JP4388023B2 - 光学補償層付偏光板、光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学補償層付偏光板、光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、および画像表示装置に関する。より詳細には、本発明は、薄型化に寄与し、熱ムラを防止し、黒表示における光漏れを良好に防止し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、画像表示装置に関する。

ＶＡモードの液晶表示装置として、透過型液晶表示装置および反射型液晶表示装置に加えて、半透過反射型液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。半透過反射型液晶表示装置は、明るい場所では反射型液晶表示装置と同様に外光を利用し、暗い場所ではバックライト等の内部光源により表示を視認可能としている。言い換えれば、半透過反射型液晶表示装置は、反射型および透過型を兼ね備えた表示方式を採用しており、周囲の明るさに応じて反射モード、透過モードのいずれかの表示モードに切り替える。その結果、半透過型反射型液晶表示装置は、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場所でも明瞭な表示を行うことができるので、例えば、携帯機器の表示部に好適に利用されている。

このような半透過型反射型液晶表示装置の具体例としては、例えば、アルミニウム等の金属膜に光透過用の窓部を形成した反射膜を下基材の内側に備え、この反射膜を半透過反射板として機能させる液晶表示装置が挙げられる。このような液晶表示装置においては、反射モードの場合には、上基材側から入射した外光が、液晶層を通過した後に、下基材内側の反射膜で反射され、再び液晶層を通過して上基材側から出射されて表示に寄与する。一方、透過モードの場合には、下基材側から入射したバックライトからの光が、反射膜の窓部を通って液晶層を通過した後、上基材側から出射されて表示に寄与する。したがって、反射膜形成領域のうち、窓部が形成された領域が透過表示領域となり、その他の領域が反射表示領域となる。しかし、従来の反射型または半透過反射型のＶＡモードの液晶表示装置においては、黒表示における光漏れが生じ、コントラストが低下するという問題があり、これまで長く解決されていない。

このような問題を解決しようとする試みとして、位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を有する位相差フィルムに、液晶のコーティング層からなる位相差層を直接塗工した積層位相差層が提案されている（例えば、特許文献３参照）。しかし、このような積層位相差層では、液晶モノマーを有機溶剤に溶解させて位相差フィルムに直接コーティングするので、有機溶剤が位相差フィルムを浸食する結果、位相差フィルムにダメージを与え、位相差フィルムが白濁するといった問題が生じる。また、位相差フィルムに液晶のコーティング層を直接塗工することで、液晶のコーティング層が位相差フィルムより剥がれ易く、実用（例えば、高温高湿など）に耐えられない問題がある。
特開平１１−２４２２２６号公報 特開２００１−２０９０６５号公報 特開２００４−３２６０８９号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、薄型化に寄与し、視野角特性を向上させつつ、高コントラストを実現し、干渉ムラや熱ムラを防止し、カラーシフトが抑制され、良好な色再現性が図れ、黒表示における光漏れを良好に防止し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、画像表示装置を提供することである。

本発明における光学補償層付偏光板は、偏光子と、第１の光学補償層と、接着剤層と、第２の光学補償層とをこの順に有し、該第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、面内位相差Ｒｅ_１は短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１は９０〜１６０ｎｍであり、該第２の光学補償層は、コーティング層であり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有し、その面内位相差Ｒｅ_２は０〜２０ｎｍであり、かつ、その厚み方向の位相差Ｒｔｈ_２は３０〜３００ｎｍであり、その厚みが０．５〜１０μｍである。

好ましい実施形態においては、上記接着剤層が、イソシアネート樹脂系接着剤層からなる。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、延伸フィルム層であり、かつ、フルオレン骨格を有するポリカーボネートを含む。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、延伸フィルム層であり、かつ、セルロース系材料を含む。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、アセチル置換度（ＤＳａｃ）およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）が２．０≦ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ≦３．０および１．０≦ＤＳｐｒ≦３．０を満たすセルロース系材料を含む。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、上記セルロース系材料を１１０℃〜１７０℃の温度で長軸方向に１．１倍〜２．５倍に自由端一軸延伸して得られる延伸フィルム層である。

好ましい実施形態においては、上記セルロース系材料の重量平均分子量Ｍｗは、３×１０^３〜３×１０^５の範囲内にある。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有する芳香族ポリエステルポリマーを２種類以上含む。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有するポリマーを形成するモノマー由来のモノマー単位を２種類以上有する共重合体を含む。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、異なる波長分散特性を有する延伸フィルム層を２種類以上積層した複合フィルム層である。

好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層は、コレステリック配向固化層からなる。

好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層は、非液晶性材料を含む層からなる。

好ましい実施形態においては、 上記第２の光学補償層は、基材上にコーティングして形成された第２の光学補償層を、前記接着剤層を介して前記第１の光学補償層に転写して形成された層である。

本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。この液晶パネルは、上記光学補償層付偏光板と液晶セルとを含む。

好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、反射型または半透過型のＶＡモードである。

本発明のさらに別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。この液晶表示装置は、上記液晶パネルを含む。

本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記光学補償層付偏光板を含む。

以上のように、本発明によれば、薄型化に寄与し、視野角特性を向上させつつ、高コントラストを実現し、干渉ムラや熱ムラを防止し、カラーシフトが抑制され、良好な色再現性が図れ、黒表示における光漏れを良好に防止し得る光学補償層付偏光板、および、そのような光学補償層付偏光板を用いた液晶パネル、液晶表示装置、画像表示装置を提供することができる。

このような効果は、光学補償層付偏光板として、偏光子と、第１の光学補償層と、接着剤層と、第２の光学補償層とをこの順に有するようにし、該第１の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、異常光と常光との光路差である位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１を所定の範囲内に収め、該第２の光学補償層が、コーティング層であり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有し、その面内位相差Ｒｅ_２および厚み方向の位相差Ｒｔｈ_２を所定の範囲内に収めることで発現できる。

本発明においては、第１の光学補償層と第２の光学補償層との間に接着剤層を用いることで、第１の光学補償層にコーティング液を直接塗工して第２の光学補償層を形成する必要がないので、有機溶剤による第１の光学補償層の浸食を防ぐことができ、第１の光学補償層の白濁化を回避することができる。

本発明においては、第２の光学補償層は、その厚みが薄く、液晶パネルの薄型化に大きく貢献し得る。さらに、第２の光学補償層を薄く形成することにより、熱ムラが防止され得る。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学補償層付偏光板の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Ｒｅ」は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Ｒｅは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）本明細書に記載される用語や記号に付される添え字の「１」は第１の光学補償層を表し、添え字の「２」は第２の光学補償層を表す。
（５）「λ／２板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏光に（または、左円偏光を右円偏光に）変換したりする機能を有するものをいう。λ／２板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）の面内の位相差値が約１／２である。
（６）「λ／４板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）の面内の位相差値が約１／４である。
（７）「コレステリック配向固化層」とは、当該層の構成分子がらせん構造をとり、そのらせん軸が面方向にほぼ垂直に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。したがって、「コレステリック配向固化層」は、液晶化合物がコレステリック液晶相を呈している場合のみならず、非液晶化合物がコレステリック液晶相のような擬似的構造を有する場合を包含する。例えば、「コレステリック配向固化層」は、液晶材料が液晶相を示す状態でカイラル剤によってねじりを付与してコレステリック構造（らせん構造）に配向させ、その状態で重合処理または架橋処理を施すことにより、当該液晶材料の配向（コレステリック構造）を固定することにより形成され得る。
（８）「選択反射の波長域が３５０ｎｍ以下」とは、選択反射の波長域の中心波長λが３５０ｎｍ以下であることを意味する。例えば、コレステリック配向固化層が液晶モノマーを用いて形成されている場合には、選択反射の波長域の中心波長λは、下記式で表される：
λ＝ｎ×Ｐ
ここで、ｎは、液晶モノマーの平均屈折率を示し、Ｐはコレステリック配向固化層のらせんピッチ（ｎｍ）を示す。上記平均屈折率ｎは、（ｎ_ｏ＋ｎ_ｅ）／２で表され、通常、１.４５〜１.６５の範囲である。ｎ_ｏは、液晶モノマーの常光屈折率を示し、ｎ_ｅは液晶モノマーの異常光屈折率を示す。
（９）「カイラル剤」とは、液晶材料（例えば、ネマティック液晶）をコレステリック構造となるように配向する機能を有する化合物をいう。
（１０）「ねじり力」とは、カイラル剤が液晶材料にねじれを与えてコレステリック構造（らせん構造）に配向させる能力のことを意味する。一般的には、ねじり力は、下記式で表される：
ねじり力＝１／（Ｐ×Ｗ）
Ｐは、上記の通り、Ｐはコレステリック配向固化層のらせんピッチ（ｎｍ）を示す。Ｗは、カイラル剤重量比を示す。カイラル剤重量比Ｗは、Ｗ＝［Ｘ／（Ｘ＋Ｙ）］×１００で表される。ここで、Ｘはカイラル剤の重量であり、Ｙは液晶材料の重量である。

Ａ．光学補償層付偏光板
Ａ−１．光学補償層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。図１に示すように、この光学補償層付偏光板１０は、偏光子１１と第１の光学補償層１２と接着剤層１３と第２の光学補償層１４とをこの順に有する。

偏光子１１と第１の光学補償層１２は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層（図示せず）を介して積層されている。実用的には、偏光子１１の光学補償層が形成されない側には、任意の適切な保護層（図示せず）が積層されている。さらに、必要に応じて、偏光子１１と第１の光学補償層１２との間に保護層が設けられる。

本発明における光学補償層付偏光板の全体厚みは、１００〜３２０μｍであることが好ましく、より好ましくは１１５〜３１０μｍであり、さらに好ましくは１１５〜３００μｍである。したがって、本発明は、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）の薄型化に大きく貢献し得る。

Ａ−２．第１の光学補償層
第１の光学補償層は、半透過反射型の液晶表示装置、特にＶＡモード（垂直配向モード）において、円偏光モードとして使用するための、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する正のＡプレートである。

第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、上記の屈折率分布を有することで液晶表示装置の輝度が向上する。

第１の光学補償層は、面内位相差Ｒｅ_１が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示す。

第１の光学補償層は、例えば、延伸フィルム層であり、液晶を含有し、かつ、フルオレン骨格を有するポリカーボネートを含むもの（例えば、特開２００２−４８９１９号公報に記載）、延伸フィルム層であり、かつ、セルロース系材料を含むもの（例えば、特開２００３−３１５５３８号公報、特開２０００−１３７１１６号公報に記載）、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有する芳香族ポリエステルポリマーを２種類以上含むもの（例えば、特開２００２−１４２３４号公報に記載）、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有するポリマーを形成するモノマー由来のモノマー単位を２種類以上有する共重合体を含むもの（ＷＯ００／２６７０５号公報に記載）、異なる波長分散特性を有する延伸フィルム層を２種類以上積層した複合フィルム層（特開平２−１２０８０４号公報に記載）などが好ましく挙げられる。

第１の光学補償層の形成材料としては、例えば、単独重合体（ホモポリマー）でも良いし、共重合体（コポリマー）でも良いし、複数のポリマーのブレンド物でも良い。ブレンド物の場合、光学的に透明である必要があることから、相溶ブレンドや、各ポリマーの屈折率が略等しいことが好ましい。第１の光学補償層の形成材料としては、例えば、特開２００４−３０９６１７号公報に記載のポリマーを好ましく用いることができる。

上記ブレンド物の具体的な組み合わせとしては、例えば、負の光学異方性を有するポリマーとして、ポリ（メチルメタクリレート）と、正の光学異方性を有するポリマーとして、ポリ（ビニリデンフロライド）、ポリ（エチレンオキサイド）、ビニリデンフロライド／トリフルオロエチレン共重合体などとの組み合わせ；負の光学異方性を有するポリマーとして、ポリスチレン、スチレン／ラウロイルマレイミド共重合体、スチレン／シクロヘキシルマレイミド共重合体、スチレン／フェニルマレイミド共重合体などと、正の光学異方性を有するポリマーとして、ポリ（フェニレンオキサイド）との組み合わせ；負の光学異方性を有するポリマーとして、スチレン／マレイン酸無水物共重合体と、正の光学異方性を有するポリマーとして、ポリカーボネートとの組み合わせ；負の光学異方性を有するポリマーとして、アクリロニトリル／スチレン共重合体と、正の光学異方性を有するポリマーとして、アクリロニトリル／ブタジエン共重合体との組み合わせ；などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、負の光学異方性を有するポリマーとして、ポリスチレンと、正の光学異方性を有するポリマーとして、ポリ（フェニレンオキサイド）との組み合わせが好ましい。ポリ（フェニレンオキサイド）としては、例えば、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンオキサイド）などが挙げられる。

上記共重合体（コポリマー）としては、例えば、ブタジエン／スチレン共重合体、エチレン／スチレン共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、ポリカーボネート系共重合体、ポリエステル系共重合体、ポリエステルカーボネート系共重合体、ポリアリレート系共重合体などが挙げられる。特に、フルオレン骨格を有するセグメントは負の光学異方性となり得るため、フルオレン骨格を有するポリカーボネート、フルオレン骨格を有するポリカーボネート系共重合体、フルオレン骨格を有するポリエステル、フルオレン骨格を有するポリエステル系共重合体、フルオレン骨格を有するポリエステルカーボネート、フルオレン骨格を有するポリエステルカーボネート系共重合体、フルオレン骨格を有するポリアリレート、フルオレン骨格を有するポリアリレート系共重合体などが好ましい。

上記セルロース系材料は、任意の適切なセルロース系材料が選択され得る。セルロース系材料の具体例としては、セルロースアセテート、セルロースブチレート等のセルロースエステル；メチルセルロース、エチルセルロース等のセルロースエーテル等が挙げられる。好ましくは、セルロースアセテート、セルロースブチレート等のセルロースエステルが用いられ、より好ましくは、セルロースアセテートが用いられる。また、セルロース系材料は、必要に応じて、可塑剤、熱安定剤、紫外線安定剤等の添加剤を含み得る。

上記セルロース系材料の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは３×１０^３〜３×１０^５の範囲内にあり、さらに好ましくは８×１０^３〜１×１０^５の範囲内にある。重量平均分子量Ｍｗを上記範囲とすることにより、生産性に優れ、かつ、良好な機械的強度が得られ得る。

上記セルロース系材料は、目的に応じて適切な置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アセテート、ブチレート等のエステル基；アルキルエーテル基、アラアルキレンエーテル基等のエーテル基；アセチル基およびプロピオニル基等が挙げられる。

上記セルロース系材料としては、アセチル基およびプロピオニル基で置換されていることが好ましい。このセルロース系材料の置換度、「ＤＳａｃ（アセチル置換度）＋ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）」（セルロースの繰り返し単位中に存在する３個の水酸基が、アセチル基またはプロピオニル基で平均してどれだけ置換されているかを示す）の下限は、好ましくは２以上、より好ましくは２．３以上、さらに好ましくは２．６以上である。「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」の上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。セルロース系材料の置換度を上記範囲とすることにより、上記のような所望の屈折率分布を有する光学補償層が得られ得る。

上記ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）の下限は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは２．５以上である。ＤＳｐｒの上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。ＤＳｐｒを上記範囲とすることにより、セルロース系材料の溶剤に対する溶解性が向上し、得られる第１の光学補償層の厚みの制御が容易となる。さらに、「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を上記の範囲とし、かつ、ＤＳｐｒを上記の範囲とすることにより、上記の光学特性を有し、かつ、逆分散の波長依存性を有する光学補償層が得られ得る。

上記ＤＳａｃ（アセチル置換度）およびＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）は、特開２００３−３１５５３８号公報［００１６］〜［００１９］に記載の方法により求めることができる。

アセチル基およびプロピオニル基への置換方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、セルロースを強苛性ソーダ溶液で処理してアルカリセルロースとし、これを所定量の無水酢酸とプロピオン酸無水物との混合物によりアシル化する。アシル基を部分的に加水分解することにより、置換度「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を調整する。

第１の光学補償層は、λ／４板として機能し得る。第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ_１は、９０〜１６０ｎｍであり、好ましくは１００〜１５０ｎｍであり、より好ましくは１１０〜１４０ｎｍである。

第１の光学補償層は、λ／４板として適切に機能し得るように、その厚みが設定され得る。その厚みは、所望の面内位相差Ｒｅ_１が得られるように設定され得る。具体的には、第１の光学補償層の厚みは、好ましくは４２〜１３０μｍ、より好ましくは４５〜１２５μｍ、さらに好ましくは４８〜１２０μｍである。

第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ_１は、上述した波長分散特性（逆波長分散特性）を示す樹脂フィルムの延伸倍率や延伸温度を変化させることにより制御され得る。

延伸倍率は、第１の光学補償層に所望される面内位相差Ｒｅ_１、第１の光学補償層に所望される厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度などに応じて、適宜変化し得る。具体的には、延伸倍率は、好ましくは１．１〜２．５倍、より好ましくは１．２５〜２．４５倍、さらに好ましくは１．４〜２．４倍である。このような延伸倍率で延伸を行うことによって、本発明の効果を十分に発揮し得る面内位相差Ｒｅ_１を有し、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する第１の光学補償層を得ることが可能となる。

延伸温度は、第１の光学補償層に所望される面内位相差Ｒｅ_１、第１の光学補償層に所望される厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率などに応じて、適宜変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくは１００〜２５０℃、より好ましくは１０５〜２４０℃、さらに好ましくは１１０〜２４０℃である。このような延伸温度で延伸を行うことによって、本発明の効果を十分に発揮し得る面内位相差Ｒｅ_１を有し、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する第１の光学補償層を得ることが可能となる。

延伸方法は上記のような光学特性および厚みが得られる限りにおいて、任意の適切な方法が採用される。具体例としては、自由端延伸および固定端延伸が挙げられる。好ましくは自由端一軸延伸が用いられ、さらに好ましくは自由端縦一軸延伸が用いられる。このような延伸方法で延伸を行うことによって、本発明の効果を十分に発揮し得る面内位相差Ｒｅ_１を有し、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有する第１の光学補償層を得ることが可能となる。

第１の光学補償層が上記セルロース系材料を含む延伸フィルム層の場合、好ましくは、延伸倍率は１．１倍〜２．５倍であり、延伸温度は１１０℃〜１７０℃であり、延伸方法は自由端縦一軸延伸である。

第１の光学補償層の形成方法は、特に限定されず、任意の適切な方法を採用できる。例えば、上記形成材料を溶媒に溶解した溶液を調製し、これを表面が平滑な基材フィルム上や金属製エンドレスベルト上にフィルム状に塗工し、その後に溶媒を蒸発除去して、第１の光学補償層を形成する方法が挙げられる。

上記塗工に用い得る溶媒は、特に限定されず、任意の適切な方法を採用できる。例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール等のアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；二硫化炭素；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ類；などが挙げられる。これらの溶媒は、１種類のみ用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。

上記塗工の方法としては、特に限定されず、任意の適切な方法を採用できる。例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。

上記基材フィルムの形成材料は、特に制限されず、任意の適切な方法を採用できる。例えば、透明性に優れるポリマーが好ましく挙げられ、また、延伸処理や収縮処理に適していることから、熱可塑性樹脂が好ましい。

上記基材フィルムの厚さは、好ましくは１０〜１０００μｍ、より好ましくは２０〜５００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。

Ａ−３．第２の光学補償層
Ａ−３−１．第２の光学補償層の全体構成
上記第２の光学補償層１４はコーティング層であり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの関係を有し、いわゆるネガティブＣプレートとして機能し得る。第２の光学補償層がこのような屈折率分布を有することにより、特に、ＶＡモードの液晶セルの液晶層の複屈折性を良好に補償することができる。すなわち、第２の光学補償層は、ＶＡモード（垂直配向モード）の液晶表示装置において、斜め方向から見た場合に、液晶分子の影響で等方性が崩れることにより視野角特性が悪化する原因を取り除くためのものである。その結果、視野角特性が顕著に向上した液晶表示装置が得られ得る。

本明細書において「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含するので、第２の光学補償層は面内位相差Ｒｅ_２を有し得、また、遅相軸を有し得る。ネガティブＣプレートとして実用的に許容可能な面内位相差Ｒｅ_２は０〜２０ｎｍであり、好ましくは０〜１０ｎｍ、より好ましくは０〜５ｎｍである。第２の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ_２は３０〜３００ｎｍであり、好ましくは６０〜１８０ｎｍ、より好ましくは８０〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１００〜１２０ｎｍである。

第２の光学補償層の厚みは０．５〜１０μｍであり、好ましくは１．０〜８μｍであり、さらに好ましくは１．５〜５μｍである。このように本発明における第２の光学補償層の厚みは薄く、液晶パネルの薄型化に大きく貢献し得る。第２の光学補償層を薄く形成することにより、熱ムラが防止され得る。さらに、このような薄い光学補償層は、コレステリック配向の乱れや透過率低下の防止、選択反射性、着色防止、生産性等の観点からも好ましい。

上記第２の光学補償層は、負の屈折率異方性を有し、層面の法線方向に光軸を有してもよい。例えば、後述の非液晶性材料を用いることで、負の屈折率異方性を有し、層面の法線方向に光軸を有し得る。

本発明における第２の光学補償層は、上記のような厚みおよび光学特性が得られる限りにおいて任意の適切なコーティング層から形成される。好ましくは、コレステリック配向固化層、非液晶性材料を含む層が挙げられる。

Ａ−３−２．第２の光学補償層がコレステリック配向固化層の場合
上記コレステリック配向固化層は、選択反射の波長域が３５０ｎｍ以下であるコレステリック配向固化層が好ましい。選択反射の波長域の上限は、さらに好ましくは３２０ｎｍ以下であり、最も好ましくは３００ｎｍ以下である。一方、選択反射の波長域の下限は、好ましくは１００ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上である。選択反射の波長域が３５０ｎｍを超えると、選択反射の波長域が可視光領域に入るので、例えば、着色や色抜けという問題が生じる場合がある。選択反射の波長域が１００ｎｍより小さいと、使用すべきカイラル剤（後述）の量が多くなりすぎるので、光学補償層形成時の温度制御をきわめて精密に行う必要がある。その結果、液晶パネルの製造が困難になる場合がある。

上記コレステリック配向固化層におけるらせんピッチは、好ましくは０.０１〜０.２５μｍであり、さらに好ましくは０.０３〜０.２０μｍであり、最も好ましくは０.０５〜０.１５μｍである。らせんピッチが０.０１μｍ以上であれば、例えば十分な配向性が得られる。らせんピッチが０.２５μｍ以下であれば、例えば、可視光の短波長側における旋光性を十分に抑制できるので、光漏れ等を十分に回避できる。らせんピッチは、後述のカイラル剤の種類（ねじり力）および量を調整することにより制御され得る。らせんピッチを調整することにより、選択反射の波長域を所望の範囲に制御することができる。

上記第２の光学補償層がコレステリック配向固化層からなる場合、本発明における第２の光学補償層は、上記のような厚みおよび光学特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料から形成される。好ましくは、液晶組成物から形成され得る。当該組成物に含有される液晶材料としては、任意の適切な液晶材料が採用され得る。液晶相がネマチック相である液晶材料（ネマチック液晶）が好ましい。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジニアス配向であることが好ましい。

上記液晶組成物における液晶材料の含有量は、好ましくは７５〜９５重量％であり、さらに好ましくは８０〜９０重量％である。液晶材料の含有量が７５重量％未満である場合には、組成物が液晶状態を十分に呈さず、結果として、コレステリック配向が十分に形成されない場合がある。液晶材料の含有量が９５重量％を超える場合には、カイラル剤の含有量が少なくなってしまい、ねじれが十分に付与されなくなるので、コレステリック配向が十分に形成されない場合がある。

上記液晶材料は、液晶モノマー（例えば、重合性モノマーおよび架橋性モノマー）であることが好ましい。これは、後述するように、液晶モノマーを重合または架橋させることによって、液晶モノマーの配向状態を固定できるためである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第２の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第２の光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となる。

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。

上記液晶モノマーとしては、例えば、ネマチック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記式（１）で表されるモノマーが挙げられる。これらの液晶モノマーは、単独で、または２つ以上を組み合わせて用いられ得る。

上記式（１）において、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ¹およびＡ²はいずれか一方が水素であってもよい。Ｘは、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、Ｒは、ＨまたはＣ₁〜Ｃ₄アルキルを表し、Ｍはメソゲン基を表す。

上記式（１）において、Ｘは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

上記式（１）のモノマーの中でも、Ａ²は、それぞれ、Ａ¹に対してオルト位に配置されていることが好ましい。

さらに、上記Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立して、下記式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）_ｎ ・・・（２）
で表されることが好ましく、Ａ¹およびＡ²は同じ基であることが好ましい。

上記式（２）において、Ｚは架橋性基を表し、Ｘは上記式（１）で定義した通りであり、Ｓｐは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の置換または非置換のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１を表す。上記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ₁〜Ｃ₄のアルキルイミノ基等により割り込まれていてもよい。

上記式（２）において、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等の基が挙げられる。

また、上記式（２）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。

上記式（１）において、Ｍは、下記式（３）で表されることが好ましい。下記式（３）において、Ｘは、上記式（１）において定義したのと同様である。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖アルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表す。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキレン等であり得る。

上記Ｑが芳香族炭化水素原子団である場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。

上記式で表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。上記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記置換基としては、例えば、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン、フェニル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ等が挙げられる。

上記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（４）〜（１９）で表されるモノマーが挙げられる。

上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。

好ましくは、上記第２の光学補償層（コレステリック配向固化層）を形成し得る液晶組成物は、カイラル剤を含む。第２の光学補償層を液晶性モノマーとカイラル剤とを含む組成物から形成することにより、ｎｘとｎｚとの差を非常に大きく（ｎｘ＞＞ｎｚと）することができる。その結果、第２の光学補償層を薄くすることができる。例えば、従来の二軸延伸によるネガティブＣプレートが６０μｍ以上の厚みを有するのに対し、本発明に用いられる第２の光学補償層は、コレステリック配向固化層の単一層であれば厚みを１〜２μｍ程度まで薄くできる。その結果、液晶パネルの薄型化に大きく貢献し得る。

液晶組成物中のカイラル剤の含有量は、好ましくは５〜２３重量％であり、さらに好ましくは１０〜２０重量％である。含有量が５重量％未満である場合には、ねじれが十分に付与されなくなるので、コレステリック配向が十分に形成されない場合がある。その結果、得られる光学補償層の選択反射の波長域を所望の帯域（低波長側）に制御するのが困難となる場合がある。含有量が２３重量％を超える場合には、液晶材料が液晶状態を呈する温度範囲が非常に狭くなるので、光学補償層形成時の温度制御をきわめて精密に行う必要がある。その結果、第２の光学補償層の製造が困難になる場合がある。なお、カイラル剤は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記カイラル剤としては、液晶材料を所望のコレステリック構造に配向し得る任意の適切な材料が採用され得る。例えば、このようなカイラル剤のねじり力は、好ましくは１×１０^−６ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１以上であり、さらに好ましくは１×１０^−５ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１〜１×１０^−２ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１であり、最も好ましくは１×１０^−４ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１〜１×１０^−３ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１である。このようなねじり力を有するカイラル剤を用いることにより、コレステリック配向固化層のらせんピッチを所望の範囲に制御することができ、その結果、選択反射の波長域を所望の範囲に制御することができる。例えば、同じねじり力のカイラル剤を使用する場合、液晶組成物中のカイラル剤の含有量が多いほど、形成される光学補償層の選択反射の波長域は低波長側となる。また例えば、液晶組成物中のカイラル剤の含有量が同じであれば、カイラル剤のねじり力が大きいほど、形成される光学補償層の選択反射の波長域は低波長側となる。より具体的な例は以下の通りである：形成される光学補償層の選択反射の波長域を２００〜２２０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじり力が ５×１０^−４ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１のカイラル剤を、液晶組成物中に１１〜１３重量％の割合で含有させればよい。形成される光学補償層の選択反射の波長域を２９０〜３１０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじり力が ５×１０^−４ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１のカイラル剤を、液晶組成物中に７〜９重量％の割合で含有させればよい。

上記カイラル剤は、好ましくは重合性カイラル剤である。重合性カイラル剤の具体例としては、下記一般式（２０）〜（２３）で表されるカイラル化合物が挙げられる。
（Ｚ−Ｘ^５）_ｎＣｈ ・・・（２０）
（Ｚ−Ｘ^２−Ｓｐ−Ｘ^５）_ｎＣｈ ・・・（２１）
（Ｐ^１−Ｘ^５）_ｎＣｈ ・・・（２２）
（Ｚ−Ｘ^２−Ｓｐ−Ｘ^３−Ｍ−Ｘ^４）_ｎＣｈ ・・・（２３）

上記式（２０）〜（２３）において、ＺおよびＳｐは上記式（２）で定義したとおりであり、Ｘ^２、Ｘ^３およびＸ^４は、互いに独立して、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を表し、Ｒは、Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルを表す。また、Ｘ^５は、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ、−ＣＨ₂Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表す。Ｒは、上記と同様に、Ｈ、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルを表す。Ｍは、上記と同様にメソゲン基を表し、Ｐ^１は、水素、１〜３個のＣ₁〜Ｃ₆アルキルによって置換されたＣ₁〜Ｃ₃₀アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₃₀アシル基またはＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル基を表し、ｎは、１〜６の整数である。Ｃｈはｎ価のカイラル基を表す。上記式（２３）において、Ｘ^３およびＸ^４は、少なくともその一方が、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−であることが好ましい。また、上記式（２２）において、Ｐ^１がアルキル基、アシル基またはシクロアルキル基である場合、例えば、その炭素鎖が、エーテル官能基内の酸素、チオエーテル官能基内の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルイミノ基によって割り込まれてもよい。

上記Ｃｈで表されるカイラル基としては、例えば、下記式に表される原子団が挙げられる。

上記原子団において、Ｌは、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₄アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ、ＯＣＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲを表し、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルを表す。なお、上記式に表した原子団における末端は、隣接する基との結合手を示す。

上記原子団の中でも、下記式で表される原子団が特に好ましい。

また、上記式（２１）または（２３）で表されるカイラル化合物は、例えば、ｎが２であり、ＺがＨ₂Ｃ＝ＣＨ−であり、Ｃｈが下記式で表される原子団であることが好ましい。

上記カイラル化合物の具体例としては、例えば、下記式（２４）〜（４４）で表される化合物が挙げられる。なお、これらのカイラル化合物は、ねじり力が１×１０^−６ｎｍ^−１・（ｗｔ％）^−１以上である。

上記のようなカイラル化合物の他にも、例えば、ＲＥ−Ａ４３４２２８０号およびドイツ国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７０４．１号に記載されるカイラル化合物が好ましく使用できる。

なお、上記液晶材料と上記カイラル剤の組み合わせとしては、目的に応じて任意の適切な組み合わせが採用され得る。特に代表的な組み合わせとしては、上記式（１０）の液晶モノマー／上記式（３８）のカイラル剤の組み合わせ、上記式（１１）の液晶モノマー剤／上記式（３９）のカイラル剤の組み合わせ等が挙げられる。

好ましくは、上記第２の光学補償層を形成し得る液晶組成物は、重合開始剤および架橋剤（硬化剤）の少なくとも一方をさらに含む。重合開始剤および／または架橋剤（硬化剤）を用いることにより、液晶材料が液晶状態で形成したコレステリック構造（コレステリック配向）を固定化することができる。このような重合開始剤または架橋剤としては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な物質が採用され得る。重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）が挙げられる。架橋剤（硬化剤）としては、例えば、紫外線硬化剤、光硬化剤、熱硬化剤が挙げられる。より具体的には、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。液晶組成物中の重合開始剤または架橋剤の含有量は、好ましくは０.１〜１０重量％であり、さらに好ましくは０.５〜８重量％であり、最も好ましくは１〜５重量％である。含有量が０．１重量％未満である場合には、コレステリック構造の固定化が不十分となる場合がある。含有量が１０重量％を超えると、上記液晶材料が液晶状態を示す温度範囲が狭くなるので、コレステリック構造を形成する際の温度制御が困難となる場合がある。

上記液晶組成物は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。より具体的には、上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例えば、光学補償層の表面を平滑にするために添加され、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系の界面活性剤が使用でき、特にシリコーン系界面活性剤が好ましい。

上記第２の光学補償層（コレステリック配向固化層）の形成方法としては、所望のコレステリック配向固化層が得られる限りにおいて任意の適切な方法が採用され得る。第２の光学補償層（コレステリック配向固化層）の代表的な形成方法は、上記液晶組成物を基材上に展開して展開層（塗膜）を形成する工程と；当該液晶組成物中の液晶材料がコレステリック配向となるように、当該展開層に加熱処理を施す工程と；当該展開層に重合処理および架橋処理の少なくとも１つを施して、当該液晶材料の配向を固定する工程と、基材上に形成されたコレステリック配向固化層を転写する工程とを含む。以下、当該形成方法の具体的な手順を説明する。

まず、液晶材料、カイラル剤、重合開始剤または架橋剤、ならびに、必要に応じて各種添加剤を溶媒に溶解または分散し、液晶塗工液（液晶組成物）を調製する。液晶材料、カイラル剤、重合開始剤、架橋剤および添加剤は、上記で説明したとおりである。液晶塗工液に用いられる溶媒は、特に制限されない。具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの中でも好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記液晶塗工液の粘度は、上記液晶材料の含有量や温度に応じて変化し得る。例えば、ほぼ室温（２０〜３０℃）において液晶塗工液中の液晶材料の濃度が５〜７０重量％である場合、当該塗工液の粘度は、好ましくは０．２〜２０ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは０．５〜１５ｍＰａ・ｓであり、最も好ましくは１〜１０ｍＰａ・ｓである。より具体的には、液晶塗工液における液晶材料の濃度が３０重量％である場合、当該塗工液の粘度は、好ましくは２〜５ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは３〜４ｍＰａ・ｓである。塗工液の粘度が０．２ｍＰａ・ｓ以上であれば、塗工液を走行することによる液流れの発生を非常に良好に防止することができる。また、塗工液の粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下であれば、厚みムラがなく、非常に優れた表面平滑性を有する光学補償層が得られる。さらに、塗工性にも優れる。

次に、上記液晶塗工液を、基材上に塗工して展開層を形成する。展開層を形成する方法としては、任意の適切な方法（代表的には、塗工液を流動展開させる方法）が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレーコート法が挙げられる。中でも、塗工効率の観点からスピンコート法、エクストルージョンコート法が好ましい。

上記液晶塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が２０重量％である場合、塗工量は、基材の面積（１００ｃｍ²）あたり好ましくは０．０３〜０．１７ｍｌであり、さらに好ましくは０．０５〜０．１５ｍｌであり、最も好ましくは０．０８〜０．１２ｍｌである。

上記基材としては、上記液晶材料を配向させることができる任意の適切な基材が採用され得る。代表的には、各種プラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックとしては、特に制限されないが、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、アルミ、銅、鉄等の金属製基材、セラミック製基材、ガラス製基材等の表面に、上記のようなプラスチックフィルムやシートを配置したものも使用できる。また、上記基材あるいは上記プラスチックフィルムまたはシートの表面にＳｉＯ_２斜方蒸着膜を形成したものも使用できる。基材の厚みは、好ましくは５〜５００μｍであり、さらに好ましくは１０〜２００μｍであり、最も好ましくは１５〜１５０μｍである。このような厚みであれば、基材として十分な強度を有するので、例えば製造時に破断する等の問題の発生を防止できる。

次に、上記展開層に加熱処理を施すことによって、上記液晶材料が液晶相を示す状態で配向させる。上記展開層には、上記液晶材料と共にカイラル剤が含まれているので、上記液晶材料が、液晶相を示す状態でねじりを付与されて配向する。その結果、展開層（を構成する液晶材料）がコレステリック構造（らせん構造）を示す。

上記加熱処理の温度条件は、上記液晶材料の種類（具体的には、液晶材料が液晶性を示す温度）に応じて適宜設定され得る。より具体的には、加熱温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。加熱温度が４０℃以上であれば、通常、液晶材料を十分に配向させることができる。加熱温度が１２０℃以下であれば、例えば耐熱性を考慮した場合に基材の選択の幅が広がるので、液晶材料に応じた最適な基材を選択することができる。また、また、加熱時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上であり、最も好ましくは４分以上である。処理時間が３０秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、加熱時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。処理時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。

次に、上記液晶材料がコレステリック構造を示した状態で、展開層に重合処理または架橋処理を施すことにより、当該液晶材料の配向（コレステリック構造）を固定する。より具体的には、重合処理を行うことにより、上記液晶材料（重合性モノマー）および／またはカイラル剤（重合性カイラル剤）が重合し、重合性モノマーおよび／または重合性カイラル剤がポリマー分子の繰り返し単位として固定される。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶材料（架橋性モノマー）および／またはカイラル剤が３次元の網目構造を形成し、当該架橋性モノマーおよび／またはカイラル剤が架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向状態が固定される。なお、液晶材料が重合または架橋して形成されるポリマーまたは３次元網目構造は「非液晶性」であり、したがって、形成された第２の光学補償層においては、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。したがって、温度による配向変化が生じない。その結果、形成された第２の光学補償層は、温度に影響を受けることがない高性能の光学補償層として使用できる。さらに、当該第２の光学補償層は、選択反射の波長域が１００ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲に最適化されているので、光もれ等を顕著に抑制できる。

上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の種類によって適宜選択され得る。例えば、光重合開始剤または光架橋剤を使用する場合には光照射を行えばよく、紫外線重合開始剤または紫外線架橋剤を使用する場合には紫外線照射を行えばよく、熱による重合開始剤または架橋剤を使用する場合には加熱を行えばよい。光または紫外線の照射時間、照射強度、合計の照射量等は、液晶材料の種類、基材の種類、第２の光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。同様に、加熱温度、加熱時間等も目的に応じて適宜設定され得る。

このようにして基材上に形成されたコレステリック配向固化層は、第１の光学補償層１２の表面に接着剤層１３を介して転写されて第２の光学補償層１４となる。転写は、基材を第２の光学補償層から剥離する工程をさらに含む。接着剤層１３の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

第２の光学補償層の形成方法の上記のような代表例は、液晶材料として液晶モノマー（例えば、重合性モノマーまたは架橋性モノマー）を使用しているが、本発明においては第２の光学補償層の形成方法はこのような方法に限定されず、液晶ポリマーを使用する方法であってもよい。ただし、上記のような液晶モノマーを用いる方法が好ましい。液晶モノマーを使用することにより、より優れた光学補償機能を有し、かつ、より薄い光学補償層が形成され得る。具体的には、液晶モノマーを使用すれば、選択反射の波長域をより一層制御し易い。さらに、塗工液の粘度等の設定が容易であるので、薄い第２の光学補償層の形成が一層容易になり、かつ、取り扱い性にも非常に優れる。加えて、得られる光学補償層の表面平坦性がさらに優れたものとなる。

Ａ−３−３．第２の光学補償層が非液晶性材料を含む層の場合
上記第２の光学補償層が非液晶性材料を含む層の場合、本発明における第２の光学補償層は、上記のような厚みおよび光学特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。例えば、このような材料としては、非液晶性材料が挙げられる。特に好ましくは、非液晶性ポリマーである。このような非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成し得る。その結果、配向基板のみならず未配向基板も使用され得る。さらに、未配向基板を用いる場合であっても、その表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができる。

上記非液晶性材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。

上記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。

上記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（４５）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。

上記式（４５）中、Ｒ^３〜Ｒ^６は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ_１〜_１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ_１〜_１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基である。好ましくは、Ｒ^３〜Ｒ^６は、それぞれ独立して、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ_１〜_１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ_１〜_１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基である。

上記式（４５）中、Ｚは、例えば、Ｃ_６〜_２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（４６）で表される基である。

上記式（４６）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ^７）_２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（Ｃ_２Ｈ_５）_２基、または、ＮＲ^８基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ^７は、それぞれ独立して、水素またはＣ（Ｒ^９）_３である。Ｒ^８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ_６〜_２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素、フッ素、または塩素である。

上記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、上記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ_１〜_１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された上記多環式芳香族基が挙げられる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（４７）または（４８）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（４９）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記式（４９）のポリイミドは、下記式（４７）のホモポリマーの好ましい形態である。

上記一般式（４７）〜（４９）中、ＧおよびＧ’は、それぞれ独立して、例えば、共有結合、ＣＨ_２基、Ｃ（ＣＨ_３）_２基、Ｃ（ＣＦ_３）_２基、Ｃ（ＣＸ_３）_２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２基、および、Ｎ（ＣＨ_３）基からなる群から選択される基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。

上記式（４７）および式（４９）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

上記式（４７）〜（４９）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。上記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また上記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇは、０から３までの整数であり、ｈは、１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

上記式（４８）中、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から選択される基である。その中でも、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

上記式（４９）中、Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立して、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。

上記式（４７）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（５０）で表されるもの等が挙げられる。

さらに、上記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。

上記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

上記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等が挙げられる。上記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

また、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。

これらの中でも、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

上記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンが挙げられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。

上記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンからなる群から選択されるジアミン等が挙げられる。上記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。上記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等が挙げられる。上記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。

また、芳香族ジアミンとしては、上記の他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。

上記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（５１）で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。

上記式（５１）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。上記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ_１〜_６の直鎖または分岐鎖を有するアルキル基が好ましく、より好ましくはＣ_１〜_４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。上記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の上記低級アルキル基のハロゲン化物が挙げられる。上記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ_１〜_６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ_１〜_４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。上記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の上記低級アルコキシ基のハロゲン化物が挙げられる。

上記式（５１）中、ｑは、０から４までの整数である。上記式（５１）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、上記式（５１）中、Ｒ^１は、下記式（５２）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。

上記式（５２）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、上記式（５１）におけるＸと同様である。上記式（５２）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｑ’は、上記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。

上記式（５２）中、Ｒ^２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等が挙げられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、上記Ｒ^２としては、下記式（５３）〜（５９）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

上記式（５１）中、Ｒ^１としては、下記式（６０）で表される基が好ましく、下記式（６０）において、Ｒ^２およびｐは上記式（５２）と同義である。

さらに、上記式（５１）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合であってもよい。

さらに、上記式（５１）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（６１）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは上記式（５１）と同様の重合度を表す。

上記式（５１）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（６２）〜（６５）で表されるもの等が挙げられ、下記各式において、ｎは、上記式（５１）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、上記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルが挙げられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（６６）で表すことができる。

上記式（６６）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ_２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ_２アルキレン基、ＣＨ_２基、Ｃ（ＣＸ_３）_２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（Ｒ）_２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。

また、上記式（６６）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。

上記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、上記で定義したとおりである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ_１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ_１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ_１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ_１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせが挙げられる。上記ｔは、０から４までの整数であり、上記ｚは、０から３までの整数である。

上記式（６６）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（６７）で表されるものが好ましい。

上記式（６７）中、Ａ、Ａ’およびＹは、上記式（６６）で定義したとおりであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

次に、第２の光学補償層の製造方法について説明する。第２の光学補償層の製造方法としては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な方法が採用され得る。

第２の光学補償層は、好ましくは、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドからなる群より選択される少なくとも１種のポリマーの溶液を、上記基材上に塗工し塗膜を形成し、乾燥して、基材上に該ポリマー層を形成することで、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの関係を有する第２の光学補償層が得られる。

上記塗工溶液（基材に塗工するポリマー溶液）の溶媒は、特に制限されず、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。中でも、メチルイソブチルケトンが好ましい。非液晶性材料に対して高い溶解性を示し、かつ、基材を侵食しないからである。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記塗工溶液における上記非液晶性ポリマーの濃度は、上記のような光学補償層が得られ、かつ塗工可能であれば、任意の適切な濃度が採用され得る。例えば、当該溶液は、溶媒１００重量部に対して、非液晶性ポリマーを好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４０重量部含む。このような濃度範囲の溶液は、塗工容易な粘度を有する。

上記塗工溶液は、必要に応じて、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤をさらに含有し得る。

上記塗工溶液は、必要に応じて、異なる他の樹脂をさらに含有し得る。このような他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂を併用することにより、目的に応じて適切な機械的強度や耐久性を有する光学補償層を形成することが可能となる。

上記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。上記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。

上記塗工溶液に添加される上記異なる樹脂の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、このような樹脂は、上記非液晶性ポリマーに対して、好ましくは０〜５０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％の割合で添加され得る。

上記溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用され得る。

塗工後、例えば、自然乾燥、風乾、加熱乾燥（例えば、６０〜２５０℃）などの乾燥により、上記溶液中の溶媒を蒸発除去させ光学補償層を形成する。

Ａ−４．接着剤層
第１の光学補償層と第２の光学補償層との間に設けられる上記接着剤層は、目的に応じて任意の適切な接着剤層が選択される。好ましくは任意の適切な接着剤が用いられる。接着剤層を用いることで、第１の光学補償層に液晶等のコーティング層（例えば、液晶モノマーを有機溶剤に溶解させたもの）を直接塗工する必要がないので、有機溶剤による第１の光学補償層の浸食を防ぐことができ、第１の光学補償層の白濁化を回避することができる。さらに、例えば画像表示装置に本発明における光学補償層付偏光板を組み込む際、各層の光学軸の関係がずれることを防止したり、各層同士が擦れて傷ついたりすることを防ぐことができる。また、層間の界面反射を少なくし、画像表示装置に用いた際にコントラストを高くすることができる。上記接着剤層を形成する接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。熱硬化型接着剤の具体例としては、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために高温加熱する必要がないので、第２の光学補償層が積層（接着）時に高温加熱されない。その結果、加熱収縮の心配がないので、本発明のように第２の光学補償層がきわめて薄い場合であっても、積層時の割れ等が防止され得る。加えて、硬化型接着剤は、硬化後に加熱されてもほとんど伸縮しない。したがって、第２の光学補償層がきわめて薄い場合であって、かつ、得られる液晶パネルを高温条件下で使用する場合であっても、第２の光学補償層の割れ等が防止され得る。なお、上記イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート樹脂系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤の総称である。

上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。溶液（または分散液）を調製する場合、当該溶液における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、とりわけ好ましくは２５〜６５重量％であり、最も好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体例としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、第２の光学補償層の面積（ｃｍ^２）あたり好ましくは０.３〜３ｍｌであり、さらに好ましくは０.５〜２ｍｌであり、最も好ましくは１〜２ｍｌである。

塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、最も好ましくは１μｍ〜１０μｍである。

接着剤層の押し込み硬度（Microhardness）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａであり、さらに好ましくは０．２〜０．５ＧＰａであり、最も好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度は、ビッカース硬度との相関性が公知であるので、ビッカース硬度にも換算できる。押し込み硬度は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから算出することができる。

上記接着剤層の形成方法は、目的に応じて適宜選択される。例えば、上記接着剤の硬化温度は用いる接着剤などに応じて適宜設定される。好ましくは３０〜９０℃であり、さらに好ましくは４０〜６０℃である。これらの温度範囲で硬化を行うことで、接着剤層内に発泡が生じることを防ぐことができる。さらに、急激な硬化を防ぎ得る。また、硬化時間は、用いる接着剤や上記硬化温度等に応じて適宜設定される。好ましくは５時間以上であり、さらに好ましくは１０時間程度である。これらの条件で接着剤層を形成することで、取り扱いが容易な接着剤層を得ることができる。

Ａ−５．偏光子
偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。

ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。

ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

Ａ−６．保護層
上記保護層としては、偏光板の保護層として使用できる任意の適切なフィルムが採用され得る。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましく、ＴＡＣがさらに好ましい。

上記保護層は、透明で、色付きが無いことが好ましい。具体的には、厚み方向の位相差値が、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋８０ｎｍであり、最も好ましくは−７０ｎｍ〜＋７０ｎｍである。

上記保護層の厚みとしては、上記の好ましい厚み方向の位相差が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、保護層の厚みは、好ましくは５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１ｍｍ以下であり、特に好ましくは１〜５００μｍであり、最も好ましくは５〜１５０μｍである。

偏光子の外側（光学補償層と反対側）に設けられる保護層には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等が施され得る。

Ａ−７．光学補償層付偏光板
本発明における光学補償層付偏光板は、代表例として図１に示すように、偏光子１１と、第１の光学補償層１２と、接着剤層１３と、第２の光学補償層１４とをこの順に有している。好ましくは、偏光子１１と上記第１の光学補償層１２の間には、粘着剤層（図示せず）や接着剤層（図示せず）を設けてもよい。

各層の隙間をこのように粘着剤層や接着剤層で満たすことによって、画像表示装置に組み込んだ際に、各層の光学軸の関係がずれることを防止したり、各層同士が擦れて傷ついたりすることを防ぐことができる。また、層間の界面反射を少なくし、画像表示装置に用いた際にコントラストを高くすることもできる。

上記粘着剤層の厚みは、使用目的や接着力などに応じて適宜設定され得る。具体的には、粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜５０μｍ、最も好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。

上記粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。具体例としては、溶剤型粘着剤、非水系エマルジョン型粘着剤、水系粘着剤、ホットメルト粘着剤等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする溶剤型粘着剤が好ましく用いられる。偏光子、第１の光学補償層、および第２の光学補償層に対して適切な粘着特性（ぬれ性、凝集性および接着性）を示し、かつ、光学透明性、耐候性および耐熱性に優れるからである。

上記接着剤層を形成する接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。

熱硬化型接着剤の具体例としては、例えば、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂、およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、例えば、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために加熱する必要がないので、層間接着時に加熱されない。そのため、加熱により各層が劣化することを抑制することが可能となる。なお、イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート樹脂系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤等の総称である。

上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）を調製する場合、溶液（または分散液）中における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が、好ましくは１０〜８０重量％、より好ましくは２０〜６５重量％、さらに好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体的には、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは１種のみで用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

各層間への接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、各層の主面に対して面積（ｃｍ^２）あたり、好ましくは０．３〜３ｍｌ、より好ましくは０．５〜２ｍｌ、さらに好ましくは１〜２ｍｌである。

塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

接着剤層の押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａ、より好ましくは０．２〜０．５ＧＰａ、さらに好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）とは、ビッカース硬度との相関性が公知であるので、ビッカース硬度にも換算できる。押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名：ＭＨ４０００や商品名：ＭＨＡ−４００など）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから計算することができる。

Ａ−８．偏光板のその他の構成要素
本発明における光学補償層付偏光板は、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光学層としては、目的や画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用され得る。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の光学補償層（位相差フィルム）等が挙げられる。

本発明における光学補償層付偏光板は、少なくとも一方に最外層として粘着剤層または接着剤層をさらに有し得る。このように最外層として粘着剤層または接着剤層を有することにより、例えば、他の部材（例えば、液晶セル）との積層が容易になり、偏光板が他の部材から剥離するのを防止できる。上記粘着剤層の材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。粘着剤の具体例としては、上記に記載のものが挙げられる。接着剤の具体例としては、上記に記載のものが挙げられる。好ましくは、吸湿性や耐熱性に優れる材料が用いられる。吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下、液晶セルの反り等を防止できるからである。

実用的には、上記粘着剤層または接着剤層の表面は、偏光板が実際に使用されるまでの間、任意の適切なセパレータによってカバーされ、汚染が防止され得る。セパレータは、例えば、任意の適切なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成され得る。

本発明における光学補償層付偏光板における各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤による処理等によって、紫外線吸収能を付与したものであってもよい。

Ｂ．光学補償層付偏光板の製造方法
本発明における光学補償層付偏光板の製造方法は、本発明の効果が損なわれない範囲において任意の適切な方法が採用され得る。例えば、偏光子（必要に応じて保護層を設けてもよい）に上記の粘着剤層や接着剤層を介して第１の光学補償層を積層する。この第１の光学補償層の偏光子とは反対側に、上記接着剤層を介して第２の光学補償層（コーティング層）を転写することで、本発明における光学補償層付偏光板を得ることができる。

次に本発明における光学補償層付偏光板の製造方法の、具体的手順の一例について説明する。簡単のため、偏光子、第１の光学補償層および第２の光学補償層が形成された状態（詳細は、それぞれ上記を参照）について説明する。なお、製造方法はこの方法に限定されるものではない。

偏光子の積層は、本発明における製造方法において、任意の適切な時点で行われ得る。例えば、偏光子を予め保護層に積層しておいてもよく、第１の光学補償層に保護層および偏光子を積層した後に第２の光学補償層を貼り合わせ（転写）してもよく、第１の光学補償層に第２の光学補償層を貼り合わせた後に保護層および偏光子を積層してもよい。

上記保護層と偏光子との積層方法としては、任意の適切な積層方法（例えば、接着）が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用いて行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体（すなわち、保護層および偏光子）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート樹脂系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。

上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは５０〜１５０ｎｍである。

偏光子を予め保護層に積層したもの（以下、偏光板という場合もある）を用いる場合、この偏光板に第１の光学補償層を上記の粘着剤層や接着剤層を介して積層する。このとき、偏光板および第１の光学補償層の光軸がなす角度が所望の範囲となるように方向を合わせて積層することができる。好ましくは、第１の光学補償層の遅相軸が、偏光板の偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４０°〜５０°、さらに好ましくは４２°〜４８°、特に好ましくは４４°〜４６°となるように積層される。

次いで、第１の光学補償層の偏光板とは反対側に、上記接着剤（例えば、イソシアネート樹脂系接着剤）を塗工する。塗工方法は、任意の適切な方法（代表的には、塗工液を流動展開させる方法）が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレーコート法が挙げられる。中でも、塗工効率の観点からスピンコート法、エクストルージョンコート法が好ましい。

この接着剤を介して第２の光学補償層を第１の光学補償層に転写する。転写の方法は、任意の適切な方法が採用される。例えば、ロールコート法が挙げられる。転写は、基材を第２の光学補償層から剥離する工程をさらに含む。

次いで、上記接着剤の硬化を行う。硬化温度は用いる接着剤などに応じて適宜設定される。好ましくは３０〜９０℃であり、さらに好ましくは４０〜６０℃である。これらの温度範囲で硬化を行うことで、接着剤層内に発泡が生じることを防ぐことができる。さらに、急激な硬化を防ぎ得る。また、硬化時間は、用いる接着剤や上記硬化温度等に応じて適宜設定される。好ましくは５時間以上であり、さらに好ましくは１０時間程度である。得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、最も好ましくは１μｍ〜１０μｍである。

以上のようにして、本発明における光学補償層付偏光板が得られる。

Ｃ．光学補償層付偏光板の用途
本発明における光学補償層付偏光板は、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。適用可能な画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置、ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）が挙げられる。本発明における光学補償層付偏光板を液晶表示装置に用いる場合には、例えば、黒表示における光漏れ防止および視野角補償に有用である。本発明における光学補償層付偏光板は、ＶＡモードの液晶表示装置に好適に用いられ、反射型および半透過型のＶＡモードの液晶表示装置に特に好適に用いられる。また、本発明における光学補償層付偏光板をＥＬディスプレイに用いる場合には、例えば、電極反射防止に有用である。

Ｄ．画像表示装置
本発明における画像表示装置の一例として、液晶表示装置について説明する。ここでは、液晶表示装置に用いられる液晶パネルについて説明する。液晶表示装置のその他の構成については、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。本発明においては、ＶＡモードの液晶表示装置が好ましく、反射型および半透過型のＶＡモードの液晶表示装置が特に好ましい。図２は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。ここでは、反射型の液晶表示装置用液晶パネルを説明する。液晶パネル１００は、液晶セル２０と、液晶セル２０の上側に配置された位相差板３０と、位相差板３０の上側に配置された偏光板１０とを備える。位相差板３０としては、目的および液晶セルの配向モードに応じて任意の適切な位相差板が採用され得る。目的および液晶セルの配向モードによっては、位相差板３０は省略され得る。上記偏光板１０は、上記で説明した本発明における光学補償層付偏光板である。液晶セル２０は、一対のガラス基材２１、２１’と、該基材間に配された表示媒体としての液晶層２２とを有する。下基材２１’の液晶層２２側には、反射電極２３が設けられている。上基材２１には、カラーフィルター（図示せず）が設けられている。基材２１、２１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー２４によって制御されている。

例えば、反射型ＶＡモードの場合には、このような液晶表示装置（液晶パネル）１００は、電圧無印加時には、液晶分子は基材２１、２１’面に垂直に配向する。このような垂直配向は、垂直配向膜（図示せず）を形成した基材間に負の誘電率異方性を有するネマティック液晶を配することにより実現され得る。このような状態で、偏光板１０を通過した直線偏光の光を上基材２１の面から液晶層２２に入射させると、入射光は垂直配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、反射電極２３で反射されて再び液晶層２２を通過し、上基材２１から出射される。出射光の偏光状態は入射時と変わらないので、当該出射光は偏光板１０を透過し、明状態の表示が得られる。電極間に電圧が印加されると、液晶分子の長軸が基材面に平行に配向する。この状態の液晶層２２に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態は液晶分子の傾きに応じて変化する。所定の最大電圧印加時において、反射電極２３で反射し上基材から出射された光は、例えばその偏光方位が９０°回転させられた直線偏光となるので、偏光板１０で吸収されて暗状態の表示が得られる。再び電圧無印加状態にすると配向規制力により明状態の表示に戻すことができる。また、印加電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して偏光板１０からの透過光強度を変化させることにより階調表示が可能となる。

以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。

（偏光板の作製）
市販のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルム（クラレ社製）を、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて約６倍に一軸延伸して長尺の偏光子を得た。ＰＶＡ系接着剤を用いて、この偏光子の両面に市販のＴＡＣフィルム（富士写真フィルム社製）を貼り合わせ、全体厚み１００μｍの偏光板（保護層／偏光子／保護層）を得た。この偏光板を縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜いた。このとき、偏光子の吸収軸が縦方向となるようにした。

（第１の光学補償層の作製）
すでに延伸されてなる、厚みが７７μｍの変性ポリカーボネートフィルム（帝人社製、商品名：ピュアエースＷＲ）を第１の光学補償層用フィルムとして用いた。このフィルムは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、異常光と常光との光路差である位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１が１４７ｎｍであった。このフィルムを、縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第１の光学補償層とした。このとき、遅相軸が縦方向となるようにした。

（第２の光学補償層の作製）
下記式（１０）で表されるネマチック液晶性化合物９０重量部、下記式（３８）で表されるカイラル剤１０重量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバスペシャリティーケミカル社製）５重量部、およびメチルエチルケトン３００重量部を均一に混合し、液晶塗工液を調製した。この液晶塗工液を基材（二軸延伸ＰＥＴフィルム）上にスピンコーティング法よりコーティングし、８０℃で３分間熱処理し、次いで紫外線（２０ｍＪ／ｃｍ^２、波長３６５ｎｍ）を照射して重合処理し、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する、長尺の第２の光学補償層（コレステリック配向固化層）を形成した。このフィルムを縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第２の光学補償層とした。第２の光学補償層の厚みは２μｍであり、面内位相差Ｒｅ_２は０ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ_２は１１０ｎｍであった。以上のようにして得られた第２の光学補償層の複屈折率Δｎ（＝｜ｎ_ｅ−ｎ_ｏ｜、ｎ_ｅ：異常光屈折率、ｎ_ｏ：常光屈折率）の波長依存性は、波長が大きくなるに伴い小さくなった。リターデーションＲ（λ）（＝Δｎ×ｄ、ｄ：光学補償層の厚み）は、正波長分散特性を有した。

（光学補償層付偏光板の作製）
得られた第１の光学補償層に、第２の光学補償層の主面に塗工したイソシアネート樹脂系接着剤層（厚さ５μｍ）が対向するよう貼り合わせた（転写した）。接着剤層の硬化は、５０℃で１０時間程度加温して行った。次いで、第１の光学補償層の接着剤層とは反対側に得られた偏光板を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いて貼り合わせた。このとき、第１の光学補償層の遅相軸が、偏光板の偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるよう積層した。最後に、積層フィルムを、縦４．０ｃｍ×横５．３ｃｍに打ち抜き、第２の光学補償層が支持されていた基材（二軸延伸ＰＥＴフィルム）を剥離し、光学補償層付偏光板（１）を得た。

厚み１１０μｍ（重量平均分子量Ｍｗ＝３×１０^４）のセルロースエステルフィルム（株式会社カネカ製、ＫＡフィルム）を、１５０℃で１．３倍に自由端縦一軸延伸し、第１の光学補償層用フィルムとして用いた。このフィルムはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、異常光と常光との光路差である位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、アセチル置換度（ＤＳａｃ）＝０．０４およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）＝２．７６を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１が１１１ｎｍであった。また、厚みは１００μｍであった。このフィルムを、縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第１の光学補償層とした。このとき、遅相軸が縦方向となるようにした。上記で得られた第１の光学補償層を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償層付偏光板（２）を得た。

厚み１１０μｍ（重量平均分子量Ｍｗ＝３×１０^４）のセルロースエステルフィルム（株式会社カネカ製、ＫＡフィルム）を、１５５℃で１．５倍に自由端縦一軸延伸し、第１の光学補償層用フィルムとして用いた。このフィルムはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、異常光と常光との光路差である位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、アセチル置換度（ＤＳａｃ）＝０．０４およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）＝２．７６を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１が１３４ｎｍであった。また、厚みは９８μｍであった。このフィルムを、縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第１の光学補償層とした。このとき、遅相軸が縦方向となるようにした。上記で得られた第１の光学補償層を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償層付偏光板（３）を得た。

厚み１１０μｍ（重量平均分子量Ｍｗ＝３×１０^４）のセルロースエステルフィルム（株式会社カネカ製、ＫＡフィルム）を、１６０℃で２．３倍に自由端縦一軸延伸し、第１の光学補償層用フィルムとして用いた。このフィルムはｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、異常光と常光との光路差である位相差値が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、アセチル置換度（ＤＳａｃ）＝０．０４およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）＝２．７６を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１が１３９ｎｍであった。また、厚みは８１μｍであった。このフィルムを、縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第１の光学補償層とした。このとき、遅相軸が縦方向となるようにした。上記で得られた第１の光学補償層を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償層付偏光板を得た。

（比較例１）
（第２の光学補償層の作製）
実施例１の第２の光学補償層で用いた液晶塗工液を、実施例１の第１の光学補償層上に直接コーティング（スピンコーティング）し、８０℃で３分間熱処理し、次いで紫外線（２０ｍＪ／ｃｍ^２、波長３６５ｎｍ）を照射して重合処理し、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する、長尺の第２の光学補償層（コレステリック配向固化層）を形成した。このコーティングフィルムを縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第２の光学補償層とした。第２の光学補償層の厚みは２μｍであり、面内位相差Ｒｅ_２は０ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ_２は１２０ｎｍであった。

（光学補償層付偏光板の作製）
得られた第１の光学補償層の第２の光学補償層と反対側に、実施例１で用いた偏光板をアクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いて貼り合わせた。このとき、第１の光学補償層の遅相軸が、偏光板の偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるよう積層した。次いで、積層フィルムを、縦４．０ｃｍ×横５．３ｃｍに打ち抜き、光学補償層付偏光板（Ｃ１）を得た。

（比較例２）
（第２の光学補償層の作製）
ノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ社製：商品名アートン：厚み１００μｍ：光弾性係数５．００×１０^−１２ｍ^２／Ｎ）を１７５℃で１．２７倍に縦延伸し、次いで、１７６℃で１．３７倍に横延伸することによって、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する、長尺の第２の光学補償層用フィルム（厚みは６５μｍ）を作製した。このフィルムを縦２０ｃｍ×横３０ｃｍに打ち抜き、第２の光学補償層とした。第２の光学補償層の面内位相差Ｒｅ_２は０ｎｍ、厚み方向の位相差Ｒｔｈ_２は１１０ｎｍであった。

（光学補償層付偏光板の作製）
実施例１で得られた偏光板および第１の光学補償層、上記の得られた第２の光学補償層をこの順に積層した。第１の光学補償層の遅相軸が、偏光板の偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように積層した。偏光板と第１の光学補償層、および、第１の光学補償層と第２の光学補償層は、アクリル系粘着剤（厚みは２０μｍ）を用いて積層した。次いで、積層フィルムを、縦４．０ｃｍ×横５．３ｃｍに打ち抜き、光学補償層付偏光板（Ｃ２）を得た。

〔評価１：視野角特性〕
上記のようにして得られた実施例１〜４または比較例１〜２の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介してＶＡモードの液晶セル（ＳＨＡＲＰ社製携帯電話、型番：Ｑ０１ｉＳ）の視認側ガラス基材側に積層した。このとき、実施例１においては、ガラス基材と第２の光学補償層とが対向するように貼り合わせた。このようにして、ＶＡモード液晶表示装置を得た。光学補償層付偏光板が実装されたＶＡモード液晶セルについて、視野角特性測定装置（ＥＬＤＩＭ社製、ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ）を用いて視野角特性を測定した。
実施例１〜４の光学補償層付偏光板を用いた液晶セルは、比較例１〜２の光学補償層付偏光板を用いた液晶セルに比べて視野角が顕著に広くなっていた。

本発明における光学補償層付偏光板は、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。

本発明の好ましい実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。 本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置に用いられる液晶パネルの概略断面図である。

符号の説明

１０ 光学補償層付偏光板
１１ 偏光子
１２ 第１の光学補償層
１３ 接着剤層
１４ 第２の光学補償層
２０ 液晶セル
１００ 液晶パネル

Claims (14)

1. 偏光子と、第１の光学補償層と、接着剤層と、第２の光学補償層とをこの順に有し、
   該接着剤層が、湿気硬化型イソシアネート樹脂系接着剤層からなり、
   該第１の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、面内位相差Ｒｅ_１が短波長側ほど小さくなる波長分散特性を示し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_１が９０〜１６０ｎｍであり、
   該第１の光学補償層がλ／４板であり、該第１の光学補償層の遅相軸が偏光子の吸収軸に対して４０〜５０°となるように積層され、
   該第２の光学補償層が、コーティング層であり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有し、その面内位相差Ｒｅ_２が０〜２０ｎｍであり、かつ、その厚み方向の位相差Ｒｔｈ_２が３０〜３００ｎｍであり、その厚みが０．５〜１０μｍであり、
   該第２の光学補償層が、基材上にコーティングして形成された第２の光学補償層を、該接着剤層を介して該第１の光学補償層に転写して形成された層である、
   光学補償層付偏光板。
2. 前記第１の光学補償層が、延伸フィルム層であり、かつ、フルオレン骨格を有するポリカーボネートを含む、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
3. 前記第１の光学補償層が、延伸フィルム層であり、かつ、セルロース系材料を含む、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
4. 前記第１の光学補償層が、アセチル置換度（ＤＳａｃ）およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）が２．０≦ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ≦３．０および１．０≦ＤＳｐｒ≦３．０を満たすセルロース系材料を含む、請求項３に記載の光学補償層付偏光板。
5. 前記第１の光学補償層が、前記セルロース系材料を１１０℃〜１７０℃の温度で長軸方向に１．１倍〜２．５倍に自由端一軸延伸して得られる延伸フィルム層である、請求項４に記載の光学補償層付偏光板。
6. 前記セルロース系材料の重量平均分子量Ｍｗが、３×１０^３〜３×１０^５の範囲内にある、請求項３から５までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
7. 前記第１の光学補償層が、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有する芳香族ポリエステルポリマーを２種類以上含む、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
8. 前記第１の光学補償層が、延伸フィルム層であり、かつ、異なる波長分散特性を有するポリマーを形成するモノマー由来のモノマー単位を２種類以上有する共重合体を含む、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
9. 前記第１の光学補償層が、異なる波長分散特性を有する延伸フィルム層を２種類以上積層した複合フィルム層である、請求項１に記載の光学補償層付偏光板。
10. 前記第２の光学補償層が、コレステリック配向固化層からなる、請求項１から９までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
11. 請求項１から１０までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板と液晶セルとを含む、液晶パネル。
12. 前記液晶セルが、反射型または半透過型のＶＡモードである、請求項１１に記載の液晶パネル。
13. 請求項１１または１２に記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。
14. 請求項１から１０までのいずれかに記載の光学補償層付偏光板を含む、画像表示装置。
    

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