JP2006243266A - 光学積層体、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 様々な使用環境において色味、コントラスト、及びその視野角依存性に優れ、高品位の画像が得られる光学積層体、偏光板および液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 互いにレターデーションの異なる少なくとも２つの光学ユニットを含む光学積層体であって、少なくとも１つの光学ユニットが、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の関係を満たすポリマーフィルムである光学積層体と、これを用いた偏光板および液晶表示装置。 （Ａ） Ｒｅ≦１０ｎｍ； （Ｂ） −２５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２５ｎｍ； （Ｃ） ０．７５≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．２５。［式中、Ｒｅは波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションであり、Ｒｔｈは波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションである。］
【選択図】 なし

Description

本発明は、光学積層体、偏光板および液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であったが、近年、ＶＡモード、ＩＰＳモード等の高視野角液晶モードが実用化されており、これによりテレビ等の高品位の画像が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。
これに伴い液晶表示装置において、色味、コントラスト、及びそれらの視野角依存性改良用に用いられる光学補償部材に対してもより精緻な設計が求められてきているため、単一の部材で上記要求を満たすことが難しくなり、レターデーションの異なる複数の部材が組み合わされた光学積層体を用いることが一般的となってきている。
一方、液晶表示装置用の偏光板は、ヨウ素で染色されたポリビニルアルコール系フィルムを延伸した偏光子に、セルロースアシレートフィルムを鹸化処理し表面に親水性を付与した保護フィルムを両側から貼り合わせて製造することが一般的である。前記積層体は偏光板作製前あるいは後に保護フィルムに貼り合わされる、あるいは光学積層体の一部が保護フィルムを兼ねることが一般的である。
ところが、セルロースアシレートフィルムの有するレターデーションが邪魔をして、十分な光学補償能が得られないという問題が生じていた。また湿度などの環境変化による光学性能の変化が小さいフィルムが求められていた。
これに対して特許文献１には環状ポリオレフィン開環重合体であるアートンフィルムを光学補償フィルムの支持体として用いた例が開示されている。
特開２００４−２４６３３８号公報

しかし、特許文献１の開示例では、フィルム中のポリマー分子鎖の配向低減が不十分であり、光学補償層の支持体として用いられた場合に、フィルムの有するレターデーションが邪魔をして十分な光学補償能を得ることが出来なかった。とりわけ、液晶表示装置が高湿下で長時間点灯されるような環境では、フィルムのレターデーション変化に起因する色味変化、周辺ムラの発生が大きいという問題を有していた。さらに特許文献１に開示されている光学積層体は、偏光板のカールが大きく液晶パネルへの貼りあわせ時に気泡の混入による面状故障が発生しやすいという問題があり、改善を求められていた。
本発明の目的は、様々な使用環境において色味、コントラスト、及びその視野角依存性に優れ、高品位の画像が得られる光学積層体、偏光板および液晶表示装置を提供することである。本発明のさらなる目的は上記性能に加え、カールが改善された光学積層体およびそれを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することである。

本発明者らは鋭意検討した結果、モノマーユニットからなるフィルムにおいて特定の方法により高分子鎖の配向度を低下させ、十分に低レターデーションを実現したポリマーフィルムを光学積層体に用いれば、前記色味変化を低減できることを見出し、本発明を完成させるに至った。なお、レターデーションは厚みに比例して増加するが、本発明の光学異方性が十分に小さいフィルムを用いることで、ある程度の厚みを持ちながらも光学異方性の小さいフィルムを作製することが可能となる。その結果、厚みが不十分であることに由来するカールの発生を抑制でき、光学異方性が小さく、かつカールが小さいフィルムを得
ることができる。

すなわち本発明は、以下のとおりである。
＜１＞ 互いにレターデーションの異なる少なくとも２つの光学ユニットを含む光学積層体であって、少なくとも１つの光学ユニットが、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の関係を満たすポリマーフィルムであることを特徴とする光学積層体。
Ｒｅ≦１０ｎｍ （Ａ）
−２５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１０ｎｍ （Ｂ）
０．７５≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．２５ （Ｃ）
［式中、Ｒｅは波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションであり、Ｒｔｈは波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションである。］
＜２＞ 該ポリマーフィルムが、環状オレフィン系開環重合体を含有することを特徴とする上記＜１＞に記載の光学積層体。
＜３＞ 該環状オレフィン系開環重合体が下記一般式（１）及び（２）のモノマーユニットを有することを特徴とする上記＜２＞に記載の光学積層体。
一般式（１）

［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数であり、Ｘは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₃とＲ₄またはＲ₂とＲ₃は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環を形成していてもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］一般式（２）

［式中、Ｙは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₇とＲ₈またはＲ₆とＲ₇は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環（但し、一般式（１）で表される構造を除く）を形成してもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］
＜４＞ 該環状オレフィン系開環重合体が溶解する溶媒の雰囲気下に曝すことにより製造されたフィルムであることを特徴とする上記＜２＞または＜３＞に記載の光学積層体。
＜５＞ 該環状オレフィン系開環重合体が溶解する溶媒の雰囲気下に曝されたフィルムを四辺を固定した状態で溶媒を乾燥する工程を含む製造法により作製されたことを特徴とする上記＜４＞に記載の光学積層体
＜６＞ 該ポリマーフィルムの厚みが６０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする上記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の光学積層体。
＜７＞ 該ポリマーフィルムの６０℃、９５％ＲＨ、２４時間における透湿度が２５０g/m²以下であることを特徴とする上記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の光学積層体。
＜８＞ 他の光学ユニットが、少なくとも一つの非液晶性ポリマーを含有する光学異方性層であることを特徴とする上記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学積層体。
＜９＞ 他の光学ユニットが、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する光学異方性層で
あることを特徴とする上記＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の光学積層体。
＜１０＞ 延伸ポリマーフィルムを含むことを特徴とする上記＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の光学積層体。
＜１１＞ 上記＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の光学積層体を含むことを特徴とする光学補償機能付き偏光板。
＜１２＞ 液晶セルと、その両側に配置された二枚の偏光板とを有する液晶表示装置であって、該偏光板の少なくとも一枚が、上記＜１１＞に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、様々な使用環境において色味、コントラスト、及びその視野角依存性に優れ、高品位の画像が得られる光学積層体、偏光板および液晶表示装置が得られる。また上記性能に加え、カールが改善された光学積層体、偏光板および液晶表示装置が得られる。

本発明の光学積層体は、互いにレターデーションの異なる少なくとも２つの光学ユニットを含み、少なくとも１つの光学ユニットが、上記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の関係を満たすポリマーフィルム（以下、この光学ユニットを低レターデーションポリマーフィルムと言う。）であることを特徴としている。また本発明の光学積層体は、他の光学ユニットとして光学異方性層および／または延伸ポリマーフィルムを含むことができる。以下、各成分について詳しく説明する。

＜低レターデーションポリマーフィルム＞
まず、本発明に用いられる低レターデーションポリマーフィルムの特性について説明する。

（レターデーション）
低レターデーションポリマーフィルムは下記式（Ａ）、及び（Ｂ）のレターデーションを満たすことが必要である。
Ｒｅ≦１０ｎｍ （Ａ）
−２５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１０ｎｍ （Ｂ）
さらに好ましくはＲｅ≦５ｎｍであり、最も好ましくはＲｅ≦３ｎｍである。
またＲｔｈはさらに好ましくは−１０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５ｎｍであり、最も好ましくは−５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３ｎｍである。
本明細書において、ＲｅおよびＲｔｈは各々、正面レターデーションおよび膜厚方向のレターデーションを表す。ＲｅはKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５９０nｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５９０nｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と、平均屈折率と、膜厚とを基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。

（光弾性係数）
また、低レターデーションポリマーフィルムの光弾性係数は下記式（Ｃ）の関係を満たすことが必要である。
０．７５≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．２５ （Ｃ）
好ましくは下記式（Ｃ−１）を満たすことである。
０．８５≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．１５ （Ｃ−１）
さらに好ましくは下記式（Ｃ−１）を満たすことである。
０．９０≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．１０ （Ｃ−２）
Ｒｅ、Ｒｔｈを前記範囲にし、さらに光弾性係数を前記範囲にすることにより、液晶表示装置の使用環境による色味変化をさらに小さくすることができる。
光弾性係数は、３．５ｃｍ×１２ｃｍに切り出してフィルムについて、荷重無し、２５０ｇ、５００ｇ、１０００ｇ、１５００ｇのそれぞれの荷重におけるＲｅを測定し、応力に対するＲｅ変化の直線の傾きから算出することができる。測定機器は、エリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））が用いられる。

（透湿度）
本発明に用いられる低レターデーションポリマーフィルムの６０℃、９５％ＲＨ、２４時間における透湿度は２５０ｇ／ｍ²以下が好ましく、１００ｇ／ｍ²以下がさらに好ましい。
透湿度は例えば、試料６０ｍｍΦを６０℃、９５％ＲＨで２４時間経時させ、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にてＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝経時後質量−経時前質量で求めることができる。

（フィルムの厚み）
低レターデーションポリマーフィルムの厚みは５０μｍ以上２００μｍ以下であり、６０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、６０μｍ以上１５０μｍ以下がさらに好ましい。フィルムの厚みが該下限値以上であれば剛性が低下することがなく、さらには他の光学ユニットの寸度変化に起因する応力による変形が大きくなることがない。したがってカールの発生を抑制することが出来、液晶表示装置に組み込んだ場合、長時間表示中に周辺部に光漏れを起こす等の問題を生じることがない。また、フィルム厚みが厚すぎると相対的にレターデーションが大きくなり好ましくない。

＜ポリマー材料＞
次に本発明に用いられる低レターデーションポリマーフィルムに用いるポリマー材料について説明する。
前記式（Ａ）〜（Ｃ）を満たす低レターデーションポリマーフィルムとしては、シクロオレフィン系開環重合体が挙げられ、該シクロオレフィン系ポリマーとしては、下記一般式（１）及び（２）のモノマーユニットを有する開環重合体が好ましく用いられる。
一般式（１）

［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数であり、Ｘは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む
連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₃とＲ₄またはＲ₂とＲ₃は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環を形成していてもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］一般式（２）

［式中、Ｙは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₇とＲ₈またはＲ₆とＲ₇は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環（但し、一般式（１）で表される構造を除く）を形成してもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］

上記一般式（１）及び（２）のポリマーは下記の（イ）〜（ニ）に示す単量体の（共）重合体（以下、「特定重合体」ともいう。）として合成される。
（イ）下記一般式（３）で表される化合物（以下、「特定単量体ｄ」ともいう。）の開環重合体。
（ロ）特定単量体ｄと、当該特定単量体ｄと共重合可能な化合物（以下、「共重合性単量体」ともいう。）との開環重合体。
（ハ）上記（イ）の開環重合体または（ロ）の開環重合体の水素添加物。
（ニ）上記（イ）の開環重合体または（ロ）の開環重合体をフリーデルクラフト反応により環化して得られた化合物若しくはその水素添加物。
一般式（３）

［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数であり、Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₃とＲ₄またはＲ₂とＲ₃は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環を形成していてもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］

特定重合体は、共重合性単量体として下記一般式（４）で表される化合物（以下、「特定単量体ｂ」ともいう。）を用い、特定単量体ｄと、特定単量体ｂとを共重合して得られるものであることが好ましい。このような構成の特定重合体によれば、最終的に得られるフィルムの靱性等の機械的な特性が一層優れたものとなり、また、延伸加工によりフィルムに必要とされる所望の位相差を得やすくなる。
一般式（４）

［式中、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₇とＲ₈またはＲ₆とＲ₇は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素
環または複素環（但し、一般式（１）で表される構造を除く）を形成してもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］

更に、特定重合体は、特定単量体ｄと特定単量体ｂとの開環重合体であって、上記一般式（１）で表される特定単量体ｄに由来の構造単位（以下、「構造単位ｄ」ともいう。）と、上記一般式（２）で表される特定単量体ｂに由来の構造単位（以下、「構造単位ｂ」ともいう。）とを有するものであれば、耐熱性と延伸加工等による加熱加工性とのバランスを図ることができる点で好ましい。

一般式（１）〜一般式（４）におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。

また、一般式（１）〜一般式（４）における置換または非置換の炭化水素基は、直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基（ｌｉｎｋａｇｅ）を介して結合していてもよい。
連結基としては、例えば炭素原子数１〜１０の２価の炭化水素基〔例えば、−（ＣＨ₂ ）_q −（式中、ｑは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基〕；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基〔例えば、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−Ｏ（ＣＯ）−）、スルホン基（−ＳＯ₂ −）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、アミド結合（−ＮＨＣＯ−，−ＣＯＮＨ−）、シロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ⁹）₂ −（式中、Ｒ⁹ はメチル、エチル等のアルキル基）〕、あるいはこれらの２種以上が結合されたものなどが挙げられる。

極性基としては、例えば水酸基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、アルコキシシリル基、スルホニル含有基、およびカルボキシル基などが挙げられる。更に具体的には、上記アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリーロキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アミノ基としては第１級アミノ基が挙げられ、アルコキシシリル基としては例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
炭化水素基の置換基としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基、アルケニル基が挙げられる。

特定単量体ｄの具体例としては、
テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［９．２．１．１３，９ ．０２，１０．０４，８ ］−１２−ペンタデセン、
ペンタシクロ［９．２．１．１５，８ ．０２，１０．０４，９ ］−１２−ペンタデセン、
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ド
デセン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−カルボキシメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５． １７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、

８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、

８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン

８−（４−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（４−ビフェニルカルボニルオキシエチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（４−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（２−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（３−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（３−ビフェニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（１−ナフチルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（１−ナフチルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（２−ナフチルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２−ナフチルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−（９−アントラセニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，
５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（９−アントラセニルカルボニルオキシメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５ ．１７，１０］−３−ドデセン、
１，２−（２Ｈ、３Ｈ−［１，３］エピシクロペンタ）−１，２−ジヒドロアセナフチレンとシクロペンタジエンとのディールス・アルダー付加体
などを挙げることができるが、特定単量体ｄは、これらの化合物に限定されるものでなはい。また、これらの化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせて特定単量体ｄとして用いることができる。

これらの中では、分子内に少なくとも１つの極性基を有する化合物が好ましく、特に、一般式（３）において、Ｒ₁ およびＲ₃ が水素原子または炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ₂ およびＲ₄ が水素原子または一価の有機基に相当するものであって、かつＲ₂ およびＲ₄ の少なくとも一つが水素原子および炭化水素基以外の極性基であるものが、他素材との密着性・接着性を高めるので好ましい。

ここに、得られる特定重合体中の極性基の含有量は、最終的に得られる低レターデーションポリマーフィルムに要求される所望の機能等により決定されるものであり、特に限定はされないが、全構造単位中、極性基を有する特定単量体が、通常１モル％以上、好ましくは５モル％以上、更に好ましくは１０モル％以上であり、特定単量体ｄに由来する全構造単位が極性基を有するものであってもよい。

また、特定単量体ｄとしては、一般式（３）において、Ｒ₂ およびＲ₄ の少なくとも一つが一般式（５）で表される極性基を有するものであることが、得られる特定重合体のガラス転移温度と吸水性を制御しやすい点で好ましい。
一般式（５）

〔式中、ｎは０〜５の整数であり、Ｒ₁₀は一価の有機基である。〕

一般式（５）においてＲ₁₀で表される一価の有機基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニリル基等のアリール基；この他にもジフェニルスルホン、テトラヒドロフルオレン等のフルオレン類等の芳香環やフラン環、イミド環等の複素環を有する一価の基等が挙げられる。また、一般式（５）において、ｎは０〜５の整数、好ましくは０〜２の整数、より好ましくは０である。ｎの値が小さいものほど得られる特定重合体のガラス転移温度が高くなるので好ましく、特にｎが０である特定単量体ｄは、その合成が容易である点で好ましい。

更に、特定単量体ｄは、一般式（３）において、一般式（５）で表される極性基が結合した炭素原子に更にアルキル基が結合したものであることが好ましく、これにより、得られる特定重合体の耐熱性と吸水性のバランスを図ることができる。ここで、アルキル基の炭素原子数は１〜５であることが好ましく、更に好ましくは１〜２、特に好ましくは１である。
また、特定単量体ｄとしては、一般式（３）においてｍが１でありｐが０であるものは、ガラス転移温度の高い特定重合体が得られる点で好ましい。

特定単量体ｂの具体例としては、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［５．２．１．０２，６ ］デカ−８−エン、
トリシクロ［６．２．１．０２，７ ］ウンデカ−９−エン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（α体およびβ体）、
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、

５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（４−フェニルフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン

４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルスルホニルベンゼン、
５−（４−ビフェニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（４−ビフェニルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、
５−（４−ビフェニルカルボニルオキシプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（４−ビフェニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ビフェニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ビフェニルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（２−ビフェニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（３−ビフェニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（３−ビフェニルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（１−ナフチルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（１−ナフチルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、

５−メチル−５−（１−ナフチルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（２−ナフチルカルボニルオキシメチル）メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（９−アントラセニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（９−アントラセニルカルボニルオキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−（９−アントラセニルカルボニルオキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
アセナフチレンとシクロペンタジエンとのディールス・アルダー付加体などを挙げることができるが、特定単量体ｂは、これらの化合物に限定されるものでなはい。また、これらの化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせて特定単量体ｂとして用いることができる。

特定単量体ｄと特定単量体ｂとを共重合させることによって得られる特定重合体は、当該特定単量体ｄおよび特定単量体ｂ以外の他の共重合性単量体と共に共重合されてなるものであってもよい。
他の共重合性単量体としては、例えばシクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。シクロオレフィンの炭素原子数としては、４〜２０が好ましく、更に好ましくは５〜１２である。更にポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖にオレフィン性不飽和結合を有する不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定単量体ｄおよび必要に応じて特定単量体ｂを重合させてもよく、このようにして得られる特定重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。

特定重合体の３０℃クロロホルム中で測定した固有粘度（ηｉｎｈ）は、０．２〜５ｄｌ／ｇであることが好ましい。更に好ましくは０．３〜４ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．５〜３ｄｌ／ｇである。該上限値以下であれば、溶液粘度が高くなりすぎることがなく、さらには加工性が悪化することがない。また該下限値以上であれば、フィルム強度が低下することがない。

特定重合体の分子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、通常は８，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜５００，０００、更に好ましくは２０，０００〜１００，０００、特に好ましくは３０，０００〜１００，０００、また、質量平均分子量（Ｍｗ）が、通常は２０，０００〜３，０００，０００、好ましくは３０，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは４０，０００〜５００，０００、特に好ましくは４０，０００〜３００，０００の範囲である。
また、特定重合体の分子量分布は、上記のＭｗ／Ｍｎが通常１．５〜１０、好ましくは２〜８、更に好ましくは２．５〜５、特に好ましくは２．５〜４．５である。

特定重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば特定重合体の構造単位ｄおよび構造単位ｂの種類若しくは構造単位ｄと構造単位ｂとの比の調整、あるいは添加剤の添加等により適宜変えることが可能であるが、通常は１００〜２５０℃、好ましくは１１０〜２００℃、更に好ましくは１２０〜１８０℃である。Ｔｇが１００℃未満の場合は、熱変形温度が低くなり、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、また、最終的に得られるフィルムの光学特性が温度により大きく影響を受けることがある。また、Ｔｇが２５０℃を超えると、延伸加工等にＴｇ近辺まで加熱して加工する場合に樹脂が熱劣化する可能性が高くなる。

構造単位ｄおよび構造単位ｂを有する特定重合体においては、構造単位ｄと構造単位ｂとの比（ｄ／ｂ）は、好ましくは、モル比ではｄ／ｂ＝９５／５〜５／９５、更に好ましくは９５／５〜６０／４０である。構造単位ｄの割合が該上限以下であれば靱性改良の効果や光学特性が所望のものから外れることがなく、該下限値以上であればガラス転移温度が低くなったり、耐熱性に問題が生じたりすることがない。

更に、構造単位ｄおよび構造単位ｂを有する特定重合体において、当該重合体中の構造単位ｄと構造単位ｂの比率（組成比）は、分子量分布全範囲においてバラツキが小さいことが好ましい。具体的には、重合反応に供した特定単量体ｄと特定単量体ｂとの比率に対して、任意の分子量における組成比を、±５０％以内、好ましくは±３０％以内、更に好ましくは±２０％以内のバラツキ範囲に収めることで、より一層均一なフィルムを得ることができる。また、こうした範囲に収めることで、延伸配向した際に、位相差のより一層の均一性を得ることが可能となる。

以下に、特定単量体ｄ、および必要に応じて特定単量体ｂあるいはその他の共重合性単量体を開環重合することにより、あるいはこれらの単量体を開環重合した後、得られる開環重合体を水素添加することにより得られる特定重合体を製造するための条件について説明する。

開環重合触媒：
単量体の開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われることが好ましい。
このメタセシス触媒は、（ａ）Ｗ、ＭｏおよびＲｅの化合物から選ばれた少なくとも１種と、（ｂ）デミングの周期律表ＩＡ族元素（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋなど）、ＩＩＡ族元素（例えばＭｇ、Ｃａなど）、ＩＩＢ族元素（例えばＺｎ、Ｃｄ、Ｈｇなど）、ＩＩＩＢ族元素（例えばＢ、Ａｌなど）、ＩＶＡ族元素（例えばＴｉ、Ｚｒなど）あるいはＩＶＢ
族元素（例えばＳｉ、Ｓｎ、Ｐｂなど）の化合物であって、少なくとも１つの当該元素−炭素結合あるいは当該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種との組合せからなる触媒である。またこの場合に触媒の活性を高めるために、後述の添加剤（ｃ）が添加されたものであってもよい。

（ａ）成分として適当なＷ、ＭｏあるいはＲｅの化合物の代表例としては、ＷＣ_l6 、ＭｏＣ_l5 、ＲｅＯＣｌ₃ など特開平１−２４０５１７号公報に記載の化合物を挙げることができる。
（ｂ）成分の具体例としては、ｎ−Ｃ₄Ｈ₉Ｌｉ、（Ｃ₂Ｈ₅）₃Ａｌ 、（Ｃ₂Ｈ₅ ）₂ ＡｌＣｌ、（Ｃ₂Ｈ₅）_1.5ＡｌＣｌ_1.5 、（Ｃ₂Ｈ₅）ＡｌＣｌ₂ 、メチルアルモキサン、ＬｉＨなど特開平１−２４０５１７号公報に記載の化合物を挙げることができる。
（ｃ）成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができるが、更に特開平１−２４０５１７号公報に記載の化合物を使用することができる。

メタセシス触媒の使用量としては、上記（ａ）成分と特定単量体ｄおよび特定単量体ｂ（以下、双方を併せて「特定単量体」という。）とのモル比で（ａ）成分：特定単量体が、通常１：５００〜１：５００００となる範囲、好ましくは１：１０００〜１：１００００となる範囲である。
（ａ）成分と（ｂ）成分との割合は、金属原子比で「（ａ）：（ｂ）」が１：１〜１：５０、好ましくは１：２〜１：３０の範囲である。
（ａ）成分と（ｃ）成分との割合は、モル比で「（ｃ）：（ａ）」が０．００５：１〜１５：１、好ましくは０．０５：１〜７：１の範囲である。

分子量調節剤：
特定重合体の分子量の調節は重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節することが好ましい。好適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレンを挙げることができ、これらのうち、１−ブテン、１−ヘキセンが好ましい。
これらの分子量調節剤は、単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。
分子量調節剤の使用量としては、重合反応に供される特定単量体１モルに対して０．００５〜０．６モル、好ましくは０．０２〜０．５モルである。

開環重合反応用溶媒：
開環重合反応において用いられる溶媒としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素類；クロロブタン、ブロムヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素化合物類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プロピオン酸メチルなどの飽和カルボン酸エステル類；ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を挙げることができ、これらは単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。これらの中でも、上記芳香族炭化水素類が好ましい。
溶媒の使用量としては、溶媒：特定単量体（質量比）が、通常１：１〜１０：１となる量、好ましくは１：１〜５：１となる量である。

水素添加：
以上の開環重合により得られる開環共重合体は、そのまま特定重合体として使用することもできるが、当該開環共重合体において残留するオレフィン性不飽和結合を水素添加された水素添加物とすることが好ましい。

この水素添加物は、優れた熱安定性を有するものとなり、フィルム製膜加工時および延伸加工時、あるいは製品としての使用時において、加熱によってその特性が劣化しにくくなる。このような水素添加物において、オレフィン性不飽和結合に対する水素添加率は、５０％以上、好ましくは７０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９８％以上である。また、水素添加に供される開環重合体が分子内に芳香環を有するものである場合には、水素添加後において、当該芳香環が実質的に水素添加されていないことが好ましい。

水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２０〜１８０℃で作用させることによって行われる。

水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が公知である。なお、芳香環を有する置換基を分子内に有する開環重合体を水素添加する場合には、芳香環の不飽和結合が実質的に水素添加されない条件を選択することが好ましい。不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属類を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト／ｎ−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド／ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は粉末でも粒状でもよい。
これらの水素添加触媒は、開環重合体：水素添加触媒（質量比）が、１：１×１０^-6〜１：２となる割合で使用される。

上記特定重合体は、上記成分からなる触媒を用い、前記溶媒中で、−２０〜１２０℃の温度範囲で重合を行うことにより得ることができる。。

低レターデーションポリマーフィルムは、通常、溶液キャスト法を用いて次の＜製膜法＞の項に挙げる手順で製造されるが、本発明はこの手順に限定されるものではない。すなわち、低レターデーションポリマーフィルムは、例えば、上記特定重合体、酸化防止剤、必要に応じて添加される架橋剤、その他添加剤を含む溶液を用いて、溶液キャスト法によるフィルムを製造し、必要に応じてフィルムを架橋処理し、次いでフィルムを溶媒（Ｉ）の雰囲気下に曝し、次いでフィルムの残留溶媒の除去することにより製造することができる。また、溶融押出法を用いて得られたフィルムを溶媒（Ｉ）の雰囲気下に曝すことによっても製造することが可能である。

本発明において、特定重合体のフィルムを溶液キャスト法により製造するために用いる溶媒としては、該特定重合体が溶解し均一相を形成するもの（以下、「良溶媒」ともいう。）であれば特に制限はないが、好ましくは２５℃において固形分濃度が２０質量％でも均一に溶解できるもので、さらに、１気圧下での沸点が好ましくは３０〜２００℃、より好ましくは７０〜１５０℃、さらに好ましくは８０〜１３０℃のものである。

沸点の低い溶媒はフィルムを形成する際、乾燥しやすいが、溶媒の揮発が速すぎ、表面のムラができやすい。一方、沸点の高い溶媒は乾燥しにくいがフィルムの表面のムラはできにくい。このため、沸点の異なる良溶媒２種以上からなる混合溶媒を用いてもよい。また、該特定重合体が析出しない範囲内で、該特定重合体を溶解しない溶媒（以下、「貧溶媒」ともいう。）を良溶媒に添加してもよい。さらに、得られたフィルムを貧溶媒の蒸気雰囲気下に曝すことにより、フィルムの残留溶媒のさらなる除去がなされることもある。

上記良・貧溶媒としては、例えば、シクロペンタン、シクロペンテン、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、テトラヒドロフラン、２−メトキシテトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、エタノール、イソプロピルアルコールブタノールなどのアルコール、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルなどが挙げられ、前記特定重合体の溶解性により、良溶媒もしくは貧溶媒として使用する。

＜製膜法＞
次に低レターデーションポリマーフィルムの製膜法について説明する。
前記特定重合体のフィルムを製造する際のキャスティング組成物には、該重合体、該重合体を溶解する溶媒以外に、架橋剤、酸化防止剤、その他添加剤を含むことができる。特定重合体のフィルムは、キャスティング組成物をキャストした後、溶媒を蒸発・乾燥で除去する工程、または溶媒が除去された後の工程でフィルムに対して、該重合体の官能基の種類により異なるが、外部から加熱、活性光線の照射、水または水蒸気暴露などの処理を行うことにより架橋化できる。フィルムを架橋化することにより、耐熱性、耐薬品性、靭性、および寸法安定性がさらに向上したものとなる。以下に、架橋するための具体的方法を例示するが、本発明はこれらの方法に限定されるものではない。

特定重合体のフィルムを架橋させる方法は、該重合体に含有される架橋に関わる官能基の種類により異なり、下記のように分類される。
１）側鎖置換基としてアクリロイル基、メタクリロイル基を有する特定重合体の場合、架橋剤として熱や活性光線などによりラジカルを発生させる過酸化物、アゾ化合物などのラジカル発生剤をキャスティング組成物に添加してフィルムを製造し、熱や活性光線などを添加したラジカル発生剤に対応する手段でラジカルを発生させて架橋させる。

２）側鎖置換基として加水分解性シリル基を有する特定重合体の場合、下記ａ）〜ｄ）から選ばれた少なくとも１種の化合物をキャスティング組成物に添加してフィルムを製造し、対応する加熱処理や活性光線照射処理などにより架橋させる。
ａ）スズ、アルミニウム、亜鉛、チタニウム、アンチモンなどの金属酸化物、アルコキサイド化合物、フェノキサイド化合物、β−ジケトン化合物、アルキル化合物、ハロゲン化合物、有機酸塩化合物から選ばれた化合物…… 加熱処理
ｂ）対アニオンがＢＦ₄，ＰＦ₄，ＡｓＦ₆，ＳｂＦ₆，Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ などから選ばれた芳香族スルフォニウム塩、芳香族アンモニウム塩、芳香族ピリジニウム塩、芳香族ホスフォニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、ヒドラジニウム塩、メタロセンの鉄塩などの、５０℃以上に加熱することで酸を発生する化合物…… 加熱処理
ｃ）トリアルキル亜リン酸エステル、トリアリール亜リン酸エステル、ジアルキル亜リン酸エステル、モノアルキル亜リン酸エステル、次亜リン酸エステル、有機カルボン酸の第２級または第３級アルコールのエステル、有機カルボン酸のヘミアセタールエステル、有機カルボン酸のトリアルキルシリルエステルなどで、水または水蒸気の存在下、５０℃以上に加熱することで加水分解し、酸を発生する化合物…… 水または水蒸気暴露および
加熱処理
ｄ）ｇ線、ｈ線、ｉ線などの紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線などの活性光線照射によりブレンステッド酸、あるいはルイス酸を生成するジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩、ホスフォニウム塩、アルソニウム塩、オキソニウム塩などのオニウム塩、ハロゲン含有オキサジアゾール化合物、ハロゲン含有トリアジン化合物、ハロゲン含有ベンゾフェノン化合物などのハロゲン化有機化合物、その他、キノンジアジド化合物、α，α−ビス（スルフォニル）ジアゾメタン化合物、α−カルボニル−α−スルフォニルジアゾメタン化合物、スルフォニル化合物、有機酸エステル化合物、アミド化合物、有機酸イミド化合物…… 活性光線照射処理

３）側鎖置換基としてエステル基、カルボキシル基を有する環状オレフィン系重合体の場合、スズまたはアンチモンのハロゲン化物、アルコキシ化合物、有機カルボン酸塩から選ばれた少なくとも１種の化合物と２〜４官能の多価アルコール化合物または２〜４官能のアミン化合物をキャスティング組成物に添加してフィルムを製造し、その後１００℃以上に加熱することによりエステル交換反応を進行させて架橋させる。

上記の架橋処理の際に用いられる化合物は、前記特定重合体１００質量部当たり、０．０００１〜５．０質量部の範囲で配合して用いられる。

本発明における特定重合体には、所望により、他の樹脂やフェノール系やリン系の酸化防止剤、紫外線防止剤など配合することができる。また、コート層の表面粗さを小さくするためには、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などを用いることができる。これらの化合物は、溶媒と相溶性が良いものが好ましく、これら化合物のキャスティング組成物中の添加量は１〜５０，０００ｐｐｍの範囲である。

特定重合体のキャスティング組成物には、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒなどの金属の多官能アルコキシ化合物およびそのオリゴマーから選ばれた少なくとも１種や粒径が２００μｍ以下の微粒子状金属酸化物を含むことができる。これら化合物は、前記特定重合体のフィルムを製造する際の乾燥工程、およびその後の架橋処理工程の段階で共縮合して、ミクロ充填剤としての作用をする。これら添加剤を加えることにより、フィルムの硬さ、弾性率を高めることができる。

Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒの多官能アルコキシ化合物としては、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラエトキシチタン、テトラエトキシアルミニウム、テトラエトキシジルコンが挙げられ、また、これら化合物のオリゴマーとしては、縮合度が４〜２０の化合物を挙げられる。また、金属酸化物としては、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニアの酸化物などが挙げられる。これらの化合物の添加は、キャスティング組成物を調製する際に行われ、その添加量は特定重合体１００質量部に対して、５〜５０質量部添加することができる。添加量が５質量部以上であれば、フィルムの硬さ、弾性率を高める効果が所望のものとなり、一方、５０質量部以下であれば、フィルムの透明性が損なわれることがない。

前記キャスティング組成物における特定重合体の溶液濃度は、通常５〜６０質量％、好ましくは１０〜４０質量％、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。該重合体の濃度が該下限値以上であればフィルムの厚さの調整が容易であり、一方、濃度が該上限値以下であれば粘度が高くなりすぎたり、溶液キャスト法による製膜の作業性や得られたフィルムの表面性などが悪くなったりすることがない。

本発明において、フィルムをキャストする方法（製膜するための塗布方法）には特に限
定はなく、ポリエステルフィルム、スチールなどの基板上に、はけやブラシを用いた塗布、スプレーによる吹き付け、スクリーン印刷法、フローコーティング、スピンコーティング、ディップ塗装、ロールや平板に塗布するなどの方法を用いて行われる。

本発明において、塗布されたキャスティング組成物の乾燥方法には特に限定はなく、長時間の放置もあるが一般的には多段階に乾燥温度を３０〜５０℃の低温から１００〜２００℃の高温に昇温し、フィルムの残留溶媒が３質量％以下、好ましくは１質量％以下になるまで乾燥する。

本発明においては、溶液キャスト法もしくは溶融押出法により得られたフィルムを、該フィルムに含まれる特定重合体が溶解する溶媒（Ｉ）の雰囲気下に曝すことが特に好ましく、重要な技術として挙げられる。さらに、前記溶媒（Ｉ）の雰囲気下に曝した後、該フィルムの四辺を固定した状態でフィルム中の溶媒を蒸発させる方法を組み合わせると、フィルム中のポリマー分子鎖の配向を低減させることが可能となり、高温高湿下で安定にレターデーションを発現できる光学積層体を得る上で特に好ましい。ここで、「溶媒（Ｉ）の雰囲気下に曝す」とは、溶媒（Ｉ）の蒸気もしくは気体と、または、該フィルムに含まれる特定重合体が溶解しない溶媒に溶媒（Ｉ）が該フィルムに含まれる特定重合体が溶解しない範囲で混合された混合溶媒と、溶液キャスト法もしくは溶融押出法により得られたフィルムを接触させることを意味する。係る溶媒（Ｉ）としては、上記キャスティング組成物の調製に用いることができる良溶媒が挙げられる。また、キャスティング組成物の調製に用いた良溶媒と同種の溶媒を溶媒（Ｉ）として用いてもよいし、キャスティング組成物調製に用いた良溶媒とは異なる種の良溶媒を溶媒（Ｉ）として用いてもよい。さらに、良溶媒を複数種組み合わせて用いることも可能である。

溶媒（Ｉ）の蒸気または気体と接触させる場合、溶媒（Ｉ）の濃度は、処理後のフィルムの表面性に影響を与えない範囲である必要があり、通常、１〜８５体積％、好ましくは５〜７０体積％、さらに好ましくは１０〜６０体積％である。また、係る処理を行う際の処理温度としては、通常、０〜１２０℃、好ましくは１０〜１００℃である。さらに、処理時間としては、通常、１〜１２０分、好ましくは５〜６０分である。一方、混合溶媒と接触させる場合も、処理後のフィルムの表面性に影響を与えないことが必要であり、溶媒（Ｉ）の濃度は、通常、０．１〜４０質量％、好ましくは０．５〜３０質量％、さらに好ましくは１〜２５質量％である。また、処理温度は、通常、０〜６０℃、好ましくは５〜４０℃であり、処理時間としては、通常、１〜１２０分、好ましくは５〜６０分である。係る処理は、バッチ式方法または連続式方法で行われる。なお、係る処理は、本発明における未架橋のフィルムにも適用できるが、架橋されたフィルムである方が、表面性低下や寸法もしくは形状変化が発生しにくいため好ましい。

本発明においては、上記溶媒（Ｉ）の雰囲気に曝す処理を施したフィルムは、再度、乾燥などにより残留溶媒を除去することが好ましい。係る残留溶媒を除去のために、熱による通常の乾燥のほか、前記特定重合体を溶解しない、１気圧下での沸点が１００℃以下の溶媒（ＩＩ）に１分〜１時間浸漬するか、溶媒（ＩＩ）の蒸気または気体に１分〜１時間曝露した後、５０〜１５０℃で５分から２時間の範囲で乾燥する方法が有効であり、係る処理によりフィルム中の残留溶媒を０．１質量％以下にすることができる。係る溶媒（ＩＩ）としては、上記キャスティング組成物の調製における貧溶媒のうち、沸点が条件に合致するものを適宜選択できるが、通常、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステルが用いられる。

＜フィルムの表面処理＞
前記低レターデーションポリマーフィルムは偏光子との密着を確保するため、少なくとも一方の表面が親水化処理されていることが好ましい。
表面処理方法としては、例えば特開2000-24167号、特開平10-130402号、特開2002-148436号、特開2002-90546号、特開2001-350017号の各公報に記載の接着層を設ける方法、また、特開2001-350018号公報に記載のコロナ放電処理等の表面処理により親水性を付与することもできる。

次に本発明の光学積層体に前記低レターデーションポリマーフィルムとともに好適に組み込まれるもう一つの光学ユニットである光学異方性層について説明する。

＜光学異方性層＞
本発明に適用される光学異方性層は非液晶性ポリマーまたは液晶性化合物を含有することが好ましい。

（光学異方性層のレターデーション）
本発明の光学異方性層のＲｅは０以上５００ｎｍ以下が好ましく、０以上４００ｎｍ以下がさらに好ましい。Ｒｔｈの絶対値は０以上１０００ｎｍ以下が好ましく、０以上５００ｎｍ以下がさらに好ましい。

（非液晶性ポリマーを含有する光学異方性層）
まず非液晶性ポリマー、および該非液晶性ポリマーを含有する光学異方性層について説明する。
本発明で用いられる光学異方性層を形成するポリマーとしては、ジメチルホルムアミド溶媒によるポリエチレンオキサイドを標準試料として、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した質量平均分子量（Ｍｗ）が１万以上かつ４０万以下の範囲にあるものが挙げられる。この質量平均分子量が１万以上のポリマーを用いれば、高い複屈折を有する複屈折層が得られ、さらにクラックの発生を防止でき、質量平均分子量が４０万以下のポリマーを用いれば、位相差のバラツキが防止される。これは、ポリマー溶液を塗工して前記光学異方性層を形成する場合、質量平均分子量が４０万以下のポリマーの溶液は粘度が高くなりすぎず、基材などへのポリマー溶液の塗工が容易になり、その結果、均一な光学異方性層が形成可能となるからである。また、質量平均分子量が４０万以下のポリマーを用いてポリマー溶液を調製する場合は、ポリマーの可溶性が高いため、使用する溶媒量を少なくすることができる。その結果、塗工層の厚みを薄くすることができ、精密塗工が可能となる。光学異方性層を形成するポリマーの質量平均分子量（Ｍｗ）は、より好ましくは１万以上３０万以下、さらに好ましくは１万以上２０万以下である。

非液晶性ポリマーは、例えば、液晶性ポリマーとは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成することができる。このため、例えば、使用する基板としては、配向基板に限定されることもなく、例えば、未配向基板であっても、その表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができる。

本発明で用いられる非液晶性ポリマーとしては、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、耐熱性、耐薬品性に優れ、剛性に富み、透明性に優れる等の理由から、特に二軸性フィルムの材料として適している。これらのポリマーは特に限定はなく、従来公知のポリマー材料を適宜使用でき、単独で又は任意の組み合せで用いることができる。

前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合
生成物を含み、下記一般式（６）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
一般式（６）

前記一般式（６）中、Ｒ₃〜Ｒ₆は、水素、ハロゲン原子、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ₃〜Ｒ₆は、ハロゲン原子、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記一般式（６）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記一般式（７）で表される基である。
一般式（７）

前記一般式（７）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ₇）₂基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）₂基、または、ＮＲ₈基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ₉）₃である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ₉は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（８）または（９）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（１０）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記一般式（１０）のポリイミドは、下記一般式（８）のホモポリマーの好ましい形態である。

前記一般式（８）〜一般式（１０）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＨ₃）₂基、Ｃ（ＣＦ₃）₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘは、ハロゲン原子である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（ＣＨ₂ＣＨ₃）₂基、および、Ｎ（ＣＨ₃）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

前記一般式（８）および一般式（１０）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基
、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

前記一般式（８）〜一般式（１０）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

前記一般式（９）中、Ｒ₁₀は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から独立して選択される基である。その中でも、Ｒ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
前記一般式（１０）中、Ｍ₁およびＭ₂は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。

前記一般式（８）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記（１１）で表されるもの等があげられる。

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物と
しては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。
前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。
前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。
前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ
）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。

前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（１２）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
一般式（１２）

前記一般式（１２）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。ａは、フッ素原子Ｆの置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖の低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。

前記一般式（１２）中、ｑおよびａは、０から４までの整数である。前記一般式（１２）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。また、前記一般式（１２）中、Ｒ₁は、下記一般式（１３）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
一般式（１３）

前記一般式（１３）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記一般式（１２）におけるＸと同様である。前記一般式（１３）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、前記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。ｂはフッ素原子Ｆの置換数を表し、０から４までの整数である。

前記一般式（１３）中、Ｒ₂は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、
ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ₂としては、下記（１４）〜（２０）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

前記一般式（１２）中、前記Ｒ₁としては、下記一般式（２１）で表される基が好ましく、下記一般式（２１）において、Ｒ₂およびｐは前記一般式（１３）と同義である。
一般式（２１）

さらに、前記一般式（１２）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。

さらに、前記一般式（１２）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記一般式（１２）と同様の重合度を表す。
一般式（２２）

前記一般式（１２）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記（２３）〜（２６）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記一般式（１２）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２７）で表すことができる。
一般式（２７）

前記一般式（２７）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｒ）₂基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。

また、前記一般式（２７）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞ
れの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。

前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。

前記一般式（２７）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２８）で表されるものが好ましい。
一般式（２８）

前記一般式（２８）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記一般式（２７）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

非液晶性ポリマーを含む光学異方性層の製造は、例えば、以下に示すようにして行うことができる。まず基材上に、光学異方性層を形成する前記所定のポリマーを塗工して前駆層を形成する。塗工方法としては、特に限定されないが、例えば、前述のようなポリマーを加熱溶融して塗布する方法や、前記ポリマーを溶媒に溶解させたポリマー溶液を塗布する方法等があげられる。その中でも、作業性に優れ、光学異方性制御の点から、前記ポリマー溶液を塗布する方法が好ましい。

前記ポリマーの塗工工程により、製造される光学異方性層の厚みを調節することができる。例えば、前記ポリマー溶液を塗布する方法においては、基材の面積（ｃｍ²）あたりの前記ポリマーの塗工量を調節して、光学異方性層の厚みを調節することができる。
本発明の非液晶性ポリマーを含む光学異方性層の厚みは０．１μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下がさらに好ましい。

ポリマー溶液の溶媒としては、ポリマーを溶解させることができるものであれば特に制限はなく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール類；
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどを挙げることができる。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。

前記ポリマー溶液の粘度は、塗工が容易な粘度が好ましい。塗工が容易であれば、前記したように均一な光学異方性層の形成が可能となるからである。その粘度は、例えば、０．１〜１２Ｐａ・ｓ、好ましくは１〜１０Ｐａ・ｓ、より好ましくは１〜５Ｐａ・ｓである。前記ポリマー溶液における前記ポリマーの濃度は、特に制限されないが、用いる非液晶性ポリマーの質量平均分子量を考慮に入れて、溶液の粘度が前記の範囲になるように調整されることが好ましい。前記ポリマーの濃度は、溶媒１００質量部に対して、例えば、前記ポリマー５〜５０質量部であり、好ましくは１０〜４０質量部である。

前記ポリマー溶液は、例えば、必要に応じて、さらに安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。また、前記ポリマー溶液は、例えば、前記ポリマーの配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂を含有してもよい。前記他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等があげられる。

前記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等があげられる。前記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等があげられる。前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等があげられる。前記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等があげられる。

このように、前記他の樹脂等を前記ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、前記ポリマーに対して、例えば、０〜５０質量％であり、好ましくは、０〜３０質量％である。

また塗工処理は、スピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等の適宜な方法で行うことができる。塗工に際しては、必要に応じポリマー層の重畳方式なども採ることができる。

また、前記ポリマーを塗工する際に、基材上に一方向に応力を加えながら塗工したり、基材に対して一方向から風などを送りながら塗工してもよい。

次いで、前記前駆層を固化させて基材上に光学異方性層を形成する。固化の方法としては、塗工後、自然乾燥（風乾）又は例えば２５〜１８０℃、好ましくは８０〜１７０℃、より好ましくは６０〜１５０℃で加熱する方法がある。乾燥または加熱の時間は、その温度や、前駆層への溶媒の使用の有無、その溶媒の種類等により決定されるが、例えば０．５〜３０分、好ましくは１〜２０分、より好ましくは１〜１５分、行うことができる。

本発明の光学異方性層を製造する方法においては、基材と光学異方性層との積層体を延伸する工程をさらに含んでもよい。前記積層体の延伸方法としては、特に制限されず、例
えば、固定端延伸や、従来公知の方法が適用できる。テンター横延伸や、長軸方向の延伸倍率が短軸方向の延伸倍率よりも小さい二軸延伸が好ましい。二軸延伸は全テンター方式による同時二軸延伸、ロールーテンター法による逐次二軸延伸のいずれでも良い。延伸倍率は、延伸方法によって異なるが、例えば前記積層体を１〜２００％延伸する。延伸時の加熱温度は、使用する基材のガラス転移点（Ｔｇ）や添加物の種類などに応じて適宜選択されるが、例えば８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜２２０℃、特に好ましくは１４０〜２００℃である。特に、用いる基材のＴｇ付近またはＴｇ以上であるのがよい。

次に、基材上に直接形成された光学異方性層を、さらに低レターデーションポリマーフィルムと対向するように接着させ、基材のみを剥離する工程を行うことが好ましい。このように低レターデーションポリマーフィルムに前記光学異方性層を転写して、前記基材を剥離することによって形成された前記光学異方性層と前記低レターデーションポリマーフィルム）との積層体を製造し、本発明の光学積層体を得ることもできる。

前記基材としては、適宜な材料を用いることができ限定されるものではない。例えば、ガラス転移点（Ｔｇ）の低い高分子フィルム、弾性率の高い高分子フィルム、材料との線膨張が同等もしくはそれより大きい基材、熱伝達率が高い基材、アスペクト比が高い基材、厚みの薄い基材などが挙げられる。前記基材に伸縮性を持たせるには、基材の固定なしに乾燥し、全方位に収縮性を持たせる方法、少なくとも一方向以上固定しそれ以外に収縮性をもたせる方法、金属ベルトの線膨張を利用する方法、フィルム搬送時にテンター固定で収縮制御する方法、事前に基材を膨張させて乾燥により収縮率を上げる方法、基材に乾燥工程前に延伸をかけて、硬化収縮させる方法、基材に乾燥工程中あるいは工程後に延伸をかける方法などを用いることができる。その方法は限定されるものではない。

前記基材の厚さは、使用目的等に応じて適宜決定することができるが、強度や薄層化などの点より、例えば５〜５００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは１５〜１５０μｍの範囲であるのがよい。

（液晶性化合物を含有する光学異方性層）
以下、液晶性化合物、および該液晶性化合物を含有する光学異方性層について説明する。
（ネマティック液晶性層）
本発明における光学異方性層に用いられる液晶性化合物としてはディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物を好ましく用いることができる。重合性基を有しているディスコティック液晶性化合物または棒状液晶化合物がさらに好ましい。

ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（例えば、C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
特開平８−５０２８６号公報に記載されるディスコティック液晶性化合物を用いることが好ましい。

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけでは
なく、高分子液晶性化合物も用いることができる。特に好ましく用いられる、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）の棒状液晶性化合物である。

（Ｉ） Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３）ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
一般式（Ｉ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に重合性基であり、Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ１，Ｃｙ２およびＣｙ３は二価の環状基であり、ｎは０、１または２である。

以下にさらに一般式（Ｉ）の棒状液晶性化合物について説明する。
上記したように一般式（Ｉ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に二価の連結基である。Ｌ１およびＬ４はそれぞれ独立に、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＣＯ−，−ＮＲ２−，二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ２は炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子である。
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がＱ（Ｑ１またはＱ２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ１またはＣｙ３）に結合する。

Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−

二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基，置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基，置換アルキレン基，アルケニレン基，置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることがもっとも好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることがもっとも好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることがもっとも好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、ブタメチレン、１−メチル−ブタメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２−ブテニレン、２−ブチニレンなどが上げられる。

二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ１，Ｃｙ２およびＣｙ３の定義および例と同様である。
Ｒ２は、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。

Ｌ２またはＬ３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。Ｌ２およびＬ３はそれぞれ独立に、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＣＯ−，−ＮＲ２−，二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Ｒ２は炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。二価の鎖状基、および二価の環状基についてはＬ１およびＬ４の定義と同義である。

式（Ｉ）において、ｎは０、１または２である。ｎが２の場合、二つのＬ３は同じであっても異なっていても良く、二つのＣｙ２も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。

式（Ｉ）において、Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることがもっとも好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキ
サン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイルおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルホ゛ニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアシルアミノ基が含まれる。

以下に、式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。

ディスコティック液晶性化合物及びあるいは棒状液晶性化合物を含有する光学異方性層は、液晶性化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
光学異方性層の厚さは、０．５乃至１００μｍであることが好ましく、０．５乃至３０μｍであることがさらに好ましい。

配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。
液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ² であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ² であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

（コレステリック液晶層）
さらに、本発明における光学異方性層は、コレステリック液晶層であることも好ましい。コレステリック液晶性を示す化合物は、コレステリック液晶の平均屈折率をｎｃ、螺旋ピッチをＰ（ｎｍ）とした場合に、螺旋軸に平行に光が入射すると、ｎｃ×Ｐの値に等しい光波長を中心として選択反射が生じる。本発明においては、可視光領域において、このような選択反射が生じないように、ｎｃ×Ｐの値が可視光領域から外れるように材料を選定したものを用いるのが好ましい。コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は１００〜３２０ｎｍの範囲に制御するのが好ましい。

コレステリック液晶層は、液晶状態においてコレステリック液晶相を呈するものであれば特に制限はない。コレステリック液晶層は単層または２層以上とすることができる。コレステリック液晶層の形成は液晶性化合物とカイラル剤により行うことができる。カイラル剤は、液晶性化合物との合計に対して、７質量％以上含有してなり、下記式で表されるねじり力（ｎｍ^-1・質量％^-1）：ねじり力＝１／｛コレステリック液晶層の選択反射波長（ｎｍ）×カイラル剤質量比（質量％）｝が、１×１０^-6（ｎｍ^-1・質量％^-1）以上になるよう調整されていることが好ましい。

前記ねじり力は光学特性の点から、１×１０^-6（ｎｍ^-1・質量％^-1）以上であるのが好ましく、さらには１×１０^-5（ｎｍ^-1・質量％^-1）以上、１×１０^-4（ｎｍ^-1・質量％^-1）以上であるのがコストの面からより好ましい。またこのカイラル剤の質量は、液晶性化合物に対して７質量％以上であるのが好ましく、特に７. ５〜１７質量％であると非常に優れた光学特性を示すためより好ましい。

コレステリック液晶層の形成法としては、たとえば、重合性液晶モノマーを塗布、配向後、硬化して固定する方法と、液晶ポリマーを塗布、配向後、固定する方法があげられる。

前記重合性液晶モノマーとしては、たとえば、ネマティック液晶性またはスメクチック液晶性モノマーがあげられる。これらネマティック液晶性モノマー等には液晶状態においてコレステリック液晶相を呈するように、コレステリック液晶性モノマーやカイラル剤が配合される。

ネマティック液晶性モノマー等は、末端にアクリロイル基、メタクリロイル基等の重合性官能基を有し、これに環状単位等からなるメソゲン基を有するものがあげられる。また重合性官能基として、アクリロイル基、メタアクリロイル基等を２つ以上有するものを用いて架橋構造を導入して耐久性を向上させることもできる。メソゲン基となる前記環状単位としては、たとえば、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、フェニルシクロヘキサン系、アゾキシベンゼン系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、フェニルピリミジン系、ジフェニルアセチレン系、ジフェニルベンゾエート系、ビシクロへキサン系、シクロヘキシルベンゼン系、ターフェニル系等があげられる。なお、これら環状単位の末端は、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。

カイラル剤としては、光学活性基を有し、ネマティック液晶性モノマー等の配向を乱さないものであれば特に制限されない。カイラル剤は液晶性を有していてもよく液晶性を有しなくてもよいが、コレステリック液晶性を示すものを好ましく使用できる。カイラル剤は反応性基を有するもの、有しないもののいずれも使用できるが、硬化して得られるコレステリック液晶配向フィルムの耐熱性、耐溶剤性の点では反応性基を有するものが好ましい。反応性基としては、たとえば、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アジド基、エポキシ基などがあげられる。

なお、前記コレステリック液晶層の形成に、重合性液晶モノマーを用いた場合には、通常、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤は各種のものを特に制限なく使用できる。光重合開始剤としては、たとえば、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７，同１８４、同６５１、同３６９などを例示できる。光重合開始剤の添加量は、サーモトロピック液晶性化合物の配向性を乱さない程度に加えられる。通常、重合性液晶モノマー１００質量部に対して、０．５〜３０質量部程度が好ましい。特に３〜１５質量部が好ましい。

前記液晶ポリマーとしては、たとえば、コレステリック性の液晶配向を示す主鎖型、側鎖型またはこれらの複合型の各種骨格の液晶ポリマーを使用できる。液晶ポリマーは、液晶状態においてコレステリック液晶相を呈するように、液晶ポリマー中にカイラル成分を導入することにより調製することができる。また、液晶ポリマーとしてネマチック系液晶ポリマーを用い、液晶状態においてコレステリック液晶相を呈するように、これにカイラル剤を含有させることができる。

主鎖型の液晶ポリマーとしては、芳香族単位等からなるメソゲン基を結合した構造を有する縮合系のポリマー、たとえば、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリエステルイミド系などのポリマーがあげられる。メソゲン基となる前記芳香族単位としては、フェニル系、ビフェニル系、ナフタレン系のものがあげられ、これら芳香族単位は、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。

側鎖型の液晶ポリマーとしては、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリシロキサン系、ポリマロネート系の主鎖を骨格とし、側鎖に環状単位等からなるメソゲン基を有するものがあげられる。メソゲン基となる前記環状単位としては、たとえば、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、フェニルシクロヘキサン系、アゾキシベンゼン系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、フェニルピリミジン系、ジフェニルアセチレン系、ジフェニルベンゾエート系、ビシクロへキサン系、シクロヘキシルベンゼン系、ターフェニル系等があげられる。なお、これら環状単位の末端は、たとえば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。

前記重合性液晶モノマー、液晶ポリマーのいずれのメソゲン基も屈曲性を付与するスペーサ部を介して結合していてもよい。スペーサ部としては、ポリメチレン鎖、ポリオキシメチレン鎖等があげられる。スペーサ部を形成する構造単位の繰り返し数は、メソゲン部の化学構造により適宜に決定されるがポリメチレン鎖の繰り返し単位は０〜２０、好ましくは２〜１２、ポリオキシメチレン鎖の繰り返し単位は０〜１０、好ましくは１〜３である。

液晶ポリマーの分子量は特に制限されないが質量平均分子量に基づき２千〜１０万程度のものが好ましい。液晶ポリマーの質量平均分子量が大きくなると、液晶としての配向性が乏しくなって液晶ポリマーが均一な配向状態を形成しにくくなる傾向があることから、液晶ポリマーの質量平均分子量は、５万以下とするのがより好ましい。また、液晶ポリマーの質量平均分子量が小さくなると非流動層としての成膜性に乏しくなる傾向があることから、液晶ポリマーの質量平均分子量は、２．５千以上とするのがより好ましい。

前記液晶性化合物（重合性液晶モノマーや液晶ポリマー）の展開は、加熱溶融方式で行うことができ、また溶剤による溶液として行うことができる。溶剤としては、通常、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベン
ゼン、１，２−ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類、その他、アセトン、酢酸エチル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレンブリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ブチロニトリル、二硫化炭素、シクロヘキサノンなどを用いることができる。溶液の濃度は、液晶性化合物の溶解性やコレステリック液晶層の膜厚に依存するため一概には言えないが、通常３〜５０質量％、好ましくは７〜３０質量％の範囲である。溶液の塗工後、溶媒を除去し、基板上に液晶層を形成させる。溶媒の除去条件は、特に限定されず、溶媒をおおむね除去でき、液晶ポリマー層または液晶性組成物層が流動したり、流れ落ちたりさえしなければ良い。通常、室温での乾燥、乾燥炉での乾燥、ホットプレート上での加熱などを利用して溶媒を除去する。

前記液晶性化合物の塗工方法は、前述の方法を採用できる。コレステリック液晶層を形成する基材は、通常、配向処理されている。配向基材としては、従来知られているものを採用できる。たとえば、基板上にポリイミドやポリビニルアルコール等からなる薄膜を形成して、それをレーヨン布等でラビング処理したラビング膜、斜方蒸着膜、シンナメートやアゾベンゼンなど光架橋基を有するポリマーあるいはポリイミドに偏光紫外線を照射した光配向膜、延伸フィルムなどが用いられる。その他、磁場、電場配向、ずり応力操作により配向させることもできる。また配向基材として延伸フィルムを用いた場合には、配向処理が不要となるので製造工程を簡略化することができる。延伸フィルムとしては、たとえば、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等を例示できる。

次いで、前記基材フィルム上に形成された液晶層を液晶状態とし、コレステリック配向させる。たとえば、液晶層が液晶温度範囲になるように熱処理を行う。熱処理方法としては、上記の乾燥方法と同様の方法で行うことができる。
熱処理温度は、液晶性化合物の種類により異なるため一概には言えないが、通常６０〜３００℃、好ましくは７０〜２００℃の範囲において行う。また熱処理時間は、熱処理温度および使用する液晶性化合物の種類によって異なるため一概には言えないが、通常１０秒〜２時間、好ましくは２０秒〜３０分の範囲で選択される。

熱処理終了後、冷却操作を行い配向を固定する。冷却操作としては、熱処理後のコレステリック液晶層を、熱処理操作における加熱雰囲気中から、室温中に出すことによって行うことができる。また空冷、水冷などの強制冷却を行ってもよい。前記コレステリック液晶層は、液晶性化合物のガラス転移温度以下に冷却することにより配向が固定化される。

液晶性化合物として、重合性液晶モノマーを含有している場合には、このように固定化されたコレステリック液晶層に対して、光照射を行い光重合性液晶化合物を重合または架橋させて光重合性液晶化合物を固定化して、耐久性を向上したコレステリック液晶層を得る。光照射は、たとえば、紫外線照射により行う。紫外線照射条件は、十分に反応を促進するために、不活性気体雰囲気中とすることが好ましい。通常、約８０〜１６０ｍＷ／ｃｍ² の照度を有する高圧水銀紫外ランプが代表的に用いられる。メタハライドＵＶランプや白熱管などの別種ランプを使用することもできる。なお、紫外線照射時の液晶層表面温度が液晶温度範囲内になるように、コールドミラー、水冷その他の冷却処理あるいはライン速度を速くするなどして適宜に調整する。

前記（非液晶性ポリマーを含有する光学異方性層）の項で述べたと同様にして、液晶性化合物を含有する光学異方性層は、該光学異方性層を別のフィルム上に形成したものを、前記低レターデーションポリマーフィルムに転写することにより作成しても良い。

＜延伸ポリマーフィルム＞
本発明の光学積層体は本発明の低レターデーションフィルムに対して偏光子と反対側に延伸ポリマーフィルムを含有してもよい。
ポリマーフィルムとしては、特に限定されず、フィルム延伸により光学異方性を付与することができる材料で、複屈折の制御性、透明性、耐熱性に優れる材料が好ましい。未延伸ポリマーフィルムは、単独で使用しても良いし二種類以上混合して使用しても良い。例えば、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリノルボルネン系ポリマー、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、セルロースエステルおよびそれらの共重合体等が使用可能である。
また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムもあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換若しくは非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換若しくは非置換のフェニル基およびシアノ基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。

前記未延伸ポリマーフィルムの製造方法は特に制限されず、通常の方法を用いることができる。押し出し法又は流延製膜法が、延伸後のポリマーフィルムの複屈折のムラを少なくできるので、好ましい。前記未延伸ポリマーフィルムは、例えば、３ｍｍ以下、好ましくは１μｍ〜１ｍｍ、特に好ましくは５〜５００μｍの厚さのものが用いられる。

前記未延伸ポリマーフィルムの延伸方法としては特に制限されないが、通常の方法を用いることができる。例えば、テンター横延伸や二軸延伸が挙げられる。二軸延伸は、長軸方向の延伸倍率が短軸方向の延伸倍率よりも小さいのが好ましい。また、二軸延伸は全テンター方式による同時二軸延伸、ロールーテンター法による逐次二軸延伸のいずれの方法でも用いることができる。

前記未延伸ポリマーフィルムの延伸倍率は、延伸方法によって異なるが、通常前記未延伸ポリマーフィルムの長さに対して、１０１〜２５０％延伸する。前記未延伸ポリマーフィルムの延伸倍率は、前記未延伸ポリマーフィルムの長さに対して、１０１〜２００％が好ましい。

前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、使用する前記未延伸ポリマーフィルムのガラス転移点（Ｔｇ）や前記未延伸ポリマーフィルム中の添加物の種類などに応じて適宜選択される。前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、例えば８０〜２５０℃、好ましくは１２０〜２２０℃、特に好ましくは１４０〜２００℃である。特に、前記未延伸ポリマーフィルムを延伸する温度は、延伸される前記未延伸ポリマーフィルムのＴｇ付近またはＴｇ以上であるのが好ましい。

延伸ポリマーフィルムの厚さは、対象となる画像表示装置の画面の大きさに応じて適宜に決定することができる。前記延伸ポリマーフィルムの厚さは、例えば１ｍｍ以下、好ましくは１〜５００μｍ、特に好ましくは５〜３００μｍである。

前記延伸ポリマーフィルムのレターデーションは、以下の数式（Ｄ）および（Ｅ）を満たすのが好ましい。
２０（ｎｍ）≦Ｒｅ≦３００（ｎｍ） （Ｄ）
１．２≦Ｒｔｈ／Ｒｅ （Ｅ）
数式（Ｄ）に示すＲｅは、好ましくは２５≦Ｒｅ≦２５０であり、より好ましくは３０
≦Ｒｅ≦２００である。また、数式（Ｅ）に示すＲｔｈ／Ｒｅは、好ましくは１．５≦Ｒｔｈ／Ｒｅであり、より好ましくは２≦Ｒｔｈ／Ｒｅである。

＜光学補償機能付き積層偏光板＞
本発明の光学積層体は、各種の光学用途、具体的には、各種液晶表示素子の光学補償部材として利用することができる。例えば、工業的に製造されているヨウ素系や染料系の偏光板（または偏光子）と本発明の光学積層体とを組み合わせることにより、液晶表示素子の複屈折性を補償、調整する機能を有する積層偏光板とすることができる。
以下に本発明の偏光板について詳しく説明する。

本発明の光学積層体と任意に組み合わせて用いる偏光板は、特に限定されないが、その基本的な構成は、偏光子の片側または両側に、保護フィルムを積層したものであり、少なくとも片側の保護フィルムは本発明の光学積層体が兼ねることが好ましい。

前記偏光子（偏光フィルム）としては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはヨウ素または二色性染料を吸着配向させたＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。

本発明の光学積層体と反対側の保護フィルムとしては、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような保護フィルムの材質の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基とを有する熱可塑性樹脂との混合物、液晶ポリマー等があげられる。また、前記アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが好ましい。

また、前記保護フィルムは、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、Ｒｔｈが、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記Ｒｔｈが−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。

本発明の光学積層体と反対側の保護フィルムの厚みは、４０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、より好ましくは６０〜１５０μｍの範囲である。

また、本発明の光学積層体と反対側の保護フィルムは、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等
が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、保護フィルムの表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。

前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記保護フィルムの表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記保護フィルムを形成する方式等があげられる。

前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、例えば、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２〜７０質量部の範囲であり、好ましくは５〜５０質量部の範囲である。

前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、保護フィルムそのものとして使用することもでき、また、保護フィルム表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視野角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。

なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記保護フィルムとは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。

各構成物同士（光学積層体、偏光子、保護フィルム等）の積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、前記各構成物の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や保護フィルムの表面に塗布してもよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。

なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の接着剤等を使用した従来公知の方法が採用できる。

偏光板と本発明の光学積層体を積層して本発明の光学補償機能付き偏光板を形成する場合、両者を接着層や粘着層等の適宜な接着手段を用いて積層することができるが、これに限定されるものではない。

本発明の光学積層体は前記の光学異方性層以外に各種位相差板、拡散制御フィルム、輝度向上フィルム等と組合せて用いることもできる。位相差板としては、ポリマーを一軸延伸したもの、二軸延伸したもの、Ｚ軸配向処理したもの、液晶性高分子を塗布したもの等が挙げられる。拡散制御フィルムは、視野角を制御するための拡散、散乱、屈折を利用したフィルムや、解像度に関わるギラツキ、散乱光等を制御する拡散、散乱、屈折を利用したフィルム等を用いることができる。輝度向上フィルムは、コレステリック液晶の選択反射とλ／４板を用いた輝度向上フィルムや、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルム等を用いることができる。また、ワイヤーグリッド型偏光子と組合せて用いてもよい。

本発明による偏光板は、各種液晶表示装置の形成などに好ましく用いることができるが、その適用に際しては、必要に応じ接着層や粘着層を介して、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルムなどの他の光学層の１層または２層以上を積層することができる。

まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、本発明の偏光板にさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、本発明の偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。

前記反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。

前記反射型偏光板は、例えば、前記弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における保護フィルムの片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。

また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした保護フィルムの上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記保護フィルムの凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。

また、前述のように偏光板の保護フィルムに前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、保護フィルムの別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。

一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射
し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。

前記半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。

本発明の偏光板に、さらに輝度向上フィルムを積層して光学フィルムや積層偏光板等を作製することができる。

前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。

本発明の光学積層体は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。

本発明の偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、前記光学積層体や偏光板等の片面または両面に配置することができる。前記粘着層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等でもよい。前記光学積層体や偏光板等の表面への前記粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、前記光学積層体や偏光板等の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するセパレータ上に粘着剤層を形成させて、それを前記光学積層体や偏光板等の所定面に移着する方式等によって行うことができる。

偏光板に設けた粘（接）着層が表面に露出する場合には、その粘（接）着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的にセパレータにて仮着カバーすることが好ましい。このセパレータは、前記保護フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成できる。

なお、偏光板を構成する偏光子や保護フィルム、粘（接）着層などの各層は、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式等の適宜な方式により紫外線吸収能を持たせたもの等であってもよい。

＜液晶表示装置＞
本発明の偏光板は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば、本発明の偏光板を液晶セルの片側又は両側に配置して反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置とすることができる。液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のものなどの適宜なタイプの液晶セルを用いたものであってよい。

例えばＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）セル、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）セル、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）セル、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）セル、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）セル、強誘電・反強誘電セル及びこれらに規則正しい配向分割を行ったもの、ランダムな配向分割を行った物等の各種のセルが含まれる。

以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に限定されるものではない。なお例中、「部」とあるのは特記しない限り質量部を意味する。
［作製例１］
（低レターデーションポリマーフィルム１の作製）
（樹脂Ａの合成）
窒素置換した反応容器に、特定単量体ｄとして８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］−３−ドデセン ２２７部と、特定単量体ｅとして５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン ２６部と、分子量調節剤として１−ヘキセン １７部と、溶媒としてトルエン ７５３部とを仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム１．５モル／ｌを含有するトルエン溶液０．６２部と、ｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）を含有する濃度０．０５モル／ｌのトルエン溶液３．８部とを添加し、この系を８５℃で３時間加熱攪拌することにより開環共重合反応させて開環共重合体溶液を得た。
この重合反応における重合転化率は９６％であり、得られた開環共重合体溶液を構成する開環共重合体の３０℃のクロロホルム中における固有粘度（η_inh）を測定したところ、０．６４ｄｌ／ｇであった。

得られた開環共重合体溶液４，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環共重合体溶液に、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム：ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃ ０．４８部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で３時間加熱攪拌することにより水素添加反応を行った。
得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下、「樹脂（Ａ）」）を得た。

＜フィルムＡ−１の作製＞
樹脂（Ａ）をトルエンに濃度が３０％となるように溶解した。得られた溶液の室温における溶液粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓであった。
この溶液に、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を、樹脂（Ａ）１００質量部に対
して０．１質量部を添加し、得られた溶液を日本ポール製の孔径５μｍの金属繊維焼結フィルターを用い、差圧が０．４ＭＰａ以内に収まるように溶液の流速をコントロールしながら濾過した後、クラス１０００のクリーンルーム内に設置した井上金属工業製の「ＩＮＶＥＸラボコーター」を用い、アクリル酸系表面処理剤によって親水化（易接着性化）処理された、厚みが１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製の「ルミラーＵ９４」）に塗布した。
次いで、得られた液層に対して、５０℃で一次乾燥処理を行い、更に、９０℃で二次乾燥処理を行った後、ＰＥＴフィルムから剥離させることにより、厚さ８２μｍのフィルム（Ａ−１）を形成した。得られたフィルム（Ａ−１）の残留溶媒量は０．５質量％であり、光線透過率は９３％以上であった。 Ｒｅは３ｎｍ、Ｒｔｈは１１ｎｍであった。

［作製例２］
＜フィルムＡ−２の作製＞
フィルムＡ−１を３０ｃｍ×３０ｃｍに切り出し、３０℃で１時間シクロヘキサンの蒸気雰囲気下に曝した。そのフィルム中に残留しているシクロヘキサンを除去するために、フィルムを２５℃で３０分間、塩化メチレンの蒸気雰囲気下に曝した。その後、フィルムの四辺を固定した状態で１４０℃で４０分乾燥し、フィルムＡ−２を得た。厚みは８０μｍ、Ｒｅは１ｎｍ、Ｒｔｈは３ｎｍであった。

［作製例３］
＜フィルムＢ−１の作製＞
ＪＳＲ（株）製アートンを塩化メチレンに溶解した後、キャスティング法により厚さ４２μｍのフィルムＢ−１を作製した。このフィルム（Ｂ−１）のＲｅは５ｎｍ、Ｒｔｈは１３ｎｍであった。

［作製例４］
＜フィルムＣ−１の作製＞
イソブテンおよびＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体（Ｎ−メチルマレイミド含有量５０モル％，ガラス転移温度１５７℃）８１部と、アクリロニトリルの含有量が２６％であるアクリロニトリル−スチレン共重合体１９部とを塩化メチレンに溶解し、固形分濃度１５％の溶液を得た。この溶液をガラス板状に敷いたポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人製，テトロンＨＳ）上に流延し、室温で６０分間放置した。そのフィルムを剥がし、４片固定治具に挟んで、１００℃で１０分間乾燥後に、１４０℃で１０分間、さらに１６０℃で３０分間乾燥して、厚さ７２μｍの保護フィルムを得た。保護フィルムのＲｅは８ｎｍ、Ｒｔｈは８ｎｍであった。

［作製例５］
＜フィルムＤ−１の作製＞
酢化度６１．０％のセルロースアセテートをメチレンクロライドに溶解し、ステンレスバンド上に流延した。残留溶剤含率が４０％になるまで８０℃で乾燥したのち、バンドから剥ぎ取り、さらに130℃で20分間乾燥させて、セルロースアセテートフィルムＤ−１を作製した。厚みは８１μｍ、Ｒｅは３ｎｍ、Ｒｔｈは４８ｎｍであった。

（光学特性の測定）
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用い２５℃６０％ＲＨでＲｅ及びＲｔｈを測定した。測定波長は５９０ｎｍとした。結果を表１に示す。

(光弾性係数の測定)
３．５ｃｍ×１２ｃｍに切り出してフィルムについて、荷重無し、２５０ｇ、５００ｇ、１０００ｇ、１５００ｇのそれぞれの荷重におけるＲｅを測定し、応力に対するＲｅ変
化の直線の傾きから光弾性係数を算出した。測定波長は４５０ｎｍ及び６３０ｎｍについておこない、４５０ｎｍにおける光弾性係数の６３０ｎｍにおける光弾性係数に対する比を算出した。結果を表１に示す。

（透湿度の測定）
ＪＩＳ Ｚ−０２０８にしたがって、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間における透湿度を測定した。

［実施例１］
(光学積層体の作製)
２，２'−ビス（３，４−ジカルボキジフェニル）ヘキサフルオロプロパン）および２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミド（質量平均分子量５９,０００）をシクロヘキサノンに溶解し、１５質量％のポリイミド溶液を調製した。このポリイミド溶液を、厚み８０μｍのＰＥＴフィルム上に塗工し、温度１５０℃で１０分乾燥させながら、テンター横延伸をおこなった。延伸倍率は、２．５倍であった。また、形成した光学異方性層の厚みは９μｍであり、光学特性は、Ｒｅが６３ｎｍ、Ｒｔｈが２００ｎｍであった。そして、前記ＰＥＴフィルム上の光学異方層と実施例１で作製した低レターデーションポリマーフィルム（Ａ−２）とを、厚み１４μｍのアクリル系粘着剤を介して接着した後、前記ＰＥＴフィルムを剥離して、光学積層体（Ａ−２）を得た。

[比較例１]
フィルムＡ−１、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１についても同様にして光学積層体Ａ−１、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１を作製した。

[実施例２]
（偏光子の作成）
重合度１７００、厚さ３９μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水浴にて膨潤した後、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液からなる３０℃の染色浴にて約３倍に延伸した。次いで、ホウ酸とヨウ化カリウムの入った５０℃の架橋浴にて総延伸倍率が５．５倍になるように延伸し、架橋した。これを、３５℃のヨウ化カリウム水溶液中に１０秒間浸漬して色相の調整を行った。さらに水洗、乾燥して、厚さ１８μｍの偏光子を得た。この偏光子の水分率は１４％であった。また波長９００ｎｍにおける複屈折率（Δｎ）は０．０４８２、透過率は４３％、偏光度は９９．９％であった。

なお、複屈折率は、９００ｎｍの波長光により、平行ニコル回転法を用いて位相差値（Δｎｄ）を求め、厚さｄ（ｎｍ）で割ることにより求めた。

透過率は、分光光度計（村上色彩技術研究所製，ＤＯＴ−３）を用いて測定し、ＪＩＳ
Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値である。

偏光度は、２枚の同じ偏光子を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率（Ｈ０）と直交に重ね合わせた場合の透過率（Ｈ９０）を、上記の透過率の測定に準じて測定し、以下の式から求めた。なお、偏光の透過率（Ｈ０）と直交の透過率（Ｈ９０）は、視感度補正したＹ値である。
偏光度（％）＝√｛（Ｈ０ −Ｈ９０）／（Ｈ０ ＋Ｈ９０）｝×１００

（接着剤の調製）
ポリエステル系ウレタン（三井武田ケミカル社製，タケラックＸＷ−７４−Ｃ１５４）１０部およびイソシアネート系架橋剤（三井武田ケミカル社製，タケネートＷＤ−７２５）１部を、水に溶解し、固形分を２０％に調整した溶液を調製した。これを接着剤として用いた。

（偏光板の作成）
上記偏光子の両面に、上記接着剤溶液を塗布した後、実施例１で作製した光学積層体（Ａ−２）と鹸化処理したフジタックＴＤ８０により偏光子を挟み込むように貼り合わせ、４０℃のオーブンで７２時間乾燥キュアして、総厚１７８μｍの偏光板Ａ−２を作製した。得られた偏光板の透過率は４２％、偏光度は９９．９％であった。なお、偏光子には、光学積層体（Ａ−２）の低レターデーションポリマーフィルムの面を貼りあわせた。

［比較例２］
光学積層体Ａ−１、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１についてもそれぞれ実施例２と同様にして偏光板Ａ−１、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１を作製した。

（カールの測定）
該偏光板を幅方向５０ｍｍ、長手方向２ｍｍに切断し、２５℃６０％ＲＨの湿度で２４時間調湿し、曲率スケールを用いて偏光板のＦ式カール値を測定した。なお低レターデーションポリマーフィルム側に凸をプラスカールとした。結果を表２に示す。

［実施例３］
（ＶＡ液晶表示装置の作製）
図１の液晶表示装置を作製した。即ち、観察者側（上）から上側偏光板１１、上基板、液晶層および下基板からなるＶＡモード液晶セル１２、下側偏光板１３を積層し、さらにバックライト光源（図示せず）を配置した。以下の例では、下側偏光板１３に市販品の偏光板を用いて、上側偏光板１１に本発明の偏光板を使用している。すなわち、上側偏光板１１は、偏光子１１２の両側に保護フィルム１１１および１１３を積層してなり、保護フィルム１１３が本発明の光学積層体である。

＜液晶セルの作製＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図１）の下側偏光板１３に市販品のスーパーハイコントラスト品（株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ−５６１８）を用い、上側偏光板１１に実施例２で作製した偏光板Ａ−２を用い、低レターデーションポリマーフィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、ＶＡモード液晶セル１２の観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けて液晶表示装置Ａ−２を作製した。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。

［比較例３］
比較例の偏光板Ａ−1、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１についても実施例３と同様にして液晶表示装置Ａ−1、Ｂ−１、Ｃ−１、Ｄ−１を作製した。

＜色味変化の評価＞
実施例３及び比較例３で作製した液晶表示装置の、３０℃８０％の環境下で点灯直後及び５００時間点灯後の正面の色味変化をELDIM社製Ezcontrastにより測定し、ｘｙ色度図上での色味変化の絶対値Δｘ，Δｙを求めた。さらに周辺部の表示ムラ発生の有無を確認した。結果を表３に示す。

表２及び表３の結果から本発明の光学積層体を用いた偏光板は、液晶表示に組み込んだ場合、長時間点灯しても色味変化が少なく、また表示ムラも発生せず、好ましいことがわかった。

［実施例４］
実施例１で作製した低レターデーションポリマーフィルムＡ−２の片面に、ポリビニルアルコールを塗布し、ラビングにより配向処理して配向膜を形成した。次いで、配向膜に、液晶材料（ＣＢ−１５，大日本インキ化学工業（株）製）を塗布し、９０℃で３分間加熱した後、コレステリック相状態に冷却固定化することにより、厚さ５μｍのコレステリック液晶層を形成し、光学積層体を得た。コレステリック液晶層のＲｅは１ｎｍ、Ｒｔｈは１２３ｎｍであった。

この光学積層体の低レターデーションポリマーフィルム（Ａ−２）側を、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子）の片面にポリビニルアルコール系粘着剤により貼り合せた。偏光子の反対面には、フジタックＴＤ８０を鹸化処理して同様にして貼り合せて偏光板（Ａ−３）を作製した。

この偏光板（Ａ−３）をＶＡモードの液晶セルの両側に、コレステリック液晶層側が液晶セルの基板側となるように、アクリル系粘着剤層（厚さ２３μｍ）を介して貼り合せて液晶表示装置を得た。偏光板の吸収軸は互いに直交するように貼り合せた。
本発明の光学積層体付き偏光板を用いた液晶表示装置は高湿下で長時間点灯しても色味変化が少なく、表示ムラも発生せず、好ましかった。

[実施例５]
（偏光板Ａ−４）の作製
実施例１で作製した低レターデーションポリマーフィルム（Ａ−２）を、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて延伸したフィルム（偏光子）の片面にポリビニルアルコール系粘着剤により貼り合せた。偏光子の反対面には、フジタックＴＤ８０を鹸化処理して同様にして貼り合せて偏光板（Ａ−４）を作製した。

[実施例６]
（ＩＰＳ液晶表示装置への実装評価）
実施例５で作製した偏光板（Ａ−４）に対して、ポリカーボネートを一軸延伸した光学補償フィルムを低レターデーションポリマーフィルム（Ａ−２）面に貼りあわせて光学補償機能を持たせた。この際、光学補償フイルムの正面レターデーションの遅相軸を偏光板の透過軸と直交させることで、正面特性を何ら変えることなく視覚特性を向上させることができる。光学補償フィルムのＲｅは２２０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍのものを用いた。

偏光板（Ａ−４）と光学補償フイルムの積層体、ＩＰＳ型の液晶セル、偏光板（Ａ−４）の順番に上から重ね合わせて組み込んだ液晶表示装置を作製した。この際、上下の偏光板の透過軸を直交させ、上側の偏光板の透過軸は液晶セルの分子長軸方向と平行（すなわ
ち光学補償フィルムの遅相軸と液晶セルの分子長軸方向は直交）とした。また、ＩＰＳ型の液晶セルには、光学補償フイルムが接するように貼りあわせた。液晶セルや電極・基板はＩＰＳとして従来から用いられているものがそのまま使用できる。液晶セルの配向は水平配向であり、液晶は正の誘電率異方性を有しており、ＩＰＳ液晶用に開発され市販されているものを用いることができる。液晶セルの物性は、液晶のΔｎ：０．０９９、液晶層のセルギャップ：３．０μｍ、プレチルト角：５度、ラビング方向：基板上下とも７５度とした。
本発明の光学積層体付き偏光板を用いた液晶表示装置は高湿条件で長時間点灯しても色味変化が小さく、かつ表示ムラも発生せず好ましかった。

実施例４で作製した液晶表示装置を説明するための図である。

符号の説明

１１ 上側偏光板
１２ ＶＡモード液晶セル
１３ 下側偏光板
１１１，１１３ 保護フィルム
１１２ 偏光子

Claims (12)

1. 互いにレターデーションの異なる少なくとも２つの光学ユニットを含む光学積層体であって、少なくとも１つの光学ユニットが、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の関係を満たすポリマーフィルムであることを特徴とする光学積層体。
   Ｒｅ≦１０ｎｍ （Ａ）
   −２５ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１０ｎｍ （Ｂ）
   ０．７５≦（波長４５０ｎｍで測定した光弾性係数）/（６３０ｎｍで測定した光弾性係数）≦１．２５ （Ｃ）
   ［式中、Ｒｅは波長５９０ｎｍにおける正面レターデーションであり、Ｒｔｈは波長５９０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーションである。］
2. 該ポリマーフィルムが、環状オレフィン系開環重合体を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学積層体。
3. 該環状オレフィン系開環重合体が下記一般式（１）及び（２）のモノマーユニットを有することを特徴とする請求項２に記載の光学積層体。
   一般式（１）
   

   

   ［式中、ｍは１以上の整数、ｐは０又は１以上の整数であり、Ｘは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₁〜Ｒ₄は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₃とＲ₄またはＲ₂とＲ₃は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環を形成していてもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］一般式（２）
   

   

   ［式中、Ｙは、ビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−）またはエチレン基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ −）を示し、Ｒ₅〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換若しくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。更に、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₇とＲ₈またはＲ₆とＲ₇は、互いに結合して、単環構造若しくは他の環が縮合して多環構造を有する炭素環または複素環（但し、一般式（１）で表される構造を除く）を形成してもよく、形成される炭素環または複素環は芳香環であってもよいし非芳香環であってもよい。］
4. 該環状オレフィン系開環重合体が溶解する溶媒の雰囲気下に曝すことにより製造されたフィルムであることを特徴とする請求項２または３に記載の光学積層体。
5. 該環状オレフィン系開環重合体が溶解する溶媒の雰囲気下に曝されたフィルムを四辺を固定した状態で溶媒を乾燥する工程を含む製造法により作製されたことを特徴とする請求項４に記載の光学積層体
6. 該ポリマーフィルムの厚みが６０μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体。
7. 該ポリマーフィルムの６０℃、９５％ＲＨ、２４時間における透湿度が２５０g/m²以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学積層体。
8. 他の光学ユニットが、少なくとも一つの非液晶性ポリマーを含有する光学異方性層であ
   ることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学積層体。
9. 他の光学ユニットが、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する光学異方性層であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学積層体。
10. 延伸ポリマーフィルムを含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学積層体。
11. 請求項１〜１０のいずれかに記載の光学積層体を含むことを特徴とする光学補償機能付き偏光板。
12. 液晶セルと、その両側に配置された二枚の偏光板とを有する液晶表示装置であって、該偏光板の少なくとも一枚が、請求項１１に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。

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