JP2000007756A - エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

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JP2000007756A
JP2000007756A JP17778198A JP17778198A JP2000007756A JP 2000007756 A JP2000007756 A JP 2000007756A JP 17778198 A JP17778198 A JP 17778198A JP 17778198 A JP17778198 A JP 17778198A JP 2000007756 A JP2000007756 A JP 2000007756A
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JP17778198A
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Kenichi Kuboki
健一 窪木
Yoshiro Shimamura
芳郎 嶋村
Katsuhiko Oshimi
克彦 押見
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】その硬化物において優れた耐湿性(耐水性)、
耐衝撃性、密着性を発現させ得るエポキシ樹脂及びエポ
キシ樹脂組成物を得ること。 【解決手段】下式(3) 【化1】 (式中Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基等
を、Qは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基等をそれ
ぞれ表す。また、n=1〜15、y=1〜2、i=1〜
6、j=1〜3、k=1〜3である。)で表される化合
物をエピハロヒドリンと反応せしめて得られるエポキシ
樹脂及びこれを含有するエポキシ樹脂組成物による。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高信頼性半導体封止
用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用、及び積層板
(プリント配線板)やCFRP(炭素繊維強化プラスチ
ック)を始めとする各種複合材料用、接着剤、塗料等に
有用なエポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及
びその硬化物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】エポキシ樹脂は作業性及びその硬化物の
優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等
により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の
分野で幅広く用いられている。
【0003】しかし、近年特に電気・電子分野において
はその発展に伴い、高純度化をはじめ耐湿性、密着性、
フィラーを高充填させるための低粘度化等の樹脂の諸特
性の一層の向上が求められている。また、構造材として
は航空宇宙材料、レジャー・スポーツ器具用途などにお
いて軽量で機械物性の優れた材料が求められている。こ
れらの要求に対し、エポキシ樹脂及びこれを含有する樹
脂組成物について多くの提案がなされてはいるが、未だ
充分とはいえない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、その硬化物
において優れた低粘度性、耐湿性(耐水性)、耐衝撃
性、、密着性を示す電気電子部品用絶縁材料(高信頼性
半導体封止材料など)及び積層板(プリント配線板な
ど)やCFRPを始めとする各種複合材料用、接着剤、
塗料等に有用なエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及び
その硬化物を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記のよう
な特性をエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬
化物に付与する方法について鋭意研究の結果、本発明を
完成した。即ち、本発明は、(1)式(1)
【0006】
【化3】
【0007】(式中、Gはグリシジル基を示す。複数存
在するRは独立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水
素基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。複数存
在するXは独立して酸素原子または硫黄原子を示す。複
数存在するQは独立して水素原子または炭素数1〜5の
アルキル基を示す。nは平均値であり、1〜15の実数
を示し、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー等で測定することができる。複数存在するyは独立し
て1〜2の整数を示す。複数存在するiは独立して1〜
6の整数を示す。複数存在するkは独立して1〜5の整
数を示す。複複数存在するjは独立して1〜3の整数を
示す。)で表されるエポキシ樹脂、(2)式(2)
【0008】
【化4】
【0009】(式中、Gはグリシジル基を示す。複数存
在するRは独立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水
素基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。Xは酸
素原子または硫黄原子を示す。複数存在するQは独立し
て水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。m
は平均値であり、0〜20の実数を示し、例えばゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー等で測定することが
できる。複数存在するhは独立して1〜4の整数を示
す。複数存在するjは独立して1〜3の整数を示す。)
で表されるエポキシ樹脂、(3)前記(1)または
(2)項記載のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組
成物、(4)前記(3)項記載のエポキシ樹脂組成物を
硬化してなる硬化物、(5)前記(3)項記載のエポキ
シ樹脂組成物を用いた半導体装置に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の式(1)で表されるエポ
キシ樹脂は例えば下記式(3)
【0011】
【化5】
【0012】(式中、複数存在するRは独立して水素原
子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコキシ基または
ハロゲン原子を示す。複数存在するXは独立して酸素原
子、硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原
子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。nは平均値
であり、1〜15の実数を示す。複数存在するyは独立
して1〜2の整数を示す。複数存在するiは独立して1
〜6の整数を示す。複数存在するkは独立して1〜5の
整数を示す。複複数存在するjは独立して1〜3の整数
を示す。)で表される化合物にエピハロヒドリン類を反
応させることによって得ることができる。
【0013】式(3)の化合物は、例えばフェノール類
と式(4)
【0014】
【化6】
【0015】(式中、Xは酸素原子または硫黄原子を示
す。複数存在するQは独立して水素原子または炭素数1
〜5のアルキル基を示す。jは1〜3の整数を示す)で
表される化合物を触媒と必要により溶媒の存在下で縮重
合することにより得られる。
【0016】式(4)の化合物としては例えばフルフラ
ール、3−フルアルデヒド、3−メチルフルフラール、
5−メチルフルフラール、5−エチルフルフラール、2
−チオフェンカルボキシアルデヒド、3−チオフェンカ
ルボキシアルデヒド、3−メチル−2−チオフェンカル
ボキシアルデヒド等が挙げられるが、これらに限定され
る物ではなく、単独でも2種以上併用してもよい。
【0017】フェノール類としては、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール(ジメチルフェノール)、トリメ
チルフェノール、2−tertブチル−5−メチルフェ
ノール、2−tertブチル−4−メチルフェノール、
オクチルフェノール、フェニルフェノール、ジフェニル
フェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、グア
ヤコール、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ナ
フトール、ジヒドロキシナフタレン、メチルナフトー
ル、アリルフェノール、等が挙げられるがこれらに限定
される物ではなく、単独でも2種以上併用してもよい。
フェノール類の使用量は、式(4)の化合物1モルに対
し、通常1.5〜20倍モル、好ましくは1.8〜10
倍モルである。
【0018】溶媒としては、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、トルエン、キシレン
などが挙げられるがこれらに限定される物ではなく、単
独でも2種以上併用してもよい。溶媒を使用する場合、
その使用量はフェノール類100重量部に対し、通常5
〜500重量部、好ましくは10〜300重量部の範囲
である。
【0019】触媒としては塩基性の物が好ましい。酸性
触媒でも縮重合は可能であるが、式(4)の化合物同士
の反応も起こり、副成物が多くなる。また、有機金属化
合物を用いる方法もあるが、コスト的に不利である。塩
基性触媒の具体例としては、水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土
類金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、
カリウム−tert−ブトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエト
キシド等のアルカリ土類金属アルコキシド等が挙げられ
るが、これらに限定される物ではなく、単独でも2種以
上を併用してもよい。触媒の使用量は、フェノール類1
モルに対し、通常0.005〜2.0倍モル、好ましく
は0.01〜1.1倍モルである。
【0020】反応は、式(4)で表される化合物とフェ
ノール類と(必要により溶媒)の混合物中に塩基性触媒
を加えて加熱して行う。また、フェノール類と触媒(必
要により溶媒)の混合物中を加熱しているところに式
(4)の化合物を徐々に添加してもよい。反応時間は通
常5〜100時間、反応温度は通常50〜150℃であ
る。反応終了後は中和してから、濾過あるいは加熱減圧
下において未反応原料及び溶媒類を除去する事により式
(3)の化合物が得られる。
【0021】式(3)の化合物のエポキシ化反応に使用
されるエピハロヒドリン類としては、エピクロルヒドリ
ン、エピブロムヒドリン、エピヨードヒドリン、β−メ
チルエピクロルヒドリン、β−メチルエピブロムヒドリ
ン、β−エチルエピクロルヒドリン等があるが、工業的
に入手し易く安価なエピクロルヒドリンが好ましい。こ
の反応は従来公知の方法に準じて行うことが出来る。
【0022】例えば式(3)の化合物とエピハロヒドリ
ン類の混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
のアルカリ金属水酸化物の固体を一括または徐々に添加
しながら20〜120℃で1〜20時間反応させる。こ
の際アルカリ金属水酸化物は水溶液を使用してもよく、
その場合は該アルカリ金属水酸化物を連続的に添加する
と共に反応系内から減圧下、または常圧下、連続的に水
及びエピハロヒドリン類を留出せしめ更に分液し水は除
去しエピハロヒドリン類は反応系内に連続的に戻す方法
でもよい。
【0023】上記の方法においてエピハロヒドリン類の
使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常
0.5〜20モル、好ましくは0.7〜10モルであ
る。アルカリ金属水酸化物の使用量は式(3)の化合物
の水酸基1当量に対し通常0.5〜1.5モル、好まし
くは0.7〜1.2モルである。また、上記反応におい
てジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン等の非プロトン性極性溶媒を添加することにより加水
分解性ハロゲン濃度の低いエポキシ樹脂が得られ、電子
材料封止材としての用途に適する。非プロトン性極性溶
媒の使用量はエピハロヒドリン類の重量に対し通常5〜
200重量%、好ましくは10〜100重量%である。
また前記の溶媒以外にもメタノール、エタノール等のア
ルコール類を添加することによっても反応が進み易くな
る。またトルエン、キシレン、ジオキサン等も使用する
ことができる。
【0024】また、式(3)で表される化合物と過剰の
エピハロヒドリン類の混合物にテトラメチルアンモニウ
ムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、
トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四
級アンモニウム塩を触媒として使用し、50℃〜150
℃で1〜20時間反応させて得られた式(3)の化合物
のハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液
を加え、20〜120℃で1〜20時間反応させてハロ
ヒドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂を
得ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の
使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常
0.001〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.1
モルである。
【0025】通常、これらの反応物は水洗後、または水
洗無しに加熱減圧下過剰のエピハロヒドリン類を除去し
た後、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等
の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を
行う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は式
(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常0.01〜
0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5
〜2時間である。
【0026】反応終了後副生した塩をろ過、水洗などに
より除去し、さらに加熱減圧下トルエン、キシレン、メ
チルイソブチルケトン等の溶媒を留去することにより加
水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂を得ることがで
きる。
【0027】また、式(3)の化合物の合成工程とエポ
キシ化の工程を連続して行うこともできる。例えば、式
(4)の化合物とフェノール類とを前記方法にて反応さ
せた後、中和や濾過、加熱減圧下における蒸留などによ
って未反応原料及び溶媒類を除去する事なしに、系内に
直接エピハロヒドリン類を加え、前記方法にてエポキシ
化を行い、最後の溶媒留去の段階で未反応原料のエポキ
シ化物を溶媒と共に留去すればよい。尚、式(2)で表
される本発明のエポキシ樹脂は、式(3)においてn=
1(この場合nは整数を表す。)であり、y=1の化合
物を前記と同様にしてエポキシ化することにより得ら
れ、エピハロヒドリンの使用量を少なくするに従い、m
の値が大きな化合物を得ることができる。
【0028】以下、本発明のエポキシ樹脂組成物につい
て説明する。本発明のエポキシ樹脂組成物において、本
発明のエポキシ樹脂は単独でまたは他のエポキシ樹脂と
併用して使用することが出来る。併用する場合、本発明
のエポキシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は20
重量%以上が好ましく、特に30重量%以上が好まし
い。
【0029】本発明のエポキシ樹脂と併用されうるエポ
キシ樹脂の具体例としては、ノボラック型エポキシ樹
脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、
ビスフェノールS型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ビフェノ−ル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン系
エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が
挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら
は単独で用いてもよく、2種以上を混合して使用しても
よい。
【0030】本発明のエポキシ樹脂組成物は硬化剤を含
有する。用いうる硬化剤の具体例としては脂肪族ポリア
ミン、芳香族ポリアミン、ポリアミドポリアミン等のア
ミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチル
テトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノー
ル類ノボラック、トリスフェノールメタン、フェノール
類・ジシクロペンタジエン重合物、フェノール類・キシ
リレングリコール類重縮合物、フェノール類・ビフェニ
ルジメタノール類重縮合物等のフェノール系硬化剤、三
弗化ホウ素等のルイス酸またはそれらの塩類、ジシアン
ジアミド類などが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併
用してもよい。
【0031】本発明のエポキシ樹脂組成物において、硬
化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対
して0.5〜1.5当量が好ましく特に0.6〜1.2
当量が好ましい。
【0032】本発明のエポキシ樹脂組成物は必要により
硬化促進剤を含有する。用いうる硬化促進剤の具体例と
しては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾ
ール等のイミダゾール系化合物、トリス−(ジメチルア
ミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、トリ
フェニルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン・ト
リフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウム・テト
ラフェニルボレート等のホスフィン系化合物、三フッ化
ホウ素等を始め公知の硬化促進剤が挙げられるが、これ
らに特に限定されるものではない。硬化促進剤はエポキ
シ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部が必
要に応じ用いられる。
【0033】本発明のエポキシ樹脂組成物には、更に必
要に応じて通常用いられる添加剤を配合することが出来
る。用いうる添加剤の具体例としては、ポリブタジエン
及びこの変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、
ポリフェニレンエーテル、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリイミド、フッ素樹脂、マレイミド系化合物、シ
アネートエステル系化合物、シリコーンゲル、シリコー
ンオイル、並びにシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、
石英粉、アルミニウム粉末、グラファイト、タルク、ク
レー、酸化鉄、酸化チタン、窒化アルミニウム、アスベ
スト、マイカ、ガラス粉末、ガラス繊維、ガラス不織布
または、カーボン繊維等の無機充填材、シランカップリ
ング剤のような充填材の表面処理剤、離型剤、カーボン
ブラック、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリ
ーン等の着色剤が挙げられる。
【0034】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成
分を所定の割合で均一に混合することにより得られ、通
常130〜180℃で30〜500秒で予備硬化し、更
に、150〜250℃で2〜15時間、後硬化すること
により充分な硬化反応が進行し、本発明の硬化物が得ら
れる。又、エポキシ樹脂組成物の成分を溶剤等に均一に
分散または溶解させ、溶媒を除去した後硬化させること
もできる。
【0035】こうして得られる本発明の硬化物は、高耐
熱性、耐湿性、高接着性を有する。従って、本発明のエ
ポキシ樹脂は、耐熱性、耐湿性、接着性の要求される広
範な分野で用いることが出来る。具体的には、絶縁材
料、積層板、封止材料等あらゆる電気・電子材料の配合
成分として有用である。又、成形材料、複合材料の他、
塗料材料、接着剤等の分野にも用いることが出来る。
【0036】
【実施例】以下本発明を製造例、実施例により更に詳細
に説明する。尚、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。また実施例において、エポキシ当量、溶融
粘度、軟化点、加水分解性塩素濃度及び融点は以下の条
件で測定した。 1)エポキシ当量 JIS K−7236に準じた方法で測定した。 2)溶融粘度 150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度 測定機械:コーンプレート(ICI)高温粘度計(RESE
ARCH EQUIPMENT(LONDON)LTD. 製) コーンNo.:3(測定範囲0〜20ポイズ) 試料量:0.15±0.005(g) 3)軟化点 JIS K−7234に準じた方法で測定 4)加水分解性塩素濃度 試料のジオキサン溶液に1N−KOHエタノール溶液を
添加し、30分間環流することにより遊離する塩素量を
硝酸銀滴定法により測定し、試料の重量で除した値 5)融点:DSCにより測定。昇温速度は10℃/mi
【0037】式(3)の化合物の合成 製造例1 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、
2,6−キシレノール244重量部、メタノール122
重量部、水酸化ナトリウム7重量部を仕込、撹拌、溶解
後、加熱して還流状態としたところへ、フルフラール9
6重量部を2時間で滴下した。その後還流温度で15時
間反応させた後、20%燐酸二水素ナトリウム水溶液1
40重量部で中和し、水を500重量部加えた。ついで
析出した結晶を濾過で回収し、メタノール:水=1:1
の溶液で洗浄後、減圧乾燥器で乾燥させた。その結果、
4,4’−(2−フリル−メチレン)ビス[2,6−ジ
メチルフェノール](重縮合物(P1))304重量部
を得た。融点:147℃。
【0038】製造例2 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、2
−tertブチル−5−メチルフェノール328重量
部、メタノール328重量部、水酸化ナトリウム8重量
部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流状態としたとこ
ろへ、フルフラール96重量部を2時間で滴下した。そ
の後還流温度で反応させながら水酸化ナトリウムを1時
間毎に4重量部ずつ計40重量部添加した。35時間反
応させた後、メタノール240重量部、水240重量部
を加え、35%塩酸水溶液200重量部で中和し、つい
で析出した結晶を濾過で回収し、メタノール:水=2:
1の溶液で洗浄後、更にメタノールで洗浄し、減圧乾燥
器で乾燥させた。その結果、4,4’−(2−フリル−
メチレン)ビス[2−tertブチル−5−メチルフェ
ノール](重縮合物(P2))332重量部を得た。融
点:236〜237℃。
【0039】製造例3 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フ
ェノール113重量部、メタノール28重量部、水酸化
ナトリウム12重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して
還流状態としたところへ、フルフラール29重量部を2
時間で滴下した。その後還流温度(90〜100℃)で
20時間反応させた後、35%塩酸水溶液30重量部で
中和し、80%ヒドラジン水溶液を5重量部加えた。つ
いでメチルイソブチルケトン150重量部を加え、水洗
を繰り返した後、加熱減圧下に於いて、未反応フェノー
ル、メチルイソブチルケトンを留去せしめて、フェノー
ル・フルフラール重縮合物(重縮合物P3)332重量
部を得た。重縮合物(P3)の融点は92℃、溶融粘度
は5.1ポイズであった。
【0040】製造例4 製造例1において、2,6−キシレノール244重量部
を2,5−キシレノール244重量部に変えた以外は同
様の操作を行ったところ、4,4’−(2−フリル−メ
チレン)ビス[2,5−ジメチルフェノール](重縮合
物(P4))301重量部を得た。融点:192℃。
【0041】製造例5 製造例1において、2,6−キシレノール244重量部
を2,3,6−トリメチルフェノール272重量部に、
水酸化ナトリウムを水酸化リチウム5重量部に変えた以
外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−フリ
ル−メチレン)ビス[2,3,5−トリメチルフェノー
ル](重縮合物(P5))298重量部を得た。融点:
176℃。
【0042】製造例6 製造例1において、水酸化ナトリウムを水酸化リチウム
5重量部に、フルフラールを2−チオフェンカルボキシ
アルデヒド112重量部に、反応時間を25時間に変え
た以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−
チエニル−メチレン)ビス[2,6−ジメチルフェノー
ル](重縮合物(P6))307重量部を得た。融点:
167℃。
【0043】製造例7 製造例6において、2,6−キシレノール244重量部
を2,5−キシレノール244重量部に、反応時間を3
0時間に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,
4’−(2−チエニル−メチレン)ビス[2,5−ジメ
チルフェノール](重縮合物(P7))284重量部を
得た。融点:216℃。
【0044】製造例8 製造例6において、2,6−キシレノール244重量部
を2,3,6−トリメチルフェノール272重量部に、
反応時間を60時間に変えた以外は同様の操作を行った
ところ、4,4’−(2−チエニル−メチレン)ビス
[2,3,5−トリメチルフェノール](重縮合物(P
8))284重量部を得た。融点:163℃。
【0045】実施例1 製造例1で得られた重縮合物(P1)161重量部に対
してエピクロルヒドリン(ECH、以下同様)500重
量部、ジメチルスルホキシド(DMSO、以下同様)1
00重量部を反応容器に仕込、加熱、撹拌、溶解後、温
度を45℃に保持しながら、反応系内を45Torrに
保って、40重量%水酸化ナトリウム水溶液100重量
部を4時間かけて連続的に滴下した。この際共沸により
留出してくるECHと水を冷却、分液した後、有機層で
あるECHだけを反応系内に戻しながら反応を行った。
水酸化ナトリウム水溶液滴下完了後、45℃で3時間、
70℃で30分更に反応を行った。ついで水洗を繰り返
し、副成塩とジメチルスルホキシドを除去した後、油層
から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリンを留
去し、残留物に500重量部のメチルイソブチルケトン
を添加し溶解した。このメチルイソブチルケトン溶液を
70℃に加熱し30%水酸化ナトリウム水溶液4重量部
を添加し、1時間反応させた後、反応液の水洗を洗浄液
が中性となるまで繰り返した。ついで油層から加熱減圧
下においてメチルイソブチルケトンを留去することによ
り式(5)
【0046】
【化7】
【0047】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.03(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E1)210重量部を得た。エポキシ樹脂
(E1)のエポキシ当量は222g/eq、軟化点は4
5℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は
370ppmであった。
【0048】実施例2 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P2)203重量部に、ECHを650重量部
に、DMSOを120重量部に変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、式(6)
【0049】
【化8】
【0050】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.04(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E2)245重量部を得た。エポキシ樹脂
(E2)のエポキシ当量は270g/eq、軟化点は6
8℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は
360ppmであった。
【0051】実施例3 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P3)133重量部に、ECHを400重量部
に、DMSOを100重量部に変えた以外は実施例1と
同様の操作を行った。その結果、式(7)
【0052】
【化9】
【0053】(式中Gはグリシジル基を表す。またn=
4.9(平均値)である。)で表される本発明のエポキ
シ樹脂(E3)170重量部を得た。エポキシ樹脂(E
3)のエポキシ当量は225g/eq、軟化点は65
℃、溶融粘度は3.6ポイズ、加水分解性塩素濃度は4
10ppmであった。
【0054】実施例4 撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フ
ェノール56重量部、メタノール28重量部、水酸化ナ
トリウム2重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流
状 態としたところへ、フルフラール29重量部を2
時間で滴下した。その後還流温度(80〜90℃)で2
0時間反応させた後、エピクロルヒドリン250重量部
を加え、70℃においてフレーク状水酸化ナトリウム1
2重量部を1時間かけて連続的に添加した。水酸化ナト
リウム添加完了後、70℃で1時間反応を行った。つい
で水洗を繰り返し、副成塩とメタノールを除去した後、
油層から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリン
を留去し、残留物に300重量部のメチルイソブチルケ
トンを添加し溶解した。このメチルイソブチルケトンの
溶液を70℃に加熱し30重量%水酸化ナトリウム水溶
液4重量部を添加し、1時間反応させた後、反応液の水
洗を洗浄液が中性となるまで繰り返した。ついで油層か
ら加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンを留去す
ることにより前記式(7)で表される本発明のエポキシ
樹脂(E4)70重量部を得た(式(7)におけるn=
4.9(平均値))。エポキシ樹脂(E4)のエポキシ
当量は240g/eq、軟化点は66℃、溶融粘度は
2.3ポイズ、加水分解性塩素濃度は780ppmであ
った。
【0055】実施例5 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P4)161重量部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、式(8)
【0056】
【化10】
【0057】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.08(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E5)221重量部を得た。エポキシ樹脂
(E5)のエポキシ当量は232g/eq、軟化点は6
6℃、溶融粘度は0.5ポイズ、加水分解性塩素濃度は
380ppmであった。
【0058】実施例6 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P5)175重量部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、式(9)
【0059】
【化11】
【0060】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.03(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E6)219重量部を得た。エポキシ樹脂
(E6)のエポキシ当量は238g/eq、軟化点は6
8℃、溶融粘度は1.0ポイズ、加水分解性塩素濃度は
370ppmであった。
【0061】実施例7 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P6)169重量部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、式(10)
【0062】
【化12】
【0063】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.04(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E7)216重量部を得た。エポキシ樹脂
(E7)のエポキシ当量は233g/eq、軟化点は5
0℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は
400ppmであった。
【0064】実施例8 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P7)169重量部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、式(11)
【0065】
【化13】
【0066】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.07(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E8)214重量部を得た。エポキシ樹脂
(E8)のエポキシ当量は239g/eq、軟化点は7
1℃、溶融粘度は0.6ポイズ、加水分解性塩素濃度は
390ppmであった。
【0067】実施例9 実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮
合物(P8)183重量部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、式(12)
【0068】
【化14】
【0069】(式中Gはグリシジル基を表す。またm=
0.04(平均値)である。)で表される本発明のエポ
キシ樹脂(E9)214重量部を得た。エポキシ樹脂
(E9)のエポキシ当量は248g/eq、軟化点は7
4℃、溶融粘度は1.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は
410ppmであった。
【0070】実施例10〜18 実施例1〜9で得られたエポキシ樹脂(E1)〜(E
9)を使用し、エポキシ樹脂1エポキシ当量に対して硬
化剤(フェノールノボラック樹脂(日本化薬(株)製、
PN−80、150℃における溶融粘度1.5ポイズ、
軟化点86℃、水酸基当量106g/eq)を1水酸基
当量配合し、更に硬化促進剤(トリフェニルフォスフィ
ン)をエポキシ樹脂100重量部当り1重量部配合し、
トランスファー成型により樹脂成形体を調製し、160
℃で2時間、更に180℃で8時間硬化させた。
【0071】このようにして得られた硬化物の物性を測
定した結果を表1、2に示す。尚、物性値の測定は以下
の方法で行った。 吸水率:直径5cm×厚み4mmの円盤状の試験片を
100℃の水中で24時間煮沸した後の重量増加率
(%) 銅箔剥離強度:180°剥離試験 測定温度;30℃ 引っ張り速度;200mm/min 銅箔;日鉱グールド(株)製 JTC箔 70μm アイゾット衝撃試験:JIS K7110に準拠して
測定した。
【0072】
【表1】 表1 実施例 10 11 12 13 14 エポキシ樹脂 E1 E2 E3 E4 E5 吸水率(%) 1.2 1.1 1.3 1.2 1.2 銅箔剥離強度(Kg/cm) 2.8 2.6 2.4 2.5 2.9 アイゾット(KJ/m) 23 14 11 13 13
【0073】
【表2】 表2 実施例 15 16 17 18 エポキシ樹脂 E6 E7 E8 E9 吸水率(%) 1.1 1.1 1.0 1.2 銅箔剥離強度(Kg/cm) 2.7 2.7 2.7 2.7 アイゾット(KJ/m) 20 24 17 13
【0074】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂を含有するエポキ
シ樹脂組成物はその硬化物において優れた耐湿性(耐水
性)、耐衝撃性、密着性を有するため、電気電子部品用
絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及び積層板
(プリント配線板など)やCFRPを始めとする各種複
合材料、接着剤、塗料等に使用する場合に極めて有用で
ある。特に、半導体封止材に用いた場合、優れた耐半田
クラック性を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J036 AD07 AD08 AD12 AD20 AD21 AF06 AJ08 DB06 DB15 DB21 DC03 DC05 DC06 DC10 DC31 DC41 DD07 FA01 FA03 FA04 FA05 FB02 FB03 FB05 FB07 FB08 FB14 GA19 GA20 4M109 EA03 EB03 EB04 EC01 EC03 EC05 EC09

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、Gはグリシジル基を示す。複数存在するRは独
    立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコ
    キシ基またはハロゲン原子を示す。複数存在するXは独
    立して酸素原子または硫黄原子を示す。複数存在するQ
    は独立して水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を
    示す。nは平均値であり、1〜15の実数を示す。複数
    存在するyは独立して1〜2の整数を示す。複数存在す
    るiは独立して1〜6の整数を示す。複数存在するkは
    独立して1〜5の整数を示す。複複数存在するjは独立
    して1〜3の整数を示す。)で表されるエポキシ樹脂。
  2. 【請求項2】式(2) 【化2】 (式中、Gはグリシジル基を示す。複数存在するRは独
    立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコ
    キシ基またはハロゲン原子を示す。Xは酸素原子または
    硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原子ま
    たは炭素数1〜5のアルキル基を示す。mは平均値であ
    り、0〜20の実数を示す。複数存在するhは独立して
    1〜4の整数を示す。複数存在するjは独立して1〜3
    の整数を示す。)で表されるエポキシ樹脂。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載のエポキシ樹脂を含
    有するエポキシ樹脂組成物。
  4. 【請求項4】請求項3記載のエポキシ樹脂組成物を硬化
    してなる硬化物。
  5. 【請求項5】請求項3記載のエポキシ樹脂組成物を用い
    た半導体装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012129302A (ja) * 2010-12-14 2012-07-05 Hitachi Chem Co Ltd 半導体装置用部品の製造方法及び半導体装置の製造方法
WO2021118235A1 (ko) * 2019-12-12 2021-06-17 국도화학 주식회사 다관능성 노볼락 수지를 제조하는 방법, 에폭시 수지를 제조하는 방법, 이를 통해 제조된 다관능성 노볼락 수지 및 에폭시 수지

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JP2012129302A (ja) * 2010-12-14 2012-07-05 Hitachi Chem Co Ltd 半導体装置用部品の製造方法及び半導体装置の製造方法
WO2021118235A1 (ko) * 2019-12-12 2021-06-17 국도화학 주식회사 다관능성 노볼락 수지를 제조하는 방법, 에폭시 수지를 제조하는 방법, 이를 통해 제조된 다관능성 노볼락 수지 및 에폭시 수지

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