JPH11110833A - 光ディスク用マスタディスク及びその製造方法 - Google Patents

光ディスク用マスタディスク及びその製造方法

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JPH11110833A JP16399298A JP16399298A JPH11110833A JP H11110833 A JPH11110833 A JP H11110833A JP 16399298 A JP16399298 A JP 16399298A JP 16399298 A JP16399298 A JP 16399298A JP H11110833 A JPH11110833 A JP H11110833A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 情報が収録された光ディスクを製作する時に
用いられるマスタディスク及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 基板２０上に所定波長のレーザービーム
に対して鈍感な第1感光層１１０及びその第1感光層１１
０より敏感な第2感光層１２０が順次に配置されるので
感光層を選択的に露光し蝕刻すると、グルーブ１２３と
そのグルーブ１２３に対して引込まれた第2情報ピット
１１１の境界部がはっきりと区別され、グルーブ１２３
及び第2情報ピット１１１は垂直に近い内側壁を有する
マスタディスク１００が提供されるので、そのマスタデ
ィスク１００により得られる光ディスクの再生特性が向
上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は情報が収録された光
ディスクを製作する時に用いられるマスタディスク及び
その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】音声情報や映像情報を記録及び/または
再生するための媒体として用いられるCDやDVDのような
光ディスクは図1に概略的に示したように情報ピット2a
を有するランド2と、ランド2との間に位置してそのラン
ド2を区分づけるグルーブ3を具備している。そして、最
近は光ディスク1のグルーブ3にも情報ピット3aを形成し
て収録可能な情報容量の増大を図っている。
【０００３】前記光ディスク1を製作するためには一般
的に、前記光ディスク1と同じパターンの記録面を有す
るマスタディスク、即ち図2に示したように前記光ディ
スク1と同じパターンのランド31とグルーブ33及び情報
ピット32，34を有するマスタディスク10が要る。このよ
うなマスタディスク10を製造するためには、まず精密に
研磨されたガラス基板20に所定波長のレーザービームに
より光化学的に反応できる感光体を所定厚さで塗布して
感光層30を形成する。そして、基板20を回転させると同
時に二本のレーザービームを前記感光層30に向けて照射
して前記グルーブ33と情報ピット32，34が形成される部
位を露光させると、その露光部位から光化学的反応が起
こる。露光過程で、一本のレーザービームは左右に偏向
されながらグルーブ33の形成のための部位を露光し、他
の一つのレーザービームは情報ピット32，34が形成され
る部位を露光する。その後、前記露光された部位を蝕刻
した後洗浄すると、図2に示したようなマスタディスク1
0が製造される。
【０００４】その後、前記マスタディスク10の記録面に
金属膜(図示せず)を薄く蒸着させ、また金属膜上にニッ
ケルなどの金属を電気メッキした後そのメッキ膜を分離
させ、そのメッキ膜を光ディスクのプラスチック成形の
ためのスタンパとして使用する。前述したようなスタン
パはマスタディスク10の記録面とは反対に凹凸された記
録面を有するので、そのスタンパにより製造された光デ
ィスクは全て前記マスタディスクと同じパターンのラン
ド、グルーブ及び情報ピットを有する。
【０００５】ところが、前述したような方法でマスタデ
ィスクを製造すると、一つの感光層にグルーブと情報ピ
ットが同時に形成されるのでグルーブと情報ピットの境
界部がはっきりと形成されなくなり、また基板に対する
グルーブの側壁の角度及び情報ピットの側壁の角度が緩
慢になる。従って、そのマスタディスクを利用して製造
される光ディスクにおいてもグルーブと情報ピットの境
界部が正確に区別されないし、グルーブの側壁と情報ピ
ットの側壁が緩慢な傾斜を有する。従って、前記グルー
ブと情報ピットの境界部での光の回折を利用してその情
報ピットによる情報を再生するようになった記録再生装
置を通じてその光ディスクの記録を再生することに多く
の難しさが隨伴されるだけでなく、その光ディスクの再
生特性が低下する問題点がある。このような問題点は今
後開発を目標とするHD-DVD、即ち既存のDVDにおける情
報トラックのピッチよりはるかに小さなピッチの情報ト
ラックを有するHD-DVDにおいてはさらに深刻である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述した問題
点を解決するために案出されたものであって、グルーブ
とそのグルーブに対する引込まれた情報ピットとの境界
部がはっきりと区別できるように感光層の構造が改善さ
れた光ディスク用マスタディスクを提供することに目的
がある。本発明の他の目的はグルーブとそのグルーブに
対して引込まれる情報ピットとの境界部がはっきりと形
成できる光ディスク用マスタディスクの製造方法を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明による光ディスク用マスタディスクは、基板
と、前記基板上に形成され所定波長のレーザービームに
より光化学反応可能な第1感光層と、前記第1感光層上に
形成され、前記レーザービームに対して前記第1感光層
より敏感に光化学反応される第2感光層と、前記第2感光
層に形成される多数の第1情報ピット、及び前記第1感光
層に形成される多数の第2情報ピットとを含むことを特
徴とする。
【０００８】前記他の目的を達成するために本発明によ
る光ディスク用マスタディスク製造方法は、基板上に所
定波長のレーザービームにより光化学反応可能な第1感
光層を形成する段階と、前記第1感光層上に前記レーザ
ービームにより前記第1感光層より敏感に光化学反応す
る第2感光層を形成する段階と、前記所定波長を有する
第1レーザービーム及び第2レーザービームを用意する段
階と、前記第2レーザービームにより前記第2感光層の所
定部位を露光させる段階、及び前記第1感光層の中で前
記第2感光層の露光部位の下方に位置した所定の部位を
前記第1レーザービームにより露光させる段階とを含む
ことを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明による望ましい実施の
形態を添付した図面を参照して詳細に説明する。図3に
示した実施の形態のマスタディスク100はガラスよりな
る基板20と、その基板20上に形成された第1感光層110
と、その第1感光層110上に形成された第2感光層120とを
具備している。前記第1感光層110は所定波長のレーザー
ビームにより光化学的に反応可能な第1感光体により形
成され、前記第2感光層は前記所定波長のレーザービー
ムによって第1感光体よりさらに敏感に光化学反応され
る第2感光体により形成される。
【００１０】例えば、波長が350nm〜430nmの範囲内にあ
るレーザービームを使用して前述した感光層を露光させ
ようとする場合には、310nm〜390nmの波長のレーザービ
ームにより敏感に光化学反応されるDNQ-4(1-oxo-2-diaz
onaphthoquinone-4-arylsulfonate)を第1感光体、350nm
〜430nmの波長のレーザービームにより敏感に光化学反
応されるDNQ-5(1-oxo-2-diazonaphthoquinone-5-arylsu
lfonate)を第2感光体として前記第1感光層110及び第2感
光層120を形成する。こうすると、その第2感光層120は
第1感光層110より前記レーザービームにさらに敏感に光
化学反応する。前述したようにDNQ-4を第1感光体とし
て、そしてDNQ-5を第2感光体として使用する場合には、
レーザービームの波長は400nm〜430nmの範囲内にあるこ
とが効果的であり、その中でも413nmの波長のレーザー
ビームを使用することが望ましい。
【００１１】第2感光層120にはランド121が形成され、
そのランド121には各ランド121の上面に対して引込まれ
た第1情報ピット122が形成される。第2感光層120には再
びグルーブ123が形成され、各グルーブ123はランド12
1，121の間に位置される。前記第1感光層110には前記グ
ルーブ123の底面に対して引込まれた第2情報ピット111
が備えられる。
【００１２】このような構造のマスタディスク100にお
いては、基板20上に相異なる光化学反応度を有する感光
層110，120が形成され、前記グルーブ123と第2情報ピッ
ト111は相異なる感光層に形成される。したがって、図2
を参照しながら説明した従来のマスタディスクとは違っ
て、実施の形態のマスタディスクにおいてはグルーブ12
3と第2情報ピット111の境界部がよりはっきりと区別で
き、各第2情報ピット111は基板20に対して直角に近い内
側壁を有しうる。
【００１３】前述したマスタディスク100により光ディ
スクが製造されると、その光ディスクにおいてもグルー
ブ(3;図1参照)と第2情報ピット(3a;図1参照)の境界部が
はっきりと区別でき、光ディスクの各第2情報ピットは
垂直に近い内側壁を有する。従って、その光ディスクに
記録された情報の再生時に記録再生装置内の光ピックア
ップによりその第2情報ピットの検出がはっきりと行な
われうるので、再生特性が向上できる。
【００１４】一方、前述したマスタディスク100を製造
する過程の中で前記グルーブ123と第2情報ピット111が
形成される過程の一例に対して図4乃至図6を参照しなが
ら詳細に説明する。まず、図4に示したように精密に研
磨されたガラス基板20上に前記第1感光体を塗布して第1
感光層110を形成した後その第1感光層110上に前記第2感
光体を塗布して第2感光層120を形成する。それからその
基板20を、第2感光層120上方から同一波長、例えば415n
m波長の第1レーザービームLB1と第2レーザービームLB2
が照射できる位置に位置させる。
【００１５】本実施の形態によると前記第1レーザービ
ームLB1と第2レーザービームLB2が一つのレーザーダイ
オード50から発光できるようになっている。即ち、一つ
のレーザーダイオード50から出てくるレーザービームが
ビームスプリッタ61により分光されて第1レーザービー
ムLB1と第2レーザービームLB2に分離されるようになっ
ている。そして、そのレーザービームLB1，LB2各々の光
経路上には各レーザービームLB1，LB2の進行を選択的に
遮断するためのモジュレータ71，72が設置されている。
第2レーザービームLB2の光経路上にはその第2レーザー
ビームLB2を偏向させるための偏向器73が設置されてい
る。参照符号62はビームスプリッタであり、参照符号8
1，82は各々ミラーである。
【００１６】図4に示したような状態で、基板20を回転
させると同時に前記第1レーザービームLB1、第2レーザ
ービームLB2を基板20に向けて選択的に照射させて望む
部位を露光させる。即ち、前記グルーブ123が形成され
る部位と第1情報ピット122が形成される部位及び前記グ
ルーブ123に対して引込まれた第2情報ピット111が形成
される部位を露光させる。こうすると、その露光部位か
ら光化学反応が起こる。グルーブ123が形成される部位
を露光させる時には図5に示したように、第2レーザービ
ームLB2を偏向器73により、第1レーザービームLB1の光
軸を中心として、グルーブ123の幅方向、即ち基板20の
半径方向に往復して反復的に偏向させながら露光を行な
う。こうすると、第2レーザービームLB2により露光され
る部位は全体的に露光時間が短くなるので、そのレーザ
ービームに対して光感度が鈍感な第1感光層110には露光
が行なわれなく、光感度の敏感な第2感光層120だけ露光
できる。このようにしてグルーブ123が形成される部位
を露光する途中に前記第2情報ピット111が形成される部
位ではモジュレータ71を通じて第1レーザービームLB1を
基板20上に照射させる。このようにすると、第1レーザ
ービームLB1は第2感光層120の前記第2レーザービームLB
2により露光される部位に照射される。この際、第2レー
ザービームLB2が左右に偏向されながら露光を行なうこ
ととは違って、第1レーザービームLB1は偏向されない状
態に照射されるのでその露光される部位の全体的な露光
時間が前記グルーブ123が形成される部位に対する露光
時間に比べて長くなる。従って、第1レーザービームLB1
によって第2感光層120だけでなく第1感光層110の前記第
2情報ピット111が形成される部位にでも光化学反応が行
なわれる。こうすると、第1感光層110の露光部と第2感
光層120の露光部との境界がはっきりと表れるだけでな
く、第2感光層120の露光部位は略四角形の断面を有す
る。
【００１７】一方、図5に示さなかったが、前記第1情報
ピット122が形成される部位には第1レーザービームLB1
を通じて露光を行なったりまたは第2レーザービームLB2
を左右に偏向させない状態で露光を行なう。この際第1
情報ピット122は、前述したように光感度の敏感な第2感
光層120に形成されるので、露光時間を短く設定でき
る。前述したようにグルーブ123が形成される部位と第1
情報ピット122が形成される部位を露光する過程でグル
ーブ123が形成される部位との間には前記ランド121が形
成される部位が作られ、第1情報ピット122が形成される
部位は前記ランド121が形成される部位に含まれる。前
述したような過程を経て露光が完了した後露光された部
位を蝕刻して洗浄すると、図6及び前記図3に示したよう
なマスタディスク100が完成される。
【００１８】このマスタディスク100においては、前述
したように露光過程でグルーブ123になる露光部位と第2
情報ピット111が形成される露光部位の境界が確実に区
別され、その露光部位は略四角形の断面を有する。従っ
て、蝕刻過程で蝕刻された露光部により形成されるグル
ーブ123と第2情報ピット111はお互い確実な境界部を有
し、グルーブ123の内壁及び第2情報ピット111の内壁は
基板20に対して急激に傾斜しながら略直角を成すことに
なる。
【００１９】本実施の形態を説明する過程において、前
記第1レーザービームLB1と第2レーザービームLB2は一つ
のレーザーダイオード50から発生されることと説明した
が、前記同じ波長の第1レーザービームLB1と第2レーザ
ービームLB2は相異なるレーザーダイオードから発生さ
せる場合もある。以上、望ましい実施の形態を挙げて本
発明に対して説明した。しかし、本発明はこれに限ら
ず、請求の範囲に記載された技術的な思想を逸脱しない
範囲内で多様な形態で具体化できる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によると、基板上に所定波長のレ
ーザービームに対して鈍感な第1感光層及びその第1感光
層より敏感な第2感光層が順次に配置されるので、前記
感光層を選択的に露光し蝕刻すると、グルーブとそのグ
ルーブに対して引込まれた第2情報ピットの境界部がは
っきりと区別され、グルーブ及び第2情報ピットは垂直
に近い内側壁を有するマスタディスクが提供されるの
で、そのマスタディスクにより得られる光ディスクの再
生特性が向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 光ディスクの一例の主要部位を示す概略的な
斜視図である。
【図２】 図１に示した光ディスクを製作するための従
来のマスタディスクの概略的な断面図である。
【図３】 図１に示した光ディスクを製作するための本
発明の一実施の形態によるマスタディスクの概略的な断
面図。
【図４】 本発明のマスタディスクの製造過程を説明す
る図であって、露光状態を示す図である。
【図５】 本発明のマスタディスクの製造過程を説明す
る図であって、露光用レーザービームの状態を示す図で
ある。
【図６】 本発明により形成されたマスタディスクのグ
ルーブ及びピットを示す図である。
【符号の説明】
２０ 基板 １００ マスタディスク １１０ 第１感光層 １１１ 第２情報ピット １２０ 第２感光層 １２２ 第１情報ピット ＬＢ１ 第１レーザービーム ＬＢ２ 第２レーザービーム

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板と、 前記基板上に形成され、所定波長のレーザービームによ
    り光化学反応の可能な第1感光層と、 前記第1感光層上に形成され、前記レーザービームに対
    して前記第1感光層より敏感に光化学反応される第2感光
    層と、 前記第2感光層に形成される多数の第1情報ピットと、 前記第1感光層に形成される多数の第2情報ピットとを含
    むことを特徴とする光ディスク用マスタディスク。
  2. 【請求項２】 基板上に所定波長のレーザービームによ
    り光化学反応の可能な第1感光層を形成する段階と、 前記第1感光層上に前記レーザービームにより前記第1感
    光層より敏感に光化学反応する第2感光層を形成する段
    階と、 前記所定波長を有する第1レーザービーム及び第2レーザ
    ービームを備える段階と、 前記第2レーザービームにより前記第2感光層の所定部位
    を露光させる段階と、 前記第1感光層の中で前記第2感光層の露光部位の下方に
    位置した所定の部位を前記第1レーザービームにより露
    光させる段階とを含むことを特徴とする光ディスク用マ
    スタディスクの製造方法。
  3. 【請求項３】 前記所定波長は400nm〜430nmの範囲内に
    あることを特徴とする請求項2に記載の光ディスク用マ
    スタディスク製造方法。
  4. 【請求項４】 前記所定波長は410nm〜415nmの範囲内に
    あることを特徴とする請求項3に記載の光ディスク用マ
    スタディスク製造方法。
  5. 【請求項５】 前記第2レーザービームを前記第1レーザ
    ービームの光軸を中心としてその光軸の両側に反復的に
    偏向させながら前記第2感光層の所定部位を露光させる
    ことを特徴とする請求項2に記載の光ディスク用マスタ
    ディスク製造方法。
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