JP4026733B2 - エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は高信頼性半導体封止用を始めとする電気・電子部品絶縁材料用、及び積層板(プリント配線板)やCFRP(炭素繊維強化プラスチック)を始めとする各種複合材料用、接着剤、塗料等に有用なエポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
エポキシ樹脂は作業性及びその硬化物の優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の分野で幅広く用いられている。
【0003】
しかし、近年特に電気・電子分野においてはその発展に伴い、高純度化をはじめ耐湿性、密着性、フィラーを高充填させるための低粘度化等の樹脂の諸特性の一層の向上が求められている。また、構造材としては航空宇宙材料、レジャー・スポーツ器具用途などにおいて軽量で機械物性の優れた材料が求められている。これらの要求に対し、エポキシ樹脂及びこれを含有する樹脂組成物について多くの提案がなされてはいるが、未だ充分とはいえない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、その硬化物において優れた低粘度性、耐湿性(耐水性)、耐衝撃性、、密着性を示す電気電子部品用絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及び積層板(プリント配線板など)やCFRPを始めとする各種複合材料用、接着剤、塗料等に有用なエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記のような特性をエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物に付与する方法について鋭意研究の結果、本発明を完成した。
即ち、本発明は、
(1)式(1)
【0006】
【化3】
【0007】
(式中、Gはグリシジル基を示す。複数存在するRは独立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。複数存在するXは独立して酸素原子または硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。nは平均値であり、1〜15の実数を示し、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー等で測定することができる。複数存在するyは独立して1〜2の整数を示す。複数存在するiは独立して1〜6の整数を示す。複数存在するjは独立して1〜3の整数を示す。)
で表されるエポキシ樹脂、
(2)式(2)
【0008】
【化4】
【0009】
(式中、Gはグリシジル基を示す。複数存在するRは独立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。Xは酸素原子または硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。mは平均値であり、1〜20の実数を示し、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー等で測定することができる。複数存在するhは独立して1〜4の整数を示す。複数存在するjは独立して1〜3の整数を示す。)で表されるエポキシ樹脂、
(3)前記(1)または(2)項記載のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物、
(4)前記(3)項記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物、
(5)前記(3)項記載のエポキシ樹脂組成物を用いた半導体装置
に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の式(1)で表されるエポキシ樹脂は例えば下記式(3)
【0011】
【化5】
【0012】
(式中、複数存在するRは独立して水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。複数存在するXは独立して酸素原子、硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。nは平均値であり、1〜15の実数を示す。複数存在するyは独立して1〜2の整数を示す。複数存在するiは独立して1〜6の整数を示す。複数存在するjは独立して1〜3の整数を示す。)で表される化合物にエピハロヒドリン類を反応させることによって得ることができる。この際、式(2)で表されるエポキシ樹脂が一部生成するが、式(2)のエポキシ樹脂は通常は式(3)においてn=1の化合物をエピハロヒドリン類と反応させ得ることができる。
【0013】
式(3)の化合物は、例えばフェノール類と式(4)
【0014】
【化6】
【0015】
(式中、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。複数存在するQは独立して水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を示す。jは1〜3の整数を示す)で表される化合物を触媒と必要により溶媒の存在下で縮重合することにより得られる。
【0016】
式(4)の化合物としては例えばフルフラール、3−フルアルデヒド、3−メチルフルフラール、5−メチルフルフラール、5−エチルフルフラール、2−チオフェンカルボキシアルデヒド、3−チオフェンカルボキシアルデヒド、3−メチル−2−チオフェンカルボキシアルデヒド等が挙げられるが、これらに限定される物ではなく、単独でも2種以上併用してもよい。
【0017】
フェノール類としては、フェノール、クレゾール、キシレノール(ジメチルフェノール)、トリメチルフェノール、2−tertブチル−5−メチルフェノール、2−tertブチル−4−メチルフェノール、オクチルフェノール、フェニルフェノール、ジフェニルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、グアヤコール、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、メチルナフトール、アリルフェノール、等が挙げられるがこれらに限定される物ではなく、単独でも2種以上併用してもよい。フェノール類の使用量は、式(4)の化合物1モルに対し、通常1.5〜20倍モル、好ましくは1.8〜10倍モルである。
【0018】
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、トルエン、キシレンなどが挙げられるがこれらに限定される物ではなく、単独でも2種以上併用してもよい。溶媒を使用する場合、その使用量はフェノール類100重量部に対し、通常5〜500重量部、好ましくは10〜300重量部の範囲である。
【0019】
触媒としては塩基性の物が好ましい。酸性触媒でも縮重合は可能であるが、式(4)の化合物同士の反応も起こり、副成物が多くなる。また、有機金属化合物を用いる方法もあるが、コスト的に不利である。塩基性触媒の具体例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等のアルカリ土類金属アルコキシド等が挙げられるが、これらに限定される物ではなく、単独でも2種以上を併用してもよい。触媒の使用量は、フェノール類1モルに対し、通常0.005〜2.0倍モル、好ましくは0.01〜1.1倍モルである。
【0020】
反応は、式(4)で表される化合物とフェノール類と(必要により溶媒)の混合物中に塩基性触媒を加えて加熱して行う。また、フェノール類と触媒(必要により溶媒)の混合物中を加熱しているところに式(4)の化合物を徐々に添加してもよい。反応時間は通常5〜100時間、反応温度は通常50〜150℃である。反応終了後は中和してから、濾過あるいは加熱減圧下において未反応原料及び溶媒類を除去する事により式(3)の化合物が得られる。
【0021】
式(3)の化合物のエポキシ化反応に使用されるエピハロヒドリン類としては、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン、エピヨードヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、β−メチルエピブロムヒドリン、β−エチルエピクロルヒドリン等があるが、工業的に入手し易く安価なエピクロルヒドリンが好ましい。この反応は従来公知の方法に準じて行うことが出来る。
【0022】
例えば式(3)の化合物とエピハロヒドリン類の混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を一括または徐々に添加しながら20〜120℃で1〜20時間反応させる。この際アルカリ金属水酸化物は水溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物を連続的に添加すると共に反応系内から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン類を留出せしめ更に分液し水は除去しエピハロヒドリン類は反応系内に連続的に戻す方法でもよい。
【0023】
上記の方法においてエピハロヒドリン類の使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常0.5〜20モル、好ましくは0.7〜10モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対し通常0.5〜1.5モル、好ましくは0.7〜1.2モルである。また、上記反応においてジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒を添加することにより加水分解性ハロゲン濃度の低いエポキシ樹脂が得られ、電子材料封止材としての用途に適する。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピハロヒドリン類の重量に対し通常5〜200重量%、好ましくは10〜100重量%である。また前記の溶媒以外にもメタノール、エタノール等のアルコール類を添加することによっても反応が進み易くなる。またトルエン、キシレン、ジオキサン等も使用することができる。
【0024】
また、式(3)で表される化合物と過剰のエピハロヒドリン類の混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩を触媒として使用し、50℃〜150℃で1〜20時間反応させて得られた式(3)の化合物のハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、20〜120℃で1〜20時間反応させてハロヒドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂を得ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常0.001〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
【0025】
通常、これらの反応物は水洗後、または水洗無しに加熱減圧下過剰のエピハロヒドリン類を除去した後、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は式(3)の化合物の水酸基1当量に対して通常0.01〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。
【0026】
反応終了後副生した塩をろ過、水洗などにより除去し、さらに加熱減圧下トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の溶媒を留去することにより加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂を得ることができる。
【0027】
また、式(3)の化合物の合成工程とエポキシ化の工程を連続して行うこともできる。例えば、式(4)の化合物とフェノール類とを前記方法にて反応させた後、中和や濾過、加熱減圧下における蒸留などによって未反応原料及び溶媒類を除去する事なしに、系内に直接エピハロヒドリン類を加え、前記方法にてエポキシ化を行い、最後の溶媒留去の段階で未反応原料のエポキシ化物を溶媒と共に留去すればよい。
【0028】
以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂は単独でまたは他のエポキシ樹脂と併用して使用することが出来る。併用する場合、本発明のエポキシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は20重量%以上が好ましく、特に30重量%以上が好ましい。
【0029】
本発明のエポキシ樹脂と併用されうるエポキシ樹脂の具体例としては、ノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ビフェノ−ル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
【0030】
本発明のエポキシ樹脂組成物は硬化剤を含有する。用いうる硬化剤の具体例としては脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ポリアミドポリアミン等のアミン系硬化剤、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノール類ノボラック、トリスフェノールメタン、フェノール類・ジシクロペンタジエン重合物、フェノール類・キシリレングリコール類重縮合物、フェノール類・ビフェニルジメタノール類重縮合物等のフェノール系硬化剤、三弗化ホウ素等のルイス酸またはそれらの塩類、ジシアンジアミド類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。
【0031】
本発明のエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量が好ましく特に0.6〜1.2当量が好ましい。
【0032】
本発明のエポキシ樹脂組成物は必要により硬化促進剤を含有する。用いうる硬化促進剤の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、トリス−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第3アミン系化合物、トリフェニルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等のホスフィン系化合物、三フッ化ホウ素等を始め公知の硬化促進剤が挙げられるが、これらに特に限定されるものではない。硬化促進剤はエポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部が必要に応じ用いられる。
【0033】
本発明のエポキシ樹脂組成物には、更に必要に応じて通常用いられる添加剤を配合することが出来る。用いうる添加剤の具体例としては、ポリブタジエン及びこの変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、ポリフェニレンエーテル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリイミド、フッ素樹脂、マレイミド系化合物、シアネートエステル系化合物、シリコーンゲル、シリコーンオイル、並びにシリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、石英粉、アルミニウム粉末、グラファイト、タルク、クレー、酸化鉄、酸化チタン、窒化アルミニウム、アスベスト、マイカ、ガラス粉末、ガラス繊維、ガラス不織布または、カーボン繊維等の無機充填材、シランカップリング剤のような充填材の表面処理剤、離型剤、カーボンブラック、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等の着色剤が挙げられる。
【0034】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成分を所定の割合で均一に混合することにより得られ、通常130〜180℃で30〜500秒で予備硬化し、更に、150〜250℃で2〜15時間、後硬化することにより充分な硬化反応が進行し、本発明の硬化物が得られる。
又、エポキシ樹脂組成物の成分を溶剤等に均一に分散または溶解させ、溶媒を除去した後硬化させることもできる。
【0035】
こうして得られる本発明の硬化物は、高耐熱性、耐湿性、高接着性を有する。従って、本発明のエポキシ樹脂は、耐熱性、耐湿性、接着性の要求される広範な分野で用いることが出来る。具体的には、絶縁材料、積層板、封止材料等あらゆる電気・電子材料の配合成分として有用である。又、成形材料、複合材料の他、塗料材料、接着剤等の分野にも用いることが出来る。
【0036】
【実施例】
以下本発明を製造例、実施例により更に詳細に説明する。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また実施例において、エポキシ当量、溶融粘度、軟化点、加水分解性塩素濃度は以下の条件で測定した。
1)エポキシ当量
JIS K−7236に準じた方法で測定した。
2)溶融粘度
150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度
測定機械:コーンプレート(ICI)高温粘度計(RESEARCH EQUIPMENT (LONDON)LTD. 製)
コーンNo.:3(測定範囲0〜20ポイズ)
試料量:0.15±0.005(g)
3)軟化点
JIS K−7234に準じた方法で測定
4)加水分解性塩素濃度
試料のジオキサン溶液に1N−KOHエタノール溶液を添加し、30分間環流することにより遊離する塩素量を硝酸銀滴定法により測定し、試料の重量で除した値
【0037】
式(3)の化合物の合成
製造例1
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、2,6−キシレノール244重量部、メタノール122重量部、水酸化ナトリウム7重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流状態としたところへ、フルフラール96重量部を2時間で滴下した。その後還流温度で15時間反応させた後、20%燐酸二水素ナトリウム水溶液140重量部で中和し、水を500重量部加えた。ついで析出した結晶を濾過で回収し、メタノール:水=1:1の溶液で洗浄後、減圧乾燥器で乾燥させた。その結果、4,4’−(2−フリル−メチレン)ビス[2,6−ジメチルフェノール](重縮合物(P1))304重量部を得た。融点:147℃。
【0038】
製造例2
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、2−tertブチル−5−メチルフェノール328重量部、メタノール328重量部、水酸化ナトリウム8重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流状態としたところへ、フルフラール96重量部を2時間で滴下した。その後還流温度で35時間反応させた後、メタノール240重量部、水240重量部を加え、35%塩酸水溶液200重量部で中和し、ついで析出した結晶を濾過で回収し、メタノール:水=2:1の溶液で洗浄後、更にメタノールで洗浄し、減圧乾燥器で乾燥させた。その結果、4,4’−(2−フリル−メチレン)ビス[2−tertブチル−5−メチルフェノール](重縮合物(P2))332重量部を得た。融点:236〜237℃。
【0039】
製造例3
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フェノール113重量部、メタノール28重量部、水酸化ナトリウム12重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流状態としたところへ、フルフラール29重量部を2時間で滴下した。その後還流温度(90〜100℃)で20時間反応させた後、35%塩酸水溶液30重量部で中和し、80%ヒドラジン水溶液を5重量部加えた。ついでメチルイソブチルケトン150重量部を加え、水洗を繰り返した後、加熱減圧下に於いて、未反応フェノール、メチルイソブチルケトンを留去せしめて、フェノール・フルフラール重縮合物(重縮合物P3)332重量部を得た。重縮合物(P3)の融点は92℃、溶融粘度は5.1ポイズであった。
【0040】
製造例4
製造例1において、2,6−キシレノール244重量部を2,5−キシレノール244重量部に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−フリル−メチレン)ビス[2,5−ジメチルフェノール](重縮合物(P4))301重量部を得た。融点:192℃。
【0041】
製造例5
製造例1において、2,6−キシレノール244重量部を2,3,6−トリメチルフェノール272重量部に、水酸化ナトリウムを水酸化リチウム5重量部に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−フリル−メチレン)ビス[2,3,5−トリメチルフェノール](重縮合物(P5))298重量部を得た。融点:176℃。
【0042】
製造例6
製造例1において、水酸化ナトリウムを水酸化リチウム5重量部に、フルフラールを2−チオフェンカルボキシアルデヒド112重量部に、反応時間を25時間に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−チエニル−メチレン)ビス[2,6−ジメチルフェノール](重縮合物(P6))307重量部を得た。融点:167℃。
【0043】
製造例7
製造例6において、2,6−キシレノール244重量部を2,5−キシレノール244重量部に、反応時間を30時間に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−チエニル−メチレン)ビス[2,5−ジメチルフェノール](重縮合物(P7))284重量部を得た。融点:216℃。
【0044】
製造例8
製造例6において、2,6−キシレノール244重量部を2,3,6−トリメチルフェノール272重量部に、反応時間を60時間に変えた以外は同様の操作を行ったところ、4,4’−(2−チエニル−メチレン)ビス[2,3,5−トリメチルフェノール](重縮合物(P8))284重量部を得た。融点:163℃。
【0045】
実施例1
製造例1で得られた重縮合物(P1)161重量部に対してエピクロルヒドリン(ECH、以下同様)500重量部、ジメチルスルホキシド(DMSO、以下同様)100重量部を反応容器に仕込、加熱、撹拌、溶解後、温度を45℃に保持しながら、反応系内を45Torrに保って、40重量%水酸化ナトリウム水溶液100重量部を4時間かけて連続的に滴下した。この際共沸により留出してくるECHと水を冷却、分液した後、有機層であるECHだけを反応系内に戻しながら反応を行った。水酸化ナトリウム水溶液滴下完了後、45℃で3時間、70℃で30分更に反応を行った。ついで水洗を繰り返し、副成塩とジメチルスルホキシドを除去した後、油層から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物に500重量部のメチルイソブチルケトンを添加し溶解した。このメチルイソブチルケトン溶液を70℃に加熱し30%水酸化ナトリウム水溶液4重量部を添加し、1時間反応させた後、反応液の水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返した。ついで油層から加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンを留去することにより式(5)
【0046】
【化7】
【0047】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.03(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E1)210重量部を得た。エポキシ樹脂(E1)のエポキシ当量は222g/eq、軟化点は45℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は370ppmであった。
【0048】
実施例2
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P2)203重量部に、ECHを650重量部に、DMSOを120重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(6)
【0049】
【化8】
【0050】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.04(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E2)245重量部を得た。エポキシ樹脂(E2)のエポキシ当量は270g/eq、軟化点は68℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は360ppmであった。
【0051】
実施例3
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P3)133重量部に、ECHを400重量部に、DMSOを100重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、の結果、式(7)
【0052】
【化9】
【0053】
(式中Gはグリシジル基を表す。またn=4.9(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E3)170重量部を得た。エポキシ樹脂(E3)のエポキシ当量は225g/eq、軟化点は65℃、溶融粘度は3.6ポイズ、加水分解性塩素濃度は410ppmであった。
【0054】
実施例4
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、フェノール56重量部、メタノール28重量部、水酸化ナトリウム2重量部を仕込、撹拌、溶解後、加熱して還流状 態としたところへ、フルフラール29重量部を2時間で滴下した。その後還流温度(80〜90℃)で20時間反応させた後、エピクロルヒドリン250重量部を加え、70℃においてフレーク状水酸化ナトリウム12重量部を1時間かけて連続的に添加した。水酸化ナトリウム添加完了後、70℃で1時間反応を行った。ついで水洗を繰り返し、副成塩とメタノールを除去した後、油層から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物に300重量部のメチルイソブチルケトンを添加し溶解した。
このメチルイソブチルケトンの溶液を70℃に加熱し30重量%水酸化ナトリウム水溶液4重量部を添加し、1時間反応させた後、反応液の水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返した。ついで油層から加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンを留去することにより前記式(7)で表される本発明のエポキシ樹脂(E4)70重量部を得た(式(7)におけるn=4.9(平均値))。エポキシ樹脂(E4)のエポキシ当量は240g/eq、軟化点は66℃、溶融粘度は2.3ポイズ、加水分解性塩素濃度は780ppmであった。
【0055】
実施例5
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P4)161重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(8)
【0056】
【化10】
【0057】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.08(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E5)221重量部を得た。エポキシ樹脂(E5)のエポキシ当量は232g/eq、軟化点は66℃、溶融粘度は0.5ポイズ、加水分解性塩素濃度は380ppmであった。
【0058】
実施例6
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P5)175重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(9)
【0059】
【化11】
【0060】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.03(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E6)219重量部を得た。エポキシ樹脂(E6)のエポキシ当量は238g/eq、軟化点は68℃、溶融粘度は1.0ポイズ、加水分解性塩素濃度は370ppmであった。
【0061】
実施例7
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P6)169重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(10)
【0062】
【化12】
【0063】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.04(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E7)216重量部を得た。エポキシ樹脂(E7)のエポキシ当量は233g/eq、軟化点は50℃、溶融粘度は0.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は400ppmであった。
【0064】
実施例8
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P7)169重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(11)
【0065】
【化13】
【0066】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.07(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E8)214重量部を得た。エポキシ樹脂(E8)のエポキシ当量は239g/eq、軟化点は71℃、溶融粘度は0.6ポイズ、加水分解性塩素濃度は390ppmであった。
【0067】
実施例9
実施例1において重縮合物(P1)161重量部を重縮合物(P8)183重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、式(12)
【0068】
【化14】
【0069】
(式中Gはグリシジル基を表す。またm=0.04(平均値)である。)
で表される本発明のエポキシ樹脂(E9)214重量部を得た。エポキシ樹脂(E9)のエポキシ当量は248g/eq、軟化点は74℃、溶融粘度は1.4ポイズ、加水分解性塩素濃度は410ppmであった。
【0070】
実施例10〜18
実施例1〜9で得られたエポキシ樹脂(E1)〜(E9)を使用し、エポキシ樹脂1エポキシ当量に対して硬化剤(フェノールノボラック樹脂(日本化薬(株)製、PN−80、150℃における溶融粘度1.5ポイズ、軟化点86℃、水酸基当量106g/eq)を1水酸基当量配合し、更に硬化促進剤(トリフェニルフォスフィン)をエポキシ樹脂100重量部当り1重量部配合し、トランスファー成型により樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に180℃で8時間硬化させた。
【0071】
このようにして得られた硬化物の物性を測定した結果を表1、2に示す。
尚、物性値の測定は以下の方法で行った。
▲1▼吸水率:直径5cm×厚み4mmの円盤状の試験片を100℃の水中で24時間煮沸した後の重量増加率(%)
▲2▼銅箔剥離強度:180°剥離試験
測定温度;30℃
引っ張り速度;200mm/min
銅箔;日鉱グールド(株)製 JTC箔 70μm
▲3▼アイゾット衝撃試験:JIS K7110に準拠して測定した。
【0072】
【表1】
【0073】
【表2】
【0074】
【発明の効果】
本発明のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物はその硬化物において優れた耐湿性(耐水性)、耐衝撃性、密着性を有するため、電気電子部品用絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及び積層板(プリント配線板など)やCFRPを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に使用する場合に極めて有用である。特に、半導体封止材に用いた場合、優れた耐半田クラック性を有する。
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