JP2000003139A - 柔軟性ガラス基質上に抗―反射性コ―ティングを含む材料 - Google Patents
柔軟性ガラス基質上に抗―反射性コ―ティングを含む材料Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高い鉛筆硬度及び優れた光学的性質を有する
抗−反射性材料ならびに柔軟性ガラス基質上に抗−反射
性コーティングを適用するための方法を提供すること。 【解決手段】 ＣＲＴ、ＬＣＤ、プラズマ管などの情報
ディスプレーの反射を減少させるために適しており、向
上した鉛筆硬度及び優れた光学的性質（より低い平均反
射率、より高いバンド幅）を特徴とする材料を開示す
る。本発明の抗−反射性材料は１．５ｍの半径を有する
円筒状芯の回りに巻くことができる柔軟性ガラス基質３
０の上に抗−反射性コーティング２０及び場合によるト
ップコート１０を含む。本発明の好ましい方法の場合、
ガラス基質３０が接着剤層４０を用いてポリマー支持体
５０に積層されている間に、連続的ウェブコーティング
法を用いてそれに抗−反射性コーティング２０を設け
る。
抗−反射性材料ならびに柔軟性ガラス基質上に抗−反射
性コーティングを適用するための方法を提供すること。 【解決手段】 ＣＲＴ、ＬＣＤ、プラズマ管などの情報
ディスプレーの反射を減少させるために適しており、向
上した鉛筆硬度及び優れた光学的性質（より低い平均反
射率、より高いバンド幅）を特徴とする材料を開示す
る。本発明の抗−反射性材料は１．５ｍの半径を有する
円筒状芯の回りに巻くことができる柔軟性ガラス基質３
０の上に抗−反射性コーティング２０及び場合によるト
ップコート１０を含む。本発明の好ましい方法の場合、
ガラス基質３０が接着剤層４０を用いてポリマー支持体
５０に積層されている間に、連続的ウェブコーティング
法を用いてそれに抗−反射性コーティング２０を設け
る。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は抗−反射性コーティングが設け
られた柔軟性ガラス基質を含む材料ならびに該材料の製
造法及び情報ディスプレー装置の反射を減少させるため
の該材料の利用に関する。
られた柔軟性ガラス基質を含む材料ならびに該材料の製
造法及び情報ディスプレー装置の反射を減少させるため
の該材料の利用に関する。
【０００２】
【発明の背景】テレビスクリーン及びコンピューターモ
ニターなどの装置により表示される情報の感知性を向上
させるために、その中のディスプレー部材、例えば陰極
線管（ＣＲＴ’ｓ）、液晶ディスプレー（ＬＣＤ’ｓ）
及びプラズマ管などのフロントパネルの外面に抗−反射
性（ＡＲ）コーティングを設けることができる。ＡＲコ
ーティングは可視スペクトル全体、およそ約４００〜約
７００ｎｍに及ぶ非常に低い反射率（反射光強度対入射
光強度の比）を特徴とする。その性能は反射率が１％以
下である波長領域の長い方の限界（λL）と短い方の限
界（λS）の比（ＢＷ＝λL／λS）として定義されるい
わゆるバンド幅（ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）（ＢＷ）により
定量化することができる。
ニターなどの装置により表示される情報の感知性を向上
させるために、その中のディスプレー部材、例えば陰極
線管（ＣＲＴ’ｓ）、液晶ディスプレー（ＬＣＤ’ｓ）
及びプラズマ管などのフロントパネルの外面に抗−反射
性（ＡＲ）コーティングを設けることができる。ＡＲコ
ーティングは可視スペクトル全体、およそ約４００〜約
７００ｎｍに及ぶ非常に低い反射率（反射光強度対入射
光強度の比）を特徴とする。その性能は反射率が１％以
下である波長領域の長い方の限界（λL）と短い方の限
界（λS）の比（ＢＷ＝λL／λS）として定義されるい
わゆるバンド幅（ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）（ＢＷ）により
定量化することができる。
【０００３】適したＡＲコーティングは多層スタックで
あり、それはスピンコーティング又は真空蒸着法、例え
ばマグネトロンスパッタリングなどの種々のコーティン
グ法によりディスプレー面上に適用することができ、該
コーティングは直接ディスプレー面上にあるいは間接的
に行うことができる。間接的方法は典型的に、ＡＲコー
ティングが設けられた透明な柔軟性基質を含むＡＲシー
トをディスプレー面に積層させることを含む。
あり、それはスピンコーティング又は真空蒸着法、例え
ばマグネトロンスパッタリングなどの種々のコーティン
グ法によりディスプレー面上に適用することができ、該
コーティングは直接ディスプレー面上にあるいは間接的
に行うことができる。間接的方法は典型的に、ＡＲコー
ティングが設けられた透明な柔軟性基質を含むＡＲシー
トをディスプレー面に積層させることを含む。
【０００４】上記の第１の変法（ディスプレー面上への
直接のコーティング）は以下の欠点の故に第２の変法
（ＡＲシートの積層）より好ましくないと思われる：
（ｉ）何らかの理由でコーティングが規格されている質
に従わないと、ＡＲコーティング及びディスプレー装置
そのものが失われる；そして（ｉｉ）ディスプレー装置
の製造に用いられるダイカスト法に由来する表面きずを
除去するために、コーティングの前にディスプレー面を
磨く必要がある。ＣＲＴ管上の表面きずは９０〜１９０
μｍの範囲内に典型的寸法を有するくぼみである。間接
的方法、すなわち積層法の場合、これらのきずはＡＲシ
ートをディスプレー面に積層するために用いられる接着
剤層で充填され、接着剤の屈折率がディスプレーパネル
の屈折率と一致すれば見えない。従って後者の方法はデ
ィスプレー面磨きの段階を必要とせず、それにより高価
な過程を取り除くことができる。
直接のコーティング）は以下の欠点の故に第２の変法
（ＡＲシートの積層）より好ましくないと思われる：
（ｉ）何らかの理由でコーティングが規格されている質
に従わないと、ＡＲコーティング及びディスプレー装置
そのものが失われる；そして（ｉｉ）ディスプレー装置
の製造に用いられるダイカスト法に由来する表面きずを
除去するために、コーティングの前にディスプレー面を
磨く必要がある。ＣＲＴ管上の表面きずは９０〜１９０
μｍの範囲内に典型的寸法を有するくぼみである。間接
的方法、すなわち積層法の場合、これらのきずはＡＲシ
ートをディスプレー面に積層するために用いられる接着
剤層で充填され、接着剤の屈折率がディスプレーパネル
の屈折率と一致すれば見えない。従って後者の方法はデ
ィスプレー面磨きの段階を必要とせず、それにより高価
な過程を取り除くことができる。
【０００５】上記の両問題に加え、コーティング法とし
て真空蒸着法が用いられると、ディスプレー面の直接コ
ーティングは以下の問題の故に実行が困難である：
（ｉ）各ディスプレーは個別の部品なので、コーティン
グはバッチ法であり、それは生来、連続製造法よりずっ
と複雑性及び経費が高いことが特徴である（例えばバッ
チ真空系は装填ロック（ｌｏａｄ ｌｏｃｋｓ）を必要
とする）；そして（ｉｉ）ＣＲＴ’ｓの場合のような非
−平面状ディスプレーパネルは、曲面上の均一なコーテ
ィングを保証するために真空蒸着装置の形状の修正が必
要である。
て真空蒸着法が用いられると、ディスプレー面の直接コ
ーティングは以下の問題の故に実行が困難である：
（ｉ）各ディスプレーは個別の部品なので、コーティン
グはバッチ法であり、それは生来、連続製造法よりずっ
と複雑性及び経費が高いことが特徴である（例えばバッ
チ真空系は装填ロック（ｌｏａｄ ｌｏｃｋｓ）を必要
とする）；そして（ｉｉ）ＣＲＴ’ｓの場合のような非
−平面状ディスプレーパネルは、曲面上の均一なコーテ
ィングを保証するために真空蒸着装置の形状の修正が必
要である。
【０００６】ディスプレー面の直接ＡＲコーティングに
伴う上記の問題は、柔軟性プラスチック基質及びＡＲコ
ーティングを含むＡＲシートをディスプレーパネルの前
面に積層する変法により解決することができる。しかし
その多くの利点にもかかわらず、先行技術から既知のＡ
Ｒシートは、特にＣＲＴ’ｓに用いられる場合にまだ改
良が必要である。ＡＲシートで用いられる基質は典型的
にポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリカ
ーボネート又は三酢酸セルロースから成る非常に薄い
（＜０．３ｍｍ）プラスチック基質であり、従って低い
押込硬度を特徴としており、その硬度を本明細書では鉛
筆硬度と表す。鉛筆硬度は、あらかじめ決められた力を
用いて種々の硬度の鉛筆で材料の面上に１本かそれより
多い線を引くことによって測定することができる。例え
ば３Ｈに等しい鉛筆硬度を有する材料とは、３Ｈの硬度
を有する鉛筆が材料の面を引っ掻くことができないが、
４Ｈの硬度の鉛筆が面上に引っ掻ききずを作ることを意
味する。本明細書で言われる鉛筆硬度値は、１ｋｇの力
を用いて少なくとも１ｃｍの軌跡を５本引き、次いで面
を引っ掻くためにどの鉛筆硬度が必要かを目視管理（ｖ
ｉｓｕａｌ ｃｏｎｔｒｏｌ）により確定することによ
って測定した。鉛筆硬度の測定についてのさらなる詳細
はＡＳＴＭ規格Ｄ ３３６３に見いだすことができる。
伴う上記の問題は、柔軟性プラスチック基質及びＡＲコ
ーティングを含むＡＲシートをディスプレーパネルの前
面に積層する変法により解決することができる。しかし
その多くの利点にもかかわらず、先行技術から既知のＡ
Ｒシートは、特にＣＲＴ’ｓに用いられる場合にまだ改
良が必要である。ＡＲシートで用いられる基質は典型的
にポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリカ
ーボネート又は三酢酸セルロースから成る非常に薄い
（＜０．３ｍｍ）プラスチック基質であり、従って低い
押込硬度を特徴としており、その硬度を本明細書では鉛
筆硬度と表す。鉛筆硬度は、あらかじめ決められた力を
用いて種々の硬度の鉛筆で材料の面上に１本かそれより
多い線を引くことによって測定することができる。例え
ば３Ｈに等しい鉛筆硬度を有する材料とは、３Ｈの硬度
を有する鉛筆が材料の面を引っ掻くことができないが、
４Ｈの硬度の鉛筆が面上に引っ掻ききずを作ることを意
味する。本明細書で言われる鉛筆硬度値は、１ｋｇの力
を用いて少なくとも１ｃｍの軌跡を５本引き、次いで面
を引っ掻くためにどの鉛筆硬度が必要かを目視管理（ｖ
ｉｓｕａｌ ｃｏｎｔｒｏｌ）により確定することによ
って測定した。鉛筆硬度の測定についてのさらなる詳細
はＡＳＴＭ規格Ｄ ３３６３に見いだすことができる。
【０００７】ＡＲシートのプラスチック基質の低い鉛筆
硬度のために、典型的に脆い無機材料から成るＡＲコー
ティングは、するどい局部的圧力で容易に損傷を受け得
る。その機械的強度（押込強度）を向上させるために、
ＡＲコーティングの真空蒸着の前にプラスチック基質に
有機ハード−コートを設けることができる。適したハー
ド−コートはＵＶ−硬化アクリリレートから成り、３〜
５μｍの厚さを有する。この処理はＰＥＴ基質の鉛筆硬
度を２〜３Ｈまで向上させることができる。しかしＣＲ
Ｔパネル自身の鉛筆硬度はもっとずっと高く（８〜９
Ｈ）、従って柔軟性プラスチック基質、ハードコート及
びＡＲコーティングから成るＡＲシートをＣＲＴパネル
に適用することは、ディスプレー面の全体的硬度を低下
させる。
硬度のために、典型的に脆い無機材料から成るＡＲコー
ティングは、するどい局部的圧力で容易に損傷を受け得
る。その機械的強度（押込強度）を向上させるために、
ＡＲコーティングの真空蒸着の前にプラスチック基質に
有機ハード−コートを設けることができる。適したハー
ド−コートはＵＶ−硬化アクリリレートから成り、３〜
５μｍの厚さを有する。この処理はＰＥＴ基質の鉛筆硬
度を２〜３Ｈまで向上させることができる。しかしＣＲ
Ｔパネル自身の鉛筆硬度はもっとずっと高く（８〜９
Ｈ）、従って柔軟性プラスチック基質、ハードコート及
びＡＲコーティングから成るＡＲシートをＣＲＴパネル
に適用することは、ディスプレー面の全体的硬度を低下
させる。
【０００８】さらに別の問題がブラスチック基質及び有
機ハード−コートの使用に伴う。プラスチック基質及び
ハード−コートの屈折率はガラスの屈折率と有意に異な
り得る（ＰＥＴの典型的値は約１．６０であるが、ディ
スプレーパネルに用いられるガラスのそれは１．４５〜
１．５４の範囲である；値はすべて５１０ｎｍにおける
値）。結局これらのプラスチックＡＲシートの反射率は
直接ＡＲコーティングにより得ることができる反射率よ
り高い。接着剤の屈折率はガラスディスプレーパネルに
好適に一致させられ、かくしてそれもプラスチック基質
の屈折率と有意に異なるので、さらに基質／接着剤界面
から反射率がいくらか追加されるであろう。プラスチッ
クＡＲシートのこれらの性質は可視スペクトルにおける
平均反射率の得られ得る最低値を制限し、バンド幅も制
限し、明確に見ることができるニュートンリングを引き
起こし得る。
機ハード−コートの使用に伴う。プラスチック基質及び
ハード−コートの屈折率はガラスの屈折率と有意に異な
り得る（ＰＥＴの典型的値は約１．６０であるが、ディ
スプレーパネルに用いられるガラスのそれは１．４５〜
１．５４の範囲である；値はすべて５１０ｎｍにおける
値）。結局これらのプラスチックＡＲシートの反射率は
直接ＡＲコーティングにより得ることができる反射率よ
り高い。接着剤の屈折率はガラスディスプレーパネルに
好適に一致させられ、かくしてそれもプラスチック基質
の屈折率と有意に異なるので、さらに基質／接着剤界面
から反射率がいくらか追加されるであろう。プラスチッ
クＡＲシートのこれらの性質は可視スペクトルにおける
平均反射率の得られ得る最低値を制限し、バンド幅も制
限し、明確に見ることができるニュートンリングを引き
起こし得る。
【０００９】最後に、無機ＡＲコーティングは硬化され
たアクリレートに接着するのが困難であり、高度に架橋
されたハード−コートはより高い硬度のために好ましい
が、そのようなハード−コートは、無機ＡＲコーティン
グの真空蒸着の前に化学的表面官能化（Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ ｓｕｒｆａｃｅ ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｓａｔｉ
ｏｎ）としてプラズマ予備−処理を施しても、高い接着
強度と適合しない。
たアクリレートに接着するのが困難であり、高度に架橋
されたハード−コートはより高い硬度のために好ましい
が、そのようなハード−コートは、無機ＡＲコーティン
グの真空蒸着の前に化学的表面官能化（Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ ｓｕｒｆａｃｅ ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｓａｔｉ
ｏｎ）としてプラズマ予備−処理を施しても、高い接着
強度と適合しない。
【００１０】プラスチック基質及びハード−コートを含
むＡＲシートの使用に伴う上記の問題の故に、ガラス基
質を有するＡＲ−シートが好ましいことがあり得る。ガ
ラス基質はディスプレーパネルの（ガラス）面と同じ鉛
筆硬度を有するので、ハード−コートは必要でない。ス
パッタ−コーティングされたガラスシートの連続生産は
例えばＵＳ−Ｐ ３，９０４，５０６；ＵＳ−Ｐ ３，
９４５，９１１及びＵＳ−Ｐ ４，００９，０９０に開
示されている。しかしＡＲコーティングの蒸着のために
古典的ウェブコーティング法を用いたい場合は柔軟性基
質が好ましい。さらに、ディスプレー面の湾曲した形を
見ると、ＣＲＴディスプレー上への適用のためには柔軟
性基質が必要である。
むＡＲシートの使用に伴う上記の問題の故に、ガラス基
質を有するＡＲ−シートが好ましいことがあり得る。ガ
ラス基質はディスプレーパネルの（ガラス）面と同じ鉛
筆硬度を有するので、ハード−コートは必要でない。ス
パッタ−コーティングされたガラスシートの連続生産は
例えばＵＳ−Ｐ ３，９０４，５０６；ＵＳ−Ｐ ３，
９４５，９１１及びＵＳ−Ｐ ４，００９，０９０に開
示されている。しかしＡＲコーティングの蒸着のために
古典的ウェブコーティング法を用いたい場合は柔軟性基
質が好ましい。さらに、ディスプレー面の湾曲した形を
見ると、ＣＲＴディスプレー上への適用のためには柔軟
性基質が必要である。
【００１１】ＥＰ−Ａ ７１６，３３９及びＷＯ ８７
／０６６２６はそれぞれ、適切な（ｒｉｇｈｔ）物理的
性質を有する薄いガラス基質がコイル上に巻かれそして
該コイルからほどかれるのに十分に柔軟性であり、かく
して連続ウェブコーティング法で種々の層をコーティン
グできることを開示している。後者の両特許出願により
開示されている解決案は実際に柔軟性ガラス基質上にコ
ーティングを得ることを可能にするが、取り扱い及びコ
ーティングの間に薄いガラス基質を破壊する可能性はま
だ有意である。生産性の損失の他に、真空蒸着法が用い
られている場合、ガラス破壊は真空ポンプに重大な損傷
を引き起こし得る。かくして該方法を工業的用途に適し
たものとするために、真空室にガラス破片が存在する可
能性を完全に取り除かなければならない。
／０６６２６はそれぞれ、適切な（ｒｉｇｈｔ）物理的
性質を有する薄いガラス基質がコイル上に巻かれそして
該コイルからほどかれるのに十分に柔軟性であり、かく
して連続ウェブコーティング法で種々の層をコーティン
グできることを開示している。後者の両特許出願により
開示されている解決案は実際に柔軟性ガラス基質上にコ
ーティングを得ることを可能にするが、取り扱い及びコ
ーティングの間に薄いガラス基質を破壊する可能性はま
だ有意である。生産性の損失の他に、真空蒸着法が用い
られている場合、ガラス破壊は真空ポンプに重大な損傷
を引き起こし得る。かくして該方法を工業的用途に適し
たものとするために、真空室にガラス破片が存在する可
能性を完全に取り除かなければならない。
【００１２】
【発明の概略】本発明の目的は、情報ディスプレー装置
のフロントパネルの外面に積層するのに適しており、高
い鉛筆硬度及び優れた光学的性質、例えば可視スペクト
ルにおける低い平均反射率及び高いバンド幅を特徴とす
る柔軟性抗−反射性材料を提供することである。この目
的は抗−反射性コーティング及び１．５ｍの半径を有す
る円筒状芯の回りに巻くことができるガラス基質を含む
ウェブ−もしくはシート−様材料により実現される。
のフロントパネルの外面に積層するのに適しており、高
い鉛筆硬度及び優れた光学的性質、例えば可視スペクト
ルにおける低い平均反射率及び高いバンド幅を特徴とす
る柔軟性抗−反射性材料を提供することである。この目
的は抗−反射性コーティング及び１．５ｍの半径を有す
る円筒状芯の回りに巻くことができるガラス基質を含む
ウェブ−もしくはシート−様材料により実現される。
【００１３】本発明の他の目的は、ガラス破壊により損
傷を受ける危険なくして連続的真空蒸着法により柔軟性
ガラス基質上に抗−反射性コーティングを適用するため
の方法を提供することである。この目的は、 （ｉ）１．５ｍの半径を有する円筒状芯の回りに巻くこ
とができるガラス基質、支持体及び場合により該基質と
支持体の間の接着剤層から成る積層物を製造し； （ｉｉ）該積層物のガラス側の上に抗−反射性コーティ
ングを真空蒸着により設け； （ｉｉｉ）場合により該抗−反射性コーティングの上に
トップコートを設ける段階を含む抗−反射性材料の製造
のための方法により実現される。
傷を受ける危険なくして連続的真空蒸着法により柔軟性
ガラス基質上に抗−反射性コーティングを適用するため
の方法を提供することである。この目的は、 （ｉ）１．５ｍの半径を有する円筒状芯の回りに巻くこ
とができるガラス基質、支持体及び場合により該基質と
支持体の間の接着剤層から成る積層物を製造し； （ｉｉ）該積層物のガラス側の上に抗−反射性コーティ
ングを真空蒸着により設け； （ｉｉｉ）場合により該抗−反射性コーティングの上に
トップコートを設ける段階を含む抗−反射性材料の製造
のための方法により実現される。
【００１４】本発明の好ましい実施態様に関する特定の
側面を、後述する本発明の主たる特徴及び態様に開示す
る。本発明のさらなる利点及び実施態様は以下の記載か
ら明らかになるであろう。
側面を、後述する本発明の主たる特徴及び態様に開示す
る。本発明のさらなる利点及び実施態様は以下の記載か
ら明らかになるであろう。
【００１５】
【発明の詳細な記述】本発明に従えば、柔軟性ガラス基
質上に抗−反射性コーティングが設けられる。かくして
得られる材料を、本明細書では「ＡＲ材料」と呼ぶ。本
発明のＡＲ材料は情報ディスプレー装置のフロントパネ
ルの外面に積層するのに適している。該面を本明細書で
は簡単に「ティスプレー面」と呼び、該パネルを「ディ
スプレーパネル」と呼ぶことができる。本発明のＡＲ材
料は、ロール上に巻かれたウェブとして与えることがで
きるかあるいはシートに切断することができる。シート
として供給する場合、保護シート又はスペーサーとして
２つの連続するＡＲシート間にインターリーフを設ける
ことができる。ロール上で供給する場合、本発明のＡＲ
材料と一緒にウェブインターリーフを該ロール上に巻く
ことができる。
質上に抗−反射性コーティングが設けられる。かくして
得られる材料を、本明細書では「ＡＲ材料」と呼ぶ。本
発明のＡＲ材料は情報ディスプレー装置のフロントパネ
ルの外面に積層するのに適している。該面を本明細書で
は簡単に「ティスプレー面」と呼び、該パネルを「ディ
スプレーパネル」と呼ぶことができる。本発明のＡＲ材
料は、ロール上に巻かれたウェブとして与えることがで
きるかあるいはシートに切断することができる。シート
として供給する場合、保護シート又はスペーサーとして
２つの連続するＡＲシート間にインターリーフを設ける
ことができる。ロール上で供給する場合、本発明のＡＲ
材料と一緒にウェブインターリーフを該ロール上に巻く
ことができる。
【００１６】本発明のＡＲ材料は向上した鉛筆硬度なら
びに優れた光学的性質、例えば可視スペクトルにおける
低い平均反射率及び高いバンド幅を有する。柔軟性ガラ
ス基質は多くの他の側面でプラスチック基質より優れて
いる。ガラスは高い熱安定性を示し、硬く、化学品に対
して非常に耐性であり、水分、溶剤及び酸素に対する有
効な障壁である。その高い透明性の他にガラスの光学的
性質は、ガラスを、ＡＲ−コーティングを設け、次いで
ディスプレー面に積層するための理想的な基質としてい
る。
びに優れた光学的性質、例えば可視スペクトルにおける
低い平均反射率及び高いバンド幅を有する。柔軟性ガラ
ス基質は多くの他の側面でプラスチック基質より優れて
いる。ガラスは高い熱安定性を示し、硬く、化学品に対
して非常に耐性であり、水分、溶剤及び酸素に対する有
効な障壁である。その高い透明性の他にガラスの光学的
性質は、ガラスを、ＡＲ−コーティングを設け、次いで
ディスプレー面に積層するための理想的な基質としてい
る。
【００１７】本発明で用いるのに適したガラス基質はＥ
Ｐ−Ａ ７１６，３３９に記載されている。好ましいガ
ラス基質は１ｘ１０7Ｐａより高い破壊応力（引張応力
下における）、１ｘ１０11Ｐａより低い弾性率（ヤング
率）ならびに１．２ｍｍ以下、好ましくは０．５ｍｍ未
満、より好ましくは０．３ｍｍ未満そして最も好ましく
は１２０μｍ未満の厚さを特徴とする。そのようなガラ
スは１．５ｍの半径を有する円筒状芯上に破壊させずに
巻くことができる。典型的ＣＲＴのフロントパネルは約
１．５ｍの半径を有し、従って本発明のＡＲ部品を該パ
ネルの外面に破壊させずに積層することができる。ガラ
スの厚さがもっと低ければ柔軟性ガラス基質をもっと小
さい半径の円筒状芯の回りに巻くことができ、例えば３
０μｍの厚さのガラスを１０ｃｍの半径を有する円筒状
芯の回りに破壊させずに巻くことができる。１０ｃｍの
半径を有する円筒状芯の回りに破壊させずに巻くことが
できる柔軟性ガラス基質を１．５ｍに等しい半径の芯の
回りにも破壊させずに巻くことができるのは熟練者にと
って自明のことである。
Ｐ−Ａ ７１６，３３９に記載されている。好ましいガ
ラス基質は１ｘ１０7Ｐａより高い破壊応力（引張応力
下における）、１ｘ１０11Ｐａより低い弾性率（ヤング
率）ならびに１．２ｍｍ以下、好ましくは０．５ｍｍ未
満、より好ましくは０．３ｍｍ未満そして最も好ましく
は１２０μｍ未満の厚さを特徴とする。そのようなガラ
スは１．５ｍの半径を有する円筒状芯上に破壊させずに
巻くことができる。典型的ＣＲＴのフロントパネルは約
１．５ｍの半径を有し、従って本発明のＡＲ部品を該パ
ネルの外面に破壊させずに積層することができる。ガラ
スの厚さがもっと低ければ柔軟性ガラス基質をもっと小
さい半径の円筒状芯の回りに巻くことができ、例えば３
０μｍの厚さのガラスを１０ｃｍの半径を有する円筒状
芯の回りに破壊させずに巻くことができる。１０ｃｍの
半径を有する円筒状芯の回りに破壊させずに巻くことが
できる柔軟性ガラス基質を１．５ｍに等しい半径の芯の
回りにも破壊させずに巻くことができるのは熟練者にと
って自明のことである。
【００１８】上記の規格に従う柔軟性ガラスは、Ｓｃｈ
ｏｔｔグループの会社であるＤｅｓａｇから３０μｍ〜
１．１ｍｍの範囲の厚さを有するＡＦ４５型及びＤ２６
３型としてならびにＣｏｒｎｉｎｇから０．７ｍｍ及び
１．１ｍｍの厚さを有する７０５９Ｆ型及び１７３７Ｆ
型として商業的に入手可能である。柔軟性ガラス基質は
好ましくはケイ酸ナトリウム又はホウケイ酸ナトリウム
から作られるが、化学的に強化されたガラスを用いるこ
ともできる。化学的に強化されたガラスとは、両表面近
くの最初のアルカリイオンが少なくとも部分的にもっと
大きな半径を有するアルカリイオンによって置換されて
いるガラスである。強化されたナトリウム石灰シリカガ
ラス（ｓｏｄｉｕｍ ｌｉｍｅ ｓｉｌｉｃａ ｇｌａ
ｓｓ）の表面では、ナトリウムが少なくとも部分的にカ
リウムにより置換されており、強化されたリチウム石灰
シリカガラス（ｌｉｔｈｉｕｍ ｌｉｍｅ ｓｉｌｉｃ
ａｇｌａｓｓ）の表面ではリチウムが少なくとも部分的
にナトリウムにより置換されている。ガラスの化学的強
化に関するさらなる詳細は、例えば“ＧｌａｓｓＴｅｃ
ｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｖｏｌ．６，Ｎｏ．３，ｐａｇｅ
９０−９７，Ｊｕｎｅ １９６５に示されている。薄い
化学的に強化されたガラス及びその利用は、１９９６年
１０月２４日出願のヨーロッパ特許出願番号９６，２０
２，９６８に開示されており、化学的に硬化されたガラ
スの製造法は１９９７年４月３０日出願のヨーロッパ特
許出願番号９７，２０１，２５５に開示されている。
ｏｔｔグループの会社であるＤｅｓａｇから３０μｍ〜
１．１ｍｍの範囲の厚さを有するＡＦ４５型及びＤ２６
３型としてならびにＣｏｒｎｉｎｇから０．７ｍｍ及び
１．１ｍｍの厚さを有する７０５９Ｆ型及び１７３７Ｆ
型として商業的に入手可能である。柔軟性ガラス基質は
好ましくはケイ酸ナトリウム又はホウケイ酸ナトリウム
から作られるが、化学的に強化されたガラスを用いるこ
ともできる。化学的に強化されたガラスとは、両表面近
くの最初のアルカリイオンが少なくとも部分的にもっと
大きな半径を有するアルカリイオンによって置換されて
いるガラスである。強化されたナトリウム石灰シリカガ
ラス（ｓｏｄｉｕｍ ｌｉｍｅ ｓｉｌｉｃａ ｇｌａ
ｓｓ）の表面では、ナトリウムが少なくとも部分的にカ
リウムにより置換されており、強化されたリチウム石灰
シリカガラス（ｌｉｔｈｉｕｍ ｌｉｍｅ ｓｉｌｉｃ
ａｇｌａｓｓ）の表面ではリチウムが少なくとも部分的
にナトリウムにより置換されている。ガラスの化学的強
化に関するさらなる詳細は、例えば“ＧｌａｓｓＴｅｃ
ｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｖｏｌ．６，Ｎｏ．３，ｐａｇｅ
９０−９７，Ｊｕｎｅ １９６５に示されている。薄い
化学的に強化されたガラス及びその利用は、１９９６年
１０月２４日出願のヨーロッパ特許出願番号９６，２０
２，９６８に開示されており、化学的に硬化されたガラ
スの製造法は１９９７年４月３０日出願のヨーロッパ特
許出願番号９７，２０１，２５５に開示されている。
【００１９】ガラス基質に好ましくは少なくとも１μｍ
の厚さ、より好ましくは少なくとも１０μｍの厚さを有
するケイ酸塩ゾル／ゲルコートを設けることができる。
ガラス基質上に設けられる他の追加の層又は該ガラス基
質の処理は本明細書に記載する方法において役立つこと
ができ、例えばそれは真空蒸着の前に化学的表面官能化
としてプラズマ−処理を施すために有用であり得る。
の厚さ、より好ましくは少なくとも１０μｍの厚さを有
するケイ酸塩ゾル／ゲルコートを設けることができる。
ガラス基質上に設けられる他の追加の層又は該ガラス基
質の処理は本明細書に記載する方法において役立つこと
ができ、例えばそれは真空蒸着の前に化学的表面官能化
としてプラズマ−処理を施すために有用であり得る。
【００２０】本発明で用いられるガラス基質はロール上
で与えることができ、ウェブコーティング法でコーティ
ングするために該ロールからほどくことができる。本出
願の発明者等は、柔軟性ガラス基質のコーティング又は
取り扱いの間にガラス破壊の可能性が有意であり、それ
が工業的規模で真空蒸着法によりコーティングするのに
それを適さないものとしていることを確証した。本発明
の非常に好ましい実施態様に従うと、柔軟性ガラス基質
を積層物として適用することにより、ガラス破壊による
損傷の危険なく真空蒸着法によってそれにＡＲコーティ
ングを設けることができる。ガラス基質のＡＲコーティ
ングが設けられるべき側と反対の側が、本明細書でそれ
を柔軟性ガラス「基質」と区別するために「支持体」と
呼ばれる自立性層に積層されると、ガラス破壊の可能性
は顕著に低くなる。該支持体はガラス基質のための保護
層として働く。柔軟性ガラス基質が真空蒸着の間に破壊
した時でさえ、ガラス破片は支持体に固定されて残り、
真空ポンプ中に引っ張られ得ない。さらに、該支持体は
ガラス基質がコーテイングの間に引っ掻かれるのを妨げ
る。
で与えることができ、ウェブコーティング法でコーティ
ングするために該ロールからほどくことができる。本出
願の発明者等は、柔軟性ガラス基質のコーティング又は
取り扱いの間にガラス破壊の可能性が有意であり、それ
が工業的規模で真空蒸着法によりコーティングするのに
それを適さないものとしていることを確証した。本発明
の非常に好ましい実施態様に従うと、柔軟性ガラス基質
を積層物として適用することにより、ガラス破壊による
損傷の危険なく真空蒸着法によってそれにＡＲコーティ
ングを設けることができる。ガラス基質のＡＲコーティ
ングが設けられるべき側と反対の側が、本明細書でそれ
を柔軟性ガラス「基質」と区別するために「支持体」と
呼ばれる自立性層に積層されると、ガラス破壊の可能性
は顕著に低くなる。該支持体はガラス基質のための保護
層として働く。柔軟性ガラス基質が真空蒸着の間に破壊
した時でさえ、ガラス破片は支持体に固定されて残り、
真空ポンプ中に引っ張られ得ない。さらに、該支持体は
ガラス基質がコーテイングの間に引っ掻かれるのを妨げ
る。
【００２１】本発明に従って柔軟性ガラス基質に積層す
ることができる支持体は、紙、金属などであることがで
きるが、好ましくは有機ポリマーであり、そのような支
持体を本明細書で「ポリマー支持体」と呼ぶことができ
る。適したポリマー支持体は、例えば、酢酸セルロース
フィルム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、ポリス
チレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリアクリロ
ニトリル、ポリブタジエン、ポリエステルもしくは塩化
ビニルポリマーである。本明細書で用いられる「ポリマ
ー」という用語は、ホモポリマーならびに１種又はそれ
以上の以下のコモノマーを含有するコポリマーを含む：
塩化ビニリデン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチ
レン、ブタジエン、クロロプレン、ジクロロブタジエ
ン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン及びトリフルオロ
クロロエチレン。本発明のＡＲ材料における支持体とし
て用いるのに非常に好ましい有機ポリマーはポリ（エチ
レンテレフタレート）（ＰＥＴ）である。
ることができる支持体は、紙、金属などであることがで
きるが、好ましくは有機ポリマーであり、そのような支
持体を本明細書で「ポリマー支持体」と呼ぶことができ
る。適したポリマー支持体は、例えば、酢酸セルロース
フィルム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、ポリス
チレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリアクリロ
ニトリル、ポリブタジエン、ポリエステルもしくは塩化
ビニルポリマーである。本明細書で用いられる「ポリマ
ー」という用語は、ホモポリマーならびに１種又はそれ
以上の以下のコモノマーを含有するコポリマーを含む：
塩化ビニリデン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチ
レン、ブタジエン、クロロプレン、ジクロロブタジエ
ン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン及びトリフルオロ
クロロエチレン。本発明のＡＲ材料における支持体とし
て用いるのに非常に好ましい有機ポリマーはポリ（エチ
レンテレフタレート）（ＰＥＴ）である。
【００２２】ここで図１に示す２つの非常に好ましい実
施態様により本発明のＡＲ材料を例示する。片側にＡＲ
コーティング２０が設けられた柔軟性ガラス基質３０を
反対側で支持体５０に積層する。好ましくはガラス基質
３０と支持体５０の間に接着剤層４０が存在する。場合
により設けられるトップコート１０はＡＲコーティング
２０を粉塵、しみ、指紋、ガラスクリーナー、溶剤など
による汚染から保護することができる。接着剤層４０は
好ましくは非−永久的接着剤層であり、それは剥がすこ
とにより支持体５０をガラス基質３０から取り除くこと
でできることを意味する（矢印６０により示す）。剥が
した後、ガラス基質３０のＡＲコーティング２０と反対
の側をディスプレー面に接着することができる。本発明
のＡＲ材料をシートとして供給する場合、好ましくはガ
ラス基質から支持体を剥がす前に切断を行う。
施態様により本発明のＡＲ材料を例示する。片側にＡＲ
コーティング２０が設けられた柔軟性ガラス基質３０を
反対側で支持体５０に積層する。好ましくはガラス基質
３０と支持体５０の間に接着剤層４０が存在する。場合
により設けられるトップコート１０はＡＲコーティング
２０を粉塵、しみ、指紋、ガラスクリーナー、溶剤など
による汚染から保護することができる。接着剤層４０は
好ましくは非−永久的接着剤層であり、それは剥がすこ
とにより支持体５０をガラス基質３０から取り除くこと
でできることを意味する（矢印６０により示す）。剥が
した後、ガラス基質３０のＡＲコーティング２０と反対
の側をディスプレー面に接着することができる。本発明
のＡＲ材料をシートとして供給する場合、好ましくはガ
ラス基質から支持体を剥がす前に切断を行う。
【００２３】剥がされると、接着剤層４０はガラス基質
３０（図１の右の実施態様）あるいはポリマー支持体５
０（図１の左の実施態様）に固定されて残ることができ
る。剥がされた後に接着剤層が柔軟性ガラス基質上にま
だ存在する場合、同じ接着剤層を用いてＡＲ材料をディ
スプレー面に接着することができる。シリコーンがコー
ティングされているＰＥＴ支持体のような接着剤層に対
する親和性が低いポリマー支持体を用いることによりそ
のような実施態様を得ることができる。剥がされると接
着剤層が支持体と一緒に除去される場合、例えばスピン
コーティングによるかあるいはシート形態で接着剤を適
用することによりディスプレー面に接着剤を設け、次い
でその接着剤を用いてＡＲ材料をディスプレー面に接着
することができる。ガラス基質とディスプレー面の間の
接着剤は、好ましくはディスプレーパネルの材料に近い
屈折率の値を特徴とする。
３０（図１の右の実施態様）あるいはポリマー支持体５
０（図１の左の実施態様）に固定されて残ることができ
る。剥がされた後に接着剤層が柔軟性ガラス基質上にま
だ存在する場合、同じ接着剤層を用いてＡＲ材料をディ
スプレー面に接着することができる。シリコーンがコー
ティングされているＰＥＴ支持体のような接着剤層に対
する親和性が低いポリマー支持体を用いることによりそ
のような実施態様を得ることができる。剥がされると接
着剤層が支持体と一緒に除去される場合、例えばスピン
コーティングによるかあるいはシート形態で接着剤を適
用することによりディスプレー面に接着剤を設け、次い
でその接着剤を用いてＡＲ材料をディスプレー面に接着
することができる。ガラス基質とディスプレー面の間の
接着剤は、好ましくはディスプレーパネルの材料に近い
屈折率の値を特徴とする。
【００２４】別の場合、ポリマー支持体をガラス基質か
ら剥がさないこともでき、ＡＲコーティングされた積層
物をかくして全体としてディスプレー面に接着すること
ができる。後者の実施態様の積層物において用いるため
に適したポリマーは、ＡＲ材料の光学的性質がディスプ
レーパネルの光学的性質と適合するように、好ましくは
ガラスの屈折率に近い、すなわち約１．４５〜約１．５
４の範囲内の屈折率を有する。そのようなポリマーの例
は“Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，ｔｈｉｒｄ
ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊ．Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１
９８９），ｐ．４５４−４５５に示されている。
ら剥がさないこともでき、ＡＲコーティングされた積層
物をかくして全体としてディスプレー面に接着すること
ができる。後者の実施態様の積層物において用いるため
に適したポリマーは、ＡＲ材料の光学的性質がディスプ
レーパネルの光学的性質と適合するように、好ましくは
ガラスの屈折率に近い、すなわち約１．４５〜約１．５
４の範囲内の屈折率を有する。そのようなポリマーの例
は“Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，ｔｈｉｒｄ
ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊ．Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１
９８９），ｐ．４５４−４５５に示されている。
【００２５】ガラス基質を支持体に積層するための方法
は周知である。両層を接着剤層を用いずにいわゆる真空
積層により積層することができる。しかし接着剤層、テ
ープ又はグルーを用い、続いて熱又は圧力を加えるのが
好ましい。接着剤層はガラス基質、支持体のいずれか又
は両方に適用することができ、積層の直前に除去される
ストリッピング層により遮蔽することができる。積層は
手動で行うことができるが、好ましくはラミネータと呼
ばれる積層手段で行われる。典型的ラミネータは、調節
可能な圧力を有し、固定されているか又は調節可能な速
度で動く２つの加熱可能なローラーの１対を含む。ラミ
ネータを用いる積層は、ガラス基質及び支持体を互いに
密接させることにより行われる。接着剤を両者の間にサ
ンドイッチ状にはさみ、該サンドイッチを次いでラミネ
ータのローラーの間に差し通すことができる。
は周知である。両層を接着剤層を用いずにいわゆる真空
積層により積層することができる。しかし接着剤層、テ
ープ又はグルーを用い、続いて熱又は圧力を加えるのが
好ましい。接着剤層はガラス基質、支持体のいずれか又
は両方に適用することができ、積層の直前に除去される
ストリッピング層により遮蔽することができる。積層は
手動で行うことができるが、好ましくはラミネータと呼
ばれる積層手段で行われる。典型的ラミネータは、調節
可能な圧力を有し、固定されているか又は調節可能な速
度で動く２つの加熱可能なローラーの１対を含む。ラミ
ネータを用いる積層は、ガラス基質及び支持体を互いに
密接させることにより行われる。接着剤を両者の間にサ
ンドイッチ状にはさみ、該サンドイッチを次いでラミネ
ータのローラーの間に差し通すことができる。
【００２６】接着剤層は温度−感受性接着剤（ＴＳＡ）
層、圧力−感受性接着剤（ＰＳＡ）層あるいは紫外線
（ＵＶＡ）によるか又は電子ビームへの暴露により硬化
可能であるかあるいは熱的に硬化可能な接着剤であるこ
とができる。典型的水−コーティング可能なＴＳＡにお
けるポリマーは８０℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を
有するラテックスである。スパッタ−コーティングなど
の真空蒸着法によるコーティングの間に積層物の温度は
上昇し得るので、適したＴＳＡは好ましくは真空蒸着の
間の積層物の最高温度より少なくとも１０℃高いＴｇを
有するポリマーを含有する。類似の理由で１２０℃の温
度まで又は１５０℃でさえ熱的に安定なＰＳＡ又は硬化
可能な接着剤が好ましい。
層、圧力−感受性接着剤（ＰＳＡ）層あるいは紫外線
（ＵＶＡ）によるか又は電子ビームへの暴露により硬化
可能であるかあるいは熱的に硬化可能な接着剤であるこ
とができる。典型的水−コーティング可能なＴＳＡにお
けるポリマーは８０℃未満のガラス転移温度（Ｔｇ）を
有するラテックスである。スパッタ−コーティングなど
の真空蒸着法によるコーティングの間に積層物の温度は
上昇し得るので、適したＴＳＡは好ましくは真空蒸着の
間の積層物の最高温度より少なくとも１０℃高いＴｇを
有するポリマーを含有する。類似の理由で１２０℃の温
度まで又は１５０℃でさえ熱的に安定なＰＳＡ又は硬化
可能な接着剤が好ましい。
【００２７】本発明で用いるために好ましいＰＳＡ層
は、１種もしくはそれ以上の粘着性エラストマー、例え
ば、スチレン／イソプレンのブロックコポリマー、スチ
レン／ブタジエンゴム、ブチルゴム、イソブチレンとシ
リコーンのポリマーを含む。特に好ましいのは天然ゴム
及びＵＳ−Ｐ ３，８５７，７３１に開示されているよ
うなアクリレートコポリマーである。該アクリレートポ
リマーは好ましくは９０〜９９．５重量％の少なくとも
１種のアルキルアクリレートエステル及び１０〜０．５
重量％の実質的に油−不溶性で水溶性のイオン性モノマ
ー及び無水マレイン酸から成る群より選ばれるモノマー
から成る。アクリレートエステル部分は好ましくは疎水
性で水乳化可能で実質的に水不溶性であり、ホモポリマ
ーとしては一般に２０℃又はそれ未満のガラス転移温度
を有するモノマーから成る。そのようなモノマーの例は
アクリル酸イソオクチル、アクリル酸４−メチル−２−
ペンチル、アクリル酸２−メチルブチル及びアクリル酸
ｓｅｃ−ブチルである。適したモノマーの他の例は、例
えば、トリメチルアミンメタクリルアミド、トリメチル
アミンｐ−ビニルベンズイミド、アクリル酸アンモニウ
ム、アクリル酸ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−１
−（２−ヒドロキシプロピル）アミンメタクリルアミド
及び無水マレイン酸である。ＰＳＡは好ましくは、未処
理の紙に適用された場合、０．１〜１０Ｎ／ｃｍ幅の連
続−コート（１００％被覆率）剥離接着値（ｃｏｎｔｉ
ｎｕｏｕｓ−ｃｏａｔ（１００％ｃｏｖｅｒａｇｅ）
ｐｅｅｌａｄｈｅｓｉｏｎ ｖａｌｕｅ）を有する。
は、１種もしくはそれ以上の粘着性エラストマー、例え
ば、スチレン／イソプレンのブロックコポリマー、スチ
レン／ブタジエンゴム、ブチルゴム、イソブチレンとシ
リコーンのポリマーを含む。特に好ましいのは天然ゴム
及びＵＳ−Ｐ ３，８５７，７３１に開示されているよ
うなアクリレートコポリマーである。該アクリレートポ
リマーは好ましくは９０〜９９．５重量％の少なくとも
１種のアルキルアクリレートエステル及び１０〜０．５
重量％の実質的に油−不溶性で水溶性のイオン性モノマ
ー及び無水マレイン酸から成る群より選ばれるモノマー
から成る。アクリレートエステル部分は好ましくは疎水
性で水乳化可能で実質的に水不溶性であり、ホモポリマ
ーとしては一般に２０℃又はそれ未満のガラス転移温度
を有するモノマーから成る。そのようなモノマーの例は
アクリル酸イソオクチル、アクリル酸４−メチル−２−
ペンチル、アクリル酸２−メチルブチル及びアクリル酸
ｓｅｃ−ブチルである。適したモノマーの他の例は、例
えば、トリメチルアミンメタクリルアミド、トリメチル
アミンｐ−ビニルベンズイミド、アクリル酸アンモニウ
ム、アクリル酸ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−１
−（２−ヒドロキシプロピル）アミンメタクリルアミド
及び無水マレイン酸である。ＰＳＡは好ましくは、未処
理の紙に適用された場合、０．１〜１０Ｎ／ｃｍ幅の連
続−コート（１００％被覆率）剥離接着値（ｃｏｎｔｉ
ｎｕｏｕｓ−ｃｏａｔ（１００％ｃｏｖｅｒａｇｅ）
ｐｅｅｌａｄｈｅｓｉｏｎ ｖａｌｕｅ）を有する。
【００２８】ＰＳＡはさらに結合剤を含有することがで
きる。適した結合剤は圧力−感受性接着剤に対して不活
性であり、すなわちそれは圧力−感受性接着剤を化学的
に攻撃しない。そのような結合剤の例はニトロセルロー
ス、ウレタン、ゼラチン、ポリビニルアルコールなどで
ある。結合剤の量は、圧力−感受性接着剤が有効に積層
されるように選ばれなければならない。好ましくは結合
剤の量は圧力−感受性接着剤に対して２．５重量部未
満、より好ましくは０．６重量部未満である。
きる。適した結合剤は圧力−感受性接着剤に対して不活
性であり、すなわちそれは圧力−感受性接着剤を化学的
に攻撃しない。そのような結合剤の例はニトロセルロー
ス、ウレタン、ゼラチン、ポリビニルアルコールなどで
ある。結合剤の量は、圧力−感受性接着剤が有効に積層
されるように選ばれなければならない。好ましくは結合
剤の量は圧力−感受性接着剤に対して２．５重量部未
満、より好ましくは０．６重量部未満である。
【００２９】ＵＶＡは広く２つの部門、ラジカル重合さ
れたもの及びカチオン重合されたものに分類することが
できる。ラジカル重合により生成するポリマーは一般に
アクリルモノマーもしくはオリゴマーに基づいており、
それは紫外線に露光すると架橋により高分子量ポリマー
に転換される。ＵＶＡは好ましくはベンゾフェノン−ア
ミン、アルファ−置換アセトフェノン又はアミノ−アセ
トフェノンなどの光−開始剤を含有する。イソプロピル
チオキサントンの添加は光−開始剤への増感効果を有
し、有用な露光を可視光に近く移動させることが知られ
ており、それは使用者の安全のために重要である。ＵＶ
Ａで典型的に用いられる他の成分はアクリル材料中に溶
媒和されているか分散されている熱可塑性樹脂などの柔
軟剤、ポリエチレン又はポリプロピレンなどの接着促進
剤ならびに充填剤である。ＵＶＡについてのさらなる情
報はＲａｄＣｕｒｅＬｅｔｔｅｒ Ｎｏ．５（１９９
６）及びＴａｐｐｉ Ｊｏｕｒｎａｌ，Ｊａｎｕａｒｙ
１９９２，ｐ．１２１−１２５に見いだすことができ
る。電子ビーム硬化可能な接着剤は原則的にＵＶ−硬化
可能な接着剤と同じ機構に従って働くが、光−開始剤を
必要としない。
れたもの及びカチオン重合されたものに分類することが
できる。ラジカル重合により生成するポリマーは一般に
アクリルモノマーもしくはオリゴマーに基づいており、
それは紫外線に露光すると架橋により高分子量ポリマー
に転換される。ＵＶＡは好ましくはベンゾフェノン−ア
ミン、アルファ−置換アセトフェノン又はアミノ−アセ
トフェノンなどの光−開始剤を含有する。イソプロピル
チオキサントンの添加は光−開始剤への増感効果を有
し、有用な露光を可視光に近く移動させることが知られ
ており、それは使用者の安全のために重要である。ＵＶ
Ａで典型的に用いられる他の成分はアクリル材料中に溶
媒和されているか分散されている熱可塑性樹脂などの柔
軟剤、ポリエチレン又はポリプロピレンなどの接着促進
剤ならびに充填剤である。ＵＶＡについてのさらなる情
報はＲａｄＣｕｒｅＬｅｔｔｅｒ Ｎｏ．５（１９９
６）及びＴａｐｐｉ Ｊｏｕｒｎａｌ，Ｊａｎｕａｒｙ
１９９２，ｐ．１２１−１２５に見いだすことができ
る。電子ビーム硬化可能な接着剤は原則的にＵＶ−硬化
可能な接着剤と同じ機構に従って働くが、光−開始剤を
必要としない。
【００３０】本発明で用いるのに適した接着剤の例は、
Ｓｏｌｕｃｒｙｌ（ＵＣＢ，Ｂｅｌｇｉｕｍによる商品
名）、好ましくはＳｏｌｕｃｒｙｌ ３５５ＨＰ、３８
０及び８２５Ｄ型；Ｒｈｏｄｏｔａｋ（Ｒｈｏｎｅ−Ｐ
ｏｕｌｅｎｃによる商品名）；Ａｃｒｏｎａｌ（ＢＡＳ
Ｆによる商品名）；Ｄｕｒｏ−Ｔａｋ ３８０−２９５
４（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ ＆ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｂ．Ｖ．による商品名）；ＰＥＲＭＡｐｒｉｎ
ｔ ＰＰ２０１１型及びＰＥＲＭＡｇａｒｄＰＧ７０３
６型（Ｖａｒｉｔａｐｅ Ｎ．Ｖ．，Ｂｅｌｇｉｕｍに
よる商品名）である。
Ｓｏｌｕｃｒｙｌ（ＵＣＢ，Ｂｅｌｇｉｕｍによる商品
名）、好ましくはＳｏｌｕｃｒｙｌ ３５５ＨＰ、３８
０及び８２５Ｄ型；Ｒｈｏｄｏｔａｋ（Ｒｈｏｎｅ−Ｐ
ｏｕｌｅｎｃによる商品名）；Ａｃｒｏｎａｌ（ＢＡＳ
Ｆによる商品名）；Ｄｕｒｏ−Ｔａｋ ３８０−２９５
４（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ ＆ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｂ．Ｖ．による商品名）；ＰＥＲＭＡｐｒｉｎ
ｔ ＰＰ２０１１型及びＰＥＲＭＡｇａｒｄＰＧ７０３
６型（Ｖａｒｉｔａｐｅ Ｎ．Ｖ．，Ｂｅｌｇｉｕｍに
よる商品名）である。
【００３１】本発明の材料のＡＲコーティングは、材料
の可視光反射を減少させることができるいずれのコーテ
ィングであることもできる。好ましくは該ＡＲコーティ
ングは層のスタックである。低い反射率及び高いバンド
幅などの最適な光学的性質を得るために、そのスタック
は非常に低い屈折率を有する材料と非常に高い屈折率を
有する材料を組み合わせていることができる。実際に
は、二酸化ケイ素を非常に低い屈折率を有する材料とし
て用い、二酸化チタンを非常に高い屈折率を有する材料
として用いる。
の可視光反射を減少させることができるいずれのコーテ
ィングであることもできる。好ましくは該ＡＲコーティ
ングは層のスタックである。低い反射率及び高いバンド
幅などの最適な光学的性質を得るために、そのスタック
は非常に低い屈折率を有する材料と非常に高い屈折率を
有する材料を組み合わせていることができる。実際に
は、二酸化ケイ素を非常に低い屈折率を有する材料とし
て用い、二酸化チタンを非常に高い屈折率を有する材料
として用いる。
【００３２】本発明の材料で用いるためのＡＲスタック
の適した例は、ＵＳ−Ｐ ５，２７０，８５８に、例え
ば４層から成るＡＲスタック（基質／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2
／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2及び基質／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／Ｚｎ
Ｏ／ＳｉＯ2）ならびに５−層ＡＲスタックの例（基質
／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＺｎＯ／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2）が記
載されている。適した５−層ＡＲスタックはＵＳ−Ｐ
５，２１６，５４２にも記載されており：基質に最も近
い層はＳｎＯx、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、Ｔａ2Ｏ5、ＮｉＣｒ
Ｏx、ＴｉＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3又はこれらの酸化物
の混合物から成る。次の層はＴｉＮ又はＺｒＮである。
第３の層は層の厚さを除いて第１の層と同じである。次
の層はＴｉＮ又はＺｒＮであり、上層はＳｉＯ2、Ａｌ2
Ｏ3、ＡｌＳｉ酸化物、ＮｉＳｉ酸化物、ＭｇＯ、Ｍｇ
Ｆ2、後者の群のオキシフルオリドあるいはこれらの酸
化物又はオキシフルオリドの混合物である。
の適した例は、ＵＳ−Ｐ ５，２７０，８５８に、例え
ば４層から成るＡＲスタック（基質／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2
／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2及び基質／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／Ｚｎ
Ｏ／ＳｉＯ2）ならびに５−層ＡＲスタックの例（基質
／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＺｎＯ／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2）が記
載されている。適した５−層ＡＲスタックはＵＳ−Ｐ
５，２１６，５４２にも記載されており：基質に最も近
い層はＳｎＯx、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、Ｔａ2Ｏ5、ＮｉＣｒ
Ｏx、ＴｉＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3又はこれらの酸化物
の混合物から成る。次の層はＴｉＮ又はＺｒＮである。
第３の層は層の厚さを除いて第１の層と同じである。次
の層はＴｉＮ又はＺｒＮであり、上層はＳｉＯ2、Ａｌ2
Ｏ3、ＡｌＳｉ酸化物、ＮｉＳｉ酸化物、ＭｇＯ、Ｍｇ
Ｆ2、後者の群のオキシフルオリドあるいはこれらの酸
化物又はオキシフルオリドの混合物である。
【００３３】ＥＰ−Ａ ７５３，７６２はＳｉＯ2又は
ＭｇＦ2の上層及びＴｉＮx、ＴｉＮx−Ｗ、ＴｉＮ
xＯy、ＺｒＮx、ＺｒＯxＮy又はＴｉＮxＯyとＺｒＯxＮ
yの混合物、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）もしくは
Ａｕ−ドープトＩＴＯなどのように導電性であり、吸光
性である下層（基質の隣）を有する２−層ＡＲスタック
の例を記載している。ＵＳ−Ｐ ５，５２３，６４９は
異なる老化によりその屈折率を調節することができるＳ
ｉ、Ａｌ又はＴｉのゲルから成る層を記載している。本
発明の材料で用いるのに適した導電性であり、吸光性で
あるＡＲスタックの他の例はＷＯ ９３／０４，９９３
に、例えば４−層スタック、基質／ＴｉＮ／ＳｎＯ2又
はＴｉＯ2又はＳｉＯ2／ＴｉＮ／ＳｉＯ2が記載されて
いる。ＷＯ ９６／１８，９１７はディスプレーのため
のＡＲ材料として２−層吸光性スタックを記載してい
る。下の方の吸光性層（基質の隣）はＴｉＮ、ＺｒＮ又
はＨｆＮであり、上の方の層はＳｉＯ2である。該下の
層と上の層の間に酸素障壁としてＳｉ3Ｎ4層を加えるこ
とができる。
ＭｇＦ2の上層及びＴｉＮx、ＴｉＮx−Ｗ、ＴｉＮ
xＯy、ＺｒＮx、ＺｒＯxＮy又はＴｉＮxＯyとＺｒＯxＮ
yの混合物、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）もしくは
Ａｕ−ドープトＩＴＯなどのように導電性であり、吸光
性である下層（基質の隣）を有する２−層ＡＲスタック
の例を記載している。ＵＳ−Ｐ ５，５２３，６４９は
異なる老化によりその屈折率を調節することができるＳ
ｉ、Ａｌ又はＴｉのゲルから成る層を記載している。本
発明の材料で用いるのに適した導電性であり、吸光性で
あるＡＲスタックの他の例はＷＯ ９３／０４，９９３
に、例えば４−層スタック、基質／ＴｉＮ／ＳｎＯ2又
はＴｉＯ2又はＳｉＯ2／ＴｉＮ／ＳｉＯ2が記載されて
いる。ＷＯ ９６／１８，９１７はディスプレーのため
のＡＲ材料として２−層吸光性スタックを記載してい
る。下の方の吸光性層（基質の隣）はＴｉＮ、ＺｒＮ又
はＨｆＮであり、上の方の層はＳｉＯ2である。該下の
層と上の層の間に酸素障壁としてＳｉ3Ｎ4層を加えるこ
とができる。
【００３４】本発明のＡＲ材料に適したコーティングの
好ましい例は、いわゆる広げられたＶ−コート（ｂｒｏ
ａｄｅｎｅｄ Ｖ−ｃｏａｔ）、平坦化Ｖ−コート（ｆ
ｌａｔｔｅｎｅｄ Ｖ−ｃｏａｔ）又はＶｅｒｍｅｕｌ
ｅｎコートである。このＡＲコーティングは４つの材料
の層から成るスタックを含む。ガラス基質から最も遠く
に位置する第１層は１／４波長層であり、これはそれが
０．２〜０．３λoに含まれる光学的厚さ、典型的に約
０．２５λoの光学的厚さを有することを意味する。光
学的厚さはλo、可視波長領域、すなわち４００ｎｍ〜
７００ｎｍを制限する境界波長の相互平均（ｒｅｃｉｐ
ｒｏｃａｌ ｍｅａｎ）である約５１０ｎｍに対する割
合として表される。該Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコートの第２
層は、０．４〜０．６λoに含まれる光学的厚さ、典型
的に約０．５λo（１／２波長）の光学的厚さを有する
材料から成る。ガラス基質の最も近くに位置する第３及
び第４層は、それぞれ約λo／８及びλo／１６の典型的
光学的厚さを有する非常に薄い材料の層である。適した
Ｖ−コートはＵＳ−Ｐ ５，４５０，２３８に記載され
ており：基質／Ｉｎ2Ｏ3又はＳｎＯ2又はＺｎＯ又はＩ
ＴＯ又はＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2又はＮｂ2Ｏ5／Ｓ
ｉＯ2である。
好ましい例は、いわゆる広げられたＶ−コート（ｂｒｏ
ａｄｅｎｅｄ Ｖ−ｃｏａｔ）、平坦化Ｖ−コート（ｆ
ｌａｔｔｅｎｅｄ Ｖ−ｃｏａｔ）又はＶｅｒｍｅｕｌ
ｅｎコートである。このＡＲコーティングは４つの材料
の層から成るスタックを含む。ガラス基質から最も遠く
に位置する第１層は１／４波長層であり、これはそれが
０．２〜０．３λoに含まれる光学的厚さ、典型的に約
０．２５λoの光学的厚さを有することを意味する。光
学的厚さはλo、可視波長領域、すなわち４００ｎｍ〜
７００ｎｍを制限する境界波長の相互平均（ｒｅｃｉｐ
ｒｏｃａｌ ｍｅａｎ）である約５１０ｎｍに対する割
合として表される。該Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコートの第２
層は、０．４〜０．６λoに含まれる光学的厚さ、典型
的に約０．５λo（１／２波長）の光学的厚さを有する
材料から成る。ガラス基質の最も近くに位置する第３及
び第４層は、それぞれ約λo／８及びλo／１６の典型的
光学的厚さを有する非常に薄い材料の層である。適した
Ｖ−コートはＵＳ−Ｐ ５，４５０，２３８に記載され
ており：基質／Ｉｎ2Ｏ3又はＳｎＯ2又はＺｎＯ又はＩ
ＴＯ又はＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2又はＮｂ2Ｏ5／Ｓ
ｉＯ2である。
【００３５】本発明で用いられるＡＲコーティングはい
わゆる改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコートであることもで
き、それは上記よりずっと低い電気抵抗を有する。改質
は二酸化チタン層を（部分的に）例えばＩｎ−もしくは
Ａｌ−ドープト酸化亜鉛、Ｓｂ−もしくはＦ−ドープト
酸化錫、Ｓｎドープト酸化カドミウム又はインジウム−
錫酸化物層などの導電性材料の層で置換することにより
得られる。例はＵＳ−Ｐ５，２７０，８５８に記載され
ている。
わゆる改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコートであることもで
き、それは上記よりずっと低い電気抵抗を有する。改質
は二酸化チタン層を（部分的に）例えばＩｎ−もしくは
Ａｌ−ドープト酸化亜鉛、Ｓｂ−もしくはＦ−ドープト
酸化錫、Ｓｎドープト酸化カドミウム又はインジウム−
錫酸化物層などの導電性材料の層で置換することにより
得られる。例はＵＳ−Ｐ５，２７０，８５８に記載され
ている。
【００３６】しかし二酸化チタンの該置換はＡＲコーテ
ィングの光学的性質を悪化させ得、それはＩＴＯ又は上
記の酸化物の屈折率がＴｉＯ2の屈折率よりずっと低い
からである。さらに、改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコーティ
ングの導電率は該コーティングを、帯電防止又はＥＭＩ
（電磁干渉（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎ
ｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ））遮蔽用途のために、例えばＣ
ＲＴ’ｓのためのコーティングとして適したものとする
には不十分であり得る。改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコーテ
ィングの他の欠点は、層の光学的厚さが上記の設計規格
に正確に従わなければならないので、導電性層を調節で
きないことである。
ィングの光学的性質を悪化させ得、それはＩＴＯ又は上
記の酸化物の屈折率がＴｉＯ2の屈折率よりずっと低い
からである。さらに、改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコーティ
ングの導電率は該コーティングを、帯電防止又はＥＭＩ
（電磁干渉（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎ
ｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ））遮蔽用途のために、例えばＣ
ＲＴ’ｓのためのコーティングとして適したものとする
には不十分であり得る。改質Ｖｅｒｍｅｕｌｅｎコーテ
ィングの他の欠点は、層の光学的厚さが上記の設計規格
に正確に従わなければならないので、導電性層を調節で
きないことである。
【００３７】従って本発明の非常に好ましい実施態様
は、１９９７年１０月２９日出願のヨーロッパ特許出願
番号９７，２０３，３３５に記載されているような５つ
の材料の層のスタックを含有するＡＲコーティングを含
む。基質から最も遠くに位置する第１層はガラス基質の
屈折率と大体等しい屈折率を有する材料から成り、０．
２〜０．３λoに含まれる光学的厚さ、典型的に約０．
２５λo（１／４波長）の光学的厚さを有する。本実施
態様のコーティング中の第２層は約２．２より大きい屈
折率を有する材料から成り、０．４λo〜０．６λoに含
まれる光学的厚さ、典型的に約０．５λo（１／２波
長）の光学的厚さを有する。第３層は導電性材料から成
り、下記において詳細に特徴付ける。第４層は第１層の
屈折率と大体同じ屈折率を有する材料から成り、約０．
１λo未満、典型的に０．０５λo〜０．１５λoに含ま
れる光学的厚さを有する。基質に最も近い第５層は第２
層の屈折率と大体同じ屈折率を有する材料から成り、
０．０２５λo〜０．１λoに含まれる光学的厚さ、典型
的に約０．０５λoの光学的厚さを有する。
は、１９９７年１０月２９日出願のヨーロッパ特許出願
番号９７，２０３，３３５に記載されているような５つ
の材料の層のスタックを含有するＡＲコーティングを含
む。基質から最も遠くに位置する第１層はガラス基質の
屈折率と大体等しい屈折率を有する材料から成り、０．
２〜０．３λoに含まれる光学的厚さ、典型的に約０．
２５λo（１／４波長）の光学的厚さを有する。本実施
態様のコーティング中の第２層は約２．２より大きい屈
折率を有する材料から成り、０．４λo〜０．６λoに含
まれる光学的厚さ、典型的に約０．５λo（１／２波
長）の光学的厚さを有する。第３層は導電性材料から成
り、下記において詳細に特徴付ける。第４層は第１層の
屈折率と大体同じ屈折率を有する材料から成り、約０．
１λo未満、典型的に０．０５λo〜０．１５λoに含ま
れる光学的厚さを有する。基質に最も近い第５層は第２
層の屈折率と大体同じ屈折率を有する材料から成り、
０．０２５λo〜０．１λoに含まれる光学的厚さ、典型
的に約０．０５λoの光学的厚さを有する。
【００３８】上記の非常に好ましいコーティングスタッ
ク中の第３の材料の層は導電性材料から成り、ＡＲコー
ティングに所望の導電性を与えている。この層はいわゆ
る「ダミー層」であり、それはその厚さがコーティング
の光学的性質に全く影響しないか又は非常に小さくしか
影響しないことを意味する。このダミー層の厚さを変化
させることにより、コーティングの光学的性質に影響な
くコーティングの導電性を広い範囲内で調節することが
できる。該ダミー層のための好ましい材料はＩＴＯ（上
記で定義した）である。ＩＴＯダミー層の厚さを５〜５
０ｎｍの間で、好ましくは２０〜４０ｎｍの間で変化さ
せることにより、コーティングの光学的性質に影響なく
コーティングの電気的シート抵抗（ｅｌｅｃｔｒｉｃａ
ｌ ｓｈ
ク中の第３の材料の層は導電性材料から成り、ＡＲコー
ティングに所望の導電性を与えている。この層はいわゆ
る「ダミー層」であり、それはその厚さがコーティング
の光学的性質に全く影響しないか又は非常に小さくしか
影響しないことを意味する。このダミー層の厚さを変化
させることにより、コーティングの光学的性質に影響な
くコーティングの導電性を広い範囲内で調節することが
できる。該ダミー層のための好ましい材料はＩＴＯ（上
記で定義した）である。ＩＴＯダミー層の厚さを５〜５
０ｎｍの間で、好ましくは２０〜４０ｎｍの間で変化さ
せることにより、コーティングの光学的性質に影響なく
コーティングの電気的シート抵抗（ｅｌｅｃｔｒｉｃａ
ｌ ｓｈ
【００３９】
【外１】 ができる。例えば陰極線管上に適用するためには、コー
ティングの電気的シート
ティングの電気的シート
【００４０】
【外２】 は１平方の表面積を有するコーティングから作られる導
体の抵抗として定義され、コーティングの抵抗率対コー
ティングの厚さの比率として計算することができる。
体の抵抗として定義され、コーティングの抵抗率対コー
ティングの厚さの比率として計算することができる。
【００４１】その色が調整可能であり、再現可能である
ことは、後者の実施態様のコーティングの追加の利点で
ある。提案するコーティングの光学的性質はその構成層
の厚さ及び／又は材料の化学量論における小さい変化に
あまり敏感でないので、色の微調整が可能である。
ことは、後者の実施態様のコーティングの追加の利点で
ある。提案するコーティングの光学的性質はその構成層
の厚さ及び／又は材料の化学量論における小さい変化に
あまり敏感でないので、色の微調整が可能である。
【００４２】上記のＡＲコーティングは真空蒸着法によ
り、好ましくは： （１）上記の柔軟性ガラス基質及び支持体を含む積層物
をほどき、再度巻くための部門； （２）ＡＲコーティングを構成する材料の層を該積層物
のガラス側の上に連続的にスパッタリングするターゲッ
ト部門； （３）その表面上を積層物がターゲット部門を介して移
動する中心冷却ドラムを含む真空室を有するウェブコー
ターにおけるシングルもしくはダブルパス真空マグネト
ロンスパッタリング操作を用いてガラス基質上に適用す
ることができる。
り、好ましくは： （１）上記の柔軟性ガラス基質及び支持体を含む積層物
をほどき、再度巻くための部門； （２）ＡＲコーティングを構成する材料の層を該積層物
のガラス側の上に連続的にスパッタリングするターゲッ
ト部門； （３）その表面上を積層物がターゲット部門を介して移
動する中心冷却ドラムを含む真空室を有するウェブコー
ターにおけるシングルもしくはダブルパス真空マグネト
ロンスパッタリング操作を用いてガラス基質上に適用す
ることができる。
【００４３】ＡＲコーティングを得るために種々の型の
ターゲットを用いることができる。例えばＡｒ／Ｏ2雰
囲気中における反応性スパッタリングのために回転可能
もしくは平面状ケイ素、チタン及びＩｎ／Ｓｎ合金（９
０／１０重量％）ターゲットを用いることができる。し
かしＴｉＯx回転可能セラミックターゲットから二酸化
チタン層をスパッタリングするのが好ましい。
ターゲットを用いることができる。例えばＡｒ／Ｏ2雰
囲気中における反応性スパッタリングのために回転可能
もしくは平面状ケイ素、チタン及びＩｎ／Ｓｎ合金（９
０／１０重量％）ターゲットを用いることができる。し
かしＴｉＯx回転可能セラミックターゲットから二酸化
チタン層をスパッタリングするのが好ましい。
【００４４】ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＩＴＯ／ＴｉＯ2／Ｓ
ｉＯ2スタックはシングルパス操作を用いてスパッタリ
ングすることができ、その場合上記の５つの層は５つの
分離され且つ連続的なターゲット部門で基質上に蒸着さ
れる。最初に基質に最も近くなければならない材料の
層、第５層を回転可能なＴｉＯxターゲットからスパッ
タリングする。次のターゲット部門でスタックの第４、
第３、第２及び第１層をそれぞれ回転可能なケイ素ター
ゲット、平面状インジウム／錫もしくはＩＴＯターゲッ
ト、回転可能なＴｉＯxターゲット及び回転可能なケイ
素ターゲットから連続的にスパッタリングする。
ｉＯ2スタックはシングルパス操作を用いてスパッタリ
ングすることができ、その場合上記の５つの層は５つの
分離され且つ連続的なターゲット部門で基質上に蒸着さ
れる。最初に基質に最も近くなければならない材料の
層、第５層を回転可能なＴｉＯxターゲットからスパッ
タリングする。次のターゲット部門でスタックの第４、
第３、第２及び第１層をそれぞれ回転可能なケイ素ター
ゲット、平面状インジウム／錫もしくはＩＴＯターゲッ
ト、回転可能なＴｉＯxターゲット及び回転可能なケイ
素ターゲットから連続的にスパッタリングする。
【００４５】別の場合、ダブルパス操作を用いることが
でき、その場合はターゲット部門を最初に基質が通過す
る間に基質の最も近くに蒸着されるべき２つの材料の層
（ＴｉＯ2−ＳｉＯ2）をスパッタリングし、２回目に通
過する間に残る３つの材料の層（ＩＴＯ−ＴｉＯ2−Ｓ
ｉＯ2）をスパッタリングする。これはダブルパス操作
が３つのターゲット部門しか必要としないことを意味し
ている。
でき、その場合はターゲット部門を最初に基質が通過す
る間に基質の最も近くに蒸着されるべき２つの材料の層
（ＴｉＯ2−ＳｉＯ2）をスパッタリングし、２回目に通
過する間に残る３つの材料の層（ＩＴＯ−ＴｉＯ2−Ｓ
ｉＯ2）をスパッタリングする。これはダブルパス操作
が３つのターゲット部門しか必要としないことを意味し
ている。
【００４６】上記から、回転可能なマグネトロンのそれ
ぞれを平面状マグネトロンで置き換えることができ、逆
もできることが明らかであろう。
ぞれを平面状マグネトロンで置き換えることができ、逆
もできることが明らかであろう。
【００４７】ＡＲ層を適用した後、本発明のＡＲ材料に
好ましくはトップコートを設ける。このトップコートは
好ましくは非常に薄く（２〜４ｎｍ）、それはもっと厚
い層は材料の抗−反射性に影響し得るからである。トッ
プコートは界面活性剤の有機溶液から浸漬−もしくは噴
霧−コーティング法を用いてコーティングすることがで
きる。グラビアコーティング又は真空重合などの他の方
法も適している。好ましい界面活性剤はフッ素化化合
物、例えば部分的にフッ素化されたアミンもしくはカル
ボン酸又は“Ａｎｔｉ−ｓｍｕｄｇｅ ｌａｙｅｒ ｆ
ｏｒ ＡＲ−ｆｉｌｍｓ ｏｎ ＣＲＴ’ｓ”，Ｓｙｍ
ｐｏｓｉｕｍ Ｄｉｇｅｓｔ ＳＩＤ １９９７，ｐ．
５４０に記載されているようなフッ素化アルコキシシラ
ンである。該フッ素化アルコキシシランは好ましくはア
ミン、酸又はリン酸塩などの触媒と組み合わせて用いら
れる。コーティング溶液の溶媒はメタノール又はイソプ
ロピルアルコールなどのアルコールであることができる
かあるいは好ましくはフッ素化アルカン、例えばペルフ
ルオロ−オクタンである。
好ましくはトップコートを設ける。このトップコートは
好ましくは非常に薄く（２〜４ｎｍ）、それはもっと厚
い層は材料の抗−反射性に影響し得るからである。トッ
プコートは界面活性剤の有機溶液から浸漬−もしくは噴
霧−コーティング法を用いてコーティングすることがで
きる。グラビアコーティング又は真空重合などの他の方
法も適している。好ましい界面活性剤はフッ素化化合
物、例えば部分的にフッ素化されたアミンもしくはカル
ボン酸又は“Ａｎｔｉ−ｓｍｕｄｇｅ ｌａｙｅｒ ｆ
ｏｒ ＡＲ−ｆｉｌｍｓ ｏｎ ＣＲＴ’ｓ”，Ｓｙｍ
ｐｏｓｉｕｍ Ｄｉｇｅｓｔ ＳＩＤ １９９７，ｐ．
５４０に記載されているようなフッ素化アルコキシシラ
ンである。該フッ素化アルコキシシランは好ましくはア
ミン、酸又はリン酸塩などの触媒と組み合わせて用いら
れる。コーティング溶液の溶媒はメタノール又はイソプ
ロピルアルコールなどのアルコールであることができる
かあるいは好ましくはフッ素化アルカン、例えばペルフ
ルオロ−オクタンである。
【００４８】
【実施例】表１に示すＡＲスタックを基質としてのハー
ド−コーティングされたＰＥＴフィルム上にコーティン
グした（比較実施例）。ハード−コートは高度に架橋さ
れたＵＶ−硬化アクリレートから成り、約３．５μｍの
厚さを有した。本発明に従う実施態様である第２の実施
例では、同じＡＲスタックをＰＥＴ支持体及びＤｅｓａ
ｇからＤ２６３型として入手可能であり、厚さが７０μ
ｍの柔軟性ホウケイ酸塩ガラス基質から成る積層物のガ
ラス面上にコーティングした。積層物はＵＣＢ，Ｂｅｌ
ｇｉｕｍから入手可能なＰＳＡ Ｓｏｌｕｃｒｙｌ ３
５５ＨＰ型を用いて形成した。
ド−コーティングされたＰＥＴフィルム上にコーティン
グした（比較実施例）。ハード−コートは高度に架橋さ
れたＵＶ−硬化アクリレートから成り、約３．５μｍの
厚さを有した。本発明に従う実施態様である第２の実施
例では、同じＡＲスタックをＰＥＴ支持体及びＤｅｓａ
ｇからＤ２６３型として入手可能であり、厚さが７０μ
ｍの柔軟性ホウケイ酸塩ガラス基質から成る積層物のガ
ラス面上にコーティングした。積層物はＵＣＢ，Ｂｅｌ
ｇｉｕｍから入手可能なＰＳＡ Ｓｏｌｕｃｒｙｌ ３
５５ＨＰ型を用いて形成した。
【００４９】比較実施例は１．５７のバンド幅、０．３
５％の明所視反射率（ｐｈｏｔｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃ
ｔｉｏｎ）及び２Ｈの鉛筆硬度を有したが、本発明の実
施例は＞１．６のバンド幅、＜０．３％の明所視反射率
及び８Ｈの鉛筆硬度を有した。バンド幅及び鉛筆硬度は
上記で定義した。明所視反射率は目の感度（ｅｙｅｓｅ
ｎｓｉｔｉｖｉｔｙ）と反射率プロットのコンボルーシ
ョン（ｃｏｎｖｏｌｕｔｉｏｎ）であり、３８０〜７８
０ｎｍの波長領域においてＣｏｍｍｉｓｓｉｏｎ Ｉｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ ｄｅ ｌ’Ｅｃｌａｉｒａ
ｇｅ（ＣＩＥ１９３１）により定義される標準的イルミ
ナント（ｓｔａｎｄａｒｄ ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ）
Ｄ６５及び２o観察者（ｏｂｓｅｒｖｅｒ）を用いて測
定される。
５％の明所視反射率（ｐｈｏｔｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃ
ｔｉｏｎ）及び２Ｈの鉛筆硬度を有したが、本発明の実
施例は＞１．６のバンド幅、＜０．３％の明所視反射率
及び８Ｈの鉛筆硬度を有した。バンド幅及び鉛筆硬度は
上記で定義した。明所視反射率は目の感度（ｅｙｅｓｅ
ｎｓｉｔｉｖｉｔｙ）と反射率プロットのコンボルーシ
ョン（ｃｏｎｖｏｌｕｔｉｏｎ）であり、３８０〜７８
０ｎｍの波長領域においてＣｏｍｍｉｓｓｉｏｎ Ｉｎ
ｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ ｄｅ ｌ’Ｅｃｌａｉｒａ
ｇｅ（ＣＩＥ１９３１）により定義される標準的イルミ
ナント（ｓｔａｎｄａｒｄ ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ）
Ｄ６５及び２o観察者（ｏｂｓｅｒｖｅｒ）を用いて測
定される。
【００５０】
【表１】 本発明の好ましい実施態様を詳細に記載してきたが、こ
こで添付の特許請求の範囲に定義する本発明の範囲から
逸脱することなく多数の修正をその中で成し得ることが
当該技術分野における熟練者に明らかであろう。本発明
のＡＲシートは情報ディスプレー装置、例えばＣＲＴ’
ｓ、フラット−パネルディスプレー、例えばＬＣＤ’
ｓ、エレクトロクロミックディスプレー、エレクトロル
ミネセントディスプレー及びプラズマ管のフロントパネ
ルの外面上に適用することができる。建築物のガラス、
オーブンの窓、店のウィンドウ、額縁などにそれを適用
することもでき、それらはすべて広い意味で情報ディス
プレーとみなすことができる。本発明の主たる特徴及び
態様は以下の通りである。
こで添付の特許請求の範囲に定義する本発明の範囲から
逸脱することなく多数の修正をその中で成し得ることが
当該技術分野における熟練者に明らかであろう。本発明
のＡＲシートは情報ディスプレー装置、例えばＣＲＴ’
ｓ、フラット−パネルディスプレー、例えばＬＣＤ’
ｓ、エレクトロクロミックディスプレー、エレクトロル
ミネセントディスプレー及びプラズマ管のフロントパネ
ルの外面上に適用することができる。建築物のガラス、
オーブンの窓、店のウィンドウ、額縁などにそれを適用
することもでき、それらはすべて広い意味で情報ディス
プレーとみなすことができる。本発明の主たる特徴及び
態様は以下の通りである。
【００５１】１．抗−反射性コーティング（２０）及び
ガラス基質（３０）を含み、１．５ｍの半径を有する円
筒状芯の回りに巻くことができるウェブ−もしくはシー
ト−様材料。
ガラス基質（３０）を含み、１．５ｍの半径を有する円
筒状芯の回りに巻くことができるウェブ−もしくはシー
ト−様材料。
【００５２】２．該ガラス基質が０．５ｍｍ未満の厚さ
を有する上記１項に記載の材料。
を有する上記１項に記載の材料。
【００５３】３．抗−反射性コーティングがガラス基質
から最も遠くに位置する層から始まってそれぞれ第１、
第２、第３及び第４層と称される４つの材料の層を含む
スタックであり、該第１及び第３層が本質的に二酸化ケ
イ素から成り、該第２及び第４層が本質的に二酸化チタ
ンから成る上記１もしくは２項に記載の材料。
から最も遠くに位置する層から始まってそれぞれ第１、
第２、第３及び第４層と称される４つの材料の層を含む
スタックであり、該第１及び第３層が本質的に二酸化ケ
イ素から成り、該第２及び第４層が本質的に二酸化チタ
ンから成る上記１もしくは２項に記載の材料。
【００５４】４．抗−反射性コーティングがガラス基質
から最も遠くに位置する層から始まってそれぞれ第１、
第２、第３及び第４層と称される４つの材料の層を含む
スタックであり、該第１層が約１／４波長（λo／４）
の光学的厚さを有し、該第２層が約１／２波長（λo／
２）の光学的厚さを有し、該第３層が約λo／８の光学
的厚さを有し、該第４層が約λo／１６の光学的厚さを
有し、λoは約５１０ｎｍである上記１〜３項のいずれ
かに記載の材料。
から最も遠くに位置する層から始まってそれぞれ第１、
第２、第３及び第４層と称される４つの材料の層を含む
スタックであり、該第１層が約１／４波長（λo／４）
の光学的厚さを有し、該第２層が約１／２波長（λo／
２）の光学的厚さを有し、該第３層が約λo／８の光学
的厚さを有し、該第４層が約λo／１６の光学的厚さを
有し、λoは約５１０ｎｍである上記１〜３項のいずれ
かに記載の材料。
【００５５】５．該第２及び第３層の間に追加の層をさ
らに含み、該追加の層が本質的にインジウム−錫酸化物
から成る上記３もしくは４項に記載の材料。
らに含み、該追加の層が本質的にインジウム−錫酸化物
から成る上記３もしくは４項に記載の材料。
【００５６】６．抗−反射性コーティングの上に適用さ
れるトップコート（１０）をさらに含む上記１〜５項の
いずれかに記載の材料。
れるトップコート（１０）をさらに含む上記１〜５項の
いずれかに記載の材料。
【００５７】７．ガラス基質に抗−反射性コーティング
の反対の側において積層される支持体（５０）をさらに
含む上記１〜６項のいずれかに記載の材料。
の反対の側において積層される支持体（５０）をさらに
含む上記１〜６項のいずれかに記載の材料。
【００５８】８．支持体が本質的に有機ポリマー支持体
から成る上記７項に記載の材料。
から成る上記７項に記載の材料。
【００５９】９．ガラス基質と支持体の間に接着剤層
（４０）をさらに含む上記７もしくは８項に記載の材
料。
（４０）をさらに含む上記７もしくは８項に記載の材
料。
【００６０】１０．接着剤層が剥がされるとガラス基質
に固定されて残ることができる上記９項に記載の材料。
に固定されて残ることができる上記９項に記載の材料。
【００６１】１１．接着剤層が剥がされると支持体に固
定されて残ることができる上記９項に記載の材料。
定されて残ることができる上記９項に記載の材料。
【００６２】１２．（ｉ）１．５ｍの半径を有する円筒
状芯の回りに巻くことができるガラス基質（３０）、支
持体（５０）及び場合により該基質と支持体の間の接着
剤層（４０）から成る積層物を製造し； （ｉｉ）該積層物のガラス側の上に抗−反射性コーティ
ング（２０）を真空蒸着により設け； （ｉｉｉ）場合により該抗−反射性コーティングの上に
トップコート（１０）を設ける段階を含む抗−反射性材
料の製造方法。
状芯の回りに巻くことができるガラス基質（３０）、支
持体（５０）及び場合により該基質と支持体の間の接着
剤層（４０）から成る積層物を製造し； （ｉｉ）該積層物のガラス側の上に抗−反射性コーティ
ング（２０）を真空蒸着により設け； （ｉｉｉ）場合により該抗−反射性コーティングの上に
トップコート（１０）を設ける段階を含む抗−反射性材
料の製造方法。
【００６３】１３．支持体が本質的に有機ポリマーから
成る上記１２項に記載の方法。
成る上記１２項に記載の方法。
【００６４】１４．真空蒸着を： （１）積層物をほどき、再度巻くための部門； （２）抗−反射性コーティングを構成する材料の層を該
積層物のガラス側の上に連続的にスパッタリングするタ
ーゲット部門； （３）その表面上を積層物がターゲット部門を介して移
動する中心冷却ドラムを含む真空室における真空マグネ
トロンスパッタリングにより行う上記１２もしくは１３
項に記載の方法。
積層物のガラス側の上に連続的にスパッタリングするタ
ーゲット部門； （３）その表面上を積層物がターゲット部門を介して移
動する中心冷却ドラムを含む真空室における真空マグネ
トロンスパッタリングにより行う上記１２もしくは１３
項に記載の方法。
【００６５】１５．情報ディスプレーのフロントパネル
の外面の反射を減少させるための上記１〜１１項のいず
れかに記載の材料あるいは上記１２〜１４項のいずれか
に記載の方法により得られる材料の使用。
の外面の反射を減少させるための上記１〜１１項のいず
れかに記載の材料あるいは上記１２〜１４項のいずれか
に記載の方法により得られる材料の使用。
【００６６】１６．上記７〜１１項のいずれかに記載の
材料を用いて情報ディスプレーのフロントパネルの外面
の反射を減少させるための方法であって、ガラス基質か
ら支持体を剥がし、次いで該ガラス基質を該外面に積層
する段階を含む方法。
材料を用いて情報ディスプレーのフロントパネルの外面
の反射を減少させるための方法であって、ガラス基質か
ら支持体を剥がし、次いで該ガラス基質を該外面に積層
する段階を含む方法。
【００６７】１７．剥がした後、接着剤をガラス基質又
は情報ディスプレーのフロントパネルの外面に適用し、
次いで該ガラス基質を該外面に積層する段階をさらに含
む上記１６項に記載の方法。
は情報ディスプレーのフロントパネルの外面に適用し、
次いで該ガラス基質を該外面に積層する段階をさらに含
む上記１６項に記載の方法。
【００６８】１８．外面のあるフロントパネルを有する
ディスプレー部材を含む情報ディスプレー装置であっ
て、上記１〜１１項のいずれかに記載の材料又は上記１
２〜１４項のいずれかに記載の方法により得られる材料
が該外面に適用されている情報ディスプレー装置。
ディスプレー部材を含む情報ディスプレー装置であっ
て、上記１〜１１項のいずれかに記載の材料又は上記１
２〜１４項のいずれかに記載の方法により得られる材料
が該外面に適用されている情報ディスプレー装置。
【００６９】１９．ディスプレー部材が陰極線管であ
り、外面が曲面である上記１８項に記載の装置。
り、外面が曲面である上記１８項に記載の装置。
【００７０】２０．ディスプレー部材がフラットパネル
ディスプレーであり、外面が平面である上記１８項に記
載の装置。
ディスプレーであり、外面が平面である上記１８項に記
載の装置。
【図１】本発明に従う抗−反射性材料の２つの好ましい
実施態様の断面を示す略図である（層の厚さは縮尺通り
に画かれていない）。
実施態様の断面を示す略図である（層の厚さは縮尺通り
に画かれていない）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リユク・レーンダース ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 バーソロミユーズ・ベルリンデン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ジヤン−ピエール・タホン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 パウル・リツペンス ベルギー・ビー8610コルテマルク・イヒテ ゲムストラート23 (72)発明者 フーゴ・リーベンス ベルギー・ビー8052ツウイーナールデ・ネ ーデルツウイーナールデ42
Claims (5)
- 【請求項１】 抗−反射性コーティング（２０）及びガ
ラス基質（３０）を含み、１．５ｍの半径を有する円筒
状芯の回りに巻くことができるウェブ−もしくはシート
−様材料。 - 【請求項２】 （ｉ）１．５ｍの半径を有する円筒状芯
の回りに巻くことができるガラス基質（３０）、支持体
（５０）及び場合により該基質と支持体の間の接着剤層
（４０）から成る積層物を製造し； （ｉｉ）該積層物のガラス側の上に抗−反射性コーティ
ング（２０）を真空蒸着により設け； （ｉｉｉ）場合により該抗−反射性コーティングの上に
トップコート（１０）を設ける段階を含む抗−反射性材
料の製造法。 - 【請求項３】 情報ディスプレーのフロントパネルの外
面の反射を減少させるための請求項１に記載の材料又は
請求項２に記載の方法により得られる材料の利用。 - 【請求項４】 請求項１に記載の材料を用いて情報ディ
スプレーのフロントパネルの外面の反射を減少させるた
めの方法であって、ガラス基質から支持体を剥がし、次
いで該ガラス基質を該外面に積層する段階を含む方法。 - 【請求項５】 請求項１に記載の材料又は請求項２に記
載の方法により得られる材料がフロントパネルの外面に
適用されている外面のあるフロントパネルを有するディ
スプレー部材を含む情報ディスプレー装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US7828398P | 1998-03-17 | 1998-03-17 | |
| US60/078283 | 1998-03-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000003139A true JP2000003139A (ja) | 2000-01-07 |
| JP4302812B2 JP4302812B2 (ja) | 2009-07-29 |
Family
ID=22143061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07028299A Expired - Fee Related JP4302812B2 (ja) | 1998-03-17 | 1999-03-16 | 柔軟性ガラス基質上に抗―反射性コ―ティングを含む柔軟性材料、その製造方法及び利用方法、及びそれを用いた情報ディスプレー装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6366013B1 (ja) |
| EP (1) | EP0945254B1 (ja) |
| JP (1) | JP4302812B2 (ja) |
| DE (1) | DE69922725T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2005013600A2 (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Dreamworks Llc | Virtual conference room |
| JP2007331996A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Asahi Glass Co Ltd | 機能性ガラス体 |
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|---|---|---|---|---|
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