WO2004072150A1 - エポキシ基含有ケイ素化合物及び熱硬化性樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ基含有ケイ素化合物及び熱硬化性樹脂組成物 Download PDF

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WO2004072150A1
WO2004072150A1 PCT/JP2004/001395 JP2004001395W WO2004072150A1 WO 2004072150 A1 WO2004072150 A1 WO 2004072150A1 JP 2004001395 W JP2004001395 W JP 2004001395W WO 2004072150 A1 WO2004072150 A1 WO 2004072150A1
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epoxy
alkyl group
carbon atoms
epoxy group
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PCT/JP2004/001395
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Koji Nakayama
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Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
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    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/08Preparatory processes characterised by the catalysts used

Definitions

  • the present invention relates to novel epoxy group-containing silicon compounds, various electric and electronic component insulating materials, various composite materials including laminated boards (printed wiring boards) and FRP (fiber reinforced plastics), adhesives, paints, etc.
  • the present invention relates to a thermosetting resin composition containing the above-described epoxy group-containing silicon compound, which gives a cured product having excellent heat resistance used in the above. Background Art Itoda
  • Epoxy resins are widely used in the fields of various electrical and electronic components, structural materials, adhesives, paints, etc. because of their excellent heat resistance, electrical properties, and mechanical properties. In addition, with the recent development of the electric and electronic fields, the demand for epoxy resins has also become higher, and in particular, improvement in heat resistance has been required.
  • Methods for improving the heat resistance of epoxy resins include increasing the crosslink density of the cured product by increasing the density of functional groups in the epoxy resin, and introducing rigid skeletons into the resin skeleton.
  • a filler such as glass fiber, silica particles, and my strength.
  • such a method of improving the structure of the epoxy resin itself by adding filler or the like has not been able to obtain a sufficient improvement effect.
  • a method for improving the heat resistance of the epoxy resin itself other than the addition of a filler such as a structure improving method is disclosed in, for example, JP-A-2001-59013.
  • a method using an alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin obtained by subjecting a bisphenol A-type epoxy resin and a hydrolyzable alkoxysilane to a dealcoholization reaction has been proposed.
  • this method tends to cause defects such as voids in the cured product due to alcohol and water generated as by-products.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-3247949 discloses that a compound having an epoxy group as a compound having a silicon and an epoxy group in a molecule, similarly to the alkoxy group-containing silane-modified epoxy resin.
  • Organosiloxanes and methods for their preparation have been proposed.
  • a step of end-capping the hydroxyl group and the z or alkoxy group at the terminal of the main chain is required for improving the stability.
  • a multi-step process is required in which a mercapto group is first introduced and a Michael addition reaction between the mercapto group and the epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound is performed in the presence of a radical initiator. Not efficient. No mention is made of the heat resistance of the resulting epoxy-containing polyorganosiloxane.
  • one of the objects of the present invention is to provide a thermosetting resin composition which gives a cured product having excellent heat resistance without depending on a conventional heat resistance improving method.
  • Another object of the present invention is to provide a new and stable epoxy group-containing silicon compound which can be a component of such a composition.
  • Still another object of the present invention is to provide a method for efficiently producing such an epoxy group-containing silicon compound.
  • the present invention relates to the following configurations.
  • R la is a carbon atom having a glycidoxy (C 1 -C 3) alkyl group or an oxysilane group. Substituted with a cycloalkyl group of the number 5 to 8
  • R lb is an alkyl group or an aryl group having 6 or less carbon atoms. Epoxy group-containing silicon compounds.
  • R la is a glycidoxy (C 1 -C 3) alkyl group or an oxysilane group having 5 carbon atoms.
  • R lb represents an alkyl group having 6 or less carbon atoms, Is an epoxy group-containing silicon compound according to the above (2), wherein
  • thermosetting resin composition comprising: i) the epoxy group-containing silicon compound according to any one of the above items (1) to (5); and ii) a curing agent.
  • thermosetting resin composition according to the above (6) further comprising an epoxy resin other than the above i).
  • thermosetting resin composition according to the above (6) or (7), further comprising a curing accelerator and Z or an organic solvent.
  • thermosetting resin composition obtained by curing the thermosetting resin composition according to any one of the above (6) to (8).
  • Ri a represents a substituent having an epoxy group
  • R 2 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms
  • R la is a carbon atom having a glycidoxy (C 1 -C 3) alkyl group or an oxysilane group.
  • each of the at least one substituted alkoxysilicon compound represented by the general formula (lb) is an alkyl group or an aryl group having a R lb force of 6 or less carbon atoms.
  • R la is a glycidoxy (C 1 -C 3) alkyl group or an oxysilane group having 5 carbon atoms.
  • each of the substituted alkoxysilicon compounds represented by the general formula (lb) is an alkyl group substituted with a cycloalkyl group of from 8 to 8, and R;! B is an alkyl group having 6 or less carbon atoms. Or the aryl group.
  • FIG. 1 is a diagram showing the heat resistance evaluation results of the cured products obtained in Examples 2 and 4 and Comparative Example 1.
  • the vertical axis indicates the dynamic storage modulus, and the horizontal axis indicates the temperature.
  • FIG. 2 is a diagram showing the heat resistance evaluation results of the cured products obtained in Examples 6, 8 and Comparative Example 1.
  • the vertical axis indicates the dynamic storage modulus, and the horizontal axis indicates the temperature.
  • FIG. 3 is a diagram showing the heat resistance evaluation results of the cured products obtained in Examples 10, 12 and Comparative Example 1.
  • the vertical axis indicates the dynamic storage modulus, and the horizontal axis indicates the temperature.
  • FIG. 4 is a graph showing the heat resistance evaluation results of the cured products obtained in Examples 14 and 16 and Comparative Example 1.
  • the vertical axis indicates the dynamic storage modulus, and the horizontal axis indicates the temperature.
  • the epoxy group-containing silicon compound of the present invention comprises at least one An epoxy group represented by the general formula (la): R la Si (OR 2) 3 (where a represents a substituent having an epoxy group, and R 2 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms)
  • a represents a substituent having an epoxy group
  • R 2 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms
  • R la S i (OR 2) 3 (wherein Ri a denotes a substituent having a epoxy group, R 2 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms) and Epokishi group containing Arukokishikei containing compound represented by At least one general formula (1b); R ib S i (OR 3 ) a (where R lb represents an alkyl group having 10 or less carbon atoms, an aryl group or an unsaturated aliphatic residue; 3 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms) in the presence of a basic catalyst in the presence of a substituted alkoxysilicon compound represented by the formula:
  • the at least one epoxy group-containing alkoxysilicon compound represented by the general formula (la)” and “the at least one substituted alkoxysilicon compound represented by the general formula (lb)” are defined as It means that only one of the compounds represented by these formulas may be used, or two or more compounds may be used in combination.
  • condensation of the compound of the general formula (la) means, without being combined with the compound of the general formula (lb), the same molecule of a certain compound of the general formula (la) Alternatively, it means condensation between different molecules of two or more compounds of the general formula (1a).
  • the E epoxy group-containing group a of the epoxy group-containing Arukokishikei containing compounds of formula (la) for use in the present invention is not particularly limited so long as it is a substituent having an epoxy group, one glycidyl Doki Chez chill, gamma Glycidoxyalkyl groups bonded to oxyglycidyl groups having 4 or less carbon atoms such as glycidoxypropyl and ⁇ -glycidoxybutyl; glycidyl; ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl; , 4-Ipoxycyclohexynole) propyl ⁇ ⁇ ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl, ⁇ - (3,4-epoxycyclohexyl) propyl, ⁇ - (3,4-epoxycyclo) Xinole) Butynole, ⁇ - (3,4-epoxycyclohex
  • R 2 in the epoxy group-containing alkoxysilicon compound of the formula (la) examples include C 4 , such as methynole, ethynole, n-propynole, i-propynole, n-butyl, and i-butynole tert-butyl.
  • the following alkyl groups are mentioned.
  • R 2 is most preferably methyl or ethyl from the viewpoint of reaction conditions such as compatibility, reactivity, and reaction yield.
  • Examples of b in the substituted alkoxysilicon compound of the formula (lb) used in the present invention include carbon numbers such as methinole, ethinole, propinole, butynole, pentinole, hexinole, heptinole, octyl, noel, and decanyl. And unsaturated aliphatic residues such as 10 or less alkyl groups, aryl groups, or metharyloyl groups, atalyloyl groups.
  • R ⁇ b is preferably an alkyl group having 6 or less carbon atoms or an aryl group.
  • R 3 in the substituted alkoxysilicon compound of the formula (lb) examples include methyl number, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl and tert-butyl. And 4 or less alkyl groups.
  • R 3 is most preferably methyl or ethyl from the viewpoint of reaction conditions such as compatibility, reactivity, and reaction yield.
  • Preferred specific examples of compounds that can be used as the compound of the formula (lb) having these substituents b and R 3 include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltryptoxysilane, and ethyltrimethoxysilane.
  • Ethyltriethoxysilane isopropyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, isopropylinotrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane And alkyltrialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane.
  • thermosetting composition of the present invention when a compound having a preferable substituent as described above is used as R lb (or as a combination of b and R 3 ), the compound in the thermosetting composition of the present invention described below can be used. Improvements are seen in compatibility with other components and physical properties of the cured product of the composition.
  • the desired cured product when the epoxy group-containing alkoxy silicon compound of the formula (la) and the substituted alkoxy silicon compound of the formula (lb) are used together, the desired cured product
  • the proportion of the compound of the formula (lb) to be used can be appropriately determined according to the physical properties. That is, the compound of the formula (1b) can be used in an amount of usually 95 mol% or less, preferably 90 mol% or less, based on the total moles of the compound of the formula (1a) and the compound of the formula (lb). .
  • the proportion of the compound of the formula (lb) increases, the heat resistance of the cured product tends to decrease.
  • the compound of formula (1 b) based on the total moles of the compound with a compound of formula (1 b) of formula (1 a), 75 mole 0/0 or less, Preferably, about 7 to 5 mol% is used.
  • the proportion of the compound of the formula (lb) increases, the tackiness (degree of stickiness) of the cured product is improved. Further, in that case, the refractive index becomes high, and a cured product having a different refractive index to a desired degree can be designed.
  • the epoxy group-containing alkoxysilicon compound of the formula (1a) is required as an essential component, and the compound (one or more) of the formula (1a) is Condensing the compound (s) of the formula (la) with the substituted alkoxysilicon compound (s) of the formula (lb) by itself or, if necessary, in the presence of a basic catalyst Can be obtained. Further, water can be added as necessary to promote the condensation. The amount of water to be added is generally 0.05 to 1.5 mol, preferably 0.07 to 1.2 mol, per 1 mol of the alkoxy group in the whole reaction mixture. In the present invention, it is more preferable to condense the compound of formula (la) (one or more) by itself.
  • the catalyst used in the above condensation reaction is not particularly limited as long as it is basic.
  • Inorganic metals such as alkali metal hydroxides such as thorium, potassium hydroxide, lithium hydroxide, lithium hydroxide, cesium hydroxide, and alkali metal carbonates such as sodium carbonate, lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate
  • An organic base such as a base, ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, or the like can be used.
  • an inorganic base or ammonia is particularly preferred because it is easy to remove the catalyst from the product.
  • the addition amount of the catalyst relative to the total weight of the epoxy group-containing Arukokishikei containing compound and a substituted Arukokishikei containing compound of formula (lb) of the formula (la), usually 5 X 1 0 one from 4 to 7.5%, preferably 1 X
  • the content is preferably about 0.01 to 0.1%.
  • the condensation reaction can be performed without a solvent or in a solvent.
  • the solvent the formula
  • the solvent dissolves the epoxy group-containing alkoxysilicon compound of (la) and the substituted alkoxysilicon compound of formula (lb).
  • solvents include, for example, aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methylethylketone, methylisobutylketone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Etc. can be exemplified.
  • aprotic polar solvents are preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds smoothly. However, if the amount is too large, the removal takes time and the working efficiency is deteriorated. Usually, about 80 to 150 parts are used for 100 parts of the total weight of the above.
  • the reaction is carried out by mixing the compound of the formula (1a) and, if necessary, the compound of the formula (lb) and a solvent, heating the mixture to 40 to 140 ° C., and then adding a basic catalyst.
  • the basic catalyst may be added in its entirety before heating.
  • the basic catalyst can be added as a solid or as an aqueous solution of about 0.05 to 0.3%, but it is preferable to gradually add the aqueous solution in order to avoid excessive progress of the reaction.
  • the reaction is continued at 40 to 140 for 1 to 12 hours while removing alcohols produced by the reaction.
  • the reaction can be continued without removing the alcohols.
  • wash with water until the product washings are neutral.
  • the solvent If used, remove under reduced pressure after washing with water.
  • the molecular weight of the epoxy group-containing silicon compound of the present invention thus obtained is preferably from 400 to 500,000 in terms of weight average molecular weight, and is preferably from 750 to 300,000. Are more preferable, those having a size of 1200 to 100000 are still more preferable, and those having a size of about 2000 to 700 are particularly preferable.
  • the weight average molecular weight is less than 400, the effect of improving heat resistance is poor.
  • the thermosetting composition is not preferable because the physical properties of the composition such as a decrease in compatibility with other components and an increase in viscosity are caused.
  • the epoxy group-containing silicon compound of the present invention is used for various applications, but is usually used as a thermosetting resin composition in combination with a curing agent.
  • various types of epoxy resins other than the epoxy group-containing silicon compound of the present invention can be used depending on the application.
  • curing agent examples include, but are not particularly limited to, amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, phenol compounds, imidazoles, Lewis acids, and the like, which are usually used as curing agents for epoxy resins. Can be used. Specifically, amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dimethylbenzylamine, tetraethylenepentamine, ketimine compounds and guanidine derivatives; dicyandiamide and linolenic acid; Amide compounds such as polyamide resin synthesized from monomer and ethylenediamine; phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Acid anhydride compounds such as methylnadic anhydride, hexahydride
  • the amount of the curing agent used is preferably from 0.2 to 1.5 equivalents, more preferably from 0.3 to 1.2 equivalents, per equivalent of the epoxy group in the composition.
  • Tertiary amines such as benzyldimethylamine can also be used as a curing agent, but when these are used, the amount used is usually 0.3 to 20% based on the epoxy group-containing compound. , Preferably 0.5 to: 10%.
  • the thermosetting resin composition of the present invention may contain a curing accelerator if necessary.
  • the curing accelerator include imidazonoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazonole, 2-ethinole-4-methinoreimidazonole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5, (4, 0) Tertiary amines such as pendecene-17, phosphines such as triphenylphosphine, metal compounds such as tin octylate, and quaternary phosphonium salts.
  • the curing accelerator is used in an amount of 0.01 to 15 parts with respect to 100 parts of the epoxy group-containing compound in the composition, if necessary.
  • thermosetting resin composition of the present invention when the epoxy group-containing silicon compound of the present invention is used in combination with another epoxy resin, the epoxy group-containing silicon compound of the present invention is contained in all the epoxy group-containing compounds.
  • the occupying ratio is preferably 10% or more.
  • the other epoxy resin that can be used is not particularly limited as long as it is an epoxy resin generally used for electric and electronic parts, and is usually obtained by glycidylation of a compound having two or more phenolic hydroxyl groups. be able to.
  • epoxy resins examples include bisphenols such as tetrabromobisphenol A, tetrabromobisphenol F, bisphenol A, tetramethylbisphenol F, bisphenol F, bisphenol S or bisphenol K, or Biphenols such as biphenol or tetramethylbiphenol, or hydroquinones such as hydroquinone, methylhydroquinone, dimethylhydroquinone, trimethylhydroquinone or jet-tert-butylhydroquinone, or resorcinols such as resorcinol or methylresorcinol, or Catechols such as phenol or methyl catechol, or dihydroxynaphthalene, dihydroxymethylnaphthalene or dihydroxy Di hydroxy naphthalenes Gurishijirui ⁇ and phenols or naphthols of such methylnaphthalene Condensates of phenols or naphthols with xylylene glycol, or condensates of
  • thermosetting resin composition of the present invention may contain, if necessary, a filler such as silica, alumina, glass fiber, and talc, a mold release agent, a pigment, a surface treatment agent, a viscosity modifier, a plasticizer, and a stabilizer. Various compounding agents such as an agent and a coupling agent can be added.
  • the thermosetting resin composition of the present invention may contain an organic solvent and be used as a varnish.
  • the organic solvent is not particularly limited as long as it can dissolve each component of the composition, and examples thereof include toluene, xylene, acetone, methylethylketone, methylisobutylketone, and dimethylformamide.
  • the varnish in which these organic solvents are dissolved is impregnated into a base material such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. Can be obtained.
  • the organic solvent can be used in such an amount that the proportion of the organic solvent in the thermosetting resin composition is usually 10 to 70%, preferably 15 to 65%.
  • thermosetting resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the components.
  • the thermosetting resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method.
  • an epoxy resin composition is obtained by thoroughly mixing an epoxy group-containing compound with a curing agent, and optionally a curing accelerator, and other compounding agents, if necessary, using an extruder, a kneader, a roll, or the like until the mixture becomes uniform. be able to.
  • the epoxy side oil composition is melted, molded using a casting or transfer molding machine or the like, and further heated at 80 to 200 ° C for 2 to 10 hours to obtain a cured product. Can be.
  • Weight average molecular weight Measured by GPC (gel permeation chromatography) method.
  • Epoxy equivalent measured by a method according to JIS K-7236.
  • the epoxy equivalent of the obtained compound was 166 g / eq, and the weight average molecular weight was 3,700.
  • E epoxy compound (A) of ⁇ ⁇ - NMR (CDC 1 3 solution) from the epoxy ring methine peak (3. around 2 p pm) the epoxy ring is retained, and the peak of the main bets alkoxy group (Around 3.6 ppm) was confirmed to have disappeared. No gelation was observed even at room temperature for one month.
  • thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was poured into an aluminum cup and heated at 60 ° C., 100 ° C., 150 ° C., and 190 ° C. sequentially for 4 hours each to obtain a cured product. No defects such as voids were found in the obtained cured product.
  • thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. No defects such as voids were observed in the obtained cured product.
  • the epoxide of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that 21.6 parts of the 0.1% aqueous hydroxide water solution was replaced with 10.8 parts of the 0.1% aqueous sodium hydroxide solution. 67 parts of a group-containing silicon compound (C) were obtained. The epoxy equivalent of the obtained compound was 169 gZeq, and the weight average molecular weight was 3100. From 1 H- NMR of the epoxy compound (C) (CDC 1 3 solution) from the epoxy ring methine peak (3. around 2 p pm), the epoxy ring is retained, ⁇ Pi methoxy group peak (3 Around 6 ppm). In addition, no gelling was observed even at room temperature for one month.
  • thermosetting resin composition 10.0 parts of epoxy group-containing silicon compound (C) obtained in Example 5, bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 186 g / eq, Epikote 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 5.5 And 4.4 parts of diaminodiphenylmethane were uniformly mixed to prepare a thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. Press the cured product No defects such as sulfides were found.
  • thermosetting resin composition of the present invention 10.0 parts of epoxy group-containing silicon compound (D) obtained in Example 7, bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 186 gZeq, Epikote 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 5.5 parts And 4.2 parts of diaminodiphenylmethane were uniformly mixed to prepare a thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. No defects such as voids were found in the obtained cured product.
  • Example 1 the epoxy resin of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that 21.6 parts of the 0.1% aqueous hydroxide ice solution was changed to 11.5 parts of a 0.5% aqueous potassium carbonate solution. 66 parts of a group-containing silicon compound (E) were obtained. The epoxy equivalent of the obtained compound was 173 gZeq, and the weight average molecular weight was 3,200. From X H-NMR of the epoxy compound (E) (CDC 1 3 solution) from the epoxy ring methine peak (3. around 2 ppm), the epoxy ring is retained, and the peak of the main butoxy group (3.6 (near p pm) was confirmed to have disappeared. Even at room temperature for 1 month Gelling was not observed.
  • thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. No defects such as voids were found in the obtained cured product.
  • Example 1 the epoxide group of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that 21.6 parts of the 0.1% aqueous hydroxide water solution was changed to 11.5 parts of the 0.5% aqueous sodium carbonate solution. 67 parts of the contained silicon compound (F) were obtained. The epoxy equivalent of the obtained compound was 168 gZeq, and the weight average molecular weight was 3,400. From 1 H- NMR of the epoxy compound (F) (CDC 1 3 solution) from the epoxy ring methine peak (3. around 2 p pm), the epoxy ring is retained, and the peak of the methoxy group (3.6 (near p pm) was confirmed to have disappeared. No gelation was observed even after 1 month at room temperature.
  • thermosetting resin composition of the present invention 10.6 parts of epoxy group-containing silicon compound (F) obtained in Example 11 and bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 186 g / eq, Epikote 828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 6 0.0 part and 4.7 parts of diaminodiphenylmethane were uniformly mixed to prepare a thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. No defects such as voids were found in the obtained cured product.
  • the epoxy equivalent of the obtained compound was 436 gZeq, and the weight average molecular weight was 3,400. From 1 H- NMR of the epoxy compound (G) (CDC 1 3 solution) from the epoxy ring methine peak (3. around 2 p pm), the epoxy ring is held, the peak of ⁇ Pime butoxy group (3 Around 6 ppm). No gelation was observed even at room temperature for one month.
  • thermosetting resin composition of the present invention 10 parts of the epoxy group-containing silicon compound (G) obtained in Example 13, bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 186 g / eq, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Epicoat 828) 2.5 parts And 3.6 parts of diaminodiphenylmethane were uniformly mixed to prepare a thermosetting resin composition of the present invention.
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. No defects such as voids were observed in the obtained cured product.
  • thermosetting resin composition 15 parts of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 186 gZeq, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd., 828) and 4.0 parts of diaminodiphenylmethane were uniformly mixed to prepare a thermosetting resin composition. .
  • the prepared composition was cured in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product.
  • thermosetting resin composition containing the epoxy group-containing silicon compound of the present invention By using the thermosetting resin composition containing the epoxy group-containing silicon compound of the present invention, a significant improvement in the elastic modulus at high temperatures is recognized, and a cured product having excellent heat resistance can be obtained.
  • the thermosetting resin composition of the present invention can be used for various electric and electronic component insulating materials, printed wiring boards, laminated boards such as high-performance copper-clad laminates, semiconductor encapsulants, FRP (fiber reinforced plastic) and other various types. Can be used as composites, paints, adhesives and coatings. In particular, since a cured product having excellent heat resistance is provided, it is extremely useful as a thermosetting resin composition that can be used in recent years with lead-free solder.

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Abstract

 本発明は、少なくとも一種の一般式(1a);R1aSi(OR2)3(式中R1aは、エポキシ基を有する置換基を示し、R2は炭素数4以下のアルキル基を示す)で表されるエポキシ基含有アルコキシケイ素化合物をそれ自身で、また、該化合物と少なくとも一種の一般式(1b);R1bSi(OR3)3(式中R1bは炭素数10以下のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を示し、R3は炭素数4以下のアルキル基を示す)で表される置換アルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に縮合させて得られる、エポキシ基含有ケイ素化合物に関する。

Description

明 エポキシ基含有ケィ素化合物及び熱硬化性樹脂組成物 技術分野
本発明は、 新規なエポキシ基含有ケィ素化合物、 及び各種電気 ·電子部品絶縁 材料、 積層板 (プリント配線板) や F R P (繊維強化プラスチック) を始めとす る各種複合材料、 接着剤、 塗料等に用いられる耐熱性に優れた硬化物を与える、 上記の新規なエポキシ基含有ケィ素化合物を含む熱硬化性樹脂組成物に関する。 背景技術 糸田
エポキシ樹脂は、 耐熱性、 電気特性、 力学特性等に優れるため、 各種の電気.' 電子部品、 構造用材料、 接着剤、 塗料等の分野で幅広く用いられている。 また、 近年の電気 ·電子分野の発展に伴い、 エポキシ樹脂に対する要求も高度なものと なり、 特に耐熱性の向上が求められるようになってきた。
エポキシ樹脂の耐熱性を向上させる手法としては、 エポキシ樹脂中の官能基密 度を上げることにより硬化物の架橋密度を高める方法や、 樹脂骨格中に剛直な骨 格を導入するといつた、 エポキシ樹脂自体の構造改良や、 ガラス繊維、 シリカ粒 子やマイ力等のフィラーを充填する方法がある。 し力 し、 このようなエポキシ樹 脂自体の構造改良ゃフィラ一等の添加による手法では充分な改善効果が得られて いなかった。
エポキシ樹脂自体の構造改良ゃフイラ一等の添加以外の耐熱性向上方法は、 例 えば特開 2 0 0 1— 5 9 0 1 3号公報に開示されている。 そこでは、 ビスフエノ ール A型エポキシ樹脂と加水分解性アルコキシシランを脱アルコール反応させて 得られるアルコキシ基含有シラン変性エポキシ樹脂を使用する方法が提案されて いる。 し力 し、 この方法によっては、 副生物として生成するアルコール及び水の ため硬化物にボイド等の欠陥が生じやすレ、という問題が指摘されている。
また、 特開平 1 0— 3 2 4 7 4 9号公報には、 上記アルコキシ基含有シラン変 性エポキシ樹脂と同様に分子中にケィ素とエポキシ基を持った化合物として、 ェ ポキシ基を有するポリオルガノシロキサン及びその製造方法が提案されている。 しかし、 ここでは安定性向上のため主鎖末端の水酸基及び z又はアルコキシ基を エンドキャップする工程が必要である。 さらには、 目的物を得るため、 あら力 じ めメルカプト基を導入し、 これとェポキシ基含有ェチレン性不飽和化合物をラジ カル開始剤存在下でマイケル付加反応させるという多段階の工程が必要であり効 率的ではない。 また得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの耐熱性に は言及されていない。
発明の開示
従って、 本発明の目的の一つは、 従来の耐熱性向上手法に依ることなく耐熱性 に優れた硬化物を与える熱硬ィ匕性樹脂組成物を提供することである。
本発明の他の目的は、 そのような組成物の一成分となりうる新規かつ安定なェ ポキシ基含有ケィ素化合物を提供することである。
本発明のさらなる他の目的は、 そのようなエポキシ基含有ケィ素化合物を効率 的に製造する方法を提供することである。
本発明者らは上記の従来技術からの課題を解決すべく、 鋭意研究を行った結果 本発明をなすに至った。 すなわち本発明は以下の構成に関する。
(1) 少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (OR2) 3 (式中 Ri a はエポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表されるェポキシ基含有アルコキシケィ素化合物をそれ自身で、 塩基性触媒の 存在下に縮合させて得られる、 エポキシ基含有ケィ素化合物。
(2) 少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a i (OR2) 3 (式中 Ri a は、 エポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示 す) で表されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物と、 少なくとも一種の一 般式 (l b) ; Rl b S i (OR 3) 3 (式中 Ri bは炭素数 1 0以下のアルキル 基、 ァリール基又は不飽和脂肪族残基を示し、 R3は炭素数 4以下のアルキル基 を示す) で表される置換アルコキシケィ素化合物とを、 塩基性触媒の存在下に縮 合させて得られる、 エポキシ基含有ケィ素化合物。
(3) 前記少なくとも一種の一般式 (1 a) で表されるエポキシ基含有アルコ キシケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C 3) アル キル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換された アルキル基である、 上記 (1) 又は (2) 項に記載のエポキシ基含有ケィ素化合 物。
( 4 ) 前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アルコキシケィ素 化合物の各々において、 Rl bが、 炭素数 6以下のアルキル基又はァリール基で ある、 上記 (2) 項に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物。
(5) 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるエポキシ基含有アルコ キシケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C3) アル キル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換された アルキル基であり、 かつ前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換ァ ルコキシケィ素化合物の各々において、 Rl bが、 炭素数 6以下のアルキル基又 はァリール基である、 上記 (2) 項に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物。
(6) i) 上記 (1) 〜 (5) 項のいずれか 1項に記載のエポキシ基含有ケィ 素化合物、 及び i i) 硬化剤を含有する、 熱硬化性樹脂組成物。
(7) 上記 i) 以外のエポキシ樹脂を更に含有する、 上記 (6) 項記載の熱硬 化性樹脂組成物。
(8) 硬化促進剤及び Z又は有機溶剤を更に含有する、 上記 (6) 又は (7) 項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
(9) 上記 (6) 〜 (8) 項のいずれか 1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬 化してなる硬化物。
(10) エポキシ基含有ケィ素化合物の製造方法であって、
少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (〇R2) 3 (式中 Ri aは、 ェ ポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表 されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物をそれ自身で、 塩基性触媒の存在 下に縮合させることを含む、 上記方法。
(1 1) エポキシ基含有ケィ素化合物の製造方法であって、
少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (OR 2) 3 (式中 Ri aはェポ キシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表さ れるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物と、 少なくとも一種の一般式 (1 b) ; Rl bS i (OR3) 3 (式中 Ri bは、 炭素数 10以下のアルキル基、 了 リール基又は不飽和脂肪族残基を示し、 R 3は炭素数 4以下のアルキル基を示 す) で表される置換アルコキシケィ素化合物とを、 塩基性触媒の存在下に縮合さ せることを含む、 上記方法。
(12) 前記少なくとも一種の一般式 (1 a) で表されるエポキシ基含有アル コキシケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C 3) ァ ルキル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換され たアルキル基である、 上記 (10) 又は (1 1) 項に記載の方法。
(1 3) 前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アルコキシケィ 素化合物の各々において、 Rl b力 炭素数 6以下のアルキル基又はァリール基 である、 上記 (1 1) 項記載の方法。
(14) 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるエポキシ基含有アル コキシケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C3) 了 ルキル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換され たアルキル基であり、 かつ前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換 アルコキシケィ素化合物の各々において、 R;! bが、 炭素数 6以下のアルキル基 又はァリール基である、 上記 (1 1) 項記載の方法。
図面の簡単な説明
図 1は、 実施例 2、 4及ぴ比較例 1で得られた硬化物の耐熱性評価結果を表す 図である。 この中の縦軸は動的貯蔵弾性率、 横軸は温度をそれぞれ示す。
図 2は、 実施例 6、 8及ぴ比較例 1で得られた硬化物の耐熱性評価結果を表す 図である。 この中の縦軸は動的貯蔵弾性率、 横軸は温度をそれぞれ示す。
図 3は、 実施例 10、 1 2及ぴ比較例 1で得られた硬化物の耐熱性評価結果を 表す図である。 この中の縦軸は動的貯蔵弾性率、 横軸は温度をそれぞれ示す。 図 4は、 実施例 14、 16及び比較例 1で得られた硬化物の耐熱性評価結果を 表す図である。 この中の縦軸は動的貯蔵弾性率、 横軸は温度をそれぞれ示す。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明を実施するための最良の形態につき説明するが、 以下において、 「部」 及び 「%」 は特に断りがない限り重量基準である。
上述したように、 本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物は、 少なくとも一種の 一般式 (l a) ; Rl a S i (OR 2) 3 (式中 aは、 エポキシ基を有する置 換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表されるエポキシ基含 有アルコキシケィ素化合物をそれ自身で、 塩基性触媒の存在下に縮合させること によって、 あるいは、 少なくとも一種の一般式 (l a) ;
Rl a S i (OR2) 3 (式中 Ri aは、 エポキシ基を有する置換基を示し、 R2 は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表されるェポキシ基含有アルコキシケィ 素化合物と、 少なくとも一種の一般式 (1 b) ; Ri b S i (OR3) a (式中 Rl bは、 炭素数 1 0以下のアルキル基、 ァリール基又は不飽和脂肪族残基を示 し、 R3は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表される置換アルコキシケィ素 化合物とを、 塩基性触媒の存在下に縮合させて得られる。 ここで、 「少なくとも 一種の一般式 (l a) 〜で表されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物」 及 ぴ 「少なくとも一種の一般式 (l b) 〜で表される置換アルコキシケィ素化合 物」 とは、 これらの式で表される化合物の一種のみを用いてもよいし、 二種以上 を混合して用いてもよいことを意味する。 また、 一般式 (l a) の化合物の縮合 に関しての 「それ自身で」 とは、 一般式 (l b) の化合物との組み合わせること なく、 一般式 (l a) のある一種の化合物の同一分子間で、 あるいは一般式 (1 a ) の二種以上の化合物の異種分子間で縮合させることを意味する。
本発明で使用する式 (l a) のエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物中のェ ポキシ基含有基 aとしては、 エポキシ基を有する置換基であれば特に制限は ないが、 一グリシドキシェチル、 γ—グリシドキシプロピル、 γ—グリシドキ シブチル等の炭素数 4以下のォキシグリシジル基が結合したグリシドキシアルキ ル基;グリシジル; β— (3, 4—エポキシシクロへキシル) ェチル、 一 (3, 4一エポキシシクロへキシノレ) プロピ^\ β— (3, 4一エポキシシクロへプチ ル) ェチル、 β— (3, 4—エポキシシクロへキシル) プロピル、 β— (3, 4 一エポキシシクロへキシノレ) ブチノレ、 β— (3, 4一エポキシシクロへキシノレ) ペンチル等のォキシラン基を持った炭素数 5 ~ 8のシクロアルキル基で置換され たアルキル基等が挙げられる。 とりわけ、 炭素数 1〜 3のアルキル基にォキシグ リシジル基が結合したダリシドキシアルキル基、 ォキシラン基を持つた炭素数 5 〜 8のシクロアルキル基で置換された炭素数 3以下のアルキル基、 例えば、 β― グリシドキシェチル、 γ—グリシドキシプロピル、 β— ( 3, 4エポキシシクロ へキシル) ェチル等が好ましい。
また、 式 (l a ) のエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物中の R 2の例とし ては、 メチノレ、 ェチノレ、 n—プロピノレ、 i一プロピノレ、 n—プチル、 iーブチノレ tert—ブチル等の炭素数 4以下のアルキル基が挙げられる。 R 2は、 相溶性、 反 応性、 反応収率等の反応条件の観点から、 メチル又はェチルであることが最も好 ましい。
これらの置換基 R ]_ a及び R 2を有する式 (l a ) の化合物として用いること のできる化合物の好ましい具体例としては、 β—グリシドキシェチノレトリメ トキ シシラン、 —グリシドキシェチルトリエトキシシラン、 y—グリシドキシプロ ピルトリメ トキシシラン、 ーグリシドキシプロピルトリエトキシシラン、 β— ( 3, 4一エポキシシク口へキシル)ェチルトリメ トキシシラン、 一(3, 4ーェ ポキシシク口へキシル)ェチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
本発明で使用する式 (l b ) の置換アルコキシケィ素化合物中の bの例と して、 メチノレ、 ェチノレ、 プロピノレ、 ブチノレ、 ペンチノレ、 へキシノレ、 へプチノレ、 ォ クチル、 ノエル、 デカニル等の炭素数 1 0以下のアルキル基、 ァリール基、 又は メタタリロイル基、 アタリロイル基等の不飽和脂肪族残基が挙げられる。 R丄 b は、 好ましくは炭素数 6以下のアルキル基又はァリール基である。
また、 式 (l b ) の置換アルコキシケィ素化合物中の R 3の例としては、 メチ ノレ、 ェチル、 n—プロピル、 i 一プロピル、 n—プチル、 i 一プチル、 tert—プ チル等の炭素数 4以下のアルキル基が挙げられる。 R 3は、 相溶性、 反応性、 反 応収率等の反応条件の観点から、 メチル又はェチルであることが最も好ましい。 これらの置換基 b及び R 3を有する式 (l b ) の化合物として用いること のできる化合物の好ましい具体例としては、 メチルトリメ トキシシラン、 メチル トリエトキシシラン、 メチルトリプロボキシシラン、 メチルトリプトキシシラン、 ェチルトリメ トキシシラン、 ェチルトリエトキシシラン、 イソプチルトリメ トキ シシラン、 ィソブチルトリエトキシシラン、 n—プロピルトリメ トキシシラン、 n—プロピ トリエトキシシラン、 イソプロピノレトリメ トキシシラン、 イソプロ ピルトリエトキシシラン、 デシルトリメ トキシシラン、 デシルトリエトキシシラ ン等のアルキルトリアルコキシシラン類; フエニルトリメトキシシラン、 フエ二 ルトリエトキシシラン等のァリールトリアルコキシシラン類等が挙げられる。 式 (l b) の化合物において、 Rl bとして (あるいは bと R3の組み合わ せとして) 前記したような好ましい置換基を有する化合物を使用すると、 後述す る本発明の熱硬化性組成物中での他の成分との相溶性、 組成物の硬化物の物性の 点で改善が見られる。
本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物を得るために、 式 (l a) のエポキシ基 含有アルコキシケィ素化合物及び式 (l b) の置換アルコキシケィ素化合物を併 用する場合においては、 所望する硬化物の物性に応じて式 (l b) の化合物の使 用割合を適宜決定することができる。 即ち、 式 (1 b) の化合物は、 式 (1 a) の化合物と式 (l b) の化合物の合計モルに対して、 通常 95モル%以下、 好ま しくは 90モル%以下で使用可能である。 式 (l b) の化合物の使用割合が大き くなると、 硬化物の耐熱性が低下する傾向にある。 そのため、 耐熱性の高い硬化 物が望ましい場合、 式 (1 b) の化合物は、 式 (1 a) の化合物と式 (1 b) の 化合物の合計モルに対して、 75モル0 /0以下、 好ましくは 7◦〜 5モル%程度使 用する。 しかし一方で、 式 (l b) の化合物の使用割合が大きくなると、 硬化物 のタック性 (ベタツキ度合) に改善が見られるという利点もある。 また、 その場 合屈折率が高くなり、 所望の程度屈折率が異なる硬化物が設計可能であるため、 例えば光導波路等に利用可能である。
本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物を得るための縮合反応においては、 式 (1 a) のエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物を必須成分とし、 式 (1 a) の化合物 (一種又は複数種) をそれ自身で、 または必要に応じ、 式 (l a) の化 合物 (一種又は複数種) と式 (l b) の置換アルコキシケィ素化合物 (一種又は 複数種) とを塩基性触媒存在下、 縮合させることにより得ることができる。 また、 縮合を促進するため、 必要に応じ水を添加することができる。 水の添加量は、 反 応混合物全体のアルコキシ基 1モルに対し通常 0. 05〜 1. 5モル、 好ましく は 0. 07〜1. 2モルである。 なお、 本発明においては、 式 (l a) の化合物 (—種又は複数種) をそれ自身で縮合させるのがより好ましい。
上記縮合反応に使用する触媒は塩基性であれば特に限定されないが、 水酸化ナ トリウム、 水酸ィ匕カリウム、 水酸ィ匕リチウム、 水酸化セシウムのようなアルカリ 金属水酸化物、 炭酸ナトリウム、 炭酸力リウム、 炭酸水素ナトリウム、 炭酸水素 カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩等の無機塩基、 アンモニア、 トリェチルァ ミン、 ジエチレントリアミン、 n—プチルァミン、 ジメチルァミノエタノール、 トリエタノールァミン、 テトラメチルアンモニゥムハイ ドロォキサイド等の有機 塩基を使用することができる。 これらの中でも、 特に生成物からの触媒除去が容 易である点で無機塩基又はアンモニアが好ましい。 触媒の添加量は、 式 (l a ) のエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物と式 (l b ) の置換アルコキシケィ素 化合物の合計重量に対し、 通常 5 X 1 0一4〜 7 . 5 %、 好ましくは 1 X
1 0— 3〜5 %とすることができる。 触媒としてアルカリ金属水酸化物、 または アル力リ金属炭酸塩を使用した場合、 0 . 0 1〜 0 . 1 %程度が好ましい。
上記縮合反応は、 無溶剤または溶剤中で行うことができる。 溶剤としては、 式
( l a ) のエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物及ぴ式 (l b ) の置換アルコ キシケィ素化合物を溶解する溶剤であれば特に制限はない。 このような溶剤とし ては、 例えばジメチルホルムァミド、 ジメチルァセトアミド、 テトラヒドロフラ ン、 メチルェチルケトン、 メチルイソブチルケトンのような非プロトン性極性溶 媒、 トルエン、 キシレンのような芳香族炭化水素等が例示できる。 その中でも、 非プロトン性極性溶媒が好ましい。 溶剤の使用量は、 反応が円滑に進行する範囲 であれば特に制限はないが、 多すぎると除去に時間がかかり作業効率が悪くなる ため、 式 (1 a ) と式 (1 b ) の化合物の合計重量 1 0 0部に対して、 通常 8 0 〜1 5 0部程度使用する。
反応は、 式 (1 a ) の化合物並びに必要により式 (l b ) の化合物及び溶剤を 混合し、 4 0〜 1 4 0 °Cまで加熱した後、 塩基性触媒を添加することによって行 われる。 なお、 塩基性触媒は加熱前に全量添加してもよい。 また、 塩基性触媒は、 固体または 0 . 0 5〜0 . 3 %程度の水溶液として添加することができるが、 反 応の過度な進行を避けるため水溶液を徐々に滴下するほうが好ましい。 滴下終了 後、 反応により生成するアルコール類を除去しながら 4 0〜1 4 0 で1〜1 2 時間反応を続ける。 なお、 アルコール類を除去しなくても反応を続けることは可 能である。 反応終了後、 生成物の洗浄液が中性になるまで水洗する。 なお、 溶剤 を使用した場合、 水洗後に減圧下で除去する。
このようにして得られる本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物の分子量は、 重 量平均分子量で 4 0 0〜5 0 0 0 0のものが好ましく、 7 5 0〜 3 0 0 0 0のも のがより好ましく、 1 2 0 0〜1 0 0 0 0のものが更に好ましく、 2 0 0 0〜7 0 0 0程度のものが特に好ましい。 重量平均分子量で 4 0 0未満の場合、 耐熱性 向上効果に乏しい。 一方、 5 0 0 0 0より大きい場合、 熱硬化性組成物にしたと きに他の成分に対する相溶性の低下、 粘度の上昇といった組成物としての物性の 低下を招き好ましくない。
本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物は、 各種用途に供されるが、 通常、 硬化 剤と組み合わせた、 熱硬化性榭脂組成物として使用される。 また各種用途に適用 するにあたっては、 用途に応じて本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物以外の各 種のエポキシ樹脂を併用することもできる。
硬化剤としては、 通常、 エポキシ樹脂の硬化剤として使用されている、 ァミン 系化合物、 アミ ド系化合物、 酸無水物系化合物、 フ ノール系化合物、 イミダゾ ール類、 ルイス酸類等を特に制限無く使用できる。 具体的には、 ジアミノジフエ ニルメタン、 ジエチレントリアミン、 トリエチレンテトラミン、 ジアミノジフエ ニルスルホン、 イソホロンジァミン、 ジメチルベンジルァミン、 テトラエチレン ペンタミン、 ケチミン化合物、 グァニジン誘導体等のァミン系化合物;ジシアン ジアミ ド、 リノレン酸の 2量体とエチレンジァミンより合成されるポリアミ ド樹 脂等のァミ ド系化合物;無水フタル酸、 無水トリメリット酸、 無水ピロメリット 酸、 無水マレイン酸、 テトラヒドロ無水フタル酸、 メチルテトラヒドロ無水フタ ル酸、 無水メチルナジック酸、 へキサヒドロ無水フタル酸、 メチルへキサヒ ドロ 無水フタル酸等の酸無水物系化合物; ビスフ ノール類、 フ ノール類 (フエノ ール、 アルキル置換フエノール、 ナフトール、 アルキノレ置換ナフトール、 ジヒ ド ロキシベンゼン、 ジヒドロキシナフタレン等) と各種アルデヒドとの重縮合物、 フヱノール類と各種ジェン化合物との重合物、 フヱノール類と芳香族ジメチロー ルとの重縮合物、 又はビスメ トキシメチルビフエニルとナフト一ル類若しくはフ ェノール類との縮合物等、 ビフエノール類及びこれらの変性物等のフエノール系 化合物;ィミダゾール等のィミダゾール類; 3フッ化硼素一アミン錯体等のルイ ス酸類等が挙げられる。 硬化剤の使用量は、 組成物中のエポキシ基 1当量に対し て 0 . 2〜 1 . 5当量が好ましく、 0 . 3〜 1 . 2当量が特に好ましい。 また、 硬化剤としては、 ベンジルジメチルァミン等の 3級ァミンも使用することができ るが、 これらを使用する場合の使用量は、 エポキシ基含有化合物に対し、 通常 0 . 3〜 2 0 %、 好ましくは 0 . 5〜: 1 0 %である。
本発明の熱硬化性樹脂組成物中には必要により硬化促進剤を含有させることが できる。 硬化促進剤としては、 例えば 2—メチルイミダゾール、 2—ェチルイミ ダゾーノレ、 2ーェチノレ一 4ーメチノレイミダゾーノレ、 等のィミダゾーノレ類、 2 - (ジメチルアミノメチル) フエノール、 1, 8—ジァザービシクロ (5, 4, 0 ) ゥンデセン一 7等の第 3級ァミン類、 トリフエニルフォスフィン等のホスフ イン類、 ォクチル酸スズ等の金属化合物、 第 4級ホスホニゥム塩等が挙げられる。 硬化促進剤は、 組成物中のエポキシ基含有化合物 1 0 0部に対して 0 . 0 1〜 1 5部が必要に応じ用いられる。
本発明の熱硬化性樹脂組成物において、 本発明のェポキシ基含有ケィ素化合物 をそれ以外の他のエポキシ樹脂と併用する場合、 本発明のエポキシ基含有ケィ素 化合物が全エポキシ基含有化合物中に占める割合は、 1 0 %以上が好ましい。 使 用することができる他のエポキシ樹脂としては、 通常、 電気 ·電子部品に使用さ れるエポキシ樹脂であれば特に制限はなく、 通常フエノール性水酸基を 2個以上 有する化合物をグリシジルイ匕して得ることができる。 用いうるエポキシ樹脂の具 体例としては、 テトラブロモビスフエノール A、 テトラブロモビスフエノール F、 ビスフエノール A、 テトラメチルビスフエノール F、 ビスフエノール F、 ビスフ ェノール S若しくはビスフエノール K等のビスフエノール類、 又はビフエノール 若しくはテトラメチルビフエノール等のビフエノール類、 又はハイドロキノン、 メチルハイ ドロキノン、 ジメチルハイ ドロキノン、 トリメチルハイ ドロキノン若 しくはジーターシャリーブチルハイドロキノン等のハイドロキノン類、 又はレゾ ノレシノール若しくはメチルレゾルシノール等のレゾルシノール類、 又は力テコー ノレ若しくはメチルカテコール等のカテコール類、 又はジヒドロキシナフタレン、 ジヒドロキシメチルナフタレン若しくはジヒドロキシジメチルナフタレン等のジ ヒドロキシナフタレン類のグリシジルイ匕物やフエノール類若しくはナフトール類 とアルデヒド類との縮合物、 又はフエノール類若しくはナフトール類とキシリレ ングリコールとの縮合物又はフエノール類とイソプロぺニルァセトフエノンとの 縮合物又はフエノール類とジシクロペンタジェンとの反応物又はビスメトキシメ チルビフエニルとナフト一ル類若しくはフエノール類との縮合物のグリシジルイ匕 物等が挙げられる。 これらは、 市販若しくは公知の方法により得ることができる。 これらは単独で用いてもよく、 2種以上を用いても良い。
更に、 本発明の熱硬化性樹脂組成物には、 必要に応じてシリカ、 アルミナ、 ガ ラスファイバー、 タルク等の充填材ゃ離型剤、 顔料、 表面処理剤、 粘度調整剤、 可塑剤、 安定剤、 カツプリング剤等、 種々の配合剤を添加することができる。 また、 本発明の熱硬化性樹脂組成物に有機溶剤を含有させ、 ワニスとして使用 することもできる。 有機溶剤としては、 組成物の各成分を溶解する物であれば特 に限定されないが、 例えばトルエン、 キシレン、 アセトン、 メチルェチルケトン、 メチルイソプチルケトン、 ジメチルホルムアミド等が挙げられる。 これら有機溶 剤の溶解したワニスを、 ガラス繊維、 カーボン繊維、 ポリエステル繊維、 ポリア ミド繊維、 アルミナ繊維、 紙等の基材に含浸させ、 加熱乾燥して得たプリプレダ を熱プレス成形して本発明の硬化物を得ることもできる。
有機溶剤は、 熱硬化性樹脂組成物中における有機溶剤の占める割合が、 通常 1 0〜7 0 %、 好ましくは 1 5〜6 5 %となる量使用することができる。
本発明の熱硬化性榭脂組成物は、 各成分を均一に混合することにより得られる。 本発明の熱硬化性樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易にその 硬化物とすることができる。 例えばエポキシ基含有化合物と硬化剤、 及び任意に 硬化促進剤、 他の配合剤を必要に応じて押出機、 ニーダ、 ロール等を用いて均一 になるまで充分に混合してエポキシ樹脂組成物を得ることができる。 次いで、 そ のエポキシ横脂組成物を溶融後注型あるいはトランスファー成型機等を用いて成 型し、 さらに 8 0〜2 0 0 °Cで 2〜1 0時間加熱することにより硬化物を得るこ とができる。
く実施例 1〜: 1 3及び比較例 1 >
本発明を実施例により具体的に説明するが、 本発明はこれらによって限定され るものではない。 実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。
(1) 重量平均分子量: GPC (ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー) 法 により測定。
(2) エポキシ当量: J I S K- 7236に準じた方法で測定。
実施例 1
γ—グリシドキシプロビルトリメ トキシシラン 94. 4部、 メチルイソブチル ケトン 94. 4部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。 昇温後、 0. 1%水 酸化力リゥム水溶液 21. 6部を 30分間かけて連続的に滴下した。 滴下終了後、 生成するメタノールを除去しながら 80°Cにて 5時間反応させた。 反応終了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。 次いで減圧下で溶媒を除去すること により本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物 (A) 67部を得た。 得られた化合 物のエポキシ当量は 166 g/e q、 重量平均分子量は 3700であった。 本ェ ポキシ化合物 (A) の ΑΗ— NMR (CDC 1 3溶液) からエポキシ環のメチン ピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及びメ ト キシ基のピーク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観察されなかつた。
実施例 2
実施例 1で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (A) 7. 5部、 ビスフエノ ール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 gZe q、 ジャパンエポキシレジン (株) 製、 ェピコート 828) 7. 5部、 ジアミノジフエ二ルメタン 4. 1部を 均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物をアルミ カップに流し込み、 60°C、 100°C、 1 50°C、 190°Cで逐次各 4時間加熱 することによって硬化物を得た。 得られた硬化物にボイド等の欠陥は認められな かった。
実施例 3
β - (3, 4エポキシシクロへキシル) ェチルトリメ トキシシラン 100部、 メチルイソブチルケトン 1 00部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。 昇温 後、 0. 1 %水酸化力リゥム水溶液 21. 6部を 30分間かけて連続的に滴下し た。 滴下終了後、 生成するメタノールを除去しながら 80°Cにて 5時間反応させ た。 反応終了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。 次いで減圧下で溶 媒を除去することにより本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物 (B) 72部を得 た。 得られた化合物のエポキシ当量は 1 79 gZe q、 重量平均分子量は 560 0であった。 本エポキシ化合物 (B) の1 H— NMR (CDC 1 3溶液) からェ ポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されてい ること、 及ぴメ トキシ基のピーク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確 認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲルィヒは観察されなかった。
実施例 4
実施例 3で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (B) 7. 5部、 ビスフエノ ール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 g/e q、 ジャパンエポキシレジン (株) 製、 ェピコート 828) 7. 5部、 ジアミノジフヱニルメタン 4. 0部を 均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボイ ド等の欠陥は認められなかった。
実施例 5
実施例 1において、 0. 1 %水酸化力リゥム水溶液 21. 6部を 0. 1 %水酸 化ナトリゥム水溶液 1 0. 8部に変えた以外は実施例 1と同様にして本発明のェ ポキシ基含有ケィ素化合物 (C) 67部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量 は 1 6 9 gZe q、 重量平均分子量は 3 1 00であった。 本エポキシ化合物 (C) の1 H— NMR (CDC 1 3溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及ぴメトキシ基のピー ク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の 経時でもゲルィ匕は観察されなかつた。
実施例 6 '
実施例 5で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (C) 10. 0部、 ビスフエ ノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 g/e q、 ジャパンエポキシレジ ン (株) 製、 ェピコート 828) 5. 5部、 ジアミノジフエ二ルメタン 4. 4部 を均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施 例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボ ィド等の欠陥は認められなかった。
実施例 7
γ—グリシドキシプロビルトリメ トキシシラン 85部、 フエニルトリメ トキシ シラン 7. 9部、 メチルイソプチルケトン 92. 9部、 を反応容器に仕込み、 8 0°Cに昇温した。 昇温後、 0. 1 %水酸ィヒカリウム水溶液 10. 8部を 30分間 かけて連続的に滴下した。 滴下終了後、 生成するメタノールを除去しながら 80 °Cにて 5時間反応させた。 反応終了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返し た。 次いで減圧下で溶媒を除去することにより本発明のエポキシ基含有ケィ素化 合物 (D) 65部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量は 184 g/e c!、 重 量平均分子量は 2900であった。 本エポキシ化合物 (D) の1 H— NMR
(CDC 1 3溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及ぴメ トキシ基のピーク (3. 6 p pm付 近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観 察されなかった。
実施例 8
実施例 7で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (D) 10. 0部、 ビスフヱ ノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 gZe q、 ジャパンエポキシレジ ン (株) 製、 ェピコート 828) 5. 5部、 ジアミノジフエ二ルメタン 4. 2部 を均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施 例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボ ィド等の欠陥は認められなかった。
実施例 9
実施例 1において、 0. 1 %水酸化力リゥム氷溶液 21. 6部を 0. 5 %炭酸 力リウム水溶液 1 1. 5部に変えた以外は実施例 1と同様にして本発明のェポキ シ基含有ケィ素化合物 (E) 66部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量は 1 73 gZe q、 重量平均分子量は 3200であった。 本エポキシ化合物 (E) の XH-NMR (CDC 13溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p p m 付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及びメ トキシ基のピーク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でも ゲル化は観察されなかつた。
実施例 10
実施例 9で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (E) 10. 5部、 ビスフエ ノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 1 86 gZe q、 ジャパンエポキシレジ ン (株) 製、 ェピコート 828) 6. 0部、 ジアミノジフヱニルメタン 4. 6部 を均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施 例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボ ィド等の欠陥は認められなかった。
実施例 1 1
実施例 1において、 0. 1 %水酸化力リゥム水溶液 21. 6部を 0. 5 %炭酸 ナトリゥム水溶液 1 1. 5部に変えた以外は実施例 1と同様にして本発明のェポ キシ基含有ケィ素化合物 (F) 67部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量は 1 68 gZe q、 重量平均分子量は 3400であった。 本エポキシ化合物 (F) の1 H— NMR (CDC 13溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及びメトキシ基のピーク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経 時でもゲル化は観察されなかつた。
実施例 1 2
実施例 1 1で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (F) 10. 6部、 ビスフ ェノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 1 86 g/e q、 ジャパンエポキシレ ジン (株) 製、 ェピコート 828) 6. 0部、 ジアミノジフエニルメタン 4. 7 部を均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実 施例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物に ボイド等の欠陥は認められなかった。
実施例 1 3
γ—グリシドキシプロビルトリメ トキシシラン 33. 1部、 フエ二ノレトリメ ト キシシラン 55. 5部、 メチルイソブチルケトン 88. 6部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。 昇温後、 0. 1 %水酸化力リゥム水溶液 1 1. 4部を 30分 間かけて連続的に滴下した。 滴下終了後、 80°Cにて 5時間反応させた。 反応終 了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。 次いで減圧下で溶媒を除去す ることにより本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物 (G) 60. 3部を得た。 得 られた化合物のエポキシ当量は 436 gZe q、 重量平均分子量は 3400であ つた。 本エポキシ化合物 (G) の1 H— NMR (CDC 1 3溶液) からエポキシ 環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及ぴメ トキシ基のピーク (3. 6 p pm付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観察されなかった。
実施例 14
実施例 13で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (G) 10部、 ビスフ ノ ール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 g/e q、 ジャパンエポキシレジン (株) 製、 ェピコート 828) 2. 5部、 ジアミノジフエ二ルメタン 3. 6部を 均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボイ ド等の欠陥は認められなかった。
実施例 1 5
γ—グリシドキシプロビルトリメ トキシシラン 41. 4部、 β— (3, 4ェポ キシシク口へキシル) ェチルトリメ トキシシラン 67. 8部、 メチノレイソブチノレ ケトン 54. 6部を反応容器に仕込み、 80°Cに昇温した。 昇温後、 0. 1%水 酸ィ匕カリゥム水溶液 14. 2部を 30分間かけて連続的に滴下した。 滴下終了後、 80 °Cにて 5時間反応させた。 反応終了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り 返した。 次いで減圧下で溶媒を除去することにより本発明のエポキシ基含有ケィ 素化合物 (H) 78. 2部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量は 1 77 gZ e q、 重量平均分子量は 4200であった。 本エポキシ化合物 (H) の1 H— N MR (CDC 1 3溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) よ り、 エポキシ環が保持されていること、 及ぴメ トキシ基のピーク (3. 6 p m 付近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲルィ匕は 観察されなかった。
実施例 1 6
実施例 15で得られたエポキシ基含有ケィ素化合物 (H) 10部、 ビスフエノ ール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 gZe q、 ジャパンエポキシレジン (株) 製、 ェピコート 828) 5. 7部、 ジアミノジフエ二ルメタン 4. 3部を 均一に混合し本発明の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。 得られた硬化物にボイ ド等の欠陥は認められなかった。
実施例 17
γ—グリシドキシプロビルトリメ トキシシラン 25部、 フエニルトリメ トキシ シラン 75部、 メチルイソプチルケトン 100部、 を反応容器に仕込み、 80。C に昇温した。 昇温後、 0. 1 %水酸化力リゥム水溶液 13. 1部を 30分間かけ て連続的に滴下した。 滴下終了後、 生成するメタノールを除去しながら 80°Cに て 5時間反応させた。 反応終了後、 洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。 次いで減圧下で溶媒を除去することにより本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物 (1) 69部を得た。 得られた化合物のエポキシ当量は 626 g/e q、 重量平 均分子量は 2400であった。 本エポキシ化合物 (I) の1 H— NMR
(CDC 13溶液) からエポキシ環のメチンピーク (3. 2 p pm付近) より、 エポキシ環が保持されていること、 及ぴメ トキシ基のピーク (3. 6 p pm付 近) が消失していることが確認できた。 また、 室温 1ヶ月の経時でもゲル化は観 察されなかった。
比較例 1
ビスフエノール A型エポキシ樹脂 (エポキシ当量 186 gZe q、 ジャパンェ ポキシレジン (株) 製、 ェピコ一ト 828) 15部、 ジアミノジフエ二ルメタン 4. 0部を均一に混合し熱硬化性樹脂組成物を調製した。 調製した組成物を実施 例 2と同様な方法で硬化させることにより、 硬化物を得た。
(耐熱性評価) - 実施例 2、 4、 6、 8、 10、 12、 14、 16及ぴ比較例 1で得られた硬化 物を幅 4mm、 厚さ 3mm、 長さ 40 mmの大きさに成形し、 動的粘弾性測定装 置 (T Aインスツルメンッ社製、 DMA 2980、 測定条件:振幅 15 μ m、 振 動数 10Hz、 昇温速度 2°CZ分) を用いて動的貯蔵弾性率を測定することによ り耐熱性を評価した。 測定結果を図 1〜 4に示す。 図 1〜 4より、 比較例 1では温度の上昇に伴い弾性率の大幅な低下が認められ る。 それに対し、 実施例 2、 4、 6、 8、 1 0、 1 2、 1 4、 1 6では弾性率の 低下が小さく、 高温時の弾性率が高く耐熱性に優れていることが認められる。 即 ち、 1 5 0 °Cを過ぎると比較例の硬化物は急激に弾性率が落ち込むが、 実施例の 硬化物は初期値をほぼ保っている。 このことは本発明の硬化物はガラス転移点を 示さず、 耐熱性に優れることを意味する。
産業上の利用の可能性
本発明のエポキシ基含有ケィ素化合物を含む熱硬化性樹脂組成物を使用するこ とにより、 高温時の弾性率に関し大幅な改善が認められ、 耐熱性に優れた硬化物 を得ることができる。 本発明の熱硬化性樹脂組成物は、 各種電気 ·電子部品絶縁 材料、 プリント配線板、 高機能銅張積層板等の積層板、 半導体封止材、 F R P (繊維強化プラスチック) を始めとする各種複合材料、 塗料、 接着剤、 コーティ ング剤として使用可能である。 特に耐熱性に優れた硬化物を与えるため、 近年、 使用されている鉛フリ一半田に対応可能な熱硬化性樹脂組成物として極めて有用 である。

Claims

請求の範囲
1. 少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (〇R2) 3 (式中 Rl aは エポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で 表されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物をそれ自身で、 塩基性触媒の存 在下に縮合させて得られる、 エポキシ基含有ケィ素化合物。
2. 少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (OR 2) 3 (式中 Rl aは、 エポキシ基を有する置換基を示し、 R2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で 表されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物と、 少なく とも一種の一般式 (l b) ; R X b S i (OR3) 3 (式中 R;L bは炭素数 10以下のアルキル基、 ァリール基又は不飽和脂肪族残基を示し、 R 3は炭素数 4以下のアルキル基を示 す) で表される置換アルコキシケィ素化合物とを、 塩基性触媒の存在下に縮合さ せて得られる、 エポキシ基含有ケィ素化合物。
3. 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるエポキシ基含有アルコキ シケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C 3) アルキ ル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換されたァ ルキル基である、 請求項 1又は 2に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物。
4. 前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アルコキシケィ素化 合物の各々において、 RL B力 炭素数 6以下のアルキル基又はァリール基であ る、 請求項 2に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物。
5. 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるェポキシ基含有アルコキ シケィ素化合物の各々において、 Ri a力 グリシドキシ (C 1〜C3) アルキ ル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換されたァ ルキル基であり、 かつ前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アル コキシケィ素化合物の各々において、 Rl b力 炭素数 6以下のアルキル基又は ァリール基である、 請求項 2に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物。
6. i) 請求項 1〜 5のいずれか 1項に記載のエポキシ基含有ケィ素化合物、 及び i i) 硬化剤を含有する、 熱硬化性樹脂組成物。
7. 上記 i) 以外のエポキシ樹脂を更に含有する、 請求項 6記載の熱硬化性樹 脂組成物。
8. 硬化促進剤及ぴ Z又は有機溶剤を更に含有する、 請求項 6又は 7に記載の 熱硬化性樹脂組成物。
9. 請求項 6〜 8のいずれか 1項に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化してなる 硬化物。
10. エポキシ基含有ケィ素化合物の製造方法であって、
少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (OR 2) 3 (式中 Rl aは、 ェ ポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表 されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物をそれ自身で、 塩基性触媒の存在 下に縮合させることを含む、 上記方法。
11. エポキシ基含有ケィ素化合物の製造方法であって、
少なくとも一種の一般式 (1 a) ; Rl a S i (OR 2) 3 (式中 Rl aは、 ェ ポキシ基を有する置換基を示し、 R 2は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表 されるエポキシ基含有アルコキシケィ素化合物と、 少なくとも一種の一般式 (1 b) ; Rl b S i (OR 3) 3 (式中 Ri bは炭素数 1 0以下のアルキル基、 ァリ ール基又は不飽和脂肪族残基を示し、 R 3は炭素数 4以下のアルキル基を示す) で表される置換アルコキシケィ素化合物とを、 塩基性触媒の存在下に縮合させる ことを含む、 上記方法。
12. 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるエポキシ基含有アルコキ シケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C 3) アルキ ル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換されたァ ルキル基である、 請求項 1 0又は 1 1に記載の方法。
13. 前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アルコキシケィ素化 合物の各々において、 Rl b力 炭素数 6以下のアルキル基又はァリール基であ る、 請求項 1 1記載の方法。
14. 前記少なくとも一種の一般式 (l a) で表されるエポキシ基含有アルコキ シケィ素化合物の各々において、 Rl aが、 グリシドキシ (C 1〜C3) アルキ ル基又はォキシラン基を持った炭素数 5〜 8のシクロアルキル基で置換されたァ ルキル基であり、 かつ前記少なくとも一種の一般式 (l b) で表される置換アル コキシケィ素化合物の各々において、 Ribが、 炭素数 6以下のアルキル基又は ァリール基である、 請求項 1 1記載の方法。
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