JP3447175B2

JP3447175B2 - 反射体及びそれを用いた反射部材

Info

Publication number: JP3447175B2
Application number: JP13551296A
Authority: JP
Inventors: 悟志川本; 優実後藤; 福田　　伸; 信弘福田
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 1995-05-31
Filing date: 1996-05-29
Publication date: 2003-09-16
Anticipated expiration: 2016-05-29
Also published as: JPH09150482A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射率の高い銀を
反射層として透明高分子フィルム上に積層して構成した
反射体及びそれを用いた反射部材に関する。更に詳しく
は、耐光性、耐熱性に優れた銀を用いた反射体及びそれ
を用いた反射部材に関する。本発明の反射体および反射
部材の使用例としては、液晶表示装置のバックライトの
ランプハウス、プリンター及びＦＡＸ等に用いられる反
射鏡、蛍光灯の反射傘、ストロボの反射傘、コンパクト
の鏡等が挙げられるが、これ以外にもほとんどすべての
光反射体を挙げることができる。

【０００２】

【従来の技術】銀は可視光域及び赤外域に高い反射率を
持ち、また電気及び熱の伝導率が金属中で最大であるこ
とから、可視光線反射材料及び熱線反射材料、電気配線
材料として注目されている。一般的に、大気中で酸化す
ることはないが、大気中の亜硫酸ガス、硫黄と反応し黒
色の硫化銀を生成する。また、オゾンと反応し黒色の酸
化銀（ＡｇＯ）を生成する。

【０００３】大気による銀の硫化を防止する方法として
は、銀を合金化する方法が知られている。例えば、電気
接点用には、３〜４０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、また、
Ｃｄを含む銀が、更には１０ｗｔ％のＡｕを含む銀が用
いられている。また、歯科用には２５ｗｔ％のＰｄと１
０ｗｔ％のＣｕを含む銀が、装飾用には５〜２０ｗｔ％
のＣｕを含む銀が用いられている。また、銀の実用性能
に関しては「貴金属の実際知識」山本勇三編著、東洋経
済新報社昭和５７年頁７２〜１５３に詳しく述べら
れている。

【０００４】その他の硫化防止方法としては、銀を金属
層または金属酸化物層、金属硫化物層、合金層、下塗り
樹脂層、保護樹脂層により被覆する方法が知られてい
る。例えば硝子上に銀を成膜した後に、ＣｕとＳｎから
なる合金層を積層し、更に樹脂層を積層することにより
銀の腐食を防止し、また、耐スクラッチ性を高める方法
が知られている（特開昭４８−１８５３８）。また、本
発明者等においても、銀薄膜層の両面にアルミ、チタン
等からなる金属層を用いることにより、銀薄膜層の光、
熱、ガス等による腐食を防止することができることが示
されている（特開平１−２７９２０１）。

【０００５】近年、反射体として銀を用いた高反射率の
反射体が液晶表示装置のバックライト部のランプリフレ
クターを中心に、蛍光灯の反射傘等に用いられている。
これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄
膜層／接着剤層／アルミ板の層構成からなるいわゆる反
射板（銀反射板）や、ＰＥＴ／銀薄膜層／接着剤層／ア
ルミ薄膜層／ＰＥＴ／光遮蔽層からなるいわゆる反射シ
ート（銀反射シート）である。これらは、透明高分子フ
ィルムであるＰＥＴと接着剤層により銀を被覆すること
により従来からの問題点であった大気曝露による銀の硫
化、酸化を防止し、高反射率を維持することに成功し
た。たとえば上記銀反射板および銀反射シートを８０℃
の恒温槽中に１０００時間放置したが、硫化等による黒
色、黄色の変色は観察されず、また反射率も低下しなか
った。また６０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽に１０００
時間放置したが同様に変色及び反射率の低下は観察され
なかった。

【０００６】ところが本発明者らはＱ−ＰＡＮＥＬ社
（米国）のＱＵＶ試験器を用いて、上記銀反射板及び銀
反射シートの紫外線照射試験を行ったところ、反射面が
赤紫色に変色するという結果を得た。これらはこれまで
に一般的に知られていた銀の硫化、酸化による黒色、黄
褐色、黄色といった色とは明らかに異なり、またＰＥＴ
フィルム自身の紫外線劣化による黄変とも異なってい
た。そこで光照射下において起こる銀薄膜の反射率低下
を光劣化と呼ぶことにした。これらに対して我々は、波
長３８０ｎｍから３００ｎｍにおける光線の透過率が、
１０％以下である可撓性の基板の片面に銀を含む金属薄
膜を積層することにより、可視光線での反射率を著しく
低下することなく、光（紫外線）、熱などに対する耐久
性を改善した反射体（特開平５−１６２２２７）を提案
してきた。

【０００７】本発明者らは透明高分子フィルム／銀から
なる反射体の紫外線劣化に関して更に検討を行ったとこ
ろ、驚くべきことに、紫外線を除いた可視光照射におい
ても同様に赤紫色に変色することを見いだした。更に、
該可視光による光劣化は、常温では非常にゆっくりと進
行するものの、高温下では急速に進行することをも見出
した。よって今後この劣化を「光熱劣化」と呼ぶことに
する。

【０００８】図１は光熱劣化したサンプルの断面透過電
子顕微鏡写真（断面ＴＥＭ写真）である。試料はＰＥＴ
上に銀薄膜を設けたＰＥＴ／Ａｇからなる反射体であ
り、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²、サンプル温度１００
℃の促進劣化試験（光熱劣化促進試験）を３００時間行
ったものである。ＰＥＴと銀の界面において、直径数十
ｎｍの粒子が観察された。ＰＥＴから銀薄膜層が部分的
に剥離するとともに、ＰＥＴと銀の界面において直径数
＋ｎｍの粒子が観察され、この粒子はＰＥＴ中に侵入し
ていることが分かった。この粒子を電子線プローブマイ
クロアナライザー（ＥＰＭＡ）にて分析したところ銀で
あることが分かった。

【０００９】本発明者らが得た知見に基づいて光熱劣化
の特徴を以下にまとめる。（１）光熱劣化は高分子フィ
ルムと銀薄膜層の界面に特有の劣化である。（２）ＥＰ
ＭＡにて光熱劣化部分を分析したところ、従来の銀の劣
化で検出された硫黄、塩素、酸素が検出されなかった。
（３）高分子フィルムと銀薄膜層の界面以外の銀薄膜部
分では劣化が観察されない。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、本発明者ら
が見いだした新規な課題である光熱劣化による反射体の
変色を防止することを目的とする。更に詳しくは、高温
下の光照射において顕著に観察される反射体の変色を防
止し、光照射後も９０％以上の反射率を維持することを
目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明者ら
は、かかる問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結
果、透明高分子フィルム（Ａ）の片面に金属を含むプラ
ズマによる表面処理を行い、更に該表面処理面に銀薄膜
層（Ｂ）を形成することにより、透明高分子フィルムと
銀薄膜層の界面においておこる変色を抑え、３００時間
の光熱劣化促進試験後も反射率が９０％以上である反射
体を実現することが可能であること見いだした。本発明
はかかる知見によりなされるに至ったものである。すな
わち、本発明は、以下の発明特定事項により特徴ずけら
れる。

【００１２】（項１）少なくとも、透明高分子フィル
ム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）からなる構成ＡＢの透明高分
子フィルム側を反射面とする反射体にして、３９０ｎｍ
以下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²
の擬似太陽光を、反射体温度１００℃で３００時間照射
後でも反射率が９０％以上を保つ反射体。（項２）透明高分子フィルム（Ａ）の片面に金属を含
むプラズマによる表面処理を行って表面処理面とし、更
に、該表面処理面に前記銀薄膜層（Ｂ）を形成してなる
項１に記載の反射体。

【００１３】（項３）金属を含むプラズマによる表面
処理により、透明高分子フィルム処理面に付着する金属
原子が、４×１０¹⁴原子／ｃｍ²乃至２×１０¹⁶原子／
ｃｍ²である項２に記載の反射体。（項４）金属を含むプラズマによる表面処理におい
て、該金属がＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、およびＷか
ら選択された一種である項２または項３に記載の反射
体。

【００１４】（項５）項１乃至４に記載の反射体の銀
薄膜層（Ｃ）側を支持体に接着剤層を介して積層してな
る反射部材。（項６）支持体が金属板または高分子フィルムである
項５に記載の反射部材。

【００１５】（項７）金属板がアルミ板、真鍮板、ス
テンレス板および鋼板から選択された一種である項６に
記載の反射部材。（項８）項１乃至４に記載の反射体（Ｃ）と、接着剤
層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｅ）と、光遮蔽層（Ｆ）
とがこの順で積層してなる構成ＣＤＥＦの反射部材であ
って、該反射体（Ｃ）の銀薄膜層側を、接着剤層側とす
る反射部材。

【００１６】（項９）項１乃至４に記載の反射体
（Ｃ）と、接着剤層（Ｄ）と、金属層（Ｇ）と高分子フ
ィルム（Ｈ）と、光遮蔽層（Ｆ）からなる構成ＣＤＧＨ
ＦまたはＣＤＨＧＦの反射部材であって、該反射体
（Ｃ）の銀薄膜層側を該接着剤側層とする反射部材。（項１０）波長３８０〜３００ｎｍにおける光線透過
率が１０％以下である透明高分子フィルム（Ａ）を用い
た項１乃至４のいずれかに記載の反射体。（項１１）波長３８０〜３００ｎｍにおける光線透過
率が１０％以下である透明高分子フィルム（Ａ）を用い
た項５乃至９に記載のいずれかに記載の反射部材。

【００１７】

【発明の実施の形態】先ず、添付図面について説明する
に、図１はすでに述べたように、光熱劣化を起こした反
射体の断面の透過電子顕微鏡写真であり、図２は本発明
の最も簡単な反射体の構造断面図であり、図３は図２に
示した反射体と金属板５０とを接着剤層４０を介してラ
ミネートして作製した反射部材の構造断面図であり、図
４は図２に示した反射体と高分子フィルム６０とを接着
剤層４０を介してラミネートして作成した反射部材の構
造断面図であり、図５は図４に示した反射部材に更に光
遮蔽層７０を積層した反射部材であり、図６は図５に示
した反射部材の接着剤層４０と高分子フィルム６０との
間に金属層８０を設けた反射部材であり、図７は図５に
示した反射部材の高分子フィルム６０と光遮蔽層７０の
間に金属層８０を設けた反射部材である。図８はプラズ
マ処理を施されていない透明高分子フィルム表面の微細
構造を表すＡＭＦ像であり、図９は金属を含むプラズマ
による表面処理を施した透明高分子フィルム表面の微細
構造を表すＡＭＦ像であり、図１０は透過限界波長が３
９０ｎｍであるＵＶカットフィルタを通して得られた疑
似太陽光のスペクトルを示すグラフであり、図１１は反
射体への光照射時間と反射体の反射率との関係の一例を
示すグラフである。

【００１８】我々がここで言う反射体とは、大気などの
媒質から反射体に入射する光を元の媒質に戻す物体のこ
とであり、主にここでは可視領域の光の９０％以上を、
元の媒質に戻す物体のことであり、更に好ましくは可視
領域の光の９２％以上を元の媒質に戻す物体のことであ
る。

【００１９】図２を用いて本発明の反射体による反射の
概略を説明すると、透明高分子フィルム１０側から入射
した光９０は、そのほとんどが透明高分子フィルム１０
及び金属を含むプラズマによる表面処理面２０を透過
し、銀薄膜層３０に達し、銀薄膜層３０で反射し、金属
を含むプラズマによる表面処理面２０及び透明高分子フ
ィルム１０を透過し、再び元の媒質中に戻る。

【００２０】図３に示した反射部材は接着材層１０を介
して図２に示す反射体と金属５０とを積層した構成であ
り、銀薄膜層が接着剤層４０と接しているこの反射部材
の製造方法としては、透明高分子フィルム１０の片面に
金属を含むプラズマによる表面処理を行って表面処理面
２０を形成し、更に該表面処理面２０に銀薄膜層３０を
形成し、該銀薄膜層３０面に接着剤層４０を塗布し、該
接着剤層と金属板５０とをラミネートする方法があげら
れる。接着剤層と金属板とのラミネートは接着剤の塗布
後に引き続いて行うのが一般的であるが、これ以外に
も、塗布工程とラミネート工程を分離して行うこともで
きる。例えば熱可塑性のポリエステル系接着剤を用いた
際には、塗布済みの接着剤を熱ロールで溶融させること
により、任意の時点にラミネートを行うことができる。

【００２１】図４に示した反射部材は、接着剤層４０を
介して図２に示す反射体と別の高分子フィルム６０とを
積層した構成であり、銀薄膜層３０が接着剤層４０と接
している。この反射部材は、図３における金属板５０を
高分子フィルム６０に置き換えたものであり、図３に示
した反射部材と同様に製造することができる。図５に示
した反射部材は図４の反射部材に更に光遮蔽層３０をコ
ーティングにより塗布することで製造できる。

【００２２】図６に示した反射部材は、図５に示した反
射部材における接着剤層４０と高分子フィルム６０との
間に金属層８０を設けた構成のものであり、高分子フィ
ルム６０の代わりに、高分子フィルム６０に蒸着等によ
りあらかじめ金属層８０を成膜したフィルムを用い、高
分子フィルムの金属層８０側を接着剤層４０側としてラ
ミネートすることで製造できる。

【００２３】図７に示した反射部材は図６における、高
分子フィルム６０にあらかじめ蒸着等により金属層８０
を成膜したフィルムを、高分子フィルム６０側を接着剤
層４０側としてラミネートすることで製造できる。

【００２４】本発明における透明高分子フィルムには、
ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ
スチレン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリイミド（ＰＩ）、三酢酸セルロース系樹脂、
ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、フッ素系
樹脂等が使用できるが、必ずしもこれらに限定されるわ
けではなく、透明であり、ある程度ガラス転移温度が高
いものであれば使用できる。

【００２５】透明高分子フィルムの厚みには限定的な値
はないが、好ましくは１０〜２００μｍ程度が、より好
ましくは１０〜１００μｍ程度が、更により好ましくは
２５〜５０μｍ程度が用いられる。

【００２６】使用する透明高分子フィルムの光学特性と
しては、波長５５０ｎｍの光線透過率が８０％以上であ
ることが好ましい。より好ましくは、波長５００〜６０
０ｎｍの範囲の光に対して光線透過率が８０％以上であ
り、更に好ましくは波長４００〜８００ｎｍの範囲の光
に対して光線透過率が８０％以上である。光線透過率が
８０％よりも低いと、反射体とした時の反射率が９０％
を下回り、反射体としての性能上好ましくない。

【００２７】なお、銀の耐光性を向上させるために透明
高分子フィルムが紫外線を吸収する特性を有することが
好ましいことは、本発明者らが既に提案している（ＵＳ
−５２７６６００）。波長３８０ｎｍ〜３００ｎｍにお
ける光線透過率が１０％以下である透明高分子フィルム
とは、紫外線吸収剤などが混合されたプラスチックフイ
ルム、紫外線吸収剤や酸化亜鉛などの紫外線をカットす
る層が形成されたプラスチックフイルム等である。

【００２８】好ましい該透明高分子フィルムを例示する
と、紫外線吸収剤を含んだ二軸延伸ポリプロピレン、同
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、同ポリエチレ
ンナフタレート（ＰＥＮ）、同ポリブチレンテレフタレ
ート（ＰＢＴ）、同アクリル樹脂、同ポリエーテルイミ
ド、同ポリイミドなどのホモポリマーまたはコポリマー
が挙げられる。特に好ましくは、紫外線吸収剤を含んだ
ＰＥＴが好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤や、ベンゾフェノン
系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤が
挙げられる。

【００２９】銀薄膜の形成法としては、湿式法および乾
式法がある。湿式法とはメツキ法の総称であり、溶液か
ら銀を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げ
るとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真
空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵
抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着
法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的
に成膜するロールツロール方式が可能な真空成膜法が好
ましく用いられる。

【００３０】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以下で
基材表面に銀を蒸着させる。

【００３１】イオンプレーティング法では、真空中にア
ルゴン等のガスを０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）
以上導入し、高周波もしくは直流のグロー放電を起こ
し、銀の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱等で
溶融させ、蒸気圧を上昇させ基材表面に銀を成膜する。

【００３２】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスには、ヘリウム、ネ
オン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以
上である。

【００３３】本発明において銀薄膜層の厚さは、７０ｎ
ｍ〜３００ｎｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ
〜２００ｎｍである。これがあまり薄いと、銀の膜厚が
十分でないために透過する光が存在し反射率が低下す
る。一方、これが厚すぎる場合は、反射率は上昇せず飽
和傾向を示す上に、銀の資源を有効に利用するという観
点からも好ましくない。

【００３４】銀薄膜層には、性能に害を及ぼさない程度
の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、
モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、マンガ
ン、チタン、アルミ等の金属不純物が含まれてもよい。
使用する銀層の純度は９９％以上が好ましく、より好ま
しくは９９．９％以上、更により好ましくは９９．９９
％以上である。

【００３５】本発明において銀薄膜層などの各膜厚の測
定は、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバラ
ンス、水晶振動子法等によって行うことができる。中で
も水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能なので所望
の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条
件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と
膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜を制御する
方法もある。

【００３６】本発明においては、透明高分子フィルム
に、金属を含むプラズマによる表面処理を行い、この表
面処理上に銀薄膜層を設けることが好ましい。本発明に
おいては、このような表面処理を行うことによって、透
明高分子フィルムと銀薄膜層との界面において起こる光
熱劣化が抑えられるようになると考えられる。以下、本
発明で言う金属を含むプラズマ処理に関して以下に詳し
く例示する。

【００３７】金属を含むプラズマは、例えば真空装置内
に放電ガスを導入し、ＤＣグロー放電またはＲＦグロー
放電によりプラズマを生成したところに、電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で蒸発させた金属の蒸発粒子を導
入することで得ることができる。また、グロー放電によ
るプラズマ中で金属のハロゲン化物、水素化物等を分解
反応させることにより金属を含むプラズマを得ることが
できる。また、所望の金属を陰極にしたＤＣグロー放電
またはＲＦグロー放電によりプラズマを発生することに
より、金属を含むプラズマを得ることもできる。簡易的
な方法として所望金属を陰極とするスパッタ法により得
ることができる他に、上記以外の既存の蒸着法（アーク
蒸着法、レーザー蒸着法、クラスターイオンビーム蒸着
等）とＲＦ及びＤＣグロー放電によるプラズマとを組み
合わせることによっても金属を含むプラズマを得ること
ができる。

【００３８】本発明において、金属を含むプラズマによ
る表面処理方法に用いられる金属としては、Ｔｉ，Ｖ，
Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇａ，Ｇ
ｅ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｃｄ，Ｉｎ，
Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｎｄ，Ｓｍ、Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔａ，
Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｐｂ，Ｂｉ等があ
げられる。なかでもＴｉ、Ｗ、Ｃｒ、Ｖ、Ｚｎ、Ｃｕが
好ましい。なお、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉを用いた場合は本発
明の目的を達成できない。

【００３９】本発明でいう金属を含むプラズマによる表
面処理とは、上記金属を含むプラズマに、透明高分子フ
ィルム表面を曝露することにより達成できる。その際、
フィルム温度が上昇しないように裏面より透明高分子フ
ィルムを冷却することがある。また、ロールツロール装
置を用いることにより長尺のフィルムを連続的に金属を
含むプラズマにより処理することが可能になるので、工
業的には該装置が工業的に好ましく用いられる。

【００４０】金属を含むプラズマによる表面処理の処理
量は、透明高分子フィルムの処理面に付着した金属原子
量を用いて表すことができる。該処理面に付着する金属
の量は好ましくは４×１０¹⁴原子／ｃｍ²乃至２×１０
¹⁶原子／ｃｍ²であり、より好ましくは５×１０¹⁴原子
／ｃｍ²乃至１×１０¹⁶原子／ｃｍ²であり、さらによ
り好ましくは１×１０¹⁵原子／ｃｍ²乃至８×１０¹⁵原
子／ｃｍ²であり、さらにさらにより好ましくは２×１
０¹⁵原子／ｃｍ²乃至６×１０¹⁵原子／ｃｍ²である。
表面処理面に付着する金属の量があまり少なすぎると本
発明の目的とする光熱劣化に対する十分な効果が得られ
ない。またあまり多すぎると、初期反射率が低下し、本
発明の目的の一つである９０％以上の反射率が得られな
い。

【００４１】付着金属の量は、膜厚モニター等で測定で
きるが、上記した範囲の金属原子の量では、蒸着金属層
が連続膜にはなっていないと考えられるので、一般的に
は連続膜として考えられる１００ｎｍ程度の膜を形成し
た際に要した時間を参考に、表面処理時間から計算で求
めることができる。

【００４２】具体的には、ｔ（秒）間、ある特定の条件
において表面処理を行った際に付着した金属層の膜厚が
Ｄ（ｎｍ）であったとすると、該金属の密度ρ（ｇ／ｃ
ｍ³）、原子量Ｍから、付着した金属の量Ｎ（原子／ｃ
ｍ²）は、Ｎ＝Ｄ×ρ×６．０２×１０¹⁶／Ｍなる式で
求めることができる。従って、所望の、金属量ｎ（原子
／ｃｍ²）を表面に付着させるには、同じ処理条件にて
ｔ×（ｎ／Ｎ）秒間処理を行えばよいことになる。ま
た、水晶発振子を用いた膜厚モニターを使用する場合に
は、測定される周波数の減少がδｆ（Ｈｚ）であったと
きに、付着した金属の量がＮ（原子／ｃｍ²）であれ
ば、実際にｎ（原子／ｃｍ²）だけの金属を付着させる
のに必要な周波数の減少はδｆ×（ｎ／Ｎ）で計算でき
る。

【００４３】実際の計算例を示すと、ＰＥＴ表面にチタ
ンを含むプラズマ処理を施し、連続な膜であると考えら
れる厚みの１００ｎｍの膜が形成されるほどチタン原子
を付着させるときに１０００秒間の時間を要した。付着
したチタンの量は上記式より約６×１０¹⁷原子／ｃｍ²
である。従って、該チタンを含むプラズマ処理条件にて
３×１０¹⁵原子／ｃｍ²のチタン原子を付着させるため
には、１０００秒×（３×１０¹⁵原子／ｃｍ²）／（６
×１０¹⁷原子／ｃｍ²）＝５秒より、５秒間処理をすれ
ばよいことになる。

【００４４】金属を含むプラズマによる表面処理を行う
にあたって重要な点は以下の２点である。１つには、初
期反射率が９０％以下になるほど該表面処理を行っては
ならないこと。２つには、透明高分子フィルムの銀薄膜
層を積層する面に、光熱劣化を抑制するに十分な表面処
理を行うことである。なお、金属を含むプラズマによる
表面処理の前に、透明高分子フイルム表面に、コロナ放
電処理、グロー放電処理、表面化学処理、粗面化処理等
を行うことは銀薄膜層と高分子フィルムの密着性を向上
させる手段として当業者が用いる常套手段であろう。

【００４５】金属を含むプラズマによる表面処理を行っ
た透明高分子フィルム表面がどの様に変化しているかに
ついての詳細は明らかではない。しかしながら、本発明
者らは、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope；
ＡＦＭ）により得られた表面の微細構造を得ることに成
功した。ＡＦＭでは原子オーダーの先端形状を有する探
針の先端と表面原子との間に働く斥力もしくは引力を検
出し、表面形状の状態を得る。図８は該表面処理を行っ
ていない透明高分子フィルム（ＰＥＴ）表面の微細構造
であり、図９は該表面処理を行った透明高分子フィルム
（ＰＥＴ）表面である。図８では探針が高分子表面を引
っかい様な痕跡が見られ、明確な像が得られていない
が、図９では探針による傷がなく明確な像が得られた。
図８と図９における像の違いは直感的には該表面処理に
より高分子表面の硬さが変化したために、探針の食い込
みが減少したためであると考えられるが、物理的には表
面近傍における探針と表面の間に働く力が変化したため
であると考えられる。探針と表面の間に働く力の曲線
（フォースカーブ）を比較したところ、表面処理を行わ
ないＰＥＴフィルムでは表面近傍できわめて急峻な変化
をするのに対して、表面処理を行ったＰＥＴフィルムで
は緩やかな曲線に変化していることが明らかとなった。
また、図９からはＰＥＴフィルム表面の凸凹が段差にし
た約１０ｎｍであることもわかった。

【００４６】高分子表面に付着した金属は非常に少量で
あるので表面に局在しているものと考えられる。仮に、
理想的に平坦な表面に金属原子が一層ずつ整然と積み上
がっていくとしても、金属原子の付着量が５×１０¹⁴〜
１×１０¹⁶原子／ｃｍ²では金属原子が０．５層〜１０
層積み上がっているにすぎない。その高さはせいぜい
０．１〜数ｎｍである。この値は図９より明らかなよう
にＰＥＴフィルム表面の凹凸約１０ｎｍに比べて非常に
小さい。よって、本発明による金属を含むプラズマによ
る表面処理を施した後の透明高分子フィルム表面におい
ては、金属は局所的（例えば高分子フィルムを構成する
官能基上）に付着していると考える方が自然であり、む
しろ好ましい形態であるといえる。例えば、Ｌ．Ｊ．Ｇ
ｅｒｅｎｓｅｒ（ＪａｎａｒａｌｏｆＶａｃｃｕｍ
ＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｃｃｈｎｏｌｏｇｙ
Ａ，８刊、頁３６８２（１９９０年））は、ＰＥＴフィ
ルム上の銀原子の反応サイトを調査し、銀原子はカルボ
キシル基と反応しやすいと結論している。

【００４７】透明高分子フィルム表面に付着した金属の
量は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、ラザフォード後方
散乱分光法（ＲＢＳ）、付着金属を溶解させた後に行う
誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分光法、２次イオン質
量分析法（ＳＩＭＳ）、レーザー誘起蛍光分光法（ＬＩ
Ｆ）、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）等で調査が可能であ
る。実際の定量は、ＩＣＰやＲＢＳが好ましく用いられ
るが、実用的にはＸＰＳが好ましい。ＸＰＳで実際に測
定する時には、０電子の脱出深さを考慮して付着金属量
の評価を行う。例えば、Ｔｉを含むプラズマ処理をした
後のＸＰＳによるＴｉの表面濃度が、８０％であったと
する。光電子の平均的な脱出深さは、２原子層であるか
ら、３×１０¹⁵（２原子層）×０．８＝２．４×１０¹⁵
原子／ｃｍ ²の原子が付着していると評価できる。な
お、ＸＰＳの測定値を前もってＩＣＰにより校正してお
くことで測定精度が向上する。

【００４８】透明高分子フィルムに対して、金属を含む
プラズマによる表面処理を行い、該表面処理面に銀薄膜
層を形成した後、さらに銀薄膜層の保護やフィルムの滑
り性の向上の目的のため、クロム、ニッケル、チタン、
アルミニウム、モリブデン、タングステン等の単金属も
しくは合金、またはインコネル、インコロイ、モネル、
ハステロイ、ステンレス、ジェラルミン等の合金層を１
０ｎｍ〜３０ｎｍ積層することが有効である。

【００４９】かくして作製された本発明の反射体の反射
率は、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９
２％以上であり、更に好ましくは９４％以上である。な
お、本発明において、反射率は特に明記しない限り、５
５０ｎｍの波長の光に対しての値をいうものとする。

【００５０】光照射後の反射体の劣化の程度を調べる光
熱劣化促進試験（光促進劣化試験とも言う）の照射光と
しては、３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた、照射強度
５００ｍＷ／ｃｍ2 の擬似太陽光を用いる。擬似太陽光
とは、屋外での晴天時の太陽光と同様なスペクトルを持
つ光である。具体的には、キセノンランプに光学フィル
ムターを組み合わせて疑似太陽光スペクトルを得るので
ある。さらに、ＵＶカットフィルターにより、３９０ｎ
ｍ以下の波長の光をカットする。こうして得られた光の
照射強度をサンプル表面でおよそ５００ｍＷ／ｃｍ2 と
し、光熱劣化促進試験を行った。この様にすることによ
り産業上問題となる透明高分子フィルムと銀薄膜との界
面で発生する光劣化を短時間で発生させることが可能な
のである。

【００５１】ここで注意しなければならないのは、光熱
劣化促進試験の照射光が、３９０ｎｍ以下の波長の光を
除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の疑似太陽光であ
ると書いてあっても、実際には、透過限界波長が３９０
ｎｍであるＵＶカットフィルターを用いて紫外線をカッ
トした照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の疑似太陽光を光熱
劣化促進試験に用いていることである。

【００５２】したがって、本発明の反射体は、反射体温
度を１００℃に保ち、透過限界波長が３９０ｎｍである
ＵＶカットフィルタを用いて紫外線をカットした照射強
度５００ｍＷ／ｃｍ²の類似太陽光を３００時間照射し
たときに、波長５５０ｎｍでの反射率が９０％以上を保
つ反射体のことである。

【００５３】透過限界波長とは、例えば透過率がＡ％に
なる波長と、透過率がＢ％になる波長の中間値で表され
ていることが多く（例えば透過率が７２％になる波長と
５％になる波長の中間の波長を言う）、これらの値と実
質的に除かれる波長の値が異なることは当業者の知ると
ころである。

【００５４】図１０に本発明において用いられ、また、
以下に述べる実施例で用いられた透過限界波長が３９０
ｎｍのＵＶカットフィルターを通して得られた疑似太陽
光のスペクトルの一例を示す。このスペクトル図より、
今回用いた照射光は、実質的には３６０ｎｍ以下の紫外
光を除いた光であるということもできる。

【００５５】透過限界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフ
ィルターとしてはシグマ光機（株）のシャープカットフ
ィルター品番ＳＣＦ−５０Ｓ−３９Ｌ（透過限界波長３
９０ｎｍ、波長３６０ｎｍにおける透過率が１％以下）
が、また、東芝化成工業（株）のシャープカットフィル
ターＬ−３９（透過限界波長３９０ｎｍ、波長３６０
ｎｍにおける透過率が１％以下）がある。光学特性にお
いてはほぼ同様であり、どちらを用いても同様の試験結
果が得られている。

【００５６】光熱劣化促進試験は、試料に上記光を照射
すると共に、さらにサンプルを１００℃に加熱して行っ
た。１００℃に加熱することにより更に劣化が促進され
る。試料の加熱は、試料を保持したアルミ板の下に板状
のヒーターを設置し、このヒーターを温調機（温度コン
トローラー）で制御することで行った。温調はアルミ板
上に密着させた熱電対により温度を測定し行った。

【００５７】本発明の反射部材は、上述した本発明の反
射板を、例えば、金属板または高分子シートからなる支
持体に、接着剤層を介して固定したものである。ラミネ
ートに用いられる接着剤（粘着剤も含む）としては、ポ
リエステル系接着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接
着剤、シリコン系接着剤、エポキシ系接着剤、メラミン
系接着剤等があげられるが、必ずしもこれらの種類に限
定されるわけではなく、実用上の接着強度があれば任意
のものを使用できる。接着強度としては１８０度ピール
強度の測定値が１００ｇ／ｃｍあれば十分であり、好ま
しくは５００ｇ／ｃｍであり、より好ましくは１０００
ｇ／ｃｍである。あまりに接着強度が小さいと、反射体
として曲率半径１〜５ｍｍ程度に曲げた時に、透明高分
子フィルム側が金属板または高分子シートより浮き上が
る等の事態を引き起こすのであまり好ましくない。

【００５８】接着剤層の厚みとしては、０．５μｍ〜５
０μｍが好ましく、より好ましくは１μｍ〜２０μｍで
あり、更に好ましくは２μｍ〜１０μｍである。あまり
に厚すぎると材料費の点からコスト増となり好ましくな
い。あまりに薄すぎると十分な接着強度が得られない。

【００５９】接着剤の塗布方法としては、バーコート
法、メイヤーバーコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、ダイコート法等があげられるが、これらは
使用する接着剤の種類、粘度、塗布量、塗布速度、得ら
れる面状態等を考慮して選定される。

【００６０】本発明の反射体には、銀薄膜層と反対側の
透明高分子フィルム上に、透明な保護層を設けても良
い。このような保護層により、反射体の表面硬度、耐光
性、耐ガス性、耐水性など外的環境因子の影響をさらに
抑制することができる。このような保護層の形成に利用
できる物質の例としては、例えば、ポリメタクリル酸メ
チルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、
ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケ−トより
得られる重合体などの珪素樹脂、ポリエステル樹脂、フ
ッ素樹脂などの有機物質の他に酸化珪素、酸化亜鉛、酸
化チタンなどの無機物質が有用である。４００ｎｍ以
下、好ましくは３８０ｎｍ以下の波長の光をカットし、
好ましくは１０％以下にカットする能力を有するものを
積層することは銀層の光劣化（紫外線劣化）を防止する
上で好ましい。

【００６１】透明保護層の形成方法としては、コ−ティ
ング、フィルムのラミネ−トなど、既存の方法があげら
れる。また、この透明保護層の膜厚は、光反射能を低下
させず、かつ可撓性を損なわない範囲で、保護効果を発
揮する必要があり、その材料、用途に応じて適宜変更し
て用いられる。

【００６２】支持体として用いられる金属板としては、
アルミ板、アルミ合金板、真鍮板、ステンレス板、鋼板
等が上げられるが、必ずしもこれらに限定されるわけで
はなく、反射部材の用途により選択される。例えば、ア
ルミは軽量かつ加工性に優れ、また熱伝導率が高くそれ
にかかる熱を効果的に大気中に逃がすことができるた
め、ノートパソコンなどのＬＣＤのバックライトに用い
られる反射部材に好適に利用できる。アルミ合金は軽量
かつ機械的強度が強いことから、構造部材を兼ねる反射
部材に好適に利用できる。ステンレスは機械的強度が高
度にあり、また耐食性にすぐれているので、屋外で使用
される反射部材をはじめ、材料の薄板化が必要な用途に
好適に用いられる。真鍮（黄銅）、すなわち銅亜鉛合金
は機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易なた
めアースを必要とする反射部材に好適に用いられる。鋼
板は安価であることから、コストを優先する用途である
蛍光灯用反射傘等に好適に用いられる。

【００６３】支持体として用いられる高分子フィルムと
しては、二軸延伸ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレ−ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ−ト（ＰＥ
Ｎ）、ポリブチレンテレフテレ−ト（ＰＢＴ）、アクリ
ル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリエーテルサルホン（Ｐ
ＥＳ）、ポリエ−テルエ−テルケトン（ＰＥＥＫ）、ポ
リアリレ−ト、ポリエ−テルイミド、ポリイミドなどの
ホモポリマ−またはコポリマ−があげられる。特に好ま
しくは、ポリエチレンテレフタレートフィルムであり、
該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白色の
ものが好まれる。支持体としての高分子フィルムの厚み
は、コスト低減及び、曲げ易さからは薄い方が好まし
く、銀薄膜層等とラミネートする際の取扱い（ハンドリ
ング）性及び形状保持性からは、厚みは厚い方が良い。
好ましいフィルムの厚みは、５μｍ〜５００μm 、さら
に好ましくは１０μｍ〜２００μmであり、１５μm〜１
００μｍが好ましく用いられる。

【００６４】銀薄膜層にはピンホール等の欠陥が存在す
ることから、非常にわずかではあるが光が透過すること
がある。そこで支持体として、高分子フィルムを用いた
場合には、これらの光を遮蔽するために金属層および光
遮蔽層を用いる。また支持体側から反射部材に入射した
光が反射することをふせぐために、光遮蔽を用いること
もできる。金属としてはＡｌ、Ｃｒ等が用いられる。

【００６５】光遮蔽層としては、白色顔料を樹脂中に分
散させた白色塗装が用いられる。白色顔料としてはアル
ミナ、チタニア（チタン白）、酸化鉛（鉛白）、酸化亜
鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バ
リウム、チタン酸カリウム、珪酸ソーダ等があげられ
る。樹脂としてはアクリル系樹脂や、ポリエステル系樹
脂、ウレタン系樹脂等が用いられる。

【００６６】本発明品である銀反射体の構成、及び組成
の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接着
剤層、支持体の各部の厚さは、その断面を透過型電子顕
微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。高分
子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）を行うこと
により行われる。また、接着剤の材料分析は、銀薄膜層
と支持体を引き剥して接着剤を露出させ、適当な溶媒に
それを溶かした試料を作製し、その赤外分光（ＩＲ）を
行うことができる。銀薄膜層及び支持体の材料分析は、
蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）により行なえる。さらに、Ｘ線
マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光より
微細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形成
された高分子フィルムを、接着剤層から引き剥し銀薄膜
層を露出させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）によ
り組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも
知ることができる。

【００６７】反射率の測定方法としては、各種のものが
あるが、以下に述べる実施例では、分光光度計に積分球
を設置して測定した。具体的には、日立自動自記分光光
度計（型式：Ｕ−３４００）に１５０φ積分球（型式：
１５０−０９０１）を設置し測定した。標準サンプル
（リファレンス）には酸化アルミニウムからなる標準白
色板を用いた。

【００６８】また、透明高分子フィルムなどの光線透過
率（平行光線透過率）は例えば、日立自動自記分光光度
計（型式：Ｕ−３４００）に、フィルムホルダ（型式：
２１０−２１１２）を設置し、測定した。また、全光線
透過率（平行光線透過率＋拡散透過率）は１５０φ積分
球を設置し、サンプルを積分球の試料側光束入口に固定
し測定した。

【００６９】

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。光熱劣化促進試験は、３９０ｎｍ以下の波長の光を
除いた照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光を用い
て行った。また、反射体は１００℃に加熱した。光源に
は山下電装（株）のソーラシミュレータ型式ＹＳＳ−５
０５Ｈを用いた。また、東芝化成工業（株）シャープカ
ットフィルターＬ−３９を用いて、３９０ｎｍ以下の
波長の光を除いた。

【００７０】反射体の反射率は、日立自動自記分光光度
計（Ｕ−３４００）に１５０φ積分球を設置し測定し
た。標準試料サンプル（リファレンス）には酸化アルミ
ニウムからなる標準白色板を用いた。透明高分子フィル
ムの光線透過率（平行光線透過率＋拡散透過率）は日立
自動自記分光光度計（Ｕ−３４００）にフィルムホルダ
（型式：２１０−２１１２）を設置し、フィルムホルダ
に試料となる透明高分子フィルムを保持することによっ
て測定した。。

【００７１】〔実施例１〕真空装置内に放電ガスとして
純度９９．５％のアルゴンを２×１０^-3Ｔｏｒｒ導入
し、ＤＣグロー放電により、プラズマを生成した。この
際、陰極にチタンを用いて、チタンを含むプラズマ雰囲
気を作りだした。透明高分子フィルム（帝人（株）製ポ
リエステルフィルム、テトロンフィルムタイプＨＢ３、
厚さ２５μｍ、光線透過率＝８７．３％）の片面に該チ
タンを含むプラズマを用いて、表面に付着するチタンの
量が５×１０¹⁴原子／ｃｍ²となるように、処理を行っ
た。続いて該プラズマ処理面上に蒸着にて、純度９９．
９％の銀を蒸着材料として、銀を１５０ｎｍ厚積層し
た。得られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から
測定したところ、反射率＝９５．５％であった。光熱劣
化促進試験を３００時間行ったところ、反射率は９１．
５％であった。

【００７２】〔実施例２〕表面に付着するチタンの量が
５×１０¹⁵原子／ｃｍ²となるように処理を行う以外、
実施例１と同様に試料を作製した。得られた試料の反射
率を透明高分子フィルム側から測定したところ、反射率
＝９５．４％であった。光熱劣化促進試験を３００時間
行ったところ、反射率は９４．７％であった。

【００７３】〔実施例３〕表面に付着するチタンの量が
１×１０¹⁶原子／ｃｍ²となるように処理を行う以外、
実施例１と同様に作製した。得られた試料の反射率を透
明高分子フィルム側から測定したところ、反射率＝９
１．１％であった。光熱劣化促進試験を３００時間行っ
たところ、反射率は９１．０％であった。

【００７４】〔実施例４〕真空装置内に放電ガスとして
純度９９．５％のアルゴンを２×１０^-3Ｔｏｒｒ導入
し、ＤＣグロー放電により、プラズマを生成した。この
際陰極にチタンを用いて、チタンを含むプラズマ雰囲気
を作りだした。透明高分子フィルム（帝人（株）製ポリ
エステルフィルム、テトロンフィルムタイプＨＢ３、厚
さ２５μｍ、光線透過率＝８７．６％）の片面に該チタ
ンを含むプラズマを用いて、表面に付着するチタンの量
が５×１０¹⁵原子／ｃｍ²となるように処理を行った。
続いて該プラズマ処理面上に、純度９９．９％の銀をタ
ーゲットとして、スパッタガスとして純度９９．５％の
アルゴンを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ法にて銀
を１５０ｎｍ厚積層した。得られた試料の反射率を透明
高分子フィルム側から測定したところ、反射率＝９５．
６％であった。光熱劣化促進試験を３００時間行ったと
ころ、反射率は９５．４％であった。

【００７５】〔実施例５〕真空装置内に放電ガスとして
純度９９．５％のアルゴンを２×１０^-3Ｔｏｒｒ導入
し、ＤＣグロー放電により、プラズマを生成した。この
際陰極にチタンを用いて、チタンを含むプラズマ雰囲気
を作りだした。透明高分子フィルム（東洋紡績（株）製
ポリエステルフィルム、タイプＡ４１００、厚さ２５μ
ｍ、光線透過率＝８７．６％）の片面に該チタンを含む
プラズマを用いて、表面に付着するチタンの量が５×１
０¹⁵原子／ｃｍ²となるように、処理を行った。続いて
該プラズマ処理面上に、純度９９．９％の銀をターゲッ
トとして、スパッタガスとして純度９９．５％のアルゴ
ンを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタ法にて銀を１５
０ｎｍ厚積層した。得られた試料の反射率を透明高分子
フィルム側から測定したところ、反射率＝９６．０％で
あった。光熱劣化促進試験を３００時間行ったところ、
反射率は９６．０％であった。

【００７６】〔実施例６〕チタンに変えて純度９９．９
％のバナジウムを用いる以外実施例５と同様に作製し
た。得られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から
測定したところ、反射率＝９４．７％であった。光熱劣
化促進試験を３００時間行ったところ、反射率は９４．
３％であった。

【００７７】〔実施例７〕チタンに変えて純度９９．９
％のクロムを用いる以外実施例５と同様に作製した。得
られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から測定し
たところ、反射率＝９５．７％であった。光熱劣化促進
試験を３００時間行ったところ、反射率は９１．６％で
あった。

【００７８】〔実施例８〕チタンに変えて純度９９．９
９％の銅を用いる以外実施例５と同様に作製した。得ら
れた試料の反射率を透明高分子フィルム側から測定した
ところ、反射率＝９５．２％であった。光熱劣化促進試
験を３００時間行ったところ、反射率は９５．０％であ
った。

【００７９】〔実施例９〕チタンに変えて純度９９．９
％の亜鉛を用いる以外実施例５と同様に作製した。得ら
れた試料の反射率を透明高分子フィルム側から測定した
ところ、反射率＝９５．０％であった。光熱劣化促進試
験を３００時間行ったところ、反射率は９４．７％であ
った。

【００８０】〔実施例１０〕チタンに変えて純度９９．
９％のタングステンを用いる以外実施例５と同様に作製
した。得られた試料の反射率を透明高分子フィルム側か
ら測定したところ、反射率＝９５．５％であった。光熱
劣化促進試験を３００時間行ったところ、反射率は９
５．４％であった。

【００８１】〔比較例１〕透明高分子フィルム（帝人
（株）製ポリエステルフィルム、テトロンフィルムタイ
プＨＢ３、厚さ２５μｍ、光線透過率＝８７．３％）に
蒸着にて純度９９．９％の銀を蒸着材料として、銀を１
５０ｎｍ厚積層した。得られた試料の反射率を透明高分
子フィルム側から測定したところ、反射率＝９６．０％
であった。光熱劣化促進試験を３００時間行ったとこ
ろ、反射率は５１．２％であった。初期の反射率は９
６．０％と十分な値であったが光熱劣化促進試験後の反
射率は５１．２％であり、もはや反射体としては適さな
いものであった。

【００８２】〔比較例２〕透明高分子フィルム（東洋紡
績（株）製ポリエステルフィルム、タイプＡ４１００、
厚さ２５μｍ、光線透過率＝８７．６％）に純度９９．
９％の銀をターゲットとして、スパッタガスとして純度
９９．５％のアルゴンを用いて、ＤＣマグネトロンスパ
ッタ法にて銀を１５０ｎｍ厚積層した。得られた試料の
反射率を透明高分子フィルム側から測定したところ、反
射率＝９６．１％であった。光熱劣化促進試験を３００
時間行ったところ、反射率は６０．２％であった。初期
の反射率は９６．１％と十分な値であったが光熱劣化促
進試験後の反射率は６０．２％であり、もはや反射体と
しては適さないものであった。

【００８３】〔比較例３〕表面に付着するチタンの量が
５×１０¹⁶原子／ｃｍ²となるように処理を行う以外、
実施例１と同様に試料を作製した。得られた試料の反射
率を透明高分子フィルム側から測定したところ、反射率
＝８２．９％であった。初期の反射率が低く、反射体と
しては適さない。

【００８４】〔比較例４〕チタンに変えて純度９９．９
％のマグネシウムを用いる以外実施例５と同様に作製し
た。得られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から
測定したところ、反射率＝９５．８％であった。光熱劣
化促進試験を３００時間行ったところ、反射率は３１．
２％であった。初期の反射率は９５．８％と十分な値で
あったが光熱劣化促進試験後は３１．２％であり反射体
としては適さない。

【００８５】〔比較例５〕チタンに変えて純度９９．９
％のアルミを用いる以外実施例５と同様に作製した。得
られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から測定し
たところ、反射率＝９６．２％であった。光熱劣化促進
試験を３００時間行ったところ、反射率は２４．９％で
あった。初期の反射率は９６．２％と十分な値であった
が光熱劣化促進試験後は２４．９％であり反射体として
は適さない。

【００８６】〔比較例６〕チタンに変えて純度９９．９
％のシリコンを用いる以外実施例５と同様に作製した。
得られた試料の反射率を透明高分子フィルム側から測定
したところ、反射率＝９６．２％であった。光熱劣化促
進試験を３００時間行ったところ、反射率は２９．２％
であった。初期の反射率は９６．２％と十分な値であっ
たが光熱劣化促進試験後は２９．２％であり反射体とし
ては適さない。上記実施例および比較例を以下〔表１〕
にまとめる。

【００８７】

【表１】

【００８８】以上の結果により、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｗを含むプラズマにより透明高分子フィルム
の表面を処理することにより、光熱劣化による反射率の
低下を抑えることができ、光熱劣化促進試験を３００時
間実施後も９０％以上の反射率を保ちうることが分か
る。また、実施例５〜１０及び比較例２に示したサンプ
ルについて行った光熱劣化促進試験結果（横軸に試験時
間、縦軸に反射率）を図１１に示す。これらより金属を
含むプラズマによる表面処理方法で用いる金属としては
ＷとＴｉが最も優れ、続いてＣｕ、Ｖ、Ｚｎ、Ｃｒであ
ることが分かる。

【００８９】

【発明の効果】透明高分子フィルム（Ａ）の片面に金属
を含むプラズマによる表面処理を行い、更に該表面処理
面に銀薄膜層（Ｂ）を形成することにより、上記透明高
分子フィルムと銀薄膜層の界面においておこる、光熱劣
化を抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光熱劣化した反射体の断面の粒子構造を示す写
真

【図２】本発明の反射体の構造断面図

【図３】本発明の反射部材の構造断面図

【図４】本発明の反射部材の構造断面図

【図５】本発明の反射部材の構造断面図

【図６】本発明の反射部材の構造断面図

【図７】本発明の反射部材の構造断面図

【図８】透明高分子フィルム表面の粒子構造を表すＡＦ
Ｍ像写真

【図９】金属を含むプラズマによる表面処理を施した透
明高分子フィルム表面の粒子構造を表すＡＦＭ像写真

【図１０】透過限界波長が３９０ｎｍのＵＶカットフィ
ルターを通して得られた疑似太陽光のスペクトルを示す
グラフ

【図１１】本発明の反射体の光照射時間と反射率の関係
を示すグラフ

【符号の説明】

１０透明高分子フィルム２０金属を含むプラズマによる３０銀薄膜層４０接着剤層５０金属板６０高分子フィルム７０光遮蔽層８０金属層９０入射光

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平８−267645（ＪＰ，Ａ) 特開平３−274261（ＪＰ，Ａ) 特開平５−162227（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 C08J 7/00 306 G02B 5/08

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、透明高分子フィルム
（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）からなる構成ＡＢの透明高分子
フィルム側を反射面とする反射体にして、３９０ｎｍ以
下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²の
擬似太陽光を、反射体温度１００℃で３００時間照射後
でも反射率が９０％以上を保つ反射体。
【請求項２】透明高分子フィルム（Ａ）の片面に金属
を含むプラズマによる表面処理を行って表面処理面と
し、更に、該表面処理面に前記銀薄膜層（Ｂ）を形成し
てなる請求項１に記載の反射体。
【請求項３】金属を含むプラズマによる表面処理によ
り、透明高分子フィルム処理面に付着する金属原子が、
４×１０¹⁴原子／ｃｍ²乃至２×１０¹⁶原子／ｃｍ²で
ある請求項２に記載の反射体。
【請求項４】金属を含むプラズマによる表面処理にお
いて、該金属がＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、およびＷ
から選択された一種である請求項２または請求項３に記
載の反射体。
【請求項５】請求項１乃至４に記載の反射体の銀薄膜
層（Ｃ）側を支持体に接着剤層を介して積層してなる反
射部材。
【請求項６】支持体が金属板または高分子フィルムで
ある請求項５に記載の反射部材。
【請求項７】金属板がアルミ板、真鍮板、ステンレス
板および鋼板から選択された一種である請求項６に記載
の反射部材
【請求項８】請求項１乃至４に記載の反射体（Ｃ）
と、接着剤層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｅ）と、光遮
蔽層（Ｆ）とをこの順で積層してなる構成ＣＤＥＦの反
射部材であって、該反射体（Ｃ）の銀薄膜層側を、接着
剤層側とする反射部材。
【請求項９】請求項１乃至４に記載の反射体（Ｃ）
と、接着剤層（Ｄ）と、金属層（Ｇ）と高分子フィルム
（Ｈ）と、光遮蔽層（Ｆ）からなる構成ＣＤＧＨＦまた
はＣＤＨＧＦの反射部材であって、該反射体（Ｃ）の銀
薄膜層側を該接着剤側層とする反射部材。
【請求項１０】波長３８０〜３００ｎｍにおける光線
透過率が１０％以下である透明高分子フィルム（Ａ）を
用いた請求項１乃至４のいずれかに記載の反射体。
【請求項１１】波長３８０〜３００ｎｍにおける光線
透過率が１０％以下である透明高分子フィルム（Ａ）を
用いた請求項５乃至９に記載のいずれかに記載の反射部
材。