JP3250876B2 - 艶消し反射フィルム - Google Patents
艶消し反射フィルムInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、銀を主体とする反射フ
ィルムにおいて、高い全反射率と適度な拡散反射率をす
る艶消しタイプの反射フィルムに関する。
ィルムにおいて、高い全反射率と適度な拡散反射率をす
る艶消しタイプの反射フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】蛍光灯や白熱灯用の反射体としては、し
ばしば鏡面研磨したアルミニウム板が用いられている。
しかしながら、アルミニウムでは反射率が十分でないと
いう問題があったため、アルミニウムに代えて銀を透明
高分子フィルム上に薄膜層として形成せしめた反射フィ
ルムがある。該反射フィルムは反射率が９０％以上でし
かも優れた加工性を有する。
ばしば鏡面研磨したアルミニウム板が用いられている。
しかしながら、アルミニウムでは反射率が十分でないと
いう問題があったため、アルミニウムに代えて銀を透明
高分子フィルム上に薄膜層として形成せしめた反射フィ
ルムがある。該反射フィルムは反射率が９０％以上でし
かも優れた加工性を有する。
【０００３】しかしながら、上記反射フィルムにおいて
は、正反射率が高く、蛍光灯の反射フィルムとして用い
た場合には、光沢が多く、特定の角度から見ると眩しい
という欠点があることを見いだした。そこで、本発明者
らは、フィルムの少なくとも一方の主面に凹凸をつけ
た、いわゆる、マット処理を施したフィルムに銀薄膜層
を形成し、艶消し反射フィルムとして用いることを試み
たが、この方法では、拡散反射率は著しく増大し、しか
も、正反射率および全反射率が減少するという問題に直
面することがわかった。
は、正反射率が高く、蛍光灯の反射フィルムとして用い
た場合には、光沢が多く、特定の角度から見ると眩しい
という欠点があることを見いだした。そこで、本発明者
らは、フィルムの少なくとも一方の主面に凹凸をつけ
た、いわゆる、マット処理を施したフィルムに銀薄膜層
を形成し、艶消し反射フィルムとして用いることを試み
たが、この方法では、拡散反射率は著しく増大し、しか
も、正反射率および全反射率が減少するという問題に直
面することがわかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、かかる
問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、フィル
ム表面に凹凸を形成するという発想ではなく、意外なこ
とに、透明高分子フィルムの曇価と光線透過率を適当な
範囲に制御し、その上に、銀薄膜層を形成することのみ
により、蛍光灯や白熱灯の反射材に好適に用いる事が可
能である艶消し反射フィルムとすることができることを
見いだし本発明に到達した。
問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、フィル
ム表面に凹凸を形成するという発想ではなく、意外なこ
とに、透明高分子フィルムの曇価と光線透過率を適当な
範囲に制御し、その上に、銀薄膜層を形成することのみ
により、蛍光灯や白熱灯の反射材に好適に用いる事が可
能である艶消し反射フィルムとすることができることを
見いだし本発明に到達した。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、上
記の問題を解決するためになされたものであって、透明
高分子フィルムの一方の主面上に銀薄膜層が形成された
フィルムであって、該銀薄膜層が形成されていない主面
から測定される全反射率が９４％以上であり、かつ、拡
散反射率が４％乃至１４％である艶消し反射フィルム、
であり、また、透明高分子フィルムの、波長５５０ｎｍ
の光に対する透過率が８５％以上であり、かつ、曇価が
２％乃至７％である反射フィルム、であり、また、透明
高分子フィルム内に、添加剤が加えられている艶消し反
射フィルム、を要旨とするものである。
記の問題を解決するためになされたものであって、透明
高分子フィルムの一方の主面上に銀薄膜層が形成された
フィルムであって、該銀薄膜層が形成されていない主面
から測定される全反射率が９４％以上であり、かつ、拡
散反射率が４％乃至１４％である艶消し反射フィルム、
であり、また、透明高分子フィルムの、波長５５０ｎｍ
の光に対する透過率が８５％以上であり、かつ、曇価が
２％乃至７％である反射フィルム、であり、また、透明
高分子フィルム内に、添加剤が加えられている艶消し反
射フィルム、を要旨とするものである。
【０００６】以下、添付図面を参照しながら、本発明を
説明する。図１は、本発明の艶消し反射フィルムの断面
構造の一例を示す図であり、図２は同じく艶消し反射フ
ィルムの断面構造の一例を示す図である。図において、
１０は透明高分子フィルム、２０は銀薄膜層、３０は金
属層である。
説明する。図１は、本発明の艶消し反射フィルムの断面
構造の一例を示す図であり、図２は同じく艶消し反射フ
ィルムの断面構造の一例を示す図である。図において、
１０は透明高分子フィルム、２０は銀薄膜層、３０は金
属層である。
【０００７】本発明における高分子フィルムの材料は、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエー
テルスルフォン、ポリカーボネート等が使用できるが、
必ずしもこれらに限定されるわけではなく、透明であ
り、ある程度ガラス転移温度が高いものであれば使用で
きる。高分子フィルムの厚みには限定的な制限値はない
が、２５〜１５０μｍが好ましく用いられる。使用する
高分子フィルムの光学特性は、波長５５０ｎｍの光の線
透過率が８５％以上であり、かつ、曇価が２％〜７％の
範囲であることが好ましい。より好ましくは、波長５０
０〜７００ｎｍの範囲の光に対して、光線透過率が８５
％以上であり、曇価が２％〜７％である。光線透過率が
８５％よりも低いと、反射フィルムとした時の全反射率
が所望の値に達しなくなる。また、曇価が低すぎると、
十分な拡散反射率が得られず、一方、曇価が大きすぎる
場合には拡散反射率が大きくなりすぎることを我々は見
いだしている。
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリエー
テルスルフォン、ポリカーボネート等が使用できるが、
必ずしもこれらに限定されるわけではなく、透明であ
り、ある程度ガラス転移温度が高いものであれば使用で
きる。高分子フィルムの厚みには限定的な制限値はない
が、２５〜１５０μｍが好ましく用いられる。使用する
高分子フィルムの光学特性は、波長５５０ｎｍの光の線
透過率が８５％以上であり、かつ、曇価が２％〜７％の
範囲であることが好ましい。より好ましくは、波長５０
０〜７００ｎｍの範囲の光に対して、光線透過率が８５
％以上であり、曇価が２％〜７％である。光線透過率が
８５％よりも低いと、反射フィルムとした時の全反射率
が所望の値に達しなくなる。また、曇価が低すぎると、
十分な拡散反射率が得られず、一方、曇価が大きすぎる
場合には拡散反射率が大きくなりすぎることを我々は見
いだしている。
【０００８】上記光学特性の制御の方法は、必ずしも特
定のものに限定されるものではなく、市販のフィルムで
かかる特性を有するものを選択して使用することでも十
分本発明の目的を達成することができるが、最も実用的
で容易に実施できるのは、高分子フィルム内に適当な添
加材を加えることにより制御する方法である。添加剤と
しては、アルミナ、チタニア（チタン白）、酸化鉛（鉛
白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリ
ウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、珪酸ソーダ等
のいわゆる白色顔料系の粒状物、針状物等を挙げること
ができる。これら顔料粒子の寸法は１００ｎｍ乃至１０
μｍの範囲で、フィルム中に０．１〜２重量％程度添加
して使用する。この粒径、添加量等をこの範囲で変更す
ることにより、容易に透過率と曇値を本発明で規定する
範囲のものとすることができるのである。いずれにせ
よ、上記の光学特性を満たすように制御した高分子フィ
ルムを用いることが重要なのである。なお、銀の耐光性
を向上させるために高分子フィルムが紫外線を吸収する
特性を有することが好ましいことは、当業者が理解する
ところである。
定のものに限定されるものではなく、市販のフィルムで
かかる特性を有するものを選択して使用することでも十
分本発明の目的を達成することができるが、最も実用的
で容易に実施できるのは、高分子フィルム内に適当な添
加材を加えることにより制御する方法である。添加剤と
しては、アルミナ、チタニア（チタン白）、酸化鉛（鉛
白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリ
ウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、珪酸ソーダ等
のいわゆる白色顔料系の粒状物、針状物等を挙げること
ができる。これら顔料粒子の寸法は１００ｎｍ乃至１０
μｍの範囲で、フィルム中に０．１〜２重量％程度添加
して使用する。この粒径、添加量等をこの範囲で変更す
ることにより、容易に透過率と曇値を本発明で規定する
範囲のものとすることができるのである。いずれにせ
よ、上記の光学特性を満たすように制御した高分子フィ
ルムを用いることが重要なのである。なお、銀の耐光性
を向上させるために高分子フィルムが紫外線を吸収する
特性を有することが好ましいことは、当業者が理解する
ところである。
【０００９】本発明においては、かかる透明高分子フィ
ルムの一方の主面上に、図１に示すように、銀薄膜層を
形成するが、かかる銀薄膜の形成法は、湿式法および乾
式法がある。湿式法とはいわゆるメッキ法の総称であ
り、溶液から銀を析出させ膜を形成する方法である。具
体例を挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式
法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示すると
すれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空
蒸着法、イオンプレーティング法、インビームアシスト
真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明に
は連続的に成膜するロールツロール方式が可能な真空成
膜法が好ましく用いられる。
ルムの一方の主面上に、図１に示すように、銀薄膜層を
形成するが、かかる銀薄膜の形成法は、湿式法および乾
式法がある。湿式法とはいわゆるメッキ法の総称であ
り、溶液から銀を析出させ膜を形成する方法である。具
体例を挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式
法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示すると
すれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空
蒸着法、イオンプレーティング法、インビームアシスト
真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明に
は連続的に成膜するロールツロール方式が可能な真空成
膜法が好ましく用いられる。
【００１０】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．１Ｐａ）以下で基
材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガスを
０．１ｍＴｏｒｒ（約０．１Ｐａ）以上導入させ、高周
波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよい。スパッ
タ法では、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ｒｆマグネト
ロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパ
ッタ法、コンベンショナルｒｆスパッタ法、コンベンシ
ョナルＤＣスパッタ法等を使用し得る。スパッタ法にお
いては、原材料は銀の板状のターゲットを用いればよ
く、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等を使用し得るが、好ましくはア
ルゴンが用いられる。ガスの純度は、９９％以上が好ま
しいが、より好ましくは９９．５％以上である。
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．１Ｐａ）以下で基
材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガスを
０．１ｍＴｏｒｒ（約０．１Ｐａ）以上導入させ、高周
波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよい。スパッ
タ法では、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ｒｆマグネト
ロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパ
ッタ法、コンベンショナルｒｆスパッタ法、コンベンシ
ョナルＤＣスパッタ法等を使用し得る。スパッタ法にお
いては、原材料は銀の板状のターゲットを用いればよ
く、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
クリプトン、キセノン等を使用し得るが、好ましくはア
ルゴンが用いられる。ガスの純度は、９９％以上が好ま
しいが、より好ましくは９９．５％以上である。
【００１１】銀薄膜層の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍ
が好ましく、より好ましくは６０ｎｍ〜１００ｎｍであ
る。５０ｎｍ未満では、銀の膜厚が十分でないために、
透過する光が存在し、反射率が十分でなくなる。一方、
膜厚を３００ｎｍを越えてもそれ以上反射率は上昇せ
ず、飽和傾向を示す上に、銀層の高分子フィルムに対す
る密着性が低下するので好ましくない。膜厚の測定は、
触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、
水晶振動子法等があるが、水晶振動子法では成膜中に膜
厚が測定可能なので所望の膜厚を得るのに適している。
また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に
成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜
時間により膜を制御する方法もある。
が好ましく、より好ましくは６０ｎｍ〜１００ｎｍであ
る。５０ｎｍ未満では、銀の膜厚が十分でないために、
透過する光が存在し、反射率が十分でなくなる。一方、
膜厚を３００ｎｍを越えてもそれ以上反射率は上昇せ
ず、飽和傾向を示す上に、銀層の高分子フィルムに対す
る密着性が低下するので好ましくない。膜厚の測定は、
触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、
水晶振動子法等があるが、水晶振動子法では成膜中に膜
厚が測定可能なので所望の膜厚を得るのに適している。
また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に
成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜
時間により膜を制御する方法もある。
【００１２】なお、銀薄膜層には、性能に害を及ぼさな
い程度の、金、銅、ニッケル、鉄、、コバルト、タング
ステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウ
ム、マンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよ
い。さらに、銀層を形成した後、図２に示すように、銀
層の保護やフィルムの滑り性の向上の目的のため、イン
コネル、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、モ
リブデン、タングステン等の単金属層もしくは合金層を
１０ｎｍ〜３０ｎｍ積層することが有効であることは、
当業者が理解しているところであろう。銀薄膜層を透明
高分子フィルム上に設ける際に、高分子フィルム表面
に、コロナ放電処理、グロー放電処理、表面化学処理、
粗面化処理等を行うことが銀薄膜層と高分子フィルムの
密着性を向上させる上で効果があることは当業者の技術
的常識の範囲であろう。
い程度の、金、銅、ニッケル、鉄、、コバルト、タング
ステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウ
ム、マンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよ
い。さらに、銀層を形成した後、図２に示すように、銀
層の保護やフィルムの滑り性の向上の目的のため、イン
コネル、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、モ
リブデン、タングステン等の単金属層もしくは合金層を
１０ｎｍ〜３０ｎｍ積層することが有効であることは、
当業者が理解しているところであろう。銀薄膜層を透明
高分子フィルム上に設ける際に、高分子フィルム表面
に、コロナ放電処理、グロー放電処理、表面化学処理、
粗面化処理等を行うことが銀薄膜層と高分子フィルムの
密着性を向上させる上で効果があることは当業者の技術
的常識の範囲であろう。
【００１３】本発明になる艶消し反射フィルムは、単独
で使用してもかまわないし、また、適当な成形物に接着
して使用しても良い。成形物に接着して使用する場合、
銀を形成した主面の銀層の面、もしくは、銀層面に形成
された他種の金属の面に接着層もしくは粘着層が設けら
れていることが、利用上有効である。さらに、接着剤、
もしくは、粘着剤に剥離容易な状態にて付着させられた
保護用のシートを設けることも使用上好ましい形態とみ
なせる。該保護用シートとしては、紙製、または、プラ
スチック製のシートが用いられる。用いる保護用シート
と、接着剤、もしくは、粘着剤の薄膜層との接着には、
容易な剥離を保証するために必要の応じて微量の離形剤
を分布介在させる。該保護用シートには、本発明の反射
体を所望の形状に裁断する場合の便宜ために。方眼状の
案内線が印刷することもできる。以下、実施例により本
発明の実施の態様の一例を説明する。
で使用してもかまわないし、また、適当な成形物に接着
して使用しても良い。成形物に接着して使用する場合、
銀を形成した主面の銀層の面、もしくは、銀層面に形成
された他種の金属の面に接着層もしくは粘着層が設けら
れていることが、利用上有効である。さらに、接着剤、
もしくは、粘着剤に剥離容易な状態にて付着させられた
保護用のシートを設けることも使用上好ましい形態とみ
なせる。該保護用シートとしては、紙製、または、プラ
スチック製のシートが用いられる。用いる保護用シート
と、接着剤、もしくは、粘着剤の薄膜層との接着には、
容易な剥離を保証するために必要の応じて微量の離形剤
を分布介在させる。該保護用シートには、本発明の反射
体を所望の形状に裁断する場合の便宜ために。方眼状の
案内線が印刷することもできる。以下、実施例により本
発明の実施の態様の一例を説明する。
【００１４】
実施例１ 帝人（株）製テトロンフィルムＧＳ（厚さ３８μｍ、全
光線透過率＝８８．５％、曇価＝２．３％）に、電子ビ
ーム式真空蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。
水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ８５
ｎｍであった。得れた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９５．６％、拡散反射率＝５．２％の反射フィル
ムを得た。
光線透過率＝８８．５％、曇価＝２．３％）に、電子ビ
ーム式真空蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。
水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ８５
ｎｍであった。得れた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９５．６％、拡散反射率＝５．２％の反射フィル
ムを得た。
【００１５】実施例２ 帝人（株）製テトロンフィルムＮＳ（厚さ２０μｍ、全
光線透過率＝８７．８％、曇価＝４．６％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
してフィルム上に膜厚１００ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル７５０をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得れた試料の全反射率と拡散反射率を分光
光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反射
率＝９５．２％、拡散反射率＝７．６％の反射フィルム
を得た。
光線透過率＝８７．８％、曇価＝４．６％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
してフィルム上に膜厚１００ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル７５０をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得れた試料の全反射率と拡散反射率を分光
光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反射
率＝９５．２％、拡散反射率＝７．６％の反射フィルム
を得た。
【００１６】実施例３ 帝人（株）製テトロンフィルムＳ３（厚さ２５μｍ、全
光線透過率＝８６．８％、曇価＝２．９％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
してフィルム上に膜厚１２０ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル６２５をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９４．４％、拡散反射率＝６．３％の反射フィル
ムを得た。
光線透過率＝８６．８％、曇価＝２．９％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
してフィルム上に膜厚１２０ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル６２５をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９４．４％、拡散反射率＝６．３％の反射フィル
ムを得た。
【００１７】実施例４ 帝人（株）製テトロンフィルムＶ（厚さ２５μｍ、全光
線透過率＝８６．０％、曇価＝６．４％）に、ｒｆマグ
ネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀を、ターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
して、フィルム上に膜厚１００ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積
層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分光光
度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反射率
＝９４．１％、拡散反射率＝１３．５％の反射フィルム
を得た。
線透過率＝８６．０％、曇価＝６．４％）に、ｒｆマグ
ネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀を、ターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
して、フィルム上に膜厚１００ｎｍになるように形成し
た。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、タングステンをさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚に積
層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分光光
度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反射率
＝９４．１％、拡散反射率＝１３．５％の反射フィルム
を得た。
【００１８】比較例１ 帝人（株）製テトロンフィルムＯ（厚さ１００μｍ、全
光線透過率＝８８．７％、曇価＝０．４％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、スパッタガスとして純度９９．５％のアルゴ
ンを用い、フィルム上に膜厚８０ｎｍになるように形成
した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル７５０をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９６．７％、拡散反射率＝１．７％の反射フィル
ムを得たが、充分な拡散反射率を得られなかった。
光線透過率＝８８．７％、曇価＝０．４％）に、ＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットとし、スパッタガスとして純度９９．５％のアルゴ
ンを用い、フィルム上に膜厚８０ｎｍになるように形成
した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、インコネル７５０をさらに銀薄膜層上に１０ｎｍ厚
に積層した。得られた試料の全反射率と拡散反射率を分
光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したところ、全反
射率＝９６．７％、拡散反射率＝１．７％の反射フィル
ムを得たが、充分な拡散反射率を得られなかった。
【００１９】比較例２ 帝人（株）製テトロンフィルムＳＭ（表面凹凸化処理、
厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８３．０％、曇価＝６
０．１％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９
９．９％の銀をターゲットとし、スパッタガスとして純
度９９．５％のクリプトンを用い、フィルム上に膜厚１
００ｎｍになるように形成した。そのフィルムをスパッ
タ装置から取り出すことなく、モリブデンをさらに銀薄
膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。得られた試料の全反射
率と拡散反射率を分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、全反射率＝９０．６％、拡散反射率＝７
１．７％の反射フィルムを得たが、充分な全反射率が得
られず、拡散反射率が著しく高いものになってしまっ
た。
厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８３．０％、曇価＝６
０．１％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９
９．９％の銀をターゲットとし、スパッタガスとして純
度９９．５％のクリプトンを用い、フィルム上に膜厚１
００ｎｍになるように形成した。そのフィルムをスパッ
タ装置から取り出すことなく、モリブデンをさらに銀薄
膜層上に１０ｎｍ厚に積層した。得られた試料の全反射
率と拡散反射率を分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測
定したところ、全反射率＝９０．６％、拡散反射率＝７
１．７％の反射フィルムを得たが、充分な全反射率が得
られず、拡散反射率が著しく高いものになってしまっ
た。
【００２０】比較例３ ユニチカマット処理ＰＥＴフィルム５０ＣＮＳ（厚さ２
５μｍ、全光線透過率＝８１．８％、曇価＝６９．３
％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして用い、てフィルム上に膜厚８０ｎｍ
になるように形成した。そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、タングステンをさらに銀薄膜層上
に１０ｎｍ厚に積層した。得れた試料の全反射率と拡散
反射率を分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したと
ころ、全反射率＝９０．２％、拡散反射率＝７８．７％
の反射フィルムを得たが、充分な全反射率が得られず、
拡散反射率が著しく高いものになってしまった。上記実
施例が示すように、本発明を用いることにより、全反射
率および拡散反射率が制御された艶消し反射フィルムを
得ることができる。なお、実施例、比較例において、気
体の透過率の試験はＪＩＳ００００によって測定した。
５μｍ、全光線透過率＝８１．８％、曇価＝６９．３
％）に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンを
スパッタガスとして用い、てフィルム上に膜厚８０ｎｍ
になるように形成した。そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、タングステンをさらに銀薄膜層上
に１０ｎｍ厚に積層した。得れた試料の全反射率と拡散
反射率を分光光度計（日立Ｕ−３４００）で測定したと
ころ、全反射率＝９０．２％、拡散反射率＝７８．７％
の反射フィルムを得たが、充分な全反射率が得られず、
拡散反射率が著しく高いものになってしまった。上記実
施例が示すように、本発明を用いることにより、全反射
率および拡散反射率が制御された艶消し反射フィルムを
得ることができる。なお、実施例、比較例において、気
体の透過率の試験はＪＩＳ００００によって測定した。
【００２１】
【発明の効果】本発明に従えば、蛍光灯や白熱灯の反射
材に好適に用いることができる艶消し反射体を提供する
ことができる。
材に好適に用いることができる艶消し反射体を提供する
ことができる。
【図１】艶消し反射フィルムの断面構造を示す図
【図２】艶消し反射フィルムの断面構造を示す図
１０ 透明高分子フィルム ２０ 銀薄膜層 ３０ 金属層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−160305（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−98842（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−87543（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−339642（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−110445（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−222742（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−226103（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B32B 15/08 G02B 5/08
Claims (3)
- 【請求項１】 透明高分子フィルムの一方の主面上に銀
薄膜層が形成されたフィルムであって、該銀薄膜層が形
成されていない主面から測定される全反射率が９４％以
上であり、かつ、拡散反射率が４％乃至１４％である艶
消し反射フィルム。 - 【請求項２】 透明高分子フィルムの、波長５５０ｎｍ
の光に対する透過率が８５％以上であり、かつ、曇価が
２％乃至７％である請求項１に記載の艶消し反射フィル
ム。 - 【請求項３】 透明高分子フィルム内に、添加剤が加え
られている請求項１もしくは２に記載の艶消し反射フィ
ルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17971093A JP3250876B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 艶消し反射フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17971093A JP3250876B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 艶消し反射フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0732536A JPH0732536A (ja) | 1995-02-03 |
| JP3250876B2 true JP3250876B2 (ja) | 2002-01-28 |
Family
ID=16070524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17971093A Expired - Lifetime JP3250876B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 艶消し反射フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3250876B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5938389A (en) * | 1996-08-02 | 1999-08-17 | Crown Cork & Seal Technologies Corporation | Metal can and method of making |
-
1993
- 1993-07-21 JP JP17971093A patent/JP3250876B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0732536A (ja) | 1995-02-03 |
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