JP2017096987A

JP2017096987A - 光反射フィルム

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Publication number: JP2017096987A
Application number: JP2014064630A
Authority: JP
Inventors: 力安井; Chikara Yasui
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2014-03-26
Filing date: 2014-03-26
Publication date: 2017-06-01
Also published as: WO2015146655A1

Abstract

【課題】光反射体において、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができる光反射フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光反射フィルムは、樹脂支持層と、前記樹脂支持層の一方の面側に設けられた粘着層と、前記樹脂支持層の他方の面側に設けられた金属反射層と、を有する。そして、前記樹脂支持層の厚さが２００〜１０００μｍであり、前記粘着層の厚さが３０〜２００μｍであることを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、光反射フィルムに関する。

近年、化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱などの自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われている。なかでも、太陽光は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。

一方で、太陽光は、エネルギー密度が低く、エネルギーとしての貯蔵および移送が困難であるという性質を有する。現在、太陽光を電気エネルギーへと変換する技術（太陽熱発電、太陽電池）の研究・開発が盛んに行われている。

太陽熱発電は、太陽光を集光して熱源として利用する発電方式である。太陽熱発電は、太陽電池と比較して、蓄熱により昼夜を問わず発電が可能であることや、製造・保守のコストが低いという長所を有し、長期的視野で見れば、太陽電池よりも、発電効率が高いと考えられている。

太陽熱発電では、太陽光を反射体（鏡）により反射させて一か所に集光する集光装置が用いられる。当該反射体は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、耐久性の観点から、従来は、ガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、重い、体積が大きい、輸送時コストがかかる、設置が困難、破損しやすいなどの問題点を有していた。

上記問題を解決するために、銀などの金属反射層を含む樹脂製光反射フィルムを、支持基材に貼付した光反射体（フィルムミラー）が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。

太陽熱発電では、上述のように太陽光を集光して熱媒を加熱し、熱エネルギーを得る。したがって、発電効率を高めるためには、太陽光を高い精度で集光する必要があり、反射体における金属反射層の平滑性が重要となる。そこで、従来は、金属反射層の平滑性を確保するために、支持基材表面の平滑性を高める、という手法が用いられていた。

国際公開２０１３／０３６２２０号パンフレット

しかしながら、従来の手法では、支持基材表面の平滑性を高めるために、製造コストが増大してしまうという問題を有していた。また、光反射体を集光装置に搭載する前に、予め光反射フィルムを支持基材に貼付しておく必要が生じ得るため、軽く、フレキシブルで、取り扱いが容易である、といった光反射フィルムの長所が十分に生かせない、という問題があった。

そこで本発明は、光反射体において、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができる光反射フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、金属反射層の支持基材側（光入射側とは反対側）に設けられる樹脂支持層の厚さと、粘着層の厚さとを、それぞれ所定の範囲とすることにより、支持基材の平滑性を高めずとも、金属反射層の平滑性を十分に確保できることを見出し、本発明を完成させた。

本発明の上記課題は、以下の手段により達成される。
１．樹脂支持層と、
前記樹脂支持層の一方の面側に設けられた粘着層と、
前記樹脂支持層の他方の面側に設けられた金属反射層と、
を有する光反射フィルムであって、
前記樹脂支持層の厚さが２００〜１０００μｍであり、
前記粘着層の厚さが３０〜２００μｍである、光反射フィルム。
２．前記樹脂支持層を構成する樹脂のヤング率は、３ＧＰａ以上である、１に記載の光反射フィルム。
３．前記粘着剤層を構成する粘着剤のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、１×１０^７Ｐａ以下である、１または２に記載の光反射フィルム。
４．表面粗さＲａが０．２μｍ以上である支持基材の表面に貼付する用途に用いられる、１〜３のいずれかに記載の光反射フィルム。
５．１〜４のいずれかに記載の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる、光反射体。
６．５に記載の光反射体を有する、太陽光反射装置。

本発明によれば、光反射体において、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができる光反射フィルムを提供することが可能となる。

本発明の一実施形態に係る光反射フィルムを表す概略断面図である。

以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の形態のみに制限されない。なお、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性などの測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で行う。

＜光反射フィルム＞
本発明の一実施形態に係る光反射フィルムは、樹脂支持層と、樹脂支持層の一方の面側に設けられた粘着層と、樹脂支持層の他方の面側に設けられた金属反射層とを有する。そして、樹脂支持層の厚さが２００〜１０００μｍであり、粘着層の厚さが３０〜２００μｍであることを特徴とする。

本形態の光反射フィルムは、上記構成とすることにより、支持基材に貼付して光反射体としたとき、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができる。本形態の光反射フィルムがこのような効果を発揮することができるメカニズムは定かではないが、本発明者は以下のように推測している。なお、本発明は、以下のメカニズムにより限定されるものではない。

従来の光反射フィルムは、主にコスト面から、各層の厚さは、各層の機能が十分に発揮できる範囲において、できる限り薄くなるように設計されていた。このような従来の光反射フィルムでは、フィルムを貼り合わせる支持基材の表面の凸凹が、金属反射層の平滑性に影響してしまうため、支持基材の表面の平滑性を高めたり、集光装置に搭載する前に、予め光反射フィルムを支持基材に貼付しておく、といった操作が必要であった。

本形態の光反射フィルムは、金属反射層の支持基材側（光入射側とは反対側）に、樹脂基材層と粘着剤層とを順次設け、これらの２つの層の厚みを従来よりも厚くする点に特徴を有する。樹脂基材層を厚くすることにより支持基材の表面の凸凹による金属反射層の平滑性への影響が抑えられ、粘着層を厚くすることにより支持基材の表面の凸凹が緩和され、光反射体において、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができると考えられる。したがって、本形態の光反射フィルムは、特に、支持基材の表面の平滑性が十分でない場合であっても、金属反射層の平滑性を十分なものとすることができる点で有用である。特に、本形態の光反射フィルムを貼付する対象となる支持基材の表面の表面粗さＲａが、好ましくは０．２μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．４μｍ以上の場合に、本発明の効果がより一層発揮される。

以下、本形態の光反射フィルムの全体の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。

図１は、本発明の一実施形態に係る光反射フィルムを表す概略断面図である。図１の光反射フィルム１０は、樹脂支持層１１と、樹脂支持層１１の一方の面側に設けられた粘着層１２と、樹脂支持層１１の他方の面側に設けられた金属反射層１３とを有する。すなわち、光入射側から、金属反射層１３、樹脂支持層１１、粘着層１２が順次積層された構成を有する。

また、図１の光反射フィルム１０は、上記の層以外に、金属反射層１３と樹脂支持層１１との間に腐食防止層１４を有する。さらに、金属反射層１３よりも光入射側に、金属反射層１３側から順に、紫外線吸収層１５、接着層１６、アクリル層１７、ハードコート層１８といった機能層が積層されている。

本形態において、光反射フィルム全体の厚さは、特に制限されないが、２５０〜２０００μｍであることが好ましく、３００〜１５００μｍであることがより好ましく５００〜１０００μｍであることがさらに好ましい。全体の厚さが５００μｍ以上であると、自己支持性が高く、支持体の剛性が低くても使用することができる。一方、全体の厚さが２５０μｍ以下であると、生産時に、小径コアでの巻き取りが可能となり生産効率が高くなる。以下、本形態の光反射フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。

［樹脂支持層］
樹脂支持層は、光反射フィルムの製造において、各層を積層させていく際の基材としての機能を有する。本形態の光反射フィルムは、厚さが２００〜１０００μｍである樹脂支持層を必須に含む点に特徴を有する。当該樹脂支持層の厚さは、３００〜６００μｍであることが好ましく、３００〜４００μｍであることがより好ましい。樹脂支持層の厚さが２００μｍ未満であると、光反射体における支持基材の凸凹が金属反射層に影響し、金属反射層の平滑性が低下するおそれがある。また、樹脂支持層の厚さを１０００μｍ超とすると、光反射フィルムのフレキシブル性が損なわれ、ロール・ツー・ロールでの巻取が困難になるおそれがある。

樹脂支持層を構成する樹脂材料は、特に制限されず、従来公知の種々の材料を適宜採用することができる。このような樹脂材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステルなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステル、ポリ塩化ビニル（軟質ポリ塩化ビニル、硬質ポリ塩化ビニル）、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、ポリアセタール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリル樹脂、アクリル樹脂などを挙げることができる。なお、これらの樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。

本形態では、金属反射層の平滑性をより向上させる観点から、樹脂支持層を構成する樹脂のヤング率が、３ＧＰａ以上であることが好ましく、３．５ＧＰａ以上であることがより好ましい。当該ヤング率の上限値は、特に制限されないが、光反射フィルムのフレキシブル性を維持する観点からは、６ＧＰａ以下とすることが好ましく、５．５ＧＰａ以下とすることがより好ましい。なお、本明細書において、ヤング率は、実施例に記載の方法により測定された値を採用するものとする。

このようなヤング率を有する樹脂としては、特に制限されないが、硬質ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、ポリアセタール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステルなどのポリエステルが挙げられる。なかでも、ポリエチレンテレフタレート、エポキシ樹脂、フェノール樹脂がより好ましい。

本形態において、樹脂支持層は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。また、該樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。

［粘着層］
粘着層は、光反射フィルムを光反射体における支持基材に貼付するために設けられる層である。本形態の光反射フィルムは、上記樹脂支持層の一方の面側に厚さが３０〜２００μｍである粘着層を必須に含む点に特徴を有する。当該粘着層の厚さは、１００〜２００μｍであることが好ましく、１５０〜２００μｍであることがより好ましい。粘着層の厚さが３０μｍ未満であると、光反射体における支持材の凸凹を十分に緩和させることができず、金属反射層の平滑性が低下するおそれがある。また、粘着層の厚さを２００μｍ超とすると、製造工程において粘着層を十分に乾燥させることが難しくなるため、製造効率が低下するおそれがある。

粘着層を構成する粘着剤は、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などの公知の粘着剤を適宜採用することができる。粘着剤の材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、ニトリルゴムなど、およびこれらを組み合わせた材料が用いられる。

本形態では、光反射フィルムの耐傷性をより向上させる観点から、粘着剤層を構成する粘着剤の２３℃におけるせん断貯蔵弾性率Ｇ’が、１×１０^７Ｐａ以下であることが好ましく、１．２×１０^６Ｐａ以下であることがより好ましい。当該せん断貯蔵弾性率Ｇ’の下限値は、特に制限されないが、粘着性の観点からは、１×１０^４Ｐａ以上とすることが好ましく、１×１０^５Ｐａ以上とすることがより好ましい。なお、本明細書において、せん断貯蔵弾性率Ｇ’は、実施例に記載の方法により測定された値を採用するものとする。

粘着剤のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、当業者によって容易に調整することができる。具体的には、樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）、分子量（重量平均分子量、分子量分布）、硬化剤の種類や配合量を調整することにより、せん断貯蔵弾性率Ｇ’を所望の値に制御することが可能である。

粘着層は上記樹脂支持層上にラミネートすることによって形成される。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性および生産性の点から好ましい。

［金属反射層］
金属反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属からなる層である。本形態において、上記樹脂支持層の他方の面側（上記粘着剤層が設けられた面側とは反対の面側）に、金属反射層が設けられる。金属反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。

金属反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）からなる元素群の中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む材料により形成されることが好ましい。なかでも、反射率、耐食性などの観点からアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）を主成分としていることが好ましく、銀（Ａｇ）からなることがより好ましい。

金属反射層は、上記の金属の薄膜を２層以上から構成されていてもよい。また、金属反射層上にＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２などの金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。

金属反射層の厚さは、反射率などの観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、３０〜１５０ｎｍがより好ましい。

金属反射層の形成方法は、特に制限されず、湿式法および乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。本形態の光反射フィルムの製造方法では、金属反射層を蒸着法により形成することが好ましい。

［その他の機能層］
本形態の光反射フィルムは、上述の樹脂支持層、粘着層、金属反射層の他に、必要に応じて、ハードコート層、アクリル層、接着層、紫外線吸収層、腐食防止層、ガスバリア層、アンカー層、剥離層などのその他の機能層を有していてもよい。以下、これらの層について説明する。

（ハードコート層）
本形態では、ハードコート層を光入射側の最表層に設けることが好ましい。ハードコート層を形成する材料は、透明性、耐候性、硬度、機械的強度などが得られるものであれば、特に限定されない。例えば、電子線や紫外線の照射により硬化する樹脂や熱硬化性の樹脂などを使用でき、特にアルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコン系ハードコート、熱硬化型のポリシロキサン樹脂からなるハードコート、不飽和基を有するアクリル系化合物からなる紫外線硬化型アクリル系ハードコート、熱硬化型無機材料であることが好ましい。また、ハードコート層には、酸化防止剤や、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。

ハードコート層に用いることができる具体的な材料としては、水性コロイダルシリカ含有アクリル樹脂（特開２００５−６６８２４号公報）、ポリウレタン系樹脂組成物（特開２００５−１１０９１８号公報）、水性シリコーン化合物をバインダーとして用いた樹脂膜（特開２００４−１４２１６１号公報）、酸化チタンなどの光触媒性酸化物含有シリカ膜もしくはアルミナ、アスペクト比の高い酸化チタンもしくは酸化ニオブなどの光触媒膜（特開２００９−６２２１６）、光触媒含有フッ素樹脂コーティング（ピアレックス・テクノロジーズ社製）、有機／無機ポリシラザン膜、有機／無機ポリシラザンなどが挙げられる。なかでも、本形態のハードコート層は、無機物から構成されることが好ましい。

熱硬化型シリコン系ハードコートとしては、公知の方法によって合成したアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーを使用できる。その合成方法の一例は以下のとおりである。まず、アルコキシシラン化合物としてテトラメトキシシランまたはテトラエトキシシランを用い、これを塩酸、硝酸などの酸触媒の存在下、所定量の水を加えて、副生するアルコールを除去しながら室温から８０℃の範囲で反応させる。この反応によりアルコキシシランが加水分解し、さらに縮合反応することにより、一分子中にシラノール基またはアルコキシ基を２個以上有し、平均重合度４〜８のアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーが得られる。次に、これに酢酸、マレイン酸などの硬化触媒を添加し、アルコール、グリコールエーテル系の有機溶媒に溶解させて熱硬化型シリコン系ハードコート液が得られる。そしてこれを通常の塗布法（例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など）を用いて塗布し、８０〜１４０℃の範囲の温度で加熱硬化することによってハードコート層が形成させる。ただし、この場合、光反射フィルムの熱変形温度以下での硬化温度の設定が前提となる。なお、テトラアルコキシシランの代わりにジ（アルキルまたはアリール）ジアルコキシシランならびに／あるいはモノ（アルキルまたはアリール）トリアルコキシシランを使用することにより、同様にポリシロキサン系のハードコート層を製造することが可能である。

紫外線硬化型アクリル系ハードコートとしては、不飽和基を有するアクリル系化合物として、例えば、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールテトラ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレート混合物などを使用することができ、これにベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノンなどの光重合開始剤を配合して用いる。そしてこれを上記と同様の通常の塗布法を用いて塗布し、紫外線硬化することによってハードコート層が形成される。

ハードコート層が乾式法で形成した無機物からなる場合、例えば、酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタンなどを、真空製膜法により製膜することで形成できる。真空製膜法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。

また、ハードコート層が湿式法で形成した無機物からなる場合、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化した膜からなることが好ましい。ハードコートの前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、例えば、下記の一般式（１）で表されるポリシラザンおよび有機溶媒に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶媒を蒸発させて除去し、それによって光反射フィルム表面に０．０５〜３．０μｍ厚さのポリシラザン層を形成する。そして、水蒸気を含む雰囲気中で、酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、光反射フィルム表面にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。なかでも、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル、３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリル）プロピルからなる群から選択される基であることが好ましい。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。

触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン、Ｎ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％であり、好ましくは０．５〜７モル％である。

なお、好ましい態様の一つでは、一般式（１）中のＲ^１、Ｒ^２およびＲ^３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。

また、別の好ましい態様の一つでは、下記の一般式（２）で表される少なくとも一種のポリシラザンが使用される。

一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎおよびｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。

なかでも、Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^６が水素原子であり、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^５がメチルである化合物；Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^６が水素原子であり、そしてＲ^２、Ｒ^４がメチルであり、Ｒ^５がビニルである化合物；Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^６が水素原子であり、Ｒ^２およびＲ^５がメチルである化合物；が好ましい。

さらに、別の好ましい態様の一つでは、下記の一般式（３）で表される少なくとも一種のポリシラザンが使用される。

一般式（３）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐおよびｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。

なかでも、Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^６が水素原子であり、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^８がメチルであり、Ｒ^９が（トリエトキシシリル）プロピルであり、そしてＲ^７がアルキルまたは水素である化合物が好ましい。

ポリシラザン溶液中のポリシラザンの濃度は、一般的には１〜８０質量％であり、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％である。

ポリシラザン溶液に使用される溶媒としては、水または反応性基（例えばヒドロキシ基またはアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機溶媒（非プロトン性有機溶媒）が好適である。このような有機溶媒としては、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−またはポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）、または、これらの混合溶媒が挙げられる。

上記ポリシラザン溶液には、公知のバインダーを含有させてもよい。バインダーとしては、例えば、セルロースエーテル、セルロースエステル（例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート）、天然樹脂、（例えば、ゴム、ロジン樹脂）、合成樹脂（例えば、重合樹脂、縮合樹脂）等が挙げられる。上記合成樹脂としては、例えばアミノプラスト（特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂）、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンなどが挙げられる。

また、上記ポリシラザン溶液には、溶液の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用、排気性を制御するための添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２またはＡｌ_２Ｏ_３を添加してもよい。

本形態において、ハードコート層の厚さは、１０ｎｍ〜３μｍの範囲内にすることが好ましい。なお、ポリシラザンのハードコート層は、酸素・水蒸気バリア層としても用いることができる。

ハードコート層は、屈曲性があり、反りが生じないことが好ましい。ハードコート層の表面では、密な架橋構造を形成する場合があり、その際、フィルムが反り曲がることや、屈曲性がなくクラックが入りやすいようなことがあり、取り扱いが困難になる。このような場合、組成中の無機物の量を調整するなどで、柔軟性があり、平面性が得られるようにハードコート層を設計することが好ましい。

（アクリル層）
本形態の光反射フィルムは、金属反射層の光入射面側にアクリル層を設けてもよい。アクリル層は、その下層（すなわち、光入射側から見るアクリル層の下層）に設けられる層の劣化や変色、または膜剥がれなどを防止する機能を有する。例えば、空気中の水、塩素、または硫黄などの外的因子から金属反射層を保護する層として機能することができる。または、紫外線吸収剤を含有させることもしくは紫外線吸収性基を有する樹脂などを用いることにより、その下層に設けられている樹脂支持層などを紫外線から保護する層として機能することもできる。

アクリル層の厚さは、特に制限されないが、２０〜１００μｍであることが好ましく、３０〜８０μｍであることがより好ましい。アクリル層の厚さが２０μｍ以上であると、水分の透過が抑制されるため、十分な量の紫外線吸収剤を含有させることができ、所望の紫外線吸収効果が得ることができる。また、アクリル層の厚さが１００μｍ以下であると、アクリル層における太陽光の吸収量を抑えられるため、反射率が低下するのを抑制することができるとともに、層自体の柔軟性を維持することができる、という利点も有する。

本形態に係るアクリル層は、主にアクリル樹脂を基材樹脂として含み、さらに紫外線吸収剤、酸化防止剤などの添加剤を含んでもよい。

紫外線吸収剤としては、特に制限は無いが、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系などが挙げられ、また無機系として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄などが挙げられる。尚、紫外線吸収剤を多量に含有させた際にブリードアウトしてしまうという問題を低減するためには、重量平均分子量１０００以上の高分子の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。好ましくは、重量平均分子量１０００以上、３０００以下である。なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて下記測定条件下で測定した値を採用する。

紫外線吸収剤の含有量は、アクリル層に含まれるアクリル樹脂の全量１００質量％に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましく、２〜８質量％であることがさらに好ましい。紫外線吸収剤の含有量を上記範囲とすることにより、光反射フィルムに含まれる樹脂の黄変を長期に亘って抑制することができ、また、アクリル樹脂の伸度、靱性維持し、かつ、紫外線吸収剤のブリードアウトを防止することができる。

酸化防止剤としては、ヒンダードアミン系酸化防止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤など、有機系酸化防止剤を使用することが好ましい。

酸化防止剤の含有量は、アクリル層に含まれるアクリル樹脂の全量１００質量％に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましく、１〜６質量％であることがさらに好ましい。酸化防止剤の含有量を上記範囲とすることにより、アクリル樹脂の伸度、靱性維持し、かつ、紫外線吸収剤のブリードアウトを防止することができる。

（接着層）
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率などの観点から、１〜１０μｍが好ましく、３〜８μｍがより好ましい。

接着層が樹脂からなる場合、材料としては特に制限はなく、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂などの単独またはこれらの混合樹脂などが使用できる。

なかでも、耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにアクリル樹脂にイソシアネートを混合させるような、イソシアネートなどの硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など、従来公知のコーティング方法が使用できる。

また、接着層が金属酸化物からなる場合、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタンなど、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。

（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、太陽光や紫外線による光反射フィルムの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層である。紫外線吸収層は、金属反射層とハードコート層の間に設けることが好ましい。紫外線吸収層の厚さは、紫外線吸収力の観点から、２０μｍ以上が好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。

紫外線吸収剤としては、有機系として、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、ヒンダードアミン系、トリアジン系、ベンゾエート系などが挙げられ、また無機系として、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄などが挙げられる。なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤を用いることが好ましい。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノンなどが挙げられる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社のチヌビン２３４）などが挙げられる。

サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。

ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケートなどが挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤の具体例としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、〔２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノール〕（チヌビン１５７７ＦＦ、商品名、チバ・スペシャルティーケミカルズ製）、〔２−［４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノール〕（ＣＹＡＳＯＲＢＵＶ−１１６４、商品名、サイテックインダストリーズ製）などが挙げられる。

ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては住友化学株式会社のＳｕｍｉｓｏｒｂ４００）などが挙げられる。

また、紫外線吸収剤として、上記以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギーなどとして放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤などとの併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤なども併用することができる。ただし、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。

なお、上記の紫外線吸収剤は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。また、通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。

紫外線吸収層における紫外線吸収剤の含有量は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることがさらに好ましい。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れ、密着性の低下を防止できる。

（腐食防止層）
本形態の光反射フィルムは、金属反射層の腐食を防止する目的で、金属反射層に隣接するように腐食防止層を有していてもよい。腐食防止層は、腐食防止剤およびバインダーを含みうる。

腐食防止層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。腐食防止層の厚さは、好ましくは３０〜２００ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。

腐食防止層のバインダーとしては、例えば、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、またはアクリル樹脂などを挙げることができる。なかでも、アクリル樹脂が好ましい。さらに、腐食防止層は、２．４−トリレンジイソシアネートなどの硬化剤を含んでもよい。

腐食防止剤としては、金属反射層を構成する金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的もしくは電気化学的に浸食されるかまたは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳＺ０１０３：２００４参照）。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。

金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾールなどトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも１種またはこれらの２種以上の混合物から選ばれることが好ましい。ベンゾトリアゾールなどの化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。さらに具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００６３」〜「００７２」に記載の腐食防止剤を使用することができる。

（ガスバリア層）
本形態の光反射フィルムは、銀反射層よりも光入射側にガスバリア層を有していてもよい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材および樹脂基材に支持される各構成層などの劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。

ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．２ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。

ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法などの方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理および／または紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。

無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）などの元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムなどである。これらのうち、好ましくは酸化ケイ素である。

無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。ゾル−ゲル法に用いられる化合物や詳細については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１７４」〜「０１９１」に記載の化合物や方法を適宜採用することができる。

（アンカー層）
アンカー層は樹脂からなり、樹脂基材および金属反射層、または金属反射層の支持基材（樹脂フィルム）および金属反射層を密着させるために設けられる層である。したがって、アンカー層は、樹脂基材（支持基材）と金属反射層とを密着させる密着性、金属反射層を真空蒸着法などで形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。

アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、および平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂などの単独またはこれらの混合樹脂などが使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネートなどの硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。

アンカー層の厚さは、好ましくは０．０１〜３μｍ、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果として光反射フィルムの反射率を高めることが可能となる。

また、アンカー層には、上述の（腐食防止層）の項に記載の腐食防止剤を含有させることができる。

アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など、従来公知のコーティング方法が使用できる。

（剥離層）
本形態の光反射フィルムは、粘着層の光入射側とは反対側に剥離層を有していてもよい。例えば、光反射フィルムの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有する光反射フィルムを剥離し、支持基材に貼り合わせて太陽光反射装置などの光反射体として用いられる。

剥離層としては、金属反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムもしくはシート、ポリカーボネートフィルムもしくはシート、ポリアリレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムもしくはシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムもしくはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムもしくはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウムなどの金属を金属蒸着などの表面加工を施したりした樹脂フィルムもしくはシートが用いられる。

剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。

＜光反射体＞
本発明の他の一形態によると、上述の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる光反射体が提供される。光反射体は、光反射フィルムが粘着層を介してフィルムミラーが自己支持性の基材（支持基材）に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、例えば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。

当該基材は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。基材の形状としては、凹面状の形状を有するまたは凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である基材は、基材の曲率を調整することで、接合されているフィルムミラーの曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている基材は曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。

基材の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属板、ベニヤ板（好ましくは防水処理がされたもの）などの木板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板、樹脂板、などが挙げられる。前記材料のなかでも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。

表面層としての樹脂フィルムの材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルムまたはアクリルフィルムを用いることが好ましい。この樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類および目的などに応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。

＜太陽光反射装置＞
本発明の他の一形態によれば、光反射体を有する、太陽光反射装置が提供される。本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、光反射体および光反射体を保持する保持部材を有する。

好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部としてフィルムミラーの近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射用ミラーにより、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。

太陽光反射装置は、光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜光反射フィルムの作製＞
［実施例１］
樹脂支持層として、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ：２００μｍ、ヤング率：３．８ＧＰａ）を用いた。

ポリエステル系樹脂（ポリエスターＳＰ−１８１、日本合成化学社製）と、２，４−トリレンジイソシアネートとを、樹脂固形分比（質量比）１０：２で混合し、溶媒としてメチルエチルケトン（ＭＥＫ）を加え、腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し混合液を調製した。この混合液を、樹脂支持層であるＰＥＴフィルムの一方の面に、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６０ｎｍの腐食防止層を形成した。

腐食防止層の表面に、真空蒸着によって銀からなる金属反射層を厚さ８０ｎｍになるように製膜した。

金属反射層の表面に、紫外線吸収ポリマー「ニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ」（新中村化学製）をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ５μｍの紫外線吸収層を形成した。

紫外線吸収層の表面に、接着剤ＴＢＳ‐７３０（大日本インキ社製）をグラビアコート法によりコーティングして、厚さ５μｍの接着層を形成し、その表面に紫外線吸収剤（ＢＡＳＦＴｉｎｕｖｉｎ４７７トリアジン系）を５％含有した厚さ３０μｍのアクリル層を形成した。

続いて、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＢＰ−１６Ｎ（動研社製：４５質量％のメタノール溶液）をＭＥＫで希釈した、３０質量％の塗工液を調製した。なお、塗工液中のＭＥＫは３２質量％であった。当該塗工液をアクリル層の表面に塗布し、８０℃で９０秒間乾燥した後、４５℃で４８時間加熱処理を行い、乾燥膜厚３μｍのハードコート層を形成した。

最後に、樹脂支持層の他方の面に、アクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）をせん断貯蔵弾性率Ｇ’：１．２×１０^６Ｐａになるように添加量を調節し、アプリケーターで塗布して厚さ３０μｍの粘着層を形成し、光反射フィルムを完成させた。

なお、上記樹脂支持層の厚さは、フィルムをレーザーカッターで切断し、断面の厚さを透過型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて測定することにより求めた。

上記樹脂支持層のヤング率は、以下のようにして求めた。樹脂支持層を１ｃｍ×５ｃｍの短冊状に切り出した。この試料を用いて、株式会社エー・アンド・デイ製のテンシロン万能材料試験機、ＲＴＦ−２４３０を用いて、５０ｍｍ／分の速さで引っ張り試験を行い、ヤング率を求めた。

上記粘着層を構成する粘着剤のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、以下のようにして求めた。粘着剤をポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布して粘着層を形成し、これを剥離した。剥離した粘着層について、動的粘弾性測定装置（レオメトリック社製の「ＡＲＥＳ」）を用いて、昇温モード（昇温速度５℃／分、周波数１０Ｈｚ）で、２３℃でのせん断貯蔵弾性率Ｇ’を測定した。

［実施例２］
樹脂支持層の厚さを５００μｍとしたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例３］
樹脂支持層の厚さを１０００μｍとしたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例４〜６］
粘着層の厚さを１００μｍとしたこと以外は、それぞれ実施例１〜３と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例７〜９］
粘着層の厚さを２００μｍとしたこと以外は、それぞれ実施例１〜３と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１０］
紫外線吸収層を設けなかったこと以外は、実施例５と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１１］
樹脂支持層の他方の面に、アクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）を添加する事でせん断貯蔵弾性率Ｇ’：５×１０^４Ｐａに調節し、厚さ２００μｍの粘着層を形成したこと以外は、実施例２と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１２］
樹脂支持層の他方の面に、アクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）を添加する事で、せん断貯蔵弾性率Ｇ’：１×１０^５Ｐａに調節し、厚さ３０μｍの粘着層を形成したこと以外は、実施例２と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１３］
樹脂支持層の他方の面に、アクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）を添加する事で、せん断貯蔵弾性率Ｇ’：１．２×１０^７Ｐａになるように硬化剤量を調節し、厚さ３０μｍの粘着層を形成したこと以外は、実施例２と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１４］
樹脂支持層として、二軸延伸軟質塩化ビニルフィルム（厚さ：５００μｍ、ヤング率：１．７ＧＰａ）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１５］
樹脂支持層として、二軸延伸エポキシ樹脂フィルム（厚さ：５００μｍ、ヤング率：５ＧＰａ）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１６］
樹脂支持層として、二軸延伸軟質塩化ビニルフィルム（厚さ：１０００μｍ、ヤング率：１．７ＧＰａ）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［実施例１７］
樹脂支持層として、二軸延伸フェノール樹脂フィルム（厚さ：１０００μｍ、ヤング率：５．２ＧＰａ）を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法で、光反射フィルムを作製した。

［比較例１〜２］
粘着層の厚さを２５μｍとしたこと以外は、それぞれ実施例２〜３と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

［比較例３］
樹脂支持層の厚さを１５０μｍとしたこと以外は、実施例７と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

［比較例４］
樹脂支持層の厚さを１１００μｍとしたこと以外は、実施例７と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

［比較例５］
樹粘着層の厚さを１０００μｍとしたこと以外は、実施例３と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

［比較例６］
樹脂支持層の他方の面にアクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）を添加する事で、せん断貯蔵弾性率Ｇ’：１．２×１０^６Ｐａに調節し、厚さ２５０μｍの粘着層を形成したこと以外は、実施例２と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

［比較例７］
樹脂支持層の他方の面に、アクリル系粘着剤（ＳＺ−７５４３、日本カーバイド工業社製）に硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）を添加する事で、せん断貯蔵弾性率Ｇ’：１×１０^４Ｐａに調節し、厚さ２５μｍの粘着層を形成したこと以外は、実施例２と同様の方法で、比較用光反射フィルムを作製した。

＜光反射フィルムの性能評価＞
実施例１〜１７、比較例１〜７で作製した光反射フィルムについて、下記の性能評価を行った。

（金属反射層の平滑性評価）
実施例１〜１７、比較例１〜７で作製した光反射フィルムについて、金属反射層の平滑性を評価した。具体的には、それぞれの光反射フィルムを、ステンレス（ＳＵＳ）製支持基材（実施例１Ａ、２Ａ、３〜１１、１２Ａ、１３〜１７では表面粗さＲａ：０．５μｍ、実施例１Ｂ、２Ｂ、１２Ｂでは表面粗さＲａ：０．１μｍ）に貼付し、光反射フィルムの金属反射層の表面粗さＲａを、超精密非接触三次元測定装置（三鷹光機のＮＨ−３ＳＰ）を用いて測定した。測定条件は、測定範囲を２ｍｍとし、測定ピッチを２μｍとし、対物レンズを１００倍とし、カットオフ値を０．２５０ｍｍとした。得られた値を基に、下記のように４段階で評価した。

０．０５μｍ未満 ◎
０．０５μｍ以上０．１μｍ未満 ○
０．１μｍ以上０．２μｍ未満 △
０．２μｍ以上 ×。

（耐光性評価）
実施例１〜１０、比較例１〜７で作製した光反射フィルムについて、耐光性を評価した。まず、ＳＵＳ製支持基材に貼付した光反射フィルムの、反射面の法線に対して入射光の入射角を５°とした際の正反射率（５°正反射率）を、波長範囲２５０〜２５００ｎｍで測定し、初期の平均反射率を求めた。測定には、分光光度計Ｕ−４１００（島津製作所社製）を用いた。

次に、上記光反射フィルムを、フィルムの光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機ＳＸ７５を用いて、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度５０％の環境下で放射強度１８０Ｗ／ｍ^２、５０００時間）し、耐光性試験を行った。そして、耐光性試験後に上記と同様の方法で５°正反射率を測定し、平均反射率を求めた。

得られた値より、［初期の平均反射率（％）］−［耐光性試験後の平均反射率（％）］を算出し、平均反射率の低下度合いを、下記のように２段階で評価した。

低下度合いが１０％未満 ○
低下度合いが１０％以上 ×。

（耐傷性評価）
実施例２、１１〜１３で作製した光反射フィルムについて、耐傷性を評価した。具体的には、引っ掻き硬度（鉛筆法）試験（ＪＩＳＫ５６００−５−４：１９９９）に準じて、鉛筆の角度を４５°、荷重５００ｇの条件で、光反射フィルムの最表層を引っ掻き、５回のうち４回以上傷が付かなかった鉛筆の固さを、下記のように３段階で評価した。

３Ｈ ◎
２Ｈ ○
Ｈ △。

（製造適正評価）
実施例１〜１７、比較例１〜７で作製した光反射フィルムについて、製造適正を評価した。具体的には、ロール・ツー・ロール製法により直径約３０ｃｍのコアに４０ｍ／分で製造した場合において、製造に問題が無い場合を○、製造不良（巻取不良または粘着剤が未乾燥）となった場合を×とした。

結果を下記表２〜４に示す。

表２〜４に示すように、樹脂支持層および粘着層の厚さが所定の範囲内である実施例１〜１７の光反射フィルムは、表面粗さＲａが０．５μｍである支持基材に貼付しても、金属反射層の表面粗さＲａが０．１μｍ未満であり、十分な平滑性が発揮されることが示された。

また、表３の結果より、樹脂支持層のヤング率が３ＧＰａ以上である実施例２、３、１５、１７では、金属反射層の平滑性が向上することが示された。

さらに、表４の結果より、粘着層を構成する粘着剤のせん断貯蔵弾性率Ｇ’が１．０×１０^７Ｐａ以下である実施例２、１１、１２は、耐傷性に優れることが示された。

１０光反射フィルム、
１１樹脂支持層、
１２粘着層、
１３金属反射層、
１４腐食防止層、
１５紫外線吸収層、
１６接着層、
１７アクリル層、
１８ハードコート層。

Claims

樹脂支持層と、
前記樹脂支持層の一方の面側に設けられた粘着層と、
前記樹脂支持層の他方の面側に設けられた金属反射層と、
を有する光反射フィルムであって、
前記樹脂支持層の厚さが２００〜１０００μｍであり、
前記粘着層の厚さが３０〜２００μｍである、光反射フィルム。
前記樹脂支持層を構成する樹脂のヤング率は、３ＧＰａ以上である、請求項１に記載の光反射フィルム。
前記粘着剤層を構成する粘着剤のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、１×１０^７Ｐａ以下である、請求項１または２に記載の光反射フィルム。
表面粗さＲａが０．２μｍ以上である支持基材の表面に貼付する用途に用いられる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光反射フィルム。
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる、光反射体。
請求項５に記載の光反射体を有する、太陽光反射装置。