WO2002059892A1 - Support d'enregistrement optique, disque maitre destine a la fabrication du support d'enregistrement optique et dispositif et procede pour fabriquer le disque maitre destine a la fabrication du support d'enregistrement optique - Google Patents

Support d'enregistrement optique, disque maitre destine a la fabrication du support d'enregistrement optique et dispositif et procede pour fabriquer le disque maitre destine a la fabrication du support d'enregistrement optique Download PDF

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optical recording
master
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manufacturing
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Sohmei Endoh
Ayumi Konishi
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Sony Corporation
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Definitions

  • Optical recording medium master for manufacturing optical recording medium
  • apparatus for manufacturing master for optical recording medium apparatus for manufacturing master for optical recording medium
  • the present invention relates to an optical recording medium, an optical recording medium manufacturing master used for manufacturing the optical recording medium, an optical recording medium manufacturing master manufacturing apparatus for manufacturing the same, and an optical recording medium manufacturing.
  • the present invention relates to a method for manufacturing a master. Background art
  • the optical recording medium is a playback-only optical disk such as a CD (compact disk) or LD (laser disk), a discrete information pattern as a preformat such as M ⁇ and MD (magneto-optical disk), and a guide for tracking.
  • Various types have been proposed, such as writable optical disks with grooves (groups) formed in advance.
  • the manufacturing process of such various optical discs generally includes a process of producing a metal master called a stamper having a surface shape according to a desired concavo-convex pattern such as pits and groups (master manufacturing process), and the surface of the stamper.
  • An optical disc is manufactured by a molding process of transferring a shape onto a disc substrate and a film forming process of forming a predetermined recording layer and a protective layer.
  • a glass substrate whose surface has been polished is washed and dried, and then a photoresist, which is a photosensitive material, is applied to the glass substrate, and a light beam such as a laser beam is applied to the photoresist.
  • a method of exposing a pit or groove pattern by irradiation is generally used.
  • a concavo-convex pattern corresponding to the three-dimensional pit-and-pad pattern is formed on the photoresist, which is then transferred to the metal surface by an electrode. Then, a stamper is manufactured.
  • Such a method of recording a concavo-convex pattern by light beam exposure requires that a predetermined pattern be faithfully transferred to the surface of the photoresist in the order of submicrons.
  • a technology has been proposed in which the groove-shaped groups themselves are used as recording tracks.
  • the optimum pit width and group width differ depending on the type.
  • the master for optical recording medium manufacturing is manufactured by the master manufacturing process described above, the exposure beam The pit width divided by the group width is determined by the spot diameter.
  • an exposure apparatus having a schematic configuration as shown in FIG. 5 has been used.
  • This exposure apparatus uses a gas laser light source 101 using gas as an amplifying medium, such as a He—Cd laser, and a laser beam 102 emitted from the gas laser light source 101 as an optical system in the subsequent stage.
  • a beam condensing lens 104 for condensing (reducing) the laser beam 102 guided through the mirror 103, and supplying the laser beam modulated based on the recording signal.
  • An AOM (Acousto Optical Modulator) 105 that modulates the light intensity of the beam under the control of the driver 115 according to the ultrasonic wave to be transmitted, and its A ⁇ M 1
  • a beam diameter adjusting lens 106 that expands or contracts the beam diameter of the laser beam 102 whose intensity is modulated by 05, and reflects a beam emitted from the beam diameter adjusting lens 106 and traveling straight as a parallel beam.
  • the movable optical table 108 is provided with a third lens 109, a mirror 110, and an objective lens 111.
  • the third lens 109 forms a beam of laser light 102 on the incident-side light-collecting surface 113 formed at a position conjugate with the image-forming light-collecting surface 111 of the objective lens 111. It is arranged at a position where light is collected.
  • the exposure beam is applied to the photoresist film 114 via the third lens 109, mirror 110, and objective lens 111 of the moving optical table 108.
  • the focal length of the beam diameter adjusting lens 106 or the third lens 109 is changed between the gas laser light source 101 and the objective lens 111, and the objective lens 111 is formed of a photoresist film.
  • the spot diameter of the exposure beam is changed by re-adjusting the effective numerical aperture NA for the objective lens 111 so that the exposure beam is focused on the surface of 114.
  • NA effective numerical aperture
  • the optical recording device has one laser light source 201 on the same optical axis and a beam of laser light 202 emitted from the laser light source 201.
  • a moving optical table 208 having a 207 is provided.
  • the laser light 202 emitted from the laser light source 201 goes straight as a parallel beam, and is reflected (S-polarized) 209 and transmitted light (S-polarized) 210 by the beam splitter 203. And divided into The passing light 210 is reflected by the reflecting mirror 204 and guided to the beam relay optical system 206, and the reflected light 209 is guided to the beam relay optical system 205 as it is.
  • the transmitted light 210 is condensed on the AOM 212 by the condenser lens 211 in the beam relay optical system 206.
  • a ⁇ M 2 12 2 is controlled by the driver 2 14 to modulate the intensity of the beam of the passing light 2 10.
  • the beam intensity-modulated by A ⁇ M 2 12 is converted into a P-polarized beam by the lens 2 13.
  • the parallel beam is polarized by the ⁇ 2 polarizer 2 15 to become an S-polarized parallel beam 2 16.
  • the reflected light 209 is converted into an S-polarized parallel beam 2 2 by a beam relay optical system 205 including a condenser lens 217, a driver 218, a ⁇ ⁇ ⁇ 219, and a lens 220. Becomes 1.
  • the parallel beam 2 16 is reflected by the mirror 2 22, and the parallel beam 2 2 1 is reflected by the mirror 2 2 3 and guided to the moving optical table 208 horizontally and parallel.
  • the parallel beam 216 passes through the PBS 207 as it is.
  • the parallel beam 221 is reflected by the mirror 224, its traveling direction is changed by 90 °, guided to the PBS 207, reflected inside the PBS 207, and reflected by the lens 222.
  • the light is aligned on the optical axis of the objective lens 226 through the mirror 5 and the reflection mirror 227. In this way, the two parallel beams 216 and 221 incident on the PBS 207 are synthesized by the PBS 207.
  • the reflection surface of the PBS 207 is set so that the traveling direction of the emitted laser beam forms an appropriate reflection angle, the laser beam emitted from the PBS 207 passes through the objective lens 226.
  • the spots of the two parallel beams 216 and 221 are sensitive to the photoresist film 228.
  • Light is condensed at positions shifted by about the resolution, and pits are exposed almost at the center in the radial direction between dubs.
  • a pit having a U-shaped cross section and a warping group whose groove is shallower than the depth of the pit include: It has been confirmed that this is a promising technology that can cope with high density to realize the increase in the recording capacity.
  • DVDs are set so that recording is performed on a flat area such as the bottom of a groove or the top of a land in a group, where a predetermined recording signal amount can be secured, and the recording is performed. It has been confirmed that effective recording and reproduction of information is possible even if the part to be used is located in a relatively shallow place.
  • the pit 301 is exposed to the photoresist film 302 sufficiently deeply. Since the exposure is performed so as to reach the surface of 3, the cross-section becomes a U-shaped deep hole having a flat bottom surface 304.
  • the amount of exposure for exposing the photoresist film 302 must be reduced during the fabrication of an optical recording medium master, Exposure is stopped at a shallow point in the middle of the resist film 302 without reaching a depth in the thickness direction of the resist film 302.
  • the three-dimensional pattern of the shallow group 305 obtained by developing the latent image formed as a result has a V-shaped groove in cross-section, and a width of 300 ((a disk-shaped substrate 305
  • the radial recording width W g is about half or less than the width W p of the pit 301, and the optical recording medium manufactured from such a master is extended.
  • the present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide an optical disk capable of high-density recording in which a group having a U-shaped cross-section that is shallower than a pit and has a predetermined width or more is formed.
  • An object of the present invention is to provide a recording medium, a master for manufacturing an optical recording medium used for manufacturing the optical recording medium, a manufacturing apparatus and a manufacturing method for manufacturing the master for manufacturing the optical recording medium. Disclosure of the invention
  • the optical recording medium according to the present invention is an optical recording medium in which a groove-shaped group and a plurality of pits arranged discretely in a circumferential direction are formed on a substrate having a disk-shaped or polygonal shape, for example.
  • the depth of the groove is smaller than the depth of the pit, and the cross section of the groove is formed in a U-shape.
  • the master for producing an optical recording medium according to the present invention is provided with a groove-shaped group and a An optical recording medium manufacturing master used for manufacturing an optical recording medium in which a plurality of pits arranged discretely are formed, wherein the group of optical recording media has a groove depth of The groove is shallower than the depth of the groove, and the groove has a U-shaped cross section.
  • An apparatus for manufacturing a master for manufacturing an optical recording medium according to the present invention is used for manufacturing an optical recording medium having a groove-shaped group and a plurality of pits arranged discretely in a circumferential direction on a substrate.
  • An apparatus for manufacturing a master for manufacturing an optical recording medium comprising: a first beam splitter that splits one exposure beam supplied from a light source into two beams; and performs pit modulation on one of the split beams.
  • a wobble deflecting means for deflecting light for warping, a second beam splitter for dividing the beam deflected for warping into a plurality of exposure beams, and A plurality of exposure beams are arranged by a polarizing beam splitter so as to be arranged in a predetermined width in the radial direction of the master for optical recording medium production, and the spot is more spotted in the radial direction of the master for optical recording medium production than the one exposure beam described above.
  • a latent image for forming a group with a U-shaped cross section and a shallower groove than the depth of the pit is produced. It has group exposure means for exposing on the surface of the master disc.
  • another apparatus for manufacturing an optical recording medium master is an optical recording medium manufacturing master used for manufacturing an optical recording medium having at least a groove in a substrate.
  • a wobble polarization means for applying light deflection for wobbling to one exposure beam supplied from the light source, and a beam for splitting the beam deflected for warping into a plurality of exposure beams.
  • a single beam splitter and its plurality of exposure beams are arranged by a polarizing beam splitter so as to be arranged at a predetermined width in a radial direction of an optical recording medium manufacturing master, and the light beam is used for manufacturing an optical recording medium more than the one exposure beam described above.
  • Group exposure means for exposing the surface of the medium production master to is there.
  • the method of manufacturing a master for manufacturing an optical recording medium according to the present invention is used for manufacturing an optical recording medium having a groove-shaped group and a plurality of pits arranged discretely in a circumferential direction on a substrate.
  • a method for manufacturing a master for manufacturing an optical recording medium wherein one exposure beam supplied from a light source is split into two beams by a first beam splitter, and one of the split beams is subjected to pit modulation, and The latent image for forming pits is exposed by irradiating the surface of the master for recording medium production, and the other divided beam is subjected to light deflection for ⁇ orbiting.
  • the beam is divided into a plurality of exposure beams by a splitter, and the plurality of exposure beams are arranged by a polarizing beam splitter so as to be arranged at a predetermined width in a radial direction of an optical recording medium manufacturing master, and the above-mentioned one exposure is performed.
  • another method of manufacturing an optical recording medium master is directed to a method of manufacturing an optical recording medium manufacturing master used for manufacturing an optical recording medium having at least a groove in a substrate. Then, after subjecting one exposure beam supplied from the light source to light deflection for the orbit, the beam is split into a plurality of exposure beams by beam splitting, and the plurality of exposure beams are converted into light by a polarization beam splitter. It is arranged so as to be arranged at a predetermined width in the radial direction of the recording medium production master, and spots on the surface of the optical recording medium production master in the radial direction of the optical recording medium production master more than the above one exposure beam. By irradiating a wide exposure beam, a latent image for forming a group having a U-shaped cross section is exposed on an optical recording medium manufacturing master.
  • one exposure beam supplied from the light source is warped. After the light is deflected, the beam is divided into a plurality of exposure beams, and the plurality of exposure beams are arranged so as to be arranged at a predetermined width in a radial direction of the master for manufacturing an optical recording medium.
  • the latent image for forming a group with a U-shaped cross section is optically recorded.
  • the latent image is developed to obtain an optical recording medium manufacturing master having a group of masters having a U-shaped cross section. Then, using the optical recording medium manufacturing master, an optical recording medium having a groove in which the depth of the groove is smaller than the depth of the pit and the cross-sectional shape of the groove is U-shaped is manufactured. .
  • the ratio of the width of the bottom surface to the width of the opening in the U-shaped groove is desirably set to 17% or more.
  • the present invention is not limited to this, and the ratio of the width of the bottom surface to the width of the opening in the U-shaped groove may be set to less than 17% depending on the format of the optical recording medium.
  • the wavelength of light for reproduction (reading) or recording (writing) is ⁇
  • the present invention is not limited to this.
  • the group in the case of a conventional group obtained by irradiating a single exposure beam, the group has almost no substantially flat bottom surface and a V-shaped or V-shaped valley in cross section.
  • the plurality of exposure beams are arranged so as to be arranged at a predetermined width in the radial direction of the master for producing the optical recording medium, and the spot width is wider than the one exposure beam described above. Irradiates the optical recording medium manufacturing master with an exposure beam that is wide in the radial direction of the optical recording medium manufacturing master, so that the cross-sectional shape of the group becomes a U-shaped groove, and the bottom surface of the group is substantially It can be made flat.
  • the width of the flat bottom surface can be changed variously by adjusting the center distance between the multiple exposure beams, such as 17% or more of the width of the aperture as described above.
  • the number of beams arranged in the radial direction of the optical recording medium manufacturing master may be two, three, or even more if necessary.
  • FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an optical recording device used in a process of manufacturing an optical recording medium master according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows a schematic configuration of an optical recording device used in a process of manufacturing an optical recording medium master according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing a glass master for producing an optical recording medium manufactured by the optical recording apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 4 is a diagram schematically showing a glass master for producing an optical recording medium manufactured by the optical recording device according to the second embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional exposure apparatus that records a pattern such as a pit of an optical recording medium such as a CD or an LD with one exposure beam.
  • FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional exposure apparatus that records a pit group by two exposure beams.
  • FIG. 7 is a diagram schematically showing a glass master for manufacturing an optical recording medium manufactured by a conventional technique.
  • FIG. 1 shows an optical recording apparatus (production of an optical recording medium production master) used in a process of producing an optical recording medium master (optical recording medium production master) according to the first embodiment of the present invention.
  • the optical recording medium according to the present embodiment has a main concavo-convex pattern formed on the surface thereof using an optical recording medium manufacturing master produced by the optical recording apparatus.
  • the main part of the method of manufacturing a master for a recording medium is embodied by the operation of the optical recording device, and the following description will also refer to them together.
  • This optical recording device is used for forming a so-called stamper (a master for producing an optical recording medium) for transferring a desired concavo-convex pattern onto the surface of a disk substrate in an optical disk manufacturing process.
  • the first exposure beam (parallel beam 16) for exposing the laser beam 13 emitted from the laser light source 1 to the pit pattern and the pattern of the wobbled double beam (wobbling group) are used.
  • a second exposure beam for exposure
  • the second exposure beam is further split into two exposure beams 61 and 62, which are directed in the radial direction of the disc-shaped optical recording medium production master.
  • the exposure film 10 By irradiating the photoresist film 12 of the master for producing an optical recording medium with an exposure beam 10 arranged in a width (interval) and having a spot width enlarged in the radial direction, the exposure film 10 becomes shallow and has a U-shaped cross section after development. It forms a latent image so that a letter-shaped wobbling group can be obtained.
  • This optical recording device includes a laser light source 1, a first modulation optical system (hereinafter, referred to as a first ⁇ M) 2, a second modulation optical system (hereinafter, referred to as a second OM) 3, It has a moving optical table 4 and a ⁇ / 2 polarizer 9 as its main parts, and further has a beam splitter 5 and a micro-beam for guiding a laser beam 13 on the optical axis between them. And exposure light beam 10 is set so that the photoresist film 12 on the master glass substrate 11 is finally irradiated.
  • the laser light source 1 is not particularly limited to this, and it goes without saying that the laser light source 1 may be appropriately selected and used.
  • the laser beam 13 emitted from the laser light source 1 travels straight as a parallel beam, and is split by the beam splitter 5 into reflected light (beam 14) and passing light (beam 15).
  • the beam 14 reflected by the beam splitter 5 is guided to the second OM3.
  • the beam 15 that has passed through the beam splitter 5 is reflected on the surface of the mirror 16 and guided to the first OM 2.
  • the beam 15 is focused on a first AOM (Acousto Optical Modulator) 21 by a condenser lens 22.
  • the laser light that has been intensity-modulated by the first AOM 21 and diverged becomes a parallel beam 16 by the lens 23.
  • the beam 14 is condensed on the second AOM 31 by the condenser lens 32, and the laser light which is intensity-modulated by the second A ⁇ M 31 and diverges become.
  • the parallel beam 16 emitted from the first OM2 is reflected by the mirror 7 and The light becomes ⁇ -polarized light through the ⁇ / 2 polarizing plate 9 and is guided horizontally and parallel to the moving optical table 4.
  • the parallel beam 17 emitted from the second # 3 is reflected by the mirror 8 and guided to the moving optical table 4 in a horizontal and parallel manner.
  • the moving optical table 4 includes a first PBS (polarizing beam splitter) 41, an AOD (Acousto Optical Deflector; acousto-optical deflector) 42, an edge prism 43, 44, a beam splitter 45, a mirror 46, 50, A second PBS 47, a ⁇ / 2 polarizer 48, a lens 49, and an objective lens 51 are provided as main parts.
  • the AOD 42 is controlled and driven by a VC ⁇ (Voltage Controlled Oscillator) 53 and a driver 52 based on an externally supplied timing signal of 140.7 kHz. Is set to
  • the parallel beam 16 emitted from the first ⁇ M 2 and guided to the moving optical table 4 passes through the first PBS 41, the ⁇ / 2 polarizing plate 48, the lens 49, and passes through the mirror 50.
  • the light is reflected, condensed by the objective lens 51, and irradiated on the photoresist film 12 as an exposure beam for forming a latent image of the pit.
  • the parallel beam 17 emitted from the second ⁇ 3 and guided to the moving optical table 4 is optically deflected by the A ⁇ D 42 and then reflected by the beam splitter 45. Then, the traveling direction is bent 90 degrees, and is incident on the first PBS 41.
  • the parallel beam 17 transmitted through the beam splitter 45 is reflected by the mirror 46, the traveling direction is bent 90 degrees, and is incident on the second PBS 47.
  • the parallel beam 17 is optically deflected so that the group forms a wobble and a wobbling loop. That is, the parallel beam 17 emitted from the second OM 3 and incident on the AOD 42 is incident on the AOD 42 via the edge prism 43, and the AOD 42 corresponds to the exposure pattern. Is subjected to optical deflection.
  • the parallel beam 17 optically deflected by the AOD 42 is emitted through the edge prism 44.
  • the ⁇ edge prisms 43 and 44 are set so that the parallel beam 17 is incident so as to satisfy the Bragg condition with respect to the lattice plane as the acousto-optic element of the AOD 42. Also with it, by AOD 42 The horizontal height of the parallel beam 17 is set not to change even if the parallel beam 17 is subjected to optical deflection.
  • ⁇ the edge prism 43, AOD42, ⁇ the edge prism 44 is such that the lattice plane of the acousto-optic element of the AOD 42 satisfies the Bragg condition with respect to the parallel beam 17 and the parallel beam 17 emitted from the AOD 42 Are arranged so that the horizontal height does not change.
  • the AOD 42 is set so that its driving is controlled by the driver 52.
  • a high frequency signal from the VCO 53 is supplied to the driver 52 by a sine wave control signal.
  • a signal corresponding to the pattern is input from the VCO 53 to the driver 52, and the AOD 42 is driven by the driver 52 according to the signal, whereby the parallel beam 17 is optically deflected.
  • a high frequency signal having a center frequency of 224 MHz is converted to a frequency of 140.7 kHz.
  • a signal phase-modulated by the control signal is supplied from the VCO 53 to the driver 52. Based on this signal, the driver 52 drives the AOD 42, and changes the Bragg angle of the acousto-optic element of the AOD 42, so that the parallel beam 17 corresponds to the wobbling at the frequency of 140.7 kHz. Is subjected to optical deflection.
  • the parallel beam 17 optically deflected by the AOD 42 so as to correspond to the wobbling of the wobbling group is reflected by the beam splitter 45 to have a traveling direction of 90 as described above. It is bent at an angle and enters the first PBS 41 (hereinafter, for convenience, this is referred to as a 2-1st exposure beam 61).
  • the parallel beam 17 transmitted through the beam splitter 45 is reflected by the mirror 46, the traveling direction is bent by 90 degrees, and is incident on the second PBS 47 (hereinafter, referred to as a 2-2 exposure beam 62). ).
  • the 2-1st exposure beam 61 is reflected by the first PBS 41 and passes through the ⁇ / 2 polarizer 48 and the second PBS 47.
  • the second-second exposure beam 62 is reflected by the second PBS 47.
  • the 2-1 exposure beam 61 and the 2-2 exposure beam 62 are recombined together with the parallel beam 16 by the second PBS 47 so that the traveling directions are the same.
  • the 2-1 The 2-2 exposure beams 62 are arranged such that their optical axes are arranged at a predetermined distance. As a result, as schematically shown in FIG. 3, the width of the spot formed by combining these beams can be increased, and the exposure amount by the beam is appropriate for forming a shallow groove. It can be.
  • a master was manufactured that had a three-dimensional pattern of a warping group 80 and a three-dimensional pattern of a pit 90 to form a warping group with a shallow groove and a U-shaped cross section. Further, using the master, an optical recording medium provided with a wobbling groove having a shallow groove and a U-shaped cross section can be manufactured. Since the parallel beam 16 is emitted from the second PBS 47 and is used to expose the pit pattern 90, the first PBS 47 and the subsequent beams are used to expose the pit pattern 90. Call it 60. When the spot for exposing the pits of the first exposure beam 60 is recombined as described above, the 2-1 exposure beam 61 and the 2-2 exposure beam 62 are added up. The spots are arranged separately from the spots of the wobbling group so that their optical axes are arranged at a predetermined distance from the spots of the wobbling group.
  • the recombined 2-1 exposure beam 61 and 2-2 exposure beam 62 are given predetermined beam diameters by a lens 49, which is a magnifying lens, and then by a mirror 50.
  • the light is reflected and guided to the objective lens 51, and the photoresist film 12 is irradiated by the objective lens 51.
  • the photoresist film 12 is exposed to form a latent image.
  • the glass substrate 11 coated with the photoresist film 12 is rotated by a rotation driving device (shown in FIG. 1) so that desired patterns 80 and 90 are exposed over the entire surface of the photoresist film 12.
  • the first PBS 41 and the second PBS 47 are set to reflect S-polarized light and transmit P-polarized light. Further, the parallel beam 16 emitted from the first OM 2 is rotated by 90 degrees by passing through the ⁇ 2 polarizing plate 9 and becomes ⁇ ⁇ ⁇ -polarized light, and further the polarization direction is rotated by the ⁇ 2 polarizing plate 48. ⁇ becomes polarized light.
  • the parallel beam 17 that has been optically deflected so as to be warped by the AOD 42 is split by the beam splitter 45 into a 2-1 exposure beam 61 and a 2-2 exposure beam 62 as described above. Then, the second PBS 47 re-synthesizes the optical axes so as to be parallel to each other at a predetermined interval.
  • the 2-1 exposure beam 61 is S-polarized light, is reflected by the first PBS 41, is rotated (rotated) by the ⁇ / 2 polarizer 48, and the ⁇ -polarized light component is transmitted therethrough. It is incident on PB S 47.
  • the 2-2 exposure beam 62 is S-polarized light and is reflected by the second PBS 47. At this time, it is recombined with the 2_1 exposure beam 61 in parallel to the optical axis direction. You.
  • the 2-1 second exposure beam 61 and the 2-2 exposure beam 62 re-combined in the optical axis direction change the radius of the photoresist film 12 by changing the angle of the second PBS 47.
  • the transmission light of the 2-1 exposure beam 61 is adjusted by adjusting the rotation of the ⁇ 2 polarizing plate 48 so that the beam intensity is the same.
  • the numerical aperture ⁇ of the objective lens 51 is set to 0.9.
  • a control signal is supplied to the first # 21 and the second AOM 31 from an input terminal (not shown).
  • the control signal is an EFM + (8-16 modulation) signal in the case of the first ⁇ 21 forming a pit, and the laser light is intensity-modulated (ONZOFF) by the EFM + signal.
  • EFM + 8-16 modulation
  • the laser light is intensity-modulated (ONZOFF) by the EFM + signal.
  • a DC signal of a constant level is obtained.
  • the optical recording apparatus of the first embodiment and the manufacturing method thereof are further modified to expose the pattern 80 of the warping group.
  • Beam, the second exposure beam to perform 17 are referred to as three exposure beams (the two-first exposure beam 61, the second-two exposure beam 62, and the second-third exposure beam 63) by the beam splitters 45 and 71 and the mirror 46. ) And combine them so that their optical axes are arranged at predetermined intervals in the radial direction.
  • the spot width of the exposure beam 70 for exposing the warping group by being finally irradiated on the photoresist is enlarged, and a latent image of a U-shaped shallow warping group is formed.
  • FIG. 2 shows a schematic configuration of an optical recording device used in a process of manufacturing an optical recording medium master according to a second embodiment of the present invention.
  • parts that are the same as in FIG. 1 are given the same reference numerals for simplicity of illustration and description.
  • the parallel beam 17 optically deflected so as to warp at the AOD 42 is formed by the beam splitter 45 and the beam splitter 71. It is divided into three beams, the 2nd-1st exposure beam 61, the 2nd-2nd exposure beam 62, and the 2nd-3rd exposure beam 63. As shown, they are recombined by the second PBS 47 and the third PBS 72 to form a shallow warp ring group with a U-shaped cross section with an enlarged bottom width as schematically shown in Fig. 4. In order to form a latent image of the three-dimensional pattern 80 on the photoresist film 12, an exposure beam having a wide spot width and a reduced exposure amount is formed.
  • the 2-1st exposure beam 61 is S-polarized light, is reflected by the first PBS 41, is rotated (rotated) in the polarization direction by the ⁇ 2 polarizer 48, is transmitted as ⁇ -polarized light, and is transmitted.
  • the 2-2 exposure beam 62 and the 2-3 exposure beam 63 are S-polarized, and are reflected by the second PBS 47 and the third PBS 72, respectively, and re-exposed by the third PBS 72. Synthesized.
  • the re-combined 2_1 exposure beam 61, the 2-2 exposure beam 62, and the 2-3 exposure beam 63 form a second PB S47 and a third PB S
  • the angle of 72 it is possible to adjust the width of the spot formed by combining the photoresist film 12 when it is irradiated.
  • the rotation of the ⁇ 2 polarizer 48 to adjust the transmitted light of the 2-1 exposure beam 61 in the first PBS 41 and the second ⁇ BS 47, the beam intensity is the same. To be It is possible to
  • an optical recording medium conforming to a format suitable for DVD-RW, etc. has a pit and a wobbling group having a shallow groove, a U-shaped cross section, and a wide bottom surface.
  • a recording medium can be realized. If various exposure conditions such as the wavelength of the laser beam and the photosensitive characteristics of the photoresist, and the required conditions such as the depth of the groove of the warping group are the same, three exposure beams as in the second embodiment or even three exposure beams are used. By arranging a number of exposure beams side by side, the width of the bottom surface is wider than in the case where the latent image of the wobbling groove is exposed by combining two exposure beams as shown in the first embodiment. Groups can be formed, and the flatness of the bottom surface can be further improved.
  • an optical recording medium manufacturing master having pits and a three-dimensional pattern 80 corresponding to a shallow U-shaped warping group is mounted on the optical recording apparatus according to the second embodiment. It produced using it.
  • a disk-shaped glass substrate 11 whose surface was polished was washed and dried, and then a photoresist film 12 as a photosensitive material was applied onto the glass substrate 11.
  • the photoresist film 12 was exposed by an optical recording device to form a pit and a shallow U-shaped latent image of a warping group on the photoresist film 12.
  • the laser light source 1 a Kr laser light source that emits laser light having a wavelength ⁇ of 351 nm was used.
  • the objective lens 51 used had a numerical aperture NA of 0.9.
  • the lens 49 for beam expansion a lens having a focal length of 80 mm was used.
  • a latent image of the mask is formed on the photoresist film 12, and the photoresist film 1 2 is formed by the second—first exposure beam 61, the second—second exposure beam 62, and the second—third exposure beam 63.
  • a shallow U-shaped latent image of a warping group is formed on the photoresist film 12 by exposing the substrate.
  • the glass substrate 11 on which the photoresist film 12 is applied is rotated at a predetermined rotation speed.
  • the moving optical table 4 is moved in parallel with the photoresist film 12 at a predetermined speed.
  • the rotation speed of the glass substrate 11 is set to a linear speed of 3.49 mZs where the relative movement speed between the light spot by the first exposure beam 60 and the photoresist film 12 is constant.
  • the optical table 4 moves 0.74 rn (that is, the track pitch) for each rotation of the glass substrate 11, and translates in the radial direction relative to the glass substrate 11. I did it.
  • the second exposure beam 62 is subjected to light intensity modulation by the second ⁇ M 3 and optically deflected by the AOD 42 as described in the second embodiment.
  • the shallow U-shaped wobbling group is a continuous groove of a constant depth, while forming a latent image corresponding to the shallow U-shaped wobbling group, the parallel beam 17
  • the light intensity modulation by the second OM 3 is continued so that the light intensity becomes constant.
  • the parallel beam 17 is optically deflected by the AOD 42.
  • a control signal obtained by modulating a high-frequency signal based on a timing control signal is supplied from the voltage controlled oscillator VCO 53 to the driver 52, and the driver 52 generates an AOD based on the control signal.
  • the parallel beam 17 is optically deflected by changing the Bragg angle of the acousto-optic element by driving the element 42.
  • a high-frequency signal having a center frequency of 224 MHz is FM-modulated based on a timing control signal having a frequency of 14.7 kHz to obtain a control signal.
  • the synthesized spot of the exposure beam 70 focused on the photoresist film 12 has a frequency of 14.7 kHz and an amplitude of 10 nm.
  • the substrate is vibrated in the radial direction of the glass substrate 11, and optical deflection is performed so that planar tracking of the group pattern 80 exposed on the photoresist film 12 wobble 7.
  • the parallel beam 17 subjected to the light intensity modulation and the optical deflection in this manner is converted into the second—first exposure beam 61 and the second—second exposure beam 62 by the beam splitter 45 and the beam splitter 71.
  • the exposure beam 70 obtained by the re-synthesis is adjusted in the spot diameter by the lens 49, reflected by the mirror 50 and changed in the traveling direction by 90 degrees, and the photoresist film 1 is changed by the objective lens 51. Focused on 2 As a result, a latent image corresponding to a U-shaped warping group having a shallow cross section was formed on the photoresist film 12.
  • rotating the glass substrate 11 on which the photoresist film 12 is applied at a predetermined rotation speed and moving the glass substrate 11 in parallel at a predetermined speed are as described above.
  • the rotation speed of the glass substrate 11 the relative speed between the exposure beam 70 (in other words, the moving optical table 4) and the photoresist film 12 is determined.
  • the typical moving speed was set to a linear speed of 3.49 m / s.
  • the moving optical table 4 was moved in the radial direction of the glass substrate 11 by 0.7 corresponding to the track pitch for each rotation of the glass substrate 11.
  • the power of the first exposure beam 60 for recording pits when exposing the photoresist film 12 is 2.0 OmW
  • the power for recording shallow U-shaped warping grooves is 2.0 OmW
  • the power of the parallel beam 17 as the second exposure beam is set to 2.0 mW when using two beams of the 2-1 exposure beam 61 and the 2-2 exposure beam 62.
  • the power was set to 3.0 mW.
  • the glass substrate 11 is placed on a turntable of a developing machine (not shown) so that the surface on which the photoresist film 12 is coated is the upper surface. Place on. Then, while rotating the glass substrate 11 together with the turntable, a developing solution is dropped on the photoresist film 12 to perform a development process, and a deep pit and a U-shaped cross section having a small cross section are formed on the glass substrate 11. An uneven pattern corresponding to the coupling groove was formed.
  • a conductive film made of Ni or the like is formed on the concavo-convex pattern by an electric fieldless plating method. Thereafter, the glass substrate 11 on which the conductive film is formed is mounted on an electric device, and the electric plating method is performed. Thus, a plating layer made of Ni or the like was formed on the conductive film so as to have a thickness of about 300 ⁇ 5 m. Thereafter, the plating layer was peeled off, and the peeled plating was washed with acetone or the like to remove the photoresist film 12 remaining on the surface to which the concave / convex pattern was transferred.
  • the master for optical recording medium production consisting of the transfer pattern of the concavo-convex pattern formed on the glass substrate 11, that is, the concavo-convex pattern corresponding to the deep pits and the shallow U-shaped warping group
  • a master for manufacturing optical recording media (so-called stamper) on which is formed is completed.
  • This master for producing optical recording media is a master for producing optical recording media used when manufacturing an optical disc having a U-shaped wobbling groove having a shallow cross-section along a recording track formed in a spiral shape. is there.
  • a disk substrate was prepared by transferring the concavo-convex pattern on the surface of the optical recording medium manufacturing master as described above by a photopolymer method (so-called 2P method).
  • a photopolymer is applied smoothly on the surface of the master for producing an optical recording medium on which the concavo-convex pattern has been formed to form a photopolymer layer.
  • the base plate was brought into close contact with it so that it did not enter.
  • a 0.6 mm thick base plate made of polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49) was used as the base plate.
  • the photopolymer is cured by irradiating ultraviolet rays.
  • a disk substrate on which the surface shape of the master for optical recording medium production was transferred was obtained.
  • the disk substrate was manufactured using the 2P method so that the concave and convex pattern formed on the optical recording medium manufacturing master could be more reliably transferred to the disk substrate, but the disk substrate was mass-produced.
  • the disc substrate may be manufactured by injection molding using a transparent resin such as polymethyl methacrylate or polycarbonate.
  • a recording layer and a protective layer were formed on the disk substrate on which the surface shape of the optical recording medium manufacturing master was transferred.
  • a first dielectric film made of SiN or the like, a phase change recording film made of a GeSbTe alloy or the like on a surface of the disk substrate on which the concavo-convex pattern is formed A second dielectric film made of SiN or the like is sequentially formed by sputtering, and a light reflection film made of A1 or the like is formed on the second dielectric film to form the first dielectric film.
  • a recording layer including a dielectric film, a phase change recording film, a second dielectric film, and a light reflection film was formed.
  • a UV curable resin was applied on the recording layer by a spin coating method, and the UV curable resin was irradiated with ultraviolet rays to be cured, thereby forming a protective layer.
  • a phase-change optical disc was completed.
  • the width and depth of the pit, the shallow U-shape The width of the opening, the width of the bottom surface, and the depth of the groove of the wobbling group were measured with an atomic force microscope (Atomic Force Microscope: AFM).
  • the stamper A converts the wobbling loop pattern 80 into two beams, ie, the 2-1 exposure beam 61 and the 2-2 exposure beam 62. Exposure was performed with an exposure beam 10 recombined. As a result of measurement of the stamper A, the pit had a depth of 80 nm, an opening width (upper width) of 320 nm, and a bottom width (lower width) of 210 nm. The warping group has an opening width of 390 nm and a bottom width of 15 O nm. The depth to the bottom of the groove was adjusted to 21 nm, 31 nm, and 42 nm by adjusting the power of the exposure beam 10.
  • the stamper B forms the wobbling loop with the 2-1 exposure beam 61, the 2-2 exposure beam 62, and the 2_3 exposure beam 63.
  • the three beams were re-combined and exposed with an exposure beam 70.
  • the pit had a depth of 81 nm, an opening width (upper width) of 320 nm, and a bottom width (lower width) of 200 nm.
  • the coupling group has an opening width of 520 nm and a bottom surface width of 280 nm.
  • the depth of the groove to the bottom surface is controlled by adjusting the power of the exposure beam 70. nm, 29 nm, and 39 nm.
  • an optical disk 8 and an optical disk B for evaluation were respectively manufactured and evaluated.
  • the bottom surfaces of the shallow U-shaped warping groups of the optical discs A and B are formed wide as shown in the above-described embodiment, and the push-pull signal amount is sufficient.
  • the push-pull signal amount is sufficient.
  • the jitter during recording / reproducing of a shallow U-shaped wobbling group is 7.3 to 7.8% for optical disc A and 7.3 for optical disc B, even if the groove depth of the warping group is changed. It was 1 to 7.5%.
  • an optical disc was manufactured using a master disc which was exposed to a shallow warping group pattern 80 with a narrow spot diameter using only the 2-1st exposure beam 61 alone. went.
  • the cross-sectional shape of the master warp ring group became a shallow V-shape, and the width of such a bottom surface was almost zero.
  • the width of the opening of the warping group was about 320 nm, but the width of the bottom surface was substantially 0 nm. I could not get the quantity.
  • the width of the bottom of the groove of the wobbling group is preferably 50 nm or more, and the ratio of the width of the bottom to the opening width is 17% or more. It is presumed that it is desirable to set However, it goes without saying that the specifications of the warping group are not limited to this.
  • the present invention is widely applicable to an optical recording medium having a pit and a U-shaped warping group having a shallow cross-sectional shape, and an optical recording medium manufacturing master used for manufacturing the optical recording medium.
  • the optical recording medium to which the present invention is applied is, for example, a read-only optical recording medium, an optical recording medium on which data can be repeatedly written, or an optical recording medium on which data can be additionally written but cannot be erased. Both are possible.
  • the data recording method in the optical recording medium is not particularly limited.
  • the optical recording medium to which the present invention is applied include a read-only optical recording medium in which data is written in advance, a magneto-optical Magneto-optical recording medium that records and reproduces data using the effect, or records and reproduces data using the phase change of the recording layer Any of phase change type optical recording media and the like is possible.
  • the present invention is not limited to recombining two beams or three beams, and it is possible to arrange four beams or five beams side by side by adding PBS. .
  • one beam is swung in the radial direction of the master with a predetermined amplitude and period to form a pseudo (apparent) wide spot in the radial direction of the master, thereby having a predetermined bottom width.
  • a latent image of a warping group may be formed.
  • the present invention is applicable not only to an optical recording method or an optical recording device, but also to a signal recording system or a device or a system or a device having both functions.
  • the group is formed such that the depth of the groove is smaller than the depth of the pit, and the cross-sectional shape of the groove is U-shaped. Therefore, there is an effect that a sufficient amount of a servo signal or a push-pull signal can be obtained at the time of reproduction or the like. In addition, it is possible to suppress variations in the distribution of the groove depths of the group, and as a result, it is possible to ensure uniform recording / reproducing characteristics.
  • the optical recording medium manufacturing master manufacturing apparatus of the present invention or the optical recording medium manufacturing master of the present invention, one exposure supplied from the light source is provided. After deflecting the beam for wobbling, the beam is divided into a plurality of exposure beams, and the plurality of exposure beams are arranged so as to be arranged at a predetermined width in a radial direction of the master for producing an optical recording medium.
  • Optical record manufactured using a master for manufacturing The recording medium group can be formed as a shallow groove having a U-shaped cross section and a flat bottom surface having a predetermined width.
  • Light deflection for wobbling into one exposure beam supplied from the light source After that, it is divided into a plurality of exposure beams, and the plurality of exposure beams are arranged so as to be arranged at a predetermined width in a radial direction of the optical recording medium manufacturing master, and the above-described optical recording medium
  • An exposure beam with a wide spot width is formed in the radial direction of the production master, so that the multiple exposure beams are out of phase or interfere with each other when finally irradiating the optical recording medium production master.
  • Predetermined width with a U-shaped flat cross-section without causing various inconveniences such as, for example, warping and polarization conditions differing between the plurality of exposure beams and disturbing the table. It is possible to reliably and easily form a warping group having a bottom surface and a shallow groove. In addition, by realizing such an orbiting group having such a shallow groove and a predetermined width on the bottom surface, it is possible to further improve the recording density.

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Description

明細書 光記録媒体、 光記録媒体製造用原盤、 光記録媒体製造用原盤の製造装置、 光記録 媒体製造用原盤の製造方法 技術分野
本発明は、 光記録媒体、 その光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒 体製造用原盤、 さらにはそれを製造するための光記録媒体製造用原盤の製造装置、 および光記録媒体製造用原盤の製造方法に関する。 背景技術
光記録媒体は、 C D (コンパクトディスク） や L D (レーザディスク） 等の再 生専用型の光ディスク、 M〇および M D (光磁気ディスク） のようなプリフォー マットとしての離散的情報パターンやトラッキング用の案内溝 （グループ） が予 め形成された書き込み可能な光ディスクなど、 各種のものが提案されている。 このような各種光ディスクの製造プロセスは、 一般に、 ピットやグループ等の 所望の凹凸パターンに応じた表面形状を有する、 いわゆるスタンパと呼ばれる金 属原盤を作製する工程 （原盤製造工程） 、 そのスタンパの表面形状をディスク基 板上に転写する成形工程、 さらに所定の記録層や保護層等を形成する成膜工程に よって光ディスクを製造している。
このうち、 原盤製造工程では、 表面を研磨したガラス基板を洗浄、 乾燥した後、 このガラス基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布し、 そのフォトレジス トに対してレーザビーム等の光ビームを照射してピットやグルーブのパターンを 露光する方法が一般的に行われている。 この露光によってフォトレジストに形成 された潜像を現像することにより、 ピットゃダル一ブの立体的なパターンに対応 した凹凸パターンがフォトレジストに形成され、 さらにそれを電铸によって金属 表面に転写して、 スタンパが作製される。 このような光ビ一ムによる露光によつ て凹凸パターンを記録する方法では、 サブミクロンオーダ一で所定のパターンを フォトレジス卜表面に忠実に転写することが要求される。 ところで、 C Dや L D等の再生専用型の光ディスク、 M D、 M〇等の書き換え 型ディスクでは、 溝状のグループ自体を記録トラックとして使用するという技術 が提案されている。 これらの光記録媒体では、 その種類に応じて最適なピット幅 やグループ幅が異なるが、 いずれも上記のような原盤製造工程によつて光記録媒 体製造用原盤が製造されるので、 露光ビームのスポット径によってピット幅ゃグ ループ幅が定まる。
従来、 や L Dのような光記録媒体を 1つの露光ビームで記録する場合には、 第 5図に示したような概要構成の露光装置が用いられていた。 この露光装置は、 たとえば H e— C dレーザのように気体を増幅媒質とするガスレ一ザ光源 1 0 1 と、 このガスレーザ光源 1 0 1から出射されたレーザ光 1 0 2を後段の光学系に 導くミラ一 1 0 3と、 このミラー 1 0 3を介して導かれたレーザ光 1 0 2を集光 (縮小） するビーム集光レンズ 1 0 4と、 記録信号に基づいて変調されて供給さ れる超音波に応じてドライバ 1 1 5によって制御されてビームの光強度を変調さ せる A O M (Acous to Opt i cal Modu l at or ；音響光学変調器） 1 0 5と、 その A 〇M 1 0 5で強度変調されたレーザ光 1 0 2のビーム径を拡大もしくは縮小する ビーム径調節レンズ 1 0 6と、 このビーム径調節レンズ 1 0 6から出射され平行 ビームのまま直進するビームを反射して移動光学テーブル 1 0 8上に水平に導く ミラ一 1 0 7と、 移動光学テーブル 1 0 8とを備えている。
さらに、 移動光学テーブル 1 0 8には、 第 3のレンズ 1 0 9と、 ミラ一 1 1 0 と、 対物レンズ 1 1 1とが配設されている。 第 3のレンズ 1 0 9は、 対物レンズ 1 1 1の結像集光面 1 1 2と共役な位置に形成される入射側集光面 1 1 3にレ一 ザ光 1 0 2のビームを集光させるような位置に配設されている。 露光ビームは、 この移動光学テーブル 1 0 8の第 3のレンズ 1 0 9、 ミラー 1 1 0、 対物レンズ 1 1 1を経由して、 フォトレジスト膜 1 1 4に照射される。
なお、 ガスレーザ光源 1 0 1と対物レンズ 1 1 1との間でビーム径調節レンズ 1 0 6もしくは第 3のレンズ 1 0 9の焦点距離を変化させ、 さらに対物レンズ 1 1 1がフォ卜レジスト膜 1 1 4の表面に露光ビームを集光するように対物レンズ 1 1 1に対する有効開口数 N Aを再調整することにより、 露光ビームのスポッ卜 径を変化させるように設定されている。 ところで、 例えば M〇ディスクなどでは、 ピットやダル一ブを 2つの露光ビー ムによって記録するという技術が、 例えば特開平 06-103613 号公報にて提案さ れている。 第 6図に示したように、 光学的記録装置には、 同一光軸上に 1つのレ 一ザ光源 2 0 1と、 そのレーザ光源 2 0 1から出射されたレーザ光 2 0 2のビー ムを二分割するビームスプリッタ 2 0 3と、 反射ミラ一 2 0 4と、 ビームリレー 光学系 2 0 5と、 ビームリレー光学系 2 0 6と、 分割された 2本のレーザビーム ¾再合成する P B S (偏光ビ一ムスプリッタ） 2 0 7を備えた移動光学テーブル 2 0 8とが配設されている。
レーザ光源 2 0 1から出射されたレーザ光 2 0 2は、 平行ビームのまま直進し て、 ビームスプリッタ 2 0 3によって反射光 （S偏光） 2 0 9と通過光 （S偏 光） 2 1 0とに分けられる。 通過光 2 1 0は反射ミラー 2 0 4で反射されてビー ムリレ一光学系 2 0 6へと導かれ、 反射光 2 0 9はそのままビームリレー光学系 2 0 5へと導かれる。 通過光 2 1 0は、 ビームリレー光学系 2 0 6内で、 集光レ ンズ 2 1 1によって A O M 2 1 2に集光される。 A〇M 2 1 2は、 ドライバ 2 1 4によって制御されて通過光 2 1 0のビームを強度変調する。 この A〇M 2 1 2 で強度変調されたビームはレンズ 2 1 3によって P偏光の平行ビームになる。 そ の平行ビームは λ Ζ 2偏光板 2 1 5によって偏光されて S偏光の平行ビーム 2 1 6になる。
一方、 反射光 2 0 9は、 集光レンズ 2 1 7、 ドライバ 2 1 8、 Α Ο Μ 2 1 9、 レンズ 2 2 0を備えたビームリレ一光学系 2 0 5によって S偏光の平行ビーム 2 2 1になる。
平行ビーム 2 1 6はミラー 2 2 2によって反射され、 また平行ビーム 2 2 1は ミラ一 2 2 3によって反射されて、 移動光学テーブル 2 0 8に水平かつ平行に導 かれる。 移動光学テーブル 2 0 8では、 平行ビーム 2 1 6はそのまま P B S 2 0 7を通過する。 一方、 平行ビーム 2 2 1はミラー 2 2 4で反射されてその進行方 向を 9 0 ° 変えられて P B S 2 0 7へと導かれ、 その P B S 2 0 7の内部で反射 し、 レンズ 2 2 5および反射ミラー 2 2 7を経て、 対物レンズ 2 2 6の光軸上に ァライメントされる。 このようにして、 P B S 2 0 7に入射された 2つの平行ビ ーム 2 1 6 , 2 2 1は、 その P B S 2 0 7で合成されるが、 このとき合成されて 出射されるレーザビームの進行方向が適度な反射角を成すように、 P B S 2 0 7 の反射面が設定されているので、 この P B S 2 0 7から出射されたレーザビーム が対物レンズ 2 2 6の結像集光面と平行な露光対象であるフォトレジスト膜 2 2 8の表面に集光される際に、 2つの平行ビーム 2 1 6， 2 2 1のスポットがフォ トレジスト膜 2 2 8の感度分解能程度にズレた位置にそれぞれ集光されるように なり、 ダル一ブどうしの間の半径方向ほぼ中央にピットが露光される。
このような露光方法により、 M Oフォーマツトに準拠したピットおよびグルー ブの潜像の露光 （記録） を行うことができる。 さらに、 集光レンズ 2 1 1 , 2 1 7やレンズ 2 2 5の焦点距離を変化させて、 対物レンズ 2 2 6がフォトレジスト 膜 2 2 8の表面にビームを集光するように再調整し、 露光ビームのスポット径を 変化させることにより、 1倍密度 θ、 2倍密度 Μ Ο、 4倍密度 Μ〇など、 各種 フォーマットに準拠したピットおよびグループの潜像の露光 （記録） を行うこと ができる。
ところで、 例えば D V D— RWのような高密度な記録を行うことが要求される 光記録媒体では、 断面形状が U字形のピットと、 そのピットの深さよりも溝の浅 いウォープリンググループとが、 その記録容量の増大を実現するのための高密度 化に対応できる有力な技術であるという可能性が確認されている。 D V Dでは一 般に、 グループにおける溝の底面やランドの上面など、 所定の記録信号量を確保 することが可能であるような平坦な部位に記録を行うように設定されており、 そ の記録を行う部位が比較的浅い所に位置していても、 情報の効果的な記録や再生 が可能であることが確認されている。
そのような光記録媒体製造用原盤を作製する際には、 第 7図に模式的に示した ように、 ピット 3 0 1についてはフォトレジスト膜 3 0 2の感光が充分に深く基 板 3 0 3の表面上にまで達するように露光されるので、 その断面は底面 3 0 4が 平坦な U字形状の深い穴状となる。
しかしながら、 ピット 3 0 1よりも浅いグループ 3 0 5を形成するためには、 光記録媒体製造用原盤を作製する際に、 フォトレジスト膜 3 0 2を感光する露光 量を敢えて少なくして、 フォトレジスト膜 3 0 2の厚さ方向に深い所までは至ら ずにその途中の浅い所で露光が止まるようにしているが、 このように露光量を抑 えて形成された潜像を現像して得られる浅いグループ 3 0 5の立体的なパターン は、 断面が V字状の溝になり、 ダル一ブ 3 0 5の幅 （円盤状の基板 3 0 3の半径 方向の幅） W gがピット 3 0 1の幅 W pに比べて半分程度あるいはそれ以下と狭 いものとなってしまい、 延いては、 そのような原盤によって製造された光記録媒 体では再生時などに十分なサーポ信号量 （P U S H— P U L L信号量） が得られ なくなるという問題点があった。 また、 グループ 3 0 5の溝の断面が V字状であ ると、 その溝の深さ d gの分布の偏差 （ばらつき） も大きくなり、 延いては記録 再生特性が低下するという問題点があった。 さらには、 光記録媒体の製造工程で、 断面が V字状の浅い溝の表面上に、 さらに反射膜や保護膜などを積層形成してい くと、 グループ 3 0 5の実質的な溝幅がさらに狭いものとなってしまう。
しかも、 このような問題点を解消するためには、 その要因である浅いグループ 3 0 5の露光工程で、 所定の溝幅が得られるように露光量を増大するという方策 も考えられるが、 そのように露光量を増大すると、 露光がフォトレジスト膜 3 0 2の厚さ方向に深い所まで至ってしまい、 ピット 3 0 1よりも浅いグループ 3 0 5を形成すること自体が不可能になるなど、 従来の技術では、 ピット 3 0 1より も溝が浅くかつ所定の幅を有する U字状の断面形状のグループ 3 0 5を形成する ことは、 極めて困難であった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、 その目的は、 ピットなどより も浅く、 かつ所定の幅以上の広い U字状の断面形状のグループが形成された高密 度記録が可能な光記録媒体、 その光記録媒体を製造するために用いられる光記録 媒体製造用原盤、 その光記録媒体製造用原盤を製造するための製造装置および製 造方法を提供することにある。 発明の開示
本発明による光記録媒体は、 例えばディスク状あるいは多角形状などの形状の 基板に溝状のグループと円周方向に離散的に配列形成された複数個のピットとが 形成された光記録媒体であって、 グループが、 溝の深さがピットの深さよりも浅 く、 かつその溝の断面形状が U字状に形成されているものである。
本発明による光記録媒体製造用原盤は、 基板に、 溝状のグループと円周方向に 離散的に配列形成された複数個のピットとが形成された光記録媒体を製造するた めに用いられる光記録媒体製造用原盤であって、 光記録媒体のグループが、 溝の 深さがピッ卜の深さよりも浅く、 かつその溝の断面形状が U字状に形成されてい るものである。
本発明による光記録媒体製造用原盤の製造装置は、 基板に溝状のグループと円 周方向に離散的に配列形成された複数個のピットとを有する光記録媒体を製造す るために用いられる光記録媒体製造用原盤の製造装置であって、 光源から供給さ れる 1つの露光ビームを二つのビームに分割する第 1のビ一ムスプリッタと、 そ の分割された一方のビームにピット変調を施すピット変調手段と、 そのピット変 調が施されたビームを光記録媒体製造用原盤の表面に照射してピットを形成する ための潜像を露光するピット露光手段と、 分割された他方のビームにウォープリ ングのための光偏向を施すウォーブル偏向手段と、 そのウォープリングのための 光偏向が施されたビームを、 複数の露光ビームに分割する第 2のビームスプリッ 夕と、 それら複数の露光ビームを偏光ビームスプリッタによって光記録媒体製造 用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して、 上記の 1つの露光ビームよ りも光記録媒体製造用原盤の半径方向にスポット幅が広い露光ビームを光記録媒 体製造用原盤の表面に照射することにより、 断面が U字状でかつピットの深さよ りも溝の浅いグループを形成するための潜像を光記録媒体製造用原盤の表面に露 光するグループ露光手段とを備えたものである。
また、 本発明による他の光記録媒体製造用原盤の製造装置は、 基板に少なくと も溝状のグルーブを有する光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒体製 造用原盤の製造装置であって、 光源から供給される 1つの露光ビームにゥオーブ リングのための光偏向を施すウォーブル偏光手段と、 そのウォープリングのため の光偏向が施されたビームを、 複数の露光ビームに分割するビ一ムスプリッタと、 その複数の露光ビームを、 偏光ビームスプリッタによって光記録媒体製造用原盤 の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して上記の 1つの露光ビームよりも光記 録媒体製造用原盤の半径方向にスポット幅が広い露光ビームを光記録媒体製造用 原盤の表面に照射することにより、 断面が U字状のグループを形成するための潜 像を光記録媒体製造用原盤の表面に露光するグループ露光手段とを備えたもので ある。
本発明による光記録媒体製造用原盤の製造方法は、 基板に溝状のグループと円 周方向に離散的に配列形成された複数個のピットとを有する光記録媒体を製造す るために用いられる光記録媒体製造用原盤の製造方法であって、 光源から供給さ れる 1つの露光ビームを第 1のビームスプリッタによって二つのビームに分割し、 分割された一方のビームは、 ピット変調を施して光記録媒体製造用原盤の表面に 照射してピットを形成するための潜像を露光し、 分割された他方のビームは、 ゥ オーブリングのための光偏向を施した後、 第 2のビ一ムスプリッタによって複数 の露光ビームに分割し、 その複数の露光ビームを、 偏光ピームスプリッタによつ て光記録媒体製造用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して、 上記の 1 つの露光ビームよりも光記録媒体製造用原盤の半径方向にスポット幅が広い露光 ビームを光記録媒体製造用原盤に照射することにより、 断面が U字状のグループ を形成するための潜像を光記録媒体製造用原盤に露光するというものである。 また、 本発明による他の光記録媒体製造用原盤の製造方法は、 基板に少なくと も溝状のグルーブを有する光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒体製 造用原盤の製造方法であって、 光源から供給される 1つの露光ビームにゥオーブ リングのための光偏向を施した後、 ビ一ムスプリッ夕によって複数の露光ビーム に分割し、 その複数の露光ビームを、 偏光ビームスプリッタによって光記録媒体 製造用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して、 光記録媒体製造用原盤 の表面に上記の 1つの露光ビームよりも光記録媒体製造用原盤の半径方向にスポ ッ卜幅が広い露光ピ一ムを照射することにより、 断面が U字状のグループを形成 するための潜像を光記録媒体製造用原盤に露光するというものである。
本発明による光記録媒体、 光記録媒体製造用原盤、 光記録媒体製造用原盤の製 造装置、 光記録媒体製造用原盤の製造方法では、 光源から供給される 1つの露光 ビームにウォープリングのための光偏向を施した後、 それを複数の露光ビームに 分割し、 その複数の露光ビームを光記録媒体製造用原盤の半径方向に所定の幅に 並ぶように配列し、 上記の 1つの露光ビームよりもスポット幅が光記録媒体製造 用原盤の半径方向に広い露光ビームを光記録媒体製造用原盤に照射することによ り、 断面が U字状のグループを形成するための潜像を光記録媒体製造用原盤に露 光する。 その潜像を現像して、 断面が U字状のグループの原型を備えた光記録媒 体製造用原盤を得る。 そして、 その光記録媒体製造用原盤を用いて、 溝の深さが ピットの深さよりも浅くかつその溝の断面形状が U字状に形成されているグルー ブを備えた光記録媒体を製造する。
なお、 上記のグループの断面形状は、 U字状の溝における開口の幅に対する底 面の幅の比率を 1 7 %以上に設定することが望ましい。 ただし、 これのみには限 定されず、 光記録媒体のフォーマットによっては、 U字状の溝における開口の幅 に対する底面の幅の比率を 1 7 %未満に設定してもよい。
また、 再生 （読み出し） 用または記録 （書き込み） 用の光の波長を λ とする と、 ピットの深さは λ Ζ 4とし、 グループの深さは λ / 8とすることが望まし いが、 これのみには限定されないことは言うまでもない。
いずれにしても、 従来の 1つの露光ビームの照射によって得られるグループの 場合には、 そのグループは実質的に平坦な底面がほとんどない、 断面が V字状あ るいは V字谷状になるが、 本発明による光記録媒体では、 上記のように複数の露 光ビームを光記録媒体製造用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列し、 上 記の 1つの露光ビームよりもスポット幅が光記録媒体製造用原盤の半径方向に広 い露光ビームを光記録媒体製造用原盤に照射することにより、 グループの断面形 状が U字状の溝となり、 そのグループの底面を、 実質的に平坦なものとすること が可能となる。 その平坦な底面の幅は、 複数の露光ビームの中心間隔を調節する ことによって、 上記のように開口の幅に対して 1 7 %以上とするなど、 種々に設 定変更することが可能である。 また、 光記録媒体製造用原盤の半径方向に配列す るビームの本数は、 必要に応じて 2本、 3本、 あるいはさらに多数本のビームと することなども可能である。
本発明の他の目的、 特徴および効果は、 以下の説明によってさらに明らかにな るであろう。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明の第 1の実施の形態に係る光記録媒体の原盤を製造する工程 で用いられる光学的記録装置の概要構成を示した図である。 第 2図は、 本発明の第 2の実施の形態に係る光記録媒体の原盤を製造する工程 で用いられる光学的記録装置の概要構成を表したものである。
第 3図は、 第 1の実施の形態に係る光学的記録装置によって作製される光記録 媒体製造用のガラス原盤を模式的に示した図である。
第 4図は、 第 2の実施の形態に係る光学的記録装置によって作製される光記録 媒体製造用のガラス原盤を模式的に示した図である。
第 5図は、 C Dや L Dのような光記録媒体のピット等のパターンを 1つの露光 ビームで記録する従来の露光装置の概要構成を示した図である。
第 6図は、 ピットゃグループを 2つの露光ビームによって記録する従来の露光 装置の概要構成を示した図である。
第 7図は、 従来の技術によって製造された光記録媒体製造用のガラス原盤を模 式的に示した図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
[第 1の実施の形態]
第 1図は、 本発明の第 1の実施の形態に係る光記録媒体の原盤 （光記録媒体製 造用原盤） を製造する工程で用いられる光学的記録装置 （光記録媒体製造用原盤 の製造装置） の概要構成を表したものである。 なお、 本実施の形態に係る光記録 媒体は、 この光学的記録装置によって作製される光記録媒体製造用原盤を用いて その表面に主要な凹凸パターンが形成され、 また本実施の形態に係る光記録媒体 用原盤の製造方法の主要部は、 この光学的記録装置の動作によって具現化される ので、 以下、 それらを併せて説明する。
この光学的記録装置は、 光ディスクの製造プロセスにおいて、 所望の凹凸パタ ーンをディスク基板の表面に転写するための、 いわゆるスタンパ （光記録媒体製 造用原盤） を形成するに際して用いられるもので、 レーザ光源 1から出射された レーザビーム 1 3をピットのパ夕一ンを露光するための第 1の露光ビーム （平行 ビーム 1 6 ) と、 ウォーブルしたダル一ブ （ウォーブリンググループ） のパター ンを露光するための第 2の露光ビーム （平行ビーム 1 7 ) との 2つのビームに、 ビ一ムスプリッタ 5によって分割した上で、 さらに第 2の露光ビームを 2つの露 光ビーム 6 1， 62に分割して、 それを円盤状の光記録媒体製造用原盤の半径方 向に所定の幅 （間隔） で配列し、 その半径方向にスポット幅が拡大された露光ビ ーム 10を光記録媒体製造用原盤のフォトレジスト膜 12に照射することにより、 現像後に浅くかつその断面形状が U字状のゥォ—ブリンググル一ブが得られるよ うな潜像を形成するものである。
この光学的記録装置は、 レーザ光源 1と、 第 1の変調光学系 （以下、 第 1の〇 Mと呼ぶ） 2と、 第 2の変調光学系 （以下、 第 2の OMと呼ぶ） 3と、 移動光学 テーブル 4と、 λ/2偏光板 9とを、 その主要部として備えており、 さらにそれ らの間の光軸上には、 レーザビーム 1 3を導くために、 ビームスプリッタ 5、 ミ ラー 6, 7, 8を備えており、 最終的に露光ビーム 1 0が原盤のガラス基板 1 1 上のフォトレジスト膜 1 2に照射されるように設定されている。
さらに詳細には、 レーザ光源 1としては、 例えば K rレーザ （λ = 3 5 1 n m) の記録用レーザ光を発振するものなどを好適に用いることができる。 ただし、 レーザ光源 1としてはこれのみには特に限定されるものではなく、 適宜に選択し て使用すれば良いことは言うまでもない。
レーザ光源 1から出射されたレーザビーム 1 3は、 平行ビームのまま直進し、 ビ一ムスプリッタ 5で反射光 （ビーム 14) と通過光 （ビ一ム 1 5) とに分割さ れる。 ピームスプリッタ 5で反射されたビーム 14は、 第 2の OM3へと導かれ る。 一方、 ビームスプリッタ 5を通過したビ一ム 1 5は、 ミラ一 6の表面で反射 されて第 1の OM 2へと導かれる。
第 1の OM 2では、 ビーム 1 5は集光レンズ 2 2によって第 1の AOM (Acousto Optical Modulator ；音響光学変調器） 2 1に集光される。 この第 1 の AOM2 1によって強度変調されて発散したレーザ光はレンズ 23によって平 行ビーム 1 6になる。
一方、 第 2の OM3では、 ビーム 14が集光レンズ 32によって第 2の AOM 3 1に集光され、 この第 2の A〇M31によって強度変調され発散したレーザ光 はレンズ 33によって平行ビーム 1 7になる。
第 1の OM2から出射された平行ビーム 16は、 ミラー 7によって反射され、 λ/2偏光板 9を通って Ρ偏光となり移動光学テーブル 4へと水平かつ平行に導 かれる。 第 2の ΟΜ3から出射された平行ビーム 1 7は、 ミラ一 8によって反射 され、 移動光学テーブル 4へと水平かつ平行に導かれる。
移動光学テーブル 4は、 第 1の P B S (偏光ビームスプリッタ） 4 1、 AOD (Acousto Optical Deflector ；音響光学偏向器） 42、 ゥエッジプリズム 43, 44、 ピームスプリッ夕 4 5、 ミラ一 46, 5 0、 第 2の PB S 47、 λ/2偏 光板 48、 レンズ 49、 対物レンズ 5 1を、 その主要部として備えている。 なお、 AOD 42は、 外部から供給される 1 40. 7 kH ζのタイミング信号に基づい て VC〇 (Voltage Controlled Oscillator ；電圧制御発振器） 5 3およびドラ ィバ 5 2によって制御されて駆動されるように設定されている。
第 1の〇 M 2から出射されて移動光学テーブル 4へと導かれて来た平行ビーム 1 6は、 第 1の P B S 4 1、 λ/ 2偏光板 48、 レンズ 49を通り、 ミラー 5 0 で反射され、 対物レンズ 5 1で集光されて、 ピットの潜像を形成するための露光 ビームとしてフォトレジスト膜 1 2に照射される。
一方、 第 2の〇Μ 3から出射され、 移動光学テーブル 4に導かれて来た平行ビ —ム 1 7は、 A〇D 42によって光学偏向が施された上でビ一ムスプリッタ 45 で反射されて進行方向が 9 0度曲げられて、 第 1の P B S 4 1に入射する。 また、 ビ一ムスプリッタ 4 5を透過した平行ビーム 1 7は、 ミラー 4 6によって反射さ れて進行方向が 9 0度曲げられて、 第 2の PB S 4 7に入射する。
ところで、 AOD 42では、 グループがウォーブルを成してウォーブリングダ ループとなるように、 平行ビーム 1 7に対して光学偏向が施される。 すなわち、 第 2の OM 3から出射されて AOD 42に入射して来た平行ビーム 1 7は、 ゥェ ッジプリズム 43を介して A OD 42に入射し、 この AOD4 2によって露光パ ターンに対応するように光学偏向が施される。 この AOD42に使用される音響 光学素子としては、 例えば酸化テルル （T e〇2 ) からなるものなどが好適であ る。 この AOD 42によって光学偏向が施された平行ビーム 1 7は、 ゥエッジプ リズム 44を介して出射される。 このゥエッジプリズム 43， 44は、 AOD 4 2の音響光学素子としての格子面に対してブラッグ条件を満たすように平行ビー ム 1 7が入射するように設定されている。 またそれと共に、 AOD 42によって 平行ビーム 1 7に対して光学偏向を施しても平行ビーム 1 7の水平高さが変わら ないように設定されている。 換言すれば、 ゥエッジプリズム 43、 AOD42、 ゥエッジプリズム 44は、 AOD 42の音響光学素子の格子面が平行ビーム 1 7 に対してブラッグ条件を満たし、 かつ AOD 42から出射される平行ビーム 1 7 の水平高さが変わらないように配置される。
AOD42は、 ドライバ 52によってその駆動が制御されるように設定されて いる。 ドライバ 52には、 VCO 53からの高周波信号が s i n波制御信号によ つて供給される。 所望のパターンの露光時には、 そのパターンに応じた信号が V CO 53からドライバ 52に入力され、 その信号に応じてドライバ 52によって AOD42が駆動されて、 平行ビーム 1 7に光学偏向が施される。
さらに詳細には、 例えば周波数 140. 7 kH zでダル一ブをウォープリング させてグループにァドレス情報を付加するといつた場合には、 例えば中心周波数 が 224MH zの高周波信号を周波数 140. 7 kHzの制御信号によって位相 変調した信号を V CO 53からドライバ 52に供給する。 この信号に基づいてド ライバ 52が AOD 42を駆動し、 その AOD 42の音響光学素子のブラッグ角 を変化させ、 これにより、 周波数 140. 7 kH zのウォーブリングに対応する ように平行ビーム 1 7に光学偏向が施される。
このようにして、 AOD 42によってウォーブリンググループのウォーブリン グに対応するように光学偏向が施された平行ビーム 1 7は、 上述したように、 ピ 一ムスプリッタ 45によって反射されて進行方向が 90度曲げられて、 第 1の P B S 41に入射する （以下、 これを便宜上、 第 2— 1の露光ビーム 6 1と呼ぶ） 。 また、 ビームスプリツ夕 45を透過した平行ビーム 1 7は、 ミラー 46によって 反射されて進行方向が 90度曲げられて、 第 2の P B S 47に入射する （以下、 第 2— 2の露光ビーム 62と呼ぶ） 。
第 2— 1の露光ビーム 6 1は、 第 1の P B S 41によって反射され、 λ/2偏 光板 48、 第 2の P B S 47を通過する。 第 2— 2の露光ビーム 62は、 第 2の P B S 47によって反射される。 そして第 2— 1の露光ビーム 61および第 2— 2の露光ビーム 62は、 平行ビーム 1 6と共に、 第 2の PB S 47で進行方向が 同一方向となるように再合成される。 このとき、 第 2— 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビーム 6 2は、 それぞれの光軸が所定の距離を隔てて並ぶように配 置される。 これにより、 第 3図に模式的に示したように、 それらのビームを合成 して形成されるスポットの幅を拡大することができ、 かつそのビームによる露光 量は浅い溝を形成するための適度なものとすることができる。 その結果、 溝が浅 くて、 かつ断面が U字状のウォープリンググループを形成するためのウォープリ ンググループの立体的なパターン 8 0およびピッ卜の立体的なパターン 9 0を備 えた原盤を製造することができ、 さらにその原盤を用いて、 溝が浅くて断面が U 字状のウォーブリンググル一ブを備えた光記録媒体を製造することができる。 なお、 平行ビーム 1 6は第 2の P B S 4 7から出射された後、 ピットのパター ン 9 0を露光するためのものであるから、 第 2の P B S 4 7から以降は第 1の露 光ビーム 6 0と呼ぶこととする。 この第 1の露光ビーム 6 0のピットを露光する ためのスポットは、 上記のように再合成されると、 第 2— 1の露光ビーム 6 1お よび第 2— 2の露光ビーム 6 2を合計してなるウォーブリンググループのスポッ トとは別個のスポットとして、 その光軸がウォープリンググループのスポットに 対して所定の距離を隔てて並ぶように配置される。
再合成された第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2— 2の露光ビ一ム 6 2は、 拡大 レンズであるレンズ 4 9によってそれぞれ所定のビーム径とされた上でミラ一 5 0によって反射されて対物レンズ 5 1へと導かれ、 この対物レンズ 5 1によって フォトレジスト膜 1 2に照射される。 これにより、 フォトレジスト膜 1 2が露光 されて潜像が形成される。 このとき、 フォトレジスト膜 1 2が塗布されているガ ラス基板 1 1は、 フォトレジスト膜 1 2の全面に亘つて所望のパターン 8 0， 9 0が露光されるように、 回転駆動装置 （図示省略） によって図中矢印 Mで示した ように回転駆動されると共に、 移動光学テーブル 4との間の位置が相対的に平行 移動される。 このようにして、 第 1の露光ビーム 6 0、 第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2— 2の露光ビーム 6 2の照射軌跡に応じた潜像をフォトレジスト膜 1 2 の所定の記録領域のほぼ全面に亘つて形成する。 その潜像を現像することにより、 D V D— R W等に好適なフォーマツトで、 高密度記録を実現することが可能な、 ピットとそれよりも溝が浅くかつ断面が U字状のウォープリンググループのフォ —マットに準拠した光記録媒体を実現することができる。 ここで、 第 1の PBS 41、 第 2の PB S 47は、 S偏光を反射し、 P偏光を 透過するように設定されたものである。 また、 第 1の OM2から出射された平行 ビーム 1 6は λΖ 2偏光板 9を透過することにより偏光方向が 9 0度回転され るので Ρ偏光となり、 さらに λΖ2偏光板 48によって偏光方向が回転されて Ρ偏光となる。
AOD 42によってウォープリングするように光学偏向が施された平行ビーム 17は、 上述したようにビームスプリッタ 45によって第 2— 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビーム 6 2とに分割され、 さらに第 2の PBS 47で光軸が 互いに平行に所定の間隔で並ぶように再合成される。
第 2— 1の露光ビーム 6 1は S偏光であり、 第 1の PBS 41で反射され、 λ / 2偏光板 48により偏光方向が回転 （旋光） されて Ρ偏光成分が透過し、 第 2 の PB S 47に入射する。 また、 第 2— 2の露光ビ一ム 62は S偏光であり、 第 2の P B S 47で反射されるが、 このとき第 2 _ 1の露光ビーム 6 1と光軸方向 に平行に再合成される。
光軸方向に再合成された第 2— 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビーム 6 2は、 第 2の PB S 47の角度を変えることにより、 フォトレジスト膜 1 2に、 半径方向に所定の間隔で並列するように配置することができ、 ビーム強度が同一 になるように λΖ2偏光板 48の回転調整によって第 2— 1の露光ビーム 6 1 の透過光を調整する。
なお、 例えば上記の設定の一例では、 対物レンズ 5 1の開口数 ΝΑは 0. 9に することが望ましい。 また、 第 1の ΑΟΜ2 1、 第 2の AOM31には、 図示し ない入力端子から制御信号が供給される。 制御信号は、 ピットを形成する第 1の ΑΟΜ 21の場合には E FM+ ( 8— 1 6変調） 信号であり、 その EFM +信号 によってレーザ光が強度変調 （ONZOFF) される。 また、 グループを形成す る第 2の Α〇Μ3 1の場合には一定レベルの D C信号となる。
[第 2の実施の形態]
この第 2の実施の形態では、 上記第 1の実施の形態の光学的記録装置およびそ れによる原盤の露光工程を中心とした製造方法をさらに変更して、 ウォープリン ググループのパターン 80を露光するための第 2の露光ビームである平行ビーム 1 7を、 ビームスプリッタ 45， 7 1およびミラー 46により 3つの露光ビーム (それらを第 2— 1の露光ビーム 6 1， 第 2— 2の露光ビーム 62, 第 2— 3の 露光ビーム 63と呼ぶこととする） に分割し、 それらの光軸が半径方向に所定の 間隔で並ぶように合成する。 これにより、 最終的にフォトレジストに照射されて ウォープリンググループを露光するための露光ビーム 70のスポット幅を拡大し て、 U字状の浅いウォープリンググループの潜像を形成する。
第 2図は、 本発明の第 2の実施の形態に係る光記録媒体の原盤を製造する工程 で用いられる光学的記録装置の概要構成を表したものである。 なお、 この第 2図 では、 図示およびその説明の簡潔化を図るために、 第 1図と同様の部位について は同一の符号を付して示している。
この第 2の実施の形態に係る光学的記録装置では、 AOD 42でウォープリン グするように光学偏向が施された平行ビーム 1 7は、 ビームスプリッタ 45およ びビ一ムスプリッタ 7 1によって、 第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2— 2の露光 ビーム 62、 第 2— 3の露光ビーム 63の、 3つのビームに分割され、 それらは 光軸が所定の間隔で原盤の半径方向に並ぶように、 第 2の PBS 47および第 3 の P B S 7 2によって再合成されて、 第 4図に模式的に示したような底面の幅が 拡大された断面が U字状の浅いウォープリンググループの立体的なパターン 80 の潜像をフォトレジスト膜 1 2に形成するための、 スポット幅が広くかつ露光量 が抑制された露光ビームが形成される。
第 2— 1の露光ピ一ム 6 1は S偏光であり、 第 1の P B S 41で反射され、 λ 2偏光板 48で偏光方向を回転 （旋光） されて Ρ偏光となって透過し、 第 2— 2の露光ビーム 6 2およびは第 2— 3の露光ビーム 63は S偏光であり、 それぞ れ第 2の PBS 47、 第 3の P B S 72で反射されて、 第 3の PBS 72で再合 成される。 そして再合成された第 2 _ 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビ一 ム 62と第 2— 3の露光ピ一ム 63は、 第 2の PB S 47、 第 3の PB S 72の 角度を変えることによって、 フォトレジスト膜 1 2に照射される際にそれらを合 成して形成されるスポットの幅を調節することができる。 また、 ぇ 2偏光板 4 8を回転調整して第 2— 1の露光ビーム 6 1の第 1の PBS 41およぴ第 2の Ρ B S 47における透過光を調節することにより、 ビーム強度が同一になるように することが可能である。
このようにして、 D V D— RW等に好適なフォーマツ卜に準拠した光記録媒体 である、 ピッ卜と溝が浅くてかつ断面が U字状で底面の幅が広いウォープリング グループとを備えた光記録媒体を実現することができる。 レーザビームの波長や フォトレジストの感光特性など種々の露光条件やウォープリンググループの溝の 深さなどの要求条件が同じであれば、 この第 2の実施の形態のように 3つの露光 ビームあるいはさらに多数の露光ビームを並べて配列することで、 第 1の実施の 形態に示したような 2つの露光ビームの合成によってウォーブリンググルーブの 潜像を露光する場合よりも、 さらに底面の幅が広いウォープリンググループを形 成することが可能となり、 またその底面の平坦性についてもさらに高いものとす ることが可能となる。
[光ディスクの製造方法の実施例]
上記の第 2の実施の形態で説明したような光ディスクの製造方法に基づいて、 実際に原盤を製造し、 さらにその原盤を用いて光ディスクを製造した。
まず、 原盤製造工程では、 ピットと、 浅い U字状のウォープリンググループに 対応した立体的なパターン 8 0を有する光記録媒体製造用原盤を、 第 2の実施の 形態に係る光学的記録装置を用いて作製した。
原盤製造工程においては、 まず、 表面を研磨した円盤状のガラス基板 1 1を洗 浄し乾燥させ、 その後、 このガラス基板 1 1上に感光材料であるフォトレジスト 膜 1 2を塗布した。 そのフォトレジスト膜 1 2を光学的記録装置によって露光し て、 ピットおよび浅い U字状のウォープリンググループの潜像を、 フォトレジス ト膜 1 2に形成した。
レーザ光源 1としては、 波長 λ が 3 5 1 n mのレーザ光を出射する K rレー ザ光源を用いた。 第 1の露光ビーム 6 0、 第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2— 2 の露光ビーム 6 2、 第 2— 3の露光ビーム 6 3をフォトレジスト膜 1 2に集光す るための対物レンズ 5 1としては、 開口数 N Aが 0 . 9のものを使用した。 また、 ビーム拡大用のレンズ 4 9としては、 焦点距離が 8 0 mmのレンズを用いた。 フォトレジスト膜 1 2をレーザカツティング装置によって露光する際には、 第 1の露光ビーム 6 0によってフォトレジスト膜 1 2を露光することにより深いピ ットの潜像をフォトレジスト膜 1 2に形成し、 第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2 一 2の露光ビーム 6 2、 第 2— 3の露光ビーム 6 3によってフォトレジスト膜 1 2を露光することにより浅い U字状のウォープリンググループの潜像をフォトレ ジスト膜 1 2に形成する。 なお、 フォトレジスト膜 1 2を露光してピットゃゥォ —プリンググループの潜像を形成する際には、 フォトレジスト膜 1 2が塗布され ているガラス基板 1 1を所定の回転速度で回転駆動させるとともに、 移動光学テ —ブル 4を所定の速度でフォトレジスト膜 1 2に対して相対的に平行移動させる。 さらに具体的には、 ガラス基板 1 1の回転速度は、 第 1の露光ビーム 6 0によ る光スポットとフォトレジスト膜 1 2との相対的な移動速度が一定の線速 3. 4 9mZsとなるように設定すると共に、 ガラス基板 1 1の 1回転毎に、 0. 74 rn (すなわちトラックピッチの分） ずつ移動光学テーブル 4がガラス基板 1 1 に対して相対的にその半径方向に平行移動するようにした。
第 2— 2の露光ピ一ム 6 2によってフォトレジスト膜 1 2を露光して断面が浅 い U字状のウォープリンググループの潜像をフォトレジスト膜 1 2に形成する際 には、 第 2— 2の露光ビーム 6 2に対して、 第 2の〇M 3によって光強度変調を 施すと共に、 AOD 42によって光学偏向を施すことは、 第 2の実施の形態で説 明した通りである。 ここで、 浅い U字状のウォーブリンググループは一定の深さ の連続した溝であるので、 浅い U字状のウォープリンググループに対応した潜像 を形成している間は、 平行ビーム 1 7の光強度が一定となるように第 2の OM 3 による光強度変調を継続する。
続いて、 平行ビーム 1 7に対して、 AOD 42によって光学偏向を施す。 具体 的には、 電圧制御発振器である V CO 5 3から高周波信号をタイミング制御信号 に基づいて変調してなる制御信号をドライバ 5 2に供給し、 その制御信号に基づ いてドライバ 5 2が AOD 42を駆動してその音響光学素子としてのブラッグ角 を変化させることにより、 平行ビーム 1 7に光学偏向を施す。 なお、 本実施例で は、 中心周波数 2 24MHzの高周波信号を周波数 1 4 0. 7 kHzのタイミン グ制御信号に基づいて FM変調して制御信号を得て、 それに基づいて VC〇 5 3 でドライバ 5 2の駆動制御を行うことにより、 フォトレジスト膜 1 2上に集光さ れる露光ビーム 7 0の合成スポッ卜が周波数 1 4 0. 7 kHz , 振幅士 1 0 nm でガラス基板 1 1の半径方向に振動して、 フォトレジスト膜 1 2上に露光される グループのパターン 8 0の平面的なトラッキングがウォーブルするように光学偏 向を行つ 7こ。
このように光強度変調及び光学偏向を施した平行ビーム 1 7を、 ビームスプリ ッタ 4 5およびビームスプリッタ 7 1により、 第 2— 1の露光ビーム 6 1、 第 2 — 2の露光ビーム 6 2、 第 2 _ 3の露光ビーム 6 3の、 3本のビームに一旦分割 し、 さらに、 第 2の P B S 4 7および第 3の P B S 7 2で、 それら 3本のビーム の光軸が所定の間隔でガラス基板 1 1の半径方向に並ぶように再合成した。 この 再合成して得られた露光ビーム 7 0は、 レンズ 4 9でスポット径を調節され、 ミ ラー 5 0で反射されて進行方向を 9 0度変更され、 対物レンズ 5 1によってフォ トレジスト膜 1 2上に集光される。 これにより、 フォトレジスト膜 1 2上に、 断 面が浅い U字状のウォープリンググループに対応した潜像を形成した。
このフォトレジスト膜 1 2を露光する際には、 フォトレジスト膜 1 2が塗布さ れているガラス基板 1 1を所定の回転速度で回転駆動させると共に所定の速度で 平行移動させることは、 上記の実施の形態で説明した通りであるが、 より具体的 には、 ガラス基板 1 1の回転速度としては、 露光ビーム 7 0 (換言すれば移動光 学テーブル 4 ) とフォトレジスト膜 1 2との相対的な移動速度が線速 3 . 4 9 m ノ sとなるようにした。 また、 ガラス基板 1 1の 1回転毎に、 トラックピッチに 該当する 0 . 7 ずつ、 移動光学テーブル 4をガラス基板 1 1の半径方向に 平行移動させた。
また、 フォトレジスト膜 1 2を露光する際のピットを記録するための第 1の露 光ビーム 6 0のパワーとしては 2 . O mW、 浅い U字状のウォープリンググルー ブを記録するための第 2の露光ビームである平行ビーム 1 7のパワーとしては、 第 2— 1の露光ビーム 6 1および第 2― 2露光ビーム 6 2の 2ビームを用いる場 合には 2 . O mWとし、 第 2— 1の露光ビーム 6 1および第 2— 2の露光ビーム 6 2ならびに第 2 - 3の露光ビーム 6 3の合計 3ビームを用いる場合には 3 . 0 mWとした。 このように設定することにより、 断面が浅い U字状のウォーブリン ググループの幅を、 適切な所望の幅に調節することができ、 かつその深さは露光 ビームのパワーによってピットよりも約半分の浅いものとすることができる。 た だし、 これのみには限定されず、 露光ビームのパワーの設定を種々変更すること により、 所望の深さに調節することが可能である。
このようにしてフォトレジスト膜 1 2に潜像を形成した後、 フォトレジスト膜 1 2が塗布されている面が上面となるようにガラス基板 1 1を現像機 （図示省 略） のターンテーブル上に載置する。 そしてそのターンテーブルと共にガラス基 板 1 1を回転させながら、 フォトレジスト膜 1 2上に現像液を滴下して現像処理 を施して、 ガラス基板 1 1上に深いピットと断面が浅い U字状のゥォ一プリング グルーブに対応した凹凸パターンを形成した。
次に、 その凹凸パターン上に無電界メツキ法により N i等からなる導電化膜を 形成し、 その後、 導電化膜が形成されたガラス基板 1 1を電铸装置に装着して、 電気メツキ法により導電化膜上に N i等からなるメツキ層を 3 0 0 ± 5 m程度 の厚さとなるように形成した。 その後、 このメツキ層を剥離し、 剥離したメツキ をアセトン等を用いて洗浄して、 凹凸パターンが転写された面に残存しているフ ォトレジスト膜 1 2を除去した。
以上のようにして、 ガラス基板 1 1上に形成されていた凹凸パターンが転写さ れたメツキからなる光記録媒体製造用原盤、 すなわち深いピットと浅い U字状の ウォープリンググループに対応した凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用 原盤 （いわゆるスタンパ） が完成した。 この光記録媒体製造用原盤は、 記録トラ ックに沿って断面形状が浅い U字状のウォーブリンググルーブがスパィラル状に 形成された光ディスクを製造する際に使用される光記録媒体製造用原盤である。 次に、 転写工程として、 フォトポリマ一法 （いわゆる 2 P法） によって、 上述 のような光記録媒体製造用原盤の表面の凹凸パターンが転写されたディスク基板 を作製した。
さらに具体的には、 まず、 光記録媒体製造用原盤の凹凸パターンが形成された 面上にフォトポリマーを平滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、 次に、 その フォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながらべ一スプレートを密着さ せた。 ベースプレートとしては、 0 . 6 mm厚のポリメチルメタクリレート （屈 折率 1 . 4 9 ) からなるベースプレートを使用した。
その後、 紫外線を照射してフォトポリマーを硬化させ、 さらに、 光記録媒体製 造用原盤をフォトポリマ一層から剥離することにより、 光記録媒体製造用原盤の 表面形状が転写されたディスク基板が得られた。
なお、 ここでは光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンを、 より確実 にディスク基板に転写することができるように、 2 P法を用いてディスク基板を 作製したが、 ディスク基板を量産するような場合には、 ポリメチルメタクリレー トゃポリカーボネート等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板を作 製するようにしてもよいことは言うまでもない。
次に、 成膜工程として、 光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されたデイス ク基板上に記録層及び保護層を形成した。 具体的には例えば、 まずディスク基板 の凹凸パターンが形成された面上に、 S i N等からなる第 1の誘電体膜と、 G e S b T e合金等からなる相変化記録膜と、 S i N等からなる第 2の誘電体膜とを スパッタリングによって順次成膜し、 さらに、 第 2の誘電体膜上に A 1等からな る光反射膜を成膜することにより、 第 1の誘電体膜、 相変化記録膜、 第 2の誘電 体膜及び光反射膜からなる記録層を形成した。 その後、 記録層の上に紫外線硬化 樹脂をスピンコート法により塗布し、 その紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射 して硬化させることにより、 保護層を形成した。 このようにして、 相変化光ディ スクを完成することができた。
[製造された光ディスクの評価]
上記の第 1の実施の形態および第 2の実施の形態で説明した原盤の製造方法に よって実際に上記の実施例のようにして製造されたスタンパについて、 ピットの 幅および深さ、 浅い U字状のウォープリンググループの開口の幅と底面の幅およ びその溝の深さを、 原子間力顕微鏡 （Atomi c Force Mi croscope ： A F M) によ つて測定した。
スタンパ Aは、 第 1の実施の形態で説明した方法によって、 ウォーブリングダ ループのパターン 8 0を第 2— 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビーム 6 2 との 2つのビームを再合成してなる露光ビーム 1 0で露光したものである。 この スタンパ Aについて計測した結果、 ピットは、 深さが 8 0 n m、 開口幅 （上幅） が 3 2 0 n m、 底面の幅 （下幅） が 2 1 0 n mとなっていた。 また、 ウォープリ ンググループは、 開口幅が 3 9 0 n m、 底面の幅が 1 5 O n mとなっており、 そ の溝の底面までの深さは、 露光ビーム 1 0のパワーを調整したことにより、 2 1 nm、 3 1 nm、 42 nmとなった。
スタンパ Bは、 第 2の実施の形態で説明した方法によって、 ウォーブリングダ ループを第 2— 1の露光ビーム 6 1と第 2— 2の露光ビーム 62と第 2 _ 3の露 光ビーム 63との 3つのビームを再合成してなる露光ビーム 70で露光したもの である。 このスタンパ Bについて計測した結果、 ピットは、 深さが 8 1 nm、 開 口幅 （上幅） が 320 nm、 底面の幅 （下幅） が 200 nmとなっていた。 また、 ゥォ一プリンググループは、 開口幅が 520 nm、 底面の幅が 280 nmとなつ ており、 その溝の底面までの深さは、 露光ビーム 70のパワーを調整したことに より、 1 9 n m、 29 n m、 39 nmとなった。
次に、 上記のようなスタンパ八、 スタンパ Bを用いて、 それぞれ評価用の光デ イスク八、 光ディスク Bを作製し、 それらの評価を行った。
評価機としては、 レーザ波長が λ = 6 50 ηιη、 対物レンズの開口数が ΝΑ =0. 65の光ピックアップを用いて、 光ディスク Α、 光ディスク Βのそれぞれ についてピットの信号特性および浅い U字状のウォープリンググルーブの信号特 性を評価した。 トラッキングにはプッシュプル （Push- Pull) 信号を用いた。 ピットについては、 信号特性が光ディスク A、 光ディスク B共に安定なトラッ キングおよびピットの担持している信号の安定的な再生を実現することができる ことが確認された。 また、 ジッターは光ディスク Aが 6. 8 %、 光ディスク Bが 6. 7%であった。
また、 ゥォ一プリンググループについては、 光ディスク A、 光ディスク Bの浅 い U字状のウォープリンググループの底面が上記の実施例で示したように幅広に 形成されており、 充分なプッシュプル信号量を得ることができたので、 光デイス ク八、 光ディスク Bの 19~42 nmのすベてのグループ深さにおいてゥオーブ ル信号を安定的に再生することができた。 またさらには、 浅い U字状のウォーブ リンググループの記録再生時のジッターは、 ウォープリンググループの溝の深さ を変えても、 光ディスク Aで 7. 3〜7. 8 %、 光ディスク Bで 7. 1〜 7. 5 %であった。
このように、 本実施の形態に係るピットとそれよりも浅い U字状のウォープリ ンググループのフォーマットの光記録媒体では、 ピットの信号の安定な再生、 ゥ オーブル信号の安定再生、 ウォープリンググループ内の安定記録再生を実現でき ることが確認された。
ここで、 比較例として、 単独に第 2— 1の露光ビーム 6 1のみを用いて細いス ポット径で浅いウォープリンググループのパターン 8 0を露光した原盤を用いて 光ディスクを製造し、 その評価を行った。 その結果、 浅い溝を 1本の細いビーム で露光したために、 原盤のウォープリンググループの断面形状は浅い V字型とな り、 そのような底面の幅がほとんど 0となった。 そのようなウォープリングダル ーブを有する光記録媒体では、 ウォープリンググループの開口幅は 3 2 0 n m程 度であつたが底面の幅が実質的に 0 n mであったことから、 充分な信号量を得る ことができなかった。
なお、 ウォープリンググループの深さが 3 0 n m以下では、 ゥォ一ブル信号を 再生することは実質的に不可能であった。 また、 上記のような光ピックアップの 仕様の条件下でウォープリンググループの開口幅の最小値が 2 9 O n mであると きにその底面の幅が 5 0 n m以上であれば、 ウォーブル信号の良好な再生が可能 であることが確認されたことに基づけば、 ウォーブリンググループの溝の底面の 幅は 5 0 n m以上であることが望ましく、 また開口幅に対する底面の幅の比率は 1 7 %以上に設定することが望ましいものと推定される。 ただし、 ウォーブリン ググループの仕様についてはこれのみには限定されないことは言うまでもない。 なお、 本発明は、 ピットと断面形状が浅い U字状のウォープリンググループの フォーマツ卜を有する光記録媒体およびその製造に使用される光記録媒体製造用 原盤に対して広く適用可能である。 また、 本発明の適用対象となる光記録媒体は、 例えば、 再生専用の光記録媒体、 繰り返しデータの書き換えが可能な光記録媒体、 あるいはデータの追記は可能だが消去はできないような光記録媒体の、 いずれで も可能である。
また、 光記録媒体におけるデー夕の記録方式についても特に限定されるもので はなく、 本発明の対象となる光記録媒体は、 例えばあらかじめデータが書き込ま れている再生専用の光記録媒体、 磁気光学効果を利用してデータの記録再生を行 う光磁気記録媒体、 あるいは記録層の相変化を利用してデータの記録再生を行う 相変化型光記録媒体などのいずれにも可能である。
また、 本発明は、 2つのビームや 3つのビームを再合成することのみには限定 されないことは言うまでもなく、 P B Sを増設することにより、 さらに 4ビーム や 5ビームを並べて配置することなど可能である。
あるいは、 1つのビームを原盤の半径方向に所定の振幅および周期で振らせて、 原盤の半径方向に疑似的な （見掛けの） 幅広のスポットを形成し、 それにより所 定の底面の幅を有するウォープリンググループの潜像を形成するようにしてもよ い。
また、 光学的記録方法または光学的記録装置のみならず、 信号記録システムま たは装置あるいは両方の機能を有するシステムまたは装置などにも適用可能であ る。
以上説明したように、 本発明の光記録媒体によれば、 グループを、 溝の深さが ピッ卜の深さよりも浅く、 かつその溝の断面形状が U字状に形成されているよう にしたので、 再生時などに十分なサーポ信号量あるいはプッシュプル信号量を得 ることができるという効果を奏する。 また、 そのグループの溝の深さの分布のば らっきを抑制することが可能となり、 延いては均一な記録再生特性を確保するこ とができるという効果を奏する。
また、 本発明の光記録媒体製造用原盤または本発明の光記録媒体製造用原盤の 製造装置または本発明の光記録媒体製造用原盤の製造方法によれば、 光源から供 給される 1つの露光ビームにウォーブリングのための光偏向を施した後、 それを 複数の露光ビームに分割し、 その複数の露光ビームを光記録媒体製造用原盤の半 径方向に所定の幅に並ぶように配列し、 上記の 1つの露光ビームよりもスポット 幅が光記録媒体製造用原盤の半径方向に広い露光ビームを光記録媒体製造用原盤 に照射して断面が U字状のグループを形成するための潜像を光記録媒体製造用原 盤に露光し、 その潜像を現像して、 断面が U字状のグループの原型を備えた光記 録媒体製造用原盤を得るようにしたので、 その光記録媒体製造用原盤を用いて製 造される光記録媒体のグループを、 断面形状が U字状で所定の幅の平坦な底面を 有する浅い溝とすることができるという効果を奏する。
また、 光源から供給される 1つの露光ビームにウォーブリングのための光偏向 を施した後に、 それを複数の露光ビームに分割し、 その複数の露光ビームを光記 録媒体製造用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して、 上記のような光 記録媒体製造用原盤の半径方向にスポット幅が広い露光ビームを形成するように したので、 その複数の露光ビームの位相がずれたり最終的に光記録媒体製造用原 盤に照射される際に干渉を生じたりウォープリングのための偏光条件がそれら複 数の露光ビームの間で異なったものとなりゥォ一ブルが乱れるなどといった種々 の不都合を生じることなく、 断面形状が U字状で平坦な所定の幅の底面を有して おり、 かつ溝の浅いウォープリンググループを、 確実かつ簡易に形成することが 可能となる。 しかも、 そのように溝が浅くかつ底面が所定の幅を有するゥオーブ リンググループを実現することによって、 記録密度のさらなる向上を達成するこ とが可能となる。
以上の説明に基づき、 本発明の種々の態様や変形例を実施可能であることは明 らかである。 したがって、 以下のクレームの均等の範囲において、 上記の詳細な 説明における態様以外の態様で本発明を実施することが可能である。

Claims

請求の範囲
1 . 基板に溝状のグループと円周方向に離散的に配列形成された複数個のピット とが形成された光記録媒体であって、
前記グループが、 溝の深さがピットの深さよりも浅く、 かつその溝の断面形状 が U字状に形成されている
ことを特徴とする光記録媒体。
2 . 前記グループが、 その溝によるトラックが蛇行するように設けられたウォー ブリンググループである
ことを特徴とする請求の範囲第 1項記載の光記録媒体。
3 . 前記グループが、 前記 U字状の溝における開口の幅に対する底面の幅の比率 が 1 7 %以上に設定されている
ことを特徴とする請求の範囲第 1項記載の光記録媒体。
4 . 基板に、 溝状のグループと円周方向に離散的に配列形成された複数個のピッ 卜とが形成された光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒体製造用原盤 であって、 ，
前記光記録媒体のグループが、 溝の深さがピットの深さよりも浅く、 かつその 溝の断面形状が U字状に形成されている
ことを特徴とする光記録媒体製造用原盤。
5 . 前記光記録媒体のグループが、 その溝によるトラックが蛇行するように設け られたウォーブリンググループである
ことを特徴とする請求の範囲第 4項記載の光記録媒体製造用原盤。
6 . 前記光記録媒体のグループが、 前記 U字状の溝における開口の幅に対する底 面の幅の比率が 1 7 %以上に設定されているものである
ことを特徴とする請求の範囲第 4項記載の光記録媒体製造用原盤。
7 . 基板に溝状のグループと円周方向に離散的に配列形成された複数個のピット とを有する光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒体製造用原盤の製造 装置であって、
光源から供給される 1つの露光ビームを二つのビームに分割する第 1のビーム スプリツ夕と、
前記分割された一方のビームにピット変調を施すピット変調手段と、 前記ピット変調が施されたビ一ムを前記光記録媒体製造用原盤の表面に照射し て前記ピットを形成するための潜像を露光するピット露光手段と、
前記分割された他方のビームに、 ウォープリングのための光偏向を施すウォー ブル偏向手段と、
前記ウォープリングのための光偏向が施されたビームを、 複数の露光ビームに 分割する第 2のビ一ムスプリッ夕と、
前記複数の露光ビームを、 偏光ビームスプリッタによって前記光記録媒体製造 用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して前記 1つの露光ビームよりも 前記半径方向にスポット幅が広い露光ビームを前記光記録媒体製造用原盤の表面 に照射することにより、 断面が U字状でかつ前記ピッ卜の深さよりも溝の浅いグ ループを形成するための潜像を前記光記録媒体製造用原盤の表面に露光するダル ーブ露光手段と
を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用原盤の製造装置。
8 . 基板に少なくとも溝状のグループを有する光記録媒体を製造するために用い られる光記録媒体製造用原盤の製造装置であって、
光源から供給される 1つの露光ビームにウォーブリングのための光偏向を施す ウォーブル偏光手段と、
前記ウォープリングのための光偏向が施されたビームを、 複数の露光ビームに 分割するビームスプリッタと、
前記複数の露光ビームを、 偏光ビ一ムスプリッタによって前記光記録媒体製造 用原盤の半径方向に所定の幅に並ぶように配列して前記 1つの露光ビームよりも 前記半径方向にスポット幅が広い露光ビームを前記光記録媒体製造用原盤の表面 に照射することにより、 断面が U字状のグループを形成するための潜像を前記光 記録媒体製造用原盤の表面に露光するグループ露光手段と
を備えたことを特徴とする光記録媒体製造用原盤の製造装置。
9 . 前記グループが、 その溝によるトラックが蛇行するように設けられたウォー ブリンググループである ことを特徴とする請求の範囲第 8項記載の光記録媒体製造用原盤の製造装置。
1 0 . 前記グループが、 前記 U字状の溝における開口の幅に対する底面の幅の比 率が 1 7 %以上に設定されている
ことを特徴とする請求の範囲第 8項記載の光記録媒体製造用原盤の製造装置。
1 1 . 基板に溝状のグループと円周方向に離散的に配列形成された複数個のピッ 卜とを有する光記録媒体を製造するために用いられる光記録媒体製造用原盤の製 造方法であって、
光源から供給される 1つの露光ビームを第 1のビームスプリッ夕によって二つ のビームに分割し、 前記分割された一方のビームは、 ピット変調を施して前記光 記録媒体製造用原盤の表面に照射して前記ピットを形成するための潜像を露光し、 前記分割された他方のビームは、 ウォープリングのための光偏向を施した後、 第
2のビームスプリッタによって複数の露光ビームに分割し、 その複数の露光ビー ムを、 偏光ビームスプリッタによって前記光記録媒体製造用原盤の半径方向に所 定の幅に並ぶように配列して前記 1つの露光ビームよりも前記半径方向にスポッ ト幅が広い露光ビームを前記光記録媒体製造用原盤の表面に照射することにより、 断面が U字状のグループを形成するための潜像を前記光記録媒体製造用原盤の表 面に露光する
ことを特徴とする光記録媒体製造用原盤の製造方法。
1 2 . 基板に少なくとも溝状のグループを有する光記録媒体を製造するために用 いられる光記録媒体製造用原盤の製造方法であって、
光源から供給される 1つの露光ビームにウォープリングのための光偏向を施し た後、 ビームスプリッタによって複数の露光ビームに分割し、 その複数の露光ビ —ムを、 偏光ビームスプリッタによって前記光記録媒体製造用原盤の半径方向に 所定の幅に並ぶように配列して、 前記光記録媒体製造用原盤の表面に前記 1つの 露光ビームよりも前記半径方向にスポット幅が広い露光ビームを照射することに より、 断面が U字状のグループを形成するための潜像を光記録媒体製造用原盤の 表面に露光する
ことを特徴とする光記録媒体製造用原盤の製造方法。
1 3 . 前記グループが、 その溝によるトラックが蛇行するように設けられたゥォ 一ブリンググループである
ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項記載の光記録媒体製造用原盤の製造方法 c 1 4 . 前記グループが、 前記 U字状の溝における開口の幅に対する底面の幅の比 率が 1 7 %以上に設定されている
ことを特徴とする請求の範囲第 1 2項記載の光記録媒体製造用原盤の製造方法 c
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