JP2003026767A - 熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂及びそれから成形した絶縁性フィルム - Google Patents

熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂及びそれから成形した絶縁性フィルム

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JP2003026767A
JP2003026767A JP2001216384A JP2001216384A JP2003026767A JP 2003026767 A JP2003026767 A JP 2003026767A JP 2001216384 A JP2001216384 A JP 2001216384A JP 2001216384 A JP2001216384 A JP 2001216384A JP 2003026767 A JP2003026767 A JP 2003026767A
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polyhydroxypolyether resin
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Yasumasa Akatsuka
泰昌 赤塚
Koji Nakayama
幸治 中山
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】フレキシブルなフィルムが成形可能であり、し
かもそのフィルムが光学的に高い屈折率を示す熱可塑性
ポリヒドロキシポリエーテル樹脂を提供すること。 【解決手段】ビフェニル骨格の両末端にメチレン基を介
してフェノールがパラ位に2個結合した化合物をジグリ
シジルエーテル化し、更に二価のフェノール性水酸基を
有する化合物と縮合させることにより得られる重量平均
分子量が10000〜200000の熱可塑性ポリヒド
ロキシポリエーテル樹脂を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電気用積層板、磁気
テープバインダー、絶縁ワニス、自己融着エナメル電線
ワニスなどの電気・電子分野及び接着剤やフィルムなど
として用いられる接着性、光学特性に優れた熱可塑性ポ
リヒドロキシポリエーテル樹脂及びそれから成形された
絶縁性フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、熱可塑性ポリヒドロキシポリエー
テル樹脂はフェノキシ樹脂として知られており、可撓
性、耐衝撃性、密着性、機械的性質が優れることから、
電子分野では、磁気テープバインダーやモーターなどの
電気機械の絶縁ワニスや接着フィルム等の広範囲の用途
で使用されてきた。また近年では光通信の発達に伴い屈
折率など光学特性においても特徴のある材料が求められ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は十分なフレキ
シビリティーを有し光学的な屈折率の高い熱可塑性ポリ
ヒドロキシポリエーテル樹脂及び該樹脂から成型される
絶縁性フィルムを提供することを目的とするものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、熱可塑性
ポリヒドロキシポリエーテル樹脂中にビフェニル骨格を
導入することにより、フレキシビリティーに優れ光学的
な屈折率の高い熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹
脂が得られることを見出し本発明を完成させた。
【0005】すなわち本発明は (1)(a)下記式(1)
【0006】
【化4】 もしくは下記式(2)
【0007】
【化5】
【0008】(式(1)及び(2)中Xはフェノール性
水酸基を2個有するフェノール類の2個の水酸基から水
素原子を除いた残基を表す。nは平均値を表し5〜10
0の正数を示す。)で表されるゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー(以下、GPC)による重量平均分子
量が10000〜200000の熱可塑性ポリヒドロキ
シポリエーテル樹脂、(2)下記式(3)
【0009】
【化6】
【0010】で表される化合物とフェノール性水酸基を
2個有するフェノール類とを付加重合させて得られるG
PCによる重量平均分子量が10000〜200000
の熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂、(3)上
記(1)又は(2)に記載のポリヒドロキシポリエーテ
ル樹脂から成形された絶縁性フィルムを提供するもので
ある。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の熱可塑性ポリヒドロキシ
ポリエーテル樹脂において重量平均分子量が10000
未満では、熱可塑性が失われて、自己造膜性を示さなく
なる。また、分子量が200000を越えると溶剤で溶
解しても、一般に工業的に利用されている溶媒濃度であ
る70〜40重量%の濃度では、溶液粘度が高すぎ、製
膜使用可能な溶液粘度にするために溶剤を多量に加えな
ければならず、不経済であり、環境に対してもVOC
(揮発性有機化合物)を可能な限り低減する方向にある
現状では好ましいとは言い難い。こうしたことから分子
量は11000〜100000が好ましく、特に120
00〜65000が好ましい。
【0012】本発明のポリヒドロキシポリエーテル樹脂
は、下記式(3)
【0013】
【化7】
【0014】で表されるエポキシ樹脂とフェノール性水
酸基を2個有するフェノール類(二価フェノール類)と
を付加重合反応させることにより得ることが出来る。
【0015】前記式(3)で表されるエポキシ樹脂は下
記式(4)
【0016】
【化8】
【0017】で表される化合物とエピクロルヒドリン、
エピブロモヒドリン等のエピハロヒドリンとをアルカリ
金属水酸化物の存在下で反応させることにより得ること
が出来る。アルカリ金属水酸化物はその水溶液を使用し
てもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物の水溶液
を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、または常
圧下連続的に水及びエピハロヒドリンを流出させ、更に
分液し水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的
に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は
通常式(4)で表される化合物の水酸基1当量に対し、
通常1〜4モルであり、好ましくは1.1〜3モルであ
る。
【0018】通常これらの反応において使用されるエピ
ハロヒドリンの量は式(4)で表される化合物の水酸基
1当量に対し通常2〜15モル、好ましくは3〜10モ
ルである。反応温度は通常20〜100℃、好ましくは
30〜90℃である。また反応時間は通常1〜10時
間、好ましくは2〜8時間である。
【0019】反応を円滑に進行させ、溶解度を上げるた
めに、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非
プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが好
ましい。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピハロヒド
リンの量に対し通常5〜150重量%、好ましくは10
〜140重量%である。
【0020】また非プロトン性極性溶媒の代わりに、テ
トラメチルアンモニウムクロライドなどの4級アンモニ
ウム塩を触媒として添加することも、反応を促進させる
上において好ましい。4級アンモニウム塩の使用量は通
常式(4)で表される化合物の水酸基1当量に対し0.
1〜15部であり好ましくは0.5〜10部である。ま
た非プロトン性極性溶媒と4級アンモニウム塩とを併用
することも可能である。
【0021】これらのエポキシ化反応の反応物を水洗
後、または水洗無しに加熱減圧下でエピハロヒドリンや
溶媒等を除去する。また更に加水分解性ハロゲンの少な
いエポキシ樹脂とするために、回収したエポキシ樹脂を
トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解
し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行い、閉環を確実
なものにすることも出来る。この場合アルカリ金属水酸
化物の使用量はエポキシ化に使用した式()で表される
化合物の水酸基1当量に対して通常0.01〜0.3モ
ル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度
は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間
である。
【0022】反応終了後、生成した塩を濾過、水洗など
により除去し、更に加熱減圧下溶剤を留去することによ
り前記式(3)で表されるエポキシ樹脂が得られる。
【0023】用い得る二価フェノール類の具体例として
は例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビス
フェノールS、テトラブロモビスフェノールA、4,
4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、テトラ
メチルビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、カ
テコール、1,6’−ジヒドロキシナフタレン、2,6
−ジヒドロキシナフタレンなどが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。また、上記の二価フェノー
ル類は1種類だけを使用してもよく、2種以上を併用し
てもよい。
【0024】式(3)で表されるエポキシ樹脂と二価フ
ェノール類とを非反応性溶媒中で必要により触媒の存在
下で縮合反応させることにより本発明の熱可塑性ポリヒ
ドロキシポリエーテル樹脂を得ることが出来る。式
(3)で表されるエポキシ樹脂と二価フェノール類との
縮合反応におけるモル比は通常0.9:1.1〜1.
1:0.9であり、好ましくは0.95:1.05〜
1.05:0.95である。本発明のポリヒドロキシポ
リエーテル樹脂は、式(3)の化合物が二価フェノール
類に比べ過剰であると一般的に式(1)で表され、少な
いと式(2)で表される。
【0025】非反応性溶媒としては例えばトルエン、キ
シレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シク
ロペンタノン、ジオキサン、エタノール、イソプロピル
アルコール、ブチルアルコール、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、プロピレングリコール、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジメチルホルムアミド(DMF)、
n−メチルピロリドン(NMP)等が挙げられるが、特
にこれらに限定されるわけではなく、これらの溶剤は単
独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
【0026】触媒の具体例としては2−メチルイミダゾ
ール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール等のイミダゾ−ル類、2−(ジメチルア
ミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、ト
リフェニルホスフィン等のホスフィン類、オクチル酸ス
ズ等の金属化合物等が挙げられる。触媒は式(3)の化
合物100重量部に対して0.01〜5.0重量部が必
要に応じ用いられる。
【0027】反応温度は通常60〜180℃であり、好
ましくは90〜160℃である。反応は反応物の重量平
均分子量が10000を越えるまで続けられるが、通常
2〜20時間である。反応圧力は通常常圧である。反応
熱の除去が必要な場合は通常、反応熱により使用溶剤の
蒸発・凝縮・還流法または/及び間接冷却により行われ
る。
【0028】この様にして合成された熱可塑性ポリヒド
ロキシポリエーテル樹脂は屈折率が高く可撓性のある物
質であり、単独で用いることも出来るが、エポキシ樹
脂、イソシアネート樹脂、フェノール樹脂などを含有せ
しめることが出来る。また、耐熱性、難燃性の付与、低
線膨張率化などのためにシリカ、炭酸カルシウム、タル
ク、水酸化アルミニウム、アルミナ、マイカなどを、ま
た接着性改善のためにエポキシシランカップリング剤や
ゴム成分などを、物性を落とさない程度に加えてもよ
い。
【0029】本発明の絶縁性フィルムは重合反応の結果
得られた溶液をそのままワニスとして、或いはその他の
樹脂、添加剤、溶剤などを加えて均一なワニスとし、適
当な基材の上に塗布した後加熱下で溶剤を除去すること
により得ることが出来る。基材としては銅箔、PETフ
ィルム、ポリイミドなどが挙げられる。絶縁性フィルム
の厚さはワニスの固形分濃度にもよるが通常1〜500
μmである。
【0030】
【実施例】次に本発明を実施例により更に具体的に説明
するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部
である。またGPCの測定条件は以下の通りである。 機種:Shodex SYSTEM−21 カラム:KF−804L+KF−803L(×2本)連
結 溶離液:テトラヒドロフラン(THF): 1ml/m
in.,40℃ 検出器:RI(RI−71S) UV(254nm;UV−41) サンプル:約0.4重量%THF溶液 (100μlイ
ンジェクト) 検量線:Shodex製標準ポリスチレン使用
【0031】実施例1 温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌器を取り付けたフラ
スコに窒素ガスパージを施しながら前記式(4)で表さ
れる化合物107部、エピクロルヒドリン555部、ジ
メチルスルホキシド92.5部、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド5部を仕込み撹拌下で50℃まで昇温
し、溶解させた。次いでフレーク状水酸化ナトリウム6
0部を100分かけて分割添加し、その後、更に50℃
で3時間反応させた。反応終了後、温水150部を加え
水洗を行った。水層を除去しロータリーエバポレーター
を使用して加熱減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等を
留去し、残留物に326部のメチルイソブチルケトンを
加え溶解した。
【0032】このメチルイソブチルケトンの溶液を70
℃に加熱し30重量%の水酸化ナトリウム水溶液10部
を添加し、1時間反応させた後洗浄液が中性になるまで
水洗を繰り返した。更に水層は分離除去し、ロータリー
エバポレーターを使用して加熱減圧下、メチルイソブチ
ルケトンを留去することにより前記式(3)で表される
エポキシ樹脂(A)145部を得た。得られたエポキシ
樹脂は液体であり25℃における粘度は230mPa・
s、エポキシ当量は169g/eqであった。
【0033】温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌器を取
り付けたフラスコに窒素ガスパージを施しながら得られ
たエポキシ樹脂84.5部、レゾルシン26.95部、
シクロペンタノン112部、トリフェニルホスフィン
0.85部を仕込み撹拌下で120℃まで昇温し、12
0〜130℃で10時間反応させ下記式(5)
【0034】
【化9】
【0035】で表される重量平均分子量18900のポ
リヒドロキシポリエーテル樹脂のシクロペンタノンワニ
ス220部を得た。このワニスを合成樹脂ワニス(A)
とした。合成樹脂ワニス(A)を離型フィルム(PE
T)へ溶剤乾燥後の樹脂厚みが100μmになるように
ローラーコーターにて塗布し、140℃で20分間乾燥
を行って溶剤を除去し本発明の絶縁性フィルム(A)を
得た。このフィルムは折り曲げても割れることはなく十
分なフレキシビリティーを示した。尚、下記の条件でフ
ィルム(A)の屈折率を測定したところ1.624と高
い値を示した。
【0036】屈折率測定条件 測定装置:多波長アッベ屈折計DR−M2(株式会社ア
タゴ製) 測定波長:1.589nm(D線)
【0037】実施例2 実施例1においてエポキシ樹脂(A)の量を82.81
部、レゾルシンの代わりにテトラブロモビスフェノール
A136部、シクロペンタノン220部、トリフェニル
ホスフィン0.82部に変えた以外は実施例1と同様に
反応を行い、下記式(6)
【0038】
【化10】
【0039】で表される重量平均分子量35600のポ
リヒドロキシポリエーテル樹脂を得た。この場合粘度が
高くなり撹拌が困難になったため反応終了後70℃まで
温度を下げ、メチルエチルケトン440部を加え、シク
ロペンタノン・メチルエチルケトン混合ワニス862部
を得た。このワニスを合成樹脂ワニス(B)とした。
【0040】この合成樹脂ワニス(B)使用し実施例1
と同様にして絶縁フィルム(B)を得た。このフィルム
も折り曲げても割れることはなく十分なフレキシビリテ
ィーを示した。尚、上記の条件でフィルム(B)の屈折
率を測定したところ1.643と高い値を示した。
【0041】このように本発明の熱可塑性ポリヒドロキ
シポリエーテル樹脂は十分なフィルム形成能を示し、し
かもそのフィルム状態において高い屈折率を示した。
【0042】
【発明の効果】本発明の熱可塑性ポリヒドロキシポリエ
ーテル樹脂は、従来一般的に使用されてきた熱可塑性樹
脂と比較して、光学的な屈折率の高いフィルムを形成す
ることが可能である。従って、本発明の熱可塑性ポリヒ
ドロキシポリエーテル樹脂は電気・電子材料、成型材
料、注型材料、積層材料、塗料、接着剤、レジスト、光
学材料などの広範囲の用途にきわめて有用である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)下記式(1) 【化1】 もしくは下記式(2) 【化2】 (式(1)及び(2)中Xはフェノール性水酸基を2個
    有するフェノール類の2個の水酸基から水素原子を除い
    た残基を表す。nは平均値を表し5〜100の正数を示
    す。)で表されるゲルパーミエーションクロマトグラフ
    ィーによる重量平均分子量が10000〜200000
    の熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂。
  2. 【請求項2】下記式(3) 【化3】 で表される化合物とフェノール性水酸基を2個有するフ
    ェノール類とを付加重合させて得られるゲルパーミエー
    ションクロマトグラフィーによる重量平均分子量が10
    000〜200000の熱可塑性ポリヒドロキシポリエ
    ーテル樹脂。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載のポリヒドロキシポ
    リエーテル樹脂から成形された絶縁性フィルム。
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