WO2011077982A1 - フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2011077982A1
WO2011077982A1 PCT/JP2010/072345 JP2010072345W WO2011077982A1 WO 2011077982 A1 WO2011077982 A1 WO 2011077982A1 JP 2010072345 W JP2010072345 W JP 2010072345W WO 2011077982 A1 WO2011077982 A1 WO 2011077982A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
film mirror
silver
film
corrosion inhibitor
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/072345
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
仁 安達
江黒　弥生
Original Assignee
コニカミノルタオプト株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタオプト株式会社 filed Critical コニカミノルタオプト株式会社
Priority to US13/517,014 priority Critical patent/US9316415B2/en
Priority to JP2011547478A priority patent/JP5660051B2/ja
Priority to EP10839216.8A priority patent/EP2518536B1/en
Publication of WO2011077982A1 publication Critical patent/WO2011077982A1/ja

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/81—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors flexible
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror excellent in light resistance and weather resistance and having good regular reflectance with respect to sunlight, a method for producing the same, and a solar power generation reflector using the film mirror.
  • a glass mirror Since the reflecting device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc., a glass mirror has been conventionally used. Glass mirrors are highly durable to the environment, but they are damaged during transportation, and because of their heavy mass, there is a problem that the construction cost of the plant is increased due to the strength of the mount on which the mirrors are installed.
  • the metal layer is made of silver having a high reflectance in the visible light region as disclosed in Patent Document 2.
  • silver is inferior in weather resistance and has a problem that it is easily deteriorated by oxygen, water vapor, sulfur and the like.
  • Patent Document 2 it is considered that the plastic substrate functions as a protective layer for the silver film layer.
  • plastic easily transmits water vapor and oxygen in the air, the deterioration of silver due to oxidation causes a problem that the reflectance of the mirror is lowered.
  • the mirror when using a mirror for the purpose of reflecting sunlight, the mirror is often used outdoors. When used outdoors, the mirror is exposed to wind and rain. Under such a severe environment, the silver is rapidly oxidized and deteriorated, and the problem of reduction in the reflectance of the mirror becomes a more prominent problem.
  • the ultraviolet absorber when used as a solar reflective mirror, the ultraviolet absorber itself deteriorates with age, and as the ultraviolet absorbing function weakens, the deterioration progresses from the side far from the silver light incident surface. There was a problem that caused a decrease in reflectivity.
  • the reflective mirror for solar thermal power generation it is necessary to collect sunlight at a desired position, so it is necessary not only to maintain a high reflectance but also to maintain a high regular reflectance. It has been found that deterioration causes a problem by causing a decrease in regular reflectance.
  • Patent Document 4 a metal layer such as copper having a higher ionization tendency than silver is provided as a silver adjacent layer far from the light incident surface to form a sacrificial anticorrosive layer for silver, thereby preventing silver corrosion.
  • a metal layer such as copper having a higher ionization tendency than silver is provided as a silver adjacent layer far from the light incident surface to form a sacrificial anticorrosive layer for silver, thereby preventing silver corrosion.
  • the sacrificial anticorrosion layer is more easily corroded than silver, so that the deterioration of the sacrificial anticorrosion layer proceeds and deformation occurs in the sacrificial anticorrosion layer. It has been found that there is a problem that the reflectance is lowered and it is difficult to maintain a high regular reflectance of the mirror.
  • the above-mentioned problems such as film peeling and reduction in regular reflectance are caused by the fact that the corrosion inhibitor is eluted at a high temperature and the interface with the adjacent layer. It was found that this was caused by the occurrence of film floating.
  • the present inventors have found that the problem of a decrease in regular reflectance due to deterioration from the back side of the silver mirror is caused by ultraviolet rays transmitted through the silver layer.
  • the film mirror is weakly self-supporting with respect to a glass mirror, and is used by being attached to a support such as metal.
  • the silver layer has a property of transmitting ultraviolet light of 320 nm or less, and the ultraviolet light transmitted through the silver layer is reflected by the support after being transmitted through the layer below the silver layer (the side far from the light incident side). The light enters the lower layer of the silver layer. Therefore, it is found that the lower reflectance of the silver layer is caused by the deterioration of the lower layer of the silver layer due to ultraviolet rays or the deterioration of the silver layer by the excitation between the silver layer and the lower layer. It was done.
  • the problem to be solved by the present invention is to prevent a decrease in regular reflectance due to deterioration of a silver layer as a reflection layer, and is light and flexible, light-proof that can reduce the manufacturing cost and increase the area and mass production. It is providing the film mirror which is excellent in property and a weather resistance, and has a favorable regular reflectance with respect to sunlight, its manufacturing method, and the solar power generation reflective apparatus using the same.
  • a film mirror in which at least an adhesive layer, a silver reflective layer, and an upper adjacent layer are provided in this order as constituent layers on a resin base material, and at least the upper adjacent layer contains a binder and a silver corrosion inhibitor A film mirror characterized by that.
  • claim 0, Comprising: On the opposite side to the side which has the said silver reflective layer on both sides of the said resin base material A solar power generation reflecting device, which is formed by attaching the film mirror on a metal base material through an adhesive layer coated on the resin base material surface.
  • the embodiment of the present invention by providing a layer containing a binder and a corrosion inhibitor in the upper adjacent layer of silver, it is possible to suppress a decrease in the reflectance of the reflective layer and to provide adhesion as a lower layer of the silver layer.
  • a layer containing a binder and a corrosion inhibitor as a layer, it is possible to effectively suppress the problem that the regular reflectance decreases because the silver reflective layer deteriorates from the back surface due to ultraviolet rays transmitted through the silver reflective layer. It becomes.
  • a sacrificial anticorrosive layer such as a copper layer
  • the sacrificial anticorrosive layer itself deteriorates to cause a decrease in regular reflectance, but contains a binder and a corrosion inhibitor.
  • Such a problem can be suppressed by using a layer to be used.
  • the film mirror of the present invention is a film mirror in which at least an adhesive layer, a silver reflection layer, and an upper adjacent layer are provided in this order as constituent layers on a resin substrate, and at least the upper adjacent layer is a binder and silver. And a corrosion inhibitor.
  • This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 12.
  • the corrosion inhibitor is a corrosion inhibitor having an adsorptivity to silver from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention.
  • the said corrosion inhibitor is a heterocyclic compound which has an adsorptivity with respect to silver, and the melting
  • both of the adhesive layer and the upper adjacent layer contain a binder and a silver corrosion inhibitor.
  • the corrosion inhibitor is an antioxidant.
  • the adhesive layer contains the antioxidant and the upper adjacent layer contains the corrosion inhibitor having an adsorptivity to silver.
  • any one of the constituent layers provided on the resin base material contains an ultraviolet absorber.
  • the thickness of the entire layer including the fat base material is preferably in the range of 75 to 250 ⁇ m.
  • the film mirror manufacturing method for manufacturing the film mirror of the present invention is preferably a manufacturing method having a step of forming the silver reflective layer by silver vapor deposition.
  • the metal substrate is interposed through an adhesive layer coated on the resin substrate surface opposite to the side having the silver reflecting layer. It is preferable that it is the solar power generation reflective apparatus of the aspect formed by affixing the said film mirror on a base material.
  • ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the film mirror of the present invention is a film mirror in which a film mirror in which at least an adhesive layer, a silver reflection layer, and an upper adjacent layer are provided in this order as constituent layers on a resin base material is provided in this order. And In addition to the adhesive layer, the silver reflection layer, and the upper adjacent layer, it is also a preferable aspect to provide a special functional layer such as a gas barrier layer or a scratch prevention layer as the constituent layer.
  • resin base material Various conventionally known resin films can be used as the resin base material according to the present invention.
  • a polyester film or a cellulose ester film it is preferable to use a polyester film or a cellulose ester film, and it may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.
  • the thickness of the resin base material is preferably an appropriate thickness depending on the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 ⁇ m. The thickness is preferably 20 to 200 ⁇ m, more preferably 30 to 100 ⁇ m.
  • the adhesive layer according to the present invention is not particularly limited as long as it has a function of enhancing the adhesion between the silver reflective layer and the resin base material (resin film), but is preferably made of a resin. Therefore, the adhesive layer has adhesiveness for closely adhering the resin base material (resin film) and the metal reflective layer, heat resistance that can withstand heat when the metal reflective layer is formed by a vacuum deposition method, and the metal reflective layer. Smoothness is required to bring out the high reflection performance inherent in
  • the resin used as the binder for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness.
  • Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like, or a mixed resin thereof can be used, and from the point of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable.
  • a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflecting material, and the like.
  • a method for forming the adhesive layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • Silver reflection layer As a method for forming the silver reflective layer according to the present invention, either a wet method or a dry method can be used.
  • the wet method is a general term for a plating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction.
  • the dry method is a general term for a vacuum film-forming method.
  • Specific examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method.
  • sputtering method a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, it is preferable that it is a manufacturing method of the aspect which has the process of forming the said silver reflection layer by silver vapor deposition as a manufacturing method of the film mirror which manufactures the film mirror of this invention.
  • the thickness of the silver reflective layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.
  • the silver reflective layer may be on the light incident side with respect to the support or on the opposite side, but since the support is a resin, for the purpose of preventing resin degradation due to light, It is preferable to be positioned on the light incident side.
  • the upper adjacent layer used in the film mirror of the present invention is adjacent to the side of the silver reflective layer far from the resin base material (support), contains a corrosion inhibitor, prevents corrosion deterioration of silver, and scratches on the silver reflective layer This contributes to the prevention and improvement of the adhesive strength with the barrier layer and the scratch prevention layer formed outside the upper adjacent layer.
  • the resin used as the binder for the upper adjacent layer can be a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a mixture of these resins. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin or an acrylic resin can be used.
  • the resin is preferably a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • isocyanate various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.
  • the thickness of the upper adjacent layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, weather resistance, and the like.
  • a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method can be used.
  • the corrosion inhibitor for the silver reflective layer used in the film mirror of the present invention is roughly classified into a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorptivity to silver.
  • corrosion refers to a phenomenon in which metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by the environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • the film mirror of the present invention is preferably an embodiment in which the adhesive layer contains an antioxidant and the upper adjacent layer contains a corrosion inhibitor having an adsorptivity to silver.
  • the optimum amount of the corrosion inhibitor varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 / m 2 .
  • corrosion inhibitors having an adsorptivity to silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, and indazole rings
  • the compound is selected from a compound having copper, a copper chelate compound, a thiourea, a compound having a mercapto group, at least one naphthalene-based compound, or a mixture thereof.
  • amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, O-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2N- Dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysoidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolamine benzoate, dicyclohexylammonium benzoate, diisopropyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium nitrite Cyclohexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexylammonium
  • Examples of compounds having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, and N-phenyl-3. , 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy) -5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole, etc. Or a mixture thereof.
  • Compounds having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl.
  • Imidazole 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4 Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc., or These mixtures are mentioned.
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and the like, or a mixture thereof.
  • thioureas examples include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
  • mercaptoacetic acid thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto
  • naphthalene-based compounds examples include thionalide.
  • corrosion inhibitor having a adsorptivity to silver used in the present invention and having a melting point of 25 ° C. or higher include the following compounds.
  • Examples of compounds having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, and N-phenyl-3. , 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy) -5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole, etc. Or a mixture thereof.
  • Compounds having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl.
  • Imidazole 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4 Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc., or These mixtures are mentioned.
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • thioureas examples include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
  • An antioxidant can also be used as a corrosion inhibitor for the silver reflective layer used in the film mirror of the present invention.
  • the antioxidant it is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a phosphite-based antioxidant.
  • phenolic antioxidants examples include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t- Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl- ⁇ - (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propi , Triethylene glycol bis [3- (3-
  • thiol-based antioxidant examples include distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- ( ⁇ -lauryl-thiopropionate), and the like.
  • phosphite antioxidant examples include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol.
  • Diphosphite bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4'-biphenylene-diphosphonite 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.
  • the above antioxidant and the following light stabilizer can be used in combination.
  • hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-Tetrame Lupiperidine, tetrakis (2,2,2,
  • nickel-based UV stabilizers include [2,2'-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
  • a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable.
  • bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) is preferable.
  • a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.
  • the gas barrier layer according to the present invention is intended to prevent deterioration of the humidity, particularly deterioration of the resin base material and various functional elements protected by the resin base material due to high humidity. As long as the above characteristics are maintained, various types of gas barrier layers can be provided. In the present invention, it is preferable to provide a gas barrier layer above the upper adjacent layer.
  • the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is 100 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, preferably 50 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, more preferably 20 g / m 2.
  • -It is preferable to adjust the moisture-proof property of the gas barrier layer so as to be not more than day / ⁇ m.
  • the oxygen permeability is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the gas barrier layer according to the present invention is not particularly limited in its formation method, but after applying the ceramic precursor of the inorganic oxide film, the inorganic oxide film is formed by heating and / or ultraviolet irradiation of the coating film.
  • the method is preferably used.
  • the gas barrier layer according to the present invention can be formed by applying a general heating method after applying a ceramic precursor that forms an inorganic oxide film by heating, but is preferably formed by local heating.
  • the ceramic precursor is preferably a sol-like organometallic compound or polysilazane.
  • the organometallic compound according to the present invention includes silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), and indium. It is preferable to contain at least one element of (In), tin (Sn), lanthanum (La), yttrium (Y), and niobium (Nb).
  • the organometallic compound is at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), zinc (Zn), and barium (Ba). It is preferable to contain. Furthermore, it is preferable to contain at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), and lithium (Li).
  • the organometallic compound is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include metal alkoxides.
  • the metal alkoxide is represented by the following general formula (1).
  • M represents a metal having an oxidation number n.
  • R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group.
  • m represents an integer of 0 to (n ⁇ 1).
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • R 1 and R 2 are preferably alkyl groups having 4 or less carbon atoms, for example, a methyl group CH 3 (hereinafter represented by Me), an ethyl group C 2 H 5 (hereinafter represented by Et), a propyl group.
  • C 3 H 7 (hereinafter represented by Pr), isopropyl group i-C 3 H 7 (hereinafter represented by i-Pr), butyl group C 4 H 9 (hereinafter represented by Bu), isobutyl group i- A lower alkyl group such as C 4 H 9 (hereinafter referred to as i-Bu) is more preferred.
  • Examples of the metal alkoxide represented by the general formula (1) include lithium ethoxide LiOEt, niobium ethoxide Nb (OEt) 5 , magnesium isopropoxide Mg (OPr-i) 2 , aluminum isopropoxide Al (OPr -I) 3 , zinc propoxide Zn (OPr) 2 , tetraethoxysilane Si (OEt) 4 , titanium isopropoxide Ti (OPr-i) 4 , barium ethoxide Ba (OEt) 2 , barium isopropoxide Ba ( OPr-i) 2 , triethoxyborane B (OEt) 3 , zirconium propoxide Zn (OPr) 4 , lanthanum propoxide La (OPr) 3 , yttrium propoxide Y (OPr) 3 , lead isopropoxide Pb (OPr- i) 2 etc. are mentioned suitably. All of these metal alkoxides are
  • the inorganic oxide according to the present invention is characterized in that it is formed by local heating from a sol using the organometallic compound as a raw material. Therefore, silicon (Si), aluminum (Al), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), indium (In) contained in the organometallic compound, It is an oxide of an element such as tin (Sn) or niobium (Nb).
  • silicon oxide aluminum oxide, zirconium oxide and the like. Of these, silicon oxide is preferable.
  • a method for forming an inorganic oxide from an organometallic compound it is preferable to use a so-called sol-gel method and a method of applying polysilazane.
  • the “sol-gel method” is to obtain a hydroxide sol by hydrolyzing an organometallic compound, etc., dehydrate it into a gel, and further heat-treat the gel. It refers to a method for preparing a metal oxide glass having a certain shape (film, particle, fiber, etc.).
  • a multi-component metal oxide glass can be obtained by a method of mixing a plurality of different sol solutions, a method of adding other metal ions, or the like.
  • an inorganic oxide by a sol-gel method having the following steps.
  • the organometallic compound in a reaction solution containing at least water and an organic solvent, is hydrolyzed and dehydrated and condensed while adjusting the pH to 4.5 to 5.0 using a halogen ion as a catalyst in the presence of boron ion.
  • Generation of fine pores due to high-temperature heat treatment is produced by a sol-gel method having a step of obtaining a reaction product by heating and vitrifying the reaction product at a temperature of 200 ° C. or less. And is particularly preferable from the viewpoint that no deterioration of the film occurs.
  • the organometallic compound used as a raw material is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include the metal alkoxides. .
  • the organometallic compound may be used for the reaction as it is, but it is preferably diluted with a solvent for easy control of the reaction.
  • the solvent for dilution is not particularly limited as long as it can dissolve the organometallic compound and can be uniformly mixed with water.
  • Preferred examples of such a solvent for dilution include aliphatic lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and mixtures thereof.
  • a mixed solvent of butanol, cellosolve, and butyl cellosolve or a mixed solvent of xylol, cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, and cyclohexane may be used.
  • the metal when the metal is Ca, Mg, Al or the like, it reacts with water in the reaction solution to form a hydroxide, or when carbonate ion CO 3 2- is present, a carbonate is formed. Therefore, it is preferable to add an alcohol solution of triethanolamine as a masking agent to the reaction solution.
  • the concentration of the organometallic compound when mixed and dissolved in a solvent is preferably 70% by mass or less, and more preferably diluted to a range of 5 to 70% by mass.
  • the reaction solution used in the sol-gel method contains at least water and an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited as long as it can form a uniform solution with water, acid, and alkali, and usually the same aliphatic lower alcohols used for diluting the organometallic compound are preferably used.
  • the aliphatic lower alcohols propanol, isopropanol, butanol, and isobutanol having a larger number of carbon atoms are preferable to methanol and ethanol. This is because the growth of the metal oxide glass film to be generated is stable.
  • the water ratio is preferably in the range of 0.2 to 50 mol / L as the concentration of water.
  • an organometallic compound is hydrolyzed in the reaction solution in the presence of boron ions using a halogen ion as a catalyst.
  • Preferred examples of the compound that gives the boron ion B 3+ include trialkoxyborane B (OR) 3 . Among these, triethoxyborane B (OEt) 3 is more preferable.
  • the B 3+ ion concentration in the reaction solution is preferably in the range of 1.0 to 10.0 mol / L.
  • halogen ion a fluorine ion and / or a chlorine ion are mentioned suitably. That is, fluorine ions alone, chlorine ions alone or a mixture thereof may be used.
  • the compound to be used may be any compound that generates fluorine ions and / or chlorine ions in the reaction solution.
  • the fluorine ion source ammonium hydrogen fluoride NH 4 HF ⁇ HF, sodium fluoride NaF, or the like is preferable.
  • Preferred examples of the chlorine ion source include ammonium chloride NH 4 Cl.
  • the concentration of the halogen ions in the reaction solution varies depending on the film thickness of an inorganic composition having an inorganic matrix to be produced and other conditions, but generally the reaction solution containing a catalyst. Is preferably in the range of 0.001 to 2 mol / kg, particularly 0.002 to 0.3 mol / kg. If the halogen ion concentration is lower than 0.001 mol / kg, hydrolysis of the organometallic compound does not proceed sufficiently, and film formation becomes difficult. If the halogen ion concentration exceeds 2 mol / kg, the resulting inorganic matrix (metal oxide glass) tends to be non-uniform, which is not preferable.
  • boron used during the reaction, if to be contained as a B 2 O 3 component in the design the composition of the resulting inorganic matrix, by leaving product was added calculated amount of organic boron compound in accordance with the content of
  • boron can be removed by evaporation as boron methyl ester by heating after film formation in the presence of methanol as a solvent or by immersing in methanol.
  • a main agent solution in which a predetermined amount of the organometallic compound is usually mixed and dissolved in a mixed solvent containing a predetermined amount of water and an organic solvent,
  • a predetermined amount of the reaction solution containing a predetermined amount of the above-mentioned halogen ions is mixed at a predetermined ratio and sufficiently stirred to obtain a uniform reaction solution, and then the pH of the reaction solution is adjusted to a desired value with acid or alkali.
  • the reaction product is obtained by aging for several hours.
  • a predetermined amount of the boron compound is mixed and dissolved in advance in the main agent solution or reaction solution. Further, when alkoxyborane is used, it is advantageous to dissolve it in the main agent solution together with other organometallic compounds.
  • the pH of the reaction solution is selected depending on the purpose, and for the purpose of forming a film (film) made of an inorganic composition having an inorganic matrix (metal oxide glass), for example, the pH is adjusted using an acid such as hydrochloric acid. It is preferable to ripen the mixture by adjusting it to the range of 4.5 to 5. In this case, for example, it is convenient to use a mixture of methyl red and bromocresol green as an indicator.
  • the main component solution having the same concentration of the same component and the reaction solution including B 3+ and halogen ions
  • the reaction product can also be produced simply and continuously.
  • the concentration of the reaction solution is in the range of ⁇ 50% by mass
  • the concentration of water (including acid or alkali) is in the range of ⁇ 30% by mass
  • the concentration of halogen ions is in the range of ⁇ 30% by mass. Can be changed.
  • reaction product reaction solution after aging
  • reaction solution after aging reaction solution after aging
  • the temperature is raised gradually while paying particular attention to a temperature range of 50 to 70 ° C., followed by a preliminary drying (solvent volatilization) step and further raising the temperature.
  • This drying is important for forming a non-porous film in the case of film formation.
  • the temperature for heating and drying after the preliminary drying step is preferably 70 to 150 ° C, more preferably 80 to 130 ° C.
  • the gas barrier layer according to the present invention contains an inorganic oxide formed by local heating of a coating film after applying a ceramic precursor that forms an inorganic oxide film by heating.
  • the resin substrate is coated with a solution containing a catalyst in the polysilazane represented by the following formula (I) and an organic solvent as necessary, and the solvent is evaporated. Leaving a polysilazane layer having a layer thickness of 0.05-3.0 ⁇ m on the resin substrate and the presence of oxygen, active oxygen, and in some cases, nitrogen in an atmosphere containing water vapor Below, it is preferable to employ
  • R 1 , R 2 , and R 3 are the same or different and independently of each other, hydrogen, or an optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group, or (trialkoxysilyl) alkyl group
  • R 1 , R 2 , and R 3 are the same or different and independently of each other, hydrogen, or an optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group, or (trialkoxysilyl) alkyl group
  • n is an integer and n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • catalysts preferably basic catalysts, in particular N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triethylamine, 3-morpholinopropylamine or N-heterocyclic compounds are used.
  • the catalyst concentration is usually in the range of 0.1 to 10 mol%, preferably 0.5 to 7 mol%, based on polysilazane.
  • a solution containing perhydropolysilazane in which all of R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms is used.
  • the coating according to the invention comprises at least one polysilazane of the formula (II) Formula (II): — (SiR 1 R 2 —NR 3 ) n — (SiR 4 R 5 —NR 6 ) p —
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are independently of each other hydrogen, or optionally substituted alkyl, aryl, vinyl, or (trialkoxysilyl) Represents an alkyl group, where n and p are integers, and n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 and R 5 represent methyl, R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , A compound in which R 4 represents methyl and R 5 represents vinyl, R 1 , R 3 , R 4 and R 6 represent hydrogen and R 2 and R 5 represent methyl.
  • a solution containing at least one polysilazane represented by the following formula (III) is also preferable.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are independently of one another hydrogen or optionally substituted alkyl group
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 , R 5 and R 8 represent methyl, R 9 represents (triethoxysilyl) propyl and R 7 Is a compound in which represents alkyl or hydrogen.
  • the proportion of polysilazane in the solvent is generally 1 to 80% by mass, preferably 5 to 50% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass.
  • an aprotic solvent which does not contain water and a reactive group (for example, hydroxyl group or amine group) and is inert to polysilazane, preferably an aprotic solvent is suitable.
  • aprotic solvent which includes, for example, aliphatic or aromatic hydrocarbons, halogen hydrocarbons, esters such as ethyl acetate or butyl acetate, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran or dibutyl ether, and mono and polyalkylene glycol dialkyl ethers ( Diglymes) or a mixture of these solvents.
  • the additional component of the polysilazane solution can be a further binder such as those conventionally used in the manufacture of paints.
  • cellulose ethers and cellulose esters such as ethyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate or cellulose acetobutyrate, natural resins such as rubber or rosin resins, or synthetic resins such as polymerized resins or condensed resins such as aminoplasts, in particular Urea resins and melamine formaldehyde resins, alkyd resins, acrylic resins, polyesters or modified polyesters, epoxides, polyisocyanates or blocked polyisocyanates, or polysiloxanes.
  • the polysilazane further components of the formulation, for example, the viscosity of the formulation, wetting the underlying film-forming property, additives influencing the lubrication or exhaust resistance, or inorganic nanoparticles, for example SiO 2, TiO 2, It can be ZnO, ZrO 2 or Al 2 O 3 .
  • the thickness of the coating film to be formed is preferably in the range of 100 nm to 2 ⁇ m.
  • a scratch preventing layer can be provided as the outermost layer of the film mirror.
  • the scratch preventing layer is provided for preventing scratches.
  • the scratch prevention layer can be composed of an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, an organic silicate compound, a silicone resin, or the like.
  • silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability.
  • what consists of an active energy ray hardening-type acrylic resin or a thermosetting type acrylic resin is preferable at the point of sclerosis
  • the active energy ray-curable acrylic resin or the thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer or a reactive diluent as a polymerization curing component.
  • Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
  • the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
  • polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam (registered trademark)” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol (registered trademark)” series, etc. ), Shin-Nakamura Co., Ltd. (trade name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (trade name “UNIDIC (registered trademark)” series, etc.), Toagosei Co., Ltd.
  • various additives can be further blended in the scratch-preventing layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.
  • ⁇ Leveling agents are effective in reducing surface irregularities, especially when functional layers are applied.
  • a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. is suitable as the silicone leveling agent.
  • UV absorber In the present invention, an ultraviolet absorber can be added for the purpose of preventing deterioration due to sunlight or ultraviolet rays. It is preferable that any one of the constituent layers provided on the resin substrate contains an ultraviolet absorber.
  • ultraviolet absorbers examples include benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, and triazine.
  • benzophenone ultraviolet absorber examples include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2- Hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetra And hydroxy-benzophenone.
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole and the like.
  • phenyl salicylate ultraviolet absorber examples include phenylsalicylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like.
  • hindered amine ultraviolet absorber examples include bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate.
  • triazine ultraviolet absorbers examples include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-tria 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxy
  • the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy. Furthermore, those that exhibit an effect when used in combination with an antioxidant, a colorant, or the like, or a light stabilizer that acts as a light energy conversion agent, called a quencher, can be used in combination. However, when using the above-mentioned ultraviolet absorber, it is necessary to select one in which the light absorption wavelength of the ultraviolet absorber does not overlap with the effective wavelength of the photopolymerization initiator.
  • the amount of the ultraviolet absorber used is 0.1 to 20% by mass, preferably 1 to 15% by mass, and more preferably 3 to 10% by mass. When the amount is more than 20% by mass, the adhesion is deteriorated.
  • the total thickness of the film mirror according to the present invention is preferably 75 to 250 ⁇ m, more preferably 90 to 230 ⁇ m, and still more preferably 100 to 220 ⁇ m, from the viewpoints of prevention of deflection of the mirror, regular reflectance, handling properties, and the like.
  • the film mirror of the present invention can be preferably used for the purpose of collecting sunlight. Although it can also be used as a solar light collecting mirror with a single film mirror, more preferably, through a pressure-sensitive adhesive layer coated on the surface of the resin substrate opposite to the side having the silver reflective layer with the resin substrate interposed therebetween
  • the film mirror is affixed on another base material, particularly on a metal base material, and used as a reflection device for solar thermal power generation.
  • the reflecting device When used as a solar power generation reflecting device, the reflecting device is shaped like a bowl (semi-cylindrical), and a cylindrical member having fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member.
  • the form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form.
  • flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector.
  • the film mirror of the present invention is particularly preferably used because a high regular reflectance is required for the reflection device used.
  • the adhesive layer is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like is used.
  • polyester resin urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber and the like are used.
  • the laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out the roll method continuously from the viewpoint of economy and productivity.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 ⁇ m from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.
  • the other substrate to be bonded to the film mirror of the present invention may be any material that can impart the protective property of the silver reflective layer, for example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, Polyarylate film or sheet, polyethylene naphthalate film or sheet, polyethylene terephthalate film or sheet, plastic film or sheet such as fluorine film, or resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, etc.
  • a resin film or sheet coated with a resin kneaded with a resin or subjected to surface processing such as metal deposition is used.
  • the thickness of the laminated film or sheet is not particularly limited but is preferably in the range of 12 to 250 ⁇ m.
  • these other base materials may be bonded after providing a concave portion or a convex portion before being bonded to the film mirror of the present invention, or may be formed to have a concave portion or a convex portion after being bonded.
  • the bonding and the molding so as to have a concave portion or a convex portion may be performed at the same time.
  • the metal substrate of the solar collector mirror according to the present invention includes a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, a chrome plated steel plate, a stainless steel plate, etc.
  • a metal material having a high rate can be used.
  • a plated steel plate In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate or the like having good corrosion resistance.
  • polyester resin Polyethylene terephthalate film
  • melamine resin Super Becamine J-820, manufactured by DIC Corporation
  • TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate)
  • HDMI isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) is mixed in toluene at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 to a solid content concentration of 10% by a gravure coating method.
  • an adhesive layer having a thickness of 0.1 ⁇ m is formed, a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by a vacuum deposition method, and a polyester resin is formed on the silver reflective layer.
  • the upper adjacent layer contained thioether (2,4-bis [(octylthio) methyl] -O-cresol) as a corrosion inhibitor so as to be 0.3 g / m 2 .
  • the sample thus produced was used as the sample of Reference Example 1.
  • Example 1 A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used as the substrate.
  • an imidazole compound (5,6-dimethylbenzimidazole) as a corrosion inhibitor was added in an amount adjusted to 0.2 g / m 2 after coating, and the coating was coated by a gravure coating method to a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • An adhesive layer was formed.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by vacuum deposition, and a polyester resin and a TDI isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer.
  • an imidazole compound (5,6-dimethylbenzimidazole) as a corrosion inhibitor was added to the prepared resin in an amount adjusted to 0.3 g / m 2 after coating, and coating was performed by a gravure coating method to obtain a thickness of 0
  • a sample of Example 1 was obtained by forming a 1 ⁇ m upper adjacent layer.
  • Example 2 Instead of the imidazole compound of Example 1, a thiadiazole compound (1,3,4-thiadiazole-2,5-dithiol) was added to the adhesive layer and the upper adjacent layer in the same amount as in Example 1. A sample of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • Example 3 In place of the imidazole compound of Example 1, a triazole compound (Benztriazole) was added to the adhesive layer and the upper adjacent layer in the same amount as in Example 1 in the same manner as in Example 1. Three samples were prepared.
  • Benztriazole triazole compound
  • Example 4 Bar coating is applied to the adjacent outer side of the upper adjacent layer of the sample of Example 3 using a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether (NL120 manufactured by Clariant) so that the thickness of the dried film becomes 100 nm. Then, after naturally drying for 3 minutes, the sample of Example 4 was produced by annealing for 30 minutes in an oven at 90 ° C. and providing a gas barrier layer.
  • a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether NL120 manufactured by Clariant
  • the sample was pasted on a stainless steel (SUS304) plate having a thickness of 0.1 mm and a length of 4 cm ⁇ width 5 cm through a 3 ⁇ m thick adhesive layer to produce a solar light collecting mirror.
  • SUS304 stainless steel
  • a spectrophotometer “UV265” manufactured by Shimadzu Corporation was modified with an integrating sphere reflection accessory, and the incident angle of incident light was adjusted to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface.
  • the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
  • ⁇ Regular reflectance> 5 The rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more A: Surface roughness Ra: less than 0.1 ⁇ m O: Surface roughness Ra: 0.1 ⁇ m or more and less than 0.2 ⁇ m ⁇ : Surface roughness Ra: 0.2 ⁇ m or more and 0.5 ⁇ m X: Surface roughness Ra: More than 0.5 ⁇ m The results of evaluating the characteristics are shown in Table 1 below.
  • the various characteristics of the examples according to the present invention are superior to the reference examples. That is, the above-described means of the present invention prevents a decrease in the regular reflectance due to the floating of the barrier layer and the underlayer adjacent to the corrosion prevention layer such as the upper adjacent layer, and is lightweight and flexible, thereby suppressing the manufacturing cost.
  • Film mirror that can be increased in area and mass-produced, has excellent light resistance and weather resistance, and stably has good regular reflectance to sunlight, its production method, and solar power generation using the film mirror It can be seen that a reflective device can be provided.
  • an adhesive layer having a thickness of 0.1 ⁇ m is formed, a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by a vacuum deposition method, and a polyester resin is formed on the silver reflective layer.
  • TDI tolylene diisocyanate
  • Example 1 A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used as the substrate.
  • glycol dimercaptoacetate (corrosion inhibitor A) as a corrosion inhibitor was added in an amount adjusted to 0.2 g / m 2 after coating, and coating was performed by a gravure coating method. An adhesive layer was formed.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by a vacuum deposition method, and a polyester resin and a TDI isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer.
  • glycol dimercaptoacetate (corrosion inhibitor A) as a corrosion inhibitor was added to the prepared resin in an amount adjusted to 0.3 g / m 2 after coating, and coating was performed by a gravure coating method.
  • a sample of Example 1 was obtained by forming a 1 ⁇ m upper adjacent layer.
  • Example 2 Example 1 except that 2-mercaptobenzothiazole (corrosion inhibitor B) was added to the adhesive layer and the upper adjacent layer in the same amount as in Example 1 in place of the glycol dimercaptoacetate of Example 1.
  • a sample of Example 2 was produced by the same method as described above.
  • Example 3 Instead of the glycol dimercaptoacetate of Example 1, 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite (corrosion inhibitor C) as an antioxidant in the adhesive layer and the upper adjacent layer respectively.
  • the sample of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.3 g / m 2 was added to the adhesive layer and 0.5 g / m 2 was added to the upper adjacent layer.
  • Example 4 A sample of Example 4 was produced in the same manner as in Example 3 except that glycol dimercaptoacetate was applied as an anticorrosive agent to the upper adjacent layer of Example 3 so as to be 0.3 g / m 2 after coating. .
  • Example 5 Bar coating is applied to the adjacent outer side of the upper adjacent layer of the sample of Example 4 using a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether (NL120 manufactured by Clariant) so that the thickness of the dried film becomes 100 nm. Then, after naturally drying for 3 minutes, the sample of Example 5 was produced by annealing for 30 minutes in an oven at 90 ° C. and providing a gas barrier layer.
  • a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether NL120 manufactured by Clariant
  • Example 6 On the outside adjacent to the gas barrier layer of the sample of Example 5, a commercially available hard coat agent (Opster (registered trademark) Z7534 manufactured by JSR) was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid concentration was 50% by mass, and the average particle size was further reduced. A 1.5 ⁇ m acrylic fine particle (Chemisnow (registered trademark) MX series, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was added in an amount of 1% by mass based on the solid content of the hard coating agent to prepare a coating for a scratch-preventing layer. After coating the above-mentioned paint, it was dried at 80 ° C. and further cured by irradiating with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to provide a scratch-preventing layer having a thickness of 6 ⁇ m.
  • Opster registered trademark
  • Z7534 manufactured by JSR
  • Example 7 2,4-Dihydroxy-benzophenone was added to the scratch-preventing layer coating material of Example 6 so that the amount was 0.7 g / m 2 after coating, and a scratch-preventing layer was provided in the same manner as in Example 6. The sample of Example 7 was produced.
  • Example 8 A sample of Example 8 was produced in the same manner as in Example 7 except that the polyester film of the sample of Example 6 was replaced with a polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 ⁇ m.
  • Example 9 to 11 In the sample preparation method of Example 8, the same method as in Example 8 except that the corrosion inhibitor contained in the upper adjacent layer was changed to the following corrosion inhibitors (D) to (F) as shown in Table 2. Thus, samples of Examples 9 to 11 were produced.
  • the sample was pasted on a stainless steel (SUS304) plate having a thickness of 0.1 mm and a length of 4 cm ⁇ width 5 cm through a 3 ⁇ m thick adhesive layer to produce a solar light collecting mirror.
  • a spectrophotometer “UV265” manufactured by Shimadzu Corporation was modified with an integrating sphere reflection accessory, and the incident angle of incident light was adjusted to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface.
  • the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
  • ⁇ Weather resistance test for regular reflectance> The regular reflectance of the film mirror after being left for 30 days under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH is measured by the same method as the above-mentioned light reflectance measurement, and the regular reflectance and forced degradation of the film mirror before forced degradation. From the ratio of the regular reflectance of the subsequent film mirror, the rate of decrease in regular reflectance before and after the weather resistance test was calculated. The evaluation criteria for the weather resistance test are described below.
  • the rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more ⁇ Light resistance test of regular reflectance> The obtained sample was irradiated with ultraviolet rays for 7 days in an environment of 65 ° C. using an I-Super UV tester manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., then the regular reflectance was measured by the above method, and the regular reflectance before and after ultraviolet irradiation was measured. The reduction rate was calculated. The evaluation criteria for the light resistance test are described below.
  • the rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more ⁇ Pencil hardness test> Based on JIS-K5400, the pencil hardness of each sample at 45 ° inclination and 1 kg load was measured. The measurement results are shown in Table 2.
  • the various characteristics of the examples according to the present invention are superior to the comparative examples. That is, the above-described means of the present invention prevents the decrease in regular reflectance due to the deterioration of the silver reflection layer, and is light and flexible, lightweight and flexible, and can be manufactured with a large area and mass production while suppressing manufacturing costs. It can be seen that it is possible to provide a film mirror having excellent specularity and good regular reflectance with respect to sunlight, a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflecting device using the film mirror.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

　反射層である銀層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供する。　本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層、及び上部隣接層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、少なくとも前記上部隣接層がバインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とする

Description

フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
　本発明は、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
　近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
　しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
　これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
　反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、質量が重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
　上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきたが（例えば特許文献１参照）、樹脂は外部環境に対して弱く、また反射層に銀などの金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素などが透過し、銀を腐食してしまうといった問題もあり、樹脂製ミラーの適用は困難であった。
　太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、特許文献２に開示されているように、金属層を可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましい。しかしながら、銀は耐候性に劣り、酸素・水蒸気・硫黄などで劣化しやすいという問題がある。
　この問題に対し、特許文献２においては、プラスチック基板が銀膜層の保護層として機能していると考えられる。しかしながら、プラスチックは空気中の水蒸気や酸素を透過しやすいため、酸化により銀が劣化することにより、ミラーの反射率が低下するという問題も招いてしまう。
　さらに、太陽光を反射する目的でミラーを使用する場合、ミラーを屋外で使用することが多い。屋外で使用する場合には、ミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境下では銀の酸化劣化が早まり、ミラーの反射率の低下の問題はより顕著な問題となる。
　銀の腐食防止技術については、銀層の光入射面側の隣接層として樹脂層等腐食防止層を塗設する方法が既に知られている（例えば特許文献３参照）。しかしながら、このような技術でも太陽光反射用のミラーとして用いられた場合には、屋外の厳しい環境下におかれるため、腐食に対して十分な効果が得られず、反射率の低下を十分に解消することができなかった。
　また、銀ミラーの劣化を防止する一つの手段として、紫外線吸収剤と腐食防止剤を含有する層を銀の上層として設ける方法も提案されている（例えば特許文献４参照）。
　しかしながら、フィルムミラーが太陽熱発電用反射装置として用いられる場合、常に風雨や太陽光照射に晒されることとなるため、従来の鏡等の用途と比較すると温湿度の変化が非常に大きな条件で用いられることとなる。このような条件下においては、上述の技術を採用した場合には、腐食防止剤を含有する層と隣接する層との間で膜浮きや膜剥がれが発生したり、隣接する銀反射層との界面で変形が生じて正反射率の低下を引き起こす場合があることが判明した。
　また、一方、太陽光反射用ミラーとして使用された場合においては、紫外線吸収剤自体が、経年劣化することで紫外線吸収機能が弱まるにしたがって、銀の光入射面から遠い側から劣化が進み、正反射率の低下を引き起こす問題が発生した。太陽熱発電用の反射ミラーにおいては、太陽光を所望の位置に集光させる必要があるため、高い反射率を維持するだけでなく、高い正反射率を維持する必要があり、銀の裏側からの劣化が正反射率の低下を引き起こすことで問題となることが判明した。また、特許文献４では、銀よりもイオン化傾向の高い銅等の金属層を、光入射面から遠い側の銀の隣接層として設けて銀の犠牲防蝕層とすることで、銀の腐食を防止する方法も検討されている。しかしながら、このような方法を用いた場合には、犠牲防蝕層は銀よりも腐食しやすいため、犠牲防蝕層の劣化が進行し、犠牲防食層に変形が生じることで、やはり、銀面の正反射率が低下し、ミラーの高い正反射率を維持することが困難になるといった問題が生じることが分かってきた。
特開２００５－５９３８２号公報 特開平６－３８８６０号公報 特開２００２－１２２７１７号公報 米国特許出願公開第２００６／０１８１７６５号明細書
　上記問題・状況をかんがみて、本発明者らが検討した結果、上記の膜剥がれや正反射率の低下等の問題は、腐食防止剤が、高温下で溶出することで、隣接層との界面に膜浮きが発生することに起因することが分かった。
　また、銀ミラーの裏側からの劣化による正反射率の低下の問題は、銀層を透過した紫外線によりもたらされることを、本発明者らは、見出した。フィルムミラーを太陽熱発電用の反射装置として用いる場合、ガラス製のミラーに対してフィルムミラーは自己支持性が弱いため、金属等の支持体上に貼りあわされて用いられる。また、銀層は３２０ｎｍ以下の紫外線を透過する性質があり、銀層を透過した紫外線は、銀層の下層（光入射側から遠い側）の層を透過した後、支持体により反射されて再度銀層の下層に入射することとなる。そのため、紫外線により銀層の下層が劣化するか、又は銀層と下層との間が励起されることで銀層の劣化が進むことで、銀層の正反射率の低下を引き起こすことが見出された。
　従って、本発明の解決課題は、反射層である銀層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
　本発明に係る上記課題は、下記の手段により解決される。
　１．樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層、及び上部隣接層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、少なくとも前記上部隣接層がバインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とするフィルムミラー。
　２．前記腐食防止剤が、銀に対する吸着性を有する腐食防止剤であることを特徴とする前記第１項に記載のフィルムミラー。
　３．前記腐食防止剤が、銀に対して吸着性を有する複素環式化合物であり、その融点が２５℃以上であることを特徴とする前記第１項又は第２項に記載のフィルムミラー。
　４．前記接着層と上部隣接層の両方が、バインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とする前記第１項から第３項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　５．前記腐食防止剤が、酸化防止剤であることを特徴とする前記第１項、第２項又は第４項に記載のフィルムミラー。
　６．前記接着層が前記酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性を有する前記腐食防止剤を含有していることを特徴とする前記第１項から第５項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　７．前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を有することを特徴とする前記第１項から第６項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　８．前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することを特徴とする前記第１項から第７項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　９．前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする前記第１項から第８項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　１０．前記樹脂基材を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることを特徴とする前記第１項から第９項までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
　１１．前記第１項から第１項０までのいずれか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
　１２．前記第１項から第１項０までのいずれか一項に記載のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記樹脂基材を挟んで前記銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に当該フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
　本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
　なお、本発明の形態によれば、銀の上部隣接層にバインダーと腐食防止剤を含有する層を設けることで、反射層の反射率の低下を抑制できるとともに、銀層の下層として設けられる接着層としてバインダーと腐食防止剤を含有する層を設けることで、銀反射層を透過した紫外線により銀反射層が裏面から劣化することで正反射率が低下する問題を効果的に抑制することが可能となる。また、銀反射層の下層として、銅層等の犠牲防蝕層を設けた場合は、犠牲防蝕層自体の劣化により正反射率の低下を引き起こすことが考えられるが、バインダーと腐食防止剤とを含有する層とすることで、このような問題を抑制することができる。
　本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層、及び上部隣接層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、少なくとも前記上部隣接層がバインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項１２までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
　本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記腐食防止剤が、銀に対する吸着性を有する腐食防止剤であることが好ましい。また、当該腐食防止剤が、銀に対して吸着性を有する複素環式化合物であり、その融点が２５℃以上であることが好ましい。
　本発明の実施態様としては、前記接着層と上部隣接層の両方が、バインダーと銀の腐食防止剤とを含有している態様であることも好ましい。また、当該腐食防止剤が、酸化防止剤であることも好ましい。さらに、前記接着層が前記酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性を有する前記腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。
　本発明においては、前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を有することが好ましい。また、前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することが好ましい。さらに、前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
　本発明においては、前記脂基材を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることが好ましい。
　本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
　本発明のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置としては、前記樹脂基材を挟んで前記銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に当該フィルムミラーを貼り付けて形成された態様の太陽熱発電用反射装置であることが好ましい。
　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
　（フィルムミラーの構成概要）
　本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層、及び上部隣接層がこの順に設けられたフィルムミラーがこの順に設けられたフィルムミラーであることを特徴とする。構成層として、当該接着層、銀反射層、及び上部隣接層の他に、ガスバリア層、傷防止層等の特別な機能層を設けることも好ましい態様である。
　（樹脂基材）
　本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
　特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
　当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０～３００μｍの範囲内である。好ましくは２０～２００μｍ、更に好ましくは３０～１００μｍである。
　（接着層）
　本発明に係る接着層は銀反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
　当該接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　当該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　（銀反射層）
　本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
　湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。
　一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
　当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０～２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０～１５０ｎｍである。
　本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあっても良いが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。
　（上部隣接層）
　本発明のフィルムミラーに用いられる上部隣接層は、銀反射層の樹脂基材（支持体）から遠い側に隣接し、腐食防止剤を含み、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止及び、上部隣接層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与するものである。
　当該上部隣接層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
　上部隣接層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　上部隣接層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　（腐食防止剤）
　本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤には、大別して、銀に対する吸着性を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
　ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。
　本発明のフィルムミラーは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性を有する腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。
　なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１～１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
　〈銀に対する吸着性を有する腐食防止剤〉
　銀に対する吸着性を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、Ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ－ジメチルエタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１，３－プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ－エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピロール環を有する物としては、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２－エタンジオール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
　〈銀に対して吸着性を有し、かつ融点が２５℃以上の複素環式化合物〉
　銀に対して吸着性を有する複素環式化合物で、かつその融点が２５℃以上である腐食防止剤としては、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、メルカプト基を有する複素環式化合物等の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　本発明において用いられる銀に対して吸着性を有する複素環式化合物で、かつ融点２５℃以上の腐食防止剤の具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。
　ピロール環を有する物としては、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　〈酸化防止剤〉
　本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
　酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、２，２′－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、テトラキス－〔メチレン－３－（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、４，４′－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４′－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリス（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシベンジル）－Ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９－ビス［１，１－ジ－メチル－２－〔β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－２，４，８，１０－テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
　チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル－３，３′－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリル－チオプロピオネート）等を挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス－（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）４，４′－ビフェニレン－ジホスホナイト、２，２′－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
　なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
　ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、１－メチル－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、１－［２－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－４－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ベンゾイルオキシ－２，２、６，６－テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタン－テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４，５］デカン－２，４－ジオン等が挙げられる。
　その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノレート）〕－２－エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル－ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
　特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
　（ガスバリア層）
　本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を設けることが好ましい。
　当該ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、更に好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該ガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
　本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約は無いが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／又は紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
　〈セラミック前駆体〉
　本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
　〈有機金属化合物〉
　本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
　有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
　前記金属アルコキシドは、下記一般式（１）で表される。
　一般式（１）：ＭＲ２ ｍ（ＯＲ１）ｎ－ｍ
　前記一般式（１）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍは、０～（ｎ－１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ－Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ－Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ－Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ－Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
　前記一般式（１）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ－ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ－ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ－ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ－ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ－ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
　〈無機酸化物〉
　本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
　例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
　本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル－ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
　〈ゾル－ゲル法〉
　ここで、「ゾル－ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
　具体的には、下記工程を有するゾル－ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
　すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５～５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル－ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
　上記ゾル－ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。
　前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３ ２－が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生ずるため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５～７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２～５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ゾル－ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０～１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／又は塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／又は塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
　前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の合計質量に対して、０．００１～２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２～０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。又ハロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
　なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、又はメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
　前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸又はアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液又は反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
　前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５～５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
　なお、前記ゾル－ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸又はアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
　次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０～７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０～１５０℃が好ましく、８０～１３０℃がより好ましい。
　〈ポリシラザンを塗布する方法〉
　本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
　当該セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式（Ｉ）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５～３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
式（Ｉ）：　－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－
［式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、ビニル又は３－（トリエトキシシリル）プロピル、３－（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。］
　触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３－モルホリノプロピルアミン又はＮ－複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１～１０モル％、好ましくは０．５～７モル％の範囲である。
　好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
　さらに別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式（II）の少なくとも一種のポリシラザンを含む。
式（II）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
　また、次式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。
式（III）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－（ＳｉＲ７Ｒ８－ＮＲ９）ｑ－
　上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキル又は水素を表す化合物である。
　溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１～８０質量％、好ましくは５～５０質量％、特に好ましくは１０～４０質量％である。
　溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基又はアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
　上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののような更に別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
　当該ポリシラザン調合物の更に別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用又は排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３であることができる。
　本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
　形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ～２μｍの範囲内にすることが好ましい。
　（傷防止層）
　本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
　当該傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、又は熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
　活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂又は熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
　アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
　また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
　市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亞合成株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
　本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤などを用いることができる。
　レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン－ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
　（紫外線吸収剤）
　本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
　紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
　ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４－ジヒドロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ドデシロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシ－ベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４，４′－ジメトキシ－ベンゾフェノン、２，２′，４，４′－テトラヒドロキシ－ベンゾフェノン等が挙げられる。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２－（２′－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
　サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２－４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート等が挙げられる。
　トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
　紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
　通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
　紫外線吸収剤の使用量は、０．１～２０質量％、好ましくは１～１５質量％、さらに好ましくは３～１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
　（フィルムミラー全体の厚さ）
　本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５～２５０μｍが好ましく、更に好ましくは９０～２３０μｍ、更に好ましくは１００～２２０μｍである。
　（太陽熱発電用反射装置）
　本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
　太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
　〈粘着層〉
　粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などのいずれもが用いられる。
　例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。
　ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
　粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１～５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
　本発明に適宜採用される本発明のフィルムミラーと貼り合せられる他基材としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたり金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
　貼り合わせフィルム又はシートの厚さは、特に制限はないが通常１２～２５０μｍの範囲であることが好ましい。
　また、これらの他基材は本発明のフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
　〈金属基材〉
　本発明に係る太陽光集光ミラーの金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。
　本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
　以下、本発明について実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。
（Ｉ）少なくとも上部隣接層が、バインダーと銀の腐食防止剤とを含有している場合
　［参考例１］
　基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ（株）製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成した。なお、当該上部隣接層中に腐食防止剤としてチオエーテル（２，４－ビス［（オクチルチオ）メチル］－Ｏ－クレゾール）を０．３ｇ／ｍ２となるように含有させた。このようにして作製したサンプルを参考例１のサンプルとした。
　［実施例１］
　基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート、上記ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてイミダゾール系化合物（５，６－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ）を塗布後に０．２ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。更に接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてイミダゾール系化合物（５，６－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ）を塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成し、実施例１のサンプルを得た。
　［実施例２］
　実施例１のイミダゾール系化合物に替えて、接着層と上部隣接層にそれぞれチアジアゾール系化合物（１，３，４－Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ－２，５－ｄｉｔｈｉｏｌ）を実施例１と同量となるように加えた以外は、実施例１と同様の方法により実施例２のサンプルを作製した。
　［実施例３］
　実施例１のイミダゾール系化合物に替えて、接着層と上部隣接層にそれぞれトリアゾール系化合物（Ｂｅｎｚｔｒｉａｚｏｌｅ）を実施例１と同量となるよう加えた以外は、実施例１と同様の方法により実施例３のサンプルを作製した。
　［実施例４］
　実施例３のサンプルの上部隣接層の隣接した外側に、ジブチルエーテル中（クラリアント社製　ＮＬ１２０）の３％パーヒドロポリシラザン液を用いて、乾燥後の膜の厚さが１００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ガスバリア層を設けることにより、実施例４のサンプルを作製した。
　（太陽光集光ミラーの作製）
　厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）板上に、上記サンプルを、厚さ３μｍの粘着層を介して貼り付け、太陽光集光ミラーを作製した。
　［評価］
　上記で得た太陽光集光ミラーについて、下記の方法により正反射率及び膜浮き度合いの測定をそれぞれ行った。
　＜正反射率の測定＞
　島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
　＜膜浮き検査＞
　オリンパス社製レーザー顕微鏡「ＯＬＳ４０００」にて、表面粗さを測定し、膜浮き度合いを測定した。
　＜正反射率、膜浮き度の高温高湿試験＞
　温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置前後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、反射率の低下率を算出した。また、同時に膜浮き度も測定した。以下に高温高湿試験の評価基準を記す。
　＜正反射率＞
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜膜浮き度＞
◎：表面粗さＲａ：０．１μｍ未満
○：表面粗さＲａ：０．１μｍ以上０．２μｍ未満
△：表面粗さＲａ：０．２μｍ以上０．５μｍ
×：表面粗さＲａ：０．５μｍ超
　特性を評価した結果を下記表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示した評価結果から明らかなように本発明に係る実施例の各種特性は、参考例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、上部隣接層などの腐食防止層と隣接するバリア層や下地層の膜浮きによる正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができ、耐光性及び耐候性に優れ、かつ安定して太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができることが分かる。
（II）接着層と上部隣接層の両方が、バインダーと銀の腐食防止剤とを含有している場合
　［比較例１］
　基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ（株）製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成し、比較例１のサンプルを得た。
　［実施例１］
　基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、上記ポリエステル系樹脂、上記メラミン系樹脂、上記ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート，上記ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（腐食防止剤Ａ）を塗布後に０．２ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成した。更に接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（腐食防止剤Ａ）を塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの上部隣接層を形成し、実施例１のサンプルを得た。
　［実施例２］
　実施例１のグリコールジメルカプトアセテートに替えて、接着層と上部隣接層にそれぞれ２－メルカプトベンゾチアゾール（腐食防止剤Ｂ）を実施例１と同量となるように加えた以外は、実施例１と同様の方法により実施例２のサンプルを作製した。
　［実施例３］
　実施例１のグリコールジメルカプトアセテートに替えて、接着層と上部隣接層にそれぞれ酸化防止剤として２，２′－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト（腐食防止剤Ｃ）を接着層に０．３ｇ／ｍ２、上部隣接層に０．５ｇ／ｍ２となるように加えた以外は、実施例１と同様の方法により実施例３のサンプルを作製した。
　［実施例４］
　実施例３の上部隣接層に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるように加えた以外は、実施例３と同様の方法により実施例４のサンプルを作製した。
　［実施例５］
　実施例４のサンプルの上部隣接層の隣接した外側に、ジブチルエーテル中（クラリアント社製　ＮＬ１２０）の３％パーヒドロポリシラザン液を用いて、乾燥後の膜の厚さが１００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ガスバリア層を設けることにより、実施例５のサンプルを作製した。
　［実施例６］
　実施例５のサンプルのガスバリア層の隣接した外側に、市販のハードコート剤（ＪＳＲ製　オプスター（登録商標）Ｚ７５３４）をメチルエチルケトンで固形分濃度が５０質量％になるように希釈し、更に平均粒子径が１．５μｍのアクリル系微粒子（綜研化学製　ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を上記ハードコート剤の固形分に対して１質量％添加して、傷防止層用の塗料を調製した。上記の塗料を塗工後、８０℃で乾燥、さらに紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚さ６μｍの傷防止層を設けた。
　［実施例７］
　実施例６の傷防止層用塗料に、２，４－ジヒドロキシ－ベンゾフェノンを塗布後に０．７ｇ／ｍ２となるように添加し、実施例６と同様の方法により傷防止層を設けて、実施例７のサンプルを作製した。
　［実施例８］
　実施例６のサンプルのポリエステルフィルムを、厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに替えた以外は、実施例７と同様の方法により、実施例８のサンプルを作製した。
　［実施例９～１１］
　実施例８のサンプル作製方法において、上部隣接層に含有させる腐食防止剤を表２に記載したように下記腐食防止剤（Ｄ）～（Ｆ）に替えた以外は、実施例８と同様の方法により、実施例９～１１のサンプルを作製した。
腐食防止剤（Ｄ）：５，６－Ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ
腐食防止剤（Ｅ）：１，３，４－Ｔｈｉａｄｉａｚｏｌｅ－２，５－ｄｉｔｈｉｏｌ
腐食防止剤（Ｆ）：Ｂｅｎｚｔｒｉａｚｏｌｅ
　（太陽光集光ミラーの作製）
　厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）板上に、上記サンプルを、厚さ３μｍの粘着層を介して貼り付け、太陽光集光ミラーを作製した。
　［評価］
　上記で得た太陽光集光ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。
　＜正反射率の測定＞
　島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
　＜正反射率の耐候性試験＞
　温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率の比から、耐候性試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜正反射率の耐光性試験＞
　得られたサンプルを、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐光性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜鉛筆硬度試験＞
　ＪＩＳ－Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を測定した。測定結果を表２に示す。
　＜太陽光集光ミラーの黄色変化＞
　得られたサンプルを岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、目視により黄色変化を行った。
○：目視で色味の差が見えない。
△：目視で色味の差がわずかに見える。
×：目視で色味の差がはっきり見える。
　得られた各種フィルムミラーの内容を下記表２に、特性を評価した結果を下記表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３に示した評価結果から明らかなように本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができることが分かる。

Claims (12)

  1. 　樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層、及び上部隣接層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、少なくとも前記上部隣接層がバインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とするフィルムミラー。
  2. 　前記腐食防止剤が、銀に対する吸着性を有する腐食防止剤であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
  3. 　前記腐食防止剤が、銀に対して吸着性を有する複素環式化合物であり、その融点が２５℃以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフィルムミラー。
  4. 　前記接着層と上部隣接層の両方が、バインダーと銀の腐食防止剤とを含有していることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  5. 　前記腐食防止剤が、酸化防止剤であることを特徴とする請求項１、請求項２又は請求項４に記載のフィルムミラー。
  6. 　前記接着層が前記酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性を有する前記腐食防止剤を含有していることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  7. 　前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  8. 　前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  9. 　前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  10. 　前記樹脂基材を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載のフィルムミラー。
  11. 　請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
  12. 　請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載のフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記樹脂基材を挟んで前記銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に当該フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
PCT/JP2010/072345 2009-12-21 2010-12-13 フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 WO2011077982A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/517,014 US9316415B2 (en) 2009-12-21 2010-12-13 Film mirror, production process of same and reflection device for solar power generation comprising same
JP2011547478A JP5660051B2 (ja) 2009-12-21 2010-12-13 フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
EP10839216.8A EP2518536B1 (en) 2009-12-21 2010-12-13 Film mirror, process for production of same, and reflection device for solar power generation purposes comprising same

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009288778 2009-12-21
JP2009-288775 2009-12-21
JP2009-288778 2009-12-21
JP2009288775 2009-12-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011077982A1 true WO2011077982A1 (ja) 2011-06-30

Family

ID=44195513

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/072345 WO2011077982A1 (ja) 2009-12-21 2010-12-13 フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9316415B2 (ja)
EP (1) EP2518536B1 (ja)
JP (1) JP5660051B2 (ja)
WO (1) WO2011077982A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014133403A (ja) * 2012-02-14 2014-07-24 Fujifilm Corp ミラーフィルム、その製造方法、及びそれを用いた反射鏡
WO2014129275A1 (ja) 2013-02-20 2014-08-28 富士フイルム株式会社 太陽光集光用フィルムミラーおよびその製造方法
JP2015007672A (ja) * 2013-06-24 2015-01-15 富士フイルム株式会社 フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014198376A (ja) * 2011-08-02 2014-10-23 コニカミノルタ株式会社 機能性フィルム
US20150024215A1 (en) * 2012-03-27 2015-01-22 Mitsubishi Paper Mills Limited Silver-plated coated body

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61154942A (ja) * 1984-12-24 1986-07-14 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニー 耐腐食性反射鏡
JPH0638860A (ja) 1991-12-04 1994-02-15 Tetsuto Nakajima プラスチック鏡及びその製造方法
JP2001305321A (ja) * 2000-04-20 2001-10-31 Toyobo Co Ltd 面光源用反射フィルム
JP2002122717A (ja) 2000-10-18 2002-04-26 Oike Ind Co Ltd 耐久性反射フイルム
JP2002154179A (ja) * 2000-11-21 2002-05-28 Kobe Steel Ltd アルミニウム合金薄板材及びそれを用いたヘリオスタット用凹面反射鏡並びにその製造方法
JP2005059382A (ja) 2003-08-12 2005-03-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 三次元成形機で成形可能な鏡面ミラーシートおよびその製造方法
US20060181765A1 (en) 2001-02-09 2006-08-17 Jorgensen Gary J Advanced ultraviolet-resistant silver mirrors for use in solar reflectors

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4226910A (en) * 1979-07-12 1980-10-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy control sheet having insulative properties
US5216551A (en) * 1990-02-16 1993-06-01 Asahi Kogaku Kogyo K.K. Surface reflector
US5118540A (en) * 1990-04-23 1992-06-02 Solar Kinetics, Inc. Corrosion resistant flexible reflective film for solar energy applications
JP3206852B2 (ja) * 1993-06-21 2001-09-10 セントラル硝子株式会社 鏡
JPH09311207A (ja) * 1996-05-17 1997-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd ミラーとフィルムとテレビジョン受像機
US6030671A (en) * 1998-01-09 2000-02-29 Msc Specialty Films, Inc. Low emissivity window films
US6989924B1 (en) * 1998-08-06 2006-01-24 Midwest Research Institute Durable corrosion and ultraviolet-resistant silver mirror
US6166322A (en) * 1999-04-16 2000-12-26 Industrial Technology Research Institute Encapulation process for mono-and polycrystalline silicon solar cell modules
US6191199B1 (en) * 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
US6974850B2 (en) * 2003-05-30 2005-12-13 3M Innovative Properties Company Outdoor weatherable photopolymerizable coatings
JP4655813B2 (ja) * 2005-08-09 2011-03-23 株式会社日立製作所 リフレクタ及びそれを用いた投射型画像表示装置
JP2007264594A (ja) * 2006-03-01 2007-10-11 Nissan Motor Co Ltd 反射防止微細構造、反射防止成形体及びその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61154942A (ja) * 1984-12-24 1986-07-14 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニー 耐腐食性反射鏡
JPH0638860A (ja) 1991-12-04 1994-02-15 Tetsuto Nakajima プラスチック鏡及びその製造方法
JP2001305321A (ja) * 2000-04-20 2001-10-31 Toyobo Co Ltd 面光源用反射フィルム
JP2002122717A (ja) 2000-10-18 2002-04-26 Oike Ind Co Ltd 耐久性反射フイルム
JP2002154179A (ja) * 2000-11-21 2002-05-28 Kobe Steel Ltd アルミニウム合金薄板材及びそれを用いたヘリオスタット用凹面反射鏡並びにその製造方法
US20060181765A1 (en) 2001-02-09 2006-08-17 Jorgensen Gary J Advanced ultraviolet-resistant silver mirrors for use in solar reflectors
JP2005059382A (ja) 2003-08-12 2005-03-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 三次元成形機で成形可能な鏡面ミラーシートおよびその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2518536A4 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014133403A (ja) * 2012-02-14 2014-07-24 Fujifilm Corp ミラーフィルム、その製造方法、及びそれを用いた反射鏡
WO2014129275A1 (ja) 2013-02-20 2014-08-28 富士フイルム株式会社 太陽光集光用フィルムミラーおよびその製造方法
JP2015007672A (ja) * 2013-06-24 2015-01-15 富士フイルム株式会社 フィルムミラー及びフィルムミラーの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2518536A4 (en) 2014-09-24
JP5660051B2 (ja) 2015-01-28
US9316415B2 (en) 2016-04-19
US20120257274A1 (en) 2012-10-11
EP2518536A1 (en) 2012-10-31
JPWO2011077982A1 (ja) 2013-05-02
EP2518536B1 (en) 2016-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012057004A1 (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP5742726B2 (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー
JP5747823B2 (ja) フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置
EP2667226B1 (en) Film mirror and reflecting apparatus for solar power generation
WO2011078024A1 (ja) フィルムミラー及びその製造方法並びに太陽熱発電用反射装置
JP5516603B2 (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP5660051B2 (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
WO2011078156A1 (ja) フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
JP2015121806A (ja) フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー
JP5962014B2 (ja) フィルムミラー及びその製造方法
JP2012047861A (ja) フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー
JP2017096987A (ja) 光反射フィルム
JP2011203553A (ja) フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー
WO2012057005A1 (ja) 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法および太陽熱発電用反射装置
WO2011114861A1 (ja) 太陽光集光用ミラー、それを用いたトラフ式太陽熱発電装置及びトラフ式太陽光発電装置
WO2011096248A1 (ja) 太陽熱発電用光反射フィルム、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置
WO2013094577A1 (ja) フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置
JP2015161826A (ja) フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10839216

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011547478

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010839216

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13517014

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE