JP2003014901A - 熱可塑性ノルボルネン系樹脂系光学用フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】靭性が高く、発現する位相差やその波長分散性
を制御することができる光学用フィルムを提供する。 【解決手段】一般式（１）で表される構造単位と一般式
（２）で表される構造単位とを有してなる共重合体から
なるノルボルネン系樹脂系光学用フィルム。 【化１】 【化２】 ［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０または１以上の整数
であり、ＸとＹは各々独立に-CH=CH-または-CH₂-CH₂-で
あり、Ｒ¹〜Ｒ^８は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素
基などである。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、熱可塑性ノルボル
ネン系樹脂を主成分とし、靭性が高く、他材料との密着
性や接着性が良好で、高透明であり、フィルム面内での
位相差の均一性が高く、また位相差特性が環境の温度や
湿度に影響されにくくて経時安定性に優れ、さらに、靱
性に優れた光学用フィルムに関する。また、本発明は、
位相差、光拡散、透明導電性、反射防止等の機能を有す
る光学用フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】環状ポリオレフィン系樹脂は、主鎖構造
の剛直性に起因してガラス転移温度が高く、主鎖構造に
嵩高い基が存在するために非晶性で光線透過率が高く、
しかも屈折率の異方性が小さいことによる低複屈折性を
示すなどの特長を有しており、耐熱性、透明性、光学特
性に優れた透明熱可塑性樹脂として注目されている。か
かる環状ポリオレフィン系樹脂としては、例えば特開平
１−１３２６２５号公報、特開平１−１３２６２６号公
報、特開昭６３−２１８７２６号公報、特開平２−１３
３４１３号公報、特開昭６１−１２０８１６号公報、特
開昭６１−１１５９１２号公報等に記載されている。

【０００３】近年、上記の特徴を利用して、例えば光デ
ィスク、光学レンズ、光ファイバーなどの光学材料、光
半導体封止などの封止材料などの分野において、環状ポ
リオレフィン系樹脂を応用することが検討されている。
また、光学用フィルムに応用し、以下に示したように、
従来の光学用フィルムの問題点を改良する試みもなされ
ている。

【０００４】従来から光学用フィルムとして使用されて
いるポリカーボネート、ポリエステルあるいはトリアセ
チルアセテート等のフィルムは、光弾性係数が大きいた
めに微小な応力変化により位相差が発現したり変化す
る、あるいは耐熱性や吸水変形等の問題があるため、環
状ポリオレフィン系樹脂からなるフィルムが光学用の各
種フィルムとして提案されている。例えば、特開平４−
２４５２０２号公報、特開平４−３６１２０号公報、特
開平５−２１０８号公報、及び特開平５−６４８６５号
公報には、環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムからな
る位相差板が記載されている。また、特開平５−２１２
８２８号公報、特開平６−５１１１７号公報及び特開平
７−７７６０８号公報には、環状ポリオレフィン系樹脂
のフィルムを偏光板の保護フィルムに使用することが記
載されている。さらに、特開平５−６１０２６号公報に
は、環状ポリオレフィン系樹脂のフィルムからなる液晶
表示素子用基板が記載されている。

【０００５】これらの公報には、環状ポリオレフィン系
樹脂の吸水率が容易に０．０５％以下のものが得られ、
この低吸水性の点が特徴であり、かつ必要である旨が記
載されている。しかしながら、このような低吸水性の環
状ポリオレフィン系樹脂のフィルムを、例えば、位相差
板や液晶表示素子用基板として用いる場合、ハードコー
ト、反射防止膜や透明導電層の密着性、あるいは、偏光
板やガラスとの接着性に問題が生じることがある。ま
た、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、上記の問
題に加えて、偏光子との貼合に通常使用される水系接着
剤の水が乾燥し難いという問題も生じる。

【０００６】一方、環状ポリオレフィン系樹脂は広い範
囲の構成からなり、すべてが吸水率０．０５％以下にな
るとは限らない。吸水率を０．０５％以下にするために
は、環状ポリオレフィン系樹脂は炭素原子と水素原子の
みからなるポリオレフィン構造かハロゲンを一部含む構
造であることが必要である。そこで、上記低吸水性に由
来する問題を解決するために、環状ポリオレフィン系樹
脂の分子内に極性基を導入した熱可塑性ノルボルネン系
樹脂を含む光学用フィルムが特開平７−２８７１２２号
公報や特開平７−２８７１２３号公報などに記載されて
いる。これらの光学用フィルムは高透明性、透過光の低
位相差、さらに延伸配向させたときの均一で安定した位
相差等の光学特性において優れ、耐熱性、他材料との密
着性や接着性等が良好で、しかも吸水変形が小さいとい
う利点を有しているものの、靭性が低いために加工時や
使用時における取り扱い性に問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
の環状ポリオレフィン系樹脂あるいは熱可塑性ノルボル
ネン系樹脂を主成分とする光学用フィルムの有する各種
光学特性、耐熱性あるいは他素材との密着性・接着性等
の利点を損なうことなく、靭性が高くて加工時や使用時
における取り扱い性が良好な光学用フィルムを提供する
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、第一に、下記
一般式（１）：

【０００９】

【化５】 ［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数で
あり、Ｘは独立に式：−CH=CH−で表される基又は式：
−CH₂CH₂−で表される基であり、Ｒ¹〜Ｒ^４は各々独立
に水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ若しく
はケイ素を含む連結基を有していてもよい置換又は非置
換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表
す。｛ただし、前記Ｒ^１〜Ｒ^４が下記一般式（ａ）：

【００１０】

【化６】 −（ＣＨ_２）_ｑ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ^’ （ａ） （式中、ｑは０又は１以上の整数であり、Ｒ^’は有機基
を表す。）で表わされる場合を除く。｝］で表される構
造単位ａと、下記一般式（２）：

【００１１】

【化７】 ［式中、Ｙは式：−CH=CH−で表される基又は式：−CH₂
CH₂−で表される基であり、Ｒ^５〜Ｒ^８は各々独立に水
素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ若しくはケ
イ素を含む連結基を有していてもよい置換又は非置換の
炭素原子数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表わ
す。｛ただし、前記Ｒ^５〜Ｒ^８が下記一般式（ａ）：

【００１２】

【化８】 −（ＣＨ_２）_ｑ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ^’ （ａ） （式中、ｑは０又は１以上の整数であり、Ｒ^’は有機基
を表す。）で表わされる場合を除く。｝］で表される構
造単位ｂとを含む共重合体からなる熱可塑性ノルボルネ
ン系樹脂を含む光学用フィルムを提供する。

【００１３】本発明は、更に、本発明の樹脂を含む有機
溶剤溶液をキャストする工程を含むことを特徴とする上
記光学用フィルムの製造方法を提供する。本発明は、更
に、上記製造方法により製造された光学用フィルムであ
って、残留溶媒量が１０重量％以下であることを特徴と
する光学用フィルムを提供する。本発明は、更に、透過
光に位相差を与えることを特徴とする上記光学用フィル
ムを提供する。本発明は、更に、少なくとも片面に光拡
散機能を有することを特徴とする上記光学用フィルムを
提供する。本発明は、更に、少なくとも片面に透明導電
性層を有することを特徴とする上記光学用フィルムを提
供する。本発明は、更に、少なくとも片面に反射防止層
を有することを特徴とする上記光学用フィルムを提供す
る。本発明は、更に、上記光学用フィルムからなること
を特徴とする偏光板保護フィルムを提供する。本発明
は、更に、上記光学用フィルムを有することを特徴とす
る偏光板を提供する。

【００１４】

【発明の実施の形態】−−第１の発明−− ［光学用フィルム］ ＜熱可塑性ノルボルネン系樹脂＞本発明の光学用フィル
ムに用いられる共重合体、即ち、熱可塑性ノルボルネン
系樹脂（以下、「本発明の樹脂」ということがある。）
は、上記一般式（１）で表される構造単位ａと上記一般
式（２）で表される構造単位ｂを必須の構造単位として
含むが、さらに必要に応じて他の構造単位を含むことは
任意である。

【００１５】該共重合体は、下記一般式（３）で表され
る１種以上の単量体Ａと下記一般式（４）で表される１
種以上の単量体Ｂとを含む単量体混合物を共重合して得
られる。

【００１６】

【化９】 ［式中、ｍ、ｐ、Ｒ¹、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は一般式
（１）に関して定義のとおりである。］

【００１７】

【化１０】 ［式中、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は一般式（２）に
関して定義のとおりである。］ 一般式（１）〜（４）において、Ｒ^１〜Ｒ^８は、水素原
子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ又はケイ素を含
む連結基を有していてもよい置換又は非置換の炭素原子
数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表す。前記の原
子及び基について以下に説明する。

【００１８】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子及び臭素原子が挙げられる。炭素原子数１〜３０の
炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、
プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。

【００１９】また、上記の置換又は非置換の炭化水素基
は直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基
(linkage)を介して結合していてもよい。連結基として
は、例えば炭素原子数１〜１０の２価の炭化水素基（例
えば、−(CH₂)m−（式中、ｍは１〜10の整数）で表され
るアルキレン基）；酸素、窒素、イオウ又はケイ素を含
む連結基（例えば、カルボニル基(−CO−)、オキシカル
ボニル基(−O(CO)−)、スルホン基(−SO₂−)、エーテル
結合(−O−)、チオエーテル結合(−S−)、イミノ基(−N
H−)、アミド結合(−NHCO−，−CONH−)、シロキサン結
合(−OSi(R_２)−（式中、Rはメチル、エチル等のアルキ
ル基）)等が挙げられ、これらの複数を含む連結基であ
ってもよい。

【００２０】極性基としては、例えば水酸基、炭素原子
数１〜１０のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミ
ド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシ
リル基、アミノ基、アシル基、アルコキシシリル基、ス
ルホニル含有基、及びカルボキシル基などが挙げられ
る。さらに具体的には、上記アルコキシ基としては、例
えばメトキシ基、エトキシ基等があげられ；アルコキシ
カルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基等があげられ；アリーロキシカル
ボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基、ナ
フチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボ
ニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等があげら
れ；トリオルガノシロキシ基としては例えばトリメチル
シロキシ基、トリエチルシロキシ基等があげられ；トリ
オルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基等があげられ；アミノ基としては第１級ア
ミノ基があげられ、アルコキシシリル基としては例えば
トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げ
られる。

【００２１】本発明で熱可塑性ノルボルネン系樹脂のよ
り具体的な例としては、下記〜に示す共重合体を挙
げることができる。 単量体Ａと単量体Ｂとの開環共重合体。 単量体Ａと単量体Ｂ及びその他の共重合性単量体と
の開環共重合体。 及びの開環共重合体の水素添加物。

【００２２】単量体Ａ及び単量体Ｂについてより具体的
に説明するが、これらに限定されるものではない。 <単量体Ａ>構造単位ａは単量体Ａに由来する。以下に単
量体Ａの具体例を挙げるが、本発明はこれら具体例に限
定されるものではない。また、単量体Ａは、２種以上を
組み合わせて使用しても良い。

【００２３】トリシクロ［５．２．１．０^２，６］−８
−デセン、テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10］−３−ドデセン、ペンタシクロ［６．５．１．
１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］−４−ペンタデセン、ペンタ
シクロ［７．４．０．１^2,5 ．１^9,12．０^8,13］−３−
ペンタデセン、トリシクロ［４．４．０．１^2,5 ］−３
−ウンデセン、８−メトキシカルボニルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−
エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−ｎ−プロポキシカ
ルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］
−３−ドデセン、８−イソプロポキシカルボニルテトラ
シクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセ
ン、８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−フェノ
キシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−３−ドデセン、８−メチル−８−メトキシカル
ボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１ ^7,10］−
３−ドデセン、８−メチル−８−エトキシカルボニルテ
トラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１ ^7,10］−３−ドデ
セン、８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテト
ラシクロ［４．４．０．１^{2, 5} ．１^7,10］−３−ドデセ
ン、８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラ
シクロ［４．４．０．１^{2, 5} ．１^7,10］−３−ドデセ
ン、８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシ
クロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、ペン
タシクロ［８．４．０．１^2,5 ．１^9,12．０^8,13］−３
−ヘキサデセン、ヘプタシクロ［８．７．０．１^3,6 ．
１^10,17 ．１^12,15 ．０^2,7 ．０^11,16］−４−エイコ
セン、ヘプタシクロ［８．８．０．１^4,7 ．１^11,18 ．
１^13,16 ．０^3,8 ．０^12,17］−５−ヘンエイコセン、
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−３−ドデセン、８−フェニルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−
メチル−８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−フルオロテトラシ
クロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−ジフルオロメチル
テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ド
デセン、８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−ペンタ
フルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−３−ドデセン、８，８−ジフルオロテトラシク
ロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８−ビス（トリフ
ルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−３−ドデセン、８，９−ビス（トリフルオロメ
チル）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１ ^7,10］−
３−ドデセン、８−メチル−８−トリフルオロメチルテ
トラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１ ^7,10］−３−ドデ
セン、８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．
４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８，９
−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．
４．０．１^{2, 5} ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８，
９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８，９，９−テト
ラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．
０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８−ジフル
オロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシク
ロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチ
ル）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３
−ドデセン、８，８，９−トリフルオロ−９−トリフル
オロメチルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．
１^7,10］−３−ドデセン、８，８，９−トリフルオロ−
９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，８，９−トリフ
ルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−
フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス
（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８，９−ジフルオロ−
８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオ
ロメチルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］
−３−ドデセン、８−クロロ−８，９，９−トリフルオ
ロテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−
ドデセン、８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフル
オロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−３−ドデセン、８−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセン、８−メチル−８−
（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テト
ラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−３−ドデセ
ンなどを挙げることができる。

【００２４】これらのうち、分子内に少なくとも１つの
極性基を有する単量体Ａを使用することが好ましい。す
なわち、上記一般式（３）中、Ｒ¹及びＲ³が水素原子又
は炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ²及びＲ⁴
が水素原子又は一価の有機基であって、Ｒ²及びＲ⁴の少
なくとも一つが水素原子及び炭化水素基以外の極性基で
あるものが、他素材との密着性・接着性を高めるので好
ましい。

【００２５】共重合体中の極性基の含有量は、所望の機
能等により決定されるものであり特に限定はされない
が、全構造単位ａ中に極性基を有する構造単位ａが通常
１モル％以上、好ましくは５モル％以上、さらに好まし
くは１０モル％以上含まれる。全構造単位ａが極性基を
有するものであってもよい。さらに、Ｒ²及びＲ⁴の少な
くとも一つが一般式（５）：

【００２６】

【化１１】 −（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ⁹ （５） 〔ここで、ｎは通常０〜５の整数、好ましくは０〜２の
整数、より好ましくは０である。Ｒ⁹は一価の有機基で
ある。〕で表される極性基である単量体Ａは、得られる
共重合体のガラス転移温度と吸水性を制御しやすい点で
好ましい。一般式（５）においてＲ⁹で表される一価の
有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基；フェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基、ビフェニリル基等のアリール基；この他に
もジフェニルスルホン、テトラヒドロフルオレン等のフ
ルオレン類等の芳香環やフラン環、イミド環等の複素環
を有する一価の基等が挙げられる。

【００２７】また、一般式（５）において、ｎは上述の
ように通常０〜５の整数であるが、ｎの値が小さいもの
ほど得られる共重合体のガラス転移温度が高くなるので
好ましく、特にｎが０である単量体Ａは、その合成が容
易である点で好ましい。さらに、上記一般式(３）にお
いて、一般式（５）で表される極性基が結合した炭素原
子に更にアルキル基が結合していることが、得られる共
重合体の耐熱性と吸水性のバランスを図る上で好まし
い。当該アルキル基の炭素数は１〜５であることが好ま
しく、更に好ましくは１〜２、特に好ましくは１であ
る。また、一般式（３）においてｍが１でありｐが０で
ある単量体Ａは、ガラス転移温度の高い共重合体が得ら
れる点で好ましい。

【００２８】上記単量体Ａの具体例の中から挙げるなら
ば、特に、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラ
シクロ〔４．４．０．１^2,5 ．１^7,10〕−３−ドデセン
が、得られる共重合体のガラス転移温度を高め、吸水に
よる変形等の悪影響を殆ど受けずかつ他材料との密着性
や接着性が良好となる程度の吸水性を維持できるので好
ましい。

【００２９】<単量体Ｂ>構造単位ｂは単量体Ｂに由来す
る。以下に単量体Ｂの具体例を挙げるが、本発明はこれ
ら具体例に限定されるものではない。また、単量体Ｂ
は、２種以上を組み合わせて使用しても良い。

【００３０】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン、５−メチル−５−メトキシカルボニル
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノ
キシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−メチル−５−フェノキシカルボニルビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シアノビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチリデンビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェニルビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−ナ
フチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
（α，βの両タイプとも可）、５−フルオロビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フルオロメチル
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−トリフ
ルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン、５，５−ジフルオロビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジフルオロビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，５−ビス（ト
リフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン、５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチル−５−ト
リフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン、５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン、５，５，６−トリス（フルオロ
メチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン、５，５，６，６−テトラキス
（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン、５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリ
フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン、５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオ
ロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フルオロ
−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフル
オロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ
−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン、５−クロロ−５，６，６−
トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメ
チル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，
５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，５，６−ト
リフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（４−フェニル
フェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン ４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−
イル）フェニルスルホニルベンゼンなどを挙げることが
できる。

【００３１】これらのうち、一般式（４）のＲ^５〜Ｒ^８
が全て水素原子、若しくは何れか１つが炭素原子数１〜
３０の炭化水素基であり他が水素原子である単量体Ｂ
は、得られる光学用フィルムの靭性を向上させる効果が
大きい点で好ましく、特に、Ｒ ^５〜Ｒ^８が全て水素原
子、若しくは何れか１つがメチル基、エチル基又はフェ
ニル基であり他が全て水素原子である単量体は、耐熱性
の観点からも好ましい。さらに、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン、５−フェニルビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エンは、その合成が容易である点
で好ましい。

【００３２】<他の共重合性単量体>単量体Ａ及び単量体
Ｂと共重合させることができる他の共重合性単量体とし
ては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロ
ヘプテン、シクロオクテン、トリシクロ［５．２．１．
０^2,6 ］−３−デセン、ジシクロペンタジエンなどのシ
クロオレフィンを挙げることができる。シクロオレフィ
ンの炭素原子数としては、４〜２０が好ましく、さらに
好ましくは５〜１２である。さらにポリブタジエン、ポ
リイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレ
ン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主
鎖にオレフィン性不飽和結合を有する不飽和炭化水素系
ポリマーなどの存在下に単量体Ａ及び単量体Ｂを重合さ
せてもよい。そして、この場合に得られる共重合体は、
耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。

【００３３】<重合条件>単量体Ａ、単量体Ｂ及び場合に
よって用いられるその他の共重合性単量体の開環共重合
反応のその他の条件を説明する。 ・開環共重合触媒：該開環共重合反応はメタセシス触媒
の存在下に行われる。このメタセシス触媒は、（ａ）
Ｗ、Ｍｏ及びＲｅの化合物から選ばれた少なくとも１種
と、（ｂ）デミングの周期律表ＩＡ族元素（例えばＬ
ｉ、Ｎａ、Ｋなど）、ＩＩＡ族元素（例えばＭｇ、Ｃａ
など）、ＩＩＢ族元素（例えばＺｎ、Ｃｄ、Ｈｇな
ど）、ＩＩＩＢ族元素（例えばＢ、Ａｌなど）、ＩＶＡ
族元素（例えばＴｉ、Ｚｒなど）あるいはＩＶＢ族元素
（例えばＳｉ、Ｓｎ、Ｐｂなど）の化合物であって、少
なくとも１つの当該元素−炭素結合あるいは当該元素−
水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種との
組合せからなる触媒である。またこの場合に触媒の活性
を高めるために、後述の添加剤（ｃ）が添加されたもの
であってもよい。

【００３４】（ａ）成分として適当なＷ、Ｍｏあるいは
Ｒｅの化合物の代表例としては、ＷＣｌ₆ 、ＭｏＣｌ
₅ 、ＲｅＯＣｌ₃ など特開平１−２４０５１７号公報に
記載の化合物を挙げることができる。（ｂ）成分の具体
例としては、ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ Ｌｉ、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₃ Ａl 、
（Ｃ ₂ Ｈ₅ ）₂ ＡｌＣｌ、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）_1.5 ＡｌＣｌ
_1.5 、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）ＡｌＣｌ₂、メチルアルモキサン、
ＬｉＨなど特開平１−２４０５１７号公報に記載の化合
物を挙げることができる。（ｃ）成分の代表例として
は、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類
などが好適に用いることができるが、更に特開平１−２
４０５１７号公報に記載の化合物を使用することができ
る。

【００３５】メタセシス触媒の使用量としては、上記
（ａ）成分と単量体Ａ及び単量体Ｂ（以下、双方を併せ
て「特定単量体」という。）とのモル比で（ａ）成分：
特定単量体が、通常１：５００〜１：５００００となる
範囲、好ましくは１：１０００〜１：１００００となる
範囲である。（ａ）成分と（ｂ）成分との割合は、金属
原子比で「（ａ）：（ｂ）」が１：１〜１：５０、好ま
しくは１：２〜１：３０の範囲である。（ａ）成分と
（ｃ）成分との割合は、モル比で「（ｃ）：（ａ）」が
０．００５：１〜１５：１、好ましくは０．０５：１〜
７：１の範囲である。

【００３６】・分子量調節剤：共重合体の分子量の調節
は重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うこ
とができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応
系に共存させることにより調節することが好ましい。好
適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペ
ン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘ
プテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどの
α−オレフィン類及びスチレンを挙げることができ、こ
れらのうち、１−ブテン、１−ヘキセンが好ましい。こ
れらの分子量調節剤は、単独であるいは２種以上を併用
して用いることができる。分子量調節剤の使用量として
は、共重合反応に供される特定単量体１モルに対して
０．００５〜０．６モル、好ましくは０．０２〜０．５
モルである。

【００３７】・開環共重合反応用溶媒：開環共重合反応
において用いられる溶媒としては、例えばペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのア
ルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオ
クタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン
類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
クメンなどの芳香族炭化水素類；クロロブタン、ブロム
ヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチ
レンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テト
ラクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素化合物類；
酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プ
ロピオン酸メチルなどの飽和カルボン酸エステル類；ジ
メトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類を挙げることができ、これらは単独
であるいは２種以上を併用して用いることができる。こ
れらの中でも、上記芳香族炭化水素類が好ましい。溶媒
の使用量としては、溶媒：特定単量体（重量比）が、通
常１：１〜１０：１となる量、好ましくは１：１〜５：
１となる量である。

【００３８】・共重合体の水素添加：以上のようにして
得られる共重合体は、そのまま本発明の樹脂として使用
することもできるが、残留するオレフィン性不飽和結合
を水素添加して使用することが好ましい。水素添加反応
は、通常の方法、すなわち、共重合体の溶液に水素添加
触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３
〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２
０〜１８０℃で作用させることによって行われる。

【００３９】水素添加触媒としては、通常のオレフィン
性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用するこ
とができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒
及び均一系触媒が公知である。なお、芳香環を有する置
換基を分子内に有する共重合体を水素添加する場合に
は、芳香環の不飽和結合が実質的に水素添加されない条
件を選択することが好ましい。不均一系触媒としては、
パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムな
どの貴金属類を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニ
アなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができ
る。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル／
トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナー
ト／トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト／ｎ
−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド／ジエチルア
ルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロトリス
（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドロ
カルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウ
ム、ジクロロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィ
ン）ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態
は粉末でも粒状でもよい。これらの水素添加触媒は、共
重合体：水素添加触媒（重量比）が、１：１×１０⁻⁶
〜１：２となる割合で使用される。

【００４０】水素添加することにより得られる水素添加
共重合体は優れた熱安定性を有するものとなり、フィル
ム製膜時、及び延伸加工時や製品としての使用時の加熱
によってその特性が劣化しにくくなる。オレフィン性不
飽和結合の水素添加率は、５０％以上、好ましくは７０
％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは
９８％以上である。

【００４１】<熱可塑性ノルボルネン系樹脂の特性>本発
明において、構造単位ａと構造単位ｂとの比（ａ／ｂ）
は、通常、重量比ではａ／ｂ＝９５／５〜５／９５、好
ましくは９５／５〜６０／４０である。ａの割合が上記
範囲より大きいと靱性改良の効果が期待できない場合が
あり、逆に、ａの割合が上記範囲より小さいとガラス転
移温度が低くなり、耐熱性に問題が生じる場合がある。
本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂の３０℃のクロロ
ホルム中で測定した固有粘度（η_inh ）は、０．２〜５
ｄｌ／ｇであることが好ましい。さらに好ましくは０．
３〜４ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．５〜３ｄｌ／ｇで
ある。５ｄｌ／ｇをこえると、溶液粘度が高くなりす
ぎ、加工性が悪化し好ましくなく、０．２ｄｌ／ｇ未満
であるとフィルム強度が低下する。

【００４２】本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂の分
子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の数平均分
子量（Ｍｎ）が、通常は８０００〜１，０００，００
０、好ましくは１０，０００〜５００，０００、さらに
好ましくは２０，０００〜１００，０００、特に好まし
くは３０，０００〜１００，０００、また、重量平均分
子量（Ｍｗ）が、通常は２０，０００〜３，０００，０
００、好ましくは３０，０００〜１００，００００、さ
らに好ましくは４０，０００〜５００，０００、特に好
ましくは４０，０００〜３００，０００の範囲である。
また、本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂の分子量分
布は、上記のＭｗ／Ｍｎが通常１．５〜１０、好ましく
は２〜８、さらに好ましくは２．５〜５、特に好ましく
は２．５〜４．５である。

【００４３】さらに、本発明の熱可塑性ノルボルネン系
樹脂中の、単量体Ａに由来する構造の比率と単量体Ｂに
由来する構造の比率（組成比）は、分子量分布全範囲に
おいてバラツキが小さいことが好ましい。具体的には、
共重合に供した全単量体中の単量体Ａの比率及び単量体
Ｂの比率に対して、任意の分子量の樹脂中の組成比を、
±５０％以内、好ましくは±３０％以内、さらに好まし
くは±２０％以内のバラツキ範囲に収めることで、より
一層均一な光学用フィルムを得ることができる。また、
こうした範囲に収めることで、延伸配向した際に、位相
差のより一層の均一性を得ることが可能となる。

【００４４】本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂の２
３℃における飽和吸水率は、通常は０．０５〜１重量
％、好ましくは０．１〜０．７重量％、さらに好ましく
は０．１〜０．５重量％である。飽和吸水率がこの範囲
内であると、各種光学特性、例えば透明性、位相差や位
相差の均一性あるいは寸防精度が、高温多湿のような条
件下でも維持され、他材料との密着性や接着性に優れる
ため使用途中で剥離などが発生せず、また、酸化防止剤
等の添加物との相溶性も良好であるため、添加の自由度
が大きくなる。飽和吸水率が０．０５重量％未満である
と、他材料との密着性や接着性が乏しくなり使用中に剥
離を生じやすくなり、また、酸化防止剤等の添加物の配
合に制限が生じる。一方、１重量％を超えると、吸水に
より光学特性の変化や寸法変化を起こしやすくなる。な
お、上記の飽和吸水率はＡＳＴＭＤ５７０に準拠し、２
３℃水中で１週間浸漬して増加重量を測定することによ
り求められる値である。

【００４５】本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂のＳ
Ｐ値（溶解度パラメーター）は、好ましくは１０〜３０
（ＭＰａ^1／2）、さらに好ましくは１２〜２５（ＭＰａ
^1／2）、特に好ましくは１５〜２０（ＭＰａ^1／2）であ
る。ＳＰ値を前記範囲のものにすることで、熱可塑性ノ
ルボルネン系樹脂を汎用の溶剤に良好に溶解できるとと
も、安定したフィルムの製造ができ、また、得られるフ
ィルムの特性も均一となり、さらに接着性・基板との密
着性を良好なものとすることができ、さらに吸水率を適
度にコントロールすることが可能となる。

【００４６】本発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂のガ
ラス転移温度（Ｔｇ）は、ノルボルネン系熱可塑性樹脂
の構造単位ａ及び／又は構造単位ｂの種類若しくは構造
単位ａと構造単位ｂとの比の調整、あるいは添加剤の添
加等により適宜変えることが可能であるが、通常は８０
〜３５０℃、好ましくは１００〜２５０℃、さらに好ま
しくは１２０〜２００℃である。Ｔｇが８０℃以下の場
合は、熱変形温度が低くなり、耐熱性に問題が生じるお
それがあり、また、得られる光学フィルムの温度による
光学特性の変化が大きくなるという問題が生じる。ま
た、Ｔｇが３５０℃以上であると、延伸加工等にＴｇ近
辺まで加熱して加工する場合に樹脂が熱劣化する可能性
が高くなる。

【００４７】<添加物>本発明の熱可塑性ノルボルネン系
樹脂には、透明性・耐熱性を損なわない範囲で公知の熱
可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有
機微粒子、無機微粒子などを配合しても良い。また、本
発明の熱可塑性ノルボルネン系樹脂には、酸化防止剤等
の添加剤などを添加しても良く、かかる酸化防止剤等の
添加剤としては、例えば次の化合物が挙げられる。

【００４８】・酸化防止剤：２，６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェノール、２，２’−ジオキシ−３，３’
−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジメチルジフェニルメタ
ン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタ
ン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリ
メチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ステアリル−β
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、２，２’−ジオキシ−３，３’−
ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジエチルフェニルメタン、
３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−（β−（３−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ）エチル］、２，４，８，１０−テトラ
オキスピロ［５．５］ウンデカン、トリス（２，４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネ
オペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテト
ライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト ・紫外線吸収剤：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン これらの酸化防止剤等の添加量は、熱可塑性ノルボルネ
ン系樹脂１００重量部に対して、通常、０．０１〜３重
量部、好ましくは０．０５〜２重量部である。さらに、
加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加する
こともできる。

【００４９】＜製膜方法＞本発明の光学用フィルムは、
本発明の樹脂を溶融成形法あるいは溶液流延法（溶剤キ
ャスト法）などによりフィルム若しくはシートとするこ
とができる。このうち、膜厚の均一性及び表面平滑性が
良好になる点から溶剤キャスト法が好ましい。溶剤キャ
スト法としては例えば、本発明の樹脂を溶媒に溶解又は
分散させて適度の濃度の液体にし、適当なキャリヤー上
に注ぐか又は塗布し、これを乾燥した後、キャリヤーか
ら剥離させる方法が挙げられる。熱可塑性ノルボルネン
系樹脂を溶媒に溶解又は分散させる際には、該樹脂の濃
度を、通常は０．１〜９０重量％、好ましくは１〜５０
重量％、さらに好ましくは１０〜３５重量％にする。該
樹脂の濃度を上記未満にすると、フィルムの厚みを確保
することが困難になる、また、溶媒蒸発にともなう発泡
等によりフィルムの表面平滑性が得にくくなる等の問題
が生じる。一方、上記を超えた濃度にすると溶液粘度が
高くなりすぎて得られる光学用フィルムの厚みや表面が
均一になりにくくなるために好ましくない。

【００５０】また、室温での上記溶液の粘度は、通常は
１〜１，０００，０００（ｍＰａ・ｓ）、好ましくは１
０〜１００，０００（ｍＰａ・ｓ）、さらに好ましくは
１００〜５０，０００（ｍＰａ・ｓ）、特に好ましくは
１０００〜４０，０００（ｍＰａ・ｓ）である。使用す
る溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系溶
媒、ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノ
ン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、１，
２−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒、乳酸メ
チル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、２，２，３，３
−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン含有溶媒、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、１−ペンタノー
ル、１−ブタノール等のアルコール系溶媒を挙げること
ができる。

【００５１】また、上記以外でも、ＳＰ値（溶解度パラ
メーター）が、通常１０〜３０（ＭＰａ^1／2）、好まし
くは１０〜２５（ＭＰａ^1／2）、さらに好ましくは１５
〜２５（ＭＰａ^1／2）、特に好ましくは１５〜２０（Ｍ
Ｐａ^1／2）の範囲の溶媒を使用すれば、表面均一性と光
学特性の良好な光学用フィルムを得ることができる。上
記溶媒は単独であるいは２種以上併用して使用すること
ができる。溶媒を２種以上併用する場合には、混合物と
してのＳＰ値の範囲を上記範囲内とすることが好まし
い。このとき、混合物としてのＳＰ値の値は、その重量
比から求めることができ、例えば二種の混合物の場合
は、各溶媒の重量分率をＷ１，Ｗ２、また、ＳＰ値をＳ
Ｐ１，ＳＰ２とすると混合溶媒のＳＰ値は下記式： ＳＰ値＝Ｗ１・ＳＰ１＋Ｗ２・ＳＰ２ により計算した値として求めることができる。

【００５２】上記の混合溶媒を使用する際、本発明の樹
脂の良溶媒と貧溶媒を組み合わせると、光拡散機能を有
する光学用フィルムを得ることができる。具体的には、
樹脂、良溶媒及び貧溶媒のＳＰ値をそれぞれ［ＳＰ値：
樹脂］、［ＳＰ値：良溶媒］及び［ＳＰ値：貧溶媒］と
して、［ＳＰ値：樹脂］と［ＳＰ値：良溶媒］の差が好
ましくは７以下、さらに好ましくは５以下、特に好まし
くは３以下の範囲であり、かつ、［ＳＰ値：樹脂］と
［ＳＰ値：貧溶媒］の差が好ましくは７以上、さらに好
ましくは８以上、特に好ましくは９以上であり、［Ｓ
Ｐ：良溶媒］と［ＳＰ：貧溶媒］の差が好ましくは３以
上、さらに好ましくは５以上、さらに好ましくは７以上
とすることにより、得られる光学用フィルムに光拡散機
能を付与することができる。

【００５３】なお、貧溶媒の混合溶媒中にしめる割合
は、好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは３０
重量％以下、特に好ましくは１５重量％以下、最も好ま
しくは１０重量％以下である。また、貧溶媒の沸点と良
溶媒の沸点の差は好ましくは１℃以上、さらに好ましく
は５℃以上、特に好ましくは１０℃以上、最も好ましく
は２０℃以上であり、特に貧溶媒の沸点が良溶媒の沸点
より高いことが好ましい。

【００５４】熱可塑性ノルボルネン系樹脂を溶媒で溶解
する場合の温度は、室温でも高温でもよい。十分に撹拌
することにより均一な溶液が得られる。なお、必要に応
じて着色する場合には、溶液に染料、顔料等の着色剤を
適宜添加することもできる。また、光学用フィルムの表
面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加しても
よい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できる
が、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリ
ル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤など
が使用できる。

【００５５】本発明の光学用フィルムを溶剤キャスト法
により製造する方法としては、上記溶液をダイスやコー
ターを使用して金属ドラム、スチールベルト、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレ
ート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリテトラ
フルオロエチレン製ベルトなどの基材の上に塗布し、そ
の後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離する
方法が一般に挙げられる。また、スプレー、ハケ、ロー
ルスピンコート、ディッピングなどの手段を用いて，樹
脂溶液を基材に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基
材よりフィルムを剥離することにより製造することもで
きる。なお、塗布の繰り返しにより厚みや表面平滑性等
を制御してもよい。

【００５６】また、基材としてポリエステルフィルムを
使用する場合には、表面処理されたフィルムを使用して
もよい。表面処理の方法としては、一般的に行われてい
る親水化処理方法、例えばアクリル系樹脂やスルホン酸
塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層す
る方法、あるいは、コロナ放電処理等によりフィルム表
面の親水性を向上させる方法等が挙げられる。また、上
記溶液を塗布する基材、例えば金属ドラム、スチールベ
ルト、ポリエステルフィルム等の表面にサンドマット処
理やエンボス処理を施したものを使用すると、フィルム
の表面に上記処理による凹凸が転写して、本発明の光拡
散機能を有する光学用フィルムを製造することができ
る。

【００５７】上記のようにして光拡散機能を付与する場
合は、低波長から高波長までの光の透過率を安定して維
持する特性から、一定の大きさで凹凸を形成することが
好ましい。この時の凹凸の形状については、凹凸を形成
する手法に左右されるために特に制約は無いが、通常は
表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ）が０．００１〜１０
０μm、好ましくは０．００５〜１０μm、さらに好まし
くは０．０１〜１μm、特に好ましくは０．０５〜１μm
である。Ｒａの値が０．００１μm未満あるいは１００
μmを超えると、良好な光拡散機能が期待できにくい。
なお、フレネルレンズのようなレンズ機能を付与する場
合は、Ｒａの値が１００μmを超えることがあってもよ
い。さらに、本発明の樹脂の溶液に該樹脂と非相溶の樹
脂やフィラーを添加し均一化したものをキャストする方
法でも、本発明の光拡散機能を有する光学用フィルムを
製造することができる。

【００５８】具体的には、上記非相溶の樹脂を添加する
場合には、本発明の樹脂との屈折率差が通常は０．００
００１以上、好ましくは０．０００１以上、さらに好ま
しくは０．００１以上、特に好ましくは０．０１以上の
樹脂を選択して使用し、また、溶液に混合した後にキャ
ストして乾燥した後に得られるフィルム中の前記相溶性
を有しない樹脂の数平均の粒子径範囲が通常は０．０１
〜１０００μm、好ましくは０．０５〜５００μm、さら
に好ましくは０．１〜１００μm、特に好ましくは０．
５〜５０μmの範囲にすることで、低波長から高波長に
おける光拡散効果を発揮することができる。上記屈折率
差が０．００００１未満であったり、また、上記粒子径
が０．０１μm未満であると良好な光拡散機能を付与す
るのが困難であり、一方、上記粒子径が１０００μmを
超えた場合には光線透過率が著しく低下したり、フィル
ムの厚み精度や表面性に悪影響を及ぼすことがあるため
に好ましくない。

【００５９】また、上記非相溶の樹脂の添加量は、要求
される光拡散の性能により変化するが、本発明の樹脂１
００重量部に対し、通常は０．００１〜１００重量部、
好ましくは０．０１〜７０重量部、さらに好ましくは
０．１〜５０重量部、特に好ましくは１〜２５重量部で
ある。添加量が０．００１重量部未満であると、良好な
光拡散機能が期待できにくい。また、添加量が１００重
量部以上になると光線透過率が著しく低下するために好
ましくない。

【００６０】一方、フィラーとしては市販の無機フィラ
ーや熱硬化性樹脂の硬化物を微細化した有機フィラー等
を任意に使用することもできる。また、その粒子径及び
添加量は、上記非相溶の樹脂を添加する場合と同様であ
る。上記本発明の樹脂と非相溶の樹脂としては、例え
ば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリスチレ
ン、ポリビニルベンゼン、ポリアミドあるいはポリイミ
ドなどを挙げることができる。また、上記フィラーとし
ては、例えば、金、銀等の金属、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、
ＺｎＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等の金属酸化物、ガラス、石英な
どの粒子を挙げることができる。

【００６１】上記溶剤キャスト法の乾燥（溶剤除去）工
程については、特に制限はなく一般的に用いられる方
法、例えば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させ
る方法等で実施できるが、乾燥工程において溶媒の蒸発
に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下
させるので、これを避けるために、乾燥工程を２段以上
の複数工程とし、各工程での温度あるいは風量を制御す
ることが好ましい。また、光学用フィルム中の残留溶媒
量は、通常は１０重量％以下、好ましくは５重量％以
下、さらに好ましくは１重量％以下、特に好ましくは
０．５重量％以下である。ここで、残留溶媒量が１０重
量％以上であると、実際に該光学用フィルムを使用した
ときに経時による寸法変化が大きくなり好ましくない。
また、残留溶媒によりＴｇが低くなり、耐熱性も低下す
ることから好ましくない。

【００６２】なお、後述する延伸工程を好適に行うため
には、上記残留溶媒量を上記範囲内で適宜調節する必要
がある場合がある。具体的には、延伸配向時の位相差を
安定して均一に発現させるために、残留溶媒量を通常は
１０〜０．１重量％、好ましくは５〜０．１重量％、さ
らに好ましくは１〜０．１重量％にすることがある。溶
媒を微量残留させることで、延伸加工が容易になる、あ
るいは位相差の制御が容易になる場合がある。

【００６３】本発明の光学用フィルムの厚さは、通常は
０．１〜３，０００μm、好ましくは０．１〜１，００
０μm、さらに好ましくは１〜５００μm、最も好ましく
は５〜３００μmである。０．１μm未満の厚みの場合実
質的にハンドリングが困難となる。一方、３，０００μ
m以上の場合、ロール状に巻き取ることが困難になる。
本発明の光学用フィルムの厚み分布は、通常は平均値に
対して±２０％以内、好ましくは±１０％以内、さらに
好ましくは±５％以内、特に好ましくは±３％以内であ
る。また、１ｃｍあたりの厚みの変動は、通常は１０％
以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは１％以
下、特に好ましくは０．５％以下であることが望まし
い。かかる厚み制御を実施することにより、延伸配向し
た際の位相差ムラを防ぐことができる。

【００６４】−−第２の発明等−− ＜透過光に位相差を与える光学用フィルム＞本発明は透
過光に位相差を与える光学用フィルム（以下、「位相差
フィルム」という。）を提供する。当該位相差フィルム
では、材料の熱可塑性ノルボルネン系樹脂の高分子鎖が
一定の方向に配向しているため、透過光に位相差を与え
ることができる。当該位相差フィルムは、本第１の発明
の光学用フィルムに延伸等の加工を施すことにより高分
子鎖を規則的に配向させることで得ることができる。こ
こで、規則的な配向とは、通常の高分子（ポリマー）を
後述する溶融押し出し法やキャスト法等によりフィルム
状に成形した場合には、工程中で発生するフィルムの歪
みの大小にもよるが分子鎖は特定方向を向かずランダム
な状態であるのに対し、本位相差フィルムは全体として
分子鎖がフィルム平面の一軸方向、又は二軸方向、さら
に厚み方向に規則的に配向していることを意味する。配
向の規則性の程度はさまざまである。

【００６５】本発明の位相差フィルムを製造するための
延伸加工方法として、具体的には、公知の一軸延伸法又
は二軸延伸法を挙げることができる。すなわち、テンタ
ー法による横一軸延伸法、ロール間圧縮延伸法、円周の
異なる二組のロールを利用する縦一軸延伸法等あるいは
横一軸と縦一軸を組合わせた二軸延伸法、インフレーシ
ョン法による延伸法等を用いることができる。一軸延伸
法の場合、延伸速度は通常は１〜５，０００％／分であ
り、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、さらに
好ましくは１００〜１，０００％／分であり、特に好ま
しくは１００〜５００％／分である。二軸延伸法の場
合、同時２方向に延伸を行う場合や一軸延伸後に最初の
延伸方向と異なる方向に延伸処理する場合がある。この
時、延伸後のフィルムの屈折率楕円体の形状を制御する
ための２つの延伸軸の交わり角度は、所望の特性により
決定されるため特に限定はされないが、通常は１２０〜
６０度の範囲である。また、延伸速度は各延伸方向で同
じであってもよく、異なっていてもよく、通常は１〜
５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００
％／分であり、さらに好ましくは１００〜１，０００％
／分であり、特に好ましくは１００〜５００％／分であ
る。

【００６６】延伸加工温度は、特に限定されるものでは
ないが、本発明の樹脂のガラス転移温度Ｔｇを基準とし
て、通常はＴｇ±３０℃、好ましくはＴｇ±１５℃、さ
らに好ましくはＴｇ−５℃〜Ｔｇ＋１５℃の範囲であ
る。前記範囲内とすることで、位相差ムラの発生を抑え
ることが可能となり、また、屈折率楕円体の制御が容易
になることから好ましい。延伸倍率は、所望の特性によ
り決定されるため特に限定はされないが、通常は１．０
１〜１０倍、好ましくは１．０３〜５倍、さらに好まし
くは１．０３〜３倍である。延伸倍率が１０倍以上であ
ると、位相差の制御が困難になる場合がある。

【００６７】延伸したフィルムは、そのまま冷却しても
よいが、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇの温度雰囲気下に少なくと
も１０秒以上、好ましくは３０秒〜６０分間、さらに好
ましくは１分〜６０分間保持してヒートセットすること
が好ましい。これにより、透過光の位相差の経時変化が
少なく安定した位相差フィルムが得られる。

【００６８】延伸加工を施さない場合の本発明の光学用
フィルムの加熱による寸法収縮率は、１００℃における
加熱を５００時間行った場合に、通常５％以下、好まし
くは３％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好まし
くは０．５％以下である。また、本発明の位相差フィル
ムの加熱による寸法収縮率は、１００℃における加熱を
５００時間行った場合に、通常１０％以下、好ましくは
５％以下、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは
１％以下である。寸法収縮率を上記範囲内にするために
は、本発明の樹脂の原料である単量体Ａ，Ｂの選択に加
え、キャスト方法や延伸方法によりコントロールするこ
とが可能である。

【００６９】上記のようにして延伸したフィルムは、延
伸により分子が配向し透過光に位相差を与えるようにな
るが、この位相差は、延伸倍率、延伸温度あるいはフィ
ルムの厚さ等により制御することができる。例えば、延
伸前のフィルムの厚さが同じである場合、延伸倍率が大
きいフィルムほど透過光の位相差の絶対値が大きくなる
傾向があるので、延伸倍率を変更することによって所望
の位相差を透過光に与える位相差フィルムを得ることが
できる。一方、延伸倍率が同じである場合、延伸前のフ
ィルムの厚さが厚いほど透過光の位相差の絶対値が大き
くなる傾向があるので、延伸前のフィルムの厚さを変更
することによって所望の位相差を透過光に与える位相差
フィルムを得ることができる。また、上記延伸加工温度
範囲においては、延伸温度が低いほど透過光の位相差の
絶対値が大きくなる傾向があるので、延伸温度を変更す
ることによって所望の位相差を透過光に与える位相差フ
ィルムを得ることができる。

【００７０】上記のように延伸して得た位相差フィルム
が透過光に与える位相差の値は、その用途により決定さ
れるものであり特に限定はされないが、液晶表示素子や
エレクトロルミネッセンス表示素子あるいはレーザー光
学系の波長板に使用する場合は、通常は１〜１０，００
０ｎｍ、好ましくは１０〜２，０００ｎｍ、さらに好ま
しくは１５〜１，０００ｎｍである。また、位相差フィ
ルムを透過した光の位相差は、その均一性が高いことが
好ましく、波長５５０ｎｍにおけるバラツキは通常は±
２０％以下であり、好ましくは１０％以下、さらに好ま
しくは±５％以下である。位相差のバラツキが±２０％
の範囲を超えると、液晶表示素子等に用いた場合、色ム
ラ等が発生し、ディスプレイ本体の性能が悪化する。

【００７１】本発明の位相差フィルムは単独で、あるい
は２枚以上積層し、又は透明基板等に貼り合わせて位相
差板として用いることができる。また、上記位相差板を
他のフィルム、シート、基板に積層して使用することが
できる。積層する場合には、粘着剤や接着剤を用いるこ
とができる。これらの粘着剤、接着剤としては、透明性
に優れたものが好ましく、具体例としては天然ゴム、合
成ゴム、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、ポリビニ
ルエーテル、アクリル系樹脂、変性ポリオレフィン系樹
脂等の粘着剤や、水酸基、アミノ基等の官能基を有する
前記樹脂等にイソシアナト基含有化合物などの硬化剤を
添加した硬化型粘着剤、ポリウレタン系のドライラミネ
ート用接着剤、合成ゴム系接着剤、エポキシ系接着剤な
どが挙げられる。また、上記の位相差フィルム及び位相
差板は、他のフィルムシート、基板などとの積層の作業
性を向上させるために、あらかじめ、粘着剤層又は、接
着剤層を積層することができる。積層する場合には、粘
着剤や接着剤としては前述のような粘着剤あるいは接着
剤を用いることができる。

【００７２】＜透明導電層を有する光学用フィルム＞本
発明の光学用フィルムには、その少なくとも片面に透明
導電層を積層することができる。透明導電層を形成する
ための材料としては、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｐｂ、Ａｕ、
Ｐｔ、Ａｇ等の金属、又はそれらの酸化物が一般的に使
用され、基板上に金属単体被膜を形成するか、また、必
要に応じてその後酸化してもよい。当初から酸化物層と
して付着形成させる方法もあるが、最初は金属単体又は
低級酸化物の形態で被膜を形成し、しかるのち、加熱酸
化、陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処理を施して透
明化することもできる。これらの透明導電層は、他の透
明導電層を有するシート、フィルムなどを接着して形成
してもよく、プラズマ重合法、スパッタリング法、真空
蒸着法、メッキ、イオンプレーティング法、スプレー
法、電解析出法などによって本発明の光学用フィルム上
に直接形成してもよい。これらの透明導電膜の厚さは、
所望の特性により決定され特に限定はされないが、通常
は１０〜１０，０００オングストローム、好ましくは５
０〜５，０００オングストロームである。

【００７３】本発明の光学用フィルムに直接透明導電層
を形成する場合、当該フィルムと透明導電層との間に必
要に応じて接着層及びアンカーコート層を形成してもよ
い。この接着層としては、エポキシ樹脂、ポリイミド、
ポリブタジエン、フェノール樹脂、ポリエーテルエーテ
ルケトンなどの耐熱樹脂を例示することができる。ま
た、アンカーコート層としては、エポキシジアクリレー
ト、ウレタンジアクリレート、ポリエステルジアクリレ
ート等のいわゆるアクリルプレポリマーなどを成分とし
て含むものを用いて、公知の硬化手法、例えばＵＶ硬化
や加熱硬化により硬化させたものが挙げられる。

【００７４】本発明の透明導電層を有する光学用フィル
ムは、偏光フィルムと組み合わせて、積層体とすること
ができる。本発明の透明導電層を有する光学用フィルム
と偏光フィルムの組み合わせ方法は特に限定されず、偏
光膜の両面に保護フィルムが積層されてなる偏光フィル
ムの少なくとも片面に、本発明の透明導電層を有する光
学用フィルムを、その透明導電性層形成面と反対側面上
に適当な接着剤あるいは粘着剤を介して積層してもよい
し、偏光膜の保護フィルムの代わりに、本発明の透明導
電層を有する光学用フィルムを使用し、その透明導電性
層形成面と反対側面上に適当な接着剤あるいは粘着剤を
介して偏光膜に積層してもよい。もちろん、透明導電層
を有さない本発明の光学用フィルムを偏光フイルムの保
護フィルムとして用いることも可能である。この場合、
本発明の位相差フィルムを保護フィルムとして用いる
と、保護フィルムが位相差板としての機能を有するた
め、偏光フィルムにあらためて位相差板を貼合する必要
が無くなる利点がある。

【００７５】また、本発明の透明導電層を有する光学用
フィルムには、必要に応じて酸素や水蒸気の透過を小さ
くする目的のために、ポリビニリデンクロリド、ポリビ
ニルアルコール等のガスバリア性材料を、少なくともフ
ィルムの一方の面に積層することもできる。さらにフィ
ルムの耐傷性及び耐熱性を向上させる目的で、ガスバリ
ア層の上にハードコート層が積層されていてもよい。ハ
ードコート剤としては、有機シリコン系樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などの有機ハードコ
ート材料、又は二酸化ケイ素などの無機系ハードコート
材料を用いることができる。このうち、有機シリコン系
樹脂、アクリル樹脂などのハードコート材料が好まし
い。有機シリコン系樹脂の中には、各種官能基を持った
ものが使用されるが、エポキシ基を持ったものが好まし
い。

【００７６】＜反射防止層を有する光学用フィルム＞本
発明の光学用フィルムには、少なくともその片面に反射
防止層を積層することができる。反射防止層の形成方法
としては、例えば、一般的に使用される、例えばシリコ
ン、チタン、タンタル、ジルコニウム等の金属酸化物な
どよりなる無機系や、例えばフッ化ビニリデン、ヘキサ
フルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンの（共）
重合体や含フッ素（メタ）アクリレート（共）重合体等
の含フッ素化合物などよりなる有機系の反射防止膜を
０．０１〜１０μｍ程度の厚みで、スパッタリング、蒸
着、コーティング、ディッピングなどの方法により形成
することができる。反射防止層の厚みは、通常は０．０
１〜５０μｍ、好ましくは０．１〜３０μｍ、さらに好
ましくは０．５〜２０μｍである。０．０１μｍ未満で
あると反射防止効果が発揮できず、５０μｍを超えると
塗膜の厚みにムラが生じやすくなり外観などが悪化し好
ましくない。

【００７７】また、本発明の反射防止層を有する光学用
フィルムには、公知のハードコート層や防汚層が積層さ
れていてもよい。また、上記の透明導電層が積層されて
いてもよい。さらに、透過光に位相差を与える機能を有
していてもよく、光拡散機能を有していてもよい。上記
のように複数の機能を有することにより、本発明の反射
防止層を有する光学用フィルムは、例えば液晶表示素子
に用いた場合、反射防止フィルムが位相差板、光拡散フ
ィルム、偏光板保護フィルムあるいは電極基板（透明導
電層）の幾つかの機能を兼用することとなり、従来より
もその部品点数を低減することが可能となる。

【００７８】＜用途＞本発明の光学用フィルムは、例え
ば、携帯電話、ディジタル情報端末、ポケットベル（登
録商標）、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、
液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、
ＡＶ機器用ディスプレイなどの各種液晶表示素子やエレ
クトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネルな
どに用いることができる。また、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、Ｍ
Ｄ、ＭＯ、ＤＶＤ等の光ディスクの記録・再生装置に使
用される波長板としても有用である。

【００７９】

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以
下の実施例に限定されるものではない。なお、以下にお
いて、「部」及び「％」は、特に断りのない限り「重量
部」及び「重量％」を意味する。下記記載の各種測定値
の測定方法を以下に示す。 ［ガラス転移温度（Ｔｇ）］セイコーインスツルメンツ
社製、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲
気、昇温速度：２０℃／分の条件で測定した。 ［飽和吸水率］ＡＳＴＭ Ｄ５７０に準拠し、２３℃の
水中に１週間サンプルを浸漬し、浸漬前後の重量変化を
測定して求めた。 ［全光線透過率、ヘイズ］スガ試験機社製ヘイズメータ
ー：ＨＧＭ−２ＤＰ型を使用して測定した。 ［透過光の位相差］王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−２１
ＡＤＨ、ならびにＫＯＢＲＡ−ＣＣＤを用いて透過光の
位相差測定を行った。

【００８０】＜合成例１＞８−メチル−８−カルボキシ
メチルテトラシクロ［４．４．０．１^2.5 ．１^{7. 10}］−
３−ドデセン（単量体Ａ−１）２２５部と、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン（単量体Ｂ−１）２５
部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエ
ン７５０部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶
液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、
重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／
ｌ）のトルエン溶液０．６２部と、ｔ−ブタノール及び
メタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノ
ール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．
３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／
ｌ）３．７部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱
攪拌することにより開環共重合反応させて開環共重合体
溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％
であり、得られた開環共重合体について、３０℃のクロ
ロホルム中で測定した固有粘度（η_inh）は０．６５ｄ
ｌ／ｇであった。

【００８１】このようにして得られた開環共重合体溶液
４０００部をオートクレーブに仕込み、この開環共重合
体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₃ ］₃
０．４８部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ² 、
反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素
添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体
溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶
液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、
これを乾燥して、水素添加重合体（特定の環状ポリオレ
フィン系樹脂）を得た。

【００８２】このようにして得られた水素添加重合体
（以下、「樹脂（ａ−１）」という。）について４００
ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲを用いて水素添加率を測定したとこ
ろ、９９．９％であった。また、４００ＭＨｚ ¹Ｈ−Ｎ
ＭＲを用いて単量体Ｂ−１が共重合してなる構造単位ｂ
の割合を測定したところ、１０．２％であった。ここ
で、構造単位ｂの割合は、約３．７ｐｐｍ付近に出現す
る構造単位ａのメチルエステルのメチルのプロトンの吸
収と０．１５〜３ｐｐｍに出現する構造単位ａ及びｂの
脂環構造のプロトンの吸収から算出した。また、ＧＰＣ
により重量平均分子量Ｍｗが１万以下、１万を超えて３
万以下ならびに３万を超えた部分の分子量範囲３点を分
取して構造単位ｂの割合を２７０ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲ
で確認したところ、上記１０．２％に対して、バラツキ
は１５％以内であった。

【００８３】当該樹脂（ａ−１）についてＤＳＣ法によ
りガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ１３０℃で
あった。また、当該樹脂（ａ−１）について、ＧＰＣ法
（溶媒：テトラヒドロフラン）により、ポリスチレン換
算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）
を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３９，００
０、重量平均分子量（Ｍｗ）は１１６，０００、分子量
分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．９７であった。当該樹脂（ａ
−１）について、２３℃における飽和吸水率を測定した
ところ０．３％であり、ＳＰ値を測定したところ、１９
（ＭＰａ^1/2）であった。当該樹脂（ａ−１）につい
て、３０℃のクロロホルム中で固有粘度（η_inh ）を測
定したところ０．６７ｄｌ／ｇであった。

【００８４】＜合成例２＞８−メチル−８−カルボキシ
メチルテトラシクロ［４．４．０．１^2.5 ．１^{7. 10}］−
３−ドデセン（単量体Ａ−１）２００部と、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン（単量体Ｂ−１）５０
部とを使用した以外は合成例１と同様にして、水素添加
重合体（以下、「樹脂（ｂ−１）」という。）を得た。
４００ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲを用いて水素添加率及び単量
体Ｂ−１に由来する構造単位ｂの割合を測定したところ
それぞれ９９．９％及び２０．１％であった。ここで、
構造単位ｂの割合は合成例１の場合と同様にして算出し
た。また、ＧＰＣにより重量平均分子量Ｍｗが１万以
下、１万を超えて３万以下ならびに３万を超えた部分の
分子量範囲３点を分取して構造単位ｂの割合を２７０Ｍ
Ｈｚ ¹Ｈ−ＮＭＲ で確認したところ、上記２０．１％
に対して、バラツキは１５％以内であった。

【００８５】当該樹脂（ｂ−１）についてＤＳＣ法によ
りガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ１１０℃で
あった。また、当該樹脂（ｂ−１）について、ＧＰＣ法
（溶媒：テトラヒドロフラン）により、ポリスチレン換
算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）
を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は４０，００
０、重量平均分子量（Ｍｗ）は１２２，０００、分子量
分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．０５であった。当該樹脂（ｂ
−１）について、２３℃における飽和吸水率を測定した
ところ０．２％であり、ＳＰ値を測定したところ、１９
（ＭＰａ^1/2）であった。当該樹脂（ｂ−１）につい
て、３０℃のクロロホルム中で固有粘度（η_inh ）を測
定したところ０．６８ｄｌ／ｇであった。

【００８６】＜合成例３＞８−メチル−８−カルボキシ
メチルテトラシクロ［４．４．０．１^2.5 ．１^{7. 10}］−
３−ドデセン（単量体Ａ−１）２１０部と、５−フェニ
ルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（単量体Ｂ
−２）４０部とを使用した以外は合成例１と同様にし
て、水素添加重合体（以下、「樹脂（ｃ−１）」とい
う。）を得た。４００ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲを用いて水素
添加率及び単量体Ｂ−２に由来する構造単位ｂの割合を
測定したところそれぞれ９９．９％及び１５．８％であ
った。ここで、構造単位ｂの割合は、約６〜７ｐｐｍ付
近に出現する構造単位ｂの芳香環のプロトンの吸収と
０．１５〜３ｐｐｍに出現する構造単位ａ及びｂの脂環
構造のプロトンの吸収から算出した。ＧＰＣにより重量
平均分子量Ｍｗが１万以下、１万を超えて３万以下なら
びに３万を超えた部分の分子量範囲３点を分取してＢ成
分の割合を２７０ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲ で確認したとこ
ろ、上記１５．８％に対して、バラツキは１５％以内で
あった。

【００８７】当該樹脂（ｃ−１）についてＤＳＣ法によ
りガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ１４０℃で
あった。また、当該樹脂（ｃ−１）について、ＧＰＣ法
（溶媒：テトラヒドロフラン）により、ポリスチレン換
算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）
を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は４１，００
０、重量平均分子量（Ｍｗ）は１３８，０００、分子量
分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．３７であった。当該樹脂（ｃ
−１）について、２３℃における飽和吸水率を測定した
ところ０．３％でり、ＳＰ値を測定したところ、１９
（ＭＰａ^1/2）であった。当該樹脂（ｃ−１）につい
て、３０℃のクロロホルム中で固有粘度（η_inh ）を測
定したところ０．６９ｄｌ／ｇであった。

【００８８】＜比較合成例＞８−メチル−８−カルボキ
シメチルテトラシクロ［４．４．０．１^2.5 ．１^{7. 10}］
−３−ドデセン（単量体Ａ−１）２５０部のみを使用し
た以外は合成例１と同様にして、水素添加重合体（以
下、「樹脂（ｄ−１）」という。）を得た。４００ＭＨ
ｚ ¹Ｈ−ＮＭＲを用いて水素添加率を測定したところ９
９．９％であった。当該樹脂（ｄ−１）についてＤＳＣ
法によりガラス転移温度（Ｔｇ）を測定したところ１７
０℃であった。また、当該樹脂（ｄ−１）について、Ｇ
ＰＣ法（溶媒：テトラヒドロフラン）により、ポリスチ
レン換算の数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量
（Ｍｗ）を測定したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は３
８，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１２２，００
０、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は３．２１であった。当
該樹脂（ｄ−１）について、２３℃における飽和吸水率
を測定したところ０．４％であり、ＳＰ値を測定したと
ころ、１９（ＭＰａ^1/2）であった。当該樹脂（ｄ−
１）について、３０℃のクロロホルム中で固有粘度（η
_inh ）を測定したところ０．６７ｄｌ／ｇであった。

【００８９】［実施例１］上記樹脂（ａ−１）をトルエ
ンに３０％濃度（室温での溶液粘度は３０，０００ｍＰ
ａ・ｓ）になるように溶解し、井上金属工業製ＩＮＶＥ
Ｘラボコーターを用い、アクリル酸系で親水化（易接着
性化）表面処理した厚さ１００μmのＰＥＴフィルム
（東レ（株）製、ルミラーＵ９４）に、乾燥後のフィル
ム厚みが１００μｍになるように塗布し、これを５０℃
で一次乾燥の後、９０℃で二次乾燥を行った。ＰＥＴフ
ィルムより剥がした樹脂フィルムを（ａ−２）とした。
得られたフィルムの残留溶媒量は、０．５％であった。
また、同様にして残留溶媒量が０．４％でフィルム厚み
が５０μｍの樹脂フィルム（ａ−３）を得た。これらの
フィルムの全光線透過率は９３％以上であった。

【００９０】このフィルム（ａ−２）ならびに（ａ−
３）をＪＩＳ Ｋ７１２８ Ｂ法に規定の方法により引
裂き強さを測定したところ、それぞれ０．３６８
（Ｎ），０．２１５（Ｎ）と良好な強度（靭性）を示し
た。このフィルム（ａ−２）をテンター内で、Ｔｇ＋５
℃である１３５℃に加熱し、延伸速度４００％／分で
１．３倍に延伸した後、１１０℃の雰囲気下で約２分間
この状態を保持しながら冷却し、室温へとさらに冷却し
て取り出し、波長５５０ｎｍにおいて１３５ｎｍの位相
差を透過光に与える位相差フィルム（ａ−４）を得た。
また、延伸倍率を１．７倍にした他は上記同様にして波
長５５０ｎｍにおいて２７０ｎｍの位相差を透過光に与
えるフィルム（ａ−５）を得た。位相差フィルム（ａ−
４）及び（ａ−５）の波長４００〜８００ｎｍにおける
透過光の位相差値：Ｒｅを波長５５０ｎｍにおける透過
光の位相差値：Ｒｅ（５５０）で規格化したグラフを図
１に示した。

【００９１】［実施例２］実施例１と同様にして、上記
樹脂（ｂ−１）を用いて残留溶媒量０．４％の厚み１０
０μｍの樹脂フィルム（ｂ−２）、ならびに残留溶媒量
が０．３％でフィルム厚みが５０μｍの樹脂フィルム
（ｂ−３）を得た。これらのフィルムの全光線透過率は
９３％以上であった。このフィルム（ｂ−２）ならびに
（ｂ−３）を前記の方法により引裂き強さを測定したと
ころ、それぞれ０．５１２（Ｎ），０．３１７（Ｎ）と
良好な強度（靭性）を示した。

【００９２】［実施例３］実施例１と同様にして、上記
樹脂（ｃ−１）を用いて残留溶媒量０．４％の厚み１０
０μｍの樹脂フィルム（ｃ−２）、ならびに残留溶媒量
が０．３％でフィルム厚みが５０μｍの樹脂フィルム
（ｃ−３）を得た。これらのフィルムの全光線透過率は
９３％以上であった。このフィルム（ｃ−２）ならびに
（ｃ−３）を前記の方法により引裂き強さを測定したと
ころ、それぞれ０．４２６（Ｎ），０．２６２（Ｎ）と
良好な強度（靭性）を示した。

【００９３】［比較例］実施例１と同様にして、上記樹
脂（ｄ−１）を用いて残留溶媒量０．４％の厚み１００
μｍの樹脂フィルム（ｄ−２）、ならびに残留溶媒量が
０．３％でフィルム厚みが５０μｍの樹脂フィルム（ｄ
−３）を得た。これらのフィルムの全光線透過率は９３
％以上であった。このフィルム（ｄ−２）ならびに（ｄ
−３）を前記の方法により引裂き強さを測定したとこ
ろ、それぞれ０．１３８（Ｎ），０．０５２（Ｎ）と低
い強度（靭性）を示した。また、このフィルム（ｄ−
３）を用いて実施例１と同様にＴｇ＋５℃の１７５℃で
延伸処理を行おうとしたが、延伸時に破断してしまい延
伸フィルムを得ることはできなかった。上記実施例なら
びに比較例での引き裂き強さの測定結果を表１にまとめ
た。

【００９４】

【表１】

【００９５】［実施例４］実施例１で得られたフィルム
（ａ−４）と（ａ−５）とを、その光軸（屈折率が最大
となる平面方向）の交差角が６２度になるように積層・
貼合して光学用フィルム（位相差板）を得た。得られた
位相差板について波長４００〜８００ｎｍにおけるＲｅ
（λ）／λ（ここで、Ｒｅ（λ）は波長：λの透過光の
位相差値）を図２にプロットした。なお、図２中、「Ｒ
ｅ（λ）」は「Ｒｅ」と略記した。図２から明らかなよ
うに、波長４００〜８００ｎｍにおけるＲｅ／λの値
は、０．２４８（波長４００〜８００ｎｍにおいて５０
ｎｍ毎に測定した値の平均値）±０．０２以内であり、
バラツキは±２０％以内であった。

【００９６】［実施例５］実施例１で得られたフィルム
（ａ−２）及び（ａ−４）にそれぞれサンドマット処理
を行い、ヘイズが５５％、全光線透過率が９３％である
光拡散機能を有するフィルム（ａ−６），（ａ−７）を
得た。

【００９７】［実施例６］実施例１で得られたフィルム
（ａ−２）及び（ａ−４）のそれぞれの片面に酸化イン
ジウム／酸化スズ（重量比９５：５）からなるターゲッ
トを用いて透明導電膜をスパッタリング法により形成さ
せ、透明導電フィルム（ａ−８），（ａ−９）を得た。
この透明導電フィルムについて、フィルムの透明性及び
外観（傷の有無、フィルムのそり具合）を目視で観察し
た。その結果、上記透明導電フィルムの透明性はともに
全光線透過率が８５％を超えており良好であり、また、
傷やそり、うねりが無く外観も良好であった。また、透
明導電フィルム（ａ−８），（ａ−９）について、８０
℃、９０％相対湿度の条件下で５００時間耐久試験を行
い、その外観変化（耐湿性）を目視観察したが、初期状
態からの変化は認められず、耐久性も優れていた。

【００９８】［実施例７］実施例１で得られたフィルム
（ａ−２）及び（ａ−４）のそれぞれの片面にＪＳＲ
（株）製オプスターＪＮ７２１２を乾燥膜厚０．１μｍ
になるようにコートし、反射防止層を形成したフィルム
（ａ−１０），（ａ−１１）を得た。本フィルムの反射
率はともに１％以下であり、良好な反射防止特性を示し
た。

【００９９】［実施例８］厚さ５０μmのポリビニルア
ルコールフィルムをヨウ素５ｇ、ヨウ化カリウム２５０
ｇ、ほう酸１０ｇ、及び水１０００ｇからなる４０℃の
浴に浸漬しながら約５分間で４倍まで一軸延伸して得た
偏光膜の表面に、ｎ−ブチルアクリレート９０重量％、
エチルアクリレート７重量％、及びアクリル酸３重量％
の単量体から得られたアクリル系樹脂１００部とトリレ
ンジイソシアナート（３モル）のトリメチロールプロパ
ン（１モル）付加物の７５重量％酢酸エチル溶液２部か
らなる架橋剤を混合して得られた粘着剤を塗布し、次い
で実施例１で得られたフィルム（ａ−２）を偏光膜の両
面に積層して偏光フィルム（ａ−１２）を得た。該偏光
フィルムを８０℃、９０％相対湿度の条件下で５００時
間耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察したとこ
ろ、外観に異常は認められず、また、偏光度も初期値を
維持しており（９９．９％）耐久性が良好なことが分か
った。

【０１００】［実施例９］実施例１で用いたトルエン
（溶媒）に代えて、沸点４０℃、ＳＰ値１９．２（ＭＰ
ａ^1／2）の塩化メチレン（良溶媒）と沸点６５℃、ＳＰ
値２９．７（ ＭＰａ^1／2）のメタノール（貧溶媒）と
を、メタノールの（塩化メチレンとの）混合溶媒中に占
める割合を１０重量％としたものを採用すること以外
は、実施例１と同様にしてフィルムを作成し、ヘイズが
４０％、全光線透過率が９３％である光拡散機能を有す
るフィルム（ａ−１３）を得た。

【０１０１】［実施例１０］実施例１で、室温で屈折率
が１．５１５（ｄ線）である樹脂（ａ−１）の１００部
に対し、屈折率が１．４９２（室温：ｄ線）のＰＭＭＡ
粒子（ＴＥＭにより測定された平均粒子径：２０μm）
を１０部の割合で加えた以外は同様にして、ヘイズが３
０％、全光線透過率が９２％である光拡散機能を有する
フィルム（ａ−１４）を得た。

【０１０２】［実施例１１］実施例１で用いたＰＥＴフ
ィルムに代えて、マット処理済みの表面凹凸を有するＰ
ＥＴフィルムを用いた以外は、同様にして、ヘイズが１
０％、全光線透過率が９３％である光拡散機能を有する
フィルム（ａ−１５）を得た。

【０１０３】

【発明の効果】本発明の光学用フィルムは、従来の熱可
塑性ノルボルネン系樹脂系フィルムの特長である高透明
性、低位相差、そして延伸配向した場合の均一で安定し
た位相差等光学特性、並びに耐熱性、他材料との密着性
や接着性等が良好で吸水変形が小さい上に、従来の熱可
塑性ノルボルネン系樹脂系フィルムでは得られなかった
高い靱性を有し、製造に際して透過光の位相差及びその
波長依存性を制御することができる。したがって、この
光学用フィルムは位相差フィルムとして、また光拡散機
能、透明導電性、反射防止機能等の機能を有する光学用
フィルムとして有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた位相差フィルム（ａ−４）
と（ａ−５）のＲｅ／Ｒｅ（５５０）の波長との関係を
測定した結果を示す図である。

【図２】実施例１で得られた位相差フィルム（ａ−４）
と（ａ−５）を貼り合わせてＲｅ／λと波長λとの関係
を測定した図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＺ Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＺ ４Ｆ２０５ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｃ ４Ｊ０３２ 1/11 5/30 5/02 Ｂ２９Ｋ 45:00 5/30 Ｂ２９Ｌ 7:00 // Ｂ２９Ｋ 45:00 Ｃ０８Ｌ 65:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｃ０８Ｌ 65:00 Ｚ (72)発明者 坂倉 康広 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA15 BA20 2H049 BA02 BA06 BA25 BA27 BB02 BB19 BB22 BB41 BB43 BB51 BB63 BB65 BB67 BC03 BC09 BC14 BC22 2K009 AA04 BB11 CC03 CC14 CC26 CC42 DD02 DD03 DD07 EE03 4F071 AA69 AA86 AF14 AF30 AF35 AF57 AF58 AH19 BA02 BB02 BC01 4F100 AK02A AK02B AK42 AL01A AL01B AR00B BA02 BA15 EH31 GB41 JA05 JB16 JG01B JK10 JN01B JN06B JN30B 4F205 AA12E AE03 AE10 AG01 AG03 AH73 AP20 AR06 GA07 GB01 GC06 GE22 GF24 GN22 4J032 CA24 CA27 CA28 CA34 CA35 CA36 CA43 CA45 CA62 CA68 CB04 CB05 CB11 CB13 CC03 CD02 CD03 CD04 CD09 CE18 CE24 CF01 CG08

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（１）： 【化１】 ［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数で
   あり、Ｘは独立に式：−CH=CH−で表される基又は式：
   −CH₂CH₂−で表される基であり、Ｒ¹〜Ｒ^４は各々独立
   に水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ若しく
   はケイ素を含む連結基を有していてもよい置換又は非置
   換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表
   す。｛ただし、前記Ｒ^１〜Ｒ^４が下記一般式（ａ）： 【化２】 −（ＣＨ_２）_ｑ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ^’ （ａ） （式中、ｑは０又は１以上の整数であり、Ｒ^’は有機基
   を表す。）で表わされる場合を除く。｝］で表される構
   造単位ａと、下記一般式（２）： 【化３】 ［式中、Ｙは式：−CH=CH−で表される基又は式：−CH₂
   CH₂−で表される基であり、Ｒ^５〜Ｒ^８は各々独立に水
   素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ若しくはケ
   イ素を含む連結基を有していてもよい置換又は非置換の
   炭素原子数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表わ
   す。｛ただし、前記Ｒ^５〜Ｒ^８が下記一般式（ａ）： 【化４】 −（ＣＨ_２）_ｑ−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ^’ （ａ） （式中、ｑは０又は１以上の整数であり、Ｒ^’は有機基
   を表す。）で表わされる場合を除く。｝］で表される構
   造単位ｂとを含む共重合体からなる熱可塑性ノルボルネ
   ン系樹脂を含む光学用フィルム。
2. 【請求項２】前記一般式（１）において、ｍ＝１、ｐ＝
   ０である構造単位ａを含む共重合体からなる熱可塑性ノ
   ルボルネン系樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記
   載の光学用フィルム。
3. 【請求項３】前記一般式（２）において、Ｒ^５〜Ｒ^８が
   各々独立に水素原子又は炭素原子数１〜３０の炭化水素
   基である構造単位ｂを含む共重合体からなる熱可塑性ノ
   ルボルネン系樹脂を含むことを特徴とする請求項１又は
   ２に記載の光学用フィルム。
4. 【請求項４】前記共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が
   ８０〜３５０℃である熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含
   むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載
   の光学用フィルム。
5. 【請求項５】前記構造単位ａと構造単位ｂとの重量比
   （ａ／ｂ）が９５／５〜５／９５である共重合体からな
   る熱可塑性ノルボルネン系樹脂を含むことを特徴とする
   請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱可
   塑性ノルボルネン系樹脂を含む有機溶剤溶液をキャスト
   する工程を含むことを特徴とする請求項１〜５の対応す
   るいずれか１項に記載の光学用フィルムの製造方法。
7. 【請求項７】前記の有機溶剤として前記熱可塑性ノルボ
   ルネン樹脂の良溶媒と貧溶媒との混合溶剤を使用するこ
   とを特徴とする請求項６記載の製造方法。
8. 【請求項８】請求項６又は７に記載の製造方法により製
   造された光学用フィルムであって、残留溶媒量が１０重
   量％以下であることを特徴とする光学用フィルム。
9. 【請求項９】透過光に位相差を与えることを特徴とする
   請求項１〜５又は請求項８のいずれか１項に記載の光学
   用フィルム。
10. 【請求項１０】請求項９に記載の光学用フィルムが２枚
    以上積層されたフィルムであって、下式： Ｒｅ（λ）／λ ［ここで、λは当該フィルムの透過光の波長を表わし、
    Ｒｅ（λ）は波長λにおける位相差を表す。］で表され
    る値のバラツキが、波長４００〜８００ｎｍのすべての
    範囲において平均値±２０％の範囲内にあることを特徴
    とする光学用フィルム。
11. 【請求項１１】少なくとも片面に光拡散機能を有するこ
    とを特徴とする請求項１〜５又は請求項８〜１０のいず
    れか１項に記載の光学用フィルム。
12. 【請求項１２】少なくとも片面に透明導電性層を有する
    ことを特徴とする請求項請求項１〜５又は請求項８〜１
    １のいずれか１項に記載の光学用フィルム。
13. 【請求項１３】少なくとも片面に反射防止層を有するこ
    とを特徴とする請求項１〜５又は請求項８〜１２のいず
    れか１項に記載の光学用フィルム。
14. 【請求項１４】請求項１〜５又は請求項８〜１３のいず
    れか１項に記載の光学用フィルムからなることを特徴と
    する偏光板保護フィルム。
15. 【請求項１５】請求項１〜５又は請求項８〜１４のいず
    れか１項に記載の光学用フィルムを有することを特徴と
    する偏光板。