JP2003113317A

JP2003113317A - 光学フィルム及びそれを用いた偏光板と表示装置と紫外線吸収性ポリマー

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Publication number: JP2003113317A
Application number: JP2001308587A
Authority: JP
Inventors: Kaori Ono; 香織大野; Isamu Michihashi; 勇道端; Akio Miura; 紀生三浦
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-10-04
Filing date: 2001-10-04
Publication date: 2003-04-18
Anticipated expiration: 2021-10-04
Also published as: JP3959999B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の目的は、紫外部の吸収特性、透明
性、耐久性（ブリードアウト故障）及び耐光性に優れた
光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置を提供
することにある。【解決手段】下記一般式（１）で表される紫外線吸収
剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フ
ィルム。【化１】〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ₁〜Ｒ₅は水素原
子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、
−ＣＯＮＲ₇−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ₇ＣＯ−を表し、
Ｒ₆は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基又はアリール基を表し、Ｒ₇は水素原子、アルキル
基又はアリール基を表す。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用途に利用さ
れる光学フィルムに関し、特に、液晶表示装置等に用い
られる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角
拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射
防止フィルムなどの各種機能フィルム、又、有機ＥＬデ
ィスプレイ等で使用される各種機能フィルム等にも利用
することができる光学フィルムとそれに用いる紫外線吸
収性ポリマーに関するものである。更に詳しくは、特定
の構造を有する紫外線吸収剤を含み、不要な着色がな
く、色再現性に優れ、耐久性、耐光性にも優れた光学フ
ィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置と紫外線吸収
性ポリマーに関する。

【０００２】

【従来の技術】上述の技術分野で用いられている光学フ
ィルムは、紫外線を含む光に晒されると分解が促進され
強度低下を引き起こすと同時に、変色により透明度が低
下するという問題を抱えていた。この為、高い透明性の
求められる光学フィルムでは、予めベンゾトリアゾール
系化合物或いはベンゾフェノン系化合物、シアノアクリ
レート系化合物、サリチル酸系化合物の紫外線吸収剤を
混入させることで紫外線による劣化を防止していた。し
かしながら、これら従来の紫外線吸収剤の多くは溶解性
が低い為に、ブリードアウトが生じ易い、フィルム上で
析出し易い、ヘイズが上昇し透明性が低下する、更に
は、加熱加工時の蒸散により添加量が減少し紫外線吸収
能が低下するとともに、製造工程が汚染されてしまう
等、様々な問題を有していた。

【０００３】紫外線吸収剤に重合性基を導入し、単独重
合もしくは共重合を行って、紫外線吸収性ポリマーとす
ることで、それらの欠点を解消しようとする試みが、特
開昭６０−３８４１１号、同６２−１８１３６０号、特
開平３−２８１６８５号、同７−９０１８４号公報に記
載されている。また、光学フィルムとして、偏光板用保
護フィルムに紫外線吸収性ポリマーを含有させた例が、
特開平６−１４８４３０号公報に記載されている。

【０００４】それら記載された紫外線吸収性ポリマー
は、確かにブリードアウト及び析出防止、蒸散防止等に
はある程度効果があったが、紫外線吸収能力が十分では
なく、所望の紫外線吸収性能を得るためには多量の添加
量が必要であり、それら紫外線吸収性ポリマーを多量に
添加した場合、樹脂との相溶性が十分ではなく、十分な
透明度が得られない、或いはフィルム自身が黄色く着色
してしまう、或いは長期間保存した場合、紫外線吸収能
力が低下するなどの問題を抱えており、光学フィルムと
して実用化するのは困難であった。

【０００５】光学フィルムに求められる特性としては、
３８０ｎｍ以下の紫外光を十分に遮断すると同時に、４
００ｎｍより長波の光を十分に透過することが求められ
ており、様々な紫外線吸収剤が提案されている。

【０００６】例えば、２′−ヒドロキシフェニルベンゾ
トリアゾール系紫外線吸収剤にアミド基、カルバモイル
基、エステル基、アシルオキシ基が置換した紫外線吸収
剤は、例えば、米国特許第３，００４，８９６号、同第
３，１５９，６４６号、同第３，７６１，２７２号、同
第３，３９９，１７３号公報等に記載されているが、ア
ミド基、カルバモイル基、エステル基、アシルオキシ基
がフェノール環上に置換されていたり、それらの紫外線
吸収性モノマーから誘導されるポリマーを光学フィルム
に用いる例はこれまで知られていなかった。また、紫外
線吸収性モノマーから誘導されるポリマーと樹脂との相
溶性に関しては、何ら示唆されておらず、更に、これら
の特許に具体的に記載された紫外線吸収性ポリマーは、
乳化重合によって作られたポリマーラテックスであっ
て、これらは合成樹脂との相溶性が悪く、特に、セルロ
ース系樹脂と相溶せず、光学フィルム用途として用いる
には至っていないのが現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題に
鑑みてなされたものであり、その目的は光学フィルム用
途としての分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優
れ、十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れた
紫外線吸収剤、及び紫外線吸収性モノマーから誘導され
るポリマーを含有する光学フィルム及びそれを用いた偏
光板と表示装置とそれに用いる紫外線吸収性ポリマーを
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記課
題を解決することができる紫外線吸収剤を含む光学フィ
ルムについて鋭意検討した結果、その詳しい理由は解明
されていないが、特定の構造及び物性を有する紫外線吸
収剤を用いることにより、分光吸収性能に優れ、着色が
無く透明性に優れるなど、十分な紫外線吸収能力を有
し、長期耐候性に優れることを見出した。

【０００９】詳しくは、本発明者らは、鋭意研究の結
果、２′−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤のベンゾトリアゾール環上に特定の置換基
（例えば、アミド基、カルバモイル基、エステル基、ア
シルオキシ基等）が置換した場合に、優れた特性を有す
ることを見いだした。

【００１０】更に、これら特定の置換基を有するモノマ
ーから誘導されるポリマーを用いることにより、更に良
好な特性、例えば、高分子化によるブリードアウトの抑
制、蒸散による工程汚染の低減等の効果を有することを
見いだし、本発明に至った次第である。

【００１１】即ち、本発明の上記目的は、以下の手段に
より達成された。１．前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なく
とも１種を含有することを特徴とする光学フィルム。

【００１２】２．前記一般式（１）で表される紫外線吸
収剤が、前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤であ
ることを特徴とする前記１項に記載の光学フィルム。

【００１３】３．前記一般式（３）で表される紫外線吸
収性モノマーから誘導されるポリマーを含有することを
特徴とする光学フィルム。

【００１４】４．前記一般式（３）で表される紫外線吸
収モノマーが、前記一般式（４）で表される紫外線吸収
モノマーであることを特徴とする前記３項に記載の光学
フィルム。

【００１５】５．前記一般式（３）及び（４）で表され
る紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表される
紫外線吸収モノマーであることを特徴とする前記３又は
４項に記載の光学フィルム。

【００１６】６．前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，
０００以下であることを特徴とする前記３〜５項のいず
れか１項に記載の光学フィルム。

【００１７】７．前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜
７０質量％であることを特徴とする前記３〜６項のいず
れか１項に記載の光学フィルム。

【００１８】８．前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成
分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも
１種含有することを特徴とする前記３〜７項のいずれか
１項に記載の光学フィルム。

【００１９】９．セルロースエステルを含有することを
特徴とする前記１〜８項のいずれか１項に記載の光学フ
ィルム。

【００２０】１０．一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であ
り、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸
化珪素微粒子を含有することを特徴とする前記１〜９項
のいずれか１項に記載の光学フィルム。

【００２１】１１．膜厚が２０〜６５μｍであることを
特徴とする前記１〜１０項のいずれか１項に記載の光学
フィルム。

【００２２】１２．前記１〜１１項に記載の光学フィル
ムを用いることを特徴とする偏光板。

【００２３】１３．前記１〜１１項に記載の光学フィル
ムを用いることを特徴とする表示装置。

【００２４】１４．前記一般式（３）で表される紫外線
吸収性モノマーから誘導される紫外線吸収性ポリマー。

【００２５】１５．前記一般式（３）で表される紫外線
吸収性モノマーが、前記一般式（４）で表される紫外線
吸収性モノマーであることを特徴とする前記１４項に記
載の紫外線吸収性ポリマー。

【００２６】１６．前記一般式（３）及び（４）で表さ
れる紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表され
る紫外線吸収モノマーであることを特徴とする前記１４
又は１５項に記載の紫外線吸収性ポリマー。

【００２７】１７．前記紫外線吸収性モノマーから誘導
されるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３
０，０００以下であることを特徴とする前記１４〜１６
項のいずれか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。

【００２８】１８．前記紫外線吸収性モノマーから誘導
されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１
〜７０質量％であることを特徴とする前記１４〜１７項
のいずれか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。

【００２９】１９．前記紫外線吸収性モノマーから誘導
されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合
成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくと
も１種含有することを特徴とする前記１４〜１８項のい
ずれか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。

【００３０】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。請求項１に係る発明では、光学フィルムが前記一般
式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種を含
有することが特徴であり、また請求項２に係る発明で
は、光学フィルムが前記一般式（２）で表される紫外線
吸収剤の少なくとも１種を含有することが特徴である。

【００３１】以下、本発明に係る一般式（１）、一般式
（２）で表される紫外線吸収剤について、説明する。

【００３２】前記一般式（１）において、ｎは０〜３の
整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ₅同士は同じで
あっても異なっていても良く、また互いに連結して５〜
７員の環を形成していても良い。

【００３３】Ｒ₁〜Ｒ₅は、各々水素原子、ハロゲン原子
又は置換基を表す。ハロゲン原子としては、例えば、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げ
られ、好ましくはフッ素原子、塩素原子である。また、
置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、
メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル
基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル
基、３−ブテン−１−イル基など）、アリール基（例え
ば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロ
ロフェニル基など）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベン
ズオキサゾリル基など）、アルコキシ基（例えば、メト
キシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基な
ど）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラ
ゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキ
シ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、
ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシ
ル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイ
ル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリー
ルオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル
基など）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイ
ル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基
など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、
アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ
基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ
基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、スルホンアミド基（例えば、メタン
スルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など）、
スルファモイルアミノ基（例えば、ジメチルスルファモ
イルアミノ基など）、スルホニル基（例えば、メタンス
ルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル
基など）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファ
モイル基、ジメチルスルファモイル基など）、スルホニ
ルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベン
ゼンスルホニルアミノ基など）、ウレイド基（例えば、
３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、
１，３−ジメチルウレイド基など）、イミド基（例え
ば、フタルイミド基など）、シリル基（例えば、トリメ
チルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチ
オ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基など）、アリー
ルチオ基（例えば、フェニルチオ基など）等が挙げられ
るが、好ましくは、アルキル基、アリール基である。

【００３４】一般式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₅で表され
る各基が、更に置換可能な基である場合、更に置換基を
有していてもよく、また、隣接するＲ₁〜Ｒ₄が互いに連
結して５〜７員の環を形成していてもよい。

【００３５】Ｒ₆は、水素原子、アルキル基、シクロア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又
はヘテロ環を表すが、アルキル基としては、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イ
ソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。また、上記
アルキル基は更にハロゲン原子、置換基を有していても
よく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基
としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、
ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基な
ど）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル
基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メト
キシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基な
ど）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルア
ミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、ア
ニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基
など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、
プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ
基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、
エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基な
ど）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシ
カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられ
る。

【００３６】シクロアルキル基としては、例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ア
ダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることがで
き、これらは無置換でも、置換されていても良い。

【００３７】アルケニル基としては、例えば、ビニル
基、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブ
テニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル
基、オレイル基などが挙げられるが、好ましくはビニル
基、１−メチル−２−プロペニル基である。

【００３８】アルキニル基としては、例えば、エチニル
基、ブタジイル基、フェニルエチニル基、プロパルギル
基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、
１，１−ジメチル−２−プロピニル基などが上げられる
が、好ましくは、エチニル基、プロパルギル基である。

【００３９】アリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、
上記アリール基は更にハロゲン原子、置換基を有してい
てもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置
換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、
メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル
基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイ
ル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基
など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、
アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ
基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ
基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シ
アノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル
基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基な
ど）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシ
カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられ
る。

【００４０】ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベン
ズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ₆として、好まし
くはアルキル基である。

【００４１】一般式（１）において、Ｘは−ＣＯＯ−、
−ＣＯＮＲ₇−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ₇ＣＯ−を表す。

【００４２】Ｒ₇は水素原子、アルキル基、シクロアル
キル基、アリール基又はヘテロ環基を表すが、アルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ
−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基など
が挙げられる。かかるアルキル基は、更にハロゲン原
子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子として
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリー
ル基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル
基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、
アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、ア
ルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基
（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルア
ミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ
基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例
えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基な
ど）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例
えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、
ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例え
ば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリ
ールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニ
ル基など）が挙げられる。

【００４３】シクロアルキル基としては、例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ア
ダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることがで
き、これらは無置換でも、置換されていても良い。

【００４４】アリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、
かかるアリール基は更にハロゲン原子、置換基を有して
いてもよく、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基とし
ては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメ
チル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、
アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチ
ロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、
エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基な
ど）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基な
ど）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルア
ミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、ア
ニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基
など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、
プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ
基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、
エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基な
ど）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロ
イルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシ
カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基
（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられ
る。

【００４５】ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベン
ズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ₇として、好まし
くは水素原子である。

【００４６】前記一般式（２）において、ｎ、Ｒ₁〜Ｒ₅
及びＲ₆、Ｒ₇は、それぞれ一般式（１）のｎ、Ｒ₁〜Ｒ₅
及びＲ₆、Ｒ₇と同義である。

【００４７】以下、本発明で好ましく用いられる一般式
（１）又は（２）で表される紫外線吸収剤の代表例を例
示するが、これらに限定されるものではない。

【００４８】

【化６】

【００４９】

【化７】

【００５０】

【化８】

【００５１】

【化９】

【００５２】請求項３に係る発明では、光学フィルムが
前記一般式（３）で表される紫外線吸収性モノマーから
誘導されるポリマーを含有することが特徴であり、また
請求項４に係る発明では、光学フィルムが前記一般式
（４）で表される紫外線吸収性モノマーから誘導される
ポリマーを含有することが特徴であり、更に請求項５に
係る発明では、前記一般式（３）及び（４）で表される
紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表される紫
外線吸収モノマーであることが特徴である。

【００５３】本発明者らは、前記一般式（１）又は
（２）で示されるようなベンゾトリアゾール環にオキシ
カルボニル基、アミド基、カルバモイル基、アシルオキ
シ基を有する構造の紫外線吸収剤を用いることにより、
分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れるなど、
十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れること
を見出したが、更に鋭意検討を進めた結果、類似の構造
を有する紫外線吸収性ポリマーにおいても、同様に分光
吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れるなど、十分
な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れることも見
出した。

【００５４】以下、本発明に係る一般式（３）〜（５）
で表される紫外線吸収性モノマーについて、詳細に説明
する。

【００５５】一般式（３）及び（４）において、ｎ、Ｒ
₈〜Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₄は、それぞれ一般式（１）及び
（２）のｎ、Ｒ₁〜Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇と同義であり、同様
に、一般式（５）において、ｎ、Ｒ₁₅〜Ｒ₁₉及びＲ
₂₁は、それぞれ一般式（１）及び（２）のｎ、Ｒ₁〜
Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇と同義である。

【００５６】一般式（３）、（４）で表される紫外線吸
収性モノマーのＲ₈〜Ｒ₁₄で表される基のいずれか一つ
は重合性基を部分構造として有する。また、一般式
（５）で表される紫外線吸収性モノマーのＲ₂₀で表され
る基は重合性基を部分構造として有する。

【００５７】本発明でいう重合性基とは、不飽和エチレ
ン系重合性基又は二官能系重縮合性基を意味するが、好
ましくは不飽和エチレン系重合性基である。不飽和エチ
レン系重合性基の具体例としては、ビニル基、アリル
基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、
アクリルアミド基、メタクリルアミド基、シアン化ビニ
ル基、２−シアノアクリルオキシ基、１，２−エポキシ
基、ビニルベンジル基、ビニルエーテル基などが挙げら
れるが、好ましくは、ビニル基、アクリロイル基、メタ
クリロイル基アクリルアミド基、メタクリルアミド基で
ある。また、重合性基を部分構造として有するとは、上
記重合性基が直接、もしくは２価以上の連結基によって
結合していることを意味し、２価以上の連結基とは、例
えば、アルキレン基（例えば、メチレン、１，２−エチ
レン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、シクロ
ヘキサン−１，４−ジイルなど）、アルケニレン基（例
えば、エテン−１，２−ジイル、ブタジエン−１，４−
ジイルなど）、アルキニレン基（例えば、エチン−１，
２−ジイル、ブタン−１，３−ジイン−１，４−ジイル
など）、少なくとも一つの芳香族基を含む化合物から誘
導される連結基（例えば、置換もしくは無置換のベンゼ
ン、縮合多環炭化水素、芳香族複素環、芳香族炭化水素
環集合、芳香族複素環集合など）、ヘテロ原子連結基
（酸素、硫黄、窒素、ケイ素、リン原子など）が挙げら
れるが、好ましくは、アルキレン基、及び、ヘテロ原子
で連結する基である。これらの連結基は更に組み合わせ
て複合基を形成してもよい。

【００５８】請求項６に係る発明では、紫外線吸収性モ
ノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２，
０００以上３０，０００以下であることが特徴であり、
好ましくは５，０００以上２０，０００以下である。

【００５９】本発明に係る紫外線吸収性ポリマーの重量
平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することが
できる。そのような分子量調節方法としては、例えば四
塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オ
クチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。
重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃か
ら１００℃で行われる。

【００６０】本発明に係る紫外線吸収性ポリマーは、紫
外線吸収性モノマーのみの単重合体であっても、他の重
合性モノマーとの共重合体であってもよいが、共重合可
能な他の重合性モノマーとしては、例えば、スチレン誘
導体（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メ
チルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、ビニルナフタレンなど）、アクリル酸エステル誘導
体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−
ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルな
ど）、メタクリル酸エステル誘導体（例えば、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メ
タクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタク
リル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等）、ア
ルキルビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルな
ど）、アルキルビニルエステル（例えば、ギ酸ビニル、
酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリ
ン酸ビニルなど）、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メ
タクリルアミドなどの不飽和化合物が挙げられる。好ま
しくは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸
ビニルである。

【００６１】請求項８に係る発明では、紫外線吸収性モ
ノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマ
ー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノ
マーを少なくとも１種含有することが特徴である。

【００６２】親水性のエチレン性不飽和モノマーとして
は、親水性で分子中に重合可能な不飽和二重結合を有す
るもので有れば特に制限されず、例えば、アクリル酸或
いはメタクリル酸等の不飽和カルボン酸、若しくはヒド
ロキシル基又はエーテル結合を有する、アクリル酸若し
くはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−
ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピ
ル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸
２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロ
ピル、２，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロピルメタ
クリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アク
リル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレングリ
コールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチル
など）、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）ア
クリルアミド等の（Ｎ−置換）（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン
等が挙げられる。

【００６３】親水性のエチレン性不飽和モノマーとして
は、水酸基若しくはカルボキシル基を分子内に有する
（メタ）アクリレートが好ましく、メタクリル酸２−ヒ
ドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピ
ル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−
ヒドロキシプロピルが特に好ましい。

【００６４】これらの重合性モノマーは、１種、または
２種以上併用して紫外線吸収性モノマーと共重合させる
ことができる。

【００６５】本発明に係る紫外線吸収性共重合ポリマー
の重合方法は、特に問わないが、従来公知の方法を広く
採用することができ、例えば、ラジカル重合、アニオン
重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法
の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が
挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、
アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾ
イル、過酸化水素などが挙げられる。重合溶媒は特に問
わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香
族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなど
のハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等
のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢
酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン系
溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一
系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈
澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重
合する懸濁重合を行うこともできる。但し、乳化重合に
よって得られる紫外線吸収性ラテックスは光学フィルム
用途として適していない。

【００６６】上記紫外線吸収性モノマー、これと共重合
可能な重合性モノマー及び親水性のエチレン性不飽和モ
ノマーの使用割合は、得られる紫外線吸収性共重合ポリ
マーと他の透明ポリマーとの相溶性、光学フィルムの透
明性や機械的強度に対する影響を考慮して適宜選択され
る。

【００６７】請求項７に係る発明では、紫外線吸収性モ
ノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマ
ーの含有量が１〜７０質量％であることが特徴であり、
好ましくは、５〜６０質量％である。紫外線吸収性ポリ
マーにおける紫外線モノマーの含有量が１質量％未満の
場合、所望の紫外線吸収性能を満たそうとした場合に多
量の紫外線吸収性ポリマーを使用しなければならず、ヘ
イズの上昇或いは析出などにより透明性が低下し、フィ
ルム強度を低下させる要因となる。一方、紫外線吸収性
ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が７０質量％
を超えた場合、他のポリマーとの相溶性が低下するた
め、透明な光学フィルムを得ることができない。また、
溶媒に対する溶解度が低くなり、フィルム作製の際の作
業性、生産性が劣る。

【００６８】親水性エチレン性不飽和モノマーは、上記
紫外線吸収性共重合体中に、０．１〜５０質量％含まれ
ることが好ましい。０．１質量％以下では、親水性エチ
レン性不飽和モノマーによる相溶性の改良効果が現れ
ず、５０質量％より多いと共重合体の単離精製が困難と
なる。親水性エチレン性不飽和モノマーの更に好ましい
含量は０．５〜２０質量％である。紫外線吸収性モノマ
ー自身に親水性基が置換している場合、親水性の紫外線
吸収性モノマーと、親水性エチレン性不飽和モノマーの
合計の含量が上記範囲内であることが好ましい。

【００６９】紫外線吸収性モノマー及び親水性モノマー
の好ましい含有量を満たすために、両者に加え、更に分
子中に親水性基を有さないエチレン性不飽和モノマーを
共重合させることが好ましい。

【００７０】紫外線吸収性モノマー及び（非）親水性エ
チレン性不飽和モノマーは、各々２種以上混合して共重
合させても良い。

【００７１】以下、本発明に好ましく用いられる紫外線
吸収性モノマーの代表例を例示するが、これらに限定さ
れるものではない。

【００７２】

【化１０】

【００７３】

【化１１】

【００７４】

【化１２】

【００７５】

【化１３】

【００７６】

【化１４】

【００７７】

【化１５】

【００７８】

【化１６】

【００７９】本発明に用いられる紫外線吸収剤、紫外線
吸収性モノマー及びその中間体は公知の文献を参照して
合成することができる。例えば、米国特許第３，０７
２，５８５号、同３，１５９，６４６号、同３，３９
９，１７３号、同３，７６１，２７２号、同４，０２
８，３３１号、同５，６８３，８６１号、ヨーロッパ特
許第８６，３００，４１６号、特開昭６３−２２７５７
５号、同６３−１８５９６９号、ＰｏｌｙｍｅｒＢｕ
ｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２）、１６９−１７６及びＣ
ｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓＶ．１０９、Ｎ
ｏ．１９１３８９などを参照して合成することができ
る。

【００８０】本発明に係る紫外線吸収剤及び紫外線吸収
性ポリマーは、他の透明ポリマーに混合する際に、必要
に応じて低分子化合物もしくは高分子化合物、無機化合
物などを一緒に用いることもできる。例えば、本発明に
係る紫外線吸収剤と他の低分子紫外線吸収剤とを同時に
他の透明ポリマーに混合したり、本発明に係る紫外線吸
収性ポリマーと他の低分子紫外線吸収剤とを、同時に他
の透明ポリマーに混合することも好ましい態様の一つで
ある。同様に、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤などの添加
剤を同時に混合することも好ましい態様の一つである。

【００８１】光学フィルムへの本発明に係る紫外線吸収
剤及び紫外線吸収性ポリマーの添加方法は、光学フィル
ム中に含有させてもよいし、光学フィルム上に塗布して
もよい。光学フィルム中に含有させる場合、直接添加し
ても良いが、生産性の優れるインライン添加が好まし
い。インライン添加は、予め有機溶媒（例えば、メタノ
ール、エタノール、メチレンクロライドなど）に溶解さ
せた後、インラインミキサー等でドープ組成中に添加す
る方法である。

【００８２】本発明に係る紫外線吸収剤及び紫外線吸収
性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件などに
より一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、光
学フィルム１ｍ²当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、
０．４〜２．０が更に好ましく、０．５〜１．５が特に
好ましい。また、紫外線吸収ポリマーである場合には、
光学フィルム１ｍ²当たり０．６〜９．０ｇが好まし
く、１．２〜６．０が更に好ましく、１．５〜３．０が
特に好ましい。

【００８３】更に、液晶劣化防止の観点から、波長３８
０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶
表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少な
いものが好ましい。本発明においては、特に、波長３８
０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４
％以下がさらに好ましく、１％以下であることが特に好
ましい。

【００８４】また、本発明においては、従来公知の紫外
線吸収剤も併せて用いることもできる。従来公知の紫外
線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、サリ
チル酸系紫外線吸収剤（フェニルサリシレート、ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルサリシレート等）或いはベンゾフェノン
系紫外線吸収剤（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベ
ンゾフェノン等）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
（２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−
５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒ
ｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール等）、シア
ノアクリレート系紫外線吸収剤（２′−エチルへキシル
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチ
ル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシ
フェニル）−アクリレート等）、トリアジン系紫外線吸
収剤、或いは特開昭５８−１８５６７７号、同５９−１
４９３５０号記載の化合物、ニッケル錯塩系化合物、無
機粉体などが挙げられる。

【００８５】本発明に係る紫外線吸収剤と共に用いられ
る従来公知の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏
光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤
が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤が、特に好ましい。

【００８６】また、本発明においては、従来公知の紫外
線吸収性ポリマーを用いることもできる。従来公知の紫
外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例
えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させた
ポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合
させたポリマーなどが挙げられる。具体的には、ＲＵＶ
Ａ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量
比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質
量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍなどが挙げられ
る。

【００８７】次いで、本発明の光学フィルムの詳細につ
いて説明する。本発明の光学フィルムとしては、特に限
定されるものではなく、公知の透明樹脂フィルムの中か
ら適宜選択して用いることができる。この様な透明プラ
スチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレ
フタレートやポリエチレンナフタレートの様なポリエス
テルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレン
フィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィル
ム、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセ
テートプロピオネートフィルム、セルロースアセテート
ブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩
化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィル
ム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレン
フィルム、シンジオタクチックポリスチレン系フィル
ム、ノルボルネン樹脂フィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ポリアリレートフィルム、ポリメチルメタアクリ
レートフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリオレ
フィン系ノルボルネン樹脂フィルム、ポリメチルペンテ
ンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエ
ーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィル
ム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィル
ム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリル
フィルムを挙げることができるが、本発明においては、
特にセルローストリアセテートフィルムの他に、セルロ
ースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、
セルロースアセテートフタレート、セルロースプロピオ
ネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロ
ースエステルフィルムを用いることが好ましい。

【００８８】請求項９に係る発明では、光学フィルムと
して、セルロースエステルを含有していることが特徴で
ある。

【００８９】次いで、本発明の好ましい態様であるセル
ロースエステルフィルムの製造方法について説明する。

【００９０】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の製造に用いられる好ましい製膜工程としては、下記に
示す溶解工程、流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾
燥工程及び巻き取り工程からなる。以下に、各々の工程
について説明する。

【００９１】（溶解工程）本発明において、セルロース
エステル溶液のことを、セルロースエステルドープ又は
単にドープという。溶解工程とは、セルロースエステル
のフレークに、後述の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解
釜中でフレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成す
る工程である。

【００９２】本発明では、ドープ中の固形分濃度は１５
質量％以上とすることが好ましく、特に１８〜３５質量
％のものが好ましく用いられる。

【００９３】ドープ中の固形分濃度が高すぎるとドープ
の粘度が高くなりすぎ、流延時にシャークスキンなどが
生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３５
質量％以下であることが望ましい。

【００９４】ドープ粘度は、１０〜５０Ｐａ・ｓの範囲
に調整されることが好ましい。溶解には、常圧で行う方
法、好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）の沸点以下で行
う方法、上記の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、
冷却溶解法で行う方法、高圧で行う方法等種々の溶解方
法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰しな
い圧力をかけて溶解する方法としては、４０．４〜１２
０℃で０．１１〜１．５０ＭＰａに加圧することで発泡
を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。

【００９５】本発明に用いられるセルロースエステルと
しては、セルロースの低級脂肪酸エステルが好ましく用
いられる。

【００９６】セルロースエステルの低級脂肪酸エステル
における低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸
を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロース
プロピオネート、セルロースブチレート等、又特開平１
０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第
２，３１９，０５２号等に記載されているセルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート等の混合脂肪酸エステルなどがセルロースの低級脂
肪酸エステルの例として挙げられる。特に好ましくは、
総置換度が２．５５〜２．８５のセルロースエステルが
好ましく用いられる。

【００９７】上記脂肪酸の中でも、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用
いられるが、本発明に係るセルロースエステルフィルム
の場合には、フィルム強度の観点から、特に重合度２５
０〜４００のものが好ましく用いられる。

【００９８】本発明に係るセルロースエステルフィルム
は、総置換度が２．５〜３．０のセルロースエステルが
好ましく用いられるが、特に総置換度が２．５５〜２．
８５のセルロースエステルが好ましく用いられる。総置
換度が２．５５以上になると本発明に係る一般式（１）
で示される紫外線吸収剤を含むフィルムの機械強度が増
加し、２．８５以下になるとセルロースエステルの溶解
性が向上したり、異物の発生が低減されるため、より好
ましい。

【００９９】セルロースアセテートプロピオネートの場
合、アセチル基置換度をＸ、プロピオニル基置換度をＹ
とすると２．５５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５１．５≦Ｘ≦２．４の範囲にあるものが好ましく用いられる。

【０１００】セルロースエステルは、綿花リンターから
合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成さ
れたセルロースエステル、それ以外の原料から合成され
たセルロースエステルを単独或いは混合して用いること
ができる。

【０１０１】ドープを調製する際に使用される溶媒とし
ては、セルロースエステルを溶解できる溶媒であれば特
に限定はされないが、又単独で溶解できない溶媒であっ
ても他の溶媒と混合することにより、溶解できるもので
あれば使用することができる。一般的には、良溶媒であ
るメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒か
らなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を４
〜３０質量％含有するものが好ましく用いられる。

【０１０２】使用できる良溶媒としては、例えば、メチ
レンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソ
ラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エ
チル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，
３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−
ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プ
ロパノール、ニトロエタン等を挙げることができるが、
メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソ
ラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好
ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。酢
酸メチルを用いると、得られるフィルムのカールが少な
くなるため特に好ましい。

【０１０３】セルロースエステルの貧溶媒としては、例
えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
ｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノ
ール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素原子数１〜８のア
ルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸プロピル、モノクロルベンゼン、
ベンゼン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、メチ
ルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル
等を挙げることができ、これらの貧溶媒は単独もしくは
２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。

【０１０４】本発明に係るセルロースエステルフィルム
の製造において、セルロースエステルを溶解する際に冷
却溶解法を用いることも好ましい。冷却溶解方法として
は、例えば、特開平９−９５５３８号、同９−９５５４
４号、同９−９５５５７号に記載の方法を使用すること
ができる。又、特開平１１−２１３７９号に記載の高圧
溶解方法も好ましく使用できる。

【０１０５】溶解後のセルロースエステル溶液（ドー
プ）を濾材で濾過した後、脱泡してポンプで次工程に送
ることが好ましく、又、その際、ドープ中には、可塑
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、微粒子等が、適
宜添加される。

【０１０６】これらの添加物は、セルロースエステル溶
液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加
してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。

【０１０７】本発明の光学フィルムには、可塑剤を添加
することができる。これらは本発明に係る一般式（１）
で表される紫外線吸収剤と併用することができる。

【０１０８】用いることのできる可塑剤としては、例え
ば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑
剤、クエン酸エステル系可塑剤などを用いることができ
るがこれらに限定されるものではない。リン酸エステル
系では、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレ
ジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、
オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニ
ルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチ
ルホスフェート等があり、フタル酸エステル系として
は、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフ
タレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレ
ート、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタ
リルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコ
レート等があり、クエン酸エステル系可塑剤としては、
例えば、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシト
レート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ
−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エ
チルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることがで
きる。

【０１０９】これらの可塑剤は、単独で用いてもよく、
また必要に応じて２種類以上を併用して用いてもよい。
又、可塑剤の使用量は、セルロースエステルに対して１
〜３０質量％含有させることができ、好ましくは２〜２
５質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。

【０１１０】本発明の光学フィルムにおいては、上記可
塑剤の他にも可塑剤と同様の作用を示す添加剤が含有さ
せることができる。これらの添加剤としては、例えば、
セルロースエステルフィルムを可塑化することのできる
低分子有機化合物であれば、可塑剤と同様の効果を得る
ことができる。これらの成分は可塑剤に比べ直接フィル
ムを可塑化する目的で添加されるものではないが、量に
応じて上記可塑剤と同様の作用を示す。

【０１１１】又、本発明においては、フィルムの色味を
調整するために、例えば、青色染料等を添加剤として用
いてもよい。好ましい染料として、アンスラキノン系染
料が挙げられる。アンスラキノン系染料は、アンスラキ
ノンの１位から８位迄の位置に任意の置換基を有するこ
とができる。好ましい置換基としては、置換されてもよ
いアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、
又は水素原子が挙げられる。これらの染料のフィルムへ
の添加量は、フィルムの透明性を維持するため０．１〜
１０００μｇ／ｍ²、好ましくは１０〜１００μｇ／ｍ²
である。

【０１１２】また、本発明の光学フィルムには、マット
剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用
される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸
化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、ク
レイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸
カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム
及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子
は、ケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、
請求項４に係る発明では、一次平均粒子径が２０ｎｍ以
下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であ
る二酸化珪素微粒子を用いることが特徴である。特に、
本発明の光学フィルムでは、二酸化珪素の微粒子を含む
ことにより、本発明に係る紫外線吸収剤と二酸化珪素の
微粒子を含むセルロースエステル溶液を用いて流延製膜
することによって、セルロースエステル溶液中の微粒子
の凝集に起因した異物故障が著しく低減されるため、特
に好ましい。

【０１１３】二酸化珪素微粒子の一次粒子平均径として
は、５〜１６ｎｍがより好ましく、５〜１２ｎｍがさら
に好ましい。一次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低
く好ましい。また、見かけ比重は９０〜２００ｇ／リッ
トルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルが更に好
ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作る
ことが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ま
しい。

【０１１４】マット剤の添加量は１ｍ²当たり０．０１
〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ま
しく、０．１０〜０．１８ｇが特に好ましい。

【０１１５】二酸化珪素微粒子としては、例えば、日本
アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、Ｒ９
７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３０
０、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられ、
この中でも、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが一
次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が
７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であ
り、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を
さげる効果が大きいため特に好ましい。

【０１１６】また、酸化ジルコニウムの微粒子として
は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日
本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使
用することができる。また、ポリマーの例として、シリ
コーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが
できる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状
構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０
３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１
２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商
品名で市販されており、使用することができる。

【０１１７】これら微粒子は、通常平均粒径が０．０１
〜１．０μｍの二次粒子を形成させることが好ましく、
０．１〜０．８μｍがさらに好ましく、０．２〜０．５
μｍが最も好ましい。これらの微粒子はフィルム中で
は、一次粒子の凝集体として存在しフィルム表面に０．
０１〜１．０μｍの凹凸を形成させる。これらの微粒子
の含有量は、光学フィルムに対して０．００５〜０．３
質量％が好ましく、０．０５〜０．２質量％が好まし
く、０．１〜０．２質量％が最も好ましい。

【０１１８】本発明光学フィルムを得るため、微粒子の
分散液を調製する方法としては、例えば、以下に示す３
つの方法が挙げられる。

【０１１９】〔調製方法Ａ〕溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製した
後、これをドープ液に加えて撹拌する方法。

【０１２０】〔調製方法Ｂ〕溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製し、こ
れとは別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹
拌溶解する。これに上記微粒子分散液を加えて撹拌して
微粒子添加液を調製した後、これをインラインミキサー
でドープ液と十分混合する方法。

【０１２１】〔調製方法Ｃ〕溶剤に少量のセルロースエ
ステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分
散機で分散を行い、微粒子添加液を調製した後、これを
インラインミキサーでドープ液と十分混合する方法。

【０１２２】調製方法Ａは、二酸化珪素微粒子の分散性
に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにく
い点で優れているが、中でも、調製方法Ｂは二酸化珪素
微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しに
くい等、両方に優れている点で好ましい調製方法であ
る。

【０１２３】〈分散方法〉二酸化珪素微粒子を溶剤など
と混合して分散する際、二酸化珪素の濃度は５〜３０質
量％であることが好ましく、１０〜２５質量％が更に好
ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は
高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があ
り、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

【０１２４】使用される溶剤は、低級アルコール類とし
ては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の
溶媒として、特に限定されないが、セルロースエステル
の製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

【０１２５】このようにして得られたドープを用い、以
下に説明する流延工程を経てセルロースエステルフィル
ムを作製することができる。

【０１２６】（流延工程）上記工程で調製したドープ
を、加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、
流延位置において、無限に移送する無端の金属ベルト或
いは回転する金属ドラムの流延用支持体（以降、単に支
持体ということもある）上に、加圧ダイからドープを流
延する工程である。流延用支持体の表面は鏡面となって
いる。

【０１２７】その他の流延する方法としては、例えば、
流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクタ
ーブレード法、或いは逆回転するロールで膜厚を調節す
るリバースロールコーターによる方法等があるが、口金
部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加
圧ダイが好ましい。加圧ダイには、例えば、コートハン
ガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられ
る。

【０１２８】製膜速度を上げるため、加圧ダイを流延用
支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して塗布して
もよい。或いは、ダイの内部をスリットで分割し、組成
の異なる複数のドープ液を同時に流延して、積層構造の
セルロースエステルフィルムを得ることもできる。

【０１２９】このように、得られたドープをベルト又は
ドラム等の支持体上に流延し、製膜するが、本発明にお
いては、特に、ベルトを用いた溶液流延製膜法が、特に
有効である。これは、後述のように支持体上での乾燥条
件を細かく調整することが容易な点にある。

【０１３０】（溶媒蒸発工程）流延用支持体上にドープ
を流延し、形成されたドープ膜（以下、ウェブともい
う）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程
である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ表面側から風を
吹かせる方法及び／又は支持体の裏面から液体により伝
熱させる方法、輻射熱により表裏面から伝熱する方法等
があるが、裏面液体伝熱の方法が、乾燥効率の点で好ま
しい。また、それらを組み合わせる方法も好ましい。流
延後、支持体上のウェブは、４０〜１００℃の雰囲気下
で、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１０
０℃の雰囲気に維持するには、この温度の温風をウェブ
上面に当てるか、あるいは赤外線等の手段により加熱す
ることが好ましい。

【０１３１】本発明の光学フィルムは、流延から３０〜
９０秒以内でウェブを支持体から剥離することが好まし
い。３０秒未満で剥離すると、フィルムの面品質が低下
するだけでなく、透湿性の点でも好ましくない。逆に、
９０秒を越えて乾燥させると、剥離性の悪化などにより
面品質の低下や、フィルムに強いカールが発生するため
好ましくない。

【０１３２】（剥離工程）支持体上で溶媒が蒸発したウ
ェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥
離されたウェブは次工程に送られる。剥離する時点での
ウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると、
剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてか
ら剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。

【０１３３】支持体上の剥離位置における温度は、好ま
しくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０
℃である。剥離位置におけるウェブの残留溶媒量は２５
〜１２０質量％が好ましく、更に好ましくは４０〜１０
０質量％である。

【０１３４】本発明に係るウェブの残留溶媒量は、下記
式で定義される。残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱
処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００％尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃
で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【０１３５】上記のように剥離時の残留溶媒量を調整す
るには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、ウ
ェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流
延用支持体上の剥離位置における温度を上記の温度範囲
に設定することが好ましい。支持体温度を制御するに
は、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例え
ば、液体による裏面伝熱方法が好ましい。

【０１３６】輻射熱や熱風等による伝熱方法は支持体温
度のコントロールが難しく、好ましい方法とはいえない
が、ベルト（支持体）マシンにおいて、移送するベルト
が下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベルト温
度を調節することができる。

【０１３７】支持体の温度は、加熱手段を分割すること
によって、部分的に支持体温度を変えることができ、流
延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度
とすることができる。

【０１３８】製膜速度を上げる方法（例えば、残留溶媒
量ができるだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げ
ることができる）として、残留溶媒が多くとも剥離でき
るゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。ゲル流延
法には、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒
を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温
度を低めてゲル化する方法等がある。又、ドープ中に金
属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ膜を強
くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げること
もできる。

【０１３９】残留溶媒量がより多い時点で剥離する場
合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なった
り、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速
度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。
支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９
６〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、剥離の際にシワ
が入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下で剥離することが好
ましく、更には、剥離できる最低張力〜１６７Ｎ／ｍ、
次いで、最低張力〜１３７Ｎ／ｍで剥離することが好ま
しいが、特に好ましくは、最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥
離することである。剥離張力が低いほど、面内リターデ
ーションＲ０が低く保てるため好ましい。面内リターデ
ーションＲ０は２０ｎｍ未満であることが好ましく、更
には、１０ｎｍ未満、次いで、５ｎｍ未満であることが
好ましいが、最も好ましくは０〜１ｎｍである。

【０１４０】本発明において、面内リターデーションＲ
０は、例えば、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ
（王子計測機器（株）製）を用いて、５９０ｎｍの波長
において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ
ｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。又、膜厚方
向のリターデーション値Ｒｔは０〜３００ｎｍのものが
得られ、更に好ましくは０〜１５０ｎｍ、より好ましく
は０〜７０ｎｍのものが用途に応じて好ましく得られ
る。Ｒ０及びＲｔは、下式により求めることができる。

【０１４１】Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄＲｔ＝〔（ｎｘ−ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄ本発明に係るセルロースエステルフィルムは、遅相軸方
向と製膜方向とのなす角度θ（ラジアン）と面内方向の
レターデーションＲ０が下記の関係にあり、特に偏光板
用保護フィルム等の光学フィルムとして好ましく用いら
れる。

【０１４２】Ｐ≦１−ｓｉｎ２（２θ）ｓｉｎ２（πＲ０／λ）Ｐ＝０．９９９９ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィ
ルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み
方向の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）であ
る。θはフィルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィル
ムの直尺方向）とのなす角度（°ラジアン）、λは上記
ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ、θを求める三次元屈折率測定の際の
光の波長５９０ｎｍ、πは円周率である。

【０１４３】（乾燥工程）乾燥工程は、ウェブを千鳥状
に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、あ
るいはクリップ又はピンでウェブの両端を保持して搬送
するテンター装置を用いて、巾保持しながらウェブを乾
燥する工程である。乾燥工程における搬送張力も、可能
な範囲で低めに維持することがＲ０が低く維持できるた
め好ましく、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、
更に好ましくは１７０Ｎ／ｍ以下であり、更に好ましく
は１４０Ｎ／ｍ以下であり、１００〜１３０Ｎ／ｍであ
ることが特に好ましい。特に、フィルム中の残留溶媒量
が少なくとも５質量％以下となるまで上記搬送張力以下
に維持することが効果的である。

【０１４４】乾燥の手段は、ウェブの両面に熱風を吹か
せるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェー
ブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は、
でき上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による
乾燥は、残留溶媒が８質量％以下から行うことが好まし
い。全体を通し、乾燥温度は、概ね４０〜２５０℃で行
われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好まし
い。

【０１４５】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。

【０１４６】この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥す
ることが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする
上で好ましい。この観点から、例えば、特開昭６２−４
６６２５号に示されているような、乾燥全工程或いは一
部の工程を巾方向にクリップ又はピンでウェブの巾両端
を巾保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれ
る）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを
用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。

【０１４７】このとき、幅手方向の延伸倍率は０％〜１
００％であることが好ましく、偏光板保護フィルムとし
て用いる場合は、５％〜２０％が更に好ましく、８％〜
１５％が最も好ましく、位相差フィルムとして用いる場
合は、１０％〜４０％が更に好ましく、２０％〜３０％
が最も好ましい。延伸倍率によってＲ０をコントロール
することが可能で、延伸倍率が高い方ができ上がったフ
ィルムの平面性に優れるため好ましい。

【０１４８】テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量
は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好
ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下にな
るまでテンターをかけながら乾燥を行うことが好まし
く、更に好ましくは５質量％以下である。

【０１４９】テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜
１５０℃が好ましく、５０〜１２０℃が更に好ましく、
７０〜１００℃が最も好ましい。乾燥温度の低い方が紫
外線吸収剤、可塑剤などの蒸散が少なく、工程汚染に優
れ、乾燥温度の高い方がフィルムの平面性に優れる。本
発明に係る一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、乾
燥温度が高い場合でも、蒸散しにくいため、テンター乾
燥温度が高く、延伸倍率の高い製造条件のときに、その
効果が顕著発揮される。

【０１５０】又、フィルムの乾燥工程においては、支持
体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を
０．５質量％以下にすることが好ましく、更に好ましく
は０．１質量％以下であり、更に好ましくは０〜０．０
１質量％以下とすることである。

【０１５１】フィルム乾燥工程では、一般に、ロール懸
垂方式か上記のようなピンテンター方式でフィルムを搬
送しながら乾燥する方式が採られる。フィルムを乾燥さ
せる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加
熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行
うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で３
〜５段階の温度に分けて、段々高くしていくことが好ま
しく、８０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性を
良くするため更に好ましい。

【０１５２】溶液流延製膜法では、流延直後から乾燥ま
での工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気で行ってもよい。ただし、乾燥雰囲気中の蒸
発溶媒の爆発限界の危険性は、常に考慮されなければな
らないことは勿論のことである。

【０１５３】（巻き取り工程）ウェブ中の残留溶媒量が
２質量％以下となってから、乾燥されたセルロースエス
テルフィルムとして巻き取る工程であり、残留溶媒量を
０．４質量％以下にすることにより、寸法安定性の良好
なフィルムを得ることができる。

【０１５４】巻き取り方法は、一般に使用されているも
のを用いればよく、例えば、定トルク法、定テンション
法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラム
テンションコントロール法等があり、それらを適宜選択
して使いわければよい。

【０１５５】膜厚の調節には、所望の厚さになるよう
に、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリッ
ト間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等を
コントロールするのがよい。又、膜厚を均一にする手段
として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィ
ードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調
節するのが好ましい。

【０１５６】本発明の光学フィルムの膜厚は、使用目的
によって異なるが、仕上がりフィルムとして、通常５〜
５００μｍの範囲にあり、更に１０〜２５０μｍの範囲
が好ましく、特に液晶画像表示装置用フィルムとしては
１０〜１２０μｍの範囲が用いられる。請求項５に係る
発明では、光学フィルムの膜厚が２０〜６５μｍの薄い
フィルムであることが特徴であり、この膜厚の範囲とす
ることにより、透湿性とともに寸法安定にも優れる。

【０１５７】本発明でいう透湿度とは、ＪＩＳＺ０
２０８に記載の方法で測定された値で定義する。透湿度
は２０〜２５０ｇ／ｍ²・２４時間であることが好まし
いが、特に２０〜２００ｇ／ｍ²・２４時間であること
が好ましい。透湿性が、２５０ｇ／ｍ²・２４時間を超
えた場合では偏光板の耐久性が著しく低下し、逆に２０
ｇ／ｍ²・２４時間未満では、偏光板製造時の接着剤に
使われている水等の溶媒が乾燥しにくくなり、乾燥時間
が長くなるため好ましくない。より好ましくは２５〜２
００ｇ／ｍ²・２４時間である。

【０１５８】又、本発明の光学フィルムでは、８０℃、
９０％ＲＨにおける質量変化を少なくすることで、寸法
安定性を更に改善することができる。

【０１５９】本発明の光学フィルムでは、８０℃、９０
％ＲＨで４８時間加熱処理した前後での質量変化率が、
±２％以内とすることがより好ましく、これによって、
透湿度が改善された薄膜フィルムでありながら、寸法変
化率も優れたセルロースエステルフィルムを得ることが
できる。

【０１６０】本発明の光学フィルムは、８０℃、９０％
ＲＨ雰囲気下で４８時間加熱処理した際の寸法変化率
は、ＭＤ方向（フィルムの製膜方向）、ＴＤ方向（フィ
ルムの幅手方向）共に±０．５％以内であることが好ま
しく、更に±０．３％以内であることが好ましく、更に
±０．１％以内であることが好ましく、更に±０．０５
％以内であることが好ましい。本発明でいう寸法変化率
とは、温度や湿度の条件が過酷な状況でのフィルム縦方
向及び横方向の寸法変化を表す特性値である。具体的に
は加熱条件、加湿条件、熱湿条件にフィルムを置いて強
制劣化としての、縦、横の寸法変化を測定する。例え
ば、測定しようとするフィルム試料について、幅手方向
１５０ｍｍ×長手方向１２０ｍｍサイズに断裁し、該フ
ィルム表面に、幅手方向及び長手方向それぞれに１００
ｍｍ間隔で２カ所、カミソリ等の鋭利な刃物で十文字型
の印を付ける。該フィルムを２３℃、５５％ＲＨの環境
下で２４時間以上調湿し、工場顕微鏡で処理前の幅手方
向及び長手方向のそれぞれの印間距離Ｌ₁を測定する。
次に、試料を電気恒温槽中で、高温高湿（条件；８０
℃、９０％ＲＨ）の環境下で４８時間放置をする。再
び、試料を２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿
し、工場顕微鏡で処理後の幅手方向及び長手方向のそれ
ぞれの印間距離Ｌ₂を測定する。この処理前後の変化率
を次式によって求める。

【０１６１】寸法変化率（％）＝（Ｌ₂−Ｌ₁）／Ｌ₁×１００式中、Ｌ₁は処理前の印間距離、Ｌ₂は処理後の印間距離
を表す。

【０１６２】また、１０５℃で５時間処理したときの寸
法変化率は、ＭＤ方向、ＴＤ方向共に±０．５％以内で
あることが好ましく、更に±０．３％以内であることが
好ましく、更に±０．１％以内であることが好ましく、
更に±０．０５％以内であることが好ましい。

【０１６３】本発明の光学フィルムは、抗張力がＭＤ方
向、ＴＤ方向共に９０〜１７０Ｎ／ｍｍ₂であることが
好ましく、特に１２０〜１６０Ｎ／ｍｍ₂であることが
好ましい。また、含水率としては０．１〜５％が好まし
く、０．３〜４％がより好ましく、０．５〜２％である
ことが更に好ましい。

【０１６４】本発明の光学フィルムは、透過率が９０％
以上であることが望ましく、更に好ましくは９２％以上
であり、更に好ましくは９３％以上である。又、ヘイズ
は０．５％以下であることが好ましく、特に０．１％以
下であることが好ましく、０％であることが更に好まし
い。

【０１６５】本発明の光学フィルムにおいては、カール
値は絶対値が小さい方が好ましく、変形方向は、＋方向
でも、−方向でもよい。カール値の絶対値は３０以下で
あることが好ましく、更に好ましくは２０以下であり、
１０以下であることが特に好ましい。尚、カール値は、
曲率半径（１／ｍ）で表される。

【０１６６】以下、本発明の光学フィルムの溶液流延製
膜法による製造方法について、図を用いて、更に詳細に
説明する。

【０１６７】図１は、フィルムの溶液流延製膜法の好ま
しい一例を示す模式図である。図１（ａ）は流延後、ロ
ール搬送・乾燥工程で乾燥する場合の模式図である。図
１（ｂ）は流延後、ロール搬送・乾燥工程で乾燥し、そ
の後テンター搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模式図
である。図１（ｃ）は流延後、テンター搬送・乾燥工程
で乾燥し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場
合の模式図である。図１（ｄ）は流延後、ロール搬送・
乾燥工程で乾燥し、その後テンター搬送・乾燥工程で乾
燥し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の
模式図である。

【０１６８】尚、本発明において、テンター搬送・乾燥
工程及びロール搬送・乾燥工程を含む工程とは、支持体
から剥離されたフィルムを乾燥して巻き取る迄の工程の
どこかに、フィルムの乾燥伸縮率を調整するテンター搬
送・乾燥工程及びロール搬送・乾燥工程を有する工程を
いう。テンター搬送・乾燥工程とはテンター搬送装置で
搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整する
工程を言い、ロール搬送・乾燥工程とはロール搬送装置
で搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整す
る工程をいう。

【０１６９】図１において、１はエンドレスで走行する
支持体を示す。支持体としては鏡面帯状金属が使用され
ている。２はセルロースエステル樹脂を溶媒に溶解した
ドープを、支持体１に流延するダイスを示す。３は支持
体１に流延されたドープが固化したフィルムを剥離する
剥離点を示し、４は剥離されたフィルムを示す。５はテ
ンター搬送・乾燥工程を示し、５１は排気口を示し、５
２は乾燥風取り入れ口を示す。尚、排気口５１と乾燥風
取り入れ口５２は逆であっても良い。６は張力カット手
段を示す。張力カット手段としてはニップロール、サク
ションロール等が挙げられる。尚、張力カット手段６は
各工程間に設けてもかまわない。

【０１７０】８はロール搬送・乾燥工程を示し、８１は
乾燥箱を示し、８２は排気口を示し、８３は乾燥風取り
入れ口を示す。なお、排気口８２と乾燥風取り入れ口８
３は逆であっても良い。８４は上部搬送用ロールを示
し、８５は下部搬送用ロールを示す。該搬送用ロール８
４、８５は上下で一組で、複数組から構成されている。
７は巻き取られたロール状のフィルムを示す。

【０１７１】図１（ｄ）で示される工程において、テン
ター搬送・乾燥工程５の前のロール搬送・乾燥工程を第
１ロール搬送・乾燥工程と呼び、テンター搬送・乾燥工
程５の後のロール搬送・乾燥工程を第２ロール搬送・乾
燥工程と呼ぶ。なお、図１（ａ）〜（ｄ）では示されて
いない冷却工程を、巻き取る前に必要に応じて設けても
良い。

【０１７２】本発明においては、上述した何れの溶液流
延製膜法による形態でセルロースエステルフィルムを製
造しても構わない。

【０１７３】本発明の光学フィルムは、良好な透湿性、
寸法安定性等から液晶表示用部材、詳しくは偏光板用保
護フィルムに用いられるのが好ましい。特に、透湿度と
寸法安定性に対してともに厳しい要求のある偏光板用保
護フィルムにおいて、本発明の光学フィルムは好ましく
用いられる。

【０１７４】本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作
製することができる。例えば、光学フィルム或いはセル
ロースエステルフィルムをアルカリケン化処理し、ポリ
ビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬、延伸
して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニル
アルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。ア
ルカリケン化処理とは、水系接着剤の濡れを良くし、接
着性を向上させるために、セルロースエステルフィルム
を高温の強アルカリ液中に漬ける処理のことをいう。

【０１７５】本発明の光学フィルムには、ハードコート
層、防眩層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、導電
層、光学異方層、液晶層、配向層、粘着層、接着層、下
引き層等の各種機能層を付与することができる。これら
の機能層は塗布或いは蒸着、スバッタ、プラズマＣＶ
Ｄ、大気圧プラズマ処理等の方法で設けることができ
る。

【０１７６】このようにして得られた偏光板が、液晶セ
ルの片面又は両面に設けられ、これを用いて、本発明の
液晶表示装置が得られる。

【０１７７】本発明の光学フィルムからなる偏光板用保
護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久
性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供
することができる。更に、本発明の偏光板或いは位相差
フィルムを用いた液晶表示装置は、長期間に亘って安定
した表示性能を維持することができる。

【０１７８】本発明の光学フィルムは、反射防止用フィ
ルム或いは光学補償フィルムの基材としても使用でき
る。

【０１７９】

【実施例】以下、実施例により本発明の態様を具体的に
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。なお、以下に記載の「部」は「質量部」を表す。

【０１８０】実施例１以下に、本発明に係る紫外線吸収性モノマーとそれから
誘導されるポリマーの合成例を示す。

【０１８１】（合成例１）２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−２）を、
下記に記載の方法に従って合成した。

【０１８２】３０．７ｇの２−アミノ−ｐ−クレゾール
を２５０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸８３ｍｌを加えた。
これに、３５ｍｌの水に溶解させた１７．２ｇの亜硝酸
ナトリウムを０℃で加えた後、この溶液を、３６．１ｇ
のｍ−フェニレンジアミン塩酸塩水溶液５００ｍｌ中に
０℃で加えた。この溶液を０℃に保ちながら、１７０ｇ
の酢酸ナトリウムを２５０ｍｌの水に溶解させた水溶液
を滴下した後、５℃で２時間、更に、室温で２時間撹拌
した。反応液のｐＨをアンモニア水で８に調整した後、
沈殿物をろ過し、よく水洗した。

【０１８３】ろ過した沈殿物４８．４ｇを、３００ｍｌ
のメタノールに溶解させ、１５０ｇの硫酸銅５水和物を
３６０ｍｌの水と６００ｍｌのアンモニア水に溶解させ
た水溶液を加えた後、９５℃で２時間撹拌した。冷却
後、沈殿物をろ過し、濾液が透明になるまで水洗した。
ろ過した沈殿物を５モル／Ｌの塩酸水溶液５００ｍｌ中
で１時間撹拌した後、ろ過し、再び２００ｍｌの水に溶
解させ、アンモニア水でｐＨ８に調整した。これをろ
過、水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶を行うこと
で、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）
−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールが得られた。

【０１８４】１２．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾ
ールと０．１ｇのハイドロキノンとを、７０℃で１１０
ｍｌのテトラヒドロフランに溶かした溶液に６．３ｇの
炭酸水素ナトリウムを加えた。この溶液に、１０ｍｌの
テトラヒドロフランに溶かしたメタクリル酸クロリドを
６０℃で３０分かけて滴下した。反応溶液を水中に注
ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、エチレングリ
コールモノメチルエーテルで再結晶を行うことで例示化
合物ＭＵＶ−２である２（２′−ヒドロキシ−５′−メ
チル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−
ベンゾトリアゾールが得られた。

【０１８５】（合成例２）２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重
合体（ＰＵＶ−２）を下記に示す方法に従って合成し
た。

【０１８６】テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成
例１で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２
Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチ
ルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．２０
ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テト
ラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒ
ドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下し
た。析出した沈殿を濾取し、４０℃で真空乾燥した。
９．４ｇの灰白色紛状重合体であるＰＵＶ−２を得た。
この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ
分析により、重量平均分子量が７，４００であることを
確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶ吸収スペク
トルから、該共重合体が２（２′−ヒドロキシ−５′−
メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体
であることを確認した。該重合体の組成は略、２（２′
−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタク
リロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリ
ル酸メチル＝４０：６０であった。

【０１８７】（合成例３）２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メ
タクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール（例示化合物ＭＵＶ−１９）を、下記に記載
の方法に従って合成した。

【０１８８】２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安
息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加
えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナト
リウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。
この溶液に、１７．３ｇの４−ｔ−ブチルフェノールを
水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中
に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃
で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に
室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成
した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。

【０１８９】ろ過した沈殿を５００ｍｌの１モル／Ｌの
ＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた
後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下
後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和
して中性とした。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥
後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うこ
とにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−
フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ルが得られた。

【０１９０】次いで、１０．０ｇの２（２′−ヒドロキ
シ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノ
ン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００
ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間
加熱灌流を行う。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶
をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うこと
で、例示化合物ＭＵＶ−１９である２（２′−ヒドロキ
シ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−
（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−
ベンゾトリアゾールが得られた。

【０１９１】（合成例４）２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メ
タクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ
−１９）を下記に記載の方法に従って合成した。

【０１９２】テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成
例３で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メ
タクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、
次いで、アゾイソブチロニトリル１．１４ｇを加えた。
窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフラ
ンを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに
再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した
沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して、９．１ｇの灰
白色紛状重合体であるＰＵＶ−１９を得た。この共重合
体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析によ
り、重量平均分子量８６００のものであると確認した。
また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記
共重合体が、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル
−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイル
オキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと
メタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。
上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−
ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタ
クリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。

【０１９３】（合成例５）２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−４）
を、以下に記載の方法に従って合成した。

【０１９４】４１．２ｇの２−アミノ−ｐ−ｔ−ブチル
フェノールを２５０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸８３ｍｌ
を加えた。３５ｍｌの水に溶解させた１７．２ｇの亜硝
酸ナトリウムを０℃で加えた後、この溶液を、３６．１
ｇのｍ−フェニレンジアミン塩酸塩水溶液５００ｍｌ中
に０℃で加えた。この溶液を０℃に保ちながら、１７０
ｇの酢酸ナトリウムを２５０ｍｌの水に溶解させた水溶
液を滴下した後、５℃で２時間、更に、室温で２時間撹
拌した。反応液のｐＨをアンモニア水で８に調整した
後、沈殿物をろ過し、よく水洗した。

【０１９５】ろ過した沈殿物５４．９ｇを３００ｍｌの
メタノールに溶解させ、１５０ｇの硫酸銅５水和物を３
６０ｍｌの水と６００ｍｌのアンモニア水に溶解させた
水溶液を加えた後、９５℃で２時間撹拌した。冷却後、
沈殿物をろ過し、濾液が透明になるまで水洗した。ろ過
した沈殿物を５モル／Ｌの塩酸水溶液５００ｍｌ中で１
時間撹拌した後、ろ過し、再び２００ｍｌの水に溶解さ
せ、アンモニア水でｐＨを８に調整した。これをろ過、
水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶を行うことで、２
（２′−ヒドロキシ−５′ｔ−ブチル−フェニル）−５
−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールを得た。

【０１９６】次いで、１４．１ｇの２（２′−ヒドロキ
シ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−５−アミノ−２Ｈベ
ンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノンとを、７
０℃で１１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かした溶液
に６．３ｇの炭酸水素ナトリウムを加えた。この溶液
に、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かしたメタクリ
ル酸クロリドを６０℃で３０分かけて滴下した。反応溶
液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、
エチレングリコールモノメチルエーテルで再結晶を行う
ことで、例示化合物ＭＵＶ−４である２（２′−ヒドロ
キシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−５−メタクリロイ
ルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを得ることができ
た。

【０１９７】（合成例６）２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの
共重合体（ＰＵＶ−４）を、下記に記載の方法に従って
合成した。

【０１９８】テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成
例５で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチルフェニル）−５−メタクリロイルアミノ−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メ
チルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１
７ｇを加えた。窒素雰囲気下、９時間加熱還流した。テ
トラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラ
ヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下
した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して
９．４ｇの灰白色紛状重合体のＰＵＶ−４を得た。この
共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析
により、重量平均分子量７９００のものであることを確
認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルか
ら、上記共重合体が２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−
ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体
であることを確認した。上記重合体の組成は略、２
（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−
５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。

【０１９９】（合成例７）２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタク
リロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール（例示化合物ＭＵＶ−１７）を、下記に記載の方
法に従って合成した。

【０２００】２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安
息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加
えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナト
リウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。
この溶液に、１２．４ｇのｐ−クレゾールを水５０ｍｌ
とエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カ
リウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下し
た。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に室温で１
時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿
物をろ過した後、よく水洗した。

【０２０１】ろ過した沈殿物を５００ｍｌの１モル／Ｌ
のＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加え
た後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下
後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和
した。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥した後、酢酸
エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことによ
り、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）
−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られ
た。

【０２０２】次いで、８．６５ｇの２（２′−ヒドロキ
シ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、
４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．
５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ
中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱
灌流を行った。次いで、反応溶液を水中に注ぎ、析出し
た結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行
うことで、例示化合物ＭＵＶ−１７である２（２′−ヒ
ドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸
−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ
−ベンゾトリアゾールが得られた。

【０２０３】（合成例８）２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタク
リロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ−１
７）を、下記に記載の方法に従って合成した。

【０２０４】テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成
例７で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′
−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタク
リロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次い
で、アゾイソブチロニトリル１．１６ｇを加えた。窒素
雰囲気下、９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを
減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶
解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿
物を濾取し、４０℃で真空乾燥して９．１ｇの灰白色紛
状重合体のＰＵＶ−１７を得た。この共重合体は、標準
ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均
分子量９２００のものであることを確認した。また、Ｎ
ＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体
が２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−
５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチル
エステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メ
チルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組
成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニ
ル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）
エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリ
ル酸メチル＝４０：６０であった。

【０２０５】なお、本発明に係る他の紫外線吸収剤及び
紫外線吸収性ポリマーも、上記と同様の方法に準じて合
成及び重合することにより得ることができる。

【０２０６】実施例２《光学フィルム試料の作製》以下に示す方法に従って、
光学フィルム（トリアセテートフィルムともいう）１〜
１０を作製した。

【０２０７】〔光学フィルム１の作製〕（酸化珪素分散液の調製）アエロジルＲ−９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製：一次粒子の平均粒子径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）１５質量部エタノール８５質量部上記各添加剤を、ディゾルバー型攪拌機で３０分間撹拌
混合した後、マントンゴーリン型高圧分散機で分散を行
った。分散後の液濁度は１０５ｐｐｍであり、数平均粒
子径は０．１８μｍであった。

【０２０８】（インライン添加液Ａの調製）紫外線吸収剤（例示化合物ＵＶ−１１）１１質量部リンター綿から合成されたセルローストリアセテート４質量部メチレンクロライド１００質量部以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に
溶解した後、濾過した。これに、上記酸化珪素分散液の
２０質量部を撹拌しながら加え、さらに３０分間撹拌し
た後、アドバンテック東洋（株）のポリプロピレンワイ
ンドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−２０Ｎで
濾過し、インライン添加液Ａを調製した。インライン添
加液Ａ中の微粒子の数平均粒子径は０．２５μｍであっ
た。

【０２０９】（ドープ液Ａの調製）リンター綿から合成されたセルローストリアセテート８５質量部木材パルプから合成されたセルローストリアセテート１５質量部トリフェニルフォスフェイト１１．５質量部メチレンクロライド４７５質量部エタノール５０質量部以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に
溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使
用して濾過し、ドープ液Ａを調製した。

【０２１０】（フィルム製膜）製膜ライン中で、日本精
線（株）製のファインメットＮＦ（絶対濾過精度５０μ
ｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次濾過精度を上げて使
用）でドープ液Ａを濾過した。一方、インライン添加液
の送液ライン中で、日本精線（株）製のファインメット
ＮＦ（絶対濾過精度５０μｍ、１５μｍ、５μｍの順に
順次濾過精度を上げて使用）によりインライン添加液Ａ
を濾過した。濾過したドープ液Ａ１００質量部に対し、
濾過したインライン添加液Ａを２．２質量部加えて、イ
ンラインミキサー（東レ社製静止型管内混合機Ｈｉ−
Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、次いで、ベルト流
延装置を用い、温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレ
スバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支
持体で、残留溶媒量が８０％になるまで溶媒を蒸発さ
せ、剥離張力１２７Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上
から剥離した。剥離したセルローストリアセテートフィ
ルムを１５５０ｍｍ幅に断裁し、その後、テンターで幅
方向に１０％延伸しながら、７０℃の乾燥温度で乾燥さ
せ、その後、１２０℃と１３５℃との各乾燥ゾーンを多
数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１３３０
ｍｍ幅にスリッティングして、フィルム両端に幅１０ｍ
ｍ、高さ５μｍのナーリング加工をエアー面側に施し
て、セルローストリアセテートフィルムである光学フィ
ルム１を作製した。光学フィルム１の膜厚は４０μｍ、
巻数は４０００ｍであった。

【０２１１】〔光学フィルム２〜１０の作製〕上記光学
フィルム１の作製において、インライン添加液Ａ中の紫
外線吸収剤の種類及び添加量を、表１に記載のように変
更した以外は同様にして、光学フィルム２〜１０を作製
した。

【０２１２】

【化１７】

【０２１３】《光学フィルム試料の評価》以上のように
して作製した光学フィルム１〜１０について、下記に記
載の方法に従って、フィルム特性の各評価を行った。

【０２１４】〔ＵＶ吸収性能の評価〕Ｓｐｅｃｔｒｏｐ
ｈｏｔｏｍｅｔｅｒＵ−３２００（日立製作所製）を
用い、各光学フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、
４００ｎｍと３８０ｎｍに於ける透過率を求め、以下の
ようにランク分けを行った。各ランクにおいて、４００
ｎｍの透過率は高い程優れており、３８０ｎｍの透過率
は低い程優れている。

【０２１５】（４００ｎｍ透過率）Ａ：透過率８０％以上Ｂ：透過率７０％以上８０％未満Ｃ：透過率６０％以上７０％未満Ｄ：透過率６０％未満（３８０ｎｍ透過率）Ａ：透過率５％未満Ｂ：透過率５％以上８％未満Ｃ：透過率８％以上１０％未満Ｄ：透過率１０％以上〔ヘイズの測定〕以下の方法に従い、２方法によるヘイ
ズ（失透度）測定を行った。

【０２１６】（１枚値の測定）各光学フィルム１枚を、
ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業
（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。

【０２１７】（３枚値の測定）各光学フィルム３枚を重
ね合わせ、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京
電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定し
た。

【０２１８】〔耐久性：ブリードアウトの評価〕各光学
フィルムを、８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下で
１０００時間放置後、光学フィルム表面のブリードアウ
ト（結晶析出）の有無を目視観察を行い、下記に記載の
基準に従ってブリードアウトの評価を行った。

【０２１９】 ◎：光学フィルム表面にブリードアウトの発生が全く認
められない ○：光学フィルム表面で、部分的なブリードアウトが僅
かに認められる △：光学フィルム表面で、全面に亘りブリードアウトが
僅かに認められる ×：光学フィルム表面で、全面に亘り明確なブリードア
ウトが認められる〔耐光性の評価〕以下に記載の方法に従い、各光学フィ
ルムのアルカリケン化処理を行った後、偏光板を作製
し、未処理試料の平行透過率（Ｈ₀）と直行透過率（Ｈ
₉₀）を測定し、下式に従って偏光度を算出した。その
後、各々の偏光板をサンシャインウェザーメーター５０
０時間、ＵＶカットフィルター無しでの条件で強制劣化
処理を施した後、再度、劣化処理後の平行透過率
（Ｈ₀′）と直行透過率（Ｈ₉₀′）を測定し、下式に従
って偏光度Ｐ₀、Ｐ₅₀₀を算出し、偏光度変化量を下記式
により求めた。

【０２２０】〈アルカリケン化処理〉ケン化工程：２モル／ＬＮａＯＨ５０℃ ９０秒水洗工程：水３０℃ ４５秒中和工程：１０質量％ＨＣｌ３０℃ ４５秒水洗工程：水３０℃ ４５秒上記条件で各試料を、ケン化、水洗、中和、水洗の順に
行い、次いで８０℃で乾燥を行った。

【０２２１】〈偏光板の作製〉厚さ１２０μｍのポリビ
ニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇ
を含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で６倍に延伸
して偏光膜を作った。この偏光膜の両面に、上記アルカ
リケン化処理を行った試料を、完全ケン化型ポリビニル
アルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏
光板を作製した。

【０２２２】〈偏光度Ｐ₀、Ｐ₅₀₀の算出〉偏光度Ｐ₀＝〔（Ｈ₀−Ｈ₉₀）／（Ｈ₀＋Ｈ₉₀）〕^1/2×１
００偏光度Ｐ₅₀₀＝〔（Ｈ₀′−Ｈ₉₀′）／（Ｈ₀′＋
Ｈ₉₀′）〕^1/2×１００偏光度変化量＝Ｐ₀−Ｐ₅₀₀ Ｐ₀：強制劣化前の偏光度Ｐ₅₀₀：強制劣化処理５００時間後の偏光度〈耐光性の判定〉以上のようにして求めた偏光度変化量
を、以下に記載の基準に則り判定し、耐光性の評価を行
った。

【０２２３】 ◎：偏光度変化量１０％未満 ○：偏光度変化量１０％以上２５％未満 ×：偏光度変化量２５％以上以上により得られた結果を表１に示す。

【０２２４】

【表１】

【０２２５】表１より明らかなように、本発明に係る紫
外線吸収剤を含有した本発明の光学フィルムは、比較例
に対し、ＵＶ吸収性能、ヘイズ特性、耐久性及び耐光性
のいずれにおいても優れていることが判る。

【０２２６】実施例３《光学フィルム試料の作製》実施例２に記載の光学フィ
ルム１の作製において、インライン添加液Ａ中の紫外線
吸収剤（例示化合物ＵＶ−１１）を、表２に記載の紫外
線吸収剤ポリマー及びその添加量とした以外は同様にし
て、光学フィルム１０１〜１０８を作製し、実施例２に
記載の方法に従い、ＵＶ吸収性能の評価、ヘイズの測
定、耐久性（ブリードアウトの評価）及び耐光性の評価
を行い、得られた結果を表２に示す。

【０２２７】なお、表２に記載の比較化合物３のＰＵＶ
は、比較化合物３：メチルメタクリル酸との共重合体
（質量比３０：７０）を実施例１に記載の方法に準じて
調製した。

【０２２８】

【化１８】

【０２２９】

【表２】

【０２３０】表２より明らかなように、実施例の結果と
同様に本発明に係る紫外線吸収剤ポリマーを含有した本
発明の光学フィルムは、比較例に対し、ＵＶ吸収性能、
ヘイズ特性、耐久性及び耐光性のいずれにおいても優れ
ていることが判る。

【０２３１】実施例４反射型ＴＦＴカラー液晶表示装置を搭載した市販の携帯
機器（シャープ製パーソナルモバイルツールＺａｕ
ｒｕｓ型名：ＭＩ−Ｌ１）の偏光板を注意深く剥離
し、ここに実施例２、３で作製した各偏光板を、偏光方
向を合わせて液晶表示パネルに張り付けた。それぞれの
液晶表示パネルについて、目視にてコントラストを評価
した結果、本発明の偏光板を用いた液晶表示パネルは、
比較例の偏光板を用いた液晶表示パネルに対し長期間に
渡って、高いコントラストが維持され、不自然な黄色み
も無く、色再現性に優れていることが確認された。

【０２３２】

【発明の効果】本発明により、紫外部の吸収特性、透明
性、耐久性（ブリードアウト故障）及び耐光性に優れた
光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置を提供
することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明で用いることのできる光学フィルムの溶
液流延製膜法の好ましい一例を示す模式図である。

【符号の説明】

１支持体２ダイス４フィルム５テンター搬送・乾燥工程６張力カット手段８ロール搬送・乾燥工程８４上部搬送用ロール８５下部搬送用ロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 1/00 Ｃ０８Ｌ 1/00 ４Ｊ１００ 33/14 33/14 33/24 33/24 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ＣＧ０２Ｂ 5/22 Ｇ０２Ｂ 5/22 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０５１０Ｆターム(参考） 2H048 CA01 CA04 CA05 CA09 CA13 CA19 CA27 CA29 2H049 BA02 BA06 BB12 BB13 BB33 BB42 BB49 BC09 BC22 2H091 FA01X FA08X FA08Z FB02 LA03 4F071 AA09 AA33 AA35 AA81 AC12 AE05 AF30Y AH12 BB02 BC01 BC12 4J002 AB021 BB021 BB111 BC031 BD031 BD101 BD121 BE021 BE031 BG011 BG041 BG072 BG122 CE001 CF061 CF081 CG001 CH091 CL001 CM041 CN031 EU176 FD010 FD020 GP00 4J100 AL08P AM21P BA03P BA10P BC43P BC73P CA01 DA01 JA32

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）で表される紫外線吸収
剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フ
ィルム。【化１】〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ₁〜Ｒ₅は水素原
子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、
−ＣＯＮＲ₇−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ₇ＣＯ−を表し、
Ｒ₆は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基又はアリール基を表し、Ｒ₇は水素原子、アルキル
基又はアリール基を表す。〕
【請求項２】前記一般式（１）で表される紫外線吸収
剤が、下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤である
ことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。【化２】〔式中、ｎ、Ｒ₁〜Ｒ₆及びＸは、前記一般式（１）に記
載のそれらと同義である。〕
【請求項３】下記一般式（３）で表される紫外線吸収
性モノマーから誘導されるポリマーを含有することを特
徴とする光学フィルム。【化３】〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ₈〜Ｒ₁₂は水素原
子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、
−ＣＯＮＲ₁₄−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ₁₄ＣＯ−を表
し、Ｒ₁₃は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基又はアリール基を表し、Ｒ₁₄は水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ₈〜Ｒ₁₄で表さ
れる基のいずれか一つは重合性基を部分構造として有す
る。〕
【請求項４】前記一般式（３）で表される紫外線吸収
モノマーが、下記一般式（４）で表される紫外線吸収モ
ノマーであることを特徴とする請求項３に記載の光学フ
ィルム。【化４】〔式中、ｎ、Ｒ₈〜Ｒ₁₃及びＸは、前記一般式（３）に
記載のそれらと同義である。〕
【請求項５】前記一般式（３）及び（４）で表される
紫外線吸収モノマーが、下記一般式（５）で表される紫
外線吸収モノマーであることを特徴とする請求項３又は
４に記載の光学フィルム。【化５】〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ₁₅〜Ｒ₁₉は水素原
子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、
−ＣＯＮＲ₂₁−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ₂₁ＣＯ−を表
し、Ｒ₂₀は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基又はアリール基を表し、Ｒ₂₁は水素原子、アル
キル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ₂₀で表される基
は重合性基を部分構造として有する。〕
【請求項６】前記紫外線吸収性モノマーから誘導され
るポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，０
００以下であることを特徴とする請求項３〜５のいずれ
か１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】前記紫外線吸収性モノマーから誘導され
るポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７
０質量％であることを特徴とする請求項３〜６のいずれ
か１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】前記紫外線吸収性モノマーから誘導され
るポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分
が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１
種含有することを特徴とする請求項３〜７のいずれか１
項に記載の光学フィルム。
【請求項９】セルロースエステルを含有することを特
徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィ
ルム。
【請求項１０】一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であ
り、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸
化珪素微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜９
のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】膜厚が２０〜６５μｍであることを特
徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フ
ィルム。
【請求項１２】請求項１〜１１に記載の光学フィルム
を用いることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】請求項１〜１１に記載の光学フィルム
を用いることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】前記一般式（３）で表される紫外線吸
収性モノマーから誘導される紫外線吸収性ポリマー。
【請求項１５】前記一般式（３）で表される紫外線吸
収性モノマーが、前記一般式（４）で表される紫外線吸
収性モノマーであることを特徴とする請求項１４に記載
の紫外線吸収性ポリマー。
【請求項１６】前記一般式（３）及び（４）で表され
る紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表される
紫外線吸収モノマーであることを特徴とする請求項１４
又は１５に記載の紫外線吸収性ポリマー。
【請求項１７】前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，
０００以下であることを特徴とする請求項１４〜１６の
いずれか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。
【請求項１８】前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜
７０質量％であることを特徴とする請求項１４〜１７の
いずれか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。
【請求項１９】前記紫外線吸収性モノマーから誘導さ
れるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成
分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも
１種含有することを特徴とする請求項１４〜１８のいず
れか１項に記載の紫外線吸収性ポリマー。