JP2007178984A - 液晶パネルおよび液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】画面コントラストに優れ、カラーシフトが小さく、かつ、表示ムラが小さい液晶パネルを提供すること。
【解決手段】本発明の液晶パネルは、液晶セルと、第１の偏光子と、第２の偏光子と、保護層と、第１の光学補償層および第２の光学補償層とを備え、
該保護層が、０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦１０ｎｍ及び０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２０ｎｍの関係を有し、該第１の光学補償層が、光弾性係数の絶対値が４０×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）以下であり、かつ、Δｎｄ（３８０）＜Δｎｄ（５５０）＜Δｎｄ（７８０）、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚ及び９０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦２００ｎｍの関係を有し、該第２の光学補償層が、Ｒｔｈ（３８０）＞Ｒｔｈ（５５０）＞Ｒｔｈ（７８０）及びｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの関係を有する。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。より詳細には、本発明は、第１の偏光子と第２の偏光子との間に少なくとも２つの光学補償層を有する液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。

ＶＡモードまたはＯＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に液晶分子が垂直方向に配向している。そのため、液晶パネルを斜め方向から見た場合には、見かけ上、液晶分子が斜め方向に配向した状態になり、当該斜め方向からの光の偏光状態が、液晶の複屈折により変化して、偏光板からの光モレが発生する。また、偏光板は、その吸収軸が直交するように積層配置することで光を遮断するが、そのような積層状態の偏光板を斜め方向から見た場合には、見かけ上、偏光板の吸収軸が非直交状態になり、偏光板からの光モレが発生する。

上記のような問題を解決するために、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ（ｎｘは遅相軸方向の屈折率、ｎｙは進相軸方向の屈折率、ｎｚは厚み方向の屈折率を示す）の関係を有する２軸光学補償板を用いて、液晶の複屈折と偏光板の軸ズレによる光モレへの影響を補償する技術が開示されている（例えば、特許文献１〜５参照）。しかし、これらの技術は、画面コントラストの向上、カラーシフトの低減および表示ムラの抑制がいずれも不十分である。
特願２００３−９２６号公報 特願２００３−２７４８８号公報 特願２００３−３８７３４号公報 特願２００２−６３７９６号公報 特願２００２−２２２８３０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、複雑な手段を加えることなく、画面コントラストに優れ、カラーシフトが小さく、かつ、表示ムラが小さい液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することである。

本発明の液晶パネルは、液晶セルと；該液晶セルの一方の側に配置された第１の偏光子と；該液晶セルの他方の側に配置された第２の偏光子と；該第１の偏光子または該第２の偏光子の該液晶セル側に配置された保護層と；該第１の偏光子と該第２の偏光子との間に配置された、第１の光学補償層および第２の光学補償層とを備える。該保護層は、下記式（１）および（２）の関係を有し、該第１の光学補償層は、該保護層の液晶セル側に配置され、光弾性係数の絶対値が４０×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）以下であり、かつ、下記式（３）、（４）および（５）の関係を有し、該第２の光学補償層が、下記式（６）および（７）の関係を有する。
０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦１０ｎｍ ・・・（１）
０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２０ｎｍ ・・・（２）
Δｎｄ（３８０）＜Δｎｄ（５５０）＜Δｎｄ（７８０）・・・（３）
ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚ ・・・（４）
９０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦２００ｎｍ ・・・（５）
Ｒｔｈ（３８０）＞Ｒｔｈ（５５０）＞Ｒｔｈ（７８０）・・・（６）
ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ ・・・（７）
ここで、Δｎｄ（３８０）、Δｎｄ（５５０）およびΔｎｄ（７８０）は、それぞれ、２３℃における波長３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍで測定した面内の位相差を表し、Ｒｔｈ（３８０）、Ｒｔｈ（５５０）およびＲｔｈ（７８０）は、それぞれ、２３℃における波長３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍで測定した厚み方向の位相差を表し、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、遅相軸方向、進相軸方向および厚み方向の屈折率を表す。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層および上記第２の光学補償層は、上記液晶セルを基準にしてそれぞれ別の側に配置されている。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層は、Δｎｄ（７８０）／Δｎｄ（５５０）＞１．１０の関係を有する。

好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層はセルロース系材料を含む。

好ましい実施形態においては、上記セルロース系材料のアセチル置換度（ＤＳａｃ）およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）が、２．０≦ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ≦３．０であり、１．０≦ＤＳｐｒ≦３．０である。

好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層は、Ｒｔｈ（７８０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９５の関係を有する。

好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層を構成する材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１種の非液晶性ポリマーである。

好ましい実施形態においては、上記液晶セルはＶＡモードまたはＯＣＢモードである。

本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。この液晶表示装置は、上記の液晶パネルを含む。

以上のように、本発明によれば、第１の偏光子と第２の偏光子との間に、上記の光学特性を有する第１の光学補償層および第２の光学補償層を配置させることにより、画面コントラストを向上させ、かつ、カラーシフトを低減し得る。さらに、光弾性係数の絶対値が４０×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）以下の第１の光学補償層を設けることにより、偏光子の収縮応力やバックライトの熱に起因する位相差ムラを防止して表示ムラを抑制し得る。その結果、複雑な手段を加えることなく、画面コントラストに優れ、カラーシフトが小さく、かつ、表示ムラが小さい液晶パネルおよび液晶表示装置を提供できる。

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学補償層付偏光板の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Δｎｄ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいう。Δｎｄ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける層（フィルム）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）を層（フィルム）の厚みとしたとき、式：Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。なお、「面内位相差Δｎｄ（３８０）」は、２３℃における波長３８０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいい、「面内位相差Δｎｄ（７８０）」は、２３℃における波長７８０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいう。
（３）「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける層（フィルム）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）を層（フィルム）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。なお、「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（３８０）」は、２３℃における波長３８０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいい、「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（７８０）」は、２３℃における波長７８０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。

Ａ．液晶パネルの全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この液晶パネル１００は、液晶セル１０と；液晶セル１０の一方の側（図示例では視認側）に配置された第１の偏光子２０と；液晶セル１０の他方の側（図示例ではバックライト側）に配置された第２の偏光子２０’と；第１の偏光子２０の液晶セル１０側に隣接して配置された保護層５０と；第１の偏光子２０と第２の偏光子２０’との間に配置された、少なくとも２つの光学補償層とを備える。当該少なくとも２つの光学補償層は、第１の光学補償層３０および第２の光学補償層４０を含む。第１の光学補償層３０は、保護層５０の液晶セル１０側に隣接して配置されている。第２の光学補償層４０は、第２の偏光子２０’と液晶セル１０との間に配置されている。保護層５０を設けることにより偏光子の劣化が顕著に防止され、耐久性に優れた液晶パネルが得られ得る。なお、保護層５０が第２の偏光子２０’の液晶セル１０側に隣接して配置され、第１の光学補償層３０がバックライト側に配置され、第２の光学補償層４０が視認側に配置されてもよいが、好ましくは第１の光学補償層３０は図示するように視認側に配置される。バックライトの熱による影響を低減させて、本発明の効果をより発揮し得るからである。

図２は、本発明の別の実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この実施形態においては、第１の光学補償層３０および第２の光学補償層４０は、第１の偏光子２０と液晶セル１０との間に配置されている。図１に示すように、第１の光学補償層３０および第２の光学補償層４０が、液晶セル１０を基準にしてそれぞれ別の側に配置されるのが好ましい。第１の光学補償層３０と第２の光学補償層４０との積層方法を考慮することなく製品設計を行うことができ、かつ、生産性に優れるからである。なお、図１および図２に示す各構成部材および各層の詳細については、後述のＢ−１項〜Ｂ−４項で説明する。

本発明においては、必要に応じて、第１の偏光子２０または第２の偏光子２０’と第２の光学補償層４０との間に、任意の適切な保護フィルム（図示せず）が設けられる。さらに、必要に応じて、第１の偏光子２０および／または第２の偏光子２０’の光学補償層が形成されない側にも、任意の適切な保護フィルムが設けられる。保護フィルムを設けることにより、偏光子の劣化が防止され得る。本発明においては、さらに別の光学補償層（図示せず）を設けてもよい。このような光学補償層の種類、数、配置位置等は、目的に応じて適切に選択され得る。

液晶セル１０は、一対の基板１１、１１’と、基板１１、１１’間に挟持された表示媒体としての液晶層１２とを有する。一方の基板（カラーフィルター基板）１１には、カラーフィルターおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）が設けられている。他方の基板（アクティブマトリクス基板）１１’には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）（図示せず）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線（図示せず）およびソース信号を与える信号線（図示せず）と、画素電極（図示せず）とが設けられている。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板１１’側に設けてもよい。上記基板１１、１１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー（図示せず）によって制御されている。上記基板１１、１１’の液晶層１２と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。

液晶セル１０の駆動モードとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な駆動モードが採用され得る。駆動モードの具体例としては、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードおよびＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードが挙げられる。ＶＡモードおよびＯＣＢモードが好ましい。

図３は、ＶＡモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。図３（ａ）に示すように、電圧無印加時には、液晶分子は基板１１、１１’面に垂直に配向する。このような垂直配向は、垂直配向膜（図示せず）を形成した基板間に負の誘電率異方性を有するネマチック液晶を配することにより実現され得る。このような状態で一方の基板１１の面から光を入射させると、第１の偏光子２０を通過して液晶層１２に入射した直線偏光の光は、垂直配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、第１の偏光子２０と直交する偏光軸を有する第２の偏光子２０’で吸収される。これにより電圧無印加時において暗状態の表示が得られる（ノーマリブラックモード）。図３（ｂ）に示すように、電極間に電圧が印加されると、液晶分子の長軸が基板面に平行に配向する。この状態の液晶層１２に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態は液晶分子の傾きに応じて変化する。所定の最大電圧印加時において液晶層を通過する光は、例えばその偏光方位が９０°回転させられた直線偏光となるので、第２の偏光子２０’を透過して明状態の表示が得られる。再び電圧無印加状態にすると配向規制力により暗状態の表示に戻すことができる。また、印加電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して第２の偏光子２０’からの透過光強度を変化させることにより階調表示が可能となる。

図４は、ＯＣＢモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。ＯＣＢモードは、液晶層１２をいわゆるベンド配向といわれる配向によって構成する駆動モードである。ベンド配向とは、図４（ｃ）に示すように、ネマチック液晶分子の配向が基板近傍においては、ほぼ平行の角度（配向角）を有し、配向角は液晶層の中心に向かうに従って基板平面に対して垂直な角度を呈し、液晶層の中心から離れるに従って対向する基板表面と配向になるように漸次連続的に変化し、かつ、液晶層全体にわたってねじれ構造を有しない配向状態をいう。このようなベンド配向は、以下のようにして形成される。図４（ａ）に示すように、何ら電界等を付与していない状態（初期状態）では、液晶分子は実質的にホモジニアス配向をとっている。ただし、液晶分子は、プレチルト角を有し、かつ、基板近傍のプレチルト角とそれに対向する基板近傍のプレチルト角とが異なっている。ここに所定のバイアス電圧（代表的には、１．５Ｖ〜１．９Ｖ）を印加すると（低電圧印加時）、図４（ｂ）に示すようなスプレイ配向を経て、図４（ｃ）に示すようなベンド配向への転移が実現され得る。ベンド配向状態からさらに表示電圧（代表的には、５Ｖ〜７Ｖ）を印加すると（高電圧印加時）、液晶分子は図４（ｄ）に示すように基板表面に対してほぼ垂直に立ち上がる。ノーマリーホワイトの表示モードにおいては、第１の偏光子２０を通過して、高電圧印加時に図４（ｄ）の状態にある液晶層に入射した光は、偏光方位を変えずに進み、第２の偏光子２０’で吸収される。したがって、暗状態の表示となる。表示電圧を下げると、ラビング処理の配向規制力により、ベンド配向に戻り、明状態の表示に戻すことができる。また、表示電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して偏光子からの透過光強度を変化させることにより、階調表示が可能となる。なお、ＯＣＢモードの液晶セルを備えた液晶表示装置は、スプレイ配向状態からベンド配向状態への相転移を非常に高速でスイッチングできるため、ＴＮモードやＩＰＳモード等の他駆動モードの液晶表示装置に比べ、動画表示特性に優れるという特徴を有する。

Ｂ−１．第１の光学補償層
第１の光学補償層の光弾性係数の絶対値は、４０×１０^−１２ｍ^２／Ｎ以下であり、より好ましくは０．２×１０^−１２〜３５×１０^−１２、さらに好ましくは０．２×１０^−１２〜３０×１０^−１２である。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、表示ムラを効果的に抑制し得る。

第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率分布を有する。さらに、第１の光学補償層は、いわゆる逆分散の波長依存性を有する。具体的には、その面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＜Δｎｄ（５５０）＜Δｎｄ（７８０）の関係を有する。好ましくは、面内位相差は、Δｎｄ（７８０）／Δｎｄ（５５０）＞１．１０の関係を有する。このような関係を有することにより、可視光の広い範囲にわたって良好な光学補償が実現され得る。上記のような低光弾性係数と逆分散の波長依存性とを両立する光学補償層を有する液晶パネルを実現したことが、本発明の特徴の１つである。

第１の光学補償層の面内位相差Δｎｄ（５５０）の下限は、９０ｎｍ以上であり、好ましくは１２０ｎｍ以上、さらに好ましくは１３０ｎｍ以上である。一方、Δｎｄ（５５０）の上限は、２００ｎｍ以下であり、好ましくは１７０ｎｍ以下、さらに好ましくは１６０ｎｍ以下である。

第１の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）の下限は、好ましくは９０ｎｍ以上、より好ましくは１２０ｎｍ以上、さらに好ましくは１３０ｎｍ以上である。一方、Ｒｔｈ（５５０）の上限は、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１７０ｎｍ以下、さらに好ましくは１６０ｎｍ以下である。

第１の光学補償層の厚みは、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、厚みは、５〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは４０〜１７０μｍ、さらに好ましくは６０〜１４０μｍである。

第１の光学補償層は、代表的には、ポリマーフィルムを延伸処理することにより形成され得る。例えば、ポリマーの種類、延伸条件、延伸方法等を適切に選択することにより、上記のような光学特性（屈折率分布、面内位相差、光弾性係数）を有する第１の光学補償層が得られ得る。

上記ポリマーフィルムに含まれる材料としては、任意の適切な材料が採用され得るが、セルロース系材料を含むことが好ましい。

上記セルロース系材料としては、アセチル基およびプロピオニル基で置換されていることが好ましい。このセルロース系材料の置換度、「ＤＳａｃ（アセチル置換度）＋ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）」（セルロースの繰り返し単位中に存在する３個の水酸基が、アセチル基またはプロピオニル基で平均してどれだけ置換されているかを示す）の下限は、好ましくは２以上、より好ましくは２．３以上、さらに好ましくは２．６以上である。「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」の上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。セルロース系材料の置換度を上記範囲とすることにより、上記のような所望の屈折率分布を有する光学補償層が得られ得る。

上記ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）の下限は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは２．５以上である。ＤＳｐｒの上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。ＤＳｐｒを上記範囲とすることにより、セルロース系材料の溶剤に対する溶解性が向上し、得られる第１の光学補償層の厚みの制御が容易となる。さらに、「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を上記の範囲とし、かつ、ＤＳｐｒを上記の範囲とすることにより、上記の光学特性を有し、かつ、逆分散の波長依存性を有する光学補償層が得られ得る。

上記ＤＳａｃ（アセチル置換度）およびＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）は、特開２００３−３１５５３８号公報［００１６］〜［００１９］に記載の方法により求めることができる。

上記セルロース系材料は、アセチル基およびプロピオニル基以外のその他の置換基を有し得る。その他の置換基としては、例えば、ブチレート等のエステル基；アルキルエーテル基、アラアルキレンエーテル基等のエーテル基等が挙げられる。

上記セルロース系材料の数平均分子量は、好ましくは５千〜１０万、より好ましくは１万〜７万である。上記範囲とすることにより、生産性に優れ、かつ、良好な機械的強度が得られ得る。

アセチル基およびプロピオニル基への置換方法としては、適宜任意の方法が採用される。例えば、セルロースを強苛性ソーダ溶液で処理してアルカリセルロースとし、これを所定量の無水酢酸とプロピオン酸無水物との混合物によりアシル化する。アシル基を部分的に加水分解することにより、置換度「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を調整する。

上記ポリマーフィルムは、適宜任意の高分子材料を含み得る。このような高分子材料としては、例えば、セルロースブチレート等のセルロースエステル；メチルセルロース、エチルセルロース等のセルロースエーテル等が挙げられる。ポリマーフィルムは、必要に応じて、可塑剤、熱安定剤、紫外線安定剤等の添加剤を含み得る。

Ｂ−２．第２の光学補償層
第２の光学補償層は、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する。さらに、第２の光学補償層の厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＞Ｒｔｈ（５５０）＞Ｒｔｈ（７８０）の関係を有する。好ましくは、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（７８０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９５の関係を有する。

第２の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）の下限は、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上である。一方、Ｒｔｈ（５５０）の上限は、好ましくは１０００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、さらに好ましくは２５０ｎｍ以下である。

第２の光学補償層の面内位相差Δｎｄ（５５０）の上限は、１０ｎｍ以下であり、好ましくは５ｎｍ以下、さらに好ましくは３ｎｍ以下である。

第２の光学補償層は、単層であってもよく、２層以上の積層体であってもよい。積層体の場合には、積層体全体として上記のような光学特性を有する限り、各層を構成する材料および各層の厚みは適宜設定され得る。

第２の光学補償層の厚みは、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、厚みは、０．１〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。

第２の光学補償層を構成する材料としては、上記のような光学特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。例えば、このような材料としては、非液晶性材料が挙げられる。特に好ましくは、非液晶性ポリマーである。このような非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成し得る。その結果、配向基板のみならず未配向基板も使用され得る。さらに、未配向基板を用いる場合であっても、その表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができる。

上記非液晶性材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。

上記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。

上記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。

上記式（１）中、Ｒ^３〜Ｒ^６は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ_１〜_１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ_１〜_１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ^３〜Ｒ^６は、それぞれ独立して、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ_１〜_１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ_１〜_１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。

上記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ_６〜_２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。

上記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ^７）_２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（Ｃ_２Ｈ_５）_２基、または、ＮＲ^８基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ^７は、それぞれ独立して、水素またはＣ（Ｒ^９）_３である。Ｒ^８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ_６〜_２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。Ｒ^９は、それぞれ独立して、水素、フッ素、または塩素である。

上記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、上記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ_１〜_１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された上記多環式芳香族基が挙げられる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。

上記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、それぞれ独立して、例えば、共有結合、ＣＨ_２基、Ｃ（ＣＨ_３）_２基、Ｃ（ＣＦ_３）_２基、Ｃ（ＣＸ_３）_２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２基、および、Ｎ（ＣＨ_３）基からなる群から選択される基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。

上記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

上記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。上記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また上記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇは、０から３までの整数であり、ｈは、１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

上記式（４）中、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から選択される基である。その中でも、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

上記式（５）中、Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立して、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。

上記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等が挙げられる。

さらに、上記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。

上記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

上記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等が挙げられる。上記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

また、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。

これらの中でも、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

上記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンが挙げられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。

上記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンからなる群から選択されるジアミン等が挙げられる。上記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。上記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等が挙げられる。上記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。

また、芳香族ジアミンとしては、上記の他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。

上記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。

上記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。上記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ_１〜_６の直鎖または分岐鎖を有するアルキル基が好ましく、より好ましくはＣ_１〜_４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。上記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の上記低級アルキル基のハロゲン化物が挙げられる。上記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ_１〜_６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ_１〜_４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。上記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の上記低級アルコキシ基のハロゲン化物が挙げられる。

上記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。上記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、上記式（７）中、Ｒ^１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。

上記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、上記式（７）におけるＸと同様である。上記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｑ’は、上記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。

上記式（８）中、Ｒ^２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等が挙げられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、上記Ｒ^２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

上記式（７）中、Ｒ^１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ^２およびｐは上記式（８）と同義である。

さらに、上記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合であってもよい。

さらに、上記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは上記式（７）と同様の重合度を表す。

上記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等が挙げられ、下記各式において、ｎは、上記式（７）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、上記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルが挙げられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。

上記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ_２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ_２アルキレン基、ＣＨ_２基、Ｃ（ＣＸ_３）_２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ_２基、Ｓｉ（Ｒ）_２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。

また、上記式（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。

上記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、上記で定義したとおりである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ_１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ_１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ_１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ_１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ_１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_１−３アルキル基、Ｃ_１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせが挙げられる。上記ｔは、０から４までの整数であり、上記ｚは、０から３までの整数である。

上記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。

上記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、上記式（２２）で定義したとおりであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

次に、上記第２の光学補償層の代表的な製造方法について説明する。第２の光学補償層の製造方法としては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な方法が採用され得る。

第２の光学補償層は、好ましくは、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドからなる群より選択される少なくとも１種のポリマーの溶液を、透明高分子フィルムに塗布後、乾燥して、透明高分子フィルム上に該ポリマー層を形成し、該透明高分子フィルムと該ポリマー層とを一体で延伸または収縮することにより形成される。

上記塗工溶液（透明高分子フィルムに塗布するポリマー溶液）の溶媒は、特に制限されず、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１,２-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２-ピロリドン、Ｎ-メチル-２-ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２-メチル-２,４-ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。中でも、メチルイソブチルケトンが好ましい。非液晶材料に対して高い溶解性を示し、かつ、基板を侵食しないからである。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて用いられ得る。

上記塗工溶液における上記非液晶性ポリマーの濃度は、上記のような光学補償層が得られ、かつ塗工可能であれば、任意の適切な濃度が採用され得る。例えば、当該溶液は、溶媒１００重量部に対して、非液晶性ポリマーを好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４０重量部含む。このような濃度範囲の溶液は、塗工容易な粘度を有する。

上記塗工溶液は、必要に応じて、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤をさらに含有し得る。

上記塗工溶液は、必要に応じて、異なる他の樹脂をさらに含有し得る。このような他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂を併用することにより、目的に応じて適切な機械的強度や耐久性を有する光学補償層を形成することが可能となる。

上記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。上記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。

上記塗工溶液に添加される上記異なる樹脂の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、このような樹脂は、上記非液晶性ポリマーに対して、好ましくは０〜５０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％の割合で添加され得る。

上記溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用され得る。

塗工後、例えば、自然乾燥、風乾、加熱乾燥（例えば、６０〜２５０℃）などの乾燥により、上記溶液中の溶媒を蒸発除去させ、フィルム状の光学補償層を形成する。

上記透明高分子フィルムとしては、後述する保護層（Ｂ−４項にて説明）と同様のフィルムを用いることができる。

第２の光学補償層は、上記で得られた積層体（透明高分子フィルム上に第１の光学補償層が形成された積層体）から、第１の光学補償層を剥離して用いても良いし、積層体のまま用いてもよい。積層体のまま用いて偏光子とさらに積層する場合は、積層体中の透明高分子フィルムは、後述する偏光子の保護フィルムとして機能してもよい。

Ｂ−３．偏光子
上記第１の偏光子および第２の偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。

ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。

Ｂ−４．保護層
保護層５０は、透明であり、色付が無いことが好ましい。保護層５０の面内位相差Δｎｄ（５５０）は、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、好ましくは０ｎｍ以上６ｎｍ以下、さらに好ましくは０ｎｍ以上３ｎｍ以下である。保護層５０の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、好ましくは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下、より好ましくは０ｎｍ以上６ｎｍ以下、さらに好ましくは０ｎｍ以上３ｎｍ以下である。

上記保護層５０の厚みは、目的に応じて適宜設定され得る。具体的には、厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜１００μｍ、さらに好ましくは３５〜９５μｍである。

保護層５０としては、代表的には、セルロース系フィルムが用いられる。一般的に保護フィルムとして用いられているセルロース系フィルムは、例えば、トリアセチルセルロースフィルムの場合、厚さ４０μｍにおいて厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は４０ｎｍ程度である。したがって、本発明における保護層５０として、このような厚み方向位相差（Ｒｔｈ）の大きいセルロース系フィルムを、そのまま採用することができない。本発明では、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）の大きいセルロース系フィルムについて、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さくするための適当な処理を施すことにより、本発明における保護層５０を好ましく得ることができる。

厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さくするための上記処理としては、任意の適切な処理方法を採用できる。例えば、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗布したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレス等の基材を、一般的なセルロース系フィルムに貼り合わせ、加熱乾燥（例えば、８０〜１５０℃程度で３〜１０分程度）した後、基材フィルムを剥離する方法；ノルボルネン系樹脂、アクリル系樹脂等をシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を、一般的なセルロース系フィルムに塗布し、加熱乾燥（例えば、８０〜１５０℃程度で３〜１０分程度）した後、塗布フィルムを剥離する方法などが挙げられる。

セルロース系フィルムを構成する材料としては、好ましくは、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の脂肪酸置換セルロース系ポリマーが挙げられる。一般的に用いられているトリアセチルセルロースでは、酢酸置換度が２．８程度であるが、好ましくは酢酸置換度を１．８〜２．７、より好ましくはプロピオン酸置換度を０．１〜１に制御することによって、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御することができる。

上記脂肪酸置換セルロース系ポリマーに、ジブチルフタレート、ｐ−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸置換セルロース系ポリマー１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１５重量部である。

上述したような厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御するための技術は、適宜組み合わせて用いてもよい。

上記のような光学特性（面内位相差Δｎｄ（５５０）、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０））を満足し得る別の好ましい具体例として、アクリル樹脂フィルムも挙げられる。アクリル樹脂フィルムとして好ましくは、特開２００５−３１４５３４号公報に記載の、下記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂（Ａ）を主成分として含むアクリル樹脂フィルムである。下記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位を含有することにより、耐熱性が向上し得る。下記構造式（２４）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくはメチル基である。

上記アクリル樹脂（Ａ）中、上記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位の含有割合は、好ましくは２０〜４０重量％、より好ましくは２５〜３５重量％である。

上記アクリル樹脂（Ａ）は、上記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位の他に、任意の適切なモノマー単位を１種または２種以上含んでいても良い。このようなモノマー単位として、好ましくは、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位が挙げられる。上記アクリル樹脂（Ａ）中、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位の含有割合は、好ましくは６０〜８０重量％、より好ましくは６５〜７５重量％である。

上記ビニルカルボン酸アルキルエステル単位としては、例えば、下記一般式（２５）で表される単位が挙げられる。下記一般式（２５）中、Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜５の脂肪族もしくは脂環式炭化水素、Ｒ^４は炭素数１〜５の脂肪族炭化水素を表す。

上記アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは８００００〜１５００００である。

上記アクリル樹脂フィルム中の上記アクリル樹脂（Ａ）の含有割合は、好ましくは６０〜９０重量％である。

上記アクリル樹脂フィルム中には、上記アクリル樹脂（Ａ）の他に、任意の適切な成分が１種または２種以上含まれていても良い。このような成分としては、本発明の目的を損なわない範囲で任意の適切な成分を採用し得る。例えば、上記アクリル樹脂（Ａ）以外の樹脂、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。

上述したように、本発明の液晶パネルは、上記保護層以外にも保護フィルムを有し得る。保護フィルムとしては、保護層と同様のフィルムを用いることができる。

上記各層（フィルム）の積層は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層を介して積層される。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。

（１）位相差の測定
面内位相差Δｎｄおよび厚み方向位相差Ｒｔｈを、分光エリプソメーター（日本分光株式会社製、Ｍ−２２０）で算出した。測定温度は２３℃、測定波長は３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍであった。
（２）光弾性係数の測定
試料フィルムの光弾性係数を、分光エリプソメーター（日本分光株式会社製、Ｍ−２２０）により測定した。
（３）カラーシフトの測定
ＥＬＤＩＭ社製 商品名 「ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ」を用いて、方位角４５°方向で、極角を０°〜８０°に変化させて液晶表示装置の色調を測定し、ＸＹ色度図上にプロットした。さらに、極角６０°方向で、方位角０°〜３６０°に変化させて液晶表示装置の色調を測定した。
（４）コントラストの測定
液晶表示装置に白画像および黒画像を表示させ、ＥＬＤＩＭ社製 商品名 「ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ」により測定した。

（第１の光学補償層の形成）
厚み１１０μｍのセルロースエステルのフィルム〔カネカ製、商品名：ＫＡ、ＤＳａｃ（アセチル置換度）＝０．０４、ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）＝２．７６〕を、１４５℃で１．５倍に自由端延伸して厚み１０８μｍの第１の光学補償層を得た。得られた第１の光学補償層の光弾性係数は、２５×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）であった。得られた第１の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝１０２ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝１４０ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝１６３ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝１０５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１６９ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚであった。

（第１の光学補償層付偏光板の作製）
ポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸して偏光子を得た。こうして得られた偏光子の片側に、保護層としてトリアセチルセルロースフィルム（厚み８０μｍ）〔富士写真フィルム製、商品名：ＺＲＦ８０Ｓ〕を、ポリビニルアルコール系接着剤（厚み０．１μｍ）を介して貼り付けた。当該保護層の面内位相差は、Δｎｄ（５５０）＝０．９ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（５５０）＝１．２ｎｍであった。偏光子のもう片側に、ＴＡＣ保護フィルム（厚み８０μｍ）〔富士写真フィルム製、商品名：ＴＦ８０ＵＬ〕を、ポリビニルアルコール系接着剤（厚み０．１μｍ）を介して貼り付けた。当該保護フィルムの面内位相差は、Δｎｄ（５５０）＝１ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（５５０）＝６０ｎｍであった。次いで、上記で得られた第１の光学補償層を、保護層にアクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。このとき、第１の光学補償層の遅相軸と偏光子の延伸軸（吸収軸）とが互いに実質的に直交するように積層し、第１の光学補償層付偏光板を得た。

（第２の光学補償層の形成）
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）とから合成されたポリイミドを、シクロヘキサノンに溶解して、１５質量％のポリイミド溶液を調製した。この溶液をトリアセチルセルロース基材（透明高分子フィルム）に３０μｍの厚みで塗布した。その後、１００℃で１０ｍｉｎ乾燥処理することで、厚みが約４μｍの第２の光学補償層を得た。得られた第２の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝０．３ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝０．２ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝０．２ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝１９３ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１１９ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであった。

（第２の光学補償層付偏光板の作製）
上記で得られた第２の光学補償層を、ＴＡＣ保護フィルム（富士写真フィルム製、商品名：ＴＦ８０ＵＬ）／偏光子／ＴＡＣ保護フィルム（商品名：ＴＦ８０ＵＬ）の構成を有する偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第２の光学補償層付偏光板を得た。

（液晶パネルの作製）
ソニー製ハッピーベガ３２インチ液晶テレビ（ＶＡモード液晶セル搭載）から液晶セルを取り外し、当該液晶セルの視認側に上記第１の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、第１の光学補償層が液晶セル側になるように貼り付けた。液晶セルのバックライト側には、上記第２の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、第２の光学補償層が液晶セル側になるように貼り付けた。また、第１の光学補償層付偏光板の偏光子の延伸（吸収）軸と第２の光学補償層付偏光板の偏光子の延伸（吸収）軸とが互いに実質的に直交するように積層して、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルを用いて作製した液晶表示装置の、方位角４５°方向で極角を０°〜８０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図５（ａ）に示し、極角６０°方向で方位角０°〜３６０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図５（ｂ）に示す。また、コントラストの視野角依存性を図５（ｃ）のレーダーチャートに示す。

（比較例１）
第２の光学補償層の形成において、トリアセチルセルロース基材にポリイミド溶液を塗布後、１００℃で１０ｍｉｎ乾燥処理し、１５５℃で１．２倍延伸して第２の光学補償層を形成したこと、および、第１の光学補償層を用いずに液晶セルの視認側に偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕を貼り付けたこと以外は実施例１と同様にして、液晶パネルを得た。なお、得られた第２の光学補償層の５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。得られた液晶パネルを用いて作製した液晶表示装置の、方位角４５°方向で極角を０°〜８０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図６（ａ）に示し、極角６０°方向で方位角０°〜３６０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図６（ｂ）に示す。また、コントラストの視野角依存性を図６（ｃ）のレーダーチャートに示す。

（比較例２）
ノルボルネン系樹脂フィルム〔日本ゼオン製、商品名：ゼオノアＺＦ１４−１００〕を、１３５℃でＸ軸方向に１．２５倍、Ｙ軸方向に１．０３倍に延伸して第２の光学補償層として用いた。得られた第２の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝７５ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝６８ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝６７ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝１８８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１６８ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。得られた第２の光学補償層を、偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第２の光学補償層付偏光板を得た。

実施例１で用いた液晶セルと同様の液晶セルの視認側に偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。液晶セルのバックライト側には、上記で得られた第２の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、第２の光学補償層が液晶セル側になるように貼り付けた。また、液晶セルを挟む偏光子のそれぞれの延伸（吸収）軸が互いに実質的に直交するように積層して、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルを用いて作製した液晶表示装置の、方位角４５°方向で極角を０°〜８０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図７（ａ）に示し、極角６０°方向で方位角０°〜３６０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図７（ｂ）に示す。また、コントラストの視野角依存性を図７（ｃ）のレーダーチャートに示す。

（比較例３）
セルロース系樹脂フィルム〔コニカミノルタ製、商品名：ＫＣ８ＮＹＡＣＳ〕を第１の光学補償層および第２の光学補償層として用いた。当該セルロース系樹脂フィルムの面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝３７ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝４５ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝４９ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１５７ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。

上記のセルロース系樹脂フィルムを、偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板を得た。

上記の第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板を用いたこと以外は実施例１と同様にして、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルを用いて作製した液晶表示装置の、方位角４５°方向で極角を０°〜８０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図８（ａ）に示し、極角６０°方向で方位角０°〜３６０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図８（ｂ）に示す。また、コントラストの視野角依存性を図８（ｃ）のレーダーチャートに示す。

（比較例４）
ポリカーボネート系樹脂フィルム〔帝人製、商品名：ピュアエース〕を第１の光学補償層として用いた。当該ポリカーボネート系樹脂フィルムの光弾性係数は、６１×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）であり、面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝１０１ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝１４５ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝１５３ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝９９ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１４９ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚであった。

上記の第１の光学補償層を、偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第１の光学補償層付偏光板を得た。このとき、第１の光学補償層の遅相軸と偏光子の延伸軸（吸収軸）とが互いに実質的に直交するようにして積層した。

ノルボルネン系樹脂フィルム〔ＪＳＲ製、商品名：ＡＲＴＯＮ〕を、１７５℃で縦横に１．３倍に二軸延伸して第２の光学補償層として用いた。当該第２の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝２ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝２ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝２ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝２４４ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝２２０ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝２１８ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであった。

上記第１の光学補償層付偏光板および上記第２の光学補償層を用いたこと以外は実施例１と同様にして、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルを用いて作製した液晶表示装置の、方位角４５°方向で極角を０°〜８０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図９（ａ）に示し、極角６０°方向で方位角０°〜３６０°に変化させたときのカラーシフトの測定結果を図９（ｂ）に示す。また、コントラストの視野角依存性を図９（ｃ）のレーダーチャートに示す。

図５〜９から明らかなように、実施例１で得られた液晶パネルは、比較例１〜４で得られた液晶パネルに比べて、カラーシフトが優れていることがわかる。

図５〜９から明らかなように、本発明の実施例の液晶表示装置は、比較例の液晶表示装置に比べて、正面コントラストおよび斜め方向のコントラストの両方が優れていることがわかる。

実施例１および比較例４の液晶パネルを用いて液晶表示装置を作製し、黒画像表示時に表示ムラが発生しているか観察した。その観察写真を図１０に示す。図１０（ａ）に示すように、実施例１の液晶表示装置は、表示ムラが良好に抑制されていた。一方、図１０（ｂ）に示すように、比較例４の液晶表示装置は、画面全体でムラ（ところどころに光抜け）が発生した。なお、図１０の写真から明らかなように、本発明の液晶表示装置は、比較例の液晶表示装置に比べて青みが格段に小さかった。

本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置は、液晶テレビ、携帯電話等に好適に適用され得る。

本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。 本発明の別の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。 本発明の液晶表示装置がＶＡモードの液晶セルを採用する場合に、液晶層の液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。 本発明の液晶表示装置がＯＣＢモードの液晶セルを採用する場合に、液晶層の液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。 （ａ）および（ｂ）は本発明の実施例１の液晶パネルのカラーシフトの測定結果であり、（ｃ）は本発明の実施例１の液晶パネルのコントラストの視野角依存性を示すレーダーチャートである。 （ａ）および（ｂ）は比較例１の液晶パネルのカラーシフトの測定結果であり、（ｃ）は比較例１の液晶パネルのコントラストの視野角依存性を示すレーダーチャートである。 （ａ）および（ｂ）は比較例２の液晶パネルのカラーシフトの測定結果であり、（ｃ）は比較例２の液晶パネルのコントラストの視野角依存性を示すレーダーチャートである。 （ａ）および（ｂ）は比較例３の液晶パネルのカラーシフトの測定結果であり、（ｃ）は比較例３の液晶パネルのコントラストの視野角依存性を示すレーダーチャートである。 （ａ）および（ｂ）は比較例４の液晶パネルのカラーシフトの測定結果であり、（ｃ）は比較例４の液晶パネルのコントラストの視野角依存性を示すレーダーチャートである。 （ａ）は本発明の実施例１の液晶表示装置の黒画像表示時の観察写真であり、（ｂ）は比較例４の液晶表示装置の黒画像表示時の観察写真である。

符号の説明

１０ 液晶セル
２０ 第１の偏光子
２０’ 第２の偏光子
３０ 第１の光学補償層
４０ 第２の光学補償層
５０ 保護層
１１、１１’ 基板
１２ 液晶層
１００ 液晶パネル

Claims (9)

1. 液晶セルと；該液晶セルの一方の側に配置された第１の偏光子と；該液晶セルの他方の側に配置された第２の偏光子と；該第１の偏光子または該第２の偏光子の該液晶セル側に配置された保護層と；該第１の偏光子と該第２の偏光子との間に配置された、第１の光学補償層および第２の光学補償層とを備え、
   該保護層が、下記式（１）および（２）の関係を有し、
   該第１の光学補償層が、該保護層の液晶セル側に配置され、光弾性係数の絶対値が４０×１０^−１２（ｍ^２／Ｎ）以下であり、かつ、下記式（３）、（４）および（５）の関係を有し、
   該第２の光学補償層が、下記式（６）および（７）の関係を有する、液晶パネル：
   ０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦１０ｎｍ ・・・（１）
   ０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦２０ｎｍ ・・・（２）
   Δｎｄ（３８０）＜Δｎｄ（５５０）＜Δｎｄ（７８０）・・・（３）
   ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚ ・・・（４）
   ９０ｎｍ≦Δｎｄ（５５０）≦２００ｎｍ ・・・（５）
   Ｒｔｈ（３８０）＞Ｒｔｈ（５５０）＞Ｒｔｈ（７８０）・・・（６）
   ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ ・・・（７）
   ここで、Δｎｄ（３８０）、Δｎｄ（５５０）およびΔｎｄ（７８０）は、それぞれ、２３℃における波長３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍで測定した面内の位相差を表し、Ｒｔｈ（３８０）、Ｒｔｈ（５５０）およびＲｔｈ（７８０）は、それぞれ、２３℃における波長３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍで測定した厚み方向の位相差を表し、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ、遅相軸方向、進相軸方向および厚み方向の屈折率を表す。
2. 前記第１の光学補償層および前記第２の光学補償層が、前記液晶セルを基準にしてそれぞれ別の側に配置されている、請求項１に記載の液晶パネル。
3. 前記第１の光学補償層が、Δｎｄ（７８０）／Δｎｄ（５５０）＞１．１０の関係を有する、請求項１または２に記載の液晶パネル。
4. 前記第１の光学補償層がセルロース系材料を含む、請求項１から３のいずれかに記載の液晶パネル。
5. 前記セルロース系材料のアセチル置換度（ＤＳａｃ）およびプロピオニル置換度（ＤＳｐｒ）が、２．０≦ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ≦３．０であり、１．０≦ＤＳｐｒ≦３．０である、請求項４に記載の液晶パネル。
6. 前記第２の光学補償層が、Ｒｔｈ（７８０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９５の関係を有する、請求項１から５のいずれかに記載の液晶パネル。
7. 前記第２の光学補償層を構成する材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも１種の非液晶性ポリマーである、請求項１から６のいずれかに記載の液晶パネル。
8. 前記液晶セルがＶＡモードまたはＯＣＢモードである、請求項１から７のいずれかに記載の液晶パネル。
9. 請求項１から８のいずれかに記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。