JP2005010774A - 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 コントラストおよび色味が正常な範囲で、液晶表示装置の視野角を拡大する。
【解決手段】 透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートにおいて、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値および面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なるようにする。
【選択図】 図１
【解決手段】 透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートにおいて、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値および面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なるようにする。
【選択図】 図１
Description
本発明は、透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートに関する。さらに本発明は、光学補償シートを用いた偏光板および液晶表示装置にも関する。
光学補償シートは、液晶表示装置の視野角を拡大し、画像着色を解消するために用いられている。最近では、透明支持体上に液晶性分子を含む光学異方性層を有する光学補償シートが使用されている。特に円盤状液晶性分子を用いた光学補償シートは光学的性質の調整が容易であって、様々な表示モードの液晶表示装置に適した光学補償シートを製造することができる。
近年では、液晶表示装置の用途が拡大され、表示される画質についての要求が高くなっている。例えば、単なる視野角の拡大ではなく、コントラストおよび色味が正常な範囲での視野角の拡大が要求されている。従来の光学補償シートを用いて、これらの要求を満足することは難しくなっている。
光漏れを防止し、広い視野角で高いコントラストを実現するため、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートが提案されている（例えば、特許文献１参照）。二層の光学異方性層は、液晶性分子の平均傾斜角が相違する。
光漏れを防止し、広い視野角で高いコントラストを実現するため、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートが提案されている（例えば、特許文献１参照）。二層の光学異方性層は、液晶性分子の平均傾斜角が相違する。
本発明の目的は、コントラストおよび色味が正常な範囲で、液晶表示装置の視野角を拡大することである。
本発明は、下記の光学補償シート、偏光板および画像表示装置を提供する。
（１）透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートであって、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値、面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なることを特徴とする光学補償シート。
（１）透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートであって、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値、面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なることを特徴とする光学補償シート。
液晶性分子の平均傾斜角（β）は、円盤状液晶性分子の場合、分子の円盤面と透明支持体平面との平均角度を意味する。棒状液晶性分子の場合、分子の長軸方向と透明支持体平面との平均角度を意味する。
液晶性分子の平均傾斜角（β）が実質的に異なることは、二つの平均傾斜角（β１、β２）の差｜β１−β２｜が２゜よりも大きいことを意味する。
液晶性分子の平均傾斜角（β）が実質的に異なることは、二つの平均傾斜角（β１、β２）の差｜β１−β２｜が２゜よりも大きいことを意味する。
面内レターデーション値の波長分散値（α）は、下記式（Ｉ）で定義される。
（Ｉ）α＝Ｒｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）
式中、Ｒｅ（４００ｎｍ）は、波長４００ｎｍの光で測定したＲｅ（面内）レターデーション値であり；そして、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光で測定したＲｅ（面内）レターデーション値である。なお、Ｒｅ（面内）レターデーション値は、下記式（ＩＩ）で定義する。
面内レターデーション値の波長分散値（α）が実質的に異なるとは、二つの波長分散値（α１、α２）の差｜α１−α２｜が０．０５よりも大きいことを意味する。
（Ｉ）α＝Ｒｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）
式中、Ｒｅ（４００ｎｍ）は、波長４００ｎｍの光で測定したＲｅ（面内）レターデーション値であり；そして、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍの光で測定したＲｅ（面内）レターデーション値である。なお、Ｒｅ（面内）レターデーション値は、下記式（ＩＩ）で定義する。
面内レターデーション値の波長分散値（α）が実質的に異なるとは、二つの波長分散値（α１、α２）の差｜α１−α２｜が０．０５よりも大きいことを意味する。
Ｒｅ（面内）レターデーション値は、下記式（II）で定義される。
（II）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、光学異方性層面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、光学異方性層面内の進相軸方向の屈折率であり；そして、ｄは、光学異方性相の厚さである。なお、特に定義しない場合、測定に用いる光の波長は、６３２．８ｎｍである。
面内レターデーション値（Ｒｅ）が実質的に異なるとは、二つの面内レターデーション値（Ｒｅ１、Ｒｅ２）の差｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜が２ｎｍよりも大きいことを意味する。
（II）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘは、光学異方性層面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、光学異方性層面内の進相軸方向の屈折率であり；そして、ｄは、光学異方性相の厚さである。なお、特に定義しない場合、測定に用いる光の波長は、６３２．８ｎｍである。
面内レターデーション値（Ｒｅ）が実質的に異なるとは、二つの面内レターデーション値（Ｒｅ１、Ｒｅ２）の差｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜が２ｎｍよりも大きいことを意味する。
（２）二層の光学異方性層において、液晶性分子の平均傾斜角が、いずれも５゜乃至６０゜である（１）に記載の光学補償シート。
（３）二層の光学異方性層において、液晶性分子の種類が異なる（１）に記載の光学補償シート。
（４）二層の光学異方性層が、いずれも二種類以上の液晶性分子を含む（１）に記載の光学補償シート。
（５）二層の光学異方性層がそれぞれ含む二種類以上の液晶性分子がいずれも同一の種類であり、かつ二層の光学異方性層において、二種類以上の液晶性分子の組成比が異なる（４）に記載の光学補償シート。
（３）二層の光学異方性層において、液晶性分子の種類が異なる（１）に記載の光学補償シート。
（４）二層の光学異方性層が、いずれも二種類以上の液晶性分子を含む（１）に記載の光学補償シート。
（５）二層の光学異方性層がそれぞれ含む二種類以上の液晶性分子がいずれも同一の種類であり、かつ二層の光学異方性層において、二種類以上の液晶性分子の組成比が異なる（４）に記載の光学補償シート。
（６）二層の光学異方性層が、さらに非液晶性分子を含み、かつ二層の光学異方性層において、非液晶性分子の種類が異なる（１）に記載の光学補償シート。
（７）二層の光学異方性層が、さらに同じ種類の非液晶性分子を含み、かつ二層の光学異方性層において、非液晶性分子の添加量が異なる（１）に記載の光学補償シート。
（８）二層の光学異方性層において、液晶性分子がいずれも円盤状液晶性分子である（１）に記載の光学補償シート。
（９）偏光膜およびその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フイルムが（１）に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
（１０）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が（９）に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
（１１）液晶セルが、ＴＮモード、ベンド配向モードまたは垂直配向モードである（１０）に記載の液晶表示装置。
（７）二層の光学異方性層が、さらに同じ種類の非液晶性分子を含み、かつ二層の光学異方性層において、非液晶性分子の添加量が異なる（１）に記載の光学補償シート。
（８）二層の光学異方性層において、液晶性分子がいずれも円盤状液晶性分子である（１）に記載の光学補償シート。
（９）偏光膜およびその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フイルムが（１）に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
（１０）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が（９）に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
（１１）液晶セルが、ＴＮモード、ベンド配向モードまたは垂直配向モードである（１０）に記載の液晶表示装置。
本発明に従い、光学的性質が異なる二つの光学異方性層を設けることで、光学補償シートの光学的性質を適切に調節することができる。光学的性質が適切に調節された光学補償シートを用いることで、液晶表示装置の視野角を改善できる。
［光学異方性層］
光学補償シートは、光学異方性層を少なくとも二層有する。二層の光学異方性層は、いずれも液晶性分子を含む。
液晶性分子は、円盤状液晶性分子または棒状液晶性分子であることが好ましい。
光学異方性層は、配向膜を用いて液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成することが好ましい。液晶性分子の配向状態を固定するため、液晶性分子は重合性基を有することが好ましい。
光学補償シートは、光学異方性層を少なくとも二層有する。二層の光学異方性層は、いずれも液晶性分子を含む。
液晶性分子は、円盤状液晶性分子または棒状液晶性分子であることが好ましい。
光学異方性層は、配向膜を用いて液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成することが好ましい。液晶性分子の配向状態を固定するため、液晶性分子は重合性基を有することが好ましい。
円盤液晶性分子は、分子の円盤面と透明支持体平面との角度が光学異方性層の深さ方向において連続的に変化している（ハイブリッド配向している）ことが好ましい。円盤状液晶性分子は、様々な文献（例えば、C．Destrade et.al., Mol．Cryst. vol. 71, page 111（1981）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B．Kohne et.al., Angew. Chem. Soc. Chem., Comm., page 1794（1985）；J．Zhang et.al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655（1994)）に記載されている。光学異方性層に好ましく用いられる円盤状液晶性分子については、特開平８−５０２８６号公報にも記載がある。
棒状液晶性分子は、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましい。低分子の液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
棒状液晶性分子は、重合性基を有することが好ましく、棒状分子構造の両端に、二つの重合性基を有することがさらに好ましい。好ましい重合性棒状液晶性分子を、下記式（IV）で示す。
（IV）Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３）ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
式中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、重合性基であり；Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、二価の連結基であり；Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基であり；Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基であり；そして、ｎは、０、１または２である。
Ｑ１およびＱ２の重合性基は、付加重合反応、開環重合反応または縮重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に、重合性基の例を示す。
棒状液晶性分子は、重合性基を有することが好ましく、棒状分子構造の両端に、二つの重合性基を有することがさらに好ましい。好ましい重合性棒状液晶性分子を、下記式（IV）で示す。
（IV）Ｑ１−Ｌ１−Ｃｙ１−Ｌ２−（Ｃｙ２−Ｌ３）ｎ−Ｃｙ３−Ｌ４−Ｑ２
式中、Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、重合性基であり；Ｌ１およびＬ４は、それぞれ独立に、二価の連結基であり；Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立に、単結合または二価の連結基であり；Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３は、それぞれ独立に、二価の環状基であり；そして、ｎは、０、１または２である。
Ｑ１およびＱ２の重合性基は、付加重合反応、開環重合反応または縮重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に、重合性基の例を示す。
重合性基は、付加重合反応が可能な官能基（例、Ｑ−１〜Ｑ−７）または開環重合反応が可能な官能基（例、Ｑ−８、Ｑ−９）がより好ましく、付加重合反応が可能な官能基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（例、Ｑ−１〜Ｑ−６）が最も好ましい。
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４における二価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは、水素原子または炭素原子数が１乃至７のアルキル基）、二価の鎖状基およびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。以下に、組み合わせからなる二価の連結基の例を示す。以下の例における左右は、逆になってもよい。
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−ＮＨ−
Ｌ−３：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−５：−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−６：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−８：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−１０：−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−１１：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１２：−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１３：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１４：−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１７：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２２：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２３：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−ＮＨ−
Ｌ−３：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−５：−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−６：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−８：−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−１０：−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−１１：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１２：−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１３：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１４：−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１７：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
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Ｌ−２７：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２８：−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２９：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−３０：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−３１：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３２：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３３：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３４：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−３５：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３６：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
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Ｌ−４０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
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Ｌ−３７：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−３８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４１：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４２：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４３：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４４：−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−
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Ｌ−４９：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−５０：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−
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Ｌ−５４：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−５５：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５６：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−５７：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−５８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６１：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
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Ｌ−５１：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
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Ｌ−５３：−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−５４：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−
Ｌ−５５：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５６：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−５７：−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−５８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−５９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６１：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６２：−Ｏ−ＣＯ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６３：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｓ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基および置換アルキニレン基からなる群より選ばれる。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基またはアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換アルケニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
二価の鎖状基の例には、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、１−メチルテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、１−メチルトリメチレンおよび２−メチルトリメチレンが含まれる。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルケニレン基のアルケニレン部分は、上記アルケニレン基と同様である。置換アルケニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに好ましく、２乃至８であることが最も好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換アルキニレン基の置換基の例には、ハロゲン原子が含まれる。
二価の鎖状基の例には、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、１−メチルテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、１−メチルトリメチレンおよび２−メチルトリメチレンが含まれる。
Ｃｙ１、Ｃｙ２およびＣｙ３における二価の環状基が有する環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
環状基が有する環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環の方が好ましい。
環状基が有する環は、芳香族環、脂肪族環または複素環である。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、１，３−ジオキサン環、１，３，２−ジオキサボラン環、２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン環、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基は、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基は、１，５−ナフチレンおよび２，６−ナフチレンが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基は、１，４−シクロへキシレンが好ましい。１，３−ジオキサン環を有する環状基は、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルが好ましい。１，３，２−ジオキサボラン環を有する環状基は、１，３，２−ジオキサボラン−２，５−ジイルが好ましい。２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン環を有する環状基は、２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン−１，４−ジイルが好ましい。ピリジン環を有する環状基は、２，５−ピリジンジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基は、２，５−ピリミジンジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が１乃至５のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアミド基が含まれる。
環状基が有する環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環の方が好ましい。
環状基が有する環は、芳香族環、脂肪族環または複素環である。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、１，３−ジオキサン環、１，３，２−ジオキサボラン環、２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン環、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基は、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基は、１，５−ナフチレンおよび２，６−ナフチレンが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基は、１，４−シクロへキシレンが好ましい。１，３−ジオキサン環を有する環状基は、１，３−ジオキサン−２，５−ジイルが好ましい。１，３，２−ジオキサボラン環を有する環状基は、１，３，２−ジオキサボラン−２，５−ジイルが好ましい。２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン環を有する環状基は、２，４，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン−１，４−ジイルが好ましい。ピリジン環を有する環状基は、２，５−ピリジンジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基は、２，５−ピリミジンジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、炭素原子数が１乃至５のアルキル基、炭素原子数が１乃至５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１乃至５のアルコキシ基、炭素原子数が１乃至５のアルキルチオ基、炭素原子数が１乃至５のアシル基、炭素原子数が２乃至６のアシルオキシ基、炭素原子数が２乃至６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル、炭素原子数が２乃至６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２乃至６のアミド基が含まれる。
式（IV）におけるｎが２の場合、二つのＬ３は異なってもよく、二つのＣｙ２も異なってもよい。ｎは、１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。
以下に、式（IV）で表される重合性棒状液晶性分子の例を示す。
以下に、式（IV）で表される重合性棒状液晶性分子の例を示す。
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて重合開始剤や任意の添加剤（例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、配向温度低下剤、カイラル剤）を含む塗布液を配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の塗布量Ｙ（ｍＬ／ｍ２）と塗布液の固形分濃度Ｘ（％）との関係は、０．１７Ｘ＋２．０＞Ｙ＞０．１０Ｘ＋２．０となるように調整することが好ましい。
すなわち、ＸとＹとの関係は、下記の式（１）及び（２）のようにも表現できる。
すなわち、ＸとＹとの関係は、下記の式（１）及び（２）のようにも表現できる。
（１）Ｙ＞０．１０Ｘ＋２．０
（２）Ｙ＜０．１７Ｘ＋２．０
（２）Ｙ＜０．１７Ｘ＋２．０
ここで、Ｘは、塗布液中の固形分重量×１００／（溶媒重量＋塗布液中の固形分重量）（単位：重量％）であり、Ｙは、塗布液の単位面積当りの塗布量（単位：ｍＬ／ｍ２）である。
また、前記塗布液の２５℃における粘度を１〜２０ｍＰａ・ｓｅｃの範囲に調整することが好ましく、１〜１０ｍＰａ・ｓｅｃの範囲に調整することが更に好ましい。
塗布液の塗布量と塗布液の固形分濃度との関係、及び塗布液の粘度が上記範囲に選択されることにより、膜厚が均一で、かつ、表面の膜厚ムラが生じにくい光学異方性を得ることが可能になる。
塗布液の塗布量と塗布液の固形分濃度との関係、及び塗布液の粘度が上記範囲に選択されることにより、膜厚が均一で、かつ、表面の膜厚ムラが生じにくい光学異方性を得ることが可能になる。
また、本発明において、前記塗布液において前記液晶性組成物は有機溶媒中に溶解しており、前記塗布液を前記配向膜の上に塗布してから前記有機溶媒の残存率が１０重量％以下になるまでの時間が３〜２０秒となるように調整することが好ましい。このように、光学異方性層の膜厚均一性は、塗布後の有機溶媒の蒸発時間にも影響を受ける。
透明支持体の配向膜の上に塗布してから、有機溶媒の残存率が１０重量％以下になるまでの時間が３秒未満の場合は乾燥ムラが生じ易く、膜厚を均一にすることはできない。又、この時間が２０秒を超える場合は、生産性が低下し、また、設備のサイズが大きくなり、経済性が悪く、好ましくない。有機溶媒の残存率をコントロールするのは、塗布部及び乾燥工程部の雰囲気温度及び体積、循環風量等を最適化することが有効である。
本発明の光学異方性層はＥ型ギーサー等の手段により２層以上を同時塗布してもよいし、あるいは１層ずつを逐次塗布してもよい。
１層ずつを逐次塗布する場合はワイヤバーコーター、グラビアコーター、ロールコーター等の手段により塗布することができる。このうちワイヤバーコーターが薄い光学異方性層を均一に塗布する上で特に好ましい。
ワイヤバーの回転周速Ｖｂと前記透明支持体の搬送速度Ｖｗとの比Ｖｂ／Ｖｗを０．３〜１．７に設定することが好ましい。このように、塗布手段としてワイヤバーコーターを使用すると、塗布膜厚のコントロールが容易となり、また、Ｖｂ／Ｖｗを適正範囲とすることにより、塗布膜厚のコントロールは一層容易となる。
１層ずつを逐次塗布する場合はワイヤバーコーター、グラビアコーター、ロールコーター等の手段により塗布することができる。このうちワイヤバーコーターが薄い光学異方性層を均一に塗布する上で特に好ましい。
ワイヤバーの回転周速Ｖｂと前記透明支持体の搬送速度Ｖｗとの比Ｖｂ／Ｖｗを０．３〜１．７に設定することが好ましい。このように、塗布手段としてワイヤバーコーターを使用すると、塗布膜厚のコントロールが容易となり、また、Ｖｂ／Ｖｗを適正範囲とすることにより、塗布膜厚のコントロールは一層容易となる。
すなわち、塗布液の塗布量（ｍＬ／ｍ２）は、塗布中のワイヤバーの回転周速Ｖｂ（ｍ／分）と塗布中の透明支持体の搬送速度Ｖｗ（ｍ／分）との比で調整することが可能である。Ｖｂ／Ｖｗを調整することにより、上記式（１）及び（２）を満足する固形分濃度及びワイヤバーの選択範囲が広がり、生産性の向上及び品質安定性を確保することが可能となる。ただし、ＶｂとＶｗとの比が大きくなると、ワイヤバー表面の不整部分によって点状欠陥が透明支持体の走行方向に拡大されるおそれがあるため、ＶｂとＶｗとの比は、上記範囲が好ましい。
また、本発明において、前記ワイヤバーコーターの前記ワイヤバーに巻回されるワイヤの直径が４０〜９０μｍであることが好ましい。このようにすることにより、塗布膜厚のコントロールは一層容易となる。
また、本発明において、前記光学異方性層の任意の箇所における膜厚が、該光学異方性層の平均膜厚に対して±３％以内の範囲にあることが好ましい。このような膜厚偏差の少ない光学異方性層とすれば、光学補償シートとしての性能が十分に発揮できる。
また、本発明において、前記光学異方性層の任意の箇所における膜厚が、該光学異方性層の平均膜厚に対して±３％以内の範囲にあることが好ましい。このような膜厚偏差の少ない光学異方性層とすれば、光学補償シートとしての性能が十分に発揮できる。
以下、添付図面に従って本発明に係る光学補償シート及びその製造方法の好ましい実施の形態について詳説する。図１は、本発明に係る光学補償シートの製造方法が適用される光学補償シートの製造ラインを説明する説明図である。図２は、この製造ラインのうち、塗布手段であるワイヤバー塗布装置１０の一例を示す断面図である。
光学補償シートの製造ラインは、図１に示されるように、送り出し機６６から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１６が送り出されるようになっている。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされてラビング処理装置７０に送りこまれるようになっている。ラビングローラ７２は、ポリマー層にラビング処理を施すべく設けられている。ラビングローラ７２の下流には除塵機７４が設けられており、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。
光学補償シートの製造ラインは、図１に示されるように、送り出し機６６から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１６が送り出されるようになっている。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされてラビング処理装置７０に送りこまれるようになっている。ラビングローラ７２は、ポリマー層にラビング処理を施すべく設けられている。ラビングローラ７２の下流には除塵機７４が設けられており、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。
除塵機７４の下流にはワイヤバー塗布装置１０が設けられており、液晶性化合物を含む塗布液がウエブ１６に塗布できるようになっている。この下流には、乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８が順次設けられており、ウエブ１６上に液晶層が形成できるようになっている。更に、この下流には紫外線ランプ８０が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成できるようになっている。そして、この下流に設けられた巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られるようになっている。
図２に示されるように、ワイヤバー塗布装置１０は、一対のガイドローラ１８、１８でガイドされて走行するウエブ１６に対して、塗工用ワイヤバー１２を備えた塗布ヘッド１４で塗布液を塗布する装置である。一対のガイドローラ１８、１８は、ウエブ１６が塗工用ワイヤバー１２に近接走行するように配置されている。
塗布ヘッド１４は主として、塗工用ワイヤバー１２、バックアップ部材２０、コーターブロック２２、２４で構成され、塗工用ワイヤバー１２は、バックアップ部材２０に回動自在に支持されている。バックアップ部材２０と各コーターブロック２２、２４との間には、マニホールド２６、２８及びスロット３０、３２が形成され、各マニホールド２６、２８に塗布液が供給される。各マニホールド２６、２８に供給された塗布液は、狭隘なスロット３０、３２を介してウエブ幅方向で均一に押し出される。これにより、塗工用ワイヤバー１２に対してウエブ１６の送り方向の上流側（以下、「１次側」という）に１次側塗布ビード３４が形成され、下流側（以下「２次側」という）に２次側塗布ビード３６が形成される。これらの塗布ビード３４、３６を介して、走行するウエブ１６に塗布液が塗布される。
塗布ヘッド１４は主として、塗工用ワイヤバー１２、バックアップ部材２０、コーターブロック２２、２４で構成され、塗工用ワイヤバー１２は、バックアップ部材２０に回動自在に支持されている。バックアップ部材２０と各コーターブロック２２、２４との間には、マニホールド２６、２８及びスロット３０、３２が形成され、各マニホールド２６、２８に塗布液が供給される。各マニホールド２６、２８に供給された塗布液は、狭隘なスロット３０、３２を介してウエブ幅方向で均一に押し出される。これにより、塗工用ワイヤバー１２に対してウエブ１６の送り方向の上流側（以下、「１次側」という）に１次側塗布ビード３４が形成され、下流側（以下「２次側」という）に２次側塗布ビード３６が形成される。これらの塗布ビード３４、３６を介して、走行するウエブ１６に塗布液が塗布される。
マニホールド２６、２８から過剰に供給された塗布液は各コーターブロック２２、２４とウエブ１６との間からオーバーフローし、図示しない側溝を介して回収される。なお、マニホールド２６、２８への塗布液の供給はマニホールド２６、２８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。
塗工用ワイヤバー１２は、図３に示されるように、丸棒状のロッド３８にワイヤ４０を螺旋状に密着巻回して形成されたワイヤ列４２を備えており、このワイヤ列４２に塗布液を保持させることにより、走行するウエブ１６に塗布液を転移塗布する。
塗工用ワイヤバー１２を構成するロッド３８及びワイヤ４０の材質としては、ステンレスをはじめとする各種金属が使用可能であり、塗布液を汚染させず、強度的に満足するものであればよい。また、ロッド３８は、５〜１５ｍｍの径のものが好適に使用される。
塗工用ワイヤバー１２は、図３に示されるように、丸棒状のロッド３８にワイヤ４０を螺旋状に密着巻回して形成されたワイヤ列４２を備えており、このワイヤ列４２に塗布液を保持させることにより、走行するウエブ１６に塗布液を転移塗布する。
塗工用ワイヤバー１２を構成するロッド３８及びワイヤ４０の材質としては、ステンレスをはじめとする各種金属が使用可能であり、塗布液を汚染させず、強度的に満足するものであればよい。また、ロッド３８は、５〜１５ｍｍの径のものが好適に使用される。
一方、ワイヤ４０は、真円度が２μｍ以下のものが使用される。具体的には、ワイヤ４０の単位断面積（仮想真円）に対し、欠損や突起等の不整部分の面積の割合が小さいもの（たとえば０．５％以下のもの）を使用することが好ましい。上記のように構成された塗工用ワイヤバー１２は、図２に示されるように、ウエブ１６の搬送方向に対して順転又は逆転される。
ワイヤバーコーターのワイヤバー１２に巻回されるワイヤ４０の直径は４０〜９０μｍであることが好ましい。
ワイヤバーコーターのワイヤバー１２に巻回されるワイヤ４０の直径は４０〜９０μｍであることが好ましい。
本実施の形態において、ワイヤバー塗布装置１０は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
上述したワイヤバー塗布装置１０は特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット塗布量が１０ｍＬ／ｍ２以下の超薄層塗布を行う光学補償シートの製造ラインに好適に適用することができる。
上述したワイヤバー塗布装置１０は特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット塗布量が１０ｍＬ／ｍ２以下の超薄層塗布を行う光学補償シートの製造ラインに好適に適用することができる。
光学異方性層の厚さは、０．５乃至１００μｍであることが好ましく、０．５乃至３０μｍであることがさらに好ましい。
配向させた液晶性分子は、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５乃至５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2 乃至５０Ｊ／ｃｍ2 の範囲にあることが好ましく、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがより好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2 乃至５０Ｊ／ｃｍ2 の範囲にあることが好ましく、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがより好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
［光学的性質の調節］
本発明では、少なくとも二層の光学異方性層を設けて、二層の光学的性質を相対的に調節する。具体的には、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値、面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なるように調節する。
本発明では、少なくとも二層の光学異方性層を設けて、二層の光学的性質を相対的に調節する。具体的には、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値、面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なるように調節する。
二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角について実質的に異なる場合、二層の液晶性分子の平均傾斜角（β１、β２）の差｜β１−β２｜は、下記式（Ｖａ）を満足することが好ましく、下記式（Ｖｂ）を満足することがさらに好ましく、下記式（Ｖｃ）を満足することが最も好ましい。
（Ｖａ） ２゜＜｜β１−β２｜＜７０゜
（Ｖｂ） ２゜＜｜β１−β２｜＜５０゜
（Ｖｃ） ４゜＜｜β１−β２｜＜２０゜
（Ｖａ） ２゜＜｜β１−β２｜＜７０゜
（Ｖｂ） ２゜＜｜β１−β２｜＜５０゜
（Ｖｃ） ４゜＜｜β１−β２｜＜２０゜
液晶性分子の平均傾斜角は、界面活性剤（例えば、特開２００１−３３０７２５号公報記載）、ポリマー（例えば、セルロースエステル、セルロースエーテル）あるいはカルボン酸の添加により調節することができる。セルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステル（例、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート）が好ましい。セルロースエーテルの例には、ヒドロキシプロピルセルロースが含まれる。
二層の光学異方性層が、面内レターデーション値の波長分散値について実質的に異なる場合、二層の面内レターデーション値の波長分散値（α１、α２）の差｜α１−α２｜は、下記式（ＶＩａ）を満足することが好ましく、下記式（ＶＩｂ）を満足することがさらに好ましく、下記式（ＶＩｃ）を満足することが最も好ましい。
（ＶＩａ）０．０５＜｜α１−α２｜＜２．０
（ＶＩｂ）０．１０＜｜α１−α２｜＜１．５
（ＶＩｃ）０．２０＜｜α１−α２｜＜１．０
（ＶＩａ）０．０５＜｜α１−α２｜＜２．０
（ＶＩｂ）０．１０＜｜α１−α２｜＜１．５
（ＶＩｃ）０．２０＜｜α１−α２｜＜１．０
面内レターデーション値の波長分散値は、液晶性分子の混合比を調整することで調節できる。一般に共役構造の広い液晶性分子では、波長分散値の値が大きくなることが知られている。従って、共役構造が異なる二種類以上の液晶性分子を使用し、二層の光学異方性層において混合比を変化させればよい。
二層の光学異方性層が、面内レターデーション値について実質的に異なる場合、二層の面内レターデーション値の差｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜は、下記式(VIIａ)を満足することが好ましく、下記式(VIIｂ)を満足することがさらに好ましく、下記式(VIIｃ)を満足することが最も好ましい。
(VIIａ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜２００ｎｍ
(VIIｂ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜１００ｎｍ
(VIIｃ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜５０ｎｍ
(VIIａ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜２００ｎｍ
(VIIｂ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜１００ｎｍ
(VIIｃ)２ｎｍ＜｜Ｒｅ１−Ｒｅ２｜＜５０ｎｍ
面内レターデーション値は、液晶性分子と相溶性を有する化合物を添加することで低下させることができる。また、平均傾斜角を増加させることにより、面内レターデーション値を増加させることもできる。
光学補償シートの透明支持体としては、一般に光学等方性のポリマーフイルムが用いられる。ただし、液晶表示モードの種類によっては、透明支持体として光学異方性のポリマーフイルムが用いられる場合もある。
支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
光学等方性とは、具体的には、面内レターデーション値（Ｒｅ）が４ｎｍ未満であることが好ましく、２ｎｍ未満であることがさらに好ましい。また、厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）は、２５ｎｍ未満であることが好ましく、１５ｎｍ未満であることがさらに好ましい。
透明支持体の面内レターデーション値（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション値（Ｒth）は、それぞれ下記式で定義される。
（IX）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（Ｘ）Ｒth＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄ
式中、ｎｘおよびｎｙは透明支持体の面内屈折率であり、ｎｚは透明支持体の厚み方向の屈折率であり、そして、ｄは透明支持体の厚さである。
光学等方性のポリマーフィルムはＩＰＳモード用の光学補償フィルムの支持体として好ましく用いられる。
支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
光学等方性とは、具体的には、面内レターデーション値（Ｒｅ）が４ｎｍ未満であることが好ましく、２ｎｍ未満であることがさらに好ましい。また、厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）は、２５ｎｍ未満であることが好ましく、１５ｎｍ未満であることがさらに好ましい。
透明支持体の面内レターデーション値（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション値（Ｒth）は、それぞれ下記式で定義される。
（IX）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（Ｘ）Ｒth＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄ
式中、ｎｘおよびｎｙは透明支持体の面内屈折率であり、ｎｚは透明支持体の厚み方向の屈折率であり、そして、ｄは透明支持体の厚さである。
光学等方性のポリマーフィルムはＩＰＳモード用の光学補償フィルムの支持体として好ましく用いられる。
透明支持体として光学異方性のポリマーフイルムを用いる場合、光学異方性層の光学異方性に、透明支持体の光学異方性を加えて、液晶セルの光学異方性に対応（光学的に補償）することができる。光学異方性とは、具体的には、面内レターデーション値（Ｒｅ）が４ｎｍ以上、及び／あるいは、厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）が、２５ｎｍ以上であることをさす。
前記光学異方性を有する透明支持体の好ましいレターデーションは対応する液晶モードによって異なる。ＴＮモード用の光学補償フィルムに用いられる透明支持体のＲｅは１５ｎｍ以下が好ましい。Ｒｔｈは３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下がさらに好ましい。ＯＣＢモード用の光学補償フィルムに用いられる透明支持体のＲｅは１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下が好ましく、２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下がさらに好ましい。Ｒｔｈは１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がさらに好ましい。
前記光学異方性を有する透明支持体の好ましいレターデーションは対応する液晶モードによって異なる。ＴＮモード用の光学補償フィルムに用いられる透明支持体のＲｅは１５ｎｍ以下が好ましい。Ｒｔｈは３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下がさらに好ましい。ＯＣＢモード用の光学補償フィルムに用いられる透明支持体のＲｅは１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下が好ましく、２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下がさらに好ましい。Ｒｔｈは１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がさらに好ましい。
透明支持体を形成する材料は、光学等方性支持体とするか、光学異方性支持体とするかに応じて決定する。光学等方性支持体の場合は、一般にガラスまたはセルロースエステルが用いられる。光学異方性支持体の場合は、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ノルボルネン樹脂）が用いられる。合成ポリマーフイルムを延伸することにより、光学異方性が得られる。
なお、一般に光学等方性とされるセルロースエステルフイルムであっても、欧州特許０９１１６５６Ａ２号公報に記載されている（１）レターデーション上昇剤の使用、（２）セルロースアセテートの酢化度の低下、あるいは（３）冷却溶解法によるフイルムの製造により、レターデーションが高い（光学異方性の）セルロースエステルフイルムを製造することができる。
なお、一般に光学等方性とされるセルロースエステルフイルムであっても、欧州特許０９１１６５６Ａ２号公報に記載されている（１）レターデーション上昇剤の使用、（２）セルロースアセテートの酢化度の低下、あるいは（３）冷却溶解法によるフイルムの製造により、レターデーションが高い（光学異方性の）セルロースエステルフイルムを製造することができる。
支持体に用いるポリマーフイルム（セルロースエステルフイルムや合成ポリマーフイルム）は、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
［配向膜］
配向膜は、光学異方性層に含まれる液晶性分子の配向方向を決定する機能を有する。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア−ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、光学異方性層に含まれる液晶性分子の配向方向を決定する機能を有する。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア−ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
ポリマーは、ポリビニルアルコールが好ましい。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。疎水性基は、光学異方性層の液晶性分子と親和性があるため、疎水性基をポリビニルアルコールに導入することで、液晶性分子を均一に配向させることができる。疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端または側鎖に結合させる。
疎水性基は、炭素原子数が６以上の脂肪族基（好ましくは、アルキル基またはアルケニル基）または芳香族基が好ましい。
ポリビニルアルコールの主鎖末端に疎水性基を結合させる場合、疎水性基と主鎖末端との間に連結基を導入することが好ましい。連結基の例には、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ1 −、−ＮＲ2 −、−ＣＳ−およびそれらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基）である。
ポリマーは、ポリビニルアルコールが好ましい。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。疎水性基は、光学異方性層の液晶性分子と親和性があるため、疎水性基をポリビニルアルコールに導入することで、液晶性分子を均一に配向させることができる。疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端または側鎖に結合させる。
疎水性基は、炭素原子数が６以上の脂肪族基（好ましくは、アルキル基またはアルケニル基）または芳香族基が好ましい。
ポリビニルアルコールの主鎖末端に疎水性基を結合させる場合、疎水性基と主鎖末端との間に連結基を導入することが好ましい。連結基の例には、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ1 −、−ＮＲ2 −、−ＣＳ−およびそれらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１乃至６のアルキル基）である。
ポリビニルアルコールの側鎖に疎水性基を導入する場合は、ポリビニルアルコールの酢酸ビニル単位のアセチル基（−ＣＯ−ＣＨ3 ）の一部を、炭素原子数が７以上のアシル基（−ＣＯ−Ｒ3 ）で置き換えればよい。Ｒ3 は、炭素原子数が６以上の脂肪族基または芳香族基である。市販の変性ポリビニルアルコール（例、ＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０、クラレ（株）製）を用いてもよい。
配向膜に用いる（変性）ポリビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であることが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度は、２００以上であることが好ましい。
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。
なお、光学異方性層の液晶性分子を配向膜で配向させた後、配向膜を除去しても、液晶性分子の配向状態を維持することができる。すなわち、配向膜は液晶性分子を配向させるため、光学補償シートの製造において必須であるが、製造された光学補償シートにおいては必須ではない。
配向膜を透明支持体と光学異方性との間に設ける場合は、さらに接着層（下塗り層）を透明支持体と配向膜との間に設けてもよい。
配向膜に用いる（変性）ポリビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であることが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度は、２００以上であることが好ましい。
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。
なお、光学異方性層の液晶性分子を配向膜で配向させた後、配向膜を除去しても、液晶性分子の配向状態を維持することができる。すなわち、配向膜は液晶性分子を配向させるため、光学補償シートの製造において必須であるが、製造された光学補償シートにおいては必須ではない。
配向膜を透明支持体と光学異方性との間に設ける場合は、さらに接着層（下塗り層）を透明支持体と配向膜との間に設けてもよい。
［偏光膜］
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコールフイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコールフイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
［透明保護フイルム］
偏光板は、一般に、偏光膜とその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる。一方の保護フイルムとして、本発明に従う光学補償シートを用いることができる。他方の保護フイルムは、通常の透明保護フイルムであってもよい。
透明保護フイルムとしては、ポリマーフイルムが用いられる。保護フイルムが透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護フイルムとしては、一般に、セルロースエステルフイルム、好ましくは、セルローストリアセテートフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
透明保護フイルムの厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
偏光板は、一般に、偏光膜とその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる。一方の保護フイルムとして、本発明に従う光学補償シートを用いることができる。他方の保護フイルムは、通常の透明保護フイルムであってもよい。
透明保護フイルムとしては、ポリマーフイルムが用いられる。保護フイルムが透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護フイルムとしては、一般に、セルロースエステルフイルム、好ましくは、セルローストリアセテートフイルムが用いられる。セルロースエステルフイルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
透明保護フイルムの厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
［液晶表示装置］
本発明に従う光学補償シートは、様々な表示モード（例、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＨＡＮ）の液晶セルに使用できる。液晶表示装置については、例えば、特開２００１−１６６１４４号公報に記載がある。
本発明に従う光学補償シートは、様々な表示モード（例、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＨＡＮ）の液晶セルに使用できる。液晶表示装置については、例えば、特開２００１−１６６１４４号公報に記載がある。
［実施例１］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
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セルロースアセテート溶液組成
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酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
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セルロースアセテート溶液組成
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酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
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（マット剤分散液の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。
────────────────────────────────────────
マット剤分散液組成
────────────────────────────────────────
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １０．３質量部
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マット剤分散液組成
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平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １０．３質量部
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（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
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レターデーション上昇剤溶液組成
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下記のレターデーション上昇剤 １９．８質量部
下記の紫外線吸収剤Ａ ０．０２質量部
下記の紫外線吸収剤Ｂ ０．１０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １２．８質量部
────────────────────────────────────────
レターデーション上昇剤溶液組成
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下記のレターデーション上昇剤 １９．８質量部
下記の紫外線吸収剤Ａ ０．０２質量部
下記の紫外線吸収剤Ｂ ０．１０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １２．８質量部
────────────────────────────────────────
（セルロースアセテートフイルムの作製）
調製したセルロースアセテート溶液９４．６質量部、マット剤分散液１．３質量部およびレターデーション上昇剤溶液４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は、４．６％であった。
混合液を、バンド流延機を用いて流延した。形成されたフイルムを、残留溶剤量が３０質量％の状態でバンドから剥離した。１３０℃の条件で、残留用材料が１３質量％のフイルムをテンターを用いて２８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま、１４０℃で３０秒間保持した。その後、テンターのクリップを外して、１４０℃で４０分間乾燥し、セルロースアセテートフイルムを作製した。作製したセルロースアセテートフイルムは、残留溶剤量が０．２質量％で、膜厚が９２μｍであった。
調製したセルロースアセテート溶液９４．６質量部、マット剤分散液１．３質量部およびレターデーション上昇剤溶液４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は、４．６％であった。
混合液を、バンド流延機を用いて流延した。形成されたフイルムを、残留溶剤量が３０質量％の状態でバンドから剥離した。１３０℃の条件で、残留用材料が１３質量％のフイルムをテンターを用いて２８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま、１４０℃で３０秒間保持した。その後、テンターのクリップを外して、１４０℃で４０分間乾燥し、セルロースアセテートフイルムを作製した。作製したセルロースアセテートフイルムは、残留溶剤量が０．２質量％で、膜厚が９２μｍであった。
（光学的性質の測定）
作製したセルロースアセテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、面内レターデーション値（Ｒｅ０）を測定した。次に、面内の遅相軸をあおり軸とし、軸を４０゜および−４０゜あおって、レターデーション値（Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）を測定した。膜厚および遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）をパラメータとし、これらの測定値（Ｒｅ０、Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）にフィッティングするように、進相軸方向の屈折率（ｎｙ）および厚み方向の屈折率（ｎｚ）を計算で求め、厚み方向のレターデーション値を決定した。測定波長は、６３２．８ｎｍとした。その結果、面内レターデーション値は３８ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は１７３ｎｍであった。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、面内レターデーション値（Ｒｅ０）を測定した。次に、面内の遅相軸をあおり軸とし、軸を４０゜および−４０゜あおって、レターデーション値（Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）を測定した。膜厚および遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）をパラメータとし、これらの測定値（Ｒｅ０、Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）にフィッティングするように、進相軸方向の屈折率（ｎｙ）および厚み方向の屈折率（ｎｚ）を計算で求め、厚み方向のレターデーション値を決定した。測定波長は、６３２．８ｎｍとした。その結果、面内レターデーション値は３８ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は１７３ｎｍであった。
（セルロースアセテートフイルムのケン化処理）
セルロースアセテートフイルムの一方の面に、下記の組成のケン化液を５．２ｍｌ／ｍ2 塗布し、６０℃で１０秒間乾燥した。フイルム表面を流水で１０秒間洗浄し、２５℃の空気を吹き付けてフイルム表面を乾燥した。
セルロースアセテートフイルムの一方の面に、下記の組成のケン化液を５．２ｍｌ／ｍ2 塗布し、６０℃で１０秒間乾燥した。フイルム表面を流水で１０秒間洗浄し、２５℃の空気を吹き付けてフイルム表面を乾燥した。
────────────────────────────────────────
ケン化液組成
────────────────────────────────────────
イソプロピルアルコール ８１８質量部
水 １６７質量部
プロピレングリコール １８７質量部
水酸化カリウム ７７７質量部
────────────────────────────────────────
ケン化液組成
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イソプロピルアルコール ８１８質量部
水 １６７質量部
プロピレングリコール １８７質量部
水酸化カリウム ７７７質量部
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（配向膜の形成）
セルロースアセテートフイルム（透明支持体）のケン化処理面に、下記の組成の塗布液を、＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアセテートフイルムの延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処理を実施した。
セルロースアセテートフイルム（透明支持体）のケン化処理面に、下記の組成の塗布液を、＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアセテートフイルムの延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処理を実施した。
────────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部
────────────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
────────────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部
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（第１光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ2 塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、９０℃で１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性分子を重合させた。その後、室温まで放冷した。
配向膜上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ2 塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、９０℃で１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性分子を重合させた。その後、室温まで放冷した。
────────────────────────────────────────
第１光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────────
下記のディスコティック液晶性分子Ｉ ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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第１光学異方性層塗布液組成
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下記のディスコティック液晶性分子Ｉ ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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（第２光学異方性層の形成）
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ2 塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、９０℃で１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性分子を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして光学補償シートを作製した。
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ2 塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、９０℃で１分間紫外線を照射し、ディスコティック液晶性分子を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして光学補償シートを作製した。
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第２光学異方性層塗布液組成
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下記のディスコティック液晶性分子II ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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第２光学異方性層塗布液組成
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下記のディスコティック液晶性分子II ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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（光学的性質の測定）
二層（第１光学異方性層、第２光学異方性層）の光学異方性層全体について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
なお、ディスコティック液晶性分子の傾斜角は、膜厚方向で徐々に変化しているため、面内レターデーションの測定結果から計算により求めた。具体的には、エリプソメーターを用いて面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定し、Jones-matrix法により算出されるＲｅ値の傾斜角度依存性から最小自乗法により平均傾斜角（β）を求めた。
結果は、第１表に示す。
二層（第１光学異方性層、第２光学異方性層）の光学異方性層全体について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
なお、ディスコティック液晶性分子の傾斜角は、膜厚方向で徐々に変化しているため、面内レターデーションの測定結果から計算により求めた。具体的には、エリプソメーターを用いて面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定し、Jones-matrix法により算出されるＲｅ値の傾斜角度依存性から最小自乗法により平均傾斜角（β）を求めた。
結果は、第１表に示す。
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップに、Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップに、Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
（液晶表示装置の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向と、それに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
作製した液晶表示装置にバックライトを取り付け、液晶セルに白表示電圧２Ｖおよび黒表示電圧６．０Ｖを印加し、測定機（EZ-Contrast 160D、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、コントラスト視野角（コントラスト比が１０以上となる角度範囲）を測定した。また、中間調電圧３Ｖを印加し、色味視野角（ΔＣuvが０．０２以下となる角度範囲）を測定した。
結果は、第２表に示す。
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向と、それに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
作製した液晶表示装置にバックライトを取り付け、液晶セルに白表示電圧２Ｖおよび黒表示電圧６．０Ｖを印加し、測定機（EZ-Contrast 160D、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、コントラスト視野角（コントラスト比が１０以上となる角度範囲）を測定した。また、中間調電圧３Ｖを印加し、色味視野角（ΔＣuvが０．０２以下となる角度範囲）を測定した。
結果は、第２表に示す。
［比較例１］
塗布量を５．４ｍｌ／ｍ2 に変更して第１光学異方性層のみを設けた（第２光学異方性層を設けなかった）以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
結果は、第１表および第２表に示す。
塗布量を５．４ｍｌ／ｍ2 に変更して第１光学異方性層のみを設けた（第２光学異方性層を設けなかった）以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
結果は、第１表および第２表に示す。
［比較例２］
塗布量を５．４ｍｌ／ｍ2 に変更して第２光学異方性層のみを配向膜の上に直接設けた（第１光学異方性層を設けなかった）以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
結果は、第１表および第２表に示す。
塗布量を５．４ｍｌ／ｍ2 に変更して第２光学異方性層のみを配向膜の上に直接設けた（第１光学異方性層を設けなかった）以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
結果は、第１表および第２表に示す。
第１表
────────────────────────────────────────
光学補償シート β α Ｒｅ
────────────────────────────────────────
実施例１ １１゜ １．５ ４２ｎｍ
比較例１ １２゜ １．３ ４３ｎｍ
比較例２ １１゜ １．７ ４３ｎｍ
────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────
光学補償シート β α Ｒｅ
────────────────────────────────────────
実施例１ １１゜ １．５ ４２ｎｍ
比較例１ １２゜ １．３ ４３ｎｍ
比較例２ １１゜ １．７ ４３ｎｍ
────────────────────────────────────────
第１表に示す結果から、本発明に従う光学補償シートを構成する二つの光学異方性層の波長分散値が１．３、１．７と異なっていることがわかる。
第２表
────────────────────────────────────────
コントラスト視野角 色味視野角
液晶表示装置 左右 上下 左右 上下
────────────────────────────────────────
実施例１ １６０゜ １６０゜ １３０゜ １４０゜
比較例１ １６０゜ １６０゜ ７０゜ ５５゜
比較例２ １６０゜ １６０゜ ７５゜ ６０゜
────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────
コントラスト視野角 色味視野角
液晶表示装置 左右 上下 左右 上下
────────────────────────────────────────
実施例１ １６０゜ １６０゜ １３０゜ １４０゜
比較例１ １６０゜ １６０゜ ７０゜ ５５゜
比較例２ １６０゜ １６０゜ ７５゜ ６０゜
────────────────────────────────────────
第２表に示す結果から、本発明に従う二つの光学異方性層からなる光学補償シートを用いると、色味視野角が改良されることがわかる。
［実施例２］
（セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテートフイルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
────────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
────────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
────────────────────────────────────────
別のミキシングタンクに、実施例１で用いたレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液１１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、１．６質量部であった。
得られたドープを、流延速度４５ｍ／分でバンド流延機を用いて流延し、残留溶剤量が３０質量％になるまで乾燥した後、バンドからフイルムを剥ぎ取った。フイルムを１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％で、厚みが６０μｍのセルロースアセテートフイルムを作製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に、レターデーション上昇剤溶液１１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、１．６質量部であった。
得られたドープを、流延速度４５ｍ／分でバンド流延機を用いて流延し、残留溶剤量が３０質量％になるまで乾燥した後、バンドからフイルムを剥ぎ取った。フイルムを１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％で、厚みが６０μｍのセルロースアセテートフイルムを作製した。
（光学的性質の測定）
作製したセルロースアセテートフイルムについて、実施例１と同様にレターデーション値を測定したところ、面内レターデーション値は９．７ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は８０．３ｎｍであった。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、実施例１と同様にレターデーション値を測定したところ、面内レターデーション値は９．７ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は８０．３ｎｍであった。
（光学補償シートの作製）
作製したセルロースアセテートフイルムに対して、実施例１と同様にケン化処理を行い、配向膜および第１光学異方性層を形成した。
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで塗布し、実施例１と同様にして厚さ０．９μｍの第２光学異方性層を形成した。このようにして光学補償シートを作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムに対して、実施例１と同様にケン化処理を行い、配向膜および第１光学異方性層を形成した。
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで塗布し、実施例１と同様にして厚さ０．９μｍの第２光学異方性層を形成した。このようにして光学補償シートを作製した。
────────────────────────────────────────
第２光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたディスコティック液晶性分子Ｉ ９２質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のフッ素系界面活性剤 ０．４質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
────────────────────────────────────────
第２光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたディスコティック液晶性分子Ｉ ９２質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のフッ素系界面活性剤 ０．４質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
────────────────────────────────────────
（光学的性質の測定）
第１光学異方性層および第２光学異方性層について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
結果は、第４表に示す。
第１光学異方性層および第２光学異方性層について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
結果は、第４表に示す。
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、実施例１における光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、実施例１における光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
（液晶表示装置の作製）
ＴＮ型液晶セルを使用した２０インチの液晶表示装置（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ（株）製）から、一対の偏光板を剥がし、代わりに作製した偏光板を二枚、粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが、直交するように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印可し、白表示２Ｖおよび黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０が得られる視野角を測定した。
結果は、第５表に示す。
ＴＮ型液晶セルを使用した２０インチの液晶表示装置（ＬＣ−２０Ｖ１、シャープ（株）製）から、一対の偏光板を剥がし、代わりに作製した偏光板を二枚、粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とが、直交するように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印可し、白表示２Ｖおよび黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０が得られる視野角を測定した。
結果は、第５表に示す。
［実施例３、４、比較例３、４］
第１光学異方性層の厚み、および第２光学異方性層の組成（各成分の添加量）と厚みとを第３表（第２光学異方性層各成分の添加量は質量部）に示すように変更した以外は、実施例２と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
なお、実施例２〜４では、第１光学異方性層および第２光学異方性層の塗布量は、いずれも２．７ｍｌ／ｍ2 であり、比較例３、４では、第１光学異方性層の塗布量が２．７ｍｌ／ｍ2 、第２光学異方性層の塗布量が１．９ｍｌ／ｍ2 であった。
結果は、第４表および第５表に示す。
第１光学異方性層の厚み、および第２光学異方性層の組成（各成分の添加量）と厚みとを第３表（第２光学異方性層各成分の添加量は質量部）に示すように変更した以外は、実施例２と同様にして、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を作製して評価した。
なお、実施例２〜４では、第１光学異方性層および第２光学異方性層の塗布量は、いずれも２．７ｍｌ／ｍ2 であり、比較例３、４では、第１光学異方性層の塗布量が２．７ｍｌ／ｍ2 、第２光学異方性層の塗布量が１．９ｍｌ／ｍ2 であった。
結果は、第４表および第５表に示す。
第３表
────────────────────────────────────────
第１層 第２光学異方性層 光学補償シート 厚み 液晶Ｉ 液晶ＩＩ ＣＡＢ ＴＰＰ 厚み
────────────────────────────────────────
実施例２ ０．７μｍ ９２ ０ ０ ０．０ ０．９μｍ
実施例３ ０．８μｍ ４５ ４６ １．５ ０．０ ０．７μｍ
実施例４ ０．８μｍ ９１ ０ １．５ １．０ ０．８μｍ
比較例３ ０．７μｍ ９１ ０ １．５ ０．０ ０．５μｍ
比較例４ ０．８μｍ ９１ ０ １．５ ０．０ ０．６μｍ
────────────────────────────────────────
（註）
第１層：第１光学異方性層
液晶Ｉ：液晶性分子Ｉ
液晶II：液晶性分子II
ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート
────────────────────────────────────────
第１層 第２光学異方性層 光学補償シート 厚み 液晶Ｉ 液晶ＩＩ ＣＡＢ ＴＰＰ 厚み
────────────────────────────────────────
実施例２ ０．７μｍ ９２ ０ ０ ０．０ ０．９μｍ
実施例３ ０．８μｍ ４５ ４６ １．５ ０．０ ０．７μｍ
実施例４ ０．８μｍ ９１ ０ １．５ １．０ ０．８μｍ
比較例３ ０．７μｍ ９１ ０ １．５ ０．０ ０．５μｍ
比較例４ ０．８μｍ ９１ ０ １．５ ０．０ ０．６μｍ
────────────────────────────────────────
（註）
第１層：第１光学異方性層
液晶Ｉ：液晶性分子Ｉ
液晶II：液晶性分子II
ＣＡＢ：セルロースアセテートブチレート
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート
第４表
────────────────────────────────────────
第１光学異方性層 第２光学異方性層
光学補償シート β α Ｒｅ β α Ｒｅ
────────────────────────────────────────
実施例２ ２６゜ １．３ １６ｎｍ １６゜ １．３ １６ｎｍ
実施例３ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２７゜ １．３ ３２ｎｍ
実施例４ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２０゜ １．３ １６ｎｍ
比較例３ ２６゜ １．３ １６ｎｍ ２６゜ １．３ １６ｎｍ
比較例４ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２７゜ １．３ １７ｎｍ
────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────
第１光学異方性層 第２光学異方性層
光学補償シート β α Ｒｅ β α Ｒｅ
────────────────────────────────────────
実施例２ ２６゜ １．３ １６ｎｍ １６゜ １．３ １６ｎｍ
実施例３ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２７゜ １．３ ３２ｎｍ
実施例４ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２０゜ １．３ １６ｎｍ
比較例３ ２６゜ １．３ １６ｎｍ ２６゜ １．３ １６ｎｍ
比較例４ ２７゜ １．３ １７ｎｍ ２７゜ １．３ １７ｎｍ
────────────────────────────────────────
第５表
────────────────────────────────────────
液晶表示装置 上下方向視野角 左右方向視野角
────────────────────────────────────────
実施例２ １０５゜ １３５゜
実施例３ １０３゜ １３８゜
実施例４ １０７゜ １３６゜
比較例３ ９５゜ １２０゜
比較例４ ９２゜ １１７゜
────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────
液晶表示装置 上下方向視野角 左右方向視野角
────────────────────────────────────────
実施例２ １０５゜ １３５゜
実施例３ １０３゜ １３８゜
実施例４ １０７゜ １３６゜
比較例３ ９５゜ １２０゜
比較例４ ９２゜ １１７゜
────────────────────────────────────────
［実施例５］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
────────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
────────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００．０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
────────────────────────────────────────
（マット剤分散液の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を分散し、マット剤分散液を調製した。
────────────────────────────────────────
マット剤分散液組成
────────────────────────────────────────
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １０．３質量部
────────────────────────────────────────
マット剤分散液組成
────────────────────────────────────────
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）
２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） １１．４質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １０．３質量部
────────────────────────────────────────
（レターデーション上昇剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解し、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
────────────────────────────────────────
レターデーション上昇剤溶液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたレターデーション上昇剤 １９．８質量部
実施例１で用いた紫外線吸収剤Ａ ０．０２質量部
実施例１で用いた紫外線吸収剤Ｂ ０．１０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １２．８質量部
────────────────────────────────────────
レターデーション上昇剤溶液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたレターデーション上昇剤 １９．８質量部
実施例１で用いた紫外線吸収剤Ａ ０．０２質量部
実施例１で用いた紫外線吸収剤Ｂ ０．１０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
調製したセルロースアセテート溶液 １２．８質量部
────────────────────────────────────────
（セルロースアセテートフイルムの作製）
調製したセルロースアセテート溶液９４．６質量部、マット剤分散液１．３質量部およびレターデーション上昇剤溶液４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は、４．６％であった。
混合液を、バンド流延機を用いて流延した。形成されたフイルムを、残留溶剤量が３０質量％の状態でバンドから剥離した。１３０℃の条件で、残留用材料が１３質量％のフイルムをテンターを用いて２８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま、１４０℃で３０秒間保持した。その後、テンターのクリップを外して、１４０℃で４０分間乾燥し、セルロースアセテートフイルムを作製した。作製したセルロースアセテートフイルムは、残留溶剤量が０．２質量％で、膜厚が９２μｍであった。
調製したセルロースアセテート溶液９４．６質量部、マット剤分散液１．３質量部およびレターデーション上昇剤溶液４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は、４．６％であった。
混合液を、バンド流延機を用いて流延した。形成されたフイルムを、残留溶剤量が３０質量％の状態でバンドから剥離した。１３０℃の条件で、残留用材料が１３質量％のフイルムをテンターを用いて２８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま、１４０℃で３０秒間保持した。その後、テンターのクリップを外して、１４０℃で４０分間乾燥し、セルロースアセテートフイルムを作製した。作製したセルロースアセテートフイルムは、残留溶剤量が０．２質量％で、膜厚が９２μｍであった。
（光学的性質の測定）
作製したセルロースアセテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、面内レターデーション値（Ｒｅ０）を測定した。次に、面内の遅相軸をあおり軸とし、軸を４０゜および−４０゜あおって、レターデーション値（Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）を測定した。膜厚および遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）をパラメータとし、これらの測定値（Ｒｅ０、Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）にフィッティングするように、進相軸方向の屈折率（ｎｙ）および厚み方向の屈折率（ｎｚ）を計算で求め、厚み方向のレターデーション値を決定した。測定波長は、６３２．８ｎｍとした。
その結果、面内レターデーション値は３８ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は１７３ｎｍであった。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、面内レターデーション値（Ｒｅ０）を測定した。次に、面内の遅相軸をあおり軸とし、軸を４０゜および−４０゜あおって、レターデーション値（Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）を測定した。膜厚および遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）をパラメータとし、これらの測定値（Ｒｅ０、Ｒｅ４０、Ｒｅ−４０）にフィッティングするように、進相軸方向の屈折率（ｎｙ）および厚み方向の屈折率（ｎｚ）を計算で求め、厚み方向のレターデーション値を決定した。測定波長は、６３２．８ｎｍとした。
その結果、面内レターデーション値は３８ｎｍ、厚み方向のレターデーション値は１７３ｎｍであった。
（セルロースアセテートフイルムのケン化処理）
セルロースアセテートフイルム上に、温度６０℃の誘電式加熱ローラを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温させた後に、下記に示す組成のケン化液をロッドコーターを用いて塗布量１５ｍＬ／ｍ2 で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（ノリタケカンパニーリミテド製）の下に１５秒滞留させた後に、ロッドコーターを用いて純水を３ｍＬ／ｍ2 塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥させた。
セルロースアセテートフイルム上に、温度６０℃の誘電式加熱ローラを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温させた後に、下記に示す組成のケン化液をロッドコーターを用いて塗布量１５ｍＬ／ｍ2 で塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（ノリタケカンパニーリミテド製）の下に１５秒滞留させた後に、ロッドコーターを用いて純水を３ｍＬ／ｍ2 塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥させた。
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ケン化液組成
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イソプロピルアルコール ８１８質量部
水 １６７質量部
プロピレングリコール １８７質量部
水酸化カリウム ６８質量部
界面活性剤（ｎ−Ｃ１６Ｈ３３Ｏ（Ｃ２Ｈ４）１０Ｈ） １２質量部
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ケン化液組成
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イソプロピルアルコール ８１８質量部
水 １６７質量部
プロピレングリコール １８７質量部
水酸化カリウム ６８質量部
界面活性剤（ｎ−Ｃ１６Ｈ３３Ｏ（Ｃ２Ｈ４）１０Ｈ） １２質量部
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（配向膜の形成）
セルロースアセテートフイルム（透明支持体）のケン化処理面に、下記の組成の塗布液を、＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ２ 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、図１の製造ラインを使用し、前記セルロースアシレートフィルムを５５ｍ／ｍｉｎで搬送しながら、セルロースアセテートフイルムの延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処理を実施した。ラビング処理におけるラビングローラ７２の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ２当たり９．８×１０５ Ｐａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ２）とするとともに、回転周速を５．０ｍ／秒とした。
セルロースアセテートフイルム（透明支持体）のケン化処理面に、下記の組成の塗布液を、＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ２ 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、図１の製造ラインを使用し、前記セルロースアシレートフィルムを５５ｍ／ｍｉｎで搬送しながら、セルロースアセテートフイルムの延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜に対してラビング処理を実施した。ラビング処理におけるラビングローラ７２の押しつけ圧力は、配向膜樹脂層の１ｃｍ２当たり９．８×１０５ Ｐａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ２）とするとともに、回転周速を５．０ｍ／秒とした。
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配向膜塗布液組成
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実施例１で用いた変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部
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配向膜塗布液組成
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実施例１で用いた変性ポリビニルアルコール ２０質量部
水 ３６０質量部
メタノール １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） １．０質量部
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（第１光学異方性層の形成）
配向膜上に、ワイヤーバー塗布装置１０（図２参照）を使用して下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）をワイヤーバーコーターで塗布した。塗工用ワイヤバー１２はロッド径８ｍｍのステンレス製で、ワイヤ４０の真円度が５μｍ、ワイヤー径が３５μｍのものを使用した。この塗工用ワイヤバー１２をセルロースアシレートフィルムに対して順回転させ、塗布液を塗布ヘッド（図２のように１次側の液溜まりの少ないブロックを採用）１４から幅６８０ｍｍの配向膜上に、塗布液量がウエブ１６について１ｍ２当り２．７ｍＬになるように塗布した。送液量は１次側のマニホールド２６より１分間当たり２．０Ｌとし、２次側マニホールドより１分間当たり０．５Ｌとした。
塗布液が塗布されたセルロースアシレートフィルムは、１００℃に調整された乾燥ゾーン７６、及び、１３０℃に調整された加熱ゾーン７８を通過させてネマチック相を形成した後、連続搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプ（１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯）８０により９０℃で１分間紫外線を照射した。
塗布液の粘度は振動粘度計タイプＣＪＶ−５０００（秩父セメント社製）を用いて２５℃で測定した。そして、２５℃で１〜１０ｍＰａ・ｓになるように管理した。
塗布液を配向膜の上に塗布してから、有機溶媒の残存率が１０重量％以下になるまでの時間が１０秒となるように管理した。なお、有機溶媒が１０重量％以下迄に達する時間は、初期の溶媒量に対して残存溶媒量が１０重量％以下になるまでの時間とした。
配向膜上に、ワイヤーバー塗布装置１０（図２参照）を使用して下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）をワイヤーバーコーターで塗布した。塗工用ワイヤバー１２はロッド径８ｍｍのステンレス製で、ワイヤ４０の真円度が５μｍ、ワイヤー径が３５μｍのものを使用した。この塗工用ワイヤバー１２をセルロースアシレートフィルムに対して順回転させ、塗布液を塗布ヘッド（図２のように１次側の液溜まりの少ないブロックを採用）１４から幅６８０ｍｍの配向膜上に、塗布液量がウエブ１６について１ｍ２当り２．７ｍＬになるように塗布した。送液量は１次側のマニホールド２６より１分間当たり２．０Ｌとし、２次側マニホールドより１分間当たり０．５Ｌとした。
塗布液が塗布されたセルロースアシレートフィルムは、１００℃に調整された乾燥ゾーン７６、及び、１３０℃に調整された加熱ゾーン７８を通過させてネマチック相を形成した後、連続搬送しながら、液晶層の表面に紫外線ランプ（１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯）８０により９０℃で１分間紫外線を照射した。
塗布液の粘度は振動粘度計タイプＣＪＶ−５０００（秩父セメント社製）を用いて２５℃で測定した。そして、２５℃で１〜１０ｍＰａ・ｓになるように管理した。
塗布液を配向膜の上に塗布してから、有機溶媒の残存率が１０重量％以下になるまでの時間が１０秒となるように管理した。なお、有機溶媒が１０重量％以下迄に達する時間は、初期の溶媒量に対して残存溶媒量が１０重量％以下になるまでの時間とした。
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第１光学異方性層塗布液組成
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実施例１で用いたディスコティック液晶性分子Ｉ ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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第１光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたディスコティック液晶性分子Ｉ ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
────────────────────────────────────────
（第２光学異方性層の形成）
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ２塗布し、第１光学異方性層と同様にして第２光学異方性層を作製した。
第１光学異方性層上に、下記の組成の塗布液（メチルエチルケトン溶液）を、＃１．４のワイヤーバーコーターで２．７ｍｌ／ｍ２塗布し、第１光学異方性層と同様にして第２光学異方性層を作製した。
────────────────────────────────────────
第２光学異方性層塗布液組成
────────────────────────────────────────
実施例１で用いたディスコティック液晶性分子II ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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第２光学異方性層塗布液組成
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実施例１で用いたディスコティック液晶性分子II ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） １．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン ２１４．２質量部
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（光学的性質の測定）
二層（第１光学異方性層、第２光学異方性層）の光学異方性層全体について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
なお、ディスコティック液晶性分子の傾斜角は、膜厚方向で徐々に変化しているため、面内レターデーションの測定結果から計算により求めた。具体的には、エリプソメーターを用いて面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定し、Jones-matrix法により算出されるＲｅ値の傾斜角度依存性から最小自乗法により平均傾斜角（β）を求めた。
結果は、第１表に示す。
二層（第１光学異方性層、第２光学異方性層）の光学異方性層全体について、液晶性分子の平均傾斜角（β）、面内レターデーション値の波長分散値（α）、面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定した。
なお、ディスコティック液晶性分子の傾斜角は、膜厚方向で徐々に変化しているため、面内レターデーションの測定結果から計算により求めた。具体的には、エリプソメーターを用いて面内レターデーション値（Ｒｅ）を測定し、Jones-matrix法により算出されるＲｅ値の傾斜角度依存性から最小自乗法により平均傾斜角（β）を求めた。
結果は、第１表に示す。
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて、偏光膜を作製した。
光学補償シートの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光膜の透過軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の片面を、光学補償シートの透明支持体と同様にケン化処理した。セルローストリアセテートフイルムのケン化処理面側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償シートを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、偏光板を作製した。
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップに、Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
（液晶表示装置の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向と、それに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップに、Δｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
（液晶表示装置の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向と、それに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
１０ ワイヤバー塗布装置
１２ 塗工用ワイヤバー
１４ 塗布ヘッド
１６ ウエブ
１８ ガイドローラ
２０ バックアップ部材
２２、２４ コーターブロック
２６、２８ マニホールド
３０、３２ スロット
３４ １次側塗布ビード
３６ ２次側塗布ビード
３８ ロッド
４０ ワイヤ
４２ ワイヤ列
６６ 送り出し機
６８ ガイドローラ
７０ ラビング処理装置
７２ ラビングローラ
７４ 除塵機
７６ 乾燥ゾーン
７８ 加熱ゾーン
８０ 紫外線ランプ
８２ 巻取り機
１２ 塗工用ワイヤバー
１４ 塗布ヘッド
１６ ウエブ
１８ ガイドローラ
２０ バックアップ部材
２２、２４ コーターブロック
２６、２８ マニホールド
３０、３２ スロット
３４ １次側塗布ビード
３６ ２次側塗布ビード
３８ ロッド
４０ ワイヤ
４２ ワイヤ列
６６ 送り出し機
６８ ガイドローラ
７０ ラビング処理装置
７２ ラビングローラ
７４ 除塵機
７６ 乾燥ゾーン
７８ 加熱ゾーン
８０ 紫外線ランプ
８２ 巻取り機
Claims (11)
- 透明支持体上に、液晶性分子を含む光学異方性層を少なくとも二層有する光学補償シートであって、二層の光学異方性層が、液晶性分子の平均傾斜角、面内レターデーション値の波長分散値、面内レターデーション値からなる群より選ばれる少なくとも一つの光学的性質について実質的に異なることを特徴とする光学補償シート。
- 二層の光学異方性層において、液晶性分子の平均傾斜角が、いずれも５゜乃至６０゜である請求項１に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層において、液晶性分子の種類が異なる請求項１に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層が、いずれも二種類以上の液晶性分子を含む請求項１に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層がそれぞれ含む二種類以上の液晶性分子がいずれも同一の種類であり、かつ二層の光学異方性層において、二種類以上の液晶性分子の組成比が異なる請求項４に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層が、さらに非液晶性分子を含み、かつ二層の光学異方性層において、非液晶性分子の種類が異なる請求項１に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層が、さらに同じ種類の非液晶性分子を含み、かつ二層の光学異方性層において、非液晶性分子の添加量が異なる請求項１に記載の光学補償シート。
- 二層の光学異方性層において、液晶性分子がいずれも円盤状液晶性分子である請求項１に記載の光学補償シート。
- 偏光膜およびその両側に配置された二枚の保護フイルムからなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フイルムが請求項１に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
- 液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が請求項９に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
- 液晶セルが、ＴＮモード、ベンド配向モードまたは垂直配向モードである請求項１０に記載の液晶表示装置。
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|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006328184A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Fujifilm Holdings Corp | ポリマーフィルムのアルカリ鹸化方法、表面鹸化セルロースエステルフィルム及び光学フィルム |
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-
2004
- 2004-05-26 JP JP2004156587A patent/JP2005010774A/ja active Pending
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