雖於上述光學功能層2中存在分子軸a’不與上述法線方向A垂直之棒狀化合物3，但光學功能層2中存在之棒狀化合物3之分子軸a之平均方向相對於上述法線方向A為略垂直的情況。

本發明之光學功能薄膜，藉由上述棒狀化合物形成無規水平配向，使圖1所示之x方向之折射率nx、y方向折射率ny與z方向之折射率nz，形成nx=ny>nz之關係，故而本發明之光學功能薄膜可較佳地用作具有負C板性質之相位差薄膜。

如以上說明，本發明中之無規水平配向，其特徵為，至少表現「不規則性」、「分散性」以及「面內配向性」，可藉由以下方法對本發明之光學功能薄膜所具有之該等特徵加以確認。

首先，對本發明中之無規水平配向所具有之「不規則性」之確認方法進行說明。上述「不規則性」可藉由對構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層的面內延遲(Re)進行評價，以及對有無起因於膽固醇狀結構之選擇反射波長進行評價而確認。

即，可藉由構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層的Re評價，而確認棒狀化合物為無規配向，可根據有無選擇反射波長，而確認棒狀化合物未形成膽固醇狀結構。

上述棒狀化合物為無規配向，可藉由判斷光學功能層之面內延遲(Re)之值係於表示上述棒狀化合物之配向狀態為無規之範圍內，而進行確認。其中於本發明中，較佳為光學功能層之面內延遲(Re)為0 nm~5 nm之範圍內。此處，上述Re係，藉由構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層之面內之快軸方向(折射率最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大之方向)之折射率Ny與光學功能層之厚度d(nm)，以Re＝(Nx－Ny)×d之式表示之值。

此處，可藉由Re確認上述棒狀化合物為無規排列，係基於如下之理由。即，Re，自上述定義式亦可明瞭，係表示面內方向之折射率差的參數。於光學功能層中上述棒狀化合物於同一方向具有規則性地排列之情況，特定方向之折射率變大，故而具有上述折射率差變大之傾向。另一方面，於上述棒狀化合物為無規排列之情況，上述光學功能層之面內之特定方向折射率不會變大，故而具有上述折射率差變小之傾向。因此，可藉由評價表示此折射率差之Re，而評價上述「不規則性」。

上述光學功能層之Re，例如，可藉由自光學功能薄膜之Re減去光學功能層以外之層表示之Re而求得。即，對光學功能薄膜整體，以及自光學功能薄膜去除光學功能層者進行Re測定，自前者之Re減去後者之Re，藉此可求得光學功能層之Re。Re，例如，可使用王子計測機器股份有限公司製造之KOBRA－WR，藉由平行及科耳旋轉法進行測定。

上述棒狀化合物不具有膽固醇狀結構，例如，可藉由使用島津製作所股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計(UV－3100等)，確認本發明中之光學功能層不具有選擇反射波長，而進行評價。其原因在於，於具有膽固醇狀結構之情況，其特徵為，具有依存膽固醇狀結構之螺旋間距之選擇反射波長。

繼而，對本發明中之無規水平配向所具有之「分散性」之確認方法進行說明。上述「分散性」可藉由判斷構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層之霧值，係於表示上述棒狀化合物之域之大小為可見光區域之波長以下的範圍內，而進行確認。其中於本發明中，較佳為光學功能層之霧值為0%~5%之範圍內。

此處，光學功能層之霧值，例如，可藉由自光學功能薄膜之霧值減去光學功能層以外之層之霧值而求得。即，對光學功能薄膜整體，以及自光學功能薄膜去除光學功能層者測定霧值，自前者之霧值減去後者之霧值，藉此可求得光學功能層之霧值。上述霧值係使用依據JIS K7105測定之值者。

此處，可藉由霧值而確認具有上述「分散性」，即，確認上述棒狀化合物所形成之域之大小小於可見光區域波長，其係基於如下理由。即，於上述棒狀化合物形成域之情況，於該域大小大於可見光之波長之情況，上述光學功能層中可見光散射，故而具有光學功能層產生白濁之傾向。因此，可藉由測定可見光區域內之上述光學功能層之霧值而評價上述「分散性」。

於本發明中上述域之具體大小，較佳為可見光之波長以下，即380 nm以下，其中較佳為350 nm以下，尤佳為200 nm以下。再者，因較佳為本發明中上述棒狀化合物以單分子分散，故上述域之大小之下限值為棒狀化合物之單分子之大小。如此之域之大小可藉由以偏光顯微鏡或AFM、SEM或TEM觀察光學功能層而進行評價。

繼而，對本發明中之無規水平配向所具有之「面內配向性」之確認方法進行說明。上述「面內配向性」可藉由確認構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層的Re值係於上述範圍內，以及本發明中之光學功能層具有表現光學上作為負C板之性質之厚度方向的延遲(Rth)值，而進行確認。其中較佳為本發明中之光學功能層之厚度方向延遲(Rth)為50 nm~400 nm之範圍內。此處，上述Rth值係表示厚度方向之延遲值，藉由構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層之面內中之快軸方向(折射率最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大之方向)之折射率Ny、厚度方向之折射率Nz與光學功能層之厚度d(nm)，以Rth＝{(Nx＋Ny)/2－Nz}×d之式表示之值。

此處，本發明中之Rth值係指上述式所表示之值之絕對值。

此處，可藉由Re以及Rth確認具有上述「面內配向性」，其係基於如下之理由。即，Rth自上述定義式亦可明瞭，係起因於面內方向之折射率之平均值與厚度方向之折射率的差的參數。如上所述光學功能層之Re值，因上述「不規則性」係表示一定範圍內之值者，故而上述Rth之值依存厚度方向之折射率(Nz)。此處，因上述棒狀化合物為面內配向，故厚度方向之折射率(Nz)具有變小之傾向，故而於此情況Rth值具有變大之傾向。因此，可藉由判斷光學功能層之Rth值為上述範圍內，而評價上述「面內配向性」。

上述光學功能層之Rth，例如，可藉由自光學功能薄膜之Rth減去光學功能層以外之層所示之Rth而求得。即，對光學功能薄膜整體，以及自光學功能薄膜去除光學功能層者進行Rth測定，自前者之Rth減去後者之Rth，藉此求得光學功能層之Rth。Rth，例如，可使用王子計測機器股份有限公司製造之KOBRA－WR，藉由平行尼科耳旋轉法進行測定。

本發明之光學功能薄膜，如上所述係具有基材與直接形成於基材上之光學功能層者。以下，就如此本發明之光學功能薄膜之構成進行詳細說明。

1.光學功能層

首先，對構成本發明之光學功能薄膜之光學功能層進行說明。本發明中之光學功能層係直接形成於下述基材上者。藉由如此般直接形成於基材上，可使本發明中之光學功能層穩固地與基材密著。又，本發明中之光學功能層含有棒狀化合物，上述棒狀化合物形成無規水平配向。藉由如此般棒狀化合物形成無規水平配向，即使為無配向層之本發明之光學功能薄膜，亦可表現優異之光學特性。以下，對如此之光學功能層進行詳細說明。

(1)棒狀化合物

對本發明所使用之棒狀化合物進行說明。本發明中使用之棒狀化合物若為於光學功能層中可形成無規水平配向者，則無特別之限制。

此處，本發明中之「棒狀化合物」係指分子結構之主骨架呈棒狀者，作為具有如此棒狀主骨架之化合物，例如可列舉：次甲基偶氮(azomethine)類、氧偶氮(azoxy)類、氰基聯苯類、氰基苯酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、烷氧基取代苯基嘧啶類、苯基二烷類、二苯乙炔(tolan)類以及烯基環己基苯并腈類。又，不僅可使用如上之低分子液晶性化合物，亦可使用高分子液晶性化合物。

本發明中所使用之棒狀化合物，可較佳地使用分子量較小之化合物。具體而言，可較佳地使用分子量為200~1200之範圍內(尤佳為400~800之範圍內)之化合物。其原因在於，藉由使分子量為上述範圍內，可使棒狀化合物變得容易滲透至下述之基材，故而易於形成基材與光學功能層之黏接部位「混合」之狀態，可提高基材與光學功能層之嘧著性。

再者，關於作為具有下述之聚合性官能基之材料，且於光學功能層中聚合的棒狀化合物，為表示聚合前分子量者。

又，作為本發明中所使用之棒狀化合物，較佳為表現液晶性之液晶性材料。其原因在於，藉由使棒狀化合物為液晶性材料，可使上述光學功能層成為每單位厚度之光學特性之表現性均優異者。又，本發明中之棒狀化合物，較佳為於上述液晶性材料中之表現向列相之液晶性材料。其原因在於，表現向列相之液晶性材料較容易形成無規水平配向。

進而，上述表現向列相之液晶性材料較佳為液晶原基(mesogenic)兩端具有間距之分子。其原因在於，液晶原基兩端具有間距之液晶性材料，柔軟性優異，故而可有效防止本發明中之光學功能層產生白濁。

本發明中使用之棒狀化合物可較佳地使用分子內具有聚合性官能基者，其中較佳為具有可立體交聯之聚合性官能基者。其原因在於，藉由使上述棒狀化合物具有聚合性官能基，可聚合且固定上述棒狀化合物，故而可藉由使上述棒狀化合物於形成無規水平配向之狀態下進行固定化，而獲得排列穩定性優異，光學特性難以產生變化的光學功能薄膜。又，本發明亦可混合使用具有上述聚合性官能基之棒狀化合物與不具有上述聚合性官能基之棒狀化合物。

再者，「立體交聯」係表示使液晶性分子互相立體聚合，成為網狀(network)結構之狀態。

作為上述聚合性官能基，無特別限制，可使用藉由紫外線、電子束等電離放射線或熱作用而聚合的各種聚合性官能基。作為該等聚合性官能基之代表例，可列舉自由基聚合性官能基、或者陽離子聚合性官能基等。進而作為自由基聚合性官能基之代表例，可列舉至少具有一個可加成聚合之乙烯性不飽和雙鍵的官能基，作為具體例，可列舉具有取代基或者無取代基之乙烯基、丙烯酸酯基(包括丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基之總稱)等。又，作為陽離子聚合性官能基之具體例，可列舉環氧基等。此外，作為聚合性官能基，例如可列舉：異氰酸酯基、不飽和三鍵等。於該等之中考慮到製程方面，可較佳地使用具有乙烯性不飽和雙鍵之官能基。

本發明中之棒狀化合物，尤佳為表現液晶性之液晶性材料，且於末端具有上述聚合性官能基者。例如，若使用兩末端上具有聚合性官能基之向列液晶性材料，則可相互立體聚合，形成網狀(network)結構之狀態，可獲得具有排列穩定性，且光學特性之表現性優異的光學功能層。又，即使為於一個末端上具有聚合性官能基者，亦可與其他分子交聯實現排列穩定化。作為如此之棒狀化合物，可例示下述式(1)~(6)所表示之化合物。

此處，化學式(1)、(2)、(5)以及(6)所示之液晶性材料，可依據D.J.Broer等人，於Makromol.Chem.190,3201－3215(1989)、或者D.J.Broer等人，於Makromol.Chem.190,2250(1989)中揭示之方法，或者以類似之方法進行製備。又，化學式(3)以及(4)所示之液晶性材料之製備揭示於DE195,04,224中。

又，作為末端具有丙烯酸酯基之向列液晶性材料之具體例，可列舉下述化學式(7)~(17)所示者。

g：2~5之整數又，本發明中之上述棒狀化合物可僅使用1種，或者將2種以上混合使用。

例如，作為上述棒狀化合物，若混合使用於兩末端上具有一個以上聚合性官能基之液晶性材料與於一個末端上具有一個以上聚合性官能基之液晶性材料，則可藉由調整兩者之配合比例而任意調整聚合密度(交聯密度)以及光學特性，故較佳。

(2)其他化合物

於本發明中之光學功能層中可含有上述棒狀化合物以外之其他化合物。作為如此之其他化合物，若為未擾亂上述棒狀化合物之無規水平配向者，則無特別限制。作為上述其他化合物，例如，可列舉通常用於硬膜劑中之可聚合之材料。

作為上述可聚合之材料，例如可列舉：使縮合多元醇與一元酸或者多元酸而獲得之聚酯預聚物，與(甲基)丙烯酸反應而獲得的聚酯(甲基)丙烯酸酯；使具有多元醇基與2個異氰酸酯基之化合物相互反應後，使該反應生成物與(甲基)丙烯酸反應所得的聚胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯；雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、聚羧酸聚縮水甘油酯、多元醇聚縮水甘油醚、脂肪族和脂環式環氧樹脂、胺基環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、二羥基苯型環氧樹脂等環氧樹脂與，(甲基)丙烯酸反應所得的環氧(甲基)丙烯酸酯等光聚合性化合物；具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基之光聚合性之液晶性化合物等。

(3)光學功能層

本發明中之光學功能層之厚度，根據上述棒狀化合物之種類，若為可賦予光學功能層所期待之光學特性之範圍內，則無特別之限制。其中於本發明中較佳為光學功能層之厚度為0.5 μ m~10 μ m之範圍內，其中較佳為0.5 μ m~5 μ m之範圍內，尤佳為1 μ m~3 μ m之範圍內。其原因在於，若光學功能層之厚度厚於上述範圍，則作為無規水平配向之特徵之一之「面內配向性」受損，其結果可能無法獲得所期望之光學特性。又，若薄於上述範圍，則根據上述棒狀化合物之種類，可能無法獲得目標之光學特性。

此處，於本發明之光學功能薄膜中，於光學功能層與下述基材之黏接部具有兩者「混合」之混合區域之情況，上述光學功能層之厚度不包含上述混合區域之厚度。

本發明中之光學功能層之延遲(Re)，考慮到上述無規水平配向具有之「不規則性」以及「面內配向性」之觀點，較佳為如上述之0 nm~5 nm之範圍內，其中較佳為0 nm~3 nm之範圍內，尤佳為0 nm~1 nm之範圍內。此處，Re值之定義以及測定方法如上所述，此處省略說明。

又，本發明中之光學功能層，較佳為光學功能層之延遲值(Re(nm))除以光學功能層之厚度(d(μ m))之值(Re/d)，為0~0.2之範圍內，其中較佳為0~0.1之範圍內，尤佳為0~0.05之範圍內。

又，本發明中之光學功能層之厚度方向之延遲(Rth)，考慮到上述無規水平配向具有之「面內配向性」之觀點，較佳為如上述之50 nm~400 nm之範圍內，其中較佳為50 nm~300 nm之範圍內，尤佳為50 nm~200 nm之範圍內。此處，Rth值之定義以及測定方法如上所述，故而此處省略說明。

又，本發明中之光學功能層，較佳為光學功能層之厚度方向之延遲值(Rth(nm))除以光學功能層之厚度(d(μ m))之值(Rth/d)為0.5~13之範圍內，其中較佳為0.5~10之範圍內，尤佳為0.5~7之範圍內。

又，本發明中之光學功能層之霧值，考慮到上述無規水平配向具有之「分散性」之觀點，較佳為如上所述之0%~5%之範圍內，其中較佳為0%~1%之範圍內，尤佳為0%~0.5%之範圍內。此處，對於霧值之定義以及測定方法如上所述，故而此處省略說明。

本發明中之光學功能層之構成，並不侷限於含有單一層之構成，亦可具有積層有複數層之構成。於具有積層有複數層之構成之情況，可積層同一組成之層，又，亦可積層具有不同組成之複數層。再者，於光學功能層含有複數層之情況，至少於基材上直接積層之光學功能層具有形成無規水平配向之棒狀化合物即可。

2.基材

繼而對本發明中所使用之基材進行說明。本發明中使用之基材係具有光學上作為負C板之功能者。又，如下所述，本發明之光學功能薄膜係藉由上述光學功能層直接形成於基材上，而使上述光學功能層中所含有之棒狀化合物形成無規水平配向者，故而本發明中所使用之基材係亦具有作為用以使上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜的功能者。以下，對於上述本發明中所使用之基材進行說明。

本發明中所使用之基材若為具有光學上作為負C板之性質者，則無特別之限制。此處，本發明中，所謂「具有光學上作為負C板之性質」係表示，將基材薄板之面內之任意X方向以及Y方向折射率設為Nx、Ny，將厚度方向之折射率設為Nz時，Nx＝Ny>Nz之關係成立。

使用具有光學上作為負C板之性質者作為本發明中所使用之基材，係依據下述理由。即，其原因在於，如上所述本發明中之基材，係作為用以使上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜發揮功能者，但若基材不具有光學上作為負C板之性質，則上述棒狀化合物無法形成無規水平配向。

於本發明中，藉由於具有光學上作為負C板之性質之基材上，形成含有上述棒狀化合物之光學功能層，而使上述棒狀化合物形成無規水平配向之機構尚未明瞭，但可認為係基於下述機構者。

即，例如，若考慮基材含有高分子材料之情況，則於基材具有光學上作為負C板之性質之情況，可認為構成基材之高分子材料，於面內方向上無特定規則性且無規地排列。若於表面上具有上述於面內方向上無規排列之高分子材料之基材上賦予上述棒狀化合物，則可認為上述棒狀化合物，一部分滲透於基材中，以分子軸沿無規排列之高分子材料之分子軸的方式進行排列。根據上述機構，可認為具有光學上作為負C板之基材係表現作為形成無規水平配向之配向膜之功能者。

根據上述之機構，可認為上述基材具有作為使上述棒狀化合物形成無規水平配向之配向膜之功能，故而本發明中使用之基材必須為，對於棒狀化合物具有配向控制力，且具有表現光學上作為負C板之性質之基材之構成材料存在於基材表面的構成者。因此，即使為具有光學上作為負C板之性質者，但若為具有於基材上形成光學功能層之情況，上述棒狀化合物無法與對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材之構成材料相接的構成者，則無法使用為本發明之基材。

作為上述無法於本發明中使用之基材，例如可列舉：具有僅由高分子材料構成，且具有光學上作為負C板之功能之支持體，與於上述支持體上積層有含有具有折射率異向性之光學異向性材料之相位差層之構成的基材。於具有上述構成之基材中，構成上述支持體之高分子材料成為對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材之構成材料，但於上述相位差層上形成上述光學功能層之情況，因存在上述相位差層，故而上述棒狀化合物無法與上述高分子材料相接。因此，具有此種構成之基材，即使具有光學上作為負C板之性質，亦無法含有於本發明之基材中。

本發明中所使用之基材之光學上作為負C板之性質，可根據上述光學功能層所使用之棒狀化合物之種類或本發明之光學功能薄膜所謀求之光學特性等適當選擇使用。其中本發明中，上述基材之厚度方向延遲(Rth)較佳為20 nm~100 nm之範圍內，尤佳為25 nm~80 nm之範圍內，其中較佳為30 nm~60 nm之範圍內。其原因在於，藉由使上述基材之厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可無關上述棒狀化合物之種類，而使於上述光學功能層中形成無規水平配向變得容易。又，藉由使上述基材之Rth為上述範圍內，可形成均勻之無規水平配向。

此處，對於Rth之定義以及測定方法，與上述「1.光學功能層」項中說明之內容相同，故而此處省略說明。

又，考慮到形成均勻無規水平配向之觀點，除Rth為上述範圍內以外，面內之延遲(Re)較佳為0 nm~300 nm之範圍內，尤佳為0 nm~150 nm之範圍內，其中較佳為0 nm~125 nm之範圍內。

本發明中使用之基材之透明度可根據本發明之光學功能薄膜所謀求之透明性等而任意決定，通常，較佳為可見光區域內之穿透率為80%，更佳為90%以上。其原因在於，若穿透率低，則有時出現上述棒狀化合物等之選擇範圍變窄之情況。此處，基材之穿透率可藉由JIS K7361－1(塑膠透明材料之全光穿透率之試驗方法)測定。

本發明中所使用之基材之厚度，根據本發明之光學功能薄膜之用途等，若為具有必需之自我支持性者則無特別之限制，通常，較佳為10 μ m~188 μ m之範圍內，尤佳為20 μ m~125 μ m之範圍內，特佳為30 μ m~80 μ m之範圍內。其原因在於，若基材之厚度薄於上述範圍，則有時出現本發明之光學功能薄膜無法獲得必需之自我支持性之情況。又，若厚度厚於上述範圍，則例如於對本發明之光學功能薄膜進行切割加工時，有時出現加工屑增加，或切割刀之磨耗變快之情況。

此處，於本發明之光學功能薄膜中，於光學功能層與下述基材之黏接部具有兩者「混合」之混合區域之情況，上述光學功能層之厚度包含上述混合區域之厚度。

又，本發明中所使用之基材，若為具有上述光學特性者，則可使用具有可撓性之撓性材，亦可使用無可撓性之剛性材，較佳為使用撓性材。藉由使用撓性材，可將本發明之光學功能薄膜之製造步驟設為卷式(Roll－to－Roll)製程，獲得生產性優異之光學功能薄膜。

作為上述撓性材，可例示纖維素衍生物、降烯系聚合物、環烯烴系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚醯亞胺、聚芳酯(polyalylate)、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碸、聚醚碸、非晶系聚烯烴、改質丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、環氧樹脂、聚碳酸酯、聚酯類等，其中較佳為使用纖維素衍生物。其原因在於，纖維素衍生物於光學等向性方面尤其優異，故而可獲得光學特性優異之光學功能薄膜。

作為上述纖維素衍生物，較佳為使用纖維素酯，進而，於纖維素酯類中較佳為使用纖維素丙烯酸酯類。其原因在於，纖維素丙烯酸酯類廣泛用於工業中，故而於易獲得性方面有利。

作為上述纖維素丙烯酸酯類，較佳為碳數2~4之低級脂肪酸酯。作為低級脂肪酸酯，可為例如纖維素乙酸酯之僅含有單一低級脂肪酸酯者，又，亦可為例如纖維素乙酸酯丁酸酯或纖維素乙酸酯丙酸酯之含複數個低級脂肪酸酯者。

於本發明中，上述低級脂肪酸酯之中可尤佳地使用纖維素乙酸酯。作為纖維素乙酸酯，最佳為使用平均乙酸化度為57.5~62.5%(取代度：2.6~3.0)之三乙醯基纖維素。其原因在於，三乙醯基纖維素具有較大體積之側鏈之分子結構，故而藉由自三乙醯基纖維素構成基材，可使形成上述光學功能層之棒狀化合物易於滲透至基材中，故而可進一步提高基材與光學功能層之密著性。又，三乙醯基纖維素易表現光學上作為負C板之性質，故而上述棒狀化合物易形成無規水平配向。此處，乙酸化度表示每單位質量之纖維素所鍵結之乙酸量。乙酸化度可藉由ASTM：D－817－91(纖維素乙酸酯等之試驗方法)中之乙醯基化度的測定及計算而求得。再者，構成三乙醯基纖維素薄膜之三乙醯基纖維素之乙酸化度，可於去除薄膜中所含有之可塑劑等雜質後，藉由上述之方法求得。

作為上述降烯系聚合物，可列舉環烯烴聚合物(COP)或環烯烴共聚物(COC)，本發明中，較佳為使用環烯烴聚合物。其原因在於，環烯烴聚合物之水分之吸收性以及穿透性低，故而藉由使本發明所使用之基材含有環烯烴聚合物，可使本發明之光學功能薄膜成為光學特性之經時穩定性優異者。

本發明中之基材之構成，不僅限於含有單一層之構成，亦可具有積層有複數層之構成。於具有積層有複數層之構成之情況，可積層同一組成之層，又，亦可積層具有不同組成之複數層。

作為積層有具有不同組成之複數層之基材構成，例如可例示積層含有使三乙醯基纖維素等上述棒狀化合物無規水平配向之材料之薄膜，與透水性或自我支持性優異之支持體的態樣。

3.光學功能薄膜

本發明之光學功能薄膜，其特徵之一為，於基材上直接形成光學功能層，故而上述光學功能層所含有之棒狀化合物滲透至上述基材中，於基材與光學功能層之黏接部形成兩者「混合」之混合區域。上述混合區域之厚度，若為可形成上述無規水平配向，且可使基材與光學功能層之密著力為所期望之範圍中的狀態，則無特別之限制。其中於本發明中，較佳為上述混合區域之厚度為0.1 μ m~10 μ m之範圍內，尤佳為0.5 μ m~5 μ m之範圍內，其中較佳為1 μ m~3 μ m之範圍內。

又，關於上述混合區域中之棒狀化合物之分佈狀態，若可形成上述無規水平配向，且可使基材與光學功能層之密著力為所期望之範圍中的狀態，則無特別之限制。作為上述棒狀化合物之分佈狀態，可例示於基材之厚度方向均勻存在之態樣，與於基材之厚度方向具有濃度梯度之態樣，本發明中可較佳地使用任一態樣。

再者，上述混合區域存在之確認與上述混合區域中棒狀化合物之分佈狀態之確認可藉由TOF－SIMS法進行確認。

本發明之光學功能薄膜亦可具有上述基材以及光學功能層以外之其他層。作為如此之其他層，例如可列舉：防反射層、紫外線吸收層、紅外線吸收層、以及抗靜電層等。

作為本發明中所使用之防反射層，無特別之限制，例如可列舉：於透明基材薄膜上形成含有折射率小於該透明基材之物質之低折射率層者，或於透明基材薄膜上依序交替積層各一層以上之高折射率層以及低折射率層者，上述高折射率層含有折射率大於該透明基材之物質，上述低折射率層含有折射率低於該透明基材之物質。該等高折射率層以及低折射率層，以層之幾何厚度與折射率之積所表示之光學厚度為需防反射之光之波長的1/4之方式，藉由真空蒸鍍、塗佈等而形成。作為高折射率層之構成材料，可使用氧化鈦、硫化鋅等，作為低折射率層之構成材料，可使用氟化鎂、冰晶石等。

又，作為本發明中所使用之紫外線吸收層，無特別之限制，例如可列舉：於聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂等薄膜中，添加含有苯并三唑系化合物、二苯基酮系化合物、水楊酸酯系化合物等紫外線吸收劑而成膜者。

又，作為本發明中所使用之紅外線吸收層無特別之限制，例如，可列舉於聚酯樹脂等薄膜基材上藉由塗佈而形成紅外線吸收層等者。作為紅外線吸收層，例如，可使用於含有丙烯酸系樹脂、聚酯樹脂等之黏合劑樹脂中添加含有二亞胺(diimmonium)系化合物、酞菁系化合物等之紅外線吸收劑而成膜者。

又，作為本發明中所使用之抗靜電層，例如可列舉：添加具有第4級銨鹽、吡啶鹽、第1~3級胺基等陽離子性基之各種陽離子性抗靜電劑；具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基等陰離子性基之陰離子系抗靜電劑；胺基酸系、胺基硫酸酯系等兩性抗靜電劑；胺醇系、丙三醇系、聚乙二醇系等非離子性之抗靜電劑；將上述抗靜電劑高分子量化之高分子型抗靜電劑；具有第3級胺基或第4級銨基，可藉由電離放射線進行聚合之單體或寡聚物，例如，(甲基)丙烯酸N,N－二烷基胺基烷酯單體、該等之第4級化合物等聚合性抗靜電劑等抗靜電劑而成膜者。

本發明之光學功能薄膜之厚度，若為可表現所期望之光學特性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為10 μ m~200 μ m之範圍內，尤佳為20 μ m~100 μ m之範圍內。

又，本發明之光學功能薄膜，其依據JIS K7105測定之霧值較佳為0%~5%之範圍內，尤佳為0%~1%之範圍內，其中較佳為0%~0.5%之範圍內。

作為本發明之光學功能薄膜之用途，無特別之限制，可作為光學功能薄膜用於各種用途。作為本發明之光學功能薄膜之具體用途，例如，可列舉液晶顯示裝置中所使用之光學補償板(例如，視角補償板)、橢圓偏光板、亮度提高板等。其中於本發明中，可用於作為負C板之用途。於如此使用為作為負C板之光學補償板之情況，可較佳地使用於具有VA模式或OCB模式等之液晶層的液晶顯示裝置中。

又，本發明之光學功能薄膜，可藉由與偏光層貼合，而用於作為偏光膜之用途。偏光膜通常係偏光層與其兩表面上形成保護層而成者，於本發明中，例如，可藉由使其一側之保護層為上述光學功能薄膜，而製成具有例如改善液晶顯示裝置之視角特性之光學補償功能的偏光膜。

作為上述偏光層，無特別之限制，例如，可使用碘系偏光層、使用二色性染料之染料系偏光層或多烯系偏光層等。碘系偏光層或染料系偏光層通常使用聚乙烯醇進行製造。

進而本發明之光學功能薄膜可實施延伸處理而使用。作為實施上述延伸處理之態樣，無特別之限制，例如，可列舉對本發明之光學功能薄膜實施延伸處理，作為雙軸薄膜使用之態樣。

4.光學功能薄膜之製造方法

繼而，對本發明之光學功能薄膜之製造方法進行說明。本發明之光學功能薄膜之製造方法，若為可於上述基材上形成具有無規水平配向之光學功能層的方法，則無特別之限制，通常，使用有於上述基材上，塗佈將上述棒狀化合物溶解於溶劑中而製備之光學功能層形成用組成物之方法。其原因在於，根據上述方法，可使上述棒狀化合物與溶劑一同滲透入上述基材中，故而可增強上述棒狀化合物與構成上述基材之材料的相互作用，其結果上述棒狀化合物變得容易形成無規水平配向。以下，對如此之光學功能薄膜之製造方法進行說明。

上述光學功能層形成用組成物通常含有棒狀化合物與溶劑，視需要亦可含有其他化合物。再者，上述光學功能層形成用組成物中所使用之棒狀化合物以及基材，因與上述「1.光學功能層」及「2.基材」項中說明者相同，故而此處省略說明。

作為上述光學功能層形成用組成物中所使用之溶劑，若為可將上述棒狀化合物溶解為所期望之濃度者，則無特別之限制。作為本發明中所使用之溶劑，例如，可例示苯、乙烷等烴系溶劑；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；四氫呋喃、1,2－二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿、二氯甲烷等鹵化烷基系溶劑；乙酸甲酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯系溶劑；N,N－二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；以及二甲基亞碸等亞碸系溶劑，且並非限於該等。又，本發明中使用之溶劑可為一種，亦可為兩種以上溶劑之混合溶劑。

於本發明中上述溶劑中，較佳為使用酮系溶劑，其中可較佳地使用環己烷。

上述光學功能層形成用組成物中之上述棒狀化合物之含量，根據於基材上塗佈上述光學功能層形成用組成物之塗佈方式等，若為可使上述光學功能層形成用組成物之黏度為所期望之值的範圍內，則無特別之限制。其中於本發明中，上述棒狀化合物之含量，於上述光學功能層形成用組成物中較佳為0.1質量%~60質量%之範圍內，尤佳為1質量%~50質量%之範圍內，其中較佳為10質量%~40質量%之範圍內。

上述光學功能層形成用組成物中，視需要可含有光聚合起始劑。尤其是於實施藉由紫外線照射使光學功能層硬化之處理之情況，較佳為含有光聚合起始劑。作為本發明中使用之光聚合起始劑，可例示二苯基酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4,4－雙(二甲基胺)二苯基酮、4,4－雙(二乙基胺)二苯基酮、α－胺基．苯乙酮、4,4－二氯二苯基酮、4－苯甲醯基－4－甲基二苯基酮、二苄基酮、茀酮(fluorenone)、2,2－二乙氧基苯乙酮、2,2－二甲氧基－2－苯基苯乙酮、2－羥基－2－甲基苯丙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、9－氧硫 、2－甲基9－氧硫、2－氯9－氧硫、2－異丙基9－氧硫、二乙基9－氧硫、苄基二甲基縮酮、苄基甲氧基乙基縮醛、安息香甲醚、安息香丁醚、蒽醌、2－第三丁基蒽醌、2－戊基蒽醌、β－氯蒽醌、蒽酮(anthrone)、苯并蒽酮、二苯并環庚酮、亞甲基蒽酮、4－疊氮苄基苯乙酮、2,6－雙(對疊氮亞苄基)環己烷、2,6－雙(對疊氮亞苄基)－4－甲基環己酮、2－苯基－1,2－丁二酮－2－(鄰甲氧基羰基)肟、1－苯基－丙二酮－2－(鄰乙氧基羰基)肟、1,3－二苯基－丙三酮－2－(鄰乙氧基羰基)肟、1－苯基－3－乙氧基－丙三酮－2－(鄰苯甲醯基)肟、米其勒酮(michler’s ketone)、2－甲基－1[4－(甲硫基)苯基]－2－啉丙烷－1－酮、2－苄基－2－二甲基胺－1－(4－啉苯基)－丁酮、萘磺醯氯、喹啉磺醯氯、正苯基硫代吖啶酮、4,4－偶氮雙異丁腈、二苯硫醚、苯并噻唑二硫醚、三苯基膦、樟腦醌、Adeka公司製造之N1717、四溴化碳、三溴苯基碸、過氧化苯甲酸、曙紅、亞甲基藍等光還原性色素與如抗壞血酸或三乙醇胺之還原劑的組合等。於本發明中，該等光聚合起始劑可使用一種或組合兩種以上使用。

進而，於使用上述光聚合起始劑之情況，可併用光聚合起始助劑。作為此類光聚合起始助劑，可例示三乙醇胺、甲基二乙醇胺等3級胺類或2－二甲基胺基乙基苯甲酸、4－二甲基醯胺苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物，且並不限於該等。

可於不損害本發明之目的之範圍中，於上述光學功能層形成用組成物中，添加如下所示之化合物。作為可添加之化合物，例如，可列舉使縮合多元醇與一元酸或者多元酸而獲得之聚酯預聚物，與(甲基)丙烯酸反應而獲得的聚酯(甲基)丙烯酸酯；使具有多元醇基與2個異氰酸基之化合物相互反應後，使該反應生成物與(甲基)丙烯酸反應所得的聚胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯；雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、聚羧酸聚縮水甘油酯、多元醇聚縮水甘油醚、脂肪族和脂環式環氧樹脂、胺基環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、二羥基苯型環氧樹脂等環氧樹脂與，(甲基)丙烯酸反應所得的環氧(甲基)丙烯酸酯等光聚合性化合物；具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基之光聚合性之液晶性化合物等。相對於上述光學功能層形成用組成物之該等化合物之添加量可於不損害本發明之目的之範圍內決定。藉由添加上述化合物，則有光學功能層之機械強度提高，穩定性改善之情況。

上述光學功能層形成用組成物中，視需要亦可含有上述以外之其他化合物。作為其他化合物，根據本發明之光學功能薄膜之用途等，若為不損害光學功能層之光學性質者，則無特別之限制。

作為將上述光學功能層形成用組成物塗佈於配向層上之塗佈方式，若為可實現所期望之平面性之方法，則無特別之限制。具體而言，可例示凹版印刷塗佈法、反向塗佈法、刀式塗佈法、浸漬塗佈法、噴敷法、氣刀塗佈法、旋塗法、滾筒塗法、印刷法、浸塗法、簾塗佈法、模塗法、澆鑄法、棒塗法、擠壓塗佈法、E型塗佈方法等，且並不限於該等。

關於上述光學功能層形成用組成物之塗膜之厚度，若為可實現所期望之平面性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為0.1 μ m~50 μ m之範圍內，尤佳為0.5 μ m~30 μ m之範圍內，其中較佳為0.5 μ m~10 μ m之範圍內。其原因在於，若光學功能層形成用組成物之塗膜厚度薄於上述範圍，則有光學功能層之平面性受損之情況，又，若厚度厚於上述範圍，則溶劑之乾燥負荷增加，有生產性降低之可能性。

上述光學功能層形成用組成物之塗膜乾燥方法可使用加熱乾燥方法、減壓乾燥方法、間隙乾燥方法等通常所使用之乾燥方法。又，本發明中之乾燥方法，並不限於單一方法，例如，可藉由根據殘留之溶劑量依序改變乾燥方式等之態樣，而採用多種乾燥方式。

使用聚合性材料作為上述棒狀化合物之情況，聚合上述聚合性材料之方法，無特別之限制，可根據上述聚合性材料所具有之聚合性官能基之種類，任意決定。其中於本發明中，較佳為藉由照射活性放射線使之硬化之方法。作為活性放射線，若為可聚合聚合性材料之放射線，則無特別之限制，通常考慮到裝置之簡易性等方面，較佳為使用紫外線或可見光，其中，較佳為使用波長150~500 nm之照射光，其中較佳為250~450 nm，更佳為300~400 nm。

作為該照射光之光源，可例示，低壓水銀燈(殺菌燈、螢光化學燈、黑光燈)、高壓放電燈(高壓水銀燈、金屬鹵素燈)、短弧放電燈(超高壓水銀燈、氙氣燈、水銀氙氣燈)等。其中，推薦使用金屬鹵素燈、氙氣燈、高壓水銀燈等。又，照射強度可根據光聚合起始劑之含量等適度調整進行照射。

B.相位差薄膜

繼而，對本發明之相位差薄膜進行說明。本發明之相位差薄膜根據其態樣大致可分為2態樣。因此，以下，分成各態樣依序對本發明之相位差薄膜進行說明。

B－1：第1態樣之相位差薄膜

首先，對本發明之第1態樣之相位差薄膜進行說明。本態樣之相位差薄膜之特徵為，使用上述「A.光學功能薄膜」項中所揭示之光學功能薄膜，上述光學功能薄膜之厚度方向之延遲(Rth)為50 nm~400 nm之範圍內。

根據本態樣，藉由使厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，與A板作用相加，可獲得本發明之光學功能薄膜可較佳地用以改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性的相位差薄膜。

於本態樣中，上述Rth較佳為100 nm~300 nm之範圍內。

又，本態樣之相位差薄膜，較佳為面內之延遲(Re)為0 nm~5 nm之範圍內。其原因在於，藉由使面內之延遲(Re)於上述範圍內，可使用本態樣之相位差薄膜作為適合改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示元件之視角特性的相位差薄膜。

上述面內之延遲(Re)值可具有波長依存性。例如，可為長波長側之Re值大於短波長側之態樣，又，亦可為短波長側之Re值大於長波長側之態樣。其原因在於，藉由使上述Re值具有波長依存性，例如，於將本態樣之相位差薄膜用於液晶顯示元件之視角特性改善之情況，可改善可見光區域之整個區域內液晶顯示元件之視角特性。

又，於本態樣中，上述Re較佳為0 nm~3 nm之範圍內，更佳為0~1 nm之範圍內。

再者，本態樣中使用之光學功能薄膜，因與上述「A.光學功能薄膜」項中所揭示者相同，故而此處省略說明。

又，作為本態樣之相位差薄膜之製造方法，若為可表現上述光學特性之方法，則無特別之限制，例如，可藉由上述「A.光學功能薄膜」之光學功能薄膜之製造方法項所揭示之方法進行製造。

B－2.第二態樣之相位差薄膜

繼而對本發明之第二態樣之相位差薄膜進行說明。本態樣之相位差薄膜，其係包含具有作為A板或B板之性質，以及作為負C板之性質之基材，與含有棒狀化合物之相位差層者，其特徵為，上述相位差層直接形成於上述基材上，且上述相位差層中上述棒狀化合物形成無規水平配向。

繼而，參照圖對於本態樣之相位差薄膜進行說明。圖3係表示本態樣之相位差薄膜之一例的概略斜視圖。如圖3所示，本態樣之相位差薄膜20具有基材21與於上述基材21上直接形成之相位差層22。於本態樣之相位差薄膜20中，基材21係具有作為A板或B板之性質與作為負C板之性質者。又，上述相位差層22係含有形成無規水平配向之棒狀化合物23者。

如圖3所示，本態樣之相位差薄膜20為如下構成：於基材21上直接形成相位差層22，且不具備作為習知之光學功能薄膜中所必需之構成要件的配向層。

如圖3所示，本態樣之相位差薄膜，藉由於上述基材上直接形成相位差層，可使基材與相位差層牢固密著，故而具有密著穩定性優異之優點。又，亦具有伴隨上述密著性之提高，抗鹼性或返工性亦提高之優點。

此處，上述「直接形成」表示，基材與相位差層之間，未介隔例如配向層等其他層，以基材與相位差層直接接觸之方式形成。

藉由於基材上直接形成相位差層而提高兩者密著力，可解釋為如下機構引起者。即，藉由於基材上直接形成相位差層，可使相位差層中所含有之棒狀分子自基材之表面滲透至基材中，故而基材與相位差層之黏接部不存在明確界面，兩者成為「混合」形態。因此，與習知之藉由界面相互作用之黏接相比較，可顯著改善密著性。

又，於具有習知之配向層之構成的相位差薄膜中，亦具有於配向層與相位差層之界面或配向層與基材之界面上，光發生多次反射，產生干涉不均的問題。然而，本態樣之相位差薄膜不具有配向層，又，上述基材與上述相位差層之黏接部形成「混合」狀態，故而不存在明確界面。因此，本態樣之相位差薄膜具有不產生上述多次反射，不產生因干涉不均導致品質降低的優點。

本態樣中所使用之基材具有如下特徵，即具有作為A板或B板之性質，本態樣中所謂作為A板之性質，具體而言係指基材之面內延遲(Re)為30 nm以上。此處，上述面內延遲(Re)為藉由本態樣中使用之基材之面內之快軸方向(折射率為最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大方向)之折射率Ny與相位差層之厚度d(nm)，以Re＝(Nx－Ny)×d之式表示之值。本態樣中面內延遲(Re)之值使用藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA－21ADH)測定之值。

又，本態樣中所謂作為B板之性質係指，關於上述Nx、Ny、以及Nz，Nx>Ny>Nz之關係成立者。

進而，於本態樣中所使用之基材具有如下特徵，即具有作為負C板之性質，本態樣中所謂「作為負C板之性質」具體而言係指基材之厚度方向之延遲(Rth)為10 nm以上。此處，上述厚度方向之延遲(Rth)為藉由本態樣中所使用之基材之面內之快軸方向(折射率最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大之方向)之折射率Ny、厚度方向之折射率Nz與相位差層之厚度d(nm)，以Rth＝{(Nx＋Ny)/2－Nz}×d之式所表示之值。本態樣中之厚度方向之延遲(Rth)之值使用藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，商品名；KOBRA－21ADH)測定之值。

此處，關於本態樣中之無規水平配向，因與上述「A.光學功能薄膜」項中說明者相同，故而此處省略說明。

本發明之相位差薄膜係含有，上述具有作為A板或B板之性質、以及作為負C板之性質的基材與上述含有形成無規水平配向之棒狀化合物的相位差層者。上述相位差層，藉由形成無規水平配向之棒狀化合物而成為發揮負C板作用之光學特性之表現性優異者，故而本發明之相位差薄膜成為整體具有作為A板或B板之性質與作為負C板之性質者。因本發明之相位差薄膜具有上述光學特性，故而於習知之使用A板或B板與負C板之2張相位差薄膜改善液晶顯示裝置之視角依存性之方法中，僅以1張本發明之相位差薄膜便可實現上述目的。

圖4(a)、(b)係表示習知之使用A板以及負C板之液晶顯示裝置之一例的概略剖面圖，圖4(c)係表示使用本發明之相位差薄膜之液晶顯示裝置之一例的概略剖面圖。如圖4(a)~(c)所示，藉由本發明之相位差薄膜，例如，可藉由1張本發明之相位差薄膜20(圖4(c))發揮圖4(a)、(b)中所使用之A板61與負C板62之功能，故而具有可使液晶顯示裝置薄型化之優點。

本態樣之相位差薄膜係具有基材與直接於基材上形成之相位差層者。以下，對上述各構成進行詳細說明。

1.相位差層

首先，對構成本態樣之相位差薄膜之相位差層進行說明。本態樣中之相位差層係直接形成於下述基材上者。藉由如此般直接形成於基材上，可使本態樣中之相位差層與基材穩固密著。又，本態樣中之相位差層含有棒狀化合物，上述棒狀化合物形成無規水平配向。藉由如此般棒狀化合物形成無規水平配向，可使本態樣之相位差薄膜成為發揮負C板作用之光學特性之表現性優異者。

以下，對上述相位差層進行詳細說明。

(1)棒狀化合物

對本態樣中所用之棒狀化合物進行說明。本態樣中使用之棒狀化合物若為可於相位差層中形成無規水平配向者，則無特別之限制。

此處，本態樣中使用之棒狀化合物，與上述「A.光學功能薄膜」項中說明者相同，故而此處省略說明。

(2)其他化合物

於本態樣之相位差層中亦可含有上述棒狀化合物以外之其他化合物。作為如此之其他化合物，若為未擾亂上述棒狀化合物之無規水平配向者，則無特別之限制。作為上述其他化合物具有光聚合起始劑、聚合抑制劑、平滑劑、手性劑、矽烷偶合劑等。

(3)相位差層

本態樣中之相位差層之厚度，根據上述棒狀化合物之種類，若為可賦予相位差層所期望之光學特性之範圍內，則無特別之限制。其中於本態樣中較佳為相位差層之厚度為0.5 μ m~10 μ m之範圍內，其中較佳為0.5 μ m~8 μ m之範圍內，尤佳為0.5 μ m~6 μ m之範圍內。其原因在於，若相位差層之厚度厚於上述範圍，則作為無規水平配向之特徵之一之「面內配向性」受損，其結果可能無法獲得所期望之光學特性。又，若薄於上述範圍，則根據上述棒狀化合物之種類，可能無法獲得目標之光學特性。

此處，於本態樣之相位差薄膜中，於相位差層與下述基材之黏接部具有兩者「混合」之混合區域之情況，上述相位差層之厚度不包含上述混合區域之厚度。

本態樣中之相位差層之面內延遲(Re)，考慮到上述無規水平配向具有之「不規則性」以及「面內配向性」之觀點，如上所述較佳為0 nm~5 nm之範圍內，其中較佳為0 nm~3 nm之範圍內，尤佳為0 nm~1 nm之範圍內。此處，Re值之定義以及測定方法如上所述，故而此處省略說明。

又，本態樣中之相位差層之厚度方向之延遲(Rth)，考慮到上述無規水平配向具有之「面內配向性」之觀點，如上所述，較佳為50 nm~400 nm之範圍內，其中較佳為100 nm~300 nm之範圍內，尤佳為100 nm~200 nm之範圍內。此處，Rth值之定義以及測定方法如上所述，故而此處省略說明。

又，本態樣中之相位差層之霧值，考慮到上述無規水平配向具有之「分散性」之觀點，如上所述較佳為1%以下之範圍內。此處，對霧值之定義以及測定方法如上所述，故而此處省略說明。

本態樣中之相位差層之構成並不僅限於含有單一層之構成，亦可具有積層有複數層之構成。於具有積層有複數層之構成之情況，可積層同一組成之層，又，亦可積層具有不同組成之複數層。再者，於相位差層含有複數層之情況，至少於基材上直接積層之相位差層具有形成無規水平配向之棒狀化合物即可。

2.基材

繼而，對本態樣中所使用之基材進行說明。本態樣中所使用之基材係具有作為A板或B板之性質與作為負C板之性質者。如下所述於本態樣中，藉由上述相位差層直接形成於基材上，而使上述相位差層中所含有之棒狀化合物形成無規水平配向，故而本態樣中使用之基材係亦具有作為用以形成上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜的功能者。

以下，對上述本態樣中所使用之基材進行說明。

使用具有作為A板或B板之性質者作為本態樣中使用之基材之理由為，欲賦予本態樣之相位差薄膜作為A板或B板之功能。另一方面，使用具有作為負C板之性質者作為本態樣中使用之基材之理由為，欲賦予本態樣之相位差薄膜作為負C板之功能，以及使上述相位差層中棒狀化合物形成無規水平配向。

如上所述本態樣中之基材係作為用以上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜發揮功能者，若基材不具有作為負C板之性質，則上述棒狀化合物無法形成無規水平配向，故而作為使用具有上述作為負C板之性質者之理由，後者之理由尤為重要。

再者，於本態樣中，藉由於具有作為負C板之性質之基材上形成含有上述棒狀化合物之相位差層，而使上述棒狀化合物形成無規水平配向之機構尚未明瞭，但可認為係基於如下機構者。

即，例如，若考慮基材含有高分子材料之情況，則於基材具有作為負C板之性質之情況，可認為構成基材之高分子材料，於面內方向上無特定之規則性而無規地排列。若於表面上具有上述於面內方向上無規排列之高分子材料的基材上賦予上述棒狀化合物，則可認為上述棒狀化合物，一部分滲透於基材中，以分子軸沿無規排列之高分子材料之分子軸的方式進行排列。根據上述之構成，可認為具有負C板之基材為表現作為形成無規水平配向之配向膜之功能者。

根據上述構成，可認為上述基材具有作為使棒狀化合物形成無規水平配向之配向膜之功能，故而本態樣中所使用之基材必須為，對於棒狀化合物具有配向控制力，且具有表現作為負C板之性質之基材之構成材料存在於基材表面的構成者。因此，即使為具有作為負C板之性質之基材，但若為具有於基材上形成相位差層之情況，上述棒狀化合物無法與對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材之構成材料相接的構成者，則無法使用為本態樣中之基材。

作為上述之無法於本態樣中使用之基材，例如，可列舉具有僅由高分子材料構成，且具有作為負C板之功能之支持體，與於上述支持體上積層有含有具有折射率異向性之光學異向性材料之相位差層之構成的基材。於具有上述構成之基材中，構成上述支持體之高分子材料成為對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材之構成材料，但於上述基材上形成上述相位差層之情況，因存在上述相位差層，故而上述棒狀化合物無法與上述高分子材料相接。因此，具有此種構成之基材，即使具有作為負C板之性質，亦無法包含在本態樣之基材中。

於本態樣中使用之基材，若為具有作為A板或B板之性質與作為負C板之性質者，則無特別之限制。上述基材之作為A板之性質，若如上所述面內延遲(Re)為30 nm以上，則無特別之限制，於本態樣中較佳為30 nm~250 nm之範圍內，其中較佳為30 nm~200 nm之範圍內，尤佳為30 nm~150 nm之範圍內。其原因在於，藉由使本態樣中使用之基材之Re為上述範圍內，可使本態樣之相位差薄膜成為作為A板之性質優異者。再者，關於上述面內延遲之定義以及測定方法，與上述內容相同，故而此處省略說明。

本態樣中使用之基材之作為B板之性質，若基材之上述Nx、Ny、以及Nz具有Nx>Ny>Nz之關係，則無特別之限制，基材之厚度方向之延遲(Rth)較佳為30 nm~200 nm之範圍內，其中較佳為30 nm~170 nm之範圍內，尤佳為30 nm~140 nm之範圍內。進而，基材之面內延遲(Re)較佳為10 nm~200 nm之範圍內，其中較佳為10 nm~150 nm之範圍內，尤佳為10 nm~100 nm之範圍內。

此處，上述厚度方向之延遲(Rth)以及面內延遲(Re)之定義、測定方法與上述內容相同，故而此處省略說明。

本態樣中使用之基材之作為負C板之性質，若如上所述厚度方向之延遲(Rth)為10 nm以上，則無特別之限制，於本態樣中，較佳為10 nm~250 nm之範圍內，其中較佳為25 nm~200 nm之範圍內，尤佳為40 nm~150 nm之範圍內。其原因在於，藉由使本態樣中所使用之基材之Rth為上述範圍內，可使上述相位差層中所含之棒狀化合物形成更均勻之無規水平配向。再者，上述厚度方向之延遲(Rth)之定義以及測定方法，與上述內容相同，故而此處省略說明。

本態樣中所使用之基材之透明度可根據本態樣之相位差薄膜所謀求之透明性等而任意決定，通常，較佳為可見光區域內之穿透率為80%以上，更佳為90%以上。其原因在於，若穿透率低，則有時出現上述棒狀化合物等之選擇範圍變窄之情況。此處，基材之穿透率可藉由JIS K7361－1(塑膠透明材料之全光穿透率之試驗方法)進行測定。

本態樣中所使用之基材之厚度，根據本態樣之相位差薄膜之用途等，若為具有必需之自我支持性者，則無特別之限制。其中於本態樣中，較佳為10 μ m~188 μ m之範圍內，尤佳為20 μ m~125 μ m之範圍內，特佳為30 μ m~100 μ m之範圍內。其原因在於，若基材之厚度薄於上述範圍，則有時出現本態樣之相位差薄膜無法獲得必需之自我支持性之情況。又，若厚度厚於上述範圍，則例如，於切割加工本態樣之相位差薄膜時，有時出現加工屑增加或者切割刀之磨耗變快之情況。

此處，於本態樣之相位差薄膜中，於相位差層與下述之基材之黏接部具有兩者「混合」之混合區域之情況，上述相位差層中之厚度包含上述混合區域之厚度。

又，本態樣中使用之基材，若為具有上述光學特性者，則可使用具有可撓性之撓性材，亦可使用無可撓性之剛性材，較佳為使用撓性材。其原因在於，藉由使用撓性材，可將本態樣之相位差薄膜之製造步驟設為卷式製程，可獲得生產性優異之相位差薄膜。

此處，關於構成上述撓性材之材料，因與上述「A.光學功能薄膜」項揭示者相同，故此處省略說明。

本態樣中使用之基材較佳為實施延伸處理。其原因在於，藉由實施延伸處理，可使上述棒狀化合物變得易於滲透至基材中，故而基材與相位差層之密著性更優異，且棒狀化合物可形成更均勻之無規水平配向。

作為上述延伸處理無特別之限制，可根據構成基材之材料等任意決定。作為上述延伸處理，可例示單軸延伸處理與雙軸延伸處理。

作為上述延伸處理之延伸條件，若為可賦予基材所期望之作為A板或B板之性質、以及作為負C板之性質的條件，則無特別之限制。

本態樣中之基材之構成並不限於含有單一層之構成，亦可具有積層有複數層之構成。於具有積層有複數層之構成之情況，可積層同一組成之層，又亦可積層具有不同組成之複數層。

作為積層具有不同組成之複數層之基材之構成，例如可例示：積層有含有使如三乙醯基纖維素之上述棒狀化合物無規水平配向之材料之薄膜，與含有透水性優異之環烯烴聚合物之支持體的態樣。

3.相位差薄膜

本態樣之相位差薄膜亦可具有上述基材以及相位差層以外之其他層。作為如此之其他層，例如可列舉：防反射層、紫外線吸收層、以及紅外線吸收層、抗靜電層等。

此處，關於可於本態樣中使用之上述防反射層、紫外線吸收層、以及紅外線吸收層、抗靜電層等，與「A.光學功能薄膜」項中所揭示者相同，故此處省略說明。

本態樣之相位差薄膜之厚度，若為可表現所期望之光學特性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為20 μ m~150 μ m之範圍內，尤佳為25 μ m~130 μ m之範圍內，其中較佳為30 μ m~110 μ m之範圍內。

又，本態樣之相位差薄膜中，較佳為基於JIS K7105進行測定之霧值為0%~2%之範圍內，尤佳為0%~1.5%之範圍內，其中較佳為0%~1%之範圍內。

本態樣之相位差薄膜之厚度方向之延遲可根據本態樣之用途等進行適當選擇，無特別之限制。其中於本態樣中，較佳為厚度方向之延遲(Rth)為60 nm~450 nm之範圍內，其中較佳為70 nm~400 nm之範圍內，尤佳為80 nm~350 nm之範圍內。其原因在於，可藉由使厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，而使本態樣之相位差薄膜成為適合改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性者。

又，本態樣之相位差薄膜之面內延遲(Re)可根據本態樣之相位差薄膜之用途等進行適當選擇，無特別之限制。其中於本態樣中，面內延遲(Re)較佳為20 nm~150 nm之範圍內，其中較佳為30 nm~130 nm之範圍內，尤佳為40 nm~110 nm之範圍內。其原因在於，可藉由使面內延遲(Re)為上述範圍內，而將本態樣之相位差薄膜用作適合改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性的相位差薄膜。

上述面內延遲(Re)值可具有波長依存性。例如，可為長波長側之值大於短波長側之態樣，又，亦可為短波長側之值大於長波長側之態樣。其原因在於，藉由使上述面內延遲(Re)值具有波長依存性，可改善可見光區域之整個區域內液晶顯示裝置之視角特性。

作為本態樣之相位差薄膜之用途無特別之限制，例如可列舉：液晶顯示裝置中使用之光學補償板(例如，視角補償板)、橢圓偏光板、亮度提高板等。其中本態樣之相位差薄膜可較佳地用作用以改善液晶顯示裝置之視角依存性的光學補償板。進而，本態樣之相位差薄膜具有作為A板或B板之性質與作為負C板之性質，故而最適合用作VA方式之液晶顯示裝置用之光學補償板。

作為使用本態樣之相位差薄膜作為VA方式之液晶顯示裝置之光學補償板的態樣，若為可獲得所期望之視角特性之態樣，則無特別之限制。參照圖對使用本態樣之相位差薄膜作為VA方式之液晶顯示裝置之光學補償板之態樣進行具體說明。圖5係說明使用本態樣之相位差薄膜作為VA方式之液晶顯示裝置之光學補償板之態樣的概略圖。圖5(a)係表示未使用本態樣之相位差薄膜之普通VA方式之液晶顯示裝置一例的概略剖面圖。如圖5(a)所示，普通之液晶顯示裝置具有以2張偏光板30夾持液晶單元104之構成。上述偏光板30為具有於偏光片52之兩面積層偏光板保護薄膜51的構成者。

圖5(b)係表示使用有本態樣之相位差薄膜之液晶顯示裝置之一例的概略剖面圖。如圖5(b)所示，作為使用本態樣之相位差薄膜為光學補償板之態樣，可列舉，於液晶單元104與背光源側之偏光板30之間，積層本態樣之相位差薄膜20的態樣。若為此種態樣，則具有可直接使用習知之液晶顯示裝置中使用之構件的優點。

圖5(c)係表示使用有本態樣之相位差薄膜之液晶顯示裝置之其他例的概略剖面圖。如圖5(c)所示，作為使用本態樣之相位差薄膜20作為光學補償板的態樣，可列舉使用本態樣之相位差薄膜20代替構成背光源側之偏光板31之偏光板保護薄膜的態樣。若為此種態樣，則本態樣之相位差薄膜可承擔作為用以改善視角依存性之光學補償板的功能，與作為偏光板保護薄膜的功能，使液晶顯示裝置進一步薄型化。

又，本態樣之相位差薄膜，亦可藉由與偏光層相貼合，而用於作為偏光膜之用途。偏光膜通常為偏光層與其兩表面上形成保護層而成者，於本態樣中，例如可藉由使其一側之保護層為上述相位差薄膜，而製成具有例如改善液晶顯示裝置之視角特性之光學補償功能的偏光膜。

作為上述偏光層，無特別之限制，例如可使用碘系偏光層、使用二色性染料之染料系偏光層或多烯系偏光層等。碘系偏光層或染料系偏光層通常使用聚乙烯醇進行製造。

4.相位差薄膜之製造方法

繼而，就本態樣之相位差薄膜之製造方法進行說明。本態樣之相位差薄膜之製造方法，若為可於上述基材上形成具有無規水平配向之相位差層的方法，則無特別之限制，通常，使用有於上述基材上，塗佈將上述棒狀化合物溶解於溶劑中而製備之相位差層形成用組成物的方法。其原因在於，根據上述方法，可使上述棒狀化合物與溶劑一同滲透入上述基材中，故而可增強上述棒狀化合物與構成上述基材之材料的相互作用，其結果上述棒狀化合物變得容易形成無規水平配向。以下，對如此之相位差薄膜之製造方法進行說明。

上述相位差層形成用組成物通常含有棒狀化合物與溶劑，視需要亦可含有其他化合物。再者，用於上述相位差層形成用組成物中之棒狀化合物以及基材，與上述「1.相位差層」以及「2.基材」項中所說明者相同，故而此處省略說明。

作為上述相位差層形成用組成物中使用之溶劑，若為可將上述棒狀化合物溶解為所期望之濃度者，且不侵蝕基材者，則無特別之限制。

此處，作為本態樣中所使用之溶劑，可使用與上述「A.光學功能薄膜」項中說明之光學功能層形成用組成物中使用之溶劑相同者，故而此處省略說明。

上述相位差層形成用組成物中之上述棒狀化合物之含量，根據於基材上塗佈上述相位差層形成用組成物之塗佈方式等，若為可使上述相位差層形成用組成物之黏度為所期望之值的範圍內，則無特別限制。其中本態樣中，上述棒狀化合物之含量，於上述相位差層形成用組成物中較佳為10質量%~30質量%之範圍內，尤佳為10質量%~25質量%之範圍內，其中較佳為10質量%~20質量%之範圍內。

於上述相位差層形成用組成物中，視需要亦可含有光聚合起始劑。尤其是於實施藉由紫外線照射使相位差層硬化之處理之情況，較佳為含有光聚合起始劑。進而，使用上述光聚合起始劑之情況，可併用光聚合起始助劑。

此處，作為本態樣中使用之光聚合起始劑以及光聚合起始助劑，可使用與上述「A.光學功能薄膜」項中說明之於光學功能層形成用組成物中使用之光聚合起始劑以及光聚合起始助劑相同者，故而此處省略說明。

於不損害本態樣之目的之範圍內，可於上述相位差層形成用組成物中，添加下述所示之化合物。作為可添加之化合物，例如可列舉：使縮合多元醇與一元酸或者多元酸而獲得之聚酯預聚物，與(甲基)丙烯酸反應而獲得的聚酯(甲基)丙烯酸酯；使具有多元醇基與2個異氰酸基之化合物相互反應後，使該反應生成物與(甲基)丙烯酸反應所得的聚胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯；雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、聚羧酸聚縮水甘油酯、多元醇聚縮水甘油醚、脂肪族和脂環式環氧樹脂、胺基環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、二羥基苯型環氧樹脂等環氧樹脂與，(甲基)丙烯酸反應所得的環氧(甲基)丙烯酸酯等光聚合性化合物；具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基之光聚合性之液晶性化合物等。相對於上述相位差層形成用組成物之該等化合物之添加量，可於不損害本態樣之目的之範圍內決定。藉由添加上述化合物，有時出現相位差層之機械強度提高，穩定性改善之情況。

作為於配向層上塗佈上述相位差層形成用組成物之塗佈方式，若為可實現所期望之平面性之方法，則無特別之限制。

此處，作為本態樣中所使用之塗佈方式，與上述「A.光學功能薄膜」項中說明之塗佈光學功能層形成用組成物之方法相同，故而此處省略說明。

關於上述相位差層形成用組成物之塗膜厚度，若為可實現所期望之平面性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為0.1 μ m~50 μ m之範圍內，尤佳為0.5 μ m~30 μ m之範圍內，其中較佳為0.5 μ m~10 μ m之範圍內。其原因在於，若相位差層形成用組成物之塗膜厚度薄於上述範圍，則有時出現相位差層之平面性受損之情況，又若厚度厚於上述範圍，則溶劑之乾燥負荷增大，有生產性下降之可能性。

上述相位差層形成用組成物之塗膜之乾燥方法，與上述「A.光學功能薄膜」項中說明之乾燥光學功能層形成用組成物之塗膜的方法相同，故而此處省略說明。

使用聚合性材料作為上述棒狀化合物之情況，聚合上述聚合性材料之方法，無特別之限制，可根據上述聚合性材料所具有之聚合性官能基之種類任意決定。其中於本態樣中，較佳為藉由照射活性放射線使之硬化之方法。作為活性放射線，若為可聚合聚合性材料之放射線，則無特別之限制，通常考慮到裝置之簡易性等方面，較佳為使用紫外線或可見光，其中，較佳為，使用波長為150~500 nm之照射光，較佳為250~450 nm，更佳為300~400 nm。作為該照射光之光源，與上述「A.光學功能薄膜」項中揭示者相同，故而此處省略說明。

C.光學功能層形成用組成物

繼而對本發明之光學功能層形成用組成物進行說明。本發明之光學功能層形成用組成物係含有棒狀化合物與由醇系溶劑以及其他有機溶劑構成之混合溶劑者，其特徵為，上述混合溶劑中之醇系溶劑量為5質量%~20質量%之範圍內。

根據本發明，藉由於上述混合溶劑中含有上述範圍內之醇系溶劑，可於使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時，獲得無白濁，透明性優異之光學功能層。

於本發明之光學功能層形成用組成物中，藉由於上述混合溶劑中含有上述範圍內之醇系溶劑，而抑制白濁之機構尚未明瞭，但可認為係如下機構引起者。即，本發明之光學功能層形成用組成物中所含有之棒狀化合物不溶於醇系溶劑，故而藉由混合溶劑中存在醇系溶劑，可於使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時，促進上述棒狀化合物之面內配向。因此，可抑制棒狀化合物之排列不良，其結果，可防止光學功能層之白濁。

於本發明中將上述混合溶劑中之醇系溶劑含量設定於5質量%~20質量%之範圍內，設定如此範圍之理由係基於如下者。即，若醇系溶劑量小於上述範圍，則於使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時，具有光學功能層白濁之可能性。另一方面，若醇系溶劑量大於上述範圍，則於本發明之光學功能層形成用組成物中，具有無法將下述之棒狀化合物溶解為所期望之濃度之可能性。

再者，作為本發明中之上述混合溶劑中之醇系溶劑量，可藉由氣相層析法進行測定。作為如此之氣相層析法之測定條件，例如，可例示以下條件。

(1)測定裝置 島津製作所(2)檢測器 FID(3)管柱 SBS－200 3 m(4)管柱溫度 100℃(5)注入溫度 150℃(6)載體氣體 He 150 kPa(7)氫壓 60 kPa(8)空氣壓 50 kPa

又，本發明之光學功能層形成用組成物可較佳地用以形成上述棒狀化合物形成無規水平配向之光學功能層。其原因在於，棒狀化合物形成無規水平配向之光學功能層，其發揮負C板作用之光學特性之表現性優異，故而可不使用配向膜而形成光學特性之表現性優異之光學功能層。又，因無需配向膜，故可藉由例如使用本發明之光學功能層形成用組成物，於基材上直接形成光學功能層，而獲得基材與光學功能層之密著性優異之光學功能薄膜。

上述無規水平配向，係於使用本發明之光學功能層形成用組成物而形成之光學功能層中，賦予作為負C板之光學特性之棒狀化合物之排列形態之一。習知，作為表現作為負C板之光學特性之棒狀化合物之排列形態，通常為具有膽固醇狀結構之排列形態，而上述無規水平配向具有無膽固醇狀結構的特徵。

此處，關於上述無規水平配向，與上述「A.光學功能薄膜」項所說明者相同，故而此處省略說明。

本發明之光學功能層形成用組成物係含有棒狀化合物與由醇系溶劑以及其他有機溶劑構成之混合溶劑者。以下，就本發明之光學功能層形成用組成物之各構成進行詳細說明。

1.混合溶劑

首先，對構成本發明之光學功能層形成用組成物之混合溶劑進行說明。本發明中所使用之混合溶劑係由醇系溶劑與其他有機溶劑構成者。

(1)醇系溶劑

對於上述混合溶劑中使用之醇系溶劑進行說明。本發明中所使用之醇溶劑係使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時，具有防止光學功能層白濁之功能者。

若本發明中之混合溶劑中之醇系溶劑量為5質量%~20質量%之範圍內，則無特別之限制。其中於本發明中較佳為10質量%~20質量%之範圍內。此處，關於上述醇系溶劑量之測定方法，與上述內容相同，故而此處省略說明。

本發明中使用之醇系溶劑若為不侵蝕下述基材者，則無特別之限制。如此之醇系溶劑不限於1種，亦可將2種以上混合使用。

本發明中使用之醇系溶劑，可為分子內所含之OH基數為1之一元醇，亦可為OH基數為2以上之多元醇，其中較佳為使用一元醇。

又，本發明中使用之醇系溶劑為一級醇、二級醇、以及三級醇中之任一者，其中較佳為使用一級醇。

進而，作為本發明所使用之醇系溶劑，可例示脂肪族飽和醇、脂肪族不飽和醇、脂環族醇、芳香族醇、雜環式醇，於本發明中，較佳為使用脂肪族飽和醇。

作為上述脂肪族飽和醇，較佳為使用低級脂肪族飽和醇，更詳細而言較佳為構成烴鏈之碳數為1~6之範圍內，尤佳為3~5之範圍內。作為具有上述碳數之低級脂肪族飽和醇，可列舉烴鏈為直鏈狀者與具有側鏈者，本發明中可適當使用任一之低級脂肪族飽和醇。

於上述醇系溶劑之中，作為可較佳用於本發明之醇系溶劑之具體例，可列舉：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇等。其中於本發明中，更佳為使用異丙醇、正丙醇。

(2)有機溶劑

繼而對構成本發明中之混合溶劑之有機溶劑進行說明。本發明中之有機溶劑係具有將下述之棒狀化合物溶解為所期望之濃度的功能者。作為本發明中使用之有機溶劑，可含有單一溶劑，亦可為複數種溶劑之混合溶劑。

作為本發明中使用之有機溶劑，若為可將下述棒狀化合物溶解為所期望之濃度者，則無特定之限制。作為本發明中所使用之有機溶劑，例如可例示：苯、己烷等烴系溶劑；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、甲基環己酮等酮系溶劑；四氫呋喃、1,2－二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿、二氯甲烷等鹵化烷基系溶劑；乙酸甲酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯系溶劑；N,N－二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；以及二甲基亞碸等亞碸系溶劑。其中於本發明中，可較佳使用甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、以及甲基環己酮。

2.棒狀化合物

繼而對構成本發明之光學功能層形成用組成物之棒狀化合物進行說明。本發明中所使用之棒狀化合物若為可賦予使用本發明之光學功能層形成用組成物而形成之光學功能層所期望之光學特性者，則無特別之限制。

此處，關於本發明中所使用之棒狀化合物，與上述「A.光學功能薄膜」項中所說明者相同，故而此處省略說明。

作為本發明之光學功能層形成用組成物中之上述棒狀化合物之含量，根據使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層時之形成方法等，若為使本發明之光學功能層形成用組成物成為所期望之黏度的範圍內，則無特別之限制。其中於本發明中，上述棒狀化合物之含量，於光學功能層形成用組成物中較佳為5質量%~50質量%之範圍內，尤佳為5質量%~20質量%之範圍內。

再者，上述棒狀化合物之含量可藉由如下方法求得：稱取2 g本發明之光學功能層形成用組成物置入鋁杯中，於150℃烘箱中乾燥1小時後，自揮發減少量算出。

3.光學功能層形成用組成物

本發明之光學功能層形成用組成物中，可具有上述混合溶劑以及棒狀化合物以外之其他構成。作為上述其他構成，例如可列舉：聚二甲基矽氧烷、甲基苯基矽氧烷、有機改質矽氧烷等矽形態的平滑劑；聚丙烯酸烷基酯、聚烷基乙烯醚等直鏈狀聚合物；氟系界面活性劑、烴系界面活性劑等界面活性劑；四氟乙烯等氟系平滑劑；光聚合起始劑等。其中於本發明中，作為上述棒狀化合物，於使用具有藉由光照射聚合之聚合性官能基之棒狀化合物之情況，較佳為含有光聚合起始劑。

此處，作為本發明中所使用之光聚合起始劑，與上述「A.光學功能薄膜」項中所揭示者相同，故而此處省略說明。

作為上述光聚合起始劑之含量，若為可於所期望之時間內聚合上述棒狀化合物的範圍內，則無特別之限制，通常，相對於100重量份上述棒狀化合物，較佳為1重量份~10重量份之範圍內，尤佳為3重量份~6重量份之範圍內。其原因在於，若光聚合起始劑之含量大於上述範圍，則於使用本發明之光學功能層形成用組成物而形成之光學功能層時，可能擾亂上述棒狀化合物之排列。又，若含量小於上述範圍，則根據棒狀化合物之種類之不同具有無法於所期望之時間內進行聚合之可能性。

於使用上述光聚合起始劑之情況，可併用光聚合起始助劑。作為上述之光聚合起始助劑，與上述「A.光學功能薄膜」項中所揭示者相同，故而此處省略說明。

進而於本發明之光學功能層形成用組成物中，可於不損害本發明之目的之範圍內使用上述以外之其他化合物。作為如此之其他化合物，因與上述「A.光學功能薄膜」項中說明者相同，故而此處省略說明。

作為本發明之光學功能層形成用組成物之黏度，可根據使用本發明之光學功能層形成用組成物形成光學功能層的方法等進行任意調整，通常較佳為25℃時0.5 mPa‧s~10 mPa‧s之範圍內，其中較佳為1 mPa‧s~5 mPa‧s之範圍內，尤佳為1 mPa‧s~3 mPa‧s之範圍內。

本發明之光學功能層形成用組成物之用途無特別之限制，可較佳地用以形成構成液晶顯示裝置中所使用之光學功能薄膜的光學功能層，最佳為用以形成本發明之光學功能層形成用組成物中所含有之棒狀化合物形成無規水平配向的光學功能層。關於上述無規水平配向之詳情，如上所述，故而此處省略說明。

作為本發明之光學功能層形成用組成物之製造方法，若為可製造具有上述構成之光學功能層形成用組成物的方法，則無特別之限制，可適用製造普通之有機溶劑系組成物所使用之方法。作為上述方法，例如可列舉：於含有上述範圍內之醇系溶劑之混合溶劑中，將上述棒狀化合物等以各自特定之濃度溶解之方法。

D.光學功能薄膜之製造方法

繼而，對本發明之光學功能薄膜之製造方法進行說明。本發明之光學功能薄膜之製造方法，其特徵為，使用具有作為負C板之性質之基材與上述光學功能層形成用組成物，藉由於上述基材上塗佈上述光學功能層形成用組成物，而製造具有基材與直接形成於上述基材上，且含有形成無規水平配向之棒狀化合物之光學功能層的光學功能薄膜。

根據本發明，可藉由使用含有醇系溶劑之上述光學功能層形成用組成物形成光學功能層，而製造具有透明性優異之光學功能層的光學功能薄膜。

又根據本發明，可藉由使上述光學功能層直接形成於基材上，而製造光學功能層與基材之密著性優異之光學功能薄膜。藉由如此般於基材上直接形成光學功能層而提高兩者密著力，可解釋為如下機構引起者。即，藉由於基材上直接形成光學功能層，可使光學功能層中含有之棒狀化合物自基材表面滲透至基材中，故而基材與光學功能層之黏接部不存在明確界面，兩者成為「混合」形態。因此，與習知之藉由界面相互作用之黏接相比較，可顯著改善密著性。

又，於具有習知之配向膜之構成之光學功能薄膜中，亦具有於配向膜與光學功能層之界面或配向膜與基材之界面上，光進行多次反射，產生干涉不均之問題。然而，藉由本發明製造之光學功能薄膜不具有上述配向膜，又，上述基材與上述光學功能層之黏接部成為「混合」狀態，故而不存在明確界面。因此，具有不產生上述多次反射，不產生因干涉不均導致品質降低的優點。

進而根據本發明，於上述光學功能層中棒狀化合物形成無規水平配向，故而不使用配向膜，即可製造光學特性之表現性，尤其是發揮負C板作用之光學特性之表現性優異的光學功能薄膜。

本發明之光學功能薄膜之製造方法係使用基材與光學功能層形成用組成物者。以下，對本發明之光學功能薄膜之製造方法進行詳細說明。

再者，關於本發明中所使用之光學功能層形成用組成物，因與上述「A.光學功能層形成用組成物」項中所揭示者相同，故而此處省略說明。

1.基材

首先，對本發明中所使用之基材進行說明。本發明中所使用之基材為具有作為負C板之功能者。又，如下所述藉由本發明之光學功能薄膜之製造方法所得之光學功能薄膜，係藉由使光學功能層直接形成於基材上，而使上述光學功能層中所含有之棒狀化合物形成無規水平配向者，故而本發明中所使用之基材係具有作為用以使上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜的功能者。以下，對本發明所使用之基材進行說明。

本發明中所使用之基材，若為具有光學上作為負C板之性質者，則無特別之限制。此處，於本發明中，所謂「具有光學上作為負C板之性質」係表示，將基材薄板之面內之任意X方向以及Y方向折射率設為Nx、Ny，將厚度方向之折射率設為Nz時，Nx＝Ny>Nz之關係成立。

使用具有作為負C板之性質者作為本發明中使用之基材的理由如下。即，如上所述，本發明中所使用之基材，係具有作為用以使上述棒狀化合物形成無規水平配向之所謂配向膜的功能者，若基材不具有作為負C板之性質，則上述棒狀化合物無法形成無規水平配向。

於本發明中，藉由於具有作為負C板之性質之基材上，使用上述光學功能層形成用組成物形成光學功能層，而使上述棒狀化合物形成無規水平配向之機構，因與上述「A.光學功能薄膜」項中說明之理由相同，故而此處省略說明。

根據上述機構，可認為上述基材具有作為使上述棒狀化合物形成無規水平配向之配向膜的功能，故而本發明中使用之基材必須係，對於棒狀化合物具有配向控制力，且，具有表現作為負C板之性質之基材之構成材料存在於基材表面之構成者。因此，即使為具有作為負C板之性質之基材，但若為於基材上形成光學功能層之情況，具有上述棒狀化合物無法與對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材之構成材料相接的構成者，則無法作為本發明中之基材使用。

作為如此之於本發明中無法使用之基材，例如，可列舉具有僅由高分子材料構成，且具有作為負C板之功能之支持體，與於上述支持體上積層有含有具有折射率異向性之光學異向性材料之相位差層之構成的基材。於具有上述構成之基材中，構成上述支持體之高分子材料成為對於上述棒狀化合物具有配向控制力之基材的構成材料，但於基材上形成光學功能層之情況，因存在上述相位差層，故而上述棒狀化合物無法與上述高分子材料相接。因此，具有此種構成之基材，即使具有作為負C板之性質亦無法包含於本發明之基材中。

本發明中使用之基材之作為負C板之性質，可根據上述光學功能層形成用組成物中所使用之棒狀化合物之種類或藉由本發明製造之光學功能薄膜所謀求之光學特性等進行適當選擇使用。其中於本發明中，上述基材之厚度方向延遲(Rth)較佳為20 nm~100 nm之範圍內，尤佳為25 nm~80 nm之範圍內，其中較佳為30 nm~60 nm之範圍內。其原因在於，藉由使上述基材之厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可無關上述棒狀化合物之種類，而於根據本發明製造之光學功能薄膜之光學功能層中，使棒狀化合物容易形成無規水平配向。又，藉由使上述基材之厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可使上述棒狀化合物形成均勻之無規水平配向。

此處，上述厚度方向之延遲(Rth)係藉由本發明中使用之基材之面內之快軸方向(折射率最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大之方向)之折射率Ny與厚度方向之折射率Nz與基材之厚度d(nm)，以Rth＝{(Nx＋Ny)/2－Nz}×d之式表示之值。本發明中之厚度方向之延遲(Rth)之值，使用室溫下以王子計測機器股份有限公司製造之KOBRA－WR測定的值。

又於本發明中，考慮到於基材上形成具有更均勻之無規水平配向之棒狀化合物的光學功能層之觀點，除厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內以外，較佳為面內之延遲(Re)為0 nm~300 nm之範圍內，尤佳為0 nm~150 nm之範圍內，其中較佳為0 nm~125 nm之範圍內。

此處，上述面內延遲(Re)係，藉由本發明中使用之基材之面內之快軸方向(折射率最小之方向)之折射率Nx、以及慢軸方向(折射率最大之方向)之折射率Ny與基材之厚度d(nm)，以Re＝(Nx－Ny)×d之式表示之值。本發明中之面內延遲(Re)之值，使用室溫下以王子計測機器股份有限公司製造之KOBRA－WR測定之值。

本發明中使用之基材之透明度可根據本發明製造之光學功能薄膜所謀求之透明性等而任意決定，通常，較佳為可見光區域之穿透率為80%以上，更佳為90%以上。其原因在於，若穿透率低，則有時出現上述棒狀化合物等之選擇範圍變窄之情況。此處，基材之穿透率可藉由JIS K7361－1(塑膠透明材料之全光穿透率之試驗方法)進行測定。

本發明中使用之基材之厚度，根據藉由本發明製造之光學功能薄膜之用途等，若為具有必需之自我支持性者，則無特別之限制，通常較佳為10 μ m~188 μ m之範圍內，尤佳為20 μ m~125 μ m之範圍內，特佳為30 μ m~80 μ m之範圍內。其原因在於，若基材之厚度薄於上述範圍，則有時出現根據本發明製造之光學功能薄膜無法獲得必需之自我支持性之情況。又，若厚度厚於上述之範圍，則例如於對本發明之光學功能薄膜進行切割加工時，有時出現加工屑增加，或切割刀之磨耗變快之情況。

又，若本發明中所使用之基材，若為具有上述光學特性者，則無特別之限制。對於構成上述基材之材料，因與上述「A.光學功能薄膜」項中說明者相同，故此處省略說明。

本發明中使用之基材較佳為實施延伸處理。其原因在於，藉由實施延伸處理，可使上述棒狀化合物變得容易滲透入基材中，因此基材與光學功能層之密著性優異，且可形成棒狀化合物形成更均勻之無規水平配向的光學功能層。

作為上述延伸處理，無特別之限制，根據構成基材之材料等任意決定。作為上述延伸處理，可例示單軸延伸處理與雙軸延伸處理。其中作為本發明中之上述延伸處理，較佳為雙軸延伸處理。

作為上述雙軸延伸處理之延伸方法，若為可賦予基材所期望之作為負C板之性質之方法，則無特別之限制，於本發明中，例如，可藉由輥壓延伸法、長間隙沿延伸法、拉幅延伸法、管狀延伸法等任意之延伸方法適宜進行。較佳為於進行延伸處理時，高分子薄膜被加熱至例如玻璃轉移溫度以上且融點溫度以下。

本發明中之基材之構成並不限於含有單一層之構成，亦可具有積層有複數層之構成。於具有積層有複數層之構成之情況，可積層同一組成之層，又，亦可積層具有不同組成之複數層。

作為積層有具有不同組成之複數層之基材的構成，例如，可例示積層含有使如三乙醯基纖維素之上述棒狀化合物進行無規水平配向之材料的薄膜，與含有透水性優異之環烯烴聚合物的支持體的態樣。

2.光學功能薄膜之製造方法

繼而，對本發明中，藉由使用上述光學功能層形成用組成物，於上述基材上形成光學功能層而製造光學功能薄膜之方法進行說明。於本發明之光學功能薄膜之製造方法中，藉由於上述基材上直接塗佈上述光學功能層形成用組成物而形成光學功能層。

作為於基材上塗佈上述光學功能層形成用組成物之塗佈方式，若為厚度均勻且可實現所期望之平面性之方法，則無特別之限制。具體而言，可列舉：凹版印刷塗佈法、反向塗佈法、刀式塗佈法、浸漬塗佈法、噴敷法、氣刀塗佈法、旋塗法、滾筒塗法、印刷法、浸塗法、簾塗佈法、模塗法、澆鑄法、棒塗法、擠壓塗佈法、E型塗佈方法等，且並不限於該等。

關於上述光學功能層形成用組成物之塗膜厚度，若為可實現所期望之平面性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為0.1 μ m~50 μ m之範圍內，尤佳為0.5 μ m~30 μ m之範圍內，其中較佳為0.5 μ m~10 μ m之範圍內。其原因在於，若光學功能層形成用組成物之塗膜厚度薄於上述範圍，則有時出現光學功能層之平面性受損之情況，又若厚度厚於上述範圍，則溶劑之乾燥負荷增大，具有生產性降低之可能性。

上述光學功能層形成用組成物之塗膜之乾燥方法可使用加熱乾燥方法、減壓乾燥方法、間隙乾燥方法等通常所使用之乾燥方法。又，本發明中之乾燥方法並不限於單一方法，例如，可藉由根據殘留之溶劑量依序改變乾燥方式等之態樣，而採用多個乾燥方式。

使用聚合性材料作為上述棒狀化合物之情況，聚合上述聚合性材料之方法，無特別之限制，可根據上述聚合性材料所具有之聚合性官能基之種類任意決定。其中於本發明中，較佳為藉由照射活性放射線使之硬化之方法。作為活性放射線，若為可聚合聚合性材料之放射線，則無特別之限制，通常考慮到裝置之簡易性等方面，較佳為使用紫外光或可見光，其中，較佳為使用波長150~500 nm之照射光，較佳為250~450 nm，更佳為300~400 nm。

作為該照射光之光源，可例示低壓水銀燈(殺菌燈、螢光化學燈、黑光燈)、高壓放電燈(高壓水銀燈、金屬鹵素燈)、短弧放電燈(超高壓水銀燈、氙氣燈、水銀氙氣燈)等。其中，推薦使用金屬鹵素燈、氙氣燈、高壓水銀燈等。又，照射強度可根據光聚合起始劑之含量等適度調整進行照射。

3.光學功能薄膜

最後，對藉由本發明之光學功能薄膜之製造方法而製造之光學功能薄膜進行說明。藉由本發明製造之光學功能薄膜係具有基材與於上述基材上直接形成之光學功能層者。又，上述光學功能層中，上述棒狀化合物係形成無規水平配向者。

藉由本發明製造之光學功能薄膜具有如下特徵，藉由使用上述光學功能層形成用組成物形成光學功能層，而使透明度優異。

藉由本發明製造之光學功能薄膜，例如於用於作為液晶顯示裝置用之光學補償薄膜之用途之情況，具有產生的不均或白濁少，可實現高顯示品質的優點。

又，根據本發明製造之光學功能薄膜，藉由於上述基材上直接形成光學功能層，而使基材與光學功能層牢固密著，故而具有不會經時性產生層間剝離等優點。

進而藉由本發明製造之光學功能薄膜，藉由於光學功能層中棒狀化合物形成無規水平配向，而成為發揮負C板作用之光學特性之表現性優異者。

以下，對藉由本發明之光學功能薄膜之製造方法製造之光學功能薄膜進行詳細說明。再者，關於本發明中之無規水平配向，因與上述「A.光學功能薄膜」項中說明者相同，故而此處省略說明。

藉由本發明製造之光學功能薄膜之厚度，若為可表現所期望之光學特性之範圍內，則無特別之限制，通常，較佳為30 μ m~200 μ m之範圍內，尤佳為30 μ m~150 μ m之範圍內，其中較佳為30 μ m~100 μ m之範圍內。

又，藉由本發明製造之光學功能薄膜，其依據JIS K7105測定之霧值較佳為0.1%~5%之範圍內，尤佳為0.1%~1%之範圍內，其中較佳為0.1%~0.5%之範圍內。

藉由本發明製造之光學功能薄膜之厚度方向之延遲(Rth)，可根據光學功能薄膜之用途等適當選擇，無特別之限制。其中於本發明中，厚度方向之延遲(Rth)，較佳為50 nm~500 nm之範圍內，其中較佳為100 nm~400 nm之範圍內，尤佳為100 nm~400 nm之範圍內。其原因在於，藉由使厚度方向之延遲(Rth)為上述範圍內，可使藉由本發明製造之光學功能薄膜成為適合改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性者。此處，厚度方向之延遲(Rth)之定義以及測定方法與上述「1.基材」項中說明之內容相同，故而此處省略說明。

又，藉由本發明製造之光學功能薄膜之面內延遲(Re)可根據光學功能薄膜之用途等適當選擇，無特別之限制。其中於本發明中，面內延遲(Re)較佳為0 nm~5 nm之範圍內，其中較佳為0 nm~3 nm之範圍內，尤佳為0 nm~1 nm之範圍內。其原因在於，藉由使面內延遲(Re)為上述範圍內，可較佳地使用藉由本發明製造之光學功能薄膜作為適合改善VA(Vertical Alignment)方式之液晶顯示裝置之視角特性的相位差薄膜。

此處，面內延遲(Re)之定義以及測定方法，與上述「1.基材」項中說明之內容相同，故而此處省略說明。

上述面內延遲(Re)值可具有波長依存性。例如，可為長波長側之值大於短波長側之態樣，又，亦可為短波長側之值大於長波長側之態樣。

作為藉由本發明製造之光學功能薄膜之用途，無特別之限制，可作為光學性功能薄膜用於各種用途。作為本發明之光學功能薄膜之具體用途，例如可列舉：液晶顯示裝置中所使用之光學補償板(例如，視角補償板)、橢圓偏光板、亮度提高板等。其中於本發明中，可較佳地用於作為負C板之用途。於如此使用為作為負C板之光學補償板之情況，可較佳地使用於具有VA模式或OCB模式等之液晶層的液晶顯示裝置中。

又，本發明之光學功能薄膜，亦可藉由與偏光片貼合，而用於作為偏光板之用途。偏光板通常係偏光片與其兩表面上形成偏光板保護薄膜而成者，於本發明中，例如，可藉由使其一側之偏光板保護薄膜為藉由本發明製造之光學功能薄膜，而製成具有例如改善液晶顯示裝置之視角特性之光學補償功能的偏光板。

作為上述偏光片，無特別之限制，例如可使用碘系偏光片、使用二色性染料之染料系偏光片或多烯系偏光片等。碘系偏光片或染料系偏光片通常使用聚乙烯醇進行製造。

進而本發明之光學功能薄膜可實施延伸處理而使用。作為上述實施延伸處理之態樣，無特別之限制，例如，可列舉對藉由本發明所得之光學功能薄膜實施延伸處理，使用為雙軸性薄膜之態樣。

再者，本發明不限於上述實施形態。上述實施形態為例示，與本發明專利申請範圍中所揭示之技術思想具有實質性相同構成、發揮同樣作用效果者，於任意情況下均包含於本發明之技術範圍中。

(實施例)

以下，揭示實施例就本發明進行具體說明。

(實施例1)

將作為棒狀化合物之以下式所表示的化合物(I)以成為20質量%之方式溶解於環己酮中，於由TAC薄膜(富士軟片股份有限公司製，商品名：TF80UL)所構成之基材上，藉由棒塗方法，以乾燥後的塗佈量為2.5 g/m² 之方式進行塗佈。繼而，以90℃加熱4分鐘以乾燥去除溶劑，同時使該棒狀化合物滲透入該TAC薄膜內，進而，藉由於塗佈面上照射紫外線，而將上述棒狀化合物固定化，製造相位差薄膜。將所得之相位差薄膜作為樣品，就以下項目進行評價。

1.無規水平配向

對於製作之相位差薄膜與上述TF80UL，使用王子計測機器股份有限公司製造之KOBRA-WR，藉由平行尼科耳旋轉法測定Rth以及Re。對於Rth以及Re藉由自相位差薄膜之測定值減去TF80UL之測定值，而求得光學功能層之Rth以及Re。此處，上述Re、Rth測定時中，使用王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA-21ADH。又，上述霧值測定時使用日本電色工業股份有限公司製造，商品名：NDH2000。進而，確認有無上述選擇反射波長時，使用島津製作所股份有限公司製造商品名：UV-3100PC。其結果，Rth=117.9 nm，Re=0 nm。又，霧值為0.2%。

進而，藉由島津製作所股份有限公司製造之紫外可見近紅外分光光度計(UV-3100)，確認相位差薄膜無選擇反射波長。

2.密著性試驗

為檢測密著性而進行剝離試驗。作為剝離試驗，將所得之樣品以交叉切割狀切成1 mm四邊形，將黏著帶(Nichiban股份有限公司製，Cello tape(註冊商標))貼於液晶面，其後剝離膠帶，以肉眼觀察。其結果為，密著度為100%。

密著度(%)=(未剝離部分/貼有膠帶之區域)×100

3.耐濕熱試驗-1

將樣品於90℃熱水中浸漬60分鐘，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。

4.耐濕熱試驗－2

將樣品於80℃、濕度95%之環境下，靜置24小時，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。又，試驗後未發現折射率異向性材料的滲出，亦未見白濁。

5.耐水試驗

將樣品於室溫(23.5℃)下於純水中浸漬1天，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，試驗前後未發現光學特性以及密著性之變動。

6.抗鹼性試驗

將樣品於55℃下於鹼水溶液(1.5 N之氫氧化鈉水溶液)中浸漬3分鐘，進行水洗、乾燥，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。又，亦未發現著色。

(實施例2)

將作為棒狀化合物之以上式(1)所表示之光聚合性液晶化合物以成為20質量%之方式溶解於環己酮中，藉由棒塗方法，塗佈於未延伸COP(環烯烴聚合物)薄膜(JSR股份有限公司製造，商品名：ARTON)上。繼而，以50℃加熱2分鐘以去除溶劑。進而，藉由於塗佈面上照射紫外線，而將上述光聚合性液晶化合物固定化，進而以90℃加熱2分鐘去除殘留溶劑，製作相位差薄膜。將所得之相位差薄膜作為樣品，就如下項目進行評價。

1.無規水平配向

對製作之相位差薄膜之相位差層，評價Re以及選擇反射波長之有無、Rth以及霧值。分別對相位差薄膜整體、與上述未延伸COP(環烯烴聚合物)薄膜(JSR股份有限公司製，商品名：ARTON)進行測定，藉由自前者之測定值減去後者之測定值進行。此處，上述Re、Rth測定時，使用王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA－21ADH。又，測定上述霧值時，使用日本電色工業股份有限公司製造，商品名：NDH2000。進而，確認有無上述選擇反射波長時，使用島津製作所股份有限公司製造商品名：UV－3100PC。其結果為，製作之相位差薄膜之相位差層，其Rth＝106.6 nm，Re＝2.9 nm，霧值＝0.04%，且不具有選擇反射波長。藉此，確認於製作之相位差薄膜之相位差層中，上述光聚合性液晶化合物為無規水平配向。

2.光學特性

藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA－21ADH)測定樣品之相位差。測定光相對樣品表面垂直或傾斜地射入，自該光學相位差與測定光之入射角度之圖確認使基材薄膜之相位差增加之異向性。

3.霧值

為檢測樣品之透明性，藉由霧值計(日本電色工業股份有限公司製造，商品名：NDH2000)測定霧值。其結果為，塗佈量為3 g/m² 時為0.3%以下，故為良好。

4.密著性試驗

為檢測密著性進行剝離試驗。作為剝離試驗，將所得之樣品以交叉切割狀切成1 mm四邊形，將黏著帶(Nichiban股份有限公司製，Cello tape(註冊商標))貼於液晶面上，其後剝離膠帶，以肉眼進行觀察。其結果為，密著度為100%。

密著度(%)＝(未剝離部分/貼有膠帶之區域)×100

5.耐濕熱試驗

將驗樣品於90℃之熱水中浸漬60分鐘，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。

6.耐水試驗

將樣品於室溫(23.5℃)下於純水中浸漬1天，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。

(實施例3)

將作為棒狀化合物之以上式(I)所表示之光聚合性液晶化合物以成為20質量%之方式溶解於環己酮中，藉由棒塗方法，塗佈於單軸延伸COP(環烯烴聚合物)薄膜(JSR股份有限公司製造，商品名：ARTON)上。繼而，以50℃加熱2分鐘去除溶劑。進而，藉由於塗佈面上照射紫外線，將上述光聚合性液晶化合物固定化，進而以90℃加熱2分鐘以去除殘留溶劑，製造相位差薄膜。將所得之相位差薄膜作為樣品，就如下項目進行評價。

1.無規水平配向

對於製作之相位差薄膜之相位差層，評價Re以及有無選擇反射波長、Rth以及霧值。分別對相位差薄膜整體，與上述單軸延伸COP(環烯烴聚合物)薄膜(JSR股份有限公司製造，商品名：ARTON)進行測定，藉由自測定值減去後者之測定值而進行。此處，上述Re、Rth測定時，使用王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA－21ADH。又，測定上述霧值時使用日本電色工業股份有限公司製造，商品名：NDH2000。進而，確認有無上述選擇反射波長時，使用島津製作所股份有限公司製造，商品名：UV－3100PC。其結果為，製作之相位差薄膜之相位差層，其Re＝2.9 nm，Rth＝106.6 nm，霧值＝0.04%，且，無選擇反射波長。藉此，確認於製作之相位差薄膜之相位差層中，上述光聚合性液晶化合物為無規水平配向。

2.光學特性

藉由自動雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製造，商品名：KOBRA－21ADH)測定樣品之相位差。測定光相對樣品表面垂直或者傾斜地射入，自該光學相位差與測定光之入射角度之圖確認使基材薄膜之相位差增加之異向性。又，藉由相同之測定裝置，測定三維折射率。其結果為下述表1。

表1

3.霧值

為檢測樣品之透明性，藉由霧值計(日本電色工業股份有限公司製造，商品名：NDH2000)測定霧值。其結果為，塗佈量為3 g/m² 時為0.3%以下，故良好。

4.密著性試驗

為檢測密著性進行剝離試驗。作為剝離試驗，將所得之樣品以交叉切割狀切為1 mm四邊形，將黏著帶(Nichiban股份有限公司製，Cello tape(註冊商標))貼於液晶面上，其後剝離膠帶，以肉眼進行觀察。其結果為，密著度為100%。

密著度(%)＝(未剝離部分/貼有膠帶之區域)×100

5.耐濕熱試驗

將樣品於90℃之熱水中浸漬60分鐘，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性變動。

6.耐水試驗

將樣品於室溫(23.5℃)下於純水中浸漬1天，藉由上述方法測定光學特性以及密著性。其結果為，未發現試驗前後光學特性以及密著性之變動。

(實施例4)

使用上式(I)所表示之化合物作為向列液晶，以成為20質量%之方式溶解於環己酮：異丙醇之質量比＝9：1之混合溶劑中。於其中，以相對於向列液晶之質量為1質量%之方式，製備光聚合起始劑(Irgacure 907，日本Ciba Geigy股份有限公司製造)，製作光學功能層形成用組成物。

藉由棒塗法，將該油墨組成物塗佈於厚80 μ m之三乙醯基纖維素(TAC)薄膜之基材上，於50℃烘箱中乾燥2分鐘後，於氮氣環境下，照射100 mJ/cm² 之紫外線使之硬化，形成光學功能層，製作光學(補償)薄膜。

(實施例5)

除使用環己酮：正丙醇之質量比＝9：1之混合溶劑以外，藉由與實施例4相同之方法，製作光學(補償)薄膜。

(實施例6)

除使用環己酮：正丙醇之質量比＝8：2之混合溶劑以外，藉由與實施例4相同之方法，製作光學(補償)薄膜。

(比較例1)

除使用環己酮：異丙醇之質量比＝7：3之混合溶劑以外，藉由與實施例4相同之方法，製作光學(補償)薄膜。

(比較例2)

除使用環己酮：正丙醇之質量比＝7：3之混合溶劑以外，藉由與實施例4相同之方法，製作光學(補償)薄膜。

(比較例3)

使與實施例4中所使用者相同之向列液晶以成為20質量%之方式溶解於僅含有環己酮之溶劑中。於其中，以相對於向列液晶之質量為1質量%之方式調整光聚合起始劑(Irgacure 907，日本Ciba Geigy股份有限公司製造)，製備光學功能層形成用組成物。其後，以與實施例1相同方法，製作光學(補償)薄膜。

(評價) (1)霧值以及全光線穿透率(%)

基於JIS K 7361所規定之方法測定上述實施例以及比較例中製作之光學(補償)薄膜之霧值以及全光線穿透率。

(2)正交尼科耳下之不均．白濁

對於上述實施例4~6以及比較例1~3中製作之光學(補償)薄膜，於兩側以正交尼科耳配置之方式貼合市售之偏光板(HCL2－5618HCS，Sanritz股份有限公司製造)，設置於液晶用背光源上，於暗室下以肉眼觀察正面的不均．白濁之程度來加以評價。評價其白濁程度之判斷標準如下所示。

○：無白濁，透明性高，良好。

×：有白濁，透明性降低，不良。

上述評價結果示於表2。如表2中所示，實施例中之光學(補償)薄膜係霧值以及正交尼科耳下之不均．白濁良好。另一方面，比較例中之光學(補償)薄膜，並非霧值與正交尼科耳下之不均．白濁均良好者。

(表2)

1、21、71‧‧‧基材

2．．．光學功能層

3、23．．．棒狀化合物

10．．．光學功能薄膜

22、73．．．相位差層

20、60、61、62．．．相位差薄膜

30、40、102A、102B．．．偏光板

51．．．偏光板保護薄膜

52．．．偏光片

72．．．配向層

100．．．液晶顯示裝置

104．．．液晶單元

a、a’．．．分子長軸方向(分子軸)

b．．．域

A．．．法線方向

圖1係表示本發明之光學功能薄膜之一例的概略斜視圖。

圖2(a)、2(b)及(c)係表示本發明之光學功能薄膜之其他例的概略剖面圖。

圖3係表示本發明之相位差薄膜之一例的概略斜視圖。

圖4(a)、4(b)及4(c)係表示本發明之相位差薄膜之使用態樣之一例的概略剖面圖。

圖5(a)、5(b)及5(c)係表示本發明之相位差薄膜之使用態樣之其他例的概略剖面圖。

圖6係表示一般液晶顯示裝置之一例的概略圖。

圖7係表示習知之相位差薄膜之一例的概略剖面圖。

圖8(a)及8(b)係表示使用2張相位差薄膜之液晶顯示裝置之一例的概略剖面圖。

1．．．基材

2．．．光學功能層

3．．．棒狀化合物

10．．．光學功能薄膜

Claims (25)

1. 一種光學功能薄膜，其係包含具有光學上作為負C板之性質之基材、以及形成於上述基材上且具有棒狀化合物之光學功能層者；其特徵為，上述光學功能層直接形成於上述基材上，並且於上述光學功能層中，上述棒狀化合物形成無規水平配向。
2. 如申請專利範圍第1項之光學功能薄膜，其中，上述基材之厚度方向延遲(Rth)為20 nm~100 nm之範圍內。
3. 如申請專利範圍第1或2項之光學功能薄膜，其中，上述基材係由三乙醯基纖維素構成。
4. 如申請專利範圍第1或2項之光學功能薄膜，其中，上述棒狀化合物係具有聚合性官能基者。
5. 如申請專利範圍第1或2項之光學功能薄膜，其中，上述棒狀化合物為液晶性材料。
6. 如申請專利範圍第5項之光學功能薄膜，其中，上述液晶性材料係表現向列相之材料。
7. 如申請專利範圍第1或2項之光學功能薄膜，其中，上述光學功能層之厚度為0.5 μm~10 μm之範圍內。
8. 一種相位差薄膜，其特徵為，使用申請專利範圍第1或2項之光學功能薄膜，上述光學功能薄膜之厚度方向之延遲(Rth)為50 nm~400 nm之範圍內。
9. 如申請專利範圍第8項之相位差薄膜，其中，相位差薄膜之面內之延遲(Re)為0 nm~5 nm之範圍內。
10. 一種相位差薄膜，其係包含具有A板、B板及C板 的任一性質之基材、以及含有棒狀化合物之相位差層者；其特徵為，上述相位差層直接形成於上述基材上，並且於上述相位差層中，上述棒狀化合物形成無規水平配向。
11. 如申請專利範圍第10項之相位差薄膜，其中，上述基材之面內延遲(Re)為40 nm~200 nm之範圍內。
12. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，上述基材之厚度方向延遲(Rth)為10 nm~150 nm之範圍內。
13. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，上述基材係由環烯烴聚合物(COP)構成。
14. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，上述棒狀化合物係具有聚合性官能基者。
15. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，上述棒狀化合物為液晶性材料。
16. 如申請專利範圍第15項之相位差薄膜，其中，上述液晶性材料係表現向列相之材料。
17. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，上述相位差層之厚度為0.3 μm~10 μm之範圍內。
18. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，相位差薄膜之面內延遲(Re)為40 nm~200 nm之範圍內。
19. 如申請專利範圍第10或11項之相位差薄膜，其中，相位差薄膜之厚度方向延遲(Rth)為50 nm~300 nm之範圍內。
20. 一種光學功能層形成用組成物，其係含有棒狀化合物、由醇系溶劑及其他有機溶劑所構成之混合溶劑者；其特徵為，上述混合溶劑中之醇系溶劑量為5質量%~20質量%之範圍內，上述醇系溶劑為上述棒狀化合物不溶者。
21. 如申請專利範圍第20項之光學功能層形成用組成物，其中，上述光學功能層形成用組成物，係用以形成使上述棒狀化合物形成為無規水平配向之光學功能層者。
22. 如申請專利範圍第20或21項之光學功能層形成用組成物，其中，上述棒狀化合物係具有聚合性官能基者。
23. 如申請專利範圍第20或21項之光學功能層形成用組成物，其中，上述棒狀化合物係液晶性材料。
24. 如申請專利範圍第23項之光學功能層形成用組成物，其中，上述液晶性材料係表現向列相之材料。
25. 一種光學功能薄膜之製造方法，其特徵為，使用具有作為負C板之性質之基材、及申請專利範圍第20或21項之光學功能層形成用組成物，藉由於上述基材上塗佈上述光學功能層形成用組成物，而製造具有基材、以及直接形成於上述基材上且含有形成無規水平配向的棒狀化合物之光學功能層之光學功能薄膜。