JPH0845116A - 光ディスクパターン形成方法及び光ディスク - Google Patents
光ディスクパターン形成方法及び光ディスクInfo
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- JPH0845116A JPH0845116A JP6182475A JP18247594A JPH0845116A JP H0845116 A JPH0845116 A JP H0845116A JP 6182475 A JP6182475 A JP 6182475A JP 18247594 A JP18247594 A JP 18247594A JP H0845116 A JPH0845116 A JP H0845116A
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- resist layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】安定した、再現性の良い光ディスクパターンが
得られる光ディスクパターン形成方法を提供する。 【構成】本発明は、ガラス基板上にレジスト層を形成し
た光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露光し
た後、現像処理を施して溝（グルーブ）及び／またはピ
ットからなるパターンを形成する光ディスクパターン形
成方法において、上記ガラス基板１上にレジスト塗布と
プリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レジ
ストの露光感度を変化させた多層レジスト膜２，３を形
成し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ６及び／
またはピット５を形成する。 【効果】レジストの露光感度を変化させた多層レジスト
膜を形成しているので、レーザ光の露光面パワーを変え
ることにより深さの異なる断面形状が台形のグルーブと
ピットを形成することができ、安定した、再現性の良い
光ディスクパターンが得られる。
得られる光ディスクパターン形成方法を提供する。 【構成】本発明は、ガラス基板上にレジスト層を形成し
た光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露光し
た後、現像処理を施して溝（グルーブ）及び／またはピ
ットからなるパターンを形成する光ディスクパターン形
成方法において、上記ガラス基板１上にレジスト塗布と
プリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レジ
ストの露光感度を変化させた多層レジスト膜２，３を形
成し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ６及び／
またはピット５を形成する。 【効果】レジストの露光感度を変化させた多層レジスト
膜を形成しているので、レーザ光の露光面パワーを変え
ることにより深さの異なる断面形状が台形のグルーブと
ピットを形成することができ、安定した、再現性の良い
光ディスクパターンが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクパターン形
成方法及び光ディスクに関する。
成方法及び光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク基板では、同心円状または螺
旋状の溝及び／または信号用ピットがアクリル樹脂ある
いはポリカーボネート樹脂等からなる透明基板上に形成
されている。このような溝及び／または信号用ピットか
らなる光ディスクパターンは、予め光ディスク用原盤の
レジスト層に形成され、この光ディスク用原盤にＮｉメ
ッキ（あるいは蒸着）を施して光ディスクパターンのネ
ガ像が転写されたスタンパを作製し、このスタンパを原
盤から剥離して光ディスク作製用の型として用い、アク
リル樹脂あるいはポリカーボネート樹脂等を材料として
射出成形等によって光ディスクパターンが転写された透
明基板を作製する。そして、この透明基板のパターン形
成面にＡｌ等の反射膜を蒸着した後、透明プラスチック
による保護膜を設けるか、あるいは２枚のディスクを合
わせてサンドイッチ構造を形成すれば、所望のパターン
を有する光ディスクが得られる。
旋状の溝及び／または信号用ピットがアクリル樹脂ある
いはポリカーボネート樹脂等からなる透明基板上に形成
されている。このような溝及び／または信号用ピットか
らなる光ディスクパターンは、予め光ディスク用原盤の
レジスト層に形成され、この光ディスク用原盤にＮｉメ
ッキ（あるいは蒸着）を施して光ディスクパターンのネ
ガ像が転写されたスタンパを作製し、このスタンパを原
盤から剥離して光ディスク作製用の型として用い、アク
リル樹脂あるいはポリカーボネート樹脂等を材料として
射出成形等によって光ディスクパターンが転写された透
明基板を作製する。そして、この透明基板のパターン形
成面にＡｌ等の反射膜を蒸着した後、透明プラスチック
による保護膜を設けるか、あるいは２枚のディスクを合
わせてサンドイッチ構造を形成すれば、所望のパターン
を有する光ディスクが得られる。
【０００３】次に、光ディスク用原盤にグルーブ及び／
またはピットからなる所望のパターンを形成する際の、
従来の光ディスクパターン形成方法について図６を用い
て簡単に説明する。 工程１：図６(ａ)に示すように、予め研磨、洗浄された
ガラス基板１１上にポジ型フォトレジストをスピンコー
ト法により所望の厚さに塗布し、クリーンオーブン中で
加熱処理を行なってレジスト層１２を形成する。 工程２：次に、図６(ｂ)に示すように、レジスト層１２
にレーザビーム１３，１４を照射する。このときレーザ
ビーム１４の露光面パワーはレーザビーム１３の露光面
パワーの３０〜７０％に設定する。 工程３：最後に現像処理を行なうと、図６(ｃ)に示すよ
うに、レーザ光１３の照射部のレジストは全て除去さ
れ、断面形状が台形のピット１５が形成される。一方、
レーザビーム１４の照射部のレジストは露光面パワーが
小さいために、レジスト層１２の膜厚のほぼ１／２程度
除去されて、断面形状がＶ字形のグルーブ（溝）１６が
形成される。 以上の工程により、光ディスク用原盤に用いられる光デ
ィスクパターンが完成する。
またはピットからなる所望のパターンを形成する際の、
従来の光ディスクパターン形成方法について図６を用い
て簡単に説明する。 工程１：図６(ａ)に示すように、予め研磨、洗浄された
ガラス基板１１上にポジ型フォトレジストをスピンコー
ト法により所望の厚さに塗布し、クリーンオーブン中で
加熱処理を行なってレジスト層１２を形成する。 工程２：次に、図６(ｂ)に示すように、レジスト層１２
にレーザビーム１３，１４を照射する。このときレーザ
ビーム１４の露光面パワーはレーザビーム１３の露光面
パワーの３０〜７０％に設定する。 工程３：最後に現像処理を行なうと、図６(ｃ)に示すよ
うに、レーザ光１３の照射部のレジストは全て除去さ
れ、断面形状が台形のピット１５が形成される。一方、
レーザビーム１４の照射部のレジストは露光面パワーが
小さいために、レジスト層１２の膜厚のほぼ１／２程度
除去されて、断面形状がＶ字形のグルーブ（溝）１６が
形成される。 以上の工程により、光ディスク用原盤に用いられる光デ
ィスクパターンが完成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光ディスクパターン形成方法では、断面形状がＶ字形の
グルーブを安定して形成するのは困難である。というの
は、例えばレジスト膜厚１７５０Åの場合について図３
（プリ現像なしの曲線）に示すと、露光面パワーに対す
るグルーブ深さの関係は、１０００Å付近で曲線の勾配
が急であり、露光面パワーのわずかな変動によってグル
ーブ深さが大きく変化するからである。また、下記の変
動要因、 １）露光面パワーの変動、 ２）レジスト膜の感度変化、 ３）現像液濃度、 ４）現像液液温、 等の影響により、Ｖ字形のグルーブを安定にかつ再現性
良く形成するのは困難である。 上記の理由から、従来の方法ではグルーブ深さの変動が
大きいため、再現性が悪く、安定した信号特性が得られ
ないという問題点があった。
光ディスクパターン形成方法では、断面形状がＶ字形の
グルーブを安定して形成するのは困難である。というの
は、例えばレジスト膜厚１７５０Åの場合について図３
（プリ現像なしの曲線）に示すと、露光面パワーに対す
るグルーブ深さの関係は、１０００Å付近で曲線の勾配
が急であり、露光面パワーのわずかな変動によってグル
ーブ深さが大きく変化するからである。また、下記の変
動要因、 １）露光面パワーの変動、 ２）レジスト膜の感度変化、 ３）現像液濃度、 ４）現像液液温、 等の影響により、Ｖ字形のグルーブを安定にかつ再現性
良く形成するのは困難である。 上記の理由から、従来の方法ではグルーブ深さの変動が
大きいため、再現性が悪く、安定した信号特性が得られ
ないという問題点があった。
【０００５】本発明は上記の問題点を解決するためにな
されたものであって、その目的は、安定した、再現性の
良い光ディスクパターンが得られる光ディスクパターン
形成方法及びその光ディスクパターン形成方法を用いて
作製された光ディスクを提供することにある。
されたものであって、その目的は、安定した、再現性の
良い光ディスクパターンが得られる光ディスクパターン
形成方法及びその光ディスクパターン形成方法を用いて
作製された光ディスクを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、ガラス基板上にレジスト層を形
成した光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露
光した後、現像処理を施して溝（グルーブ）及び／また
はピットからなるパターンを形成する光ディスクパター
ン形成方法において、上記ガラス基板上にレジスト塗布
とプリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レ
ジストの露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成
し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ及び／また
はピットを形成することを特徴とする。
め、請求項１の発明は、ガラス基板上にレジスト層を形
成した光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露
光した後、現像処理を施して溝（グルーブ）及び／また
はピットからなるパターンを形成する光ディスクパター
ン形成方法において、上記ガラス基板上にレジスト塗布
とプリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レ
ジストの露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成
し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ及び／また
はピットを形成することを特徴とする。
【０００７】請求項２の発明は、請求項１の光ディスク
パターン形成方法において、上層レジストの露光感度を
上げるために、レジスト層ｉ（ｉ≧２）層のプリベーク
時間ｔi をｔi＜ｔi-1とすることを特徴とする。
パターン形成方法において、上層レジストの露光感度を
上げるために、レジスト層ｉ（ｉ≧２）層のプリベーク
時間ｔi をｔi＜ｔi-1とすることを特徴とする。
【０００８】請求項３の発明は、請求項１の光ディスク
パターン形成方法において、下層レジストの露光感度を
下げるために、レジスト層ｉ（ｉ≧１）層を現像後、レ
ジスト層（ｉ＋１）層を形成することを特徴とする。
パターン形成方法において、下層レジストの露光感度を
下げるために、レジスト層ｉ（ｉ≧１）層を現像後、レ
ジスト層（ｉ＋１）層を形成することを特徴とする。
【０００９】請求項４の発明は、請求項１，２，３の光
ディスクパターン形成方法において、レジスト層間の混
合を防止するために、レジスト層間に水溶性樹脂溶液か
らなる中間層を形成することを特徴とする。
ディスクパターン形成方法において、レジスト層間の混
合を防止するために、レジスト層間に水溶性樹脂溶液か
らなる中間層を形成することを特徴とする。
【００１０】請求項５の発明は、読み出し専用領域（Ｒ
ＯＭ）と追記可能領域（ＲＡＭ）を持つハイブリッドタ
イプの光ディスクにおいて、再現性良く、安定した信号
特性を得るために、ピット及びグルーブの深さが異な
り、それらの断面形状が台形であることを特徴とする。
ＯＭ）と追記可能領域（ＲＡＭ）を持つハイブリッドタ
イプの光ディスクにおいて、再現性良く、安定した信号
特性を得るために、ピット及びグルーブの深さが異な
り、それらの断面形状が台形であることを特徴とする。
【００１１】請求項６の発明は、基板上にあらかじめア
ドレス信号に相当するピットと、トラッキング用のグル
ーブを持つ光ディスクにおいて、再現性良く、安定した
信号特性を得るために、ピット及びグルーブの深さが異
なり、それらの断面形状が台形であることを特徴とす
る。
ドレス信号に相当するピットと、トラッキング用のグル
ーブを持つ光ディスクにおいて、再現性良く、安定した
信号特性を得るために、ピット及びグルーブの深さが異
なり、それらの断面形状が台形であることを特徴とす
る。
【００１２】
【作用】本発明の光ディスクパターン形成方法において
は、レジスト塗布とプリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返
すことにより、レジストの露光感度を変化させた多層レ
ジスト膜を形成しているので、深さの異なる断面形状が
台形のグルーブ及び／またはピットを形成することがで
きる。これによって安定した、再現性の良い光ディスク
パターンが得られる。また、本発明の光ディスクにおい
ては、深さの異なるピットとグルーブを形成しているの
で、再現性の良い光ディスクパターンが得られ、安定し
た信号特性を得ることができる。
は、レジスト塗布とプリベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返
すことにより、レジストの露光感度を変化させた多層レ
ジスト膜を形成しているので、深さの異なる断面形状が
台形のグルーブ及び／またはピットを形成することがで
きる。これによって安定した、再現性の良い光ディスク
パターンが得られる。また、本発明の光ディスクにおい
ては、深さの異なるピットとグルーブを形成しているの
で、再現性の良い光ディスクパターンが得られ、安定し
た信号特性を得ることができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。 ［実施例１］本発明の光ディスクパターン形成方法の一
実施例について、図１を用いて説明する。まず、ガラス
基板１上に所定の厚さになるようにレジストをスピンコ
ート法等により塗布し、プリベークを行ないレジスト層
２を形成する（図１(ａ)）。次に、レジスト層２の上に
グルーブ深さに相当する厚さにレジスト層３を形成する
（図１(ｂ)）。このとき、レジスト層２，３の厚さの和
はピット深さに相当する。次に、この基板をレーザビー
ム４ａ，４ｂで露光する（図１(ｃ)）。このとき、レー
ザビーム４ｂの露光面パワーはレーザビーム４ａの露光
面パワーの４０％〜７０％に設定する。続いて、アルカ
リ現像液で現像処理を行なうと、レーザビーム４ａ，４
ｂによって露光された部分に、それぞれ断面形状が台形
で深さの異なるピット５とグルーブ６が形成される（図
１(ｄ)）。
する。 ［実施例１］本発明の光ディスクパターン形成方法の一
実施例について、図１を用いて説明する。まず、ガラス
基板１上に所定の厚さになるようにレジストをスピンコ
ート法等により塗布し、プリベークを行ないレジスト層
２を形成する（図１(ａ)）。次に、レジスト層２の上に
グルーブ深さに相当する厚さにレジスト層３を形成する
（図１(ｂ)）。このとき、レジスト層２，３の厚さの和
はピット深さに相当する。次に、この基板をレーザビー
ム４ａ，４ｂで露光する（図１(ｃ)）。このとき、レー
ザビーム４ｂの露光面パワーはレーザビーム４ａの露光
面パワーの４０％〜７０％に設定する。続いて、アルカ
リ現像液で現像処理を行なうと、レーザビーム４ａ，４
ｂによって露光された部分に、それぞれ断面形状が台形
で深さの異なるピット５とグルーブ６が形成される（図
１(ｄ)）。
【００１４】［実施例２］図１に示した光ディスクパタ
ーン形成方法において、レジストの露光感度は、プリベ
ーク時間によって図２のように変化する。そこで、プリ
ベーク時間を通常より短くすることによって、感度特性
の良い上層レジスト層３を下層レジスト層２の上に形成
した。これによって、グルーブ形成時の露光面パワーを
小さくできるので、下層レジスト２まで現像されずに、
グルーブ６は上下のレジスト層の境界部でカットでき
た。
ーン形成方法において、レジストの露光感度は、プリベ
ーク時間によって図２のように変化する。そこで、プリ
ベーク時間を通常より短くすることによって、感度特性
の良い上層レジスト層３を下層レジスト層２の上に形成
した。これによって、グルーブ形成時の露光面パワーを
小さくできるので、下層レジスト２まで現像されずに、
グルーブ６は上下のレジスト層の境界部でカットでき
た。
【００１５】［実施例３］図１に示した光ディスクパタ
ーン形成方法において、レジストの露光感度は、プリ現
像（露光前に現像する）によって図３のように変化す
る。そこで、下層レジスト層２を形成した後、プリ現像
することによって露光感度を下げ、この上に実施例１と
同様に上層レジスト３を形成した。これによってグルー
ブ６は下層レジスト２層まで現像されずに、上下のレジ
スト層の境界部でカットできた。
ーン形成方法において、レジストの露光感度は、プリ現
像（露光前に現像する）によって図３のように変化す
る。そこで、下層レジスト層２を形成した後、プリ現像
することによって露光感度を下げ、この上に実施例１と
同様に上層レジスト３を形成した。これによってグルー
ブ６は下層レジスト２層まで現像されずに、上下のレジ
スト層の境界部でカットできた。
【００１６】［実施例４］本発明の光ディスクパターン
形成方法の別の実施例について、図４を用いて説明す
る。まず、実施例１と同様にガラス基板１上にレジスト
層２を形成する（図４(ａ)）。この上に水溶性の樹脂溶
液をスピンコート法等により塗布し、加熱処理を行な
い、中間層７を形成する（図４(ｂ)）。すなわち、この
中間層７によって、レジスト層間の混合を防止する。続
いて実施例１と同様にして中間層７の上にレジスト層３
を形成し（図４(ｃ)）、レーザビーム４ａ，４ｂによる
露光後（図５(ｄ)）、現像処理を施すことによって、そ
れぞれ断面形状が台形で深さの異なるピット５とグルー
ブ６が形成できた（図４(ｅ)）。このとき、レジスト層
２、中間層７、レジスト層３のそれぞれの膜厚の和がピ
ット深さに、中間層７とレジスト層３の膜厚の和がグル
ーブ深さになるように各層の膜厚を設定した。
形成方法の別の実施例について、図４を用いて説明す
る。まず、実施例１と同様にガラス基板１上にレジスト
層２を形成する（図４(ａ)）。この上に水溶性の樹脂溶
液をスピンコート法等により塗布し、加熱処理を行な
い、中間層７を形成する（図４(ｂ)）。すなわち、この
中間層７によって、レジスト層間の混合を防止する。続
いて実施例１と同様にして中間層７の上にレジスト層３
を形成し（図４(ｃ)）、レーザビーム４ａ，４ｂによる
露光後（図５(ｄ)）、現像処理を施すことによって、そ
れぞれ断面形状が台形で深さの異なるピット５とグルー
ブ６が形成できた（図４(ｅ)）。このとき、レジスト層
２、中間層７、レジスト層３のそれぞれの膜厚の和がピ
ット深さに、中間層７とレジスト層３の膜厚の和がグル
ーブ深さになるように各層の膜厚を設定した。
【００１７】［実施例５］実施例１に示した方法で形成
した２層レジスト層にレーザビームを露光したときの露
光面パワーに対するグルーブ深さの変化は図５のように
なる。すなわち、グルーブ深さが上層レジスト３のとき
に肩ができ、この肩の幅だけ、従来方法に比べて製造マ
ージンが広がった（従来の方法に比べて露光面パワーの
変動に対する許容量が大きく、グルーブ深さの変動を小
さくできる）。従って、グルーブ６の深さが上層レジス
ト３の膜厚で決まるので、再現性良く光ディスクパター
ンが形成でき、これから得られる光ディスクの信号特性
も安定したものとなる。
した２層レジスト層にレーザビームを露光したときの露
光面パワーに対するグルーブ深さの変化は図５のように
なる。すなわち、グルーブ深さが上層レジスト３のとき
に肩ができ、この肩の幅だけ、従来方法に比べて製造マ
ージンが広がった（従来の方法に比べて露光面パワーの
変動に対する許容量が大きく、グルーブ深さの変動を小
さくできる）。従って、グルーブ６の深さが上層レジス
ト３の膜厚で決まるので、再現性良く光ディスクパター
ンが形成でき、これから得られる光ディスクの信号特性
も安定したものとなる。
【００１８】従って、本発明の光ディスクパターン形成
方法を用いて光ディスク用原盤を作製すれば、読み出し
専用領域（ＲＯＭ）と追記可能領域（ＲＡＭ）を持つハ
イブリッドタイプの光ディスク（所謂ＣＤ−Ｒディス
ク）において、ピット及びグルーブの深さを異ならせる
ことができ、それらの断面形状を台形とすることができ
るため、再現性良く、安定した信号特性を得ることがで
きる。
方法を用いて光ディスク用原盤を作製すれば、読み出し
専用領域（ＲＯＭ）と追記可能領域（ＲＡＭ）を持つハ
イブリッドタイプの光ディスク（所謂ＣＤ−Ｒディス
ク）において、ピット及びグルーブの深さを異ならせる
ことができ、それらの断面形状を台形とすることができ
るため、再現性良く、安定した信号特性を得ることがで
きる。
【００１９】同様に、基板上にあらかじめアドレス信号
に相当するピットと、トラッキング用のグルーブを持つ
光ディスクにおいても、ピット及びグルーブの深さを異
ならせることができ、それらの断面形状を台形とするこ
とができるため、再現性良く、安定した信号特性を得る
ことができる。
に相当するピットと、トラッキング用のグルーブを持つ
光ディスクにおいても、ピット及びグルーブの深さを異
ならせることができ、それらの断面形状を台形とするこ
とができるため、再現性良く、安定した信号特性を得る
ことができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の光ディ
スクパターン形成方法においては、レジスト塗布とプリ
ベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レジスト
の露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成している
ので、深さの異なる断面形状が台形のグルーブとピット
を形成することができる。これによって安定した、再現
性の良い光ディスクパターンが得られる。
スクパターン形成方法においては、レジスト塗布とプリ
ベークをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レジスト
の露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成している
ので、深さの異なる断面形状が台形のグルーブとピット
を形成することができる。これによって安定した、再現
性の良い光ディスクパターンが得られる。
【００２１】請求項２の光ディスクパターン形成方法に
おいては、レジスト層ｉ（ｉ≧２）層のプリベーク時間
ｔi をｔi＜ｔi-1とすることで、グルーブ形成用のレー
ザ光の露光面パワーを小さく設定できるので、下層レジ
ストまで現像されずに、深さの異なる断面形状が台形の
ピットとグルーブを精度良く形成できる。
おいては、レジスト層ｉ（ｉ≧２）層のプリベーク時間
ｔi をｔi＜ｔi-1とすることで、グルーブ形成用のレー
ザ光の露光面パワーを小さく設定できるので、下層レジ
ストまで現像されずに、深さの異なる断面形状が台形の
ピットとグルーブを精度良く形成できる。
【００２２】請求項３の光ディスクパターン形成方法に
おいては、レジスト層ｉ（ｉ≧１）層を現像後、レジス
ト層（ｉ＋１）層を形成することで、ｉ層の露光感度を
下げているので、深さの異なる断面形状が台形のピット
とグルーブを精度良く形成できる。
おいては、レジスト層ｉ（ｉ≧１）層を現像後、レジス
ト層（ｉ＋１）層を形成することで、ｉ層の露光感度を
下げているので、深さの異なる断面形状が台形のピット
とグルーブを精度良く形成できる。
【００２３】請求項４の光ディスクパターン形成方法に
おいては、レジスト層に中間層を形成しているので、レ
ジスト層間が混合することがなく、深さの異なる断面形
状が台形のピットとグルーブを精度良く形成できる。
おいては、レジスト層に中間層を形成しているので、レ
ジスト層間が混合することがなく、深さの異なる断面形
状が台形のピットとグルーブを精度良く形成できる。
【００２４】請求項５のハイブリッドタイプの光ディス
クにおいては、深さの異なる断面形状が台形のピットと
グルーブを形成しているので、再現性の良い光ディスク
パターンが得られ、安定した信号特性を得ることができ
る。従って、品質の優れた光ディスクが得られる。
クにおいては、深さの異なる断面形状が台形のピットと
グルーブを形成しているので、再現性の良い光ディスク
パターンが得られ、安定した信号特性を得ることができ
る。従って、品質の優れた光ディスクが得られる。
【００２５】請求項６の光ディスクにおいては、深さの
異なる断面形状が台形のピットとグルーブを形成してい
るので、再現性の良い光ディスクパターンが得られ、安
定した信号特性を得ることができる。従って、品質の優
れた光ディスクが得られる。
異なる断面形状が台形のピットとグルーブを形成してい
るので、再現性の良い光ディスクパターンが得られ、安
定した信号特性を得ることができる。従って、品質の優
れた光ディスクが得られる。
【図１】本発明の一実施例を示す光ディスクパターン形
成方法の工程説明図である。
成方法の工程説明図である。
【図２】露光用レーザ光は同一露光面パワーとし、レジ
スト層のプリベーク時間を変化させたときの溝深さの変
化を示す図である。
スト層のプリベーク時間を変化させたときの溝深さの変
化を示す図である。
【図３】レジスト層にプリ現像を行なった場合と行なわ
ない場合の、露光用レーザ光の露光面パワーに対するグ
ルーブ深さの変化を示す図である。
ない場合の、露光用レーザ光の露光面パワーに対するグ
ルーブ深さの変化を示す図である。
【図４】本発明の別の実施例を示す光ディスクパターン
形成方法の工程説明図である。
形成方法の工程説明図である。
【図５】上下のレジスト層で露光感度が異なる２層レジ
スト層にレーザ光を露光したときの、露光面パワーに対
するグルーブ深さの変化を示す図である。
スト層にレーザ光を露光したときの、露光面パワーに対
するグルーブ深さの変化を示す図である。
【図６】従来技術の一例を示す光ディスクパターン形成
方法の工程説明図である。
方法の工程説明図である。
１：ガラス基板 ２：レジスト層 ３：レジスト層 ４ａ：ピット用レーザビーム ４ｂ：グルーブ用レーザビーム ５：ピット ６：グルーブ ７：中間層
Claims (6)
- 【請求項１】ガラス基板上にレジスト層を形成した光デ
ィスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露光した後、
現像処理を施して溝（グルーブ）及び／またはピットか
らなるパターンを形成する光ディスクパターン形成方法
において、上記ガラス基板上にレジスト塗布とプリベー
クをｎ（ｎ≧２）回繰り返すことにより、レジストの露
光感度を変化させた多層レジスト膜を形成し、深さの異
なる断面形状が台形のグルーブ及び／またはピットを形
成することを特徴とする光ディスクパターン形成方法。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスクパターン形成方
法において、レジスト層ｉ（ｉ≧２）層のプリベーク時
間ｔi をｔi＜ｔi-1とすることを特徴とする光ディスク
パターン形成方法。 - 【請求項３】請求項１記載の光ディスクパターン形成方
法において、レジスト層ｉ（ｉ≧１）層を現像後、レジ
スト層（ｉ＋１）層を形成することを特徴とする光ディ
スクパターン形成方法。 - 【請求項４】請求項１，２，３記載の光ディスクパター
ン形成方法において、レジスト層間に水溶性樹脂溶液か
らなる中間層を形成することを特徴とする光ディスクパ
ターン形成方法。 - 【請求項５】読み出し専用領域（ＲＯＭ）と追記可能領
域（ＲＡＭ）を持つハイブリッドタイプの光ディスクに
おいて、ピット及びグルーブの深さが異なり、それらの
断面形状が台形であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項６】基板上にあらかじめアドレス信号に相当す
るピットと、トラッキング用のグルーブを持つ光ディス
クにおいて、ピット及びグルーブの深さが異なり、それ
らの断面形状が台形であることを特徴とする光ディス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6182475A JPH0845116A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスクパターン形成方法及び光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6182475A JPH0845116A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスクパターン形成方法及び光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845116A true JPH0845116A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16118926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6182475A Pending JPH0845116A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスクパターン形成方法及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845116A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002222548A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤、光記録媒体製造用原盤の製造装置、光記録媒体製造用原盤の製造方法 |
| WO2006003757A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method of forming plated product using negative photoresist composition and photosensitive composition used therein |
| JP2008512812A (ja) * | 2004-09-08 | 2008-04-24 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | レーザ・ビーム・レコーダ、及びレーザ・ビーム・レコーダを制御する方法 |
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-
1994
- 1994-08-03 JP JP6182475A patent/JPH0845116A/ja active Pending
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