JPH11110831A - 光ディスク製作用マスタディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスク製作用マスタディスクの製造方法Info
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- JPH11110831A JPH11110831A JP10065827A JP6582798A JPH11110831A JP H11110831 A JPH11110831 A JP H11110831A JP 10065827 A JP10065827 A JP 10065827A JP 6582798 A JP6582798 A JP 6582798A JP H11110831 A JPH11110831 A JP H11110831A
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- Japan
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- photoresist layer
- photoresist
- layer
- layers
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/007—Arrangement of the information on the record carrier, e.g. form of tracks, actual track shape, e.g. wobbled, or cross-section, e.g. v-shaped; Sequential information structures, e.g. sectoring or header formats within a track
- G11B7/00718—Groove and land recording, i.e. user data recorded both in the grooves and on the lands
-
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- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- G11B2220/00—Record carriers by type
- G11B2220/20—Disc-shaped record carriers
- G11B2220/25—Disc-shaped record carriers characterised in that the disc is based on a specific recording technology
- G11B2220/2537—Optical discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多量の情報を高密度に記録すると同時にジッ
タエラーを減少させうるように改善された光ディスク製
作用マスタディスク製造方法を提供する。 【解決手段】 （ａ）基板上に第１フォトレジスト層を
形成する段階と、（ｂ）前記第1フォトレジスト層を所
定温度でプレベーキングする段階と、（ｃ）前記第１フ
ォトレジスト層上に第２フォトレジスト層を形成する段
階と、（ｄ）前記第２フォトレジスト層を前記段階
（ｂ）の温度より低い温度でプレベーキングする段階
と、（ｅ）相異なる強度を有する２個のレーザー光を照
射して前記第１、２フォトレジスト層をピットとグルー
ブ及びランドパターンによって露光させる段階と、
（ｆ）前記露光された第１、２フォトレジスト層を蝕刻
する段階とを含む。
タエラーを減少させうるように改善された光ディスク製
作用マスタディスク製造方法を提供する。 【解決手段】 （ａ）基板上に第１フォトレジスト層を
形成する段階と、（ｂ）前記第1フォトレジスト層を所
定温度でプレベーキングする段階と、（ｃ）前記第１フ
ォトレジスト層上に第２フォトレジスト層を形成する段
階と、（ｄ）前記第２フォトレジスト層を前記段階
（ｂ）の温度より低い温度でプレベーキングする段階
と、（ｅ）相異なる強度を有する２個のレーザー光を照
射して前記第１、２フォトレジスト層をピットとグルー
ブ及びランドパターンによって露光させる段階と、
（ｆ）前記露光された第１、２フォトレジスト層を蝕刻
する段階とを含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光記録/再生媒体の
光ディスクを製作するためのマスタディスクを製造する
方法に関する。
光ディスクを製作するためのマスタディスクを製造する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近DVD(digital versatile disc)-RAM
のような高密度光ディスクには、図１に示したように、
螺旋形のトラックに沿って情報が記録されるグルーブ
（ｇｒｏｏｖｅ）１とランド（ｌａｎｄ）２とが備えら
れている。従って、前記グルーブ１とランド２に、各々
ピット３を形成させることによって望む情報が記録でき
る。
のような高密度光ディスクには、図１に示したように、
螺旋形のトラックに沿って情報が記録されるグルーブ
（ｇｒｏｏｖｅ）１とランド（ｌａｎｄ）２とが備えら
れている。従って、前記グルーブ１とランド２に、各々
ピット３を形成させることによって望む情報が記録でき
る。
【０００３】即ち、グルーブ１とランド２の両方に情報
が記録できるので、グルーブ１またはランド２の中で、
いずれか一つだけに情報を記録した従来の光ディスクに
比べて高密度で大容量の情報が記録できる。前記光ディ
スクは図２から図５までに示したような工程を経て製作
される。まず図２に示したように、基板１０上に感光媒
体のフォトレジスト２０をコーティングした後、その基
板１０を回転させながらフォトレジスト２０の表面にグ
ルーブ用レーザー３０及びピット用レーザー３０’を同
時に照射することによってグルーブとランド及びピット
のパターンによって露光させる。図示しないが、レーザ
ー光をｏｎ／ｏｆｆさせるモジュレータが存在する。
が記録できるので、グルーブ１またはランド２の中で、
いずれか一つだけに情報を記録した従来の光ディスクに
比べて高密度で大容量の情報が記録できる。前記光ディ
スクは図２から図５までに示したような工程を経て製作
される。まず図２に示したように、基板１０上に感光媒
体のフォトレジスト２０をコーティングした後、その基
板１０を回転させながらフォトレジスト２０の表面にグ
ルーブ用レーザー３０及びピット用レーザー３０’を同
時に照射することによってグルーブとランド及びピット
のパターンによって露光させる。図示しないが、レーザ
ー光をｏｎ／ｏｆｆさせるモジュレータが存在する。
【０００４】次いで、図３に示したように、前記露光さ
れた基板にエッチング液を噴射させてグルーブとランド
及びピットが形成されたマスタディスク１５を製造す
る。製造された前記マスタディスク１５を、図４のよう
にスタンピングすることにより親ディスク(father dis
c)２５を製造した後、図５に示したように前記親ディス
ク２５を金型４０に装着した後、レジン３５を注入する
射出成形方法により光ディスクを複製する。
れた基板にエッチング液を噴射させてグルーブとランド
及びピットが形成されたマスタディスク１５を製造す
る。製造された前記マスタディスク１５を、図４のよう
にスタンピングすることにより親ディスク(father dis
c)２５を製造した後、図５に示したように前記親ディス
ク２５を金型４０に装着した後、レジン３５を注入する
射出成形方法により光ディスクを複製する。
【０００５】ところが、このようなマスタディスク製造
方法においては、ランド及びグルーブとピットのパター
ンを一つのフォトレジスト層上に露光を通じて形成した
後同時にエッチングするので、図６に示したようにラン
ド及びグルーブとピット間の境界が明確でない。従っ
て、光ディスクの情報再生時情報信号の開始点と終了点
が正確に検出されなくて適期に出力信号が出力されな
い、いわゆるジッタ(jitter)エラーが増えるようにな
る。
方法においては、ランド及びグルーブとピットのパター
ンを一つのフォトレジスト層上に露光を通じて形成した
後同時にエッチングするので、図６に示したようにラン
ド及びグルーブとピット間の境界が明確でない。従っ
て、光ディスクの情報再生時情報信号の開始点と終了点
が正確に検出されなくて適期に出力信号が出力されな
い、いわゆるジッタ(jitter)エラーが増えるようにな
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題を
解決するために創出されたことであって、多量の情報を
高密度に記録すると同時に、ジッタエラーを減少させう
るように改善された光ディスク製作用マスタディスク製
造方法を提供することにその目的がある。
解決するために創出されたことであって、多量の情報を
高密度に記録すると同時に、ジッタエラーを減少させう
るように改善された光ディスク製作用マスタディスク製
造方法を提供することにその目的がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のマスタディスク製造方法は、（ａ）基板上に
第１フォトレジスト層を形成する段階と、（ｂ）前記第
１フォトレジスト層を所定の温度でプレベーキングする
段階と、（ｃ）前記第１フォトレジスト層上に第２フォ
トレジスト層を形成する段階と、（ｄ）前記第２フォト
レジスト層を前記段階（ｂ）の温度より低い温度でプレ
ベーキングする段階と、（ｅ）相異なる強度を有する２
個のレーザー光を照射して前記第１、２フォトレジスト
層をピットとグルーブ及びランドパターンによって露光
させる段階と、（ｆ）前記露光された第１、２フォトレ
ジスト層を蝕刻する段階とを含む。
の本発明のマスタディスク製造方法は、（ａ）基板上に
第１フォトレジスト層を形成する段階と、（ｂ）前記第
１フォトレジスト層を所定の温度でプレベーキングする
段階と、（ｃ）前記第１フォトレジスト層上に第２フォ
トレジスト層を形成する段階と、（ｄ）前記第２フォト
レジスト層を前記段階（ｂ）の温度より低い温度でプレ
ベーキングする段階と、（ｅ）相異なる強度を有する２
個のレーザー光を照射して前記第１、２フォトレジスト
層をピットとグルーブ及びランドパターンによって露光
させる段階と、（ｆ）前記露光された第１、２フォトレ
ジスト層を蝕刻する段階とを含む。
【０００８】前記段階（ｂ）で前記第１フォトレジスト
層は約１３０℃でプレベーキングされ、前記段階（ｄ）
で前記第２フォトレジスト層は、約１１０℃でプレベー
キングされる。また、前記第１、２フォトレジスト層は
同一の材料よりなり、望ましくはプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートよりなる。
層は約１３０℃でプレベーキングされ、前記段階（ｄ）
で前記第２フォトレジスト層は、約１１０℃でプレベー
キングされる。また、前記第１、２フォトレジスト層は
同一の材料よりなり、望ましくはプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートよりなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の一実施の形態について説明する。図７から図１１
までを参照して本発明の実施の形態によるマスタディス
ク製造方法を説明する。まず、段階３００で、図７に示
したように、基板１００の上に第１フォトレジスト層１
１０を塗布する。この時、第１フォトレジスト層１１０
の厚さはλ/４ｎ(λ：再生用レーザー光の波長、ｎ：基
板の屈折率)になるようにすることが望ましい。次い
で、前記第１フォトレジスト層１１０は、約１３０℃で
約３０分程プレベーキングされる（段階３１０）。
発明の一実施の形態について説明する。図７から図１１
までを参照して本発明の実施の形態によるマスタディス
ク製造方法を説明する。まず、段階３００で、図７に示
したように、基板１００の上に第１フォトレジスト層１
１０を塗布する。この時、第１フォトレジスト層１１０
の厚さはλ/４ｎ(λ：再生用レーザー光の波長、ｎ：基
板の屈折率)になるようにすることが望ましい。次い
で、前記第１フォトレジスト層１１０は、約１３０℃で
約３０分程プレベーキングされる（段階３１０）。
【００１０】段階３２０では、図８に示したように、前
記第１フォトレジスト層１１０の上にそれと同じ材料の
第２フォトレジスト層１２０を形成させる。前記第２フ
ォトレジスト層１２０の厚さも、やはりλ/６ｎである
ことが望ましい。次いで、前記第２フォトレジスト層１
２０を、前記第１フォトレジスト層１１０のプレベーキ
ング温度より相対的に低い約１１０℃程度でプレベーキ
ングする（段階３３０）。
記第１フォトレジスト層１１０の上にそれと同じ材料の
第２フォトレジスト層１２０を形成させる。前記第２フ
ォトレジスト層１２０の厚さも、やはりλ/６ｎである
ことが望ましい。次いで、前記第２フォトレジスト層１
２０を、前記第１フォトレジスト層１１０のプレベーキ
ング温度より相対的に低い約１１０℃程度でプレベーキ
ングする（段階３３０）。
【００１１】前記第１、２フォトレジスト層１１０、１
２０に対するプレベーキング温度が相異なるので、前記
第１、２フォトレジスト層１１０、１２０は同じ材料で
あっても、その感光度が相異なるようになる。即ち、相
対的に高温でプレベーキングされた第１フォトレジスト
層１１０の感光度は低い反面、相対的に低温でプレベー
キングされた第２フォトレジスト層２１０の感光度は高
い。プレベーキング温度の差による感光度の差をさらに
大きくするために、前記第１、２のフォトレジスト層１
１０、１２０を、例えばプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートよりなることが望ましい。
２０に対するプレベーキング温度が相異なるので、前記
第１、２フォトレジスト層１１０、１２０は同じ材料で
あっても、その感光度が相異なるようになる。即ち、相
対的に高温でプレベーキングされた第１フォトレジスト
層１１０の感光度は低い反面、相対的に低温でプレベー
キングされた第２フォトレジスト層２１０の感光度は高
い。プレベーキング温度の差による感光度の差をさらに
大きくするために、前記第１、２のフォトレジスト層１
１０、１２０を、例えばプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテートよりなることが望ましい。
【００１２】次に、段階３４０を、図９に示したように
前記第１、２フォトレジスト層１１０、１２０を強度が
相異なる２個のレーザービームを照射することによって
露光させる。相対的に強度が弱いレーザービームＢ１
は、前記第２フォトレジスト層１２０を後述するグルー
ブ１０１（図１０参照）パターンにより露光させるに使
われ、偏向器Ｄにより所定の幅、即ちグルーブ１０１の
幅の範囲内でレーザーの進行方向に対して左右に偏向さ
れながら照射される。前記第２フォトレジスト１２０
は、敏感な感光度を有するので比較的に強度が弱いレー
ザービームＢ１によりグルーブ１０１パターンで露光さ
れる。またこのレーザービームＢ１が照射されない部分
はランド１０２（図１０参照）になる。
前記第１、２フォトレジスト層１１０、１２０を強度が
相異なる２個のレーザービームを照射することによって
露光させる。相対的に強度が弱いレーザービームＢ１
は、前記第２フォトレジスト層１２０を後述するグルー
ブ１０１（図１０参照）パターンにより露光させるに使
われ、偏向器Ｄにより所定の幅、即ちグルーブ１０１の
幅の範囲内でレーザーの進行方向に対して左右に偏向さ
れながら照射される。前記第２フォトレジスト１２０
は、敏感な感光度を有するので比較的に強度が弱いレー
ザービームＢ１によりグルーブ１０１パターンで露光さ
れる。またこのレーザービームＢ１が照射されない部分
はランド１０２（図１０参照）になる。
【００１３】また、相対的に強度が強いレーザービーム
Ｂ２は、前記第２フォトレジスト１２０を通過して前記
第１フォトレジスト層１１０を後述するピット１０３パ
ターンで露光させる。前記のような工程により前記第
１、２フォトレジスト層１１０、１２０は、グルーブと
ランド及びピットパターンで露光される。図面中、参照
符号Ｍ１、Ｍ２2は、レーザー光をｏｎ／ｏｆｆさせる
モジュレータを示す。次いで、前記第１、２フォトレジ
スト層１１０、１２０をエッチングすると、図１０に示
したようにグルーブ１０１とランド１０２及びピット１
０３が鋭く形成されたマスタディスクが得られる（段階
３５０）。
Ｂ２は、前記第２フォトレジスト１２０を通過して前記
第１フォトレジスト層１１０を後述するピット１０３パ
ターンで露光させる。前記のような工程により前記第
１、２フォトレジスト層１１０、１２０は、グルーブと
ランド及びピットパターンで露光される。図面中、参照
符号Ｍ１、Ｍ２2は、レーザー光をｏｎ／ｏｆｆさせる
モジュレータを示す。次いで、前記第１、２フォトレジ
スト層１１０、１２０をエッチングすると、図１０に示
したようにグルーブ１０１とランド１０２及びピット１
０３が鋭く形成されたマスタディスクが得られる（段階
３５０）。
【００１４】前記マスタディスクを利用して前述したよ
うにに光ディスクをコピーする。本発明の効果は次の実
験例によりさらに明らかになる。
うにに光ディスクをコピーする。本発明の効果は次の実
験例によりさらに明らかになる。
【００１５】＜実験例＞従来の方法により製造されたデ
ィスクと本発明の方法により製造されたディスクに対す
る特性比較結果を次の表に示した。
ィスクと本発明の方法により製造されたディスクに対す
る特性比較結果を次の表に示した。
【００１６】
【表１】
【００１７】前記表１に示したように本発明により製造
されたディスクはそのジッタエラー率が従来に比べて程
度に減少され、また再生信号の振幅も向上することがわ
かる。
されたディスクはそのジッタエラー率が従来に比べて程
度に減少され、また再生信号の振幅も向上することがわ
かる。
【００１８】
【発明の効果】前述したように本発明によるマスタディ
スク製造方法によると、グルーブ及びランドとピット間
の境界線を鋭く形成できるので、情報記録及び再生特性
を改善すると同時に情報の高密度記録が実現できる。
スク製造方法によると、グルーブ及びランドとピット間
の境界線を鋭く形成できるので、情報記録及び再生特性
を改善すると同時に情報の高密度記録が実現できる。
【図１】 従来の光ディスクの一部を示した斜視図であ
る。
る。
【図２】 従来の光ディスク製作過程を説明するために
示した図である。
示した図である。
【図３】 従来の光ディスク製作過程を説明するために
示した図である。
示した図である。
【図４】 従来の光ディスク製作過程を説明するために
示した図である。
示した図である。
【図５】 従来の光ディスク製作過程を説明するために
示した図である。
示した図である。
【図６】 従来の製造方法により製造されたマスタディ
スクの断面図である。
スクの断面図である。
【図７】 本発明によるマスタディスク製造方法を説明
するために示した図である。
するために示した図である。
【図８】 本発明によるマスタディスク製造方法を説明
するために示した図である。
するために示した図である。
【図９】 本発明によるマスタディスク製造方法を説明
するために示した図である。
するために示した図である。
【図１０】 本発明によるマスタディスク製造方法を説
明するために示した図である。
明するために示した図である。
【図１１】 本発明によるマスタディスク製造方法を示
した流れ図である。
した流れ図である。
１００ 基板 １０１ グルーブ １０２ ランド １０３ ピット １１０ 第１のフォトレジスト １２０ 第２のフォトレジスト
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１月１９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のマスダディスク製造方法は、（ａ） 基板上
に第1フォトレジスト層を形成する段階と、(b) 前記第1
フォトレジスト層を所定の温度でプレベーキングする段
階と、(c) 前記第1フォトレジスト層の上に第2フォトレ
ジスト層を形成する段階と、(d) 前記第2フォトレジス
ト層を前記段階(b)の温度より低い温度でプレベーキン
グする段階と、(e) 相対的に強度が弱いレーザービーム
を相対的に敏感な感光度を有する前記第２フォトレジス
ト層に照射して、グルーブパターンと前記相対的に強度
が弱いレーザービームが照射されないランド部分とを形
成するとともに、前記第２フォトレジストを通過する相
対的に強度が強いレーザービームを照射して前記第１フ
ォトレジスト層にピットパターンを形成する段階と、
(f) 前記露光された第1、2フォトレジスト層を蝕刻する
段階とを含む。
の本発明のマスダディスク製造方法は、（ａ） 基板上
に第1フォトレジスト層を形成する段階と、(b) 前記第1
フォトレジスト層を所定の温度でプレベーキングする段
階と、(c) 前記第1フォトレジスト層の上に第2フォトレ
ジスト層を形成する段階と、(d) 前記第2フォトレジス
ト層を前記段階(b)の温度より低い温度でプレベーキン
グする段階と、(e) 相対的に強度が弱いレーザービーム
を相対的に敏感な感光度を有する前記第２フォトレジス
ト層に照射して、グルーブパターンと前記相対的に強度
が弱いレーザービームが照射されないランド部分とを形
成するとともに、前記第２フォトレジストを通過する相
対的に強度が強いレーザービームを照射して前記第１フ
ォトレジスト層にピットパターンを形成する段階と、
(f) 前記露光された第1、2フォトレジスト層を蝕刻する
段階とを含む。
Claims (4)
- 【請求項１】 （ａ）基板上に第１フォトレジスト層を
形成する段階と、 （ｂ）前記第１フォトレジスト層を所定の温度でプレベ
ーキングする段階と、 （ｃ） 前記第１フォトレジスト層の上に第2フォトレジ
スト層を形成する段階と、 （ｄ）前記第２フォトレジスト層を前記段階（ｂ）の温
度より低い温度でプレベーキングする段階と、 （ｅ）相異なる強度を有する２個のレーザー光を照射し
て前記第１、２フォトレジスト層をピットとグルーブ及
びランドパターンにより露光させる段階と、 （ｆ）前記露光された第１、２フォトレジスト層を蝕刻
する段階とを含むことを特徴とする光ディスク製作用マ
スタディスク製造方法。 - 【請求項２】 前記段階（ｂ）において、前記第１フォ
トレジスト層は、約１３０℃でプレベーキングされ、前
記段階（ｄ）で、前記第２フォトレジスト層は、約１１
０℃でプレベーキングされることを特徴とする請求項１
に記載の光ディスク製作用マスタディスク製造方法。 - 【請求項３】 前記第１、２フォトレジスト層は、同一
の材料よりなることを特徴とする請求項1に記載の光デ
ィスク製作用マスタディスク製造方法。 - 【請求項４】 前記第１、２フォトレジスト層はプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテートよりなる
ことを特徴とする請求項３に記載の光ディスク製作用マ
スタディスク製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR199750385 | 1997-09-30 | ||
| KR1019970050385A KR19990027855A (ko) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | 광디스크 제작용 마스터디스크 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11110831A true JPH11110831A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=19522044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10065827A Pending JPH11110831A (ja) | 1997-09-30 | 1998-03-16 | 光ディスク製作用マスタディスクの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11110831A (ja) |
| KR (1) | KR19990027855A (ja) |
| CN (1) | CN1084512C (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100700245B1 (ko) * | 1999-11-18 | 2007-03-26 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크의 제조방법과 이에 의해 제조된 광디스크 |
| KR101143795B1 (ko) * | 2002-11-20 | 2012-06-14 | 소니 주식회사 | 광디스크 제조용 원반의 제작 방법 및 광디스크의 제조 방법 |
| CN102270472B (zh) * | 2011-04-02 | 2013-11-27 | 河南凯瑞数码股份有限公司 | 蓝光光盘用母盘及其制造方法 |
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1997
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