WO2010074519A2 - 점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재 - Google Patents

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WO2010074519A2
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송정훈
오가와히로시
스와타츠히로
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Definitions

  • the present invention relates to an adhesive composition and an optical member using the same.
  • this invention relates to the adhesive composition which can form the adhesive layer which has favorable antistatic performance, without impairing the optical characteristic as an optical sheet, and an optical member using the same.
  • the present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition capable of forming an adhesive layer having good antistatic performance and metal corrosiveness, without impairing optical characteristics as an optical sheet, and an optical member using the same.
  • Static electricity occurs everywhere, but the accumulation of static electricity causes various problems in the processing and use of industrial products and industrial materials. For example, the accumulation of static electricity causes the object to attract dust and dust, and therefore, there is a possibility of causing contamination problems or impairing the performance of the product in the manufacturing process of industrial products.
  • BACKGROUND As a display device, a display is widely used as an industrial product, especially in recent years, with the progress of IT technology and the transition to an information society, and its role is becoming increasingly important.
  • flat panel displays are rapidly spreading in place of conventional CRTs. Examples of flat panel displays include liquid crystal displays, plasma displays, organic electroluminescence and the like, but liquid crystal displays are most widely used in displays of mobile phones, personal computers, televisions, and the like.
  • Static electricity is generated on the surface of flat panel displays, including such liquid crystal displays. These static electricity may attract dust in the air, may cause difficult or impossible damage to recover, and may also be dangerous from a safety point of view.
  • static electricity is generated on the surface of the film when the surface protection film and the release film are removed. There is a possibility that defects occur in the electronic parts to which these static electricity are adjacent, and as a result, defective products may occur.
  • the most effective way to control the buildup of static electricity is to use antistatic agents.
  • an optically clear antistatic adhesive By applying an optically clear antistatic adhesive to the optical film, it is possible to run off static electricity. Since the antistatic agent works to eliminate the accumulation of static electricity, the surface resistance value is effectively used as a measure of the effect.
  • Patent Document 1 a method of forming an antistatic layer made of an ultraviolet curable acrylic resin containing metal oxide particles on a polarizing plate is disclosed.
  • Patent Document 2 the antistatic adhesive sheet which provided the antistatic layer containing the quaternary ammonium salt in the plastic film base material, and provided the adhesive layer on it is disclosed.
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-318230
  • Patent Document 2 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-273417
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-235568.
  • Patent Documents 1 and 2 require a step of forming an antistatic layer, which causes a problem that the productivity is lowered and the cost is increased.
  • patent document 3 reference is not made about antistatic property, and such a problem is not mentioned at all.
  • the adhesive sheet which contained the antistatic agent in the adhesive layer is also reported.
  • the antistatic agent which consists of a polyether polyol compound and an alkali metal salt is added to an acrylic adhesive.
  • LiClO 4 which is an example of an antistatic agent, is highly corrosive, and there is a fear of corroding the metal when the adhesive surface is in direct contact with the metal.
  • an optical member there are many examples in which the outer peripheral portion of the optical member is applied to a liquid crystal module fixed by a fixed frame made of metal such as stainless steel or aluminum called "bezel". For this reason, in these applications, there exists a possibility that "bezel” may deteriorate by corrosion by the said adhesive component, and there existed a limitation of application.
  • this invention is made
  • Another object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive composition capable of forming an adhesive layer having both good antistatic performance (low surface resistance value) and metal corrosion inhibitory resistance (rustproof action) and an optical member having the same. To provide.
  • the present inventors earnestly researched in order to achieve the said objective.
  • an ionic compound and / or a lithium salt and a compound having a benzotriazole group as an antistatic agent are added to the (meth) acrylic acid ester-based pressure-sensitive adhesive composition, thereby having excellent antistatic ability (low surface resistance value). It was found that the pressure-sensitive adhesive layer exhibiting metal anti-corrosion inhibitory effect (rust-preventing effect) can be formed. Based on these findings, the present invention has been completed.
  • this invention is 0.01-3 mass of antistatic agents (B) containing an ionic compound and / or a lithium salt with respect to 100 mass parts of polymers (A) formed by superposing
  • a silane coupling agent (C) 3 to 20 parts by mass of a compound (D) having a benzotriazole group, and 0.05 to 5 parts by mass of a crosslinking agent (E), or a polyfunctional (meth)
  • the adhesive composition of this invention is excellent in antistatic performance (low surface resistance value) and metal corrosion inhibitory prevention property (rustproof action). Therefore, by using the adhesive composition of this invention, the adhesive layer which has favorable antistatic performance and metal corrosion inhibition prevention capability can be formed, without impairing the optical characteristic of an optical sheet. For this reason, the adhesive composition of this invention is effective for adhesion
  • This invention is 0.01-3 mass parts of antistatic agent (B) containing an ionic compound and / or a lithium salt with respect to 100 mass parts of polymers (A) formed by superposing
  • the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is characterized by adding an ionic compound or a lithium salt and a compound having a benzotriazole group as an antistatic agent to a pressure-sensitive adhesive composition of the (meth) acrylic acid ester system, particularly an active energy curable acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
  • a pressure-sensitive adhesive composition of the (meth) acrylic acid ester system particularly an active energy curable acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
  • an antistatic layer was provided separately from the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of antistatic.
  • this method has a problem that it is difficult to make the thickness thin, or the manufacturing process is complicated and laborious.
  • the ionic compound or the compound which has a lithium salt and a benzotriazole group to an adhesive composition, according to this invention, charging performance can be imparted to an adhesive layer, and it is low that it is less than 1x10 ⁇ 10> ( ohm) / sq The surface resistance value can be achieved.
  • a lithium salt or a (meth) acrylic acid / (meth) acrylic acid ester-based polymer is used in the pressure-sensitive adhesive composition, in the presence of a near metal, particularly in an atmosphere of high humidity, the corrosion of the metal may be caused by the pressure-sensitive adhesive component. There was a problem in terms of durability and the like.
  • the adhesive layer formed using the adhesive composition of this invention is excellent in durability.
  • the coating film formed using such an adhesive composition has favorable transparency, and there is little contamination to the to-be-adhered body after peeling. Therefore, the adhesive composition of this invention is applicable especially to the adhesive layer of an optical member.
  • the adhesive layer formed using the adhesive composition of this invention has a favorable network (crosslinking) structure.
  • (meth) acrylate is a generic term of acrylate and methacrylate.
  • the compound containing (meth), such as (meth) acrylic acid is also a general term for the compound which has "meta” in a name, and the compound which does not have "meta”.
  • (meth) acrylic acid ester is a generic term for acrylic acid ester and methacrylic acid ester.
  • Polymer (A) polymerizes the monomer component containing a (meth) acrylic acid ester.
  • a (meth) acrylic acid ester for example,
  • Decyl (meth) acrylate isodecyl (meth) acrylate
  • Phenyl (meth) acrylate 2,4,5-tetramethylphenyl (meth) acrylate,
  • methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert- butyl (meth) acrylate, 2- Ethyl hexyl (meth) acrylate is preferable, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate are more preferable, and methyl acrylate, n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl Acrylate is particularly preferred.
  • the monomer component used to manufacture a polymer (A) may contain the hydroxyl group containing (meth) acrylic-type monomer in addition to the said (meth) acrylic acid ester.
  • hydroxy group containing (meth) acrylic-type monomer is an acryl-type monomer which has a hydroxyl group in a molecule
  • 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1, 6- hexanediol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri for example.
  • 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylamide are more preferable, and 2-hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxy are preferable.
  • Butyl acrylate is particularly preferred.
  • the monomer component used to prepare the polymer (A) is, in addition to the (meth) acrylic acid ester, a monomer which can be copolymerized with a (meth) acrylic acid ester and a hydroxyl group-containing (meth) acrylic monomer when present (
  • other monomers are not particularly limited, but for example, acrylic monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate and methyl glycidyl (meth) acrylate;
  • Amino groups such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, N-tert-butylaminoethyl (meth) acrylate, and methacryloxyethyltrimethylammonium chloride (meth) acrylate Having an acrylic monomer;
  • Acrylic monomers having an amide group such as (meth) acrylamide, n-methylol (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, and N, N-methylene bis (meth) acrylamide;
  • Carboxyl groups such as (meth) acrylic acid, 2-methacryloyloxysuccinic acid, 2-methacryloyloxyethylmaleic acid, 2-methacryloyloxyethylphthalic acid, 2-methacryloyloxyethylhexahydrophthalic acid Having an acrylic monomer;
  • Acrylic monomer which has phosphoric acid groups such as 2-methacryloyl oxyethyl diphenyl phosphate (meth) acrylate, a trimethacryloyl oxyethyl phosphate (meth) acrylate, and a triacryloyloxy ethyl phosphate (meth) acrylate ;
  • Acrylic monomers having sulfonic acid groups such as sodium sulfopropyl (meth) acrylate, sodium 2-sulfoethyl (meth) acrylate and sodium 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate;
  • Acrylic monomer which has urethane groups such as urethane (meth) acrylate;
  • acrylic vinyl monomers having a phenyl group such as p-tert-butylphenyl (meth) acrylate and o-biphenyl (meth) acrylate;
  • 2-acetoacetoxyethyl (meth) acrylate vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyl tris ( ⁇ -methoxyethyl) silane, vinyltriacetylsilane, methacryloyloxypropyltrimethoxysilane Vinyl monomers having silane groups such as these;
  • Styrene chloro styrene, alpha -methyl styrene, vinyltoluene, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl propionate, acrylonitrile, vinylpyridine and the like.
  • These other monomers may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.
  • (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and 2-acetoacetoxyethyl (meth) acrylate are preferable
  • (Meth) acrylic acid, acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate and 2-acetoacetoxyethyl (meth) acrylate are more preferable
  • acrylic acid is particularly preferable.
  • the polymer (A) is produced by polymerizing a monomer component containing a (meth) acrylic acid ester and, if necessary, a hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer and / or other monomer.
  • a monomer component consists of 2 or more types of other monomers
  • a polymer (A) is manufactured in the form of a copolymer by copolymerizing a monomer component.
  • the composition (the amount of each monomer of the monomer component) of the polymer (A) is not particularly limited.
  • the composition of the acryl-based monomer is not particularly limited.
  • the composition of the (meth) acrylic acid ester is preferably 95 to 99.9 parts by mass, and more preferably 97 to 99.9 parts. It is a mass part.
  • the composition of the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer is preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably. Is 0.1-3 mass parts.
  • composition of each monomer in the case of manufacturing a polymer (A) by copolymerizing the monomer component comprised from a (meth) acrylic acid ester, a hydroxyl group containing (meth) acrylic-type monomer, and another monomer is not restrict
  • the composition of the (meth) acrylic acid ester is preferably 80 to 99.5 parts by mass, more preferably when the total amount of the (meth) acrylic acid ester, the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer and the other monomers is 100 parts by mass. It is 88-99.2 mass parts, Especially preferably, it is 93-99 mass parts.
  • the composition of the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer is preferably 0.5 to 10 parts by mass when the total amount of the (meth) acrylic acid ester, the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer and other monomers is 100 parts by mass, More preferably, it is 0.6-7 mass parts, Especially preferably, it is 0.7-5 mass parts. If it exists in the said range, the crosslinking structure of an appropriate grade can be achieved in a polymer (A) by following crosslinking agent (E) etc.
  • the crosslinking point caused by the reaction between the hydroxyl group and the crosslinking agent (C) derived from the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer in the polymer (A) is not excessive. Therefore, the adhesive composition excellent in heat resistance and flexibility is obtained.
  • the composition of the other monomers is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.2 to 5 when the total amount of the (meth) acrylic acid ester, the hydroxy group-containing (meth) acrylic monomer and the other monomers is 100 parts by mass. Mass part, Especially preferably, it is 0.3-2 mass parts.
  • the method for producing the polymer (A) is not particularly limited, and conventionally known methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, reverse phase suspension polymerization, thin film polymerization and spray polymerization using a polymerization initiator can be used. Can be. As a method of polymerization control, adiabatic polymerization method, temperature controlled polymerization method, isothermal polymerization method, etc. are mentioned. Moreover, in addition to the method of starting superposition
  • a solution polymerization method using a polymerization initiator is preferable because the molecular weight can be easily controlled and impurities can be reduced.
  • the polymerization initiator is preferably added in an amount of 0.01 to 0.50 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the monomer components, For example, it is obtained by making it react for 3 to 10 hours at reaction temperature of 60-90 degreeC.
  • Azo compounds such as azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2'- azobis (2-methylbutyronitrile), and azobiscyano valeric acid; tert-butylperoxy pivalate, tert-butylperoxybenzoate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, di-tert-butylperoxide, cumene hydroperoxide, benzoyl peroxide, tert-butylhydride Organic peroxides such as loperoxide; Inorganic peroxides, such as hydrogen peroxide, ammonium persulfate, potassium persulfate, and sodium persulfate, are mentioned. These may be used independently or may use 2 or more types together.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • 2,2'- azobis (2-methylbutyronitrile) 2,2'- azobis (2-methylbutyronitrile
  • weight average molecular weights (Mw) are 700,000-2 million, and, as for the polymer (A) obtained by (co) polymerizing the said monomer component, it is more preferable that it is 900,000-11.7 million. If the weight average molecular weight is less than 700,000, heat resistance may be insufficient. On the other hand, when a weight average molecular weight exceeds 2 million, stickiness may be low and adhesiveness may fall.
  • the weight average molecular weight shall employ
  • a polymer (A) may be used independently or may be used in combination of 2 or more type.
  • the adhesive composition of this invention contains an antistatic agent (B) in addition to the said polymer (A).
  • an antistatic agent (B) in addition to the said polymer (A).
  • the antistatic agent (B) according to the present invention contains at least one of an ionic compound and a lithium salt.
  • the ionic compound is not particularly limited.
  • the ionic compound has compatibility with the polymer (A), has compatibility with the organic solvent used when preparing the pressure-sensitive adhesive composition, and can also maintain transparency of the pressure-sensitive adhesive composition when added to the base polymer. It is desirable to have. Moreover, it is preferable that the surface resistance of the adhesion layer at the time of apply
  • the ionic compound is not particularly limited, and examples thereof include imidazolium salts, pyridinium salts, alkylammonium salts, alkylpyrrolidinium salts, alkylphosphonium salts and piperidinium salts. Under the present circumstances, an ionic compound may be used independently or may be used together 2 or more types.
  • imidazolium salt it is, for example,
  • alkyl ammonium salt As the alkyl ammonium salt,
  • Tetrabutylammonium benzoate Tetrabutylammonium methanesulfonate
  • alkylpyrrolidium salts examples include 1-butyl-1-methylpyrrolidin bromide, 1-butyl-1-methylpyrrolidin chloride, 1-butyl-1-methylpyrrolidin tetrafluoroborate, and the like.
  • alkyl phosphonium salts examples include tetrabutylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium tetrafluoroborate, tetrabutylphosphonium methanesulfonate, tetrabutylphosphonium p-toluenesulfonate and tributylhexadecyl Phosphonium bromide and the like.
  • piperidinium salts include N-methyl-N-propylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N-methyl-N-propylpiperidinium bromide, and N-methyl-N-propylpiperidinium hexa. Fluorophosphate and the like.
  • a nitrogen-containing onium salt, a sulfur-containing onium salt or a phosphorus-containing onium salt can be preferably used.
  • a nitrogen-containing onium salt a sulfur-containing onium salt or a phosphorus-containing onium salt
  • a nitrogen-containing onium salt a sulfur-containing onium salt or a phosphorus-containing onium salt
  • a sulfur-containing onium salt or a phosphorus-containing onium salt can be preferably used.
  • Trimethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide Trimethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide
  • N-methyl-N-ethyl-N-propyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide etc. are mentioned.
  • the lithium salt is not particularly limited, and a known one is used.
  • bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium represented by the formula: Li (CF 3 SO 2 ) 2 N
  • lithium trifluoromethanesulfonic acid represented by a formula: LiCF 3 SO 3 , lithium perchlorate, and the like.
  • the said antistatic agent (B) may be manufactured by synthesis
  • a commercial item 1-hexyl-3- methyl imidazolium hexafluorophosphate (made by Tokyo Kasei Co., Ltd.), N-methyl-N-propyl piperidinium bis (trifluoro methanesulfonyl) imide ( Kantokagaku Co., Ltd.), 1-ethylpyridinium bromide (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.), 1-butyl-3-methylpyridinium trifluoromethanesulfonate (Tokyo Kasei Co., Ltd.) Products), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), lithium trifluoromethanesulfonic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), lithium perchlorate (wako Pure Chemical) Ko
  • the compounding quantity of an antistatic agent (B) is 0.01-3.0 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it is this range, the adhesive composition of this invention can exhibit the outstanding antistatic property.
  • the said compounding quantity becomes like this. Preferably it is 0.1-2 mass parts, More preferably, it is 0.5-1.8 mass part with respect to 100 mass parts of polymers (A).
  • the compounding quantity of an antistatic agent (B) is less than 0.01 mass part, sufficient antistatic characteristic may not be obtained.
  • peeling and foaming may increase at the time of a durability test.
  • the adhesive composition of this invention may contain a silane coupling agent (C) in addition to the said polymer (A) and an antistatic agent (B).
  • a silane coupling agent (C) By using a silane coupling agent (C), reactivity can be improved and the mechanical strength and adhesive strength of hardened
  • Such a silane coupling agent is not specifically limited. Specifically,
  • Methyltrimethoxysilane dimethyldimethoxysilane, trimethylmethoxysilane
  • Phenyltrimethoxysilane diphenyldimethoxysilane
  • the silane coupling agent which has functional groups such as an epoxy group (glycidoxy group), an amino group, a mercapto group, and a (meth) acryloyl group
  • the silane coupling agent containing the functional group reactive with these functional groups another coupling agent, poly
  • the compound which has hydrolyzable silyl group obtained by making isocyanate etc. react with arbitrary functional groups at arbitrary ratios can also be used.
  • the said silane coupling agent (C) may be synthesize
  • a commercial item of a silane coupling agent it is KBM-303, KBM-403, KBE-402, KBM-403, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KEM-573, KBM-802, KBM-803, for example.
  • KBE-846, KBE-9007 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.
  • silane coupling agents (C) KBM-303, KBM-403, KBE-402, KBM-403, KBM-5103, KBM-573, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007 are preferred. KBM-403 is more preferable.
  • the said silane coupling agent (C) may be used independently, or may be used in combination of 2 or more type.
  • the compounding quantity of a silane coupling agent (C) is 0-1 mass part with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it is this range, the adhesive composition of this invention can exhibit favorable antistatic property.
  • the said compounding quantity is 0-0.5 mass part with respect to 100 mass parts of polymers (A), More preferably, it is 0-0.1 mass part. If it exists in this range, the outstanding heat resistance and adhesiveness can be exhibited. When the compounding quantity of the said silane coupling agent (C) exceeds 1 mass part, heat resistance may fall.
  • the adhesive composition of this invention contains the compound (D) which has a benzotriazole group.
  • the compound (D) which has a benzotriazole group metal corrosion can be suppressed and the surface resistance value can be reduced and an antistatic ability can be provided.
  • the ionic compound as an antistatic agent (B) has metal corrosiveness to some extent, in general, it is expensive, and when too much compounding quantity exists, adhesiveness may fall. For this reason, when using an ionic compound as an antistatic agent, it is preferable that the compounding quantity of an ionic compound is as small as possible.
  • the compound (D) having a benzotriazole group capable of lowering the surface resistance value and imparting antistatic ability is compounded, the compounding amount of the ionic compound can be reduced, and even in this case, the pressure-sensitive adhesive composition It is possible to achieve a desired antistatic performance by lowering the surface resistance value of to a desired degree.
  • the compounding quantity of an expensive ionic compound can be reduced by mix
  • lithium salt as an antistatic agent (B) is preferable in terms of cost compared with an ionic compound, it has some difficulty in metal corrosiveness, and when too much compounding quantity, adhesiveness may fall. For this reason, even when using lithium salt as an antistatic agent, it is preferable that the compounding quantity of lithium salt is as small as possible.
  • the compound (D) having a benzotriazole group capable of inhibiting metal corrosion is compounded, the compounding amount of the lithium salt can be reduced, and even in this case, the metal corrosion of the pressure-sensitive adhesive composition is significantly inhibited. can do.
  • the compound (D) having a benzotriazole group is not particularly limited. Specifically, the compound etc. which are represented by following Chemical formulas 1-5 are mentioned:
  • the isomer exists in the compound of Formula 2, the present invention also includes all isomers.
  • the “isomer” also includes any structural isomers and positional isomers, tautomers, cis-trans isomers and stereoisomers such as enantiomers and racemic mixtures.
  • R 1 represents an alkyl group or halogen atom having 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms includes methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.
  • a halogen atom there are a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • R 1 is preferably a methyl group, an ethyl group, a fluorine atom, or a chlorine atom, and more preferably a methyl group or a chlorine atom.
  • R ⁇ 1> may be same or different, respectively.
  • p is 0-4, Preferably it is 0-1, More preferably, it is 0.
  • "p is 0" means the substituent R 1 does not exist, that is, all the substituents R 1 means a hydrogen atom.
  • R 2 is a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms and a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms 1 to 4 carbon atoms
  • An alkyl group is selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is not particularly limited, but may be methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, Linear or branched alkyl groups such as heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl and 2-ethylhexyl.
  • the cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cyclopentyl group, and preferably a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
  • the cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms substituted with alkyl having 1 to 3 carbon atoms is not particularly limited, but is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, or n.
  • cycloalkyl-C1-C4 alkyl group of 5-7 carbon atoms For example, a cyclopentylmethyl group, a cyclohexylmethyl group, a cyclopentyl-1, 1-ethyl group, cyclohexyl-1,1 -Ethyl group, cyclopentyl-1,2-ethyl group or cyclohexyl-1,2-ethyl group.
  • R 2 is preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, and more preferably a methyl group.
  • R 3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms substituted with 1 to 3 alkyl atoms having 1 to 4 carbon atoms, and 5 to 5 carbon atoms 7 cycloalkyl-carbon atoms of 1 to 4 alkyl groups, phenyl groups, phenyl-carbon atoms of 1 to 4 alkyl groups, 1 to 3 carbon atoms of 1 to 4 alkyl substituted phenyl groups and 1 to 3 carbon atoms of 1 to 4 A substituent selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms substituted with alkyl of phenyl.
  • an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms substituted with alkyl having 1 to 3 carbon atoms, and cycloalkyl having 5 to 7 carbon atoms Since the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is the same as the definition of the substituent R 2 , the description is omitted here.
  • a phenyl group an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group substituted with 1 to 3 carbon atoms 1 to 4 carbon atoms, and a phenyl carbon atom substituted with 1 to 3 carbon atoms 1 to 4 carbon atoms
  • R 3 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • q is 1-3, Preferably it is 1-2, and 1 is especially preferable.
  • 2- (2'-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole etc. are mentioned. These may be used alone or in combination, but among these, 1,2,3-benzotriazole, 1- (methoxymethyl) -1H-benzotriazole, in view of ease of handling and metal corrosion prevention effect, Preferred are 1- (formamidomethyl) -1H-benzotriazole and 1- (isocyanomethyl) -1H-benzotriazole.
  • the compound (D) which has a benzotriazole group may be manufactured synthetically, or a commercial item may be used.
  • a commercial item the thing of the Tokyo Kasei Co., Ltd. product etc. which are shown to the following table
  • the compounding quantity of the compound (D) which has a benzotriazole group is 3-20 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it is this range, the adhesive composition of this invention can exhibit the outstanding inhibitory effect of metal corrosion, and the outstanding antistatic ability (surface resistance value fall ability).
  • the said compounding quantity becomes like this. Preferably it is 5-18 mass parts, More preferably, it is 7-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it exists in this range, the outstanding inhibitory effect of metal corrosion and an antistatic ability (surface resistance value fall capability) can be achieved further.
  • the compounding quantity of the compound (D) which has the said benzotriazole group is less than 3 mass parts, the antistatic performance and the inhibitory effect of metal corrosion may not fully be acquired.
  • it exceeds 20 mass parts adhesiveness to a base material may worsen, the contamination of a to-be-adhered body may increase, or low-temperature stability may worsen.
  • the adhesive composition of this invention may also contain a crosslinking agent (E).
  • the crosslinking agent (E) is reactively bonded with a functional group such as a hydroxy group in the polymer (A) and, if present, a functional group such as a hydroxy group in the following polyfunctional (meth) acrylate monomer (F), To form a crosslinked structure.
  • a functional group such as a hydroxy group in the polymer (A) and, if present, a functional group such as a hydroxy group in the following polyfunctional (meth) acrylate monomer (F)
  • F polyfunctional (meth) acrylate monomer
  • crosslinking method it is possible to react with a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, amide group or the like which is suitably included as an crosslinking starting point in an acrylic polymer such as an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound or a metal chelate
  • an acrylic polymer such as an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound or a metal chelate
  • crosslinking agent that is reacted by adding a compound having a group.
  • an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, and a metal chelate are used preferably.
  • an isocyanate compound Aromatic isocyanate, such as tolylene diisocyanate and xylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate; Aliphatic isocyanate, such as hexamethylene diisocyanate, etc. are mentioned.
  • an isocyanate compound and an epoxy compound are used especially preferable from a viewpoint of obtaining a moderate cohesion force. These compounds may be used independently, or may mix and use 2 or more types.
  • isocyanate compound For example, lower aliphatic polyisocyanates, such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; Alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; Aromatic diisocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; Trimethylolpropane / tolylene diisocyanate, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct, trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate, trimethylolprop And isocyanate adducts such as isane / hexamethylene diisocyanate trimer adduct and isocyanurate of hexamethylene diis
  • Aromatic diisocyanates such as 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI); Aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate (HDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMHDI), lysine diisocyanate, norbornene diisocyana
  • the isocyanate compound may be synthesized or a commercially available product may be used.
  • curing agent coronate L (trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct), coronate HL (trimethylolpropane / hexamethylene die), for example Isocyanate trimer adduct), coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate), coronate 2030, coronate 2031 (above, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), Take Nate® D-102, Takenate® D-110N, Takenate® D-200, Takenate D-202 (above, Mitsui Chemical Co., Ltd.) ), Duranate (trademark) 24A-100, Duranate (trademark) TPA-100, Duranate (trademark) TKA-100, Duranate (trademark) P301-
  • Coronate L Coronate L
  • Coronate HL Takenate® D110N
  • Duranate® 24A-100 are preferable, and Coronate L and Takenate® D110N are more preferred.
  • Coronate L and Takenate® D110N are more preferred.
  • Preferred, and coronate L is particularly preferred.
  • N, N, N'N'- tetraglycidyl-m-xylene diamine brand name TETRAD-X
  • TETRAD-C 1, 3-bis (N, N- diglycidylaminomethyl) cyclohexane
  • crosslinking agents (E) may be used alone or in combination of two or more thereof.
  • the usage-amount of a crosslinking agent (E) can be suitably selected by balance with the polymer (A) to be crosslinked, a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and a use use of an optical member.
  • the compounding quantity of the crosslinking agent (E) when using a crosslinking agent (E) is 0.05-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it is this range, the crosslinked structure of an appropriate grade can be formed by the adhesive composition of this invention, and excellent heat resistance can be provided. The said compounding quantity becomes like this. Preferably it is 0.08-3 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A), More preferably, it is 0.1-1 mass part. If it exists in this range, the crosslinked structure of an appropriate grade can be formed and the outstanding heat resistance can be further achieved. If the compounding quantity of the said crosslinking agent (E) is less than 0.05 mass part, sufficient crosslinked structure may not be formed and heat resistance may fall. On the other hand, when it exceeds 5 mass parts, crosslinking reaction may advance too much and adhesive force may fall.
  • the adhesive composition of this invention may also contain a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F).
  • a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) can form a network (crosslinking) structure independently or by the said crosslinking agent (E) or the following active energy ray initiator (G).
  • the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) that can be used in the present invention is not particularly limited. Specifically, 1, 4- butanediol di (meth) acrylate, 1, 6- hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethyleneglycol di (meth) Acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxy pivalinate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclophene
  • Tetrafunctional such as diglyserine tetra (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate;
  • Polyfunctional (meth) acrylate type monomers such as 6 functionalities, such as a dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and a caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are mentioned.
  • the said polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type. Moreover, what contains the thing which has a cyclic structure in skeletal structure among the said polyfunctional (meth) acrylate type monomers (F) is used preferably.
  • the cyclic structure may be a carbocyclic structure, a heterocyclic structure, or may be a monocyclic structure or a polycyclic structure.
  • isocyanurate structures such as di (acryloxyethyl) isocyanurate and a tris (acryloxyethyl) isocyanurate, for example.
  • Dimethylol dicyclopentane diacrylate, ethylene oxide modified hexahydrophthalic acid diacrylate, tricyclodecane dimethanol acrylate, neopentyl glycol modified trimethylolpropane diacrylate, adamantane di Acrylate etc. are preferable.
  • an active energy ray hardening-type acrylate oligomer can be used as a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F). It is preferable that this acrylate oligomer is 50,000 or less in weight average molecular weight. Examples of such acrylate oligomers include polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polybutadiene acrylates, and silicone acrylates.
  • the hydroxyl group of the polyester oligomer which has a hydroxyl group in the both ends obtained by condensation of polyhydric carboxylic acid and a polyhydric alcohol is esterified with (meth) acrylic acid, or polyhydric carboxylic acid, for example. It can obtain by esterifying the hydroxyl group of the terminal of the oligomer obtained by adding an alkylene oxide to (meth) acrylic acid.
  • An epoxy acrylate oligomer can be obtained by, for example, reacting (meth) acrylic acid with an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol-type epoxy resin or a novolak-type epoxy resin to esterify it.
  • the carboxyl modified type epoxy acrylate oligomer which modified this epoxy acrylate type oligomer partially with dibasic carboxylic anhydride can also be used.
  • a urethane acrylate oligomer can be obtained by esterifying the polyurethane oligomer obtained by reaction of a polyether polyol, a polyester polyol, and a polyisocyanate, for example with (meth) acrylic acid, and polyol acrylate
  • a system oligomer can be obtained by esterifying the hydroxyl group of a polyether polyol with (meth) acrylic acid.
  • the weight average molecular weight of the acrylate oligomer is preferably 50,000 or less, more preferably 500 to 50,000, still more preferably 3,000 to 40,000, in terms of standard polymethyl methacrylate measured by the GPC method. Is selected from. These acrylate oligomers may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
  • an adduct acrylate polymer in which a group having a (meth) acryloyl group is introduced into the side chain can be used as the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F).
  • the adduct acrylate polymer is a part of the crosslinkable functional group of the copolymer by using a copolymer of the (meth) acrylic acid ester described in the above-described polymer (A) and a monomer having a crosslinkable functional group in the molecule. It can obtain by making the compound which has group reacting with the (meth) acryloyl group and a crosslinkable functional group.
  • the weight average molecular weight of the said adduct acrylate polymer is 500,000-2 million in polystyrene conversion.
  • the compounding quantity of the polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) when using a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) is 3-30 with respect to 100 mass parts of polymers (A). It is a mass part. If it is this range, the adhesive composition of this invention can form a network (crosslinking) structure of an appropriate grade.
  • the said compounding quantity becomes like this. Preferably it is 5-25 mass parts, More preferably, it is 5-20 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it exists in this range, the network (crosslinking) structure of an appropriate grade can be further formed by the adhesive composition of this invention.
  • the compounding quantity of the said polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) is less than 3 mass parts, the network (crosslinking) structure of an appropriate grade may not be formed in an adhesive layer etc. in some cases. On the other hand, when it exceeds 30 mass parts, cohesion force may fall.
  • the adhesive composition of this invention may also contain an active energy ray initiator (G).
  • active energy ray initiator (G) exists, the network (crosslinking) structure by the said polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) can be formed suitably.
  • the active energy ray initiator (G) which can be used by this invention is not specifically limited. Specifically, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether,
  • Acetophenone dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone,
  • Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide and the like may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
  • the compounding quantity of the active energy ray initiator (G) at the time of using an active energy ray initiator (G) is 0-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it is this range, the adhesive composition of this invention can form a network (crosslinking) structure of an appropriate grade.
  • the said compounding quantity becomes like this. Preferably it is 0.5-4 mass parts, More preferably, it is 1-3 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A). If it exists in this range, the network (crosslinking) structure of an appropriate grade can be further formed by the adhesive composition of this invention.
  • cohesion force may fall.
  • the adhesive composition of this invention contains at least one of the said crosslinking agent (E) or the said polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and an active energy ray initiator (G).
  • Crosslinking reaction is performed using at least one of the said crosslinking agent (E) or the said polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) and an active energy ray initiator (G), and it exists in a polymer (A), or a polytube when it exists
  • a crosslinked structure (network structure) is formed between the functional (meth) acrylate monomers (F) or between the polymer (A) and the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F).
  • the crosslinking reaction method is not particularly limited, and any one of the crosslinking agent (E) or the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) and the active energy ray initiator (G) may be used, or these crosslinking agents (E ), The polyfunctional (meth) acrylate-based monomer (F), and the type of the active energy ray initiator (G) are appropriately selected.
  • crosslinking by electron beam irradiation, etc. are used preferably.
  • this invention is not limited to the following Example.
  • crosslinking by heat crosslinking by ultraviolet irradiation
  • crosslinking by electron beam irradiation are performed preferably.
  • "when using a crosslinking agent (E)” means using a crosslinking agent (E) at least, ie, using only a crosslinking agent (E), a crosslinking agent (E) and a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (
  • F active energy ray initiator
  • crosslinking by ultraviolet irradiation and crosslinking by electron beam irradiation are preferable. Is done.
  • the active energy ray initiator (G) when the polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F) is used but the active energy ray initiator (G) is not used (that is, the compounding quantity of the active energy ray initiator (G) is 0 mass part), electron beam irradiation Crosslinking by is preferably performed.
  • the active energy ray initiator (G) is not mix
  • crosslinking conditions are not specifically limited, A well-known method can be used.
  • the crosslinking conditions in the case of performing crosslinking by heat are not particularly limited, but for the polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound (D) having a benzotriazole group, A crosslinking agent (E), a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F), and an active energy ray initiator (G) are mixed in a predetermined amount to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and after applying the composition to a suitable release film, crosslinking by heat Reaction.
  • heat-crosslinking 1 to 5 minutes at 80-110 degreeC with respect to the coating film on a peeling film preferably, it is 0 in the atmosphere of temperature 20-45 degreeC and humidity 10-65% RH, and 0 Leave for 10 days to aging. More preferably, after performing heat crosslinking for 1 to 3 minutes at 90-100 degreeC with respect to the coating film on a peeling film, it is left to stand for 0-7 days in the atmosphere of 20-60% RH of humidity at temperature 20-35 degreeC. Aging is performed.
  • the compounding quantity of a crosslinking agent (E), a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and an active energy ray initiator (G) at the time of thermal crosslinking is not specifically limited,
  • the compounding quantity of a crosslinking agent (E) It is preferable to make 0.05-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A), and to not mix
  • crosslinking conditions in the case of performing crosslinking by ultraviolet irradiation are not restrict
  • the coating film of a peeling film irradiates the ultraviolet-ray of wavelength 400nm or less, Especially preferably, 200-380nm, 100-500mW / cm ⁇ 2> of irradiation intensity, 100-1000mJ / cm ⁇ 2> of irradiation amounts.
  • the coating film on a peeling film is irradiated with the wavelength of 400 nm or less, Especially preferably, 200-380 nm, ultraviolet-ray of irradiation intensity 100-400 mW / cm ⁇ 2>, irradiation amount 200-800 mJ / cm ⁇ 2>.
  • an ultraviolet irradiation source a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a halogen lamp etc. can be illustrated.
  • ultraviolet rays are irradiated, other radiation or wavelength may be included as long as ultraviolet rays of 380 nm or less are preferably irradiated, and the method is not particularly limited.
  • the compounding quantity of a crosslinking agent (E), a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and an active energy ray initiator (G) at the time of crosslinking by ultraviolet irradiation is not specifically limited,
  • a crosslinking agent (E ) The compounding quantity of) is 0 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer (A), and the compounding amount of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) is 3 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (A). It is preferable to set it as 30 mass parts, and to make the compounding quantity of an active energy ray initiator (G) into 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A).
  • the crosslinked structure can be formed by ultraviolet rays.
  • the polymer (A) or the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) It is believed that the active energy ray initiator (G) activated by irradiation of ultraviolet rays acts to bind both by some action. For example, hydrogen is extracted from a polymer (A) or a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) to activate carbon atoms, and these carbon atoms are bonded in the vicinity, resulting in a random crosslinked structure. Reaction and the like are inferred.
  • the crosslinking conditions in the case of performing crosslinking by electron beam irradiation are not particularly limited, but for the polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound (D) having a benzotriazole group, And a predetermined amount is mixed with a crosslinking agent (E), a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and an active energy ray initiator (G), and an adhesive composition is obtained, after apply
  • an electron beam is irradiated under the inert gas atmosphere on the conditions which are 100-250 kV of acceleration voltages and 10-60 kGy of absorption doses with respect to the coating film on a peeling film. More preferably, an electron beam is irradiated with an inert gas atmosphere on the conditions which are 100-200 mA of acceleration voltages, and 20-40 kGy of absorption doses with respect to the coating film on a peeling film.
  • the inert gas is not particularly limited, but helium, argon, nitrogen or the like can be used.
  • the compounding quantity of a crosslinking agent (E), a polyfunctional (meth) acrylate type monomer (F), and an active energy ray initiator (G) at the time of crosslinking by electron beam irradiation is not specifically limited, A crosslinking agent (E ), The compounding quantity of) is 0 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer (A), and the compounding amount of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) is 3 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (A). It is preferable to set it as 30 mass parts, and to make the compounding quantity of an active energy ray initiator (G) into 0-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polymers (A).
  • the reason why the crosslinked structure can be formed by the electron beam is not clear, but since the crosslinked structure is formed even when the active energy ray initiator (G) is not present, the polymer (A) or the polyfunctional (meth) acrylate-based monomer In (F), an active site
  • hydrogen is extracted from a polymer (A) or a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) to activate carbon atoms, and these carbon atoms are bonded in the vicinity, resulting in a random crosslinked structure. Reaction and the like are inferred.
  • the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a curing accelerator, ionic liquid, inorganic filler, softener, antioxidant, antioxidant, stabilizer, tackifying resin, modified resin (polyol resin, phenol resin, acrylic resin, polyester resin, polyolefin resin, Epoxy resins, epoxidized polybutadiene resins, etc.), leveling agents, antifoaming agents, plasticizers, dyes, pigments (colored pigments, extender pigments, etc.), treatment agents, sunscreen agents, optical brighteners, dispersants, thermal stabilizers, light stabilizers, ultraviolet rays You may also include additives, such as an absorbent, a lubricating agent, and a solvent.
  • a hardening accelerator a dibutyltin dilaurate, JCS-50 (made by Johoku Chemical Co., Ltd.), formate TK-1 (made by Mitsui Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned, for example.
  • As antioxidant dibutylhydroxytoluene (BHT), Irganox (trademark) 1010, Irganox (trademark) 1035FF, Irganox (trademark) 565 (all, Chiba specialty chemicals company) Products).
  • rosin such as rosin acid, polymerization rosin acid, and rosin acid ester
  • terpene resin terpene phenol resin
  • aromatic hydrocarbon resin aliphatic saturated hydrocarbon resin, petroleum resin, etc.
  • usage-amount of an additive in the case of using the said additive is not restrict
  • a uniform mixture is obtained by mixing each component described above in a batch, sequentially mixing the respective components, or mixing the remaining components after mixing any of a plurality of components. It can manufacture by stirring as much as possible. More specifically, it can prepare by heating to a temperature, for example, 30-40 degreeC as needed, and stirring 10 minutes-5 hours, for example, until it becomes uniform with a stirrer.
  • the adhesive composition of this invention can be used for joining (that is, sticking) of various base materials.
  • a base material which can be used here, glass, a plastic film, paper, a metal foil, etc. are mentioned.
  • glass general inorganic glass is mentioned.
  • the plastic in the plastic film include polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride, cellulose resin, acrylic resin, cycloolefin resin, amorphous polyolefin resin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, and ABS resin.
  • the amorphous polyolefin resin usually has a polymerized unit of a cyclic polyolefin such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer, and may be a copolymer of a cyclic olefin and a linear cyclic olefin.
  • amorphous polyolefin resins include trade names Aton of JSR Corporation, ZEONEX® of Nihon Xeon Corporation, ZEONOR®, APO of Mitsui Kagaku Corporation, and Apel®.
  • well-known methods such as a solvent casting method and a melt-extrusion method, are used suitably.
  • the paper include imitation paper, fine paper, kraft paper, art coat paper, caster coated paper, pure white roll paper, parchment paper, water resistant paper, glassine paper, corrugated paper, and the like.
  • metal foil, aluminum foil etc. are mentioned, for example.
  • this invention also provides the optical member provided with the adhesive layer formed from the adhesive composition of this invention.
  • a polarizing plate As an optical member, a polarizing plate, a retardation plate, the optical film for plasma displays, the conductive film for touch panels, etc. are mentioned preferably, for example.
  • the adhesive composition of this invention is excellent in the adhesiveness of a polarizing plate and glass.
  • this invention is not limited to said form, It is also possible to use for adhesion
  • the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may be used by directly applying to one or both sides of the optical film to form an adhesive layer, and may be used by previously forming the pressure-sensitive adhesive layer on the release film and transferring it to one or both sides of the optical film. do.
  • Coating of the adhesive composition of this invention may be according to a conventionally well-known method, For example, a natural coater, a knife belt coater, a floating knife, a knife over roll, a knife on blanket, a spray, a dip, a kiss roll, a squeeze roll, reverse Various coating methods using apparatuses, such as a roll, an air blade, a curtain flow coater, a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, a baker applicator, and a gravure coater, are mentioned. Moreover, what is necessary is just to select the coating thickness (thickness after drying) of the composition of this invention according to the base material to be used, and a use, Preferably it is 5-40 micrometers, More preferably, it is 15-30 micrometers.
  • the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is not particularly limited. However, in consideration of coating ease and the like, the viscosity at 25 ° C. is preferably 500 to 5000 mPas, more preferably 1000 to 3000 mPas. If the said viscosity is less than 500 mPas, a bump may arise in a coating surface. On the other hand, when it exceeds 5000 mPas, coating streaks may arise.
  • the pressure-sensitive adhesive layer obtained from the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is obtained by crosslinking the above pressure-sensitive adhesive composition.
  • crosslinking of an adhesive composition is generally performed after application
  • Crosslinking of this adhesive composition is performed by standing still generally under the method and conditions as mentioned above.
  • the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention has excellent antistatic ability (low surface resistance value) while exhibiting excellent anti-corrosion resistance to metal (antirusting action). For this reason, the adhesive composition of this invention is effective for adhesion
  • an optical film can be peeled off without an adhesive remaining in a to-be-adhered body.
  • excellent light leakage resistance and rework resistance can be obtained.
  • the adhesive composition of this invention since the adhesive composition of this invention has the outstanding heat resistance, it can express the high durability which does not produce lifting and peeling by heat processing or high humidity treatment.
  • Solid content was computed by following formula (1) by making the mass of the glass dish X and the mass of the sum total of the glass dish and polymer solution before drying as Y, and the mass Z of the sum of the glass dish and remaining solid content.
  • the adhesive solution put into the glass bottle was temperature-controlled at 25 degreeC, and it measured by the Brookfield viscometer.
  • the polymerization solution was cooled to room temperature, 280 parts by mass of ethyl acetate was added thereto, and the mixture was diluted to obtain a solution of the polymer (A-1).
  • Solid content of the obtained polymer (A-1) solution was 20 mass%, and the viscosity was 4500 mPas.
  • the weight average molecular weight of the obtained polymer (A-1) was 1.6 million.
  • the solution of the polymer (A-2)-(A-19) was obtained by performing operation similar to the synthesis example 1 except having changed the composition of the monomer component into the composition shown in Table 1. Moreover, solid content, viscosity, and weight average molecular weight of the obtained polymer (A-2)-(A-19) solution are measured, and the result is shown in following Table 3.
  • BA is butyl acrylate
  • 2EHA is 2-ethylhexyl acrylate
  • HEA 2-hydroxyethyl acrylate
  • 4-HBA is 4-hydroxybutyl acrylate
  • AA is acrylic acid.
  • 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate as an antistatic agent (B) (Tokyo Kasei Co., Ltd.) as 100 mass parts of polymers (A-1) so that it may become a composition as shown in following Table 4.
  • the adhesive composition 1 obtained was apply
  • UV ultraviolet-ray
  • UV illuminometer iGraphix, UVPF-A1 (PD-365)
  • UV source iGraphix, metal halide lamp
  • a polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound having a benzotriazole group (D), a crosslinking agent (E), and a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) and an active energy ray initiator (G) were added, and it fully mixed, and obtained adhesive composition (2) and (3), respectively.
  • Example 2 operation similar to Example 1 was performed about the adhesive compositions (2) and (3) obtained, and the polarizing plates (2) and (3) with an adhesive layer were produced.
  • 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate as an antistatic agent (B) (Tokyo Kasei Co., Ltd.) as 100 mass parts of polymers (A-4) so that it may become a composition as shown in following Table 4.
  • the adhesive composition 4 obtained was apply
  • a polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound having a benzotriazole group (D), a crosslinking agent (E), and a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) and an active energy ray initiator (G) were added, and it fully mixed, and obtained adhesive composition (5) and (6), respectively.
  • Example 2 operation similar to Example 1 was performed about the adhesive compositions 5 and 6 obtained, and the polarizing plates 5 and 6 with an adhesive layer were produced.
  • the adhesive composition 7 obtained is apply
  • a polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound having a benzotriazole group (D), a crosslinking agent (E), and a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) and an active energy ray initiator (G) were added, and it fully mixed, and obtained the adhesive composition (10).
  • Example 2 operation similar to Example 1 was performed about the adhesive composition 10 obtained, and the polarizing plate 10 with an adhesive layer was produced.
  • a polymer (A), an antistatic agent (B), a silane coupling agent (C), a compound having a benzotriazole group (D), a crosslinking agent (E), and a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F) and an active energy ray initiator (G) were added, and it fully mixed, and obtained the comparative adhesive compositions (1)-(5), respectively.
  • Example 2 the operation similar to Example 1 was performed about the comparative adhesive compositions (1)-(5) obtained respectively, and the polarizing plates (1)-(5) with an adhesive layer for comparative were produced.
  • a polarizing plate 6 with a pressure-sensitive adhesive layer was produced in the same manner as in Example 7 except that the comparative pressure-sensitive adhesive composition 6 thus obtained was used.
  • Example 4 the operation similar to Example 4 was performed about the comparative adhesive composition 7 obtained, and the polarizing plate 7 with an adhesive layer for comparative was produced.
  • Example 7 the operation similar to Example 7 was performed with respect to the comparative adhesive composition 8 obtained, and the polarizing plate 8 with a comparative adhesive layer was produced.
  • Example 7 the operation similar to Example 7 was performed about the comparative adhesive composition 9 obtained, and the polarizing plate 9 with an adhesive layer for comparative was produced.
  • A represents a polymer (A);
  • B represents an antistatic agent (B);
  • C represents a silane coupling agent (C);
  • D represents compound (D) having a benzotriazole group;
  • E represents a crosslinking agent (E);
  • F represents a polyfunctional (meth) acrylate monomer (F);
  • G each represent an active energy ray initiator (G).
  • each component of following Table 4 is as follows.
  • the composition of each adhesive composition is represented by "mass part", respectively.
  • Ionic Compound 1 1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
  • Ionic Compound 2 N-methyl-N-propylpiperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide (manufactured by Kantogagaku Co., Ltd.)
  • Ionic compound 3 1-ethylpyridinium bromide (made by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
  • Ionic Compound 4 1-butyl-3-methylpyridinium trifluoromethanesulfonate (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
  • Lithium salt 1 bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • Lithium salt 2 Trifluoromethanesulfonic acid lithium (product of Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • Lithium salt 3 lithium perchlorate (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
  • Silane coupling agent 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product name Shin-Etsu Silicone KBM-403)
  • D-1 1,2,3-benzotriazole (Tokyo Kasei Co., Ltd. make, brand name B0094)
  • E-1 trimethylolpropane / tolylene diisocyanate (Nihon Polyurethane Co., Ltd. product, brand name coronate L)
  • Photopolymerization initiator diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (product of Chiba Japan Fan, brand name DAROCUR TPO)
  • evaluation methods of surface resistance value, metal corrosion inhibitory resistance, light leakage resistance, durability, adhesive force, adhesion to substrate, adherend contamination, low temperature stability, reworkability and gel fraction are as follows.
  • the surface resistance value ((ohm / sq)) of the adhesive layer surface of each polarizing plate with an adhesive layer was measured in 23 degreeC and 50% RH atmosphere using the microelectrometer (Kawaguchi Denki Seisakusho Co., Ltd. product).
  • each polarizing plate with an adhesive layer was affixed on aluminum foil, and the corrosion property when it was left to stand for two days in 60 degreeC and 90% RH atmosphere was observed.
  • Table 4 "(circle)” shows that a change was not confirmed on the adhesive layer surface, and "x” shows that the adhesive layer surface was whitened.
  • each polarizing plate with an adhesive layer was cut into the magnitude
  • each polarizing plate with an adhesive layer was cut out to the magnitude
  • These samples (1) and (2) were stuck so that they may overlap each surface of a glass plate, and the autoclave process was performed for 20 minutes on 50 degreeC and 0.49 mPa (5 kg / cm ⁇ 2>) conditions. Then, it put in 80 degreeC environment and observed the appearance after 120 hours.
  • Table 4 "(circle)” shows that light leakage was not observed, and "x” shows that light leakage was observed.
  • Each polarizing plate with an adhesive layer was cut out to the magnitude
  • This sample was stuck to a glass plate and autoclaved for 20 minutes on 50 degreeC and the conditions of 0.49 mPa (5 kg / cm ⁇ 2>). Then, it put in 100 degreeC environment or 60 degreeC / 90% RH environment, and observed the appearance after 120 hours.
  • (circle)" shows that foaming, lifting, and peeling were not observed even in any of the above environments
  • "x” shows that foaming, lifting, and peeling were observed at least in all of the above environments.
  • the adhesive force was measured according to the JIS Z0237 adhesive tape adhesive sheet test method. That is, the sample which cut
  • Each polarizing plate with an adhesive layer was cut out to the magnitude
  • This sample was stuck to a glass plate and autoclaved for 20 minutes on 50 degreeC and the conditions of 0.49 mPa (5 kg / cm ⁇ 2>). Then, it put in the environment of -40 degreeC, and the appearance after 120 hours was observed.
  • “(circle)” shows that foaming, lifting, peeling, and recrystallization was not observed
  • "x” shows that foaming, lifting, peeling, and recrystallization was observed.
  • the adhesive layer is formed on a polyester film using the polyester film which peeled instead of the polarizing plate, and coatings 1, 3, 5, 7, 10, and 15
  • the gel fraction (%) in days was measured.
  • the gel fraction weighed about 0.1 g of the pressure-sensitive adhesive layer which was left to stand for a predetermined day in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH, and was referred to as weight W 1 (g). This was collected in a sample bottle, and about 30 g of ethyl acetate was added and left to stand for 24 hours.
  • the contents of the sample bottle were separated by filtration through a 200 mesh stainless steel wire mesh (weight of wire mesh W 2 (g)), and the total weight W 3 of the wire mesh and residue dried at 90 ° C. for 1 hour ( g) was measured.
  • the gel fraction was calculated by the following equation (2) from these measurements:

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Abstract

본 발명은 양호한 대전방지성능을 지닌 점착층을 형성할 수 있는 점착제 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의하면, (메타)아크릴산 에스터를 함유하는 단량체 성분을 중합해서 이루어진 중합체(A) 100질량부에 대해서, 이온성 화합물 및/또는 리튬염을 함유하는 대전방지제(B) 0.01~3질량부, 실란 커플링제(C) 0~1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 5~20질량부 및 가교제(E) 0.05~5질량부, 또는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 3~30질량부 및 활성 에너지선 개시제(G) 0~5질량부를 포함하는, 점착제 조성물이 제공된다.

Description

점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재
본 발명은 점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은, 광학 시트로서의 광학특성을 저해하는 일이 없고, 양호한 대전방지성능을 지닌 점착층을 형성할 수 있는 점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재에 관한 것이다. 한층 보다 구체적으로는, 본 발명은, 광학 시트로서의 광학특성을 저해하는 일이 없고, 양호한 대전방지성능 및 금속 부식성을 지닌 점착층을 형성할 수 있는 점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재에 관한 것이다.
정전기는 도처에서 발생하지만, 이러한 정전기의 축적은, 공업제품 및 공업재료의 가공 및 사용에 있어서 다양한 문제의 원인이 된다. 예를 들어, 정전기의 축적은, 물체가 티끌이나 먼지를 끌어당기는 원인으로 되고, 그 때문에, 공업제품의 제조과정에 있어서 오염의 문제를 일으키거나, 제품의 성능을 손상시키거나 할 가능성이 있다. 표시장치로서의 디스플레이는, 공업제품으로서, 특히 최근, IT 기술의 진전, 정보화 사회로의 이행과 함께, 폭넓게 이용되어, 그 역할은 점점 중요해지고 있다. 또, 경량박형화의 요구에 있어서, 종래의 브라운관 대신에, 평판형 디스플레이가 급속히 보급되고 있다. 평판형 디스플레이로서는, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 전계발광(electroluminescence) 등이 있지만, 휴대전화나 퍼스널 컴퓨터의 디스플레이, 텔레비전 등에 가장 보급되어 있는 것은 액정 디스플레이이다.
정전기는 이러한 액정 디스플레이를 비롯한 평판형 디스플레이의 표면에 발생한다. 이들 정전기는 공기 중의 먼지를 끌어당기고, 회복이 곤란 혹은 불가능한 손상을 일으킬 가능성이 있으며, 또한, 안전성의 면으로부터도 위험할 수 있다. 또, 액정 디스플레이 제조과정에 있어서, 표면 보호 필름 및 이형 필름을 제거할 때에, 필름 표면에 정전기가 발생한다. 이들 정전기가 근접하는 전자부품에 불량을 일으키고, 그 결과, 불량품이 생겨버릴 가능성이 있다.
정전기의 축적을 조정하는 가장 유효한 방법은 대전방지제를 사용하는 것이다. 광학적으로 투명한 대전방지성 점착제를 광학 필름에 적용함으로써 정전기를 달아나게 할 수 있다. 대전방지제는 정전기의 축적을 제거하도록 작용하므로, 그 효과의 척도로서 표면 저항값이 유효하게 사용된다.
예를 들어, 광학부재에 대전방지제를 사용한 예로서는, 금속산화물입자를 배합한 자외선 경화형 아크릴수지로 이루어진 대전방지층을 편광판에 형성하는 방법이 개시되어 있다(특허문헌 1). 또한, 플라스틱 필름 기재에 제4급 암모늄염을 함유하는 대전방지층을 형성하고, 그 위에 점착제층을 형성한 대전방지성 점착 시트가 개시되어 있다(특허문헌 2).
한편, 아크릴계 공중합체에 활성 에너지선 경화형 화합물을 함유하는 점착성 재료에 활성 에너지선을 조사해서 이루어진 편광판용 점착제가 개시되어 있다(특허문헌 3).
[특허문헌 1] 일본국 공개특허 제2001-318230호 공보
[특허문헌 2] 일본국 공개특허 제2000-273417호 공보
[특허문헌 3] 일본국 공개특허 제2006-235568호 공보.
그러나, 상기 특허문헌 1이나 2에 기재된 수법에서는 대전방지층 형성의 공정을 필요로 하여, 생산성을 저하시켜, 비용이 상승되어 버린다고 하는 문제가 있다. 또, 특허문헌 3에서는, 대전방지성에 대한 언급이 되어 있지 않고, 그러한 문제에 대해서 하등 언급이 되어 있지 않다.
대전방지제를 점착제층에 함유시킨 점착 시트도 보고되어 있다. 이러한 점착 시트류에는, 점착제 표면에 대전방지제가 배어나오는 것을 억제하기 위해서, 폴리에터 폴리올 화합물과 알칼리성 금속염으로 이루어진 대전방지제를 아크릴계 점착제에 첨가하고 있다. 그러나, 대전방지제의 일례인 LiClO4는 부식성이 높고, 점착면이 금속에 직접 접촉한 경우에는 금속을 부식시킬 우려가 있다. 특히 광학부재 용도로서, 광학부재의 외주부를 「베젤」(bezel)이라 불리는 스테인레스, 알루미늄 등의 금속제의 고정 프레임으로 고정된 액정 모듈에 적용하는 예도 많이 볼 수 있다. 이 때문에, 이들 용도에서는 상기 점착제 성분에 의한 부식에 의해 「베젤」이 변질될 가능성이 있어, 적용의 제약이 있었다.
따라서, 본 발명은, 상기 사정을 감안해서 이루어진 것으로서, 광학 시트의 광학특성을 저해하는 일이 없고, 양호한 대전방지성능을 지닌 점착층을 형성할 수 있는 점착제 조성물 및 이것을 구비한 광학부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또, 본 발명의 다른 목적은, 양호한 대전방지성능(낮은 표면 저항값) 및 금속 부식 억제방지성(방청 작용)의 쌍방을 구비하는 점착층을 형성할 수 있는 점착제 조성물 및 이것을 구비한 광학부재를 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위하여, 예의 연구를 행하였다. 그 결과, 대전방지제로서 이온 화합물 및/또는 리튬염, 그리고 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물을, (메타)아크릴산 에스터계의 점착제 조성물에 첨가함으로써, 우수한 대전방지능력(낮은 표면 저항값)을 지니면서도 우수한 금속 부식 억제방지성(방청 작용)을 발휘하는 점착제층을 형성할 수 있는 것을 알게 되었다. 이러한 지견에 의거해서, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, (메타)아크릴산 에스터를 함유하는 단량체 성분을 중합해서 이루어진 중합체(A) 100질량부에 대해서, 이온성 화합물 및/또는 리튬염을 함유하는 대전방지제(B) 0.01~3질량부, 실란 커플링제(silane coupling agent)(C) 0~1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 3~20질량부, 그리고 가교제(E) 0.05~5질량부, 또는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 3~30질량부 및 활성 에너지선 개시제(G) 0~5질량부를 포함하는 점착제 조성물이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 대전방지성능(낮은 표면 저항값) 및 금속 부식 억제방지성(방청 작용)이 우수하다. 따라서, 본 발명의 점착제 조성물을 사용함으로써, 광학 시트의 광학특성을 저해하는 일이 없고, 양호한 대전방지성능 및 금속 부식 억제방지 능력을 지닌 점착층을 형성할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 점착제 조성물은, 각종 플라스틱 필름 등의 피착체의 접착에 유효하며, 특히 편광판에 이용했을 경우, 우수한 내광누설성, 대전방지성 및 방청성을 얻을 수 있다.
본 발명은, (메타)아크릴산 에스터를 함유하는 단량체 성분을 중합해서 이루어진 중합체(A) 100질량부에 대해서, 이온성 화합물 및/또는 리튬염을 함유하는 대전방지제(B) 0.01~3질량부, 실란 커플링제(C) 0~1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 3~20질량부, 그리고 가교제(E) 0.05~5질량부, 또는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 3~30질량부 및 활성 에너지선 개시제 (G) 0~5질량부를 포함하는 점착제 조성물이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 대전방지제로서 이온 화합물 또는 리튬염, 및 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물을, (메타)아크릴산 에스터계의 점착제 조성물, 특히 활성 에너지 경화형 아크릴계 점착제 조성물에 첨가하는 것을 특징으로 한다. 전술한 바와 같이, 종래에는, 편광판 등의 광학부재에서는, 표면 보호 필름을 박리할 때나 취급 시의 마찰 등에 의해 정전기가 발생해서 대전되기 쉬우며, 액정 디스플레이 등에 적용했을 경우에 정전기 장해를 일으키기 쉬웠다. 또한, 전자전기기기, OA 기기 등에서는 정전기에 의한 오작동이나 메모리 파괴 등의 각종 정전기 장해를 야기하거나 하였다. 이 때문에, 대전을 방지해서 티끌이나 먼지 등의 부착, 기타 정전기에 의한 각종 트러블의 발생을 억제하기 위해서, 종래에는, 대전 방지를 목적으로 해서 대전방지층을 점착제층과는 별도로 설치하고 있었다. 그러나, 이러한 방법에서는, 두께를 얇게 하는 것이 곤란하거나, 제조 공정이 복잡해서 수고가 든다고 하는 문제가 있었다.
이에 대해서, 본 발명에 의한 바와 같이, 이온 화합물 또는 리튬염 및 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물을 점착제 조성물에 첨가함으로써, 점착제층에 대전 성능을 부여할 수 있고, 1 ×1010Ω/sq 미만의 낮은 표면 저항값을 달성할 수 있다. 또, 특히 점착제 조성물에 리튬염 혹은 (메타)아크릴산/(메타)아크릴산 에스터계의 중합체를 사용할 경우에는, 가까이 금속이 존재할 경우에는, 특히 습도가 높은 분위기 중에서는, 점착제 성분에 의해 금속의 부식이 유발되어, 내구성 등의 점에서 문제가 있었다. 그러나, 본 발명에서는, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물을 점착제 조성물에 첨가함으로써, 습도가 높은 분위기 하이더라도 금속 부식을 억제방지할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 점착제 조성물을 이용해서 형성되는 점착제층은 내구성이 우수하다. 이에 부가해서, 이러한 점착제 조성물을 이용해서 형성한 도막은, 투명성이 양호해서, 박리 후의 피착체에의 오염성이 적다. 따라서, 본 발명의 점착제 조성물은, 광학부재의 점착제층에 특히 적합하게 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 점착제 조성물을 이용해서 형성되는 점착제층은 양호한 네트워크(가교) 구조를 지닌다.
이하, 본 발명의 점착제 조성물의 각 성분에 대해서 상세히 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메타)아크릴레이트」란, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 총칭이다. (메타)아크릴산 등의 (메타)를 포함하는 화합물 등도 마찬가지로, 명칭 중에 「메타」를 지닌 화합물과 「메타」를 지니지 않은 화합물의 총칭이다. 마찬가지로 해서, 「(메타)아크릴산 에스터」란, 아크릴산 에스터 및 메타크릴산 에스터의 총칭이다.
[중합체(A)]
중합체(A)는 (메타)아크릴산 에스터를 함유하는 단량체 성분을 중합해서 이루어진다. 여기서, (메타)아크릴산 에스터의 구체적인 예로서는, 예를 들어,
메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트,
이소프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트,
이소부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트,
이소아밀(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트,
n-헵틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트,
tert-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트,
데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트,
트라이데실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트,
이소스테아릴(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트,
벤질(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트,
테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트,
4-n-부틸사이클로헥실(메타)아크릴레이트,
2-에틸헥실다이글라이콜(메타)아크릴레이트, 부톡시에틸(메타)아크릴레이트,
부톡시메틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트,
2-(2-메톡시에톡시)에틸(메타)아크릴레이트,
2-(2-부톡시에톡시)에틸(메타)아크릴레이트, 4-부틸페닐(메타)아크릴레이트,
페닐(메타)아크릴레이트, 2,4,5-테트라메틸페닐(메타)아크릴레이트,
페녹시메틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트,
폴리에틸렌옥사이드 모노알킬에터(메타)아크릴레이트,
폴리에틸렌옥사이드 모노알킬에터(메타)아크릴레이트,
폴리프로필렌옥사이드 모노알킬에터(메타)아크릴레이트,
트라이플루오로에틸(메타)아크릴레이트,
펜타데카플루오로옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-클로로에틸(메타)아크릴레이트,
2,3-다이브로모프로필(메타)아크릴레이트, 트라이브로모페닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 (메타)아크릴산 에스터는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 조합해서 사용해도 된다.
상기 (메타)아크릴산 에스터 중, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트가 보다 바람직하며, 메틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트가 특히 바람직하다.
본 발명에서는, 중합체(A)를 제조하는 데 사용되는 단량체 성분은, 상기 (메타)아크릴산 에스터에 부가해서, 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머를 포함해도 된다. 여기서, 「하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머」란, 분자 중에 하이드록시기를 지닌 아크릴계 모노머이다. 이러한 모노머의 구체적인 예로서는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 모노(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 모노(메타)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 다이(메타)아크릴레이트, 트라이메틸올에테인 다이(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐옥시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴아마이드, 사이클로헥세인 다이메탄올 모노아크릴레이트 등을 들 수 있고, 또한, 알킬글라이시딜에터, 알릴글라이시딜에터, 글라이시딜(메타)아크릴레이트 등의 글라이시딜기 함유 화합물과, (메타)아크릴산과의 부가반응에 의해 얻어지는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 조합해서 사용해도 된다.
상기 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 중, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴아마이드, 사이클로헥세인 다이메탄올 모노아크릴레이트가 바람직하고, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴아마이드가 보다 바람직하며, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트가 특히 바람직하다.
본 발명에서는, 중합체(A)를 제조하는데 사용되는 단량체 성분은, 상기 (메타)아크릴산 에스터에 부가해서, (메타)아크릴산 에스터 및 존재할 경우에는 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머와 공중합 가능한 단량체(이하, 단지 「기타 모노머」라고도 칭함)를 함유해도 된다. 이때, 기타 모노머는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 글라이시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글라이시딜(메타)아크릴레이트 등의 에폭시기를 지닌 아크릴계 모노머;
다이메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 다이에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-tert-부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 메타크릴옥시에틸트라이메틸암모늄 클로라이드 (메타)아크릴레이트 등의 아미노기를 지닌 아크릴계 모노머;
(메타)아크릴아마이드, n-메틸올(메타)아크릴아마이드, N-메톡시메틸(메타)아크릴아마이드, N,N-메틸렌 비스(메타)아크릴아마이드 등의 아마이드기를 지닌 아크릴계 모노머;
(메타)아크릴산, 2-메타크릴로일옥시숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸말레산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈산, 2-메타크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산 등의 카복실기를 지닌 아크릴계 모노머;
2-메타크릴로일옥시에틸다이페닐포스페이트 (메타)아크릴레이트, 트라이메타크릴로일옥시에틸포스페이트 (메타)아크릴레이트, 트라이아크릴로일옥시에틸포스페이트 (메타)아크릴레이트 등의 인산기를 지닌 아크릴계 모노머;
설포프로필(메타)아크릴레이트 나트륨, 2-설포에틸(메타)아크릴레이트 나트륨, 2-아크릴아미도-2-메틸프로페인설폰산 나트륨 등의 설폰산기를 지닌 아크릴계 모노머;
우레탄(메타)아크릴레이트 등의 우레탄기를 지닌 아크릴계 모노머;
p-tert-부틸페닐(메타)아크릴레이트, o-바이페닐(메타)아크릴레이트 등의 페닐기를 지닌 아크릴계 비닐 모노머;
2-아세토아세톡시에틸(메타)아크릴레이트, 비닐트라이메톡시실란, 비닐트라이에톡시실란, 비닐 트리스(β-메톡시에틸)실란, 비닐트라이아세틸실란, 메타크릴로일옥시프로필트라이메톡시실란 등의 실란기를 지닌 비닐모노머;
스타이렌, 클로로스타이렌, α-메틸스타이렌, 비닐톨루엔, 염화비닐, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 아크릴로나이트릴, 비닐피리딘 등을 들 수 있다. 이들 기타 모노머는, 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상 조합해서 사용해도 된다.
상기 기타 모노머 중, (메타)아크릴산, (메타)아크릴아마이드, 글라이시딜(메타)아크릴레이트, 다이메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-아세토아세톡시에틸(메타)아크릴레이트가 바람직하고, (메타)아크릴산, 아크릴아마이드, 다이메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-아세토아세톡시에틸(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하며, 아크릴산이 특히 바람직하다.
중합체(A)는, 전술한 바와 같이, (메타)아크릴산 에스터, 및 필요하면 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 및/또는 기타 모노머를 포함하는 단량체 성분을 중합함으로써, 제조된다. 또한, 단량체 성분이 2종 이상의 다른 단량체로 이루어질 경우에는, 단량체 성분을 공중합함으로써, 중합체(A)가 공중합체의 형태로 제조된다. 중합체(A)의 조성(단량체 성분의 각 단량체의 사용량)은, 특별히 제한되지 않는다.
예를 들어, 중합체(A)를, (메타)아크릴산 에스터 및 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머로 구성되는 단량체 성분을 공중합함으로써 제조할 경우의, (메타)아크릴산 에스터 및 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머의 조성은, 특별히 제한되지 않는다. (메타)아크릴산 에스터의 조성은, (메타)아크릴산 에스터 및 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머의 합계량을 100 질량부라 했을 경우에, 바람직하게는 95~99.9질량부, 보다 바람직하게는 97~99.9질량부이다. 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머의 조성은, (메타)아크릴산 에스터 및 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머의 합계량을 100질량부라 했을 경우에, 바람직하게는 0.1~5질량부, 보다 바람직하게는 0.1~3질량부이다.
또한, 중합체(A)를, (메타)아크릴산 에스터, 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 및 기타 모노머로 구성되는 단량체 성분을 공중합함으로써 제조할 경우의, 각 단량체의 조성은 특별히 제한되지 않는다. (메타)아크릴산 에스터의 조성은, (메타)아크릴산 에스터, 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 및 기타 모노머의 합계량을 100질량부라 했을 경우에, 바람직하게는 80~99.5질량부, 더 바람직하게는 88~99.2질량부, 특히 바람직하게는 93~99질량부이다. 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머의 조성은, (메타)아크릴산 에스터, 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 및 기타 모노머의 합계량을 100질량부라 했을 경우에, 바람직하게는 0.5~10질량부, 더욱 바람직하게는 0.6~7질량부, 특히 바람직하게는 0.7~5질량부이다. 상기 범위에 있으면, 하기 가교제(E) 등에 의해, 중합체(A) 내에 적절한 정도의 가교 구조를 달성할 수 있다. 특히, 가교제(E)로서 이소사이아네이트계 가교제를 사용할 경우에는, 중합체(A) 중의 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 유래의 하이드록시기와 가교제(C)가 반응해서 생기는 가교점이 과도하게 되지 않으므로, 내열성 및 유연성이 우수한 점착제 조성물이 얻어진다. 기타 모노머의 조성은, (메타)아크릴산 에스터, 하이드록시기 함유 (메타)아크릴계 모노머 및 기타 모노머의 합계량을 100질량부라 했을 경우에, 바람직하게는 0~10질량부, 더욱 바람직하게는 0.2~5질량부, 특히 바람직하게는 0.3~2질량부이다.
중합체(A)의 제조 방법은, 특별히 제한되지 않고, 중합개시제를 사용하는 용액중합법, 유화중합법, 현탁중합법, 역상현탁중합법, 박막중합법, 분무중합법 등 종래 공지의 방법을 이용할 수 있다. 중합제어의 방법으로서는, 단열중합법, 온도제어중합법, 등온중합법 등을 들 수 있다. 또, 중합개시제에 의해 중합을 개시시키는 방법 외에, 방사선, 전자선, 자외선 등을 조사해서 중합을 개시시키는 방법을 채용할 수도 있다. 그 중에서도 중합개시제를 사용하는 용액중합법이, 분자량의 조절이 용이하고, 또 불순물도 적게 할 수 있으므로 바람직하다. 예를 들어, 용제로서 아세트산 에틸, 톨루엔, 메틸에틸케톤 등을 이용하고, 상기 단량체 성분의 합계량 100질량부에 대해서, 중합개시제를 바람직하게는 0.01~0.50질량부 첨가하고, 질소분위기 하에서, 예를 들어, 반응온도 60~90℃에서, 3~10시간 반응시킴으로써 얻어진다. 상기 중합개시제로서는, 예를 들어, 아조비스이소부티로나이트릴(AIBN), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로나이트릴), 아조비스사이아노발레르산 등의 아조화합물; tert-부틸퍼옥시피발레이트, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, tert-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 다이-tert-부틸퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, tert-부틸하이드로퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과산화수소, 과황산암모늄, 과황산칼륨, 과황산나트륨 등의 무기 과산화물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상 병용해도 된다.
상기 단량체 성분을 (공)중합함으로써 얻어지는 중합체(A)는, 중량평균 분자량(Mw)이 70만~200만인 것이 바람직하고, 90만~170만인 것이 보다 바람직하다. 중량평균 분자량이 70만 미만이면, 내열성이 부족할 경우가 있다. 한편, 중량평균 분자량이 200만을 초과하면, 끈끈한 정도가 낮아, 점착성이 저하할 경우가 있다. 또, 본 발명에 있어서, 중량평균 분자량은, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정한 폴리스타이렌 환산의 값을 채용하는 것으로 한다.
또한, 중합체(A)는, 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다.
[대전방지제(B)]
본 발명의 점착제 조성물은, 상기 중합체(A)에 부가해서, 대전방지제(B)를 포함한다. 대전방지제(B)를 첨가함으로써, 광학부재 등에 적용되었을 경우에, 공기 중의 먼지가 정전기에 의해 광학부재에 부착되는 것을 방지한다. 이 때문에, 본 발명의 점착제 조성물을 사용해서 형성되는 점착제층을 구비한 광학부재는, 피착체에의 오염성이 적다.
본 발명에 따른 대전방지제(B)는 이온성 화합물 및 리튬염의 적어도 한쪽을 포함한다.
이온성 화합물로서는, 특별히 제한되지 않는다. 이온성 화합물은, 중합체(A)에 대한 상용성을 지닌 동시에, 점착제 조성물의 조제 시 사용하는 유기 용매에 대한 상용성을 지니며, 또한, 베이스 폴리머에 첨가되었을 경우에 점착제 조성물의 투명성을 유지할 수 있는 것이 바람직하다. 또한, 광학 시트 등의 기재에 점착제 조성물을 도포해서 점착층으로 한 경우의 점착층의 표면 저항값을, 1×1012(Ω/sq) 이하로 할 수 있는 것이 바람직하다.
이러한 이온성 화합물은, 특별히 제한되지 않지만, 이미다졸륨염, 피리디늄염, 알킬암모늄염, 알킬피롤리듐염, 알킬포스포늄염, 피페리디늄염을 바람직하게 들 수 있다. 이때, 이온성 화합물은, 단독으로 사용되거나 혹은 2종 이상 병용해도 된다.
이들 중, 이미다졸륨염으로서는, 예를 들어,
1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1,3-다이메틸이미다졸륨 클로라이드, 1-부틸-2,3-다이메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 브로마이드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 메테인설포네이트,
1-부틸-1-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트라이데카플루오로옥틸)-이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 브로마이드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨아이오다이드,
1-에틸-2,3-다이메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-메틸이미다졸륨 클로라이드, 1,2,3-트라이메틸이미다졸륨 메틸설페이트,
1-메틸-3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트라이데카플루오로옥틸)-이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-아릴-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, 1-벤질-3-메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-벤질-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-벤질-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트 등을 들 수 있다.
또, 피리디늄염으로서는, 1-부틸-3-메틸피리디늄 브로마이드,
1-부틸-4-메틸피리디늄 브로마이드, 1-부틸-4-메틸피리디늄 클로라이드,
1-부틸피리디늄 브로마이드, 1-부틸피리디늄 클로라이드,
1-부틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트, 1-에틸피리디늄 브로마이드,
1-에틸피리디늄 클로라이드 등을 들 수 있다.
알킬암모늄염으로서는,
사이클로헥실트라이메틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
테트라-n-부틸암모늄 클로라이드, 테트라부틸암모늄 브로마이드,
트라이부틸메틸암모늄메틸설페이트,
테트라부틸암모늄 비스(트라이플루오로메틸설포닐)이미드,
테트라에틸암모늄 트라이플루오로메테인설포네이트,
테트라부틸암모늄 벤조에이트, 테트라부틸암모늄 메테인설포네이트,
테트라부틸암모늄 노나플루오로부테인설포네이트,
테트라-n-부틸암모늄 헥사플루오로포스페이트,
테트라부틸암모늄 트라이플루오로아세테이트,
테트라헥실암모늄 테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄 브로마이드,
테트라헥실암모늄 아이오다이드, 테트라옥틸암모늄 클로라이드,
테트라옥틸암모늄 브로마이드, 테트라헵틸암모늄 브로마이드,
테트라펜틸암모늄 브로마이드,
n-헥사데실트라이메틸암모늄 헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있다.
알킬피롤리듐염로서는, 1-부틸-1-메틸피롤리듐 브로마이드, 1-부틸-1-메틸피롤리듐 클로라이드, 1-부틸-1-메틸피롤리듐 테트라플루오로보레이트 등을 들 수 있다.
알킬포스포늄염으로서는, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 테트라부틸포스포늄 테트라플루오로보레이트, 테트라부틸포스포늄 메테인설포네이트, 테트라부틸포스포늄 p-톨루엔설포네이트, 트라이부틸헥사데실포스포늄 브로마이드 등을 들 수 있다.
피페리디늄염으로서는, N-메틸-N-프로필피페리디늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드, N-메틸-N-프로필피페리디늄 브로마이드, N-메틸-N-프로필피페리디늄 헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있다.
또한, 이온성 화합물로서는, 질소 함유 오늄염, 함 황유 오늄염 또는 인 함유 오늄염을 바람직하게 이용할 수 있다. 구체적인 예로서는,
1-부틸피리디늄 테트라플루오로보레이트, 1-부틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,
1-부틸-3-메틸피리디늄 테트라플루오로보레이트,
1-부틸-3-메틸피리디늄 트라이플루오로메테인설포네이트,
1-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
1-부틸-3-메틸피리디늄 비스(펜타플루오로에테인설포닐)이미드,
1-헥실피리디늄 테트라플루오로보레이트,
2-메틸-1-피롤린 테트라플루오로보레이트,
1-에틸-2-페닐인돌 테트라플루오로보레이트,
1,2-다이메틸인돌 테트라플루오로보레이트,
1-에틸카바졸 테트라플루오로보레이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 아세테이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트라이플루오로아세테이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 헵타플루오로부티레이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트라이플루오로메테인설포네이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 퍼플루오로부테인설포네이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 다이사이아나미드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(펜타플루오로에테인설포닐)이미드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 트라이플루오로아세테이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 헵타플루오로부티레이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 트라이플루오로메테인설포네이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 퍼플루오로부테인설포네이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
1-헥실-3-메틸이미다졸륨 브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 클로라이드,
1-헥실-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,
1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-헥실-3-메틸이미다졸륨 트라이플루오로메테인설포네이트,
1-옥틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,
1-옥틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-헥실-2,3-다이메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,
1,2-다이메틸-3-프로필이미다졸륨 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
1-메틸피라졸륨 테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨 테트라플루오로보레이트,
테트라헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
다이알릴다이메틸암모늄 테트라플루오로보레이트,
다이알릴다이메틸암모늄 트라이플루오로메테인설포네이트,
다이알릴다이메틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
다이알릴다이메틸암모늄 비스(펜타플루오로에테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 테트라플루오로보레이트,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 트라이플루오로메테인설포네이트,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 비스(펜타플루오로에테인설포닐)이미드,
글라이시딜트라이메틸암모늄 트라이플루오로메테인설포네이트,
글라이시딜트라이메틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
글라이시딜트라이메틸암모늄 비스(펜타플루오로에테인설포닐)이미드,
1-부틸피리디늄 (트라이플루오로메테인설포닐)트라이플루오로아세트아마이드,
1-부틸-3-메틸피리디늄 (트라이플루오로메테인설포닐)트라이플루오로아세트아마이드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 (트라이플루오로메테인설포닐)트라이플루오로아세트아마이드,
다이알릴다이메틸암모늄 (트라이플루오로메테인설포닐)트라이플루오로아세트아마이드,
글라이시딜트라이메틸암모늄 (트라이플루오로메테인설포닐)트라이플루오로아세트아마이드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-프로필암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-부틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-에틸-N-노닐암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N,N-다이프로필암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-프로필-N-부틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-프로필-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-부틸-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이메틸-N,N-다이헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
트라이메틸헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-프로필암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
트라이에틸프로필암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
트라이에틸펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
트라이에틸헵틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이프로필-N-메틸-N-에틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이프로필-N-부틸-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이프로필-N,N-다이헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N,N-다이부틸-N-메틸-N-헥실암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
트라이옥틸메틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드,
N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드 등을 들 수 있다.
리튬염으로서는, 특별히 제한되지 않고, 공지의 것이 사용된다. 예를 들어, 식: Li(CF3SO2)2N으로 표시되는 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드 리튬, 식: Li(CF3SO2)3C로 표시되는 트리스(트라이플루오로메테인설포닐)메테인 리튬, 식: LiCF3SO3로 표시되는 트라이플루오로메테인설폰산 리튬 및 과염소산리튬 등을 들 수 있다.
또, 상기 대전방지제(B)는, 합성에 의해서 제조해도 되거나 혹은 시판품을 사용해도 된다. 시판품으로서는, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트(토쿄카세이코교(주) 제품), N-메틸-N-프로필피페리디늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드(칸토카가쿠(주) 제품), 1-에틸피리디늄 브로마이드(토쿄카세이코교(주) 제품), 1-부틸-3-메틸피리디늄 트라이플루오로메테인설포네이트(토쿄카세이코교(주) 제품), 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드 리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품), 트라이플루오로메테인설폰산 리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품), 과염소산리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품), 육불화인산 리튬(모리타카가쿠코교(주) 제품) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 대전방지제(B)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0.01~3.0질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물이 우수한 대전방지성을 발휘할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1~2질량부, 보다 바람직하게는 0.5~1.8질량부이다. 여기서, 대전방지제(B)의 배합량이 0.01질량부 미만이면, 충분한 대전방지특성이 얻어지지 않을 경우가 있다. 또한, 3.0질량부를 넘으면, 내구성 시험 시 박리나 발포가 증가할 경우가 있다.
[실란 커플링제(C)]
본 발명의 점착제 조성물은, 상기 중합체(A) 및 대전방지제(B)에 부가해서, 실란 커플링제(C)를 포함해도 된다. 실란 커플링제(C)를 사용함으로써 반응성이 향상하고, 경화물의 기계 강도나 접착 강도를 향상시킬 수 있다.
이러한 실란 커플링제는, 특별하게 한정되지 않는다. 구체적으로는,
메틸트라이메톡시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 트라이메틸메톡시실란,
n-프로필트라이메톡시실란, 에틸트라이메톡시실란, 다이에틸다이에톡시실란,
n-부틸트라이메톡시실란, n-헥실트라이에톡시실란, n-옥틸트라이메톡시실란,
페닐트라이메톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란,
사이클로헥실메틸다이메톡시실란, 비닐트라이클로로실란,
비닐트라이메톡시실란, 비닐트라이에톡시실란,
비닐 트리스(β-메톡시에톡시)실란,
β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실란,
γ-글라이시독시프로필트라이메톡시실란,
γ-글라이시독시프로필트라이에톡시실란,
글라이시독시프로필메틸다이에톡시실란,
γ-메타크릴옥시프로필메틸다이메톡시실란,
γ-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실란,
γ-메타크릴옥시프로필메틸다이에톡시실란
γ-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실란,
γ-아크릴옥시프로필트라이메톡시실란,
N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸다이메톡시실란,
N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이메톡시실란,
N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이에톡시실란,
γ-아미노프로필트라이메톡시실란, γ-아미노프로필트라이에톡시실란,
N-페닐-γ-아미노프로필트라이메톡시실란, γ-클로로프로필트라이메톡시실란,
γ-머캅토프로필트라이메톡시실란, γ-머캅토프로필메틸다이메톡시실란,
비스-(3-[트라이에톡시실릴]프로필)테트라설파이드, γ-이소사이아네이트 프로필트라이에톡시실란 등을 들 수 있다. 또한, 에폭시기(글라이시독시기), 아미노기, 머캅토기, (메타)아크릴로일기 등의 작용기를 지닌 실란 커플링제와, 이들 작용기와 반응성을 지닌 작용기를 함유하는 실란 커플링제, 기타 커플링제, 폴리이소사이아네이트 등을, 각 작용기에 대해서 임의의 비율로 반응시켜서 얻어지는 가수분해성 실릴기를 지닌 화합물도 사용할 수 있다.
상기 실란 커플링제(C)는 합성해도 되거나 혹은 시판품을 사용해도 된다. 실란 커플링제의 시판품으로서는, 예를 들어, KBM-303, KBM-403, KBE-402, KBM-403, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, KEM-573, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007(이상, 신에츠카가쿠코교주식회사 제품) 등을 들 수 있다.
이들 실란 커플링제(C) 중에서도, KBM-303, KBM-403, KBE-402, KBM-403, KBM-5103, KBM-573, KBM-802, KBM-803, KBE-846, KBE-9007이 바람직하고, KBM-403이 보다 바람직하다. 또한, 상기 실란 커플링제(C)는, 단독으로 사용되어도 되거나 혹은 2종 이상 조합해서 사용되어도 된다.
본 발명에 있어서, 실란 커플링제(C)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0~1질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물이 양호한 대전방지성을 발휘할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0~0.5질량부, 보다 바람직하게는 0~0.1질량부이다. 이 범위에 있으면, 우수한 내열성 및 접착성을 발휘할 수 있다. 상기 실란 커플링제(C)의 배합량이 1질량부를 초과하면, 내열성이 저하할 경우가 있다.
[벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)]
본 발명의 점착제 조성물은, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 포함한다. 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 사용함으로써 금속 부식을 억제방지할 수 있고, 또한, 표면 저항값을 저하시켜 대전방지능력을 부여할 수 있다.
대전방지제(B)로서의 이온성 화합물은, 금속 부식성을 어느 정도 갖지만, 일반적으로 고가이고, 또한, 배합량이 지나치게 많아지면, 점착성이 저하하는 일이 있다. 이 때문에, 대전방지제로서 이온성 화합물을 사용할 경우에는, 이온성 화합물의 배합량은 가능한 한 적은 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 표면 저항값을 저하시켜 대전방지능력을 부여할 수 있는 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 배합하고 있기 때문에, 이온성 화합물의 배합량을 저감할 수 있고, 이러한 경우더라도, 점착제 조성물의 표면 저항값을 원하는 정도까지 저하시켜, 원하는 대전방지성능을 달성할 수 있다. 또한, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 배합함으로써 고가인 이온성 화합물의 배합량을 줄일 수 있으므로, 점착성의 저하를 억제할 수 있고, 우수한 점착성을 달성할 수 있는 데다가, 비용면에서도 바람직하다. 따라서, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 첨가함으로써, 소량의 이온성 화합물이더라도, 우수한 대전방지성, 금속 부식 억제방지성, 점착성을 발휘할 수 있고, 또한, 점착제 조성물의 비용도 억제할 수 있다.
또, 대전방지제(B)로서의 리튬염은, 비용면에서는 이온성 화합물에 비해서 바람직하지만, 금속 부식성에 다소 난점이 있고, 또한, 배합량이 지나치게 많아지면, 점착성이 저하하는 일이 있다. 이 때문에, 대전방지제로서 리튬염을 사용할 경우에도, 리튬염의 배합량은 가능한 한 적은 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 금속 부식을 억제방지할 수 있는 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 배합하고 있기 때문에, 리튬염의 배합량을 저감할 수 있고, 이러한 경우더라도, 점착제 조성물의 금속 부식을 유의하게 억제방지할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 점착제 조성물을 이용할 경우에는, 가령 금속과 접촉하는 부위에 사용되더라도 점착제 성분에 의한 금속 부식이 일어나기 어렵다. 또한, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 배합함으로써 고가인 리튬염의 배합량을 줄일 수 있기 때문에, 점착성의 저하를 억제할 수 있다. 따라서, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을 첨가함으로써, 소량의 리튬염이더라도, 우수한 대전방지성, 금속 부식 억제방지성, 점착성을 발휘할 수 있고, 또한, 점착 조성물의 비용도 억제할 수 있다.
벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)은, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 하기 화학식 1내지 5로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다:
화학식 1
Figure PCTKR2009007747-appb-C000001
화학식 2
Figure PCTKR2009007747-appb-C000002
화학식 3
Figure PCTKR2009007747-appb-C000003
화학식 4
Figure PCTKR2009007747-appb-C000004
화학식 5
Figure PCTKR2009007747-appb-C000005
또한, 상기 화학식 2의 화합물은, 이성체가 존재하지만, 본 발명은, 모든 이성체도 포함한다. 또, 「이성체」란, 어떠한 구조 이성체 및 위치 이성체, 호변 이성체, 시스-트랜스 이성체 및 입체이성체, 예를 들어, 거울상 이성체 및 라세미 혼합물도 포함한다.
상기 화학식 1 내지 5에 있어서, R1은 탄소원자수 1~4의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. 여기서, 탄소원자수 1~4의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기가 있다. 또, 할로겐 원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자가 있다. 이들 중, R1은 메틸기, 에틸기, 불소원자, 염소원자가 바람직하고, 메틸기, 염소원자가 보다 바람직하다. 또한, R1이 복수개 존재할(p가 2~4인) 경우에는, 이들 R1은 각각 동일하거나 혹은 상이해도 된다. 또, p는 0~4이고, 바람직하게는 0~1이며, 보다 바람직하게는 0이다. 또한, 상기 화학식 1 내지 5에 있어서, 「p가 0인」이란, 치환기 R1이 존재하지 않는, 즉, 치환기 R1이 모두 수소원자인 것을 의미한다.
R2는 탄소원자수 1~12의 알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기 및 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 나타낸다. 여기서, 탄소원자수 1~12의 알킬기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 및 2-에틸헥실기 등의, 직쇄 혹은 분지쇄의 알킬기를 들 수 있다. 또한, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로펜틸기가 있고, 바람직하게는 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기가 있다. 1 ~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기로 치환된 사이클로 펜틸기 및 사이클로헥실기가 있다. 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 사이클로펜틸메틸기, 사이클로헥실메틸기, 사이클로펜틸-1,1-에틸기, 사이클로헥실-1,1-에틸기, 사이클로펜틸-1,2-에틸기 또는 사이클로헥실-1,2-에틸기가 있다. 이들 중, R2는 메틸기, 에틸기, 프로필기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
R3는 수소원자 또는 탄소원자수 1~12의 알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기, 페닐기, 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐기 및 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 나타낸다. 여기서, 탄소원자수 1~12의 알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기는, 상기 치환기 R2의 정의와 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략한다. 또한, 페닐기, 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐기 및 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 페닐기, 벤질기, 1-페닐에틸기, 2-페닐에틸기, 4-메틸큐밀기, 4-에틸큐밀기, 4-메틸벤질기가 있다. 이들 중, R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기가 바람직하고, 수소원자가 보다 바람직하다.
또, q는 1~3이고, 바람직하게는 1~2이며, 1이 특히 바람직하다.
전술한 화학식 1 내지 5의 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물로서는,
1,2,3-벤조트라이아졸, 1-(메톡시메틸)-1H-벤조트라이아졸,
1-(포름아미도메틸)-1H-벤조트라이아졸,
1-(이소사이아노메틸)-1H-벤조트라이아졸, 4-메틸벤조트라이아졸,
5-메틸벤조트라이아졸, 5-클로로벤조트라이아졸, 톨릴트라이아졸,
톨릴트라이아졸의 K염, 3-(N-살리사일로일)아미노-1,2,4-트라이아졸,
2-(2'-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트라이아졸 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 혹은 조합해서 사용할 수 있지만, 이들 중에서는, 취급의 용이함이나 금속 부식 방지 효과의 점에서 1,2,3-벤조트라이아졸, 1-(메톡시메틸)-1H-벤조트라이아졸, 1-(포름아미도메틸)-1H-벤조트라이아졸, 1-(이소사이아노메틸)-1H-벤조트라이아졸이 바람직하다.
Figure PCTKR2009007747-appb-I000001
또한, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)은, 합성에 의해서 제조해도 되거나 혹은 시판품을 사용해도 된다. 시판품으로서는, 하기 표에 나타낸 바와 같은 토쿄카세이코교(주) 제품의 것 등을 사용할 수 있다.
표 1
Figure PCTKR2009007747-appb-T000001
본 발명에 있어서, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 3~20질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물이 우수한 금속 부식의 억제방지 효과 및 우수한 대전방지능력(표면 저항값 저하 능력)을 발휘할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 5~18질량부, 보다 바람직하게는 7~15질량부이다. 이 범위에 있으면, 우수한 금속 부식의 억제방지 효과 및 대전방지능력(표면 저항값 저하 능력)을 더욱 달성할 수 있다. 상기 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)의 배합량이 3질량부 미만이면, 대전방지성능이나 금속 부식의 억제방지 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편, 20질량부를 넘으면, 기재에 대한 밀착성이 나빠져, 피착체의 오염성이 증가하거나, 저온 안정성이 나빠질 경우가 있다.
[가교제(E)]
본 발명의 점착제 조성물은 가교제(E)를 포함해도 된다. 가교제(E)는, 중합체(A) 중의 하이드록시기 등의 작용기와, 또한 존재할 경우에는 하기의 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 중의 하이드록시기 등의 작용기와, 반응결합하여, 가교 구조를 형성한다. 이와 같이 가교제를 이용해서 중합체(A) 혹은 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 적절하게 가교시킴으로써, 내열성이 우수한 점착층을 얻을 수 있다. 가교 방법의 구체적인 수단으로서는, 이소사이아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 등 아크릴계 폴리머에 적절하게 가교화 기점으로서 포함시킨 카복실기, 하이드록실기, 아미노기, 아마이드기 등과 반응할 수 있는 기를 지닌 화합물을 첨가해서 반응시키는, 소위 가교제를 이용하는 방법이 있다.
본 발명에서 이용되는 가교제(E)는, 특별히 제한되지 않지만, 전술한 바와 같이, 이소사이아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 금속 킬레이트가 바람직하게 사용된다. 이들 중, 이소사이아네이트 화합물로서는, 톨릴렌 다이이소사이아네이트, 자일렌 다이이소사이아네이트 등의 방향족 이소사이아네이트; 이소포론 다이이소사이아네이트 등의 지환족 이소사이아네이트; 헥사메틸렌 다이이소사이아네이트 등의 지방족 이소사이아네이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 적당한 응집력을 얻는 관점에서, 이소사이아네이트 화합물이나 에폭시 화합물이 특히 바람직하게 사용된다. 이들 화합물은, 단독으로 사용해도 되거나, 혹은 2종 이상을 혼합해서 사용해도 된다.
보다 구체적으로는, 이소사이아네이트 화합물로서는, 예를 들어, 부틸렌 다이이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이이소사이아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소사이아네이트류; 사이클로펜틸렌 다이이소사이아네이트, 사이클로헥실렌 다이이소사이아네이트, 이소포론 다이이소사이아네이트 등의 지환족 이소사이아네이트류; 2,4-톨릴렌 다이이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메테인 다이이소사이아네이트, 자일릴렌 다이이소사이아네이트 등의 방향족 다이이소사이아네이트류; 트라이메틸올프로페인/톨릴렌 다이이소사이아네이트, 트라이메틸올프로페인/톨릴렌 다이이소사이아네이트 삼량체 부가물, 트라이메틸올프로페인/헥사메틸렌 다이이소사이아네이트, 트라이메틸올프로페인/헥사메틸렌 다이이소사이아네이트 삼량체 부가물, 헥사메틸렌 다이이소사이아네이트의 이소사이아누레이트체 등의 이소사이아네이트 부가물 등을 들 수 있다.
또한, 예를 들어, 트라이알릴이소사이아네이트, 다이머산 다이이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이이소사이아네이트(2,4-TDI), 2,6-톨릴렌 다이이소사이아네이트(2,6-TDI), 4,4'-다이페닐메테인 다이이소사이아네이트(4,4'-MDI), 2,4'-다이페닐메테인 다이이소사이아네이트(2,4'-MDI), 1,4-페닐렌 다이이소사이아네이트, 자일릴렌 다이이소사이아네이트(XDI), 테트라메틸자일리덴 다이이소사이아네이트(TMXDI), 톨루이딘 다이이소사이아네이트(TODI), 1,5-나프탈렌 다이이소사이아네이트(NDI) 등의 방향족 다이이소사이아네이트류; 헥사메틸렌 다이이소사이아네이트(HDI), 트라이메틸헥사메틸렌 다이이소사이아네이트(TMHDI), 리진 다이이소사이아네이트, 노보네인 다이이소사이아나토메틸(NBDI) 등의 지방족 다이이소사이아네이트류; 트랜스사이클로헥산-1,4-다이이소사이아네이트, 이소포론 다이이소사이아네이트(IPDI), H6-XDI(수소 첨가XDI), H12-MDI(수소 첨가MDI) 등의 지환식 다이이소사이아네이트류; 상기 다이이소사이아네이트의 카보다이이미드 변성 다이이소사이아네이트류; 또는 이들의 이소사이아누레이트 변성 다이이소사이아네이트류 등을 사용해도 된다. 또한, 상기 이소사이아네이트 화합물과 트라이메틸올 프로페인 등의 폴리올 화합물과의 부가체(adduct), 이들 이소사이아네이트 화합물의 부렛체나 이소사이아누레이트체도 적합하게 사용할 수 있다.
상기 이소사이아네이트계 화합물은, 합성해도 되거나 혹은 시판품을 사용해도 된다. 이소사이아네이트계 경화제의 시판품으로서는, 예를 들어, 코로네이트 L(트라이메틸올프로페인/톨릴렌 다이이소사이아네이트 삼량체 부가물), 코로네이트 HL(트라이메틸올프로페인/헥사메틸렌 다이이소사이아네이트 삼량체 부가물), 코로네이트 HX(헥사메틸렌 다이이소사이아네이트의 이소사이아누레이트체), 코로네이트 2030, 코로네이트 2031(이상, 니혼폴리우레탄코교(주) 제품), 타케네이트(등록상표) D-102, 타케네이트(등록상표) D-110N, 타케네이트(등록상표) D-200, 타케네이트(등록상표) D-202(이상, 미츠이카가쿠 폴리우레탄(주) 제품), 듀라네이트(상표) 24A-100, 듀라네이트(상표) TPA-100, 듀라네이트(상표) TKA-100, 듀라네이트(상표) P301-75E, 듀라네이트(상표) E402-90T, 듀라네이트(상표) E405-80T, 듀라네이트(상표) TSE-100, 듀라네이트(상표) D-101, 듀라네이트(상표) D-201(이상, 아사히카세이케미컬(주) 제품) 등을 들 수 있다.
이들 이소사이아네이트계 경화제 중에서도, 코로네이트 L, 코로네이트 HL, 타케네이트(등록상표) D110N, 듀라네이트(상표) 24A-100이 바람직하고, 코로네이트 L, 타케네이트(등록상표) D110N이 보다 바람직하며, 코로네이트 L이 특히 바람직하다.
에폭시 화합물로서는 N,N,N'N'-테트라글라이시딜-m-자일렌 다이아민(상품명 TETRAD-X)이나 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인(상품명 TETRAD-C)[모두 미쓰비시가스카가쿠(주) 제품] 등을 들 수 있다.
이러한 가교제(E)는 단독으로 사용되어도 되거나 혹은 2종 이상의 혼합 형태로 사용되어도 된다. 가교제(E)의 사용량은, 가교시켜야 할 중합체(A)나 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)와의 밸런스에 의해, 또한, 광학부재의 사용 용도에 의해서 적절하게 선택될 수 있다.
구체적으로는, 가교제(E)를 사용할 경우의 가교제(E)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0.05~5질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물에 의해, 적절한 정도의 가교 구조를 형성해서, 우수한 내열성을 부여할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.08~3질량부, 보다 바람직하게는 0.1~1질량부이다. 이 범위에 있으면, 적절한 정도의 가교 구조를 형성해서, 우수한 내열성을 한층 더 달성할 수 있다. 상기 가교제(E)의 배합량이 0.05질량부 미만이면, 충분한 가교 구조를 형성할 수 없고, 내열성이 저하할 경우가 있다. 한편, 5질량부를 넘으면, 가교 반응이 지나치게 진행해서 점착력이 저하할 경우가 있다.
[다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)]
본 발명의 점착제 조성물은, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 포함해도 된다. 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)는, 단독으로 혹은 상기 가교제(E) 혹은 하기 활성 에너지선 개시제(G)에 의해 네트워크(가교) 구조를 형성할 수 있다.
본 발명에서 이용할 수 있는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)는, 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 1,4-부탄다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜아디페이트 다이(메타)아크릴레이트, 하이드록시피발린산네오펜틸글라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 다이사이클로펜타닐 다이(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이사이클로펜테닐 다이(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산 다이(메타)아크릴레이트, 다이(아크릴옥시에틸)이소사이아누레이트, 알릴화 사이클로헥실 다이(메타)아크릴레이트, 트라이에틸렌글라이콜 다이(메타)아크릴레이트 등의 2관능성;
트라이메틸올프로페인 트라이(메타)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트라이메틸올프로판 트라이(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소사이아누레이트 등의 3관능성;
다이글라이세린 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능성;
프로피온산 변성 다이펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능성;
다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 다이펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 6관능성 등의, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머 등을 들 수 있다.
또, 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)는, 1종만을 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다. 또한, 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 중, 골격구조에 환상 구조를 지닌 것을 함유하는 것이 바람직하게 사용된다. 여기에서, 환상 구조는, 탄소환식 구조라도, 복소환식 구조라도 되고, 또한, 단환식 구조라도 다환식 구조라도 된다. 이러한 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서는, 예를 들어, 다이(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소사이아누레이트 등의 이소사이아누레이트 구조를 지닌 것, 다이메틸올다이사이클로펜테인 다이아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 헥사하이드로프탈산 다이아크릴레이트, 트라이사이클로데케인 다이메탄올 아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 변성 트라이메틸올프로페인 다이아크릴레이트, 아다만탄 다이아크릴레이트 등이 바람직하다. 또한, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서 활성 에너지선 경화형의 아크릴레이트계 올리고머를 이용할 수 있다. 이 아크릴레이트계 올리고머는 중량평균 분자량 50,000 이하인 것이 바람직하다. 이러한 아크릴레이트계 올리고머의 예로서는, 폴리에스터 아크릴레이트계, 에폭시아크릴레이트계, 우레탄 아크릴레이트계, 폴리에터 아크릴레이트계, 폴리부타다이엔 아크릴레이트계, 실리콘 아크릴레이트계 등을 들 수 있다.
여기에서, 폴리에스터아크릴레이트계 올리고머로서는, 예를 들어, 다가 카복실산과 다가 알코올의 축합에 의해서 얻어지는 양쪽 말단에 수산기를 지닌 폴리에스터올리고머의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스터화함으로써, 또는, 다가 카복실산에 알킬렌옥사이드를 부가해서 얻어지는 올리고머의 말단의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스터화함으로써 얻을 수 있다. 에폭시아크릴레이트계 올리고머는, 예를 들어, 비교적 저분자량의 비스페놀형 에폭시 수지나 노볼락형 에폭시 수지의 옥실란환에, (메타)아크릴산을 반응시켜 에스터화함으로써 얻을 수 있다. 또, 이 에폭시아크릴레이트계 올리고머를 부분적으로 이염기성 카복실산 무수물로 변성한 카복실 변성형의 에폭시아크릴레이트 올리고머도 이용할 수 있다. 우레탄 아크릴레이트계 올리고머는, 예를 들어, 폴리에터폴리올이나 폴리에스터폴리올과 폴리이소사이아네이트의 반응에 의해서 얻어지는 폴리우레탄 올리고머를, (메타)아크릴산으로 에스터화함으로써 얻을 수 있고, 폴리올아크릴레이트계 올리고머는, 폴리에터 폴리올의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스터화함으로써 얻을 수 있다.
상기 아크릴레이트계 올리고머의 중량평균 분자량은, GPC법으로 측정한 표준 폴리메틸메타크릴레이트 환산의 값으로, 50,000 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 500~50,000, 더욱 바람직하게는 3,000~40,000의 범위에서 선정된다. 이들 아크릴레이트계 올리고머는, 1종을 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상을 조합시켜서 사용해도 된다.
본 발명에 있어서는, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서 (메타)아크릴로일기를 지닌 기가 측쇄에 도입된 부가체 아크릴레이트계 폴리머를 이용할 수도 있다. 이러한 부가체 아크릴레이트계 폴리머는, 전술한 중합체(A)에 있어서 설명한 (메타)아크릴산 에스터와, 분자 내에 가교성 작용기를 지닌 단량체와의 공중합체를 이용해서, 상기 공중합체의 가교성 작용기의 일부에, (메타)아크릴로일기 및 가교성 작용기와 반응하는 기를 지닌 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 상기 부가체 아크릴레이트계 폴리머의 중량평균 분자량은, 폴리스타이렌 환산으로, 보통 50만~200만이다.
본 발명에 있어서는, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서, 상기의 다관능성 아크릴레이트계 모노머, 아크릴레이트계 올리고머 및 부가체 아크릴레이트계 폴리머 중에서, 적절하게 1종을 선택해도 되고, 2종 이상을 선택해서 병용해도 된다.
본 발명에 있어서, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 사용할 경우의 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 3~30질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물은 적절한 정도의 네트워크(가교) 구조를 형성할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 5~25질량부, 보다 바람직하게는 5~20질량부이다. 이 범위에 있으면, 본 발명의 점착제 조성물에 의해 적절한 정도의 네트워크(가교) 구조를 더욱 형성할 수 있다. 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)의 배합량이 3질량부 미만이면, 점착제층 등 속에 적절한 정도의 네트워크(가교) 구조를 형성할 수 없는 경우가 있다. 한편, 30질량부를 넘으면, 응집력이 저하할 경우가 있다.
[활성 에너지선 개시제(G)]
본 발명의 점착제 조성물은, 활성 에너지선 개시제(G)를 포함해도 된다. 활성 에너지선 개시제(G)가 존재할 경우에는, 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)에 의한 네트워크(가교) 구조를 적절하게 형성할 수 있다.
본 발명에서 이용할 수 있는 활성 에너지선 개시제(G)는, 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 벤조인, 벤조인 메틸에터, 벤조인 에틸에터,
벤조인 이소프로필에터, 벤조인-n-부틸 에터, 벤조인 이소부틸에터,
아세토페논, 다이메틸아미노아세토페논, 2,2-다이메톡시-2-페닐아세토페논,
2,2-다이에톡시-2-페닐아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로페인-1-온,
1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤,
2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로페인-1-온,
4-(2-하이드록시에톡시)페닐-2-(하이드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논,
p-페닐벤조페논, 4,4'-다이에틸아미노벤조페논, 다이클로로벤조페논,
2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논,
2-아미노안트라퀴논, 2-메틸싸이오잔톤, 2-에틸싸이오잔톤, 2-클로로싸이오잔톤,
2,4-다이메틸싸이오자톤, 2,4-다이에틸싸이오잔톤, 벤질다이메틸케탈,
아세토페논다이메틸케탈, p-다이메틸아미노벤조산 에스터,
올리고[2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논],
다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀 옥사이드 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용해도 되거나 혹은 2종 이상을 조합해서 사용해도 된다.
본 발명에 있어서, 활성 에너지선 개시제(G)를 사용할 경우의 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0~5질량부이다. 이 범위이면, 본 발명의 점착제 조성물은 적절한 정도의 네트워크(가교) 구조를 형성할 수 있다. 상기 배합량은, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.5~4질량부, 보다 바람직하게는 1~3질량부이다. 이 범위에 있으면, 본 발명의 점착제 조성물에 의해 적절한 정도의 네트워크(가교) 구조를 더욱 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량이 5질량부를 초과하면, 응집력이 저하할 경우가 있다.
본 발명의 점착제 조성물은, 상기 가교제(E), 또는 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G) 중 적어도 한쪽을 포함한다. 상기 가교제(E), 또는 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G) 중 적어도 한쪽을 이용해서 가교 반응을 행하여, 중합체(A) 속에, 혹은 존재할 경우에는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)끼리에, 혹은 중합체(A)와 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 사이에, 가교 구조(네트워크 구조)를 형성한다. 이때, 가교 반응 방법은, 특별히 제한되지 않고, 가교제(E), 또는 상기 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G) 중 어느 한쪽을 사용하거나, 이들 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)의 종류 등에 따라서 적절하게 선택된다. 구체적으로는, 열에 의한 가교, 자외선 조사에 의한 가교, 전자선 조사에 의한 가교 등이 바람직하게 사용된다. 이하, 가교 반응의 바람직한 실시예에 대해서 설명하지만, 본 발명은, 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 가교제(E)를 사용할 경우에는, 열에 의한 가교, 자외선 조사에 의한 가교, 전자선 조사에 의한 가교가 바람직하게 행해진다. 여기서, 「가교제(E)를 사용할 경우」란, 가교제(E)를 적어도 사용할 경우를 의미하고, 즉, 가교제(E)만을 사용할 경우, 가교제(E) 및 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 사용할 경우, 및 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 사용할 경우, 모두를 포함한다.
또, 가교제(E)는 사용하지 않고, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 사용할 경우에는, 자외선 조사에 의한 가교, 전자선 조사에 의한 가교가 바람직하게 행해진다.
또한, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)는 사용하지만 활성 에너지선 개시제(G)는 사용하지 않는(즉, 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량이 0질량부인) 경우에는, 전자선 조사에 의한 가교가 바람직하게 행해진다. 또, 상기 실시예는, 활성 에너지선 개시제(G)는 배합하지 않지만, 가교제(E)를 병용해도 된다.
본 발명에 있어서, 가교 조건은, 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 열에 의한 가교를 행할 경우의 가교 조건은, 특별히 제한되지 않지만, 중합체(A)에 대해서, 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 소정량 혼합하여, 점착제 조성물을 얻고, 이 조성물을 적당한 박리 필름에 도포한 후, 열에 의한 가교 반응을 행한다. 여기서, 가교 반응은, 바람직하게는, 박리 필름 상의 도막에 대해서, 80~110℃에서 1~5분간, 열가교를 행한 후, 온도 20~45℃, 습도 10~65%RH의 분위기 하에서, 0~10일간 방치해서 에이징을 행한다. 보다 바람직하게는, 박리 필름상의 도막에 대해서, 90~100℃에서 1~3분간, 열가교를 행한 후, 온도 20~35℃에서, 습도 20~60%RH의 분위기 하에서, 0~7일간 방치해서 에이징을 행한다. 또한, 열가교를 행할 경우의, 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F), 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량은, 특별하게 한정되지 않지만, 가교제(E)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0.05~5질량부로 하고, 또한, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 배합하지 않는 것이 바람직하다.
또, 자외선 조사에 의한 가교를 행할 경우의 가교 조건은, 특별히 제한되지 않지만, 중합체(A)에 대해서, 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 그리고 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 소정량 혼합하여, 점착제 조성물을 얻고, 이 조성물을 적당한 박리 필름에 도포한 후, 자외선을 조사해서 가교 반응을 행한다. 여기서, 가교 반응은, 바람직하게는, 박리 필름상의 도막에 대해서, 파장 400㎚ 이하, 특히 바람직하게는 200~380㎚, 조사 강도 100~500mW/㎠, 조사량 100~1000mJ/㎠의 자외선을 조사한다. 보다 바람직하게는, 박리 필름 상의 도막에 대해서, 파장 400㎚ 이하, 특히 바람직하게는 200~380㎚, 조사 강도 100~400mW/㎠, 조사량 200~800mJ/㎠의 자외선을 조사한다. 여기서, 자외선 조사원으로서는, 고압 수은등, 저압 수은등, 메탈할라이드 램프, 제논 램프, 할로겐 램프 등을 예시할 수 있다. 자외선이 조사되는 한, 바람직하게는 380㎚ 이하의 자외선이 조사되는 한, 다른 방사선이나 파장을 포함해도 되고, 그 수법은 특별하게 한정되는 것은 아니다. 또한, 자외선 조사에 의한 가교를 행할 경우의, 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F), 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량은, 특별하게 한정되지 않지만, 가교제(E)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0~5질량부로 하고, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 3~30 질량부로 하며, 또한 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0.1~5질량부로 하는 것이 바람직하다.
또, 자외선에 의해 가교 구조가 형성될 수 있는 이유는 명확하지는 않지만, 가교제(E)가 존재하지 않더라도 가교 구조를 형성하는 것이므로, 중합체(A) 또는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)에, 자외선의 조사에 의해서 활성화한 활성 에너지선 개시제(G)가 작용하여, 어떠한 작용에 의해서 양자를 결합시키는 것이라고 여겨진다. 예를 들어, 중합체(A)나 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로부터 수소를 뽑아내어 탄소원자를 활성화하여, 이러한 탄소원자끼리가 근방에서 결합해서, 결과적으로 랜덤하게 가교 구조를 형성하는 반응 등이 추찰된다.
또한, 전자선 조사에 의한 가교를 행할 경우의 가교 조건은, 특별히 제한되지 않지만, 중합체(A)에 대해서, 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 그리고 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 소정량 혼합하여, 점착제 조성물을 얻고, 이 조성물을 적절한 박리 필름에 도포한 후, 전자선을 조사해서 가교 반응을 행한다. 여기서, 가교 반응은, 바람직하게는, 박리 필름 상의 도막에 대해서, 가속 전압을 100~250 ㎸, 흡수선량이 10~60 kGy인 조건으로, 불활성 가스 분위기 하에서, 전자선을 조사한다. 보다 바람직하게는, 박리 필름상의 도막에 대해서, 가속 전압을 100~200 ㎸, 흡수선량이 20~40 kGy인 조건으로, 불활성 가스 분위기 하에서, 전자선을 조사한다. 여기서, 불활성 가스로서는, 특별히 제한되지 않지만, 헬륨, 아르곤, 질소 등을 사용할 수 있다. 또, 불활성 가스 분위기 중, 산소가 포함되어도 좋지만, 이 경우의 산소 농도는 200 체적ppm 이하인 것이 바람직하다. 또한, 전자선 조사에 의한 가교를 행할 경우의, 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F), 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량은, 특별하게 한정되지 않지만, 가교제(E)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0~5질량부로 하고, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 3~30질량부로 하며, 또한, 활성 에너지선 개시제(G)의 배합량을, 중합체(A) 100질량부에 대해서, 0~5질량부로 하는 것이 바람직하다.
또한, 전자선에 의해 가교 구조가 형성될 수 있는 이유는 명확하지는 않지만, 활성 에너지선 개시제(G)가 존재하지 않아도 가교 구조를 형성하는 것이므로, 중합체(A) 또는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)에, 전자선의 조사에 의해서 활성부위가 생성되어, 중합체(A)나 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)끼리가, 어떠한 작용에 의해서 결합하는 것이라 여겨진다. 예를 들어, 중합체(A)나 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로부터 수소를 뽑아내어 탄소원자를 활성화하고, 이러한 탄소원자끼리가 근방에서 결합하여, 결과적으로 랜덤하게 가교 구조를 형성하는 반응 등이 추찰된다.
본 발명의 점착제 조성물은, 경화촉진제, 이온성 액체, 무기 충전제, 연화제, 산화방지제, 노화방지제, 안정제, 점착 부여 수지, 개질수지(폴리올 수지, 페놀수지, 아크릴수지, 폴리에스터 수지, 폴리올레핀 수지, 에폭시 수지, 에폭시화 폴리부타다이엔 수지 등), 레벨링제, 소포제, 가소제, 염료, 안료(착색 안료, 체질안료 등), 처리제, 자외선 차단제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 자외선흡수제, 윤활제 및 용제와 같은 첨가제를 포함해도 된다. 경화촉진제로서는, 예를 들어, 다이부틸주석 다이라우레이트, JCS-50(죠호쿠카가쿠코교사 제품), 포메이트 TK-1(미츠이카가쿠 폴리우레탄사 제품) 등을 들 수 있다. 산화방지제로서는, 예를 들어, 다이부틸하이드록시톨루엔(BHT), 이르가녹스(등록상표) 1010, 이르가녹스(등록상표) 1035FF, 이르가녹스(등록상표) 565(모두, 치바 스페셜리티 케미칼즈사 제품) 등을 들 수 있다. 점착 부여 수지로서는, 예를 들어, 로진산, 중합 로진산 및 로진산 에스터 등의 로진류, 터펜 수지, 터펜 페놀수지, 방향족 탄화수소수지, 지방족 포화탄화수소수지 및 석유수지 등을 들 수 있다. 상기 첨가제를 사용할 경우의, 첨가제의 사용량은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 상기 성분(A)~ (G)의 합계량 100질량부에 대해서, 0.1~20질량부이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 상기에서 기술한 각 성분을 일괄적으로 혼합하거나, 각 성분을 순차 혼합하거나, 또는 임의의 복수의 성분을 혼합한 후에 나머지의 성분을 혼합하는 등 해서, 균일한 혼합물이 되도록 교반함으로써 제조할 수 있다. 보다 구체적으로는, 필요에 따라서 가온, 예를 들어, 30~40℃의 온도에 가온하고, 교반기 등에서 균일해질 때까지, 예를 들어, 10분~5시간 교반함으로써 조제할 수 있다.
본 발명의 점착제 조성물은, 각종 기재의 접합(즉, 첩부)에 사용할 수 있다. 여기서 사용할 수 있는 기재로서는, 유리, 플라스틱 필름, 종이 또는 금속박 등을 들 수 있다. 유리로서는, 일반적인 무기 유리를 들 수 있다. 플라스틱 필름에 있어서의, 플라스틱으로서는, 예를 들어, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴, 셀룰로스계 수지, 아크릴계 수지, 사이클로올레핀계 수지, 비결정성 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스타이렌, ABS 수지, 폴리아마이드, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리비닐알코올, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 및 염소화 폴리프로필렌 등을 들 수 있다. 비결정성 폴리올레핀계 수지는, 통상, 노보넨이나 다환 노보넨계 모노머와 같은 환상 폴리올레핀의 중합단위를 지닌 것이며, 환상 올레핀과 쇄상 환상 올레핀과의 공중합체여도 된다. 시판되고 있는 비결정성 폴리올레핀계 수지로서, JSR 주식회사의 상품명 아톤, 니혼제온 주식회사의 ZEONEX(등록상표), ZEONOR(등록상표), 미츠이카가쿠 주식회사의 APO, 아펠(등록상표) 등이 있다. 비결정성 폴리올레핀계 수지를 제막해서 필름으로 하기 위해서는, 용제 캐스트법, 용융 압출법 등, 공지의 방법이 적절하게 이용된다. 또한, 종이로서는, 모조지, 상질지, 크래프트지, 아트코트지, 캐스터 코트지, 순백 롤지, 양피지, 내수지(耐水紙), 글라신지 및 골판지 등을 들 수 있다. 금속박으로서는, 예를 들어, 알루미늄박 등을 들 수 있다.
따라서, 본 발명은, 본 발명의 점착제 조성물로부터 형성되는 점착제층을 구비한 광학부재도 제공한다.
광학부재로서는, 예를 들어, 편광판, 위상차판, 플라즈마 디스플레이용 광학 필름, 터치패널용 도전 필름 등을 바람직하게 들 수 있다. 이 중, 본 발명의 점착제 조성물은, 편광판과 유리와의 접착성이 우수하다. 물론, 본 발명은, 상기의 형태로 한정되는 것은 아니고, 다른 부재의 접착에 사용하는 것도 가능하다.
본 발명의 점착제 조성물은, 광학 필름의 한쪽 면 혹은 양면에 직접 도포해서 점착제층을 형성해서 사용되어도 되고, 박리 필름 위에 점착제층을 미리 형성하여, 이것을 광학 필름의 한쪽 면 혹은 양면에 전사함으로써 사용되어도 된다.
본 발명의 점착제 조성물의 도공은, 종래 공지의 방법에 따르면 되고, 예를 들어, 내츄럴 코터, 나이프 벨트 코터, 플로팅 나이프, 나이프 오버 롤, 나이프 온 블랭킷, 스프레이, 딥, 키스 롤, 스퀴즈 롤, 리버스 롤, 에어 블레이드, 커튼 플로 코터, 닥터 블레이드, 와이어 바, 다이 코터, 콤마 코터, 베이커 애플리케이터 및 그라비아 코터 등의 장치를 이용하는 각종 도공방법을 들 수 있다. 또한, 본 발명의 조성물의 도포 두께(건조 후의 두께)는, 사용하는 기재 및 용도에 따라 선택하면 되지만, 바람직하게는 5~40㎛이며, 보다 바람직하게는 15~30㎛이다.
본 발명의 점착제 조성물의 점도는 특별히 제한되지 않는다. 그러나, 도공 용이성 등을 고려하면, 25℃에 있어서의 점도가 바람직하게는 500~5000 m㎩s, 보다 바람직하게는 1000~3000 m㎩s이다. 상기 점도가 500 m㎩s 미만이면, 도공면에 울퉁불퉁함이 발생할 경우가 있다. 한편, 5000 m㎩s를 넘으면, 도공 줄무늬가 발생할 경우가 있다.
본 발명의 점착제 조성물로부터 얻어지는 점착제층은, 상기와 같은 점착제 조성물을 가교시켜 얻어지는 것이다. 그때, 점착제 조성물의 가교는, 점착제 조성물의 도포 후에 행하는 것이 일반적이지만, 가교 후의 점착제 조성물로 이루어진 점착제층을 기재 등에 전사하는 것도 가능하다. 이 점착제 조성물의 가교는, 전술한 바와 같은 방법이나 조건 하에서, 일반적으로 정치함으로써 행해진다.
본 발명의 점착제 조성물은, 우수한 대전방지능력(낮은 표면 저항값)을 지니면서도 우수한 금속 부식 억제방지성(방청 작용)을 나타낸다. 이 때문에, 본 발명의 점착제 조성물은, 각종 플라스틱 필름 등의 피착체의 접착에 유효하며, 특히 편광판에 이용했을 경우, 우수한 내광누설성, 대전방지성 및 금속 부식 억제방지성(방청 작용)을 달성할 수 있다. 또한, 본 발명의 점착제 조성물은, 우수한 유연성을 나타내고, 이것에 의해 우수한 리워크성(재박리성)이나 가공성을 나타낸다. 예를 들어, 광학부재의 접착 공정에 있어서, 광학 필름과 피착체와의 위치 어긋남이 발생하였다고 해도, 피착체에 점착제가 잔존하는 일없이 광학 필름을 박리할 수 있다. 특히 편광판에 이용했을 경우, 우수한 내광누설성 및 리워크성을 얻을 수 있다.
이에 부가해서, 본 발명의 점착제 조성물은 우수한 내열성을 지니므로, 가열 처리나 고습 처리에 의해 들뜸이나 박리가 생기지 않는 고내구성을 발현할 수 있다.
[실시예]
본 발명의 효과를, 이하의 실시예 및 비교예를 이용해서 설명한다. 단, 본 발명의 기술적 범위가 이하의 실시예만으로 제한되는 것은 아니다. 또, 특기하지 않는 한, 「부」는 「질량부」를 나타낸다.
또, 점착제 조성물이 용해되어 있는 용액의 고형분 및 점도, 그리고 중합체(A)의 중량평균 분자량의 측정은, 이하의 방법으로 행하였다.
<고형분>
폴리머 용액 약 1g을, 정밀하게 칭량한 유리 접시에 정밀하게 칭량한다. 105℃에서 1시간 건조한 후 실온으로 되돌려, 유리 접시와 잔존 고형분과의 합계의 질량을 정밀하게 칭량한다. 유리 접시의 질량을 X, 건조하기 전의 유리 접시와 폴리머 용액과의 합계의 질량을 Y, 유리 접시와 잔존 고형분과의 합계의 질량 Z로 해서, 하기 수학식 1에 의해 고형분을 산출하였다:
수학식 1
Figure PCTKR2009007747-appb-M000001
<점도>
유리병에 넣은 점착제 용액을 25℃로 온도 조절하고, B형 점도계에 의해 측정하였다.
<중량평균 분자량 및 수평균 분자량>
하기 표 2의 측정 방법측정 조건에 의해 측정하였다.
표 2
장치: 겔 침투 크로마토그래피 GPC(기기 No. GPC-16)
검출기: 시차굴절률검출기 RI(토소 주식회사 제품 8020형 감도 32)
자외흡수 검출기 UV(Waters사 제품 2487, 파장 215㎚, 감도 0.2AUFS
칼럼: 토소 주식회사 제품 TSKgel GMHXL(2개), G2500HXL(1개) (S/N M0052, M0051, N0010, f7.8㎜×30㎝)
용매: 테트라하이드로퓨란(와코쥰야쿠코교주식회사 제품)
유속: 1.0㎖/min
칼럼온도: 23℃
시료: [농도] 약 0.2% [용해] 실온에서 완만하게 교반하였다. [용해성] 용해(육안으로 확인) [여과] 0.45㎛ 필터에서 여과를 하였다. 주입량: 0.200㎖ 표준시료: 단분산 폴리스타이렌
데이터 처리: GPC 데이터처리시스템
(합성예 1)
환류기 및 교반기를 구비한 플라스크에, n-부틸아크릴레이트(주식회사 니혼쇼쿠바이 제품) 99질량부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트(주식회사 니혼쇼쿠바이 제품) 1질량부 및 아세트산 에틸 120질량부를 투입하였다. 이어서, 질소 치환을 행하면서 65℃까지 가온시키고, 아조비스이소부티로나이트릴(AIBN) 0.04질량부를 가하여, 65℃를 유지하면서 6시간 중합을 행하였다. 중합반응 종료 후, 중합용액을 실온까지 냉각시키고, 이것에 아세트산 에틸 280질량부를 가해서 희석을 행하여, 중합체(A-1)의 용액을 얻었다. 얻어진 중합체(A-1) 용액의 고형분은 20질량%, 점도는 4500 m㎩s였다. 또한, 얻어진 중합체(A-1)의 중량평균 분자량은 160만이었다.
(합성예 2 내지 19)
합성예 1에 있어서, 단량체 성분의 조성을, 표 1에 나타낸 바와 같은 조성으로 변경한 이외에는, 합성예 1과 마찬가지 조작을 행함으로써, 중합체(A-2) 내지 (A-19)의 용액을 얻었다. 또, 얻어진 중합체(A-2) 내지 (A-19) 용액의 고형분, 점도, 중량평균 분자량을 측정하고, 그 결과를 하기 표 3에 나타낸다. 또한, 하기 표 3에 있어서, 「BA」는 부틸아크릴레이트이고; 「2EHA」는 2-에틸헥실아크릴레이트이며; 「HEA」는 2-하이드록시에틸아크릴레이트이고; 「4HBA」는 4-하이드록시부틸아크릴레이트이며; 「AA」는 아크릴산이다.
표 3
Figure PCTKR2009007747-appb-T000002
(실시예 1)
하기 표 4에 나타낸 바와 같은 조성으로 되도록, 중합체(A-1) 100질량부에 대해서, 대전방지제(B)로서의 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트(토쿄카세이코교(주) 제품) 0.01질량부, 실란 커플링제(C)로서의 3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실란(신에츠카가쿠코교(주) 제품, 상품명 신에츠 실리콘 KBM-403) 0.1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)로서의 1,2,3-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 B0094) 5질량부, 가교제(E)로서의 트라이메틸올프로페인/톨릴렌 다이이소사이아네이트(니혼폴리우레탄코교(주) 제품, 상품명 코로네이트 L) 0.1질량부, 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서의 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트(교에이샤카가쿠(주) 제품, 상품명 라이트아크릴레이트 TMP-A) 5질량부 및 활성 에너지선 개시제(G)로서의 다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀옥사이드(치바저팬(주) 제품, 상품명 DAROCUR TPO)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(1)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(1)을, 박리 PET 필름(미쓰비시카가쿠 폴리에스터필름 주식회사 제품, MRF38, 두께: 38㎛) 상에, 건조 후의 두께가 25㎛로 되도록, 베이커 애플리케이터를 이용해서 도포한 후, 편광판에 붙였다. 붙이고 나서 30분 후에, 박리 PET 필름 측에서 자외선(UV)을 하기의 조건으로 조사하고, 점착제층 부착 편광판(1)을 제작하였다.
<자외선 조사조건>
UV 조도계: 아이그라픽스사 제품, UVPF-A1(PD-365)
UV 조사원: 아이그라픽스사 제품, 메탈할라이드 램프
조사 강도: 200 mW/㎠
조사량: 400 mJ/㎠
(실시예 2 및 3)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 각각 점착제 조성물(2) 및 (3)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(2) 및 (3)에 대해서, 실시예 1과 마찬가지 조작을 행하여, 점착제층 부착 편광판(2) 및 (3)을 제작하였다.
(실시예 4)
하기 표 4에 나타낸 바와 같은 조성으로 되도록, 중합체(A-4) 100질량부에 대해서, 대전방지제(B)로서의 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트(토쿄카세이코교(주) 제품) 1질량부 및 1-부틸-3-메틸피리디늄 트라이플루오로메테인설포네이트(토쿄카세이코교(주) 제품) 1질량부, 실란 커플링제(C)로서의 3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실란(신에츠카가쿠코교(주) 제품, 상품명 신에츠 실리콘 KBM-403) 0.1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)로서의 1,2,3-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 B0094) 20질량부 및 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)로서의 트라이에틸렌글라이콜 다이아크릴레이트(교에이샤카가쿠(주) 제품, 상품명 라이트아크릴레이트 3EG-A) 20질량부를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(4)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(4)을, 박리 PET 필름(미쓰비시카가쿠 폴리에스터필름 주식회사 제품, MRF38, 두께: 38㎛) 상에, 건조 후의 두께가 25㎛로 되도록, 베이커 애플리케이터를 이용해서 도포한 후, 편광판에 붙였다. 붙이고 나서 30분 후에, 박리 PET 필름 측에서부터 전자선(EB)을 하기의 조건으로, 질소 가스 분위기 하(산소농도: 200 체적ppm 이하)에서 조사하여, 점착제층 부착 편광판(4)을 제작하였다.
<전자선 조사조건>
EB 조도계: 아이엘렉트론빔사 제품, 전자선 조사장치
가속 전압: 150 ㎸
흡수선량: 30 kGy
(실시예 5 및 6)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 각각, 점착제 조성물(5) 및 (6)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(5) 및 (6)에 대해서, 실시예 1과 마찬가지 조작을 행하여, 점착제층 부착 편광판(5) 및 (6)을 제작하였다.
(실시예 7)
하기 표 4에 나타낸 바와 같은 조성으로 되도록, 중합체(A-7) 100질량부에 대해서, 대전방지제(B)로서의 과염소산리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품) 2질량부, 실란 커플링제(C)로서의 3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실란(신에츠카가쿠코교(주) 제품, 상품명 신에츠 실리콘 KBM-403) 0.1질량부, 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)로서의 1-(메톡시메틸)-1H-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 M1276) 10질량부 및 가교제(E)로서의 N,N,N',N'-테트라글라이시딜 m-자일렌 다이아민(미쓰비시가스카가쿠(주) 제품, 상품명 테트라드 X) 0.5질량부를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(7)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(7)을, 박리 PET 필름(미쓰비시카가쿠 폴리에스터필름 주식회사 제품, MRF38, 두께: 38㎛) 위에, 건조 후의 두께가 25㎛로 되도록, 베이커 애플리케이터를 이용해서 도포하고, 90℃에서 3분간 열가교를 행해서 점착제 전구층을 형성한 후, 편광판에 붙였다. 그 후, 이것을 23℃/50%RH의 분위기 하에서 7일간 에이징(숙성)시켜서, 점착제층 부착 편광판(7)을 제작하였다.
(실시예 8)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 및 가교제(E)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(8)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(8)을 이용하는 이외에는, 실시예 7과 마찬가지로 해서, 점착제층 부착 편광판(8)을 제작하였다.
(실시예 9)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E) 및 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(9)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(9)에 대해서, 실시예 4와 마찬가지 조작을 행하여, 점착제층 부착 편광판(9)을 제작하였다.
(실시예 10)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 점착제 조성물(10)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 점착제 조성물(10)에 대해서, 실시예 1과 마찬가지 조작을 행하여, 점착제층 부착 편광판(10)을 제작하였다.
(비교예 1 내지 5)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D), 가교제(E), 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 및 활성 에너지선 개시제(G)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 각각 비교용 점착제 조성물(1) 내지 (5)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 비교용 점착제 조성물(1) 내지 (5)에 대해서, 각각, 실시예 1과 마찬가지 조작을 행하여, 비교용 점착제층 부착 편광판 (1)~ (5)을 제작하였다.
(비교예 6)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 및 가교제(E)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 비교용 점착제 조성물(6)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 비교용 점착제 조성물(6)을 이용한 이외에는, 실시예 7과 마찬가지로 해서, 비교용 점착제층 부착 편광판(6)을 제작하였다.
(비교예 7)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 및 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 비교용 점착제 조성물(7)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 비교용 점착제 조성물(7)에 대해서, 실시예 4와 마찬가지 조작을 행하여, 비교용 점착제층 부착 편광판(7)을 제작하였다.
(비교예 8)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 및 가교제(E) 를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 비교용 점착제 조성물(8)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 비교용 점착제 조성물(8)에 대해서, 실시예 7과 마찬가지 조작을 행하여, 비교용 점착제층 부착 편광판(8)을 제작하였다.
(비교예 9)
하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 중합체(A), 대전방지제(B), 실란 커플링제(C), 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 및 가교제(E) 를 첨가해서, 충분히 혼합하여, 비교용 점착제 조성물(9)을 얻었다.
이와 같이 해서 얻어진 비교용 점착제 조성물(9)에 대해서, 실시예 7과 마찬가지 조작을 행하여, 비교용 점착제층 부착 편광판(9)을 제작하였다.
상기한 바와 같이 해서 얻어진 실시예 1 내지 10의 점착제층 부착 편광판 (1) 내지 (10) 및 비교예 1 내지 9의 비교용 점착제층 부착 편광판 (1) 내지 (9)에 대해서, 하기 방법에 따라서, 표면 저항값, 금속 부식 억제방지성, 내광누설성, 내구성, 점착력, 기재에 대한 밀착성, 피착체 오염성, 저온안정성, 리워크성 및 겔분율을 평가하였다. 결과를 하기 표 4에 나타낸다.
또한, 하기 표 4 중, 「A」는 중합체(A)를; 「B」는 대전방지제(B)를; 「C」는 실란 커플링제(C)를; 「D」는 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)을; 「E」는 가교제(E)를; 「F」는 다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)를; 및 「G」는 활성 에너지선 개시제(G)를 각각 나타낸다. 또, 하기 표 4 중의 각 성분은 다음과 같다. 또한, 하기 표 4 중, 각 점착제 조성물의 조성은 각각 「질량부」로 표시된다.
[중합체(A)]
각 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 9에서 사용한 중합체를 중합체(A-1) 내지 (A-19)로 나타낸다.
[대전방지제(B)]
이온 화합물 1: 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트(토쿄카세이코교(주) 제품)
이온 화합물 2: N-메틸-N-프로필피페리디늄 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드(칸토카가쿠(주) 제품)
이온 화합물 3: 1-에틸피리디늄 브로마이드(토쿄카세이코교(주) 제품)
이온 화합물 4: 1-부틸-3-메틸피리디늄 트라이플루오로메테인설포네이트(토쿄카세이코교(주) 제품)
리튬염 1: 비스(트라이플루오로메테인설포닐)이미드 리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품)
리튬염 2: 트라이플루오로메테인설폰산 리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품)
리튬염 3 :과염소산리튬(와코쥰야쿠코교(주) 제품)
[실란 커플링제(C)]
실란 커플링제: 3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실란(신에츠카가쿠코교(주)제 상품명 신에츠 실리콘 KBM-403)
[벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)]
D-1: 1,2,3-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 B0094)
D-2: 1-(메톡시메틸)-1H-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 M1276)
D-3: 1-(포름아미도메틸)-1H-벤조트라이아졸(토쿄카세이코교(주) 제품, 상품명 F0339)
[가교제(E)]
E-1: 트라이메틸올프로페인/톨릴렌 다이이소사이아네이트(니혼폴리우레탄코교(주) 제품, 상품명 코로네이트 L)
E-2: N,N,N',N'-테트라글라이시딜 m-자일렌 다이아민(미쓰비시가스카가쿠(주) 제품, 상품명 테트라드 X)
[다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F)]
F-1: 트라이메틸올프로페인 트라이아크릴레이트(교에이샤화학(주) 제품, 상품명 라이트아크릴레이트 TMP-A)
F-2: 트라이에틸렌글라이콜 다이아크릴레이트(교에이샤화학(주) 제품, 상품명 라이트아크릴레이트 3EG-A)
[활성 에너지선 개시제(G)]
광중합개시제: 다이페닐(2,4,6-트라이메틸벤조일)포스핀옥사이드(치바저팬(주) 제품, 상품명 DAROCUR TPO)
다음에, 표면 저항값, 금속 부식 억제방지성, 내광누설성, 내구성, 점착력, 기재에 대한 밀착성, 피착체 오염성, 저온안정성, 리워크성 및 겔분율의 평가 방법은, 다음과 같다.
<표면 저항값>
각 점착제층 부착 편광판의 점착제층면의 표면 저항값(Ω/sq)을, 마이크로엘렉트로미터(주식회사 카와구치덴키세이사쿠쇼 제품)를 사용해서, 23℃, 50%RH의 분위기 하에서 측정하였다.
<금속 부식 억제방지성>
각 점착제층 부착 편광판의 점착제층면을, 알루미늄박에 붙여서, 60℃, 90%RH의 분위기 하에서 2일간 방치했을 때의 부식성을 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 점착제층면에 변화가 확인되지 않았던 것을 나타내고, 「×」는 점착제층면이 백화된 것을 나타낸다.
<내광누설성>
각 점착제층 부착 편광판을, 120㎜(편광판 MD 방향)×60㎜의 크기로 재단하여, 시료(1)로 하였다. 또한, 각 점착제층 부착 편광판을, 120㎜(편광판 TD 방향)×60㎜의 크기로 재단하여, 시료(2)로 하였다. 이들 시료(1) 및 (2)를, 유리판의 각 면에 중첩하도록 붙이고, 50℃, 0.49 m㎩(5 ㎏/㎠)의 조건 하에서, 20분간 오토클레이브 처리를 행하였다. 그 후, 80℃ 환경에 넣고, 120시간 후의 외관을 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 광누설이 관찰되지 않았던 것을 나타내고, 「×」는 광누설이 관찰된 것을 나타낸다.
<내구성>
각 점착제층 부착 편광판을, 120㎜(편광판 MD 방향)×60㎜의 크기로 재단하고, 시료로 하였다. 이 시료를, 유리판에 붙이고, 50℃, 0.49 m㎩(5 ㎏/㎠)의 조건 하에서, 20분간 오토클레이브 처리를 행하였다. 그 후, 100℃ 환경, 혹은 60℃/90%RH 환경에 넣고, 120시간 후의 외관을 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 상기 어느 것의 환경하에서도 발포, 들뜸, 박리가 관찰되지 않았던 것을 나타내고, 「×」는 상기 어느 것의 환경하에서 적어도 발포, 들뜸, 박리가 관찰된 것을 나타낸다.
<점착력>
각 점착제층 부착 편광판에 대해서, JIS Z0237 점착테이프점착 시트 시험 방법에 준해서 점착력의 측정을 행하였다. 즉, 각 점착제층 부착 편광판을, 25㎜ 폭으로 재단한 시료를 유리판에 붙이고, 50℃, 0.49 m㎩(5 ㎏/㎠)의 조건 하에서, 20분간 오토클레이브 처리를 행하였다. 그 후, 인장 시험기를 이용하여, 박리각 90°, 박리 속도 0.3m/min으로 점착력(N/25㎜)을 측정하였다(측정 환경: 23℃/50%RH)
<기재에 대한 밀착성>
각 점착제층 부착 편광판에 대해서, 상기 <점착력> 시험과 마찬가지 실험을 행하여, 점착력 측정 시의 유리판과 편광판과의 밀착성을 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 편광판이 유리판으로부터 전혀 박리되지 않았음을 나타내고, 「×」는 편광판이 유리판으로부터 박리된 것을 나타낸다.
<피착체 오염성>
각 점착제층 부착 편광판에 대해서, 상기 <점착력> 시험과 마찬가지 실험을 행하여, 점착력 측정 전후의 유리판면의 접촉각을 측정하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 점착력 측정 전후의 유리면의 접촉각에 변화가 확인되지 않았던 것을 나타내고, 「×」는 점착력 측정 전후의 유리면의 접촉각에 변화가 확인된 것을 나타낸다.
<저온안정성>
각 점착제층 부착 편광판을, 120㎜(편광판 MD 방향)×60㎜의 크기로 재단하여, 시료로 하였다. 이 시료를, 유리판에 붙이고, 50℃, 0.49 m㎩(5 ㎏/㎠)의 조건 하에서, 20분간 오토클레이브 처리를 행하였다. 그 후, -40℃ 환경에 넣어, 120시간 후의 외관을 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 발포, 들뜸, 박리, 재결정물이 관찰되지 않았던 것을 나타내고, 「×」는 발포, 들뜸, 박리, 재결정물이 관찰된 것을 나타낸다.
<리워크성>
각 점착제층 부착 편광판에 대해서, 상기 <점착력> 시험과 마찬가지 실험을 행하여, 점착력 측정 시의 박리 상태를 관찰하였다. 또한, 하기 표 4 중, 「○」는 계면파괴가 관찰된 것을 나타내고, 「×」는 유리판(피착체)에 전착 및 또는 응집파괴가 관찰된 것을 나타낸다.
<겔분율>
상기 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 9에 있어서, 편광판 대신에 박리 처리한 폴리에스터 필름을 사용해서, 점착제층을 폴리에스터 필름 위에 형성하고, 도공 1, 3, 5, 7, 10 및 15일 후에 있어서의 겔분율(%)을 측정하였다. 겔분율은, 23℃, 50% RH의 분위기 하에서 소정 일수 방치한 점착제층 약 0.1g을 칭량해서 중량 W1(g)이라 하였다. 이것을 샘플병에 채취하여, 아세트산 에틸을 약 30g 가해서 24시간 방치하였다. 소정 시간 경과 후의 샘플병의 내용물을 200메시의 스테인레스제 철망(철망의 중량을 W2(g))에서 여과하여 분별하고, 철망 및 잔류물을 90℃에서 1시간 건조시킨 전체의 중량 W3(g)를 측정하였다. 이때, 겔분율은, 이들 측정치로부터 이하의 수학식 2에 의해 산출하였다:
수학식 2
Figure PCTKR2009007747-appb-M000002
표 4
Figure PCTKR2009007747-appb-T000003
상기 표 4로부터, 본 발명의 실시예 1 내지 10의 점착제 조성물(1) 내지 (10) 및 이들을 이용한 점착제층 부착 편광판(1) 내지 (10)은, 비교예 1 내지 9의 것과 비교해서, 우수한 내구성을 지니면서, 대전방지성이나 금속 부식성도 우수한 것을 알 수 있다.

Claims (4)

  1. (메타)아크릴산 에스터를 함유하는 단량체 성분을 중합해서 이루어진 중합체(A) 100질량부에 대해서,
    이온성 화합물 및/또는 리튬염을 함유하는 대전방지제(B) 0.01~3질량부,
    실란 커플링제(silane coupling agent)(C) 0~1질량부,
    벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D) 3~20질량부; 그리고
    가교제(E) 0.05~5질량부, 또는
    다관능성 (메타)아크릴레이트계 모노머(F) 3~30질량부 및 활성 에너지선 개시제(G) 0~5질량부를 포함하는 점착제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)은, 하기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것인 점착제 조성물:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000002
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000003
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000004
    [화학식 4]
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000005
    [화학식 5]
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000006
    식 중, R1은 탄소원자수 1~4의 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타내고, p가 2~4일 경우에는, R1은 각각 동일 또는 상이할 수 있고; p는 0~4이며; R2는 탄소원자수 1~12의 알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기 및 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 나타내고; R3는 수소원자 또는 탄소원자수 1~12의 알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬기, 탄소원자수 5~7의 사이클로알킬-탄소원자수 1~4의 알킬기, 페닐기, 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기, 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐기 및 1~3개의 탄소원자수 1~4의 알킬로 치환된 페닐-탄소원자수 1~4의 알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기를 나타내며; q는 1~3이다.
  3. 제1항에 있어서, 상기 벤조트라이아졸기를 지닌 화합물(D)은 하기 식:
    Figure PCTKR2009007747-appb-I000007
    으로부터 선택되는 적어도 1종인 것인 점착제 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 구비한 광학부재.
PCT/KR2009/007747 2008-12-25 2009-12-23 점착제 조성물 및 이것을 이용한 광학부재 WO2010074519A2 (ko)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140302313A1 (en) * 2011-08-12 2014-10-09 3M Innovative Properties Company Radiation curable pressure sensitive adhesive sheet
US20140315019A1 (en) * 2011-08-09 2014-10-23 Ik Hwan Cho Adhesive film having a phase difference, method for manufacturing same, and optical member including same
WO2016070067A1 (en) * 2014-10-31 2016-05-06 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Crosslinkable adhesive composition

Families Citing this family (74)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5285591B2 (ja) * 2009-12-22 2013-09-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 粘着剤組成物ならびにこれを用いた光学部材および表面保護フィルム
JP5123991B2 (ja) * 2010-06-09 2013-01-23 株式会社オートネットワーク技術研究所 防食剤、端子付き被覆電線およびワイヤーハーネス
JP5637774B2 (ja) * 2010-08-18 2014-12-10 リンテック株式会社 粘着剤組成物および粘着シート
JP5625625B2 (ja) * 2010-08-30 2014-11-19 大日本印刷株式会社 金属貼付用粘着シート
KR101351621B1 (ko) * 2010-12-29 2014-01-15 제일모직주식회사 점착제 조성물 및 이를 이용한 광학 부재
US9598612B2 (en) 2010-12-30 2017-03-21 Cheil Industries, Inc. Adhesive composition and optical member using the same
JP5664351B2 (ja) * 2011-03-07 2015-02-04 帝人株式会社 光硬化性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有する物品、その製造方法
TWI461503B (zh) * 2011-03-23 2014-11-21 Lg Chemical Ltd 光學膜用之壓敏性黏著組成物
JP2012247574A (ja) 2011-05-26 2012-12-13 Nitto Denko Corp 粘着型偏光板および画像表示装置
KR101309824B1 (ko) * 2011-06-03 2013-09-23 제일모직주식회사 점착제 조성물 및 이를 이용한 광학부재와 표면 보호 필름
JP5650067B2 (ja) * 2011-07-13 2015-01-07 関西ペイント株式会社 プライマー組成物
JP5909078B2 (ja) * 2011-11-09 2016-04-26 日本化薬株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品
JP5729292B2 (ja) * 2011-12-21 2015-06-03 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 太陽電池裏面保護シート用易接着剤、及び太陽電池裏面保護シート、ならびに太陽電池モジュール
JP5948075B2 (ja) * 2012-02-15 2016-07-06 株式会社寺岡製作所 粘着シート及びその製造方法、接着用シート、光硬化型接着剤組成物並びに光学用部材
JP6071224B2 (ja) * 2012-03-28 2017-02-01 リンテック株式会社 粘着シート
JP6001331B2 (ja) * 2012-05-28 2016-10-05 ヘンケルジャパン株式会社 積層シート用接着剤
JP6001332B2 (ja) * 2012-05-30 2016-10-05 ヘンケルジャパン株式会社 積層シート用接着剤
CN104428331B (zh) * 2012-07-11 2019-02-15 东洋油墨Sc控股株式会社 活性能量射线聚合性树脂组合物、以及使用该树脂组合物的层叠体
JP6423574B2 (ja) * 2012-08-31 2018-11-14 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP6647767B2 (ja) * 2012-11-05 2020-02-14 ソマール株式会社 帯電防止性樹脂組成物及び成形品
KR20150095746A (ko) 2012-12-10 2015-08-21 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 액체 광학 접착제 조성물
JP6112893B2 (ja) * 2013-02-13 2017-04-12 リンテック株式会社 粘着性組成物、粘着剤および粘着シート
JP6407527B2 (ja) * 2013-02-14 2018-10-17 日東電工株式会社 光学用粘着剤層、粘着シート、光学部材、及びタッチパネル
JP6508869B2 (ja) * 2013-02-14 2019-05-08 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着シート、光学部材、及びタッチパネル
JP6271156B2 (ja) * 2013-02-14 2018-01-31 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、粘着シート、光学部材、及びタッチパネル
US20140226085A1 (en) * 2013-02-14 2014-08-14 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive layer, pressure-sensitive adhesive sheet, optical component and touch panel
US20140227502A1 (en) * 2013-02-14 2014-08-14 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive layer for optical use, pressure-sensitive adhesive sheet, optical component and touch panel
WO2014125913A1 (ja) 2013-02-18 2014-08-21 株式会社オートネットワーク技術研究所 電気接続構造及び端子
JP6283355B2 (ja) * 2013-04-11 2018-02-21 綜研化学株式会社 積層体
KR101745042B1 (ko) 2013-05-20 2017-06-08 주식회사 엘지화학 터치패널용 점착제 조성물, 점착 필름 및 터치 패널
KR20140140874A (ko) * 2013-05-30 2014-12-10 동우 화인켐 주식회사 점착제 조성물
KR101938897B1 (ko) * 2013-06-05 2019-01-15 동우 화인켐 주식회사 아크릴계 공중합체, 이를 함유한 점착제 조성물 및 편광판
JP6075556B2 (ja) 2013-07-10 2017-02-08 株式会社オートネットワーク技術研究所 端子付き電線
CN103305135A (zh) * 2013-07-10 2013-09-18 深圳市飞世尔实业有限公司 一种用于电容式触摸屏粘接的光固化消影胶及其制备方法
KR20150016877A (ko) 2013-08-05 2015-02-13 주식회사 엘지화학 점착제 조성물, 점착 필름 및 이를 이용한 유기전자장치의 봉지방법
CN104378907B (zh) * 2013-08-12 2017-06-30 富葵精密组件(深圳)有限公司 电路板及其制作方法
PL3020777T3 (pl) * 2013-08-16 2021-01-25 Lg Chem, Ltd. Taśma uszczelniająca
WO2015046584A1 (ja) * 2013-09-30 2015-04-02 積水化学工業株式会社 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
KR20150039984A (ko) * 2013-10-04 2015-04-14 동우 화인켐 주식회사 점착제 조성물
KR20150046884A (ko) * 2013-10-23 2015-05-04 동우 화인켐 주식회사 접착제 조성물 및 이를 이용한 복합 편광판
JP2015098503A (ja) * 2013-11-18 2015-05-28 日東電工株式会社 ウレタン系粘着剤およびそれを用いた表面保護フィルム
JP5858347B2 (ja) * 2014-02-05 2016-02-10 大日本印刷株式会社 粘着剤組成物およびそれを用いた粘着フィルム
KR101828644B1 (ko) * 2014-03-25 2018-02-14 주식회사 엘지화학 방열 점착 테이프용 점착제 조성물 및 방열 점착 테이프
JP6064937B2 (ja) * 2014-03-31 2017-01-25 信越化学工業株式会社 粘着剤組成物、粘着偏光板及び液晶表示装置
JP6338915B2 (ja) * 2014-04-07 2018-06-06 日本カーバイド工業株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
WO2016013543A1 (ja) * 2014-07-23 2016-01-28 日産化学工業株式会社 硬化膜形成用樹脂組成物、硬化膜、導電性部材、及びマイグレーションの抑制方法
KR101882560B1 (ko) * 2014-08-01 2018-07-26 삼성에스디아이 주식회사 점착제 조성물, 점착필름, 광학부재 및 점착시트
JP6620325B2 (ja) * 2014-08-06 2019-12-18 藤森工業株式会社 粘着剤層、及び粘着フィルム
JP6644971B2 (ja) * 2014-08-06 2020-02-12 藤森工業株式会社 粘着剤層及び粘着フィルム
JP6605914B2 (ja) * 2014-11-10 2019-11-13 住友化学株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層、及び粘着剤層付光学部材
KR102542169B1 (ko) * 2015-03-11 2023-06-12 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 점착제 조성물, 점착제층 및 점착제층이 구비된 광학 부재
JP2016204406A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 藤森工業株式会社 粘着剤層及び粘着フィルム
JP6904926B2 (ja) * 2015-04-15 2021-07-21 藤森工業株式会社 粘着剤層及び粘着フィルム
TWI687769B (zh) * 2015-05-12 2020-03-11 日商三菱製紙股份有限公司 噴砂用感光性樹脂組成物及噴砂處理方法
JP6554377B2 (ja) * 2015-09-30 2019-07-31 リンテック株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
JP6124379B2 (ja) * 2016-03-24 2017-05-10 日本化薬株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品
JP6259060B2 (ja) * 2016-12-16 2018-01-10 藤森工業株式会社 帯電防止剤を含有する粘着剤組成物、及び粘着フィルム
WO2018159784A1 (ja) * 2017-03-03 2018-09-07 日東電工株式会社 電気剥離用粘着剤組成物、粘着シート、及び接合体
KR102535758B1 (ko) 2017-06-23 2023-05-23 미쯔비시 케미컬 주식회사 광경화형 점착 시트, 화상 표시 장치 구성용 적층체, 화상 표시 장치의 제조 방법 및 도전부재의 부식 억제 방법
JP6453430B2 (ja) * 2017-12-06 2019-01-16 藤森工業株式会社 帯電防止剤を含有する粘着剤組成物、及び粘着フィルム
CN107987784B (zh) * 2017-12-13 2020-11-17 金华易翔新材料科技有限公司 服装用反光材料粘合剂及其制备方法和应用、使用方法
JP7228957B2 (ja) * 2018-02-16 2023-02-27 日東電工株式会社 粘着剤層付き光学フィルム、インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置
JP6570684B2 (ja) * 2018-03-14 2019-09-04 日東電工株式会社 ウレタン系粘着剤の製造方法
CN111936589B (zh) * 2018-03-29 2023-05-05 三菱化学株式会社 粘合片、使用其的导电构件层叠体、及图像显示装置
JP6724065B2 (ja) * 2018-05-16 2020-07-15 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP6614594B2 (ja) * 2018-12-11 2019-12-04 藤森工業株式会社 帯電防止剤を含有する粘着剤組成物、及び粘着フィルム
JP6615306B2 (ja) * 2018-12-11 2019-12-04 藤森工業株式会社 帯電防止剤を含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層、及び粘着フィルム
JP6912628B2 (ja) * 2018-12-27 2021-08-04 藤森工業株式会社 粘着剤層、及び粘着剤層付き光学フィルム
JP6945586B2 (ja) * 2019-04-17 2021-10-06 住友化学株式会社 積層体、及び画像表示装置
JP6810228B2 (ja) * 2019-10-28 2021-01-06 藤森工業株式会社 粘着剤層、及び粘着フィルム
JP7079808B2 (ja) * 2020-04-07 2022-06-02 藤森工業株式会社 粘着剤層の製造方法、及び粘着フィルムの製造方法
JP2020111759A (ja) * 2020-04-07 2020-07-27 藤森工業株式会社 粘着剤組成物及び粘着フィルム
JP7071457B2 (ja) * 2020-09-15 2022-05-19 藤森工業株式会社 粘着剤層及び粘着フィルム
JP7036892B2 (ja) * 2020-12-09 2022-03-15 藤森工業株式会社 粘着剤層、及び粘着フィルム

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914186A (en) * 1994-05-06 1999-06-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company High temperature resistant antistatic pressure-sensitive adhesive tape
KR20080050398A (ko) * 2005-08-30 2008-06-05 닛토덴코 가부시키가이샤 편광자 보호 필름, 편광판, 및 화상표시장치
JP2008239965A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Sanyo Chem Ind Ltd 光学部材用粘着剤
JP2008268535A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nippon Kayaku Co Ltd 近赤外線吸収フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL129113C (ko) * 1963-05-24
DE8434291U1 (de) * 1984-11-23 1986-03-27 Beiersdorf Ag, 2000 Hamburg Klebeband
EP0579221A1 (en) * 1992-07-17 1994-01-19 Takeda Chemical Industries, Ltd. Cephem compounds, their production and use
US5621052A (en) * 1992-12-29 1997-04-15 Cytec Technology Corp. Aminoplast-anchored ultraviolet light stabilizers
JPH06345689A (ja) * 1993-06-14 1994-12-20 Takeda Chem Ind Ltd アルデヒド誘導体の製造法
US5378405A (en) * 1993-07-28 1995-01-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Conductive microparticles and pressure-sensitive adhesive tapes made therefrom
US5883147A (en) * 1994-01-04 1999-03-16 Japan Institute Of Advanced Dentistry Photopolymerizable adhesive composition
JPH09249866A (ja) * 1996-03-19 1997-09-22 Sekisui Chem Co Ltd アクリル系粘着剤組成物
JPH1124266A (ja) * 1997-07-04 1999-01-29 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法
JP4531883B2 (ja) 1999-03-25 2010-08-25 リンテック株式会社 帯電防止性粘着シート
JP2001318230A (ja) 2000-03-01 2001-11-16 Nitto Denko Corp 偏光部材、面光源及び液晶表示装置
JP2002338900A (ja) 2001-05-11 2002-11-27 Shin Etsu Polymer Co Ltd 紫外線硬化型接着剤、接着方法及びそれから製造される成形品
JP3944734B2 (ja) * 2003-01-10 2007-07-18 信越化学工業株式会社 オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜
JP4515357B2 (ja) 2005-01-27 2010-07-28 リンテック株式会社 偏光板用粘着剤、粘着剤付き偏光板及びその製造方法
JP4358190B2 (ja) * 2005-03-16 2009-11-04 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着シート類および表面保護フィルム
JP5047557B2 (ja) * 2006-07-28 2012-10-10 リンテック株式会社 粘着剤組成物及びそれを用いた粘着シートと粘着性光学部材
KR101047925B1 (ko) * 2007-04-19 2011-07-08 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판
JP5273455B2 (ja) * 2008-09-22 2013-08-28 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914186A (en) * 1994-05-06 1999-06-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company High temperature resistant antistatic pressure-sensitive adhesive tape
KR20080050398A (ko) * 2005-08-30 2008-06-05 닛토덴코 가부시키가이샤 편광자 보호 필름, 편광판, 및 화상표시장치
JP2008239965A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Sanyo Chem Ind Ltd 光学部材用粘着剤
JP2008268535A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Nippon Kayaku Co Ltd 近赤外線吸収フィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140315019A1 (en) * 2011-08-09 2014-10-23 Ik Hwan Cho Adhesive film having a phase difference, method for manufacturing same, and optical member including same
US20140302313A1 (en) * 2011-08-12 2014-10-09 3M Innovative Properties Company Radiation curable pressure sensitive adhesive sheet
WO2016070067A1 (en) * 2014-10-31 2016-05-06 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Crosslinkable adhesive composition

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010074519A3 (ko) 2010-10-07
KR101127103B1 (ko) 2012-03-22
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KR20100075723A (ko) 2010-07-05
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US20110245364A1 (en) 2011-10-06
US8288450B2 (en) 2012-10-16
CN102216408B (zh) 2014-07-23
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JP5455362B2 (ja) 2014-03-26

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