JP2000256889A - スタンパー複製用盤の製造方法および光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一枚の原盤あるいは基板上に、異なる深さの
２以上の種類の微細凹凸を簡便な方法で、最適な深さに
高精度に形成する。 【解決手段】 原盤１０上の第１の領域２１に深さｄ₁
の微細凹凸パターン１０ａを形成し、第２の領域２２に
は、ｄ₁ と異なる深さの、深さｄ₂ の微細凹凸パターン
１２ａを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スタンパー複製用
盤の製造方法および光学記録媒体の製造方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】オーディオ用、ビデオ用その他の各種情
報を記録する光学記録媒体として、その記録、もしくは
再生を光照射によって行う光ディスク、光カード、光磁
気ディスク、相変化光学記録媒体等のＲＯＭ（Read Onl
y Memory）型、追記型、書換え型等の、各種光学記録媒
体が存在する、追記型、書換え型等の光磁気あるいは相
変化等による光磁気媒体においては、トラッキングサー
ボ信号等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等
の微細凹凸の形成がなされる。

【０００３】図１９に従来の構造の光学記録媒体１００
の概略斜視図を示す。この光学記録媒体１００において
は、例えばポリカーボネート等の光学的に透明な基板１
０１の一主面、すなわち信号記録面１０２に、図２０に
示すような連続溝状のグルーブ１１１、または図２１に
示すような連続したピット１１２の列がトラック毎に所
定のトラックピッチＰでスパイラル状に設けられてい
る。

【０００４】この光学記録媒体１００は、図２２にその
概略断面図を示すように、記録可能な相変化型、光磁気
型等の光ディスクは、グルーブ１１１を設けた面上に、
相変化膜、磁性膜、光反射金属膜等の材料膜１０４が形
成され、これの上に、例えば紫外線硬化性樹脂よりなる
保護膜１０６が形成された構成を有している。一方、再
生専用の光ディスク（ＲＯＭ）は、ピット１１２の列を
設けた面上に光反射金属層よりなる材料膜１０４、さら
にこの上に保護膜１０６が形成された構成を有してい
る。

【０００５】近年、記録可能領域と再生専用領域の双方
を有する構造の光ディスク、いわゆるパーシャルＲＯＭ
ディスクが提案されている。このパーシャルＲＯＭディ
スクの概略斜視図を図２３に示し、概略断面図を図２４
に示す。

【０００６】このパーシャルＲＯＭディスク１２０にお
いては、図２１に示したピット１１２が形成されている
再生専用領域１２２と、図２０に示したグルーブ１１１
が形成されている記録可能領域１２１との双方が設けら
れている。このパーシャルＲＯＭディスク１２０におい
ては、再生専用領域１２２と、記録可能領域１２１と
が、例えば境界ミラー面１２３によって、区切られてい
る。図２３に示したパーシャルＲＯＭディスク１２０に
おいては、例えば、ゲームソフトを再生途中で一時中断
する場合に、データをディスク自体に保存することがで
きる。

【０００７】ここで、各種の光学記録媒体を構成するグ
ルーブやピットのような微細凹凸の形成方法について以
下に説明する。

【０００８】先ず、図２５に示すように、表面を充分平
滑に研磨したガラス原盤２００を回転基台２０１上に載
置し、ガラス原盤２００を所定の回転数で回転された状
態で、ガラス原盤２００上に、露光することによってア
ルカリ可溶となる感光性のフォトレジスト２０２、いわ
ゆるポジ型レジストを、ノズル２０３から供給して塗布
する。

【０００９】次に、図２６に示すように、ガラス原盤２
００を回転させ、フォトレジスト２０２を延伸し、図２
７に示すように、ガラス原盤２００上にフォトレジスト
２０２の層を、例えば厚さ１００〔ｎｍ〕に全面的にス
ピンコートした状態とする。

【００１０】次に、図２８に示すように、記録用レーザ
ー光Ｌによりフォトレジスト２０２を所定のパターンに
露光する。この露光は、ガラス原盤２００を回転させな
がら記録用レーザー光をガラス原盤２００の半径方向に
一回転あたり等距離ずつ送ることにより、一定のトラッ
クピッチでスパイラル状軌跡に沿って行う。

【００１１】この露光工程は、図３４にその概略図を示
す露光装置１３０を用いて行うことができる。この露光
装置１３０は、レーザー発射源１３１から射出されたレ
ーザー光Ｌが、レンズ１３３で集光されるようになさ
れ、その焦点面上に、音響光学素子１３４が、配置され
てなる。この音響光学素子１３４は、その内部に形成さ
れている回折格子により、レーザー光Ｌが回折されるよ
うになされている。この回折光のうち、一次回折光のみ
スリット（図示せず）を透過させて使用する。一次回折
光の強度は、音響光学素子１３４に入射される超音波の
強度変調によって制御される。また、音響光学素子１３
４をレンズ１３３の位置から光軸方向にずらすことによ
り、一次回折光を偏向させることができる。強度変調お
よび偏向を受けた一次回折光は、レンズ１３５を用いて
コリメートされ、ミラー１３６、１３７を介して対物レ
ンズ１３８により集光し、ガラス原盤２００上のフォト
レジスト２０２を露光する。

【００１２】次に、ガラス原盤２００をアルカリ性現像
液で現像し、露光部を除去する。このようにすると、図
２９Ａに示すように、また、図２９Ｂにその拡大図を示
すようにガラス原盤２００上のフォトレジスト２０２
に、透孔が穿設されて形成された微細凹凸２０５が形成
される。

【００１３】このように、フォトレジスト２０２により
所定のパターンの微細凹凸２０５が形成された後、図３
０に示すように、ガラス原盤２００上にニッケルメッキ
２０６を行い、その後ニッケルメッキ２０６を剥離し
て、図３１に示すように、微細凹凸２０５が転写された
スタンパー２０７を形成する。あるいは、このスタンパ
ーをマスタースタンパーとして繰り返し転写によって複
数のスタンパーを作製する。

【００１４】上述のようにして作製したスタンパー２０
７を用いて、２Ｐ（フォトポリマリゼーション）法ある
いは射出成形法等の従来公知の転写方法によって、図３
２に示すように、例えばポリカーボネート等の光透過性
樹脂よりなる基板１０１上に圧着し、図３３に示すよう
に、光学記録媒体の情報記録層を構成する微細凹凸１０
３が形成される。

【００１５】その後、図２２に示すように、基板１０１
の微細凹凸１０３上に、Ａｌ等の反射膜、相変化材料、
もしくは光磁気材料等の材料膜１０４を積層して、情報
記録層１０５を形成する。

【００１６】さらに、この情報記録層１０５上には、液
状の紫外線硬化性樹脂を塗布し、基板１０１を高速回転
させることにより、これを延伸させ、その後、紫外線を
照射して硬化させて保護膜１０６を形成し、最終的に目
的とする例えば光学記録媒体を作製することができる。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】上述のようにして、ガ
ラス原盤２００上に塗布したフォトレジスト２０２をパ
ターン露光して、ピット、あるいはグルーブを構成する
微細凹凸パターンを形成する場合には、図３０に示すよ
うに、凹凸パターンの高さの差が、フォトレジスト２０
２の塗布厚さに一致する。これは、フォトレジスト２０
２の露光、現像工程においては、微細凹凸パターンを所
望の幅にまで広げていくうちにフォトレジスト２０２
は、ガラス原盤２００面に到達するまでに現像されるの
が通常だからであり、微細凹凸パターンを安定して形成
させるためにも望ましい。

【００１８】一方、図２３および図２４に示したよう
な、記録可能領域１２１と再生専用領域１２２とを有す
る構造の、パーシャルＲＯＭディスクにおいては、一枚
のディスクに、グルーブ１１１と、ピット１１２の双方
が形成された構造を有する。これらのグルーブ１１１と
ピット１１２とでは、その最適深さが異なるのである。

【００１９】すなわち、ピット１１２の深さｄｐに関し
ては、変調度が最大となるｄｐ＝λ／４ｎ（λ：再生光
波長、ｎ：基板の屈折率）とすることが、再生信号特性
に対して最も有利である。一方、相変化または光磁気に
よる記録信号の記録再生時の案内溝として形成されるグ
ルーブ１１１の深さｄｇに関しては、トラッキング用信
号を最大とするためには、ｄｇ＝λ／８ｎとするのが理
想的である。

【００２０】また、近年の高記録密度化に関する研究に
よって、グルーブ１１１の深さｄｇが、記録／再生信号
特性に、大きく影響を与えることが判明している。すな
わち、最大の記録密度を得るためには、グルーブ１１１
の深さの最適値に対して±５〔ｎｍ〕以下の範囲の誤差
におさまるように、形成しなければならない。ところ
が、そのグルーブが、深さ３０〔ｎｍ〕程度に形成され
ている場合には、ピットの深さの最適値ｄｐ＝約１００
〔ｎｍ〕（λ＝６５０〔ｎｍ〕、ｎ＝１．５８）に対し
てきわめて小さい値となる。すなわち、ピットの深さ
を、グルーブの深さの最適値に合わせると、再生専用領
域においては、再生信号劣化が生じて記録密度の低下を
来すことになる。

【００２１】ここで、図３５に、初期のＩＳＯ規格の光
磁気記録媒体の一例の要部の概略平面図を示す。この例
においては、図３５に示すように、グルーブ１１１列の
中間に、アドレスピット１１３の列を挿入する形態をと
っていて、グルーブ１１１の深さを約λ／８ｎ、アドレ
スピット１１３の深さを約λ／４ｎとしていた。

【００２２】図３５に示すような構造の光磁気記録媒体
においては、図３６に、その概略断面図を示すように、
フォトレジスト２０２を塗布する厚さを、ピット１１３
の所望の深さに一致させる。そして、グルーブ１１１
は、ピット１１３よりも浅く形成する必要があるため、
フォトレジスト２０２を露光する際には、露光光の強度
を、光源を減衰させたりして相対的に弱く露光するよう
に調節する。

【００２３】すなわち、図３６中、ピット１１３に対す
る露光光Ｌ₁ と、グルーブ１１１に対する露光光Ｌ₂ と
の強度の関係は、Ｌ₁ ＞Ｌ₂ となるようにする。このよ
うに露光光を調整してフォトレジスト２０２を露光し、
これを現像した後、グルーブ１１１部においては、フォ
トレジスト２０２の表面からガラス原盤２００の面ま
で、およそ半分の厚さのフォトレジスト２０２が残存す
るようにするものとした。このように、露光光の強度を
調整して、フォトレジスト２０２をガラス原盤面まで露
光せず、残存させるようにして形成したパターンをハー
フトーンと呼称する。

【００２４】しかし、最近の光学記録媒体の高記録密度
化により、光源の減衰制御等の方法により、ハーフトー
ンのパターンを形成することが困難になってきた。ま
ず、上述した方法によるとき、ハーフトーンのパターン
形成を、微細な精度で制御することが困難である。すな
わち、露光強度に数％、現像時間に数秒の誤差が生じる
だけで、形成されるパターンの深さが異なってくるた
め、パターンの深さを約±５〔ｎｍ〕程度の精度に制御
することは、上述の方法においては、極めて困難であ
る。

【００２５】さらに、上述した方法により、ハーフトー
ンのパターン形成を行うと、フォトレジストを露光する
ために使用する光源は、その光強度がガウス分布し、光
源の中心から放射状に不可避的に減少し、連続的な現像
処理は限定したものとなる。これにより、グルーブやピ
ットを形成する微細凹凸の配列や形状は、望ましい相対
深さが確保できず、実際には底部が丸くなったり、側壁
部の荒れが大きくなったりして、最終的に得られる光学
記録媒体における間違ったトラッキング情報を導く原因
となり、再生信号のノイズの発生原因となる。このよう
なことは、目的とする光学記録媒体の記録密度が向上す
ればするほど、信号特性に与える影響は大きいものとな
る。

【００２６】よって、本発明方法においては、上述した
ような、露光光の強度を調整することによるハーフトー
ンのパターンを形成するという手法を用いることなく、
ピットとグルーブを、それぞれの異なる最適深さに確実
な形状をもって形成する光学記録媒体の作製方法と、ス
タンパー複製用盤の製造方法を提供するものである。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明のスタンパー複製
用盤の製造方法は、原盤上の第１の領域に深さｄ₁ の微
細凹凸パターンを形成し、原盤上にフォトレジスト層を
形成し、その後、第２の領域には、ｄ₁ と異なる深さ
の、深さｄ₂ の微細凹凸パターンを形成する工程を有す
るものとする、

【００２８】また、本発明の光学記録媒体の製造方法
は、原盤上の第１の領域に、深さｄ₁の微細凹凸パター
ンを形成する工程と、原盤上の、少なくとも第２の領域
に、深さｄ₂ の微細凹凸パターンを形成する工程とによ
り作製したスタンパー複製用盤に、金属メッキを施し、
これを剥離してスタンパーを作製し、このスタンパーま
たはこのスタンパーにより複製したスタンパーを用い
て、微細凹凸の転写を行って光学記録媒体を構成する基
板を得るものである。

【００２９】本発明のスタンパー複製用盤の製造方法
は、一つの盤上の、少なくとも第１の領域と第２の領域
の各微細凹凸を、それぞれ別工程で形成するものとし、
複数種類の微細凹凸を、それぞれの最適な深さに形成す
るものである。また、本発明のスタンパー複製用盤の製
造方法により、高記録密度の光学記録媒体を作製する場
合に、一つのスタンパー複製用盤に、複数の種類の深さ
の異なる微細凹凸を形成する場合にも、グルーブやピッ
トが、それぞれの最適深さに形成される。

【００３０】本発明の光学記録媒体の製造方法は、一つ
の基板上の、少なくとも第１の領域と第２の領域の各微
細凹凸を、それぞれに対応する各微細凹凸を、別工程に
より形成したスタンパー複製用盤から転写することによ
り形成したため、複数種類の深さの異なる微細凹凸が、
それぞれ最適な深さに形成される。また、本発明の光学
記録媒体の製造方法を、高記録密度の光学記録媒体を作
製する場合に適用しても、ピットやグルーブ層、複数の
種類の深さの異なる微細凹凸がそれぞれの最適深さに形
成される。

【００３１】

【発明の実施の形態】本発明のスタンパー複製用盤の製
造方法は、原盤上の第１の領域に、深さｄ₁の微細凹凸
パターンエッチングにより形成し、原盤上に、膜厚ｄ₂
のフォトレジスト層を塗布形成し、この原盤上のフォト
レジスト層の少なくとも第２の領域において、深さｄ₂
の微細凹凸を形成するのとする。ここで、第１の領域と
は、以下の例におけるディスク状の原盤あるいは基板の
中心から半径方向に所定の距離隔てた領域を呼称し、第
２の領域とは、同様に以下の例におけるディスク状原盤
あるいは基板における上記第１の領域の外周部分の領
域、すなわち、基板の中心から所定の距離隔てた位置か
らさらに所定の距離、半径方向に隔てた領域を呼称する
ものとする。

【００３２】本発明の光学記録媒体の製造方法は、原盤
上の第１の領域に、深さｄ₁ の微細凹凸をパターンエッ
チングにより形成し、原盤上に、膜厚ｄ₂ のフォトレジ
スト層を塗布形成し、この原盤上のフォトレジスト層の
少なくとも第２の領域において、深さｄ₂ の微細凹凸を
形成することにより作製したスタンパー複製用盤に、金
属メッキを施し、これを剥離してスタンパーを作製し、
このスタンパーまたは、このスタンパーから複製したス
タンパーを用いて、射出成形、２Ｐ法等により微細凹凸
の転写を行い、光学記録媒体用の基板を作製し、この基
板に材料膜、反射膜の成膜を行い、目的とする光学記録
媒体を作製するものとする。

【００３３】以下、本発明の一実施例について説明する
が、本発明は、以下に示す例に限定されるものではな
く、従来公知の構造、材料についても、従来と同様に適
用することができる。

【００３４】先ず、図１に示すように、例えば、表面を
充分に平滑に研磨したガラス原盤１０を用意する。次
に、ガラス原盤１０を回転基台（図示せず）上に載置
し、これを所定の回転数で回転させた状態で、アルカリ
可溶性となるフォトレジスト１１を、均一の厚さに塗布
する。

【００３５】次に、記録用レーザー光により、原盤１０
上のフォトレジスト１１における第１の領域２１に、例
えば、最終的に光学記録媒体のグルーブを形成するため
の微細凹凸を転写することになる微細凹凸を形成するた
めに、所定のパターン露光を行う。この露光は、原盤１
０を回転させながら、記録用レーザー光Ｌを、原盤１０
の半径方向に、一回転あたり等距離ずつ送ることによ
り、フォトレジスト１１に、溝、例えばグルーブの潜像
を一定間隔で形成する。

【００３６】次に、原盤１０をアルカリ性現像液で現像
し、露光部を除去する。このようにすると、原盤１０上
に、所定の微細凹凸のパターン１１ａが形成される。

【００３７】次に、図２に示すように、フォトレジスト
のパターン１１ａをマスクとして、例えば、以下に示す
条件により、ＲＩＥ（Reactive Ion Etching) により原
盤１０のエッチングを行い、原盤１０の第１の領域２１
に深さｄ₁ の微細凹凸を形成する。 エッチングガス：ＣＦ₄ 真空到達度 ：１〔ｍＰａ〕 ガス圧 ：３．０〔Ｐａ〕 ガス流量 ：１０〔ｓｃｃｍ〕 高周波ＲＦ電源出力：２００〔Ｗ〕（周波数１３．５６
ＭＨｚ）

【００３８】以上の条件で、エッチングを行うと、２０
〜３０〔ｎｍ／ｍｉｎ〕のエッチングレートが得られ
る。通常必要とされるグルーブの深さは、５０〜１００
〔ｎｍ〕程度であるため、数分のエッチングにより、こ
れを形成することができる。

【００３９】次に、図３に示すように、不要となったフ
ォトレジスト１１のエッチングマスクを除去する。この
場合、フォトレジスト１１は、プラズマ照射後は変質し
ているため、現像液やアセトン等の有機溶剤では除去す
ることが困難である。そこで、Ｏ₂ プラズマによって残
存したフォトレジスト１１を燃焼させることにより除去
する。このようにしてフォトレジスト１１を除去する
と、原盤１０上の第１の領域２１に、深さ深さｄ₁ の溝
を有する微細凹凸１０ａが形成される。

【００４０】次に、図４に示すように、原盤１０を再び
回転基台（図示せず）上に載置し、これを所定の回転数
で回転させた状態で、スピンコート法により、微細凹凸
のパターン１０ａを埋めるようにフォトレジスト１２を
厚さｄ₂ に、表面が平坦になるように塗布する。フォト
レジスト１２の厚さｄ₂ は、以下に示すように、原盤１
０の、上述した第１の領域２１とは異なる領域の、第２
の領域２２において形成するピットの深さに適合させる
ようにする。

【００４１】次に、図５に示すように、記録用レーザー
光Ｌにより、原盤１０上のフォトレジスト１２における
第２の領域２２に、例えば、最終的に光学記録媒体のピ
ットを形成するための微細凹凸を転写することになる微
細凹凸を形成するために、所定のパターン露光を行う。
この露光は、原盤１０を回転させながら、記録用レーザ
ー光Ｌを、原盤１０の半径方向に、一回転あたり等距離
ずる送ることにより、フォトレジスト１２の第２の領域
２２に、ピットの潜像を形成し、ピットの微細付凸１２
ａを形成する。

【００４２】このとき、露光装置の回転基台上に原盤１
０を載置する際には、上記のようにしてすでに形成して
あるグルーブの微細凹凸パターン１０ａとの偏芯を実用
上、２０〔μｍＰ−Ｐ〕程度に抑制する必要がある。こ
のために、回転基台を回転させながら、フォトレジスト
１２を感光しない光、例えばＨｅ−Ｎｅレーザー光源
（波長６３３ｎｍ）の顕微鏡によって、グルーブ形成し
た第１の領域２１との境界を観察して調整したりする。

【００４３】次に、図６に示すように、微細凹凸１２ａ
の形成に寄与しない領域部分のフォトレジスト１２を除
去する。すなわち、微細凹凸１２ａの形成に寄与しない
領域のフォトレジスト１２を露光しアルカリ可溶性とす
る。

【００４４】次に、原盤１０を現像する。このようにす
ると、図７に示すように、第１の領域２１においては、
深さｄ₁ の微細凹凸１０ａ、第２の領域２２において
は、深さｄ₂ の微細凹凸１２ａが形成された光学記録媒
体用のスタンパー複製用盤３０を得ることができる。

【００４５】上述のようにして得られたスタンパー複製
用盤３０の表面に、図８に示すように、例えば無電界メ
ッキを行って表面処理を行い、ニッケルメッキ処理によ
り金属メッキ層１８を形成する。そして、図９に示すよ
うに、この金属メッキ層１８を剥離して、光学記録媒体
用のスタンパー１９を作製する。このスタンパー１９か
らさらに複数のスタンパーを複製することにより多数の
スタンパー１９を作製する。

【００４６】このようにして作製したスタンパー１９を
用いて、圧縮成形、射出成形、２Ｐ（フォトポリマリゼ
ーション）法等の従来公知の光学記録媒体用の基板の複
製方法によって、異なる深さｄ₁ 、ｄ₂ の２種類の微細
凹凸５１、５２を有する光学記録媒体の基板５０を作製
することができる。

【００４７】上述のようにして作製した基板５０を用い
て、深さｄ₁ の微細凹凸５１上に、記録膜等の材料膜４
１を成膜し、この領域に記録可能領域６１を形成する。
また、深さｄ₂ の微細凹凸５２上に、反射膜等の材料膜
４２を成膜し、この領域には再生専用領域６２を形成す
る。さらにこれら材料膜４１、４２上に保護膜５５を形
成することにより、図１０に示すように最終的に目的と
する、一枚の基板５３上に、複数種類の深さの微細凹凸
を有する構造の光学記録媒体５０を作製することができ
る。

【００４８】この図１０に示す光学記録媒体５０におい
ては、再生専用領域６２と、記録可能領域６１との境界
部分においては、例えば、２０〔μｍ〕程度の無信号面
（ミラー面）を形成してもよいし、この例においては、
グルーブである微細凹凸５１とピットである微細凹凸５
２とが一部重複して形成されていてもよい。

【００４９】但し、記録／再生光のスポットが、トラッ
キング動作をしている時には、そのまま、この境界部分
を通過すると、動作が混乱する。そこで、この境界部分
においては、図１１に示すように、再生専用領域６２、
記録可能領域６１が、それぞれの境界近傍部分に、信号
記録に寄与しない無信号領域を設けておく。そして、こ
の無信号領域においては、トラックジャンプにより移動
するようにする。

【００５０】上述したように、本発明方法においては、
一枚の基板５０上の異なる深さｄ₁、ｄ₂ の２種類の微
細凹凸５１、５２を確実な精度をもって形成することが
できる。なお、本発明方法は、上述したような異なる深
さの２種類の微細凹凸を形成することに限定されるもの
ではなく、３種類以上の微細凹凸を形成する場合につい
ても同様に適用することができる。

【００５１】以下に、異なる深さの３種類の微細凹凸
を、１枚の基板上に形成して光学記録媒体を作製する例
を説明する。なお、上述した２種類の異なる深さの微細
凹凸を形成した例を転用するものとし、重複説明を省略
する。なお、以下の例のおける原盤上、あるいは基板上
における第３の領域とは、ディスク状の原盤あるいは基
板の、上記第２の領域の終端から半径方向にさらに所定
の距離隔てた領域を呼称するものとする。

【００５２】まず、図１〜図７に示して説明したような
方法と同様の工程により、図１２に示すように、原盤１
０上の第１の領域２１に深さｄ₁ の微細凹凸１０ａを形
成し、第２の領域２２に、フォトレジスト１２のパター
ンエッチングにより深さｄ₂の微細凹凸１２ａを形成す
る。

【００５３】次に、図１３に示すように、第２の領域２
２に形成したフォトレジストの微細凹凸パターン１２ａ
をマスクとして、例えば、以下に示す条件により、ＲＩ
Ｅ（Reactive Ion Etching) により原盤１０のエッチン
グを行い、原盤１０の第２の領域２２に深さｄ₃ の微細
凹凸を形成する。 エッチングガス：ＣＦ₄ 真空到達度 ：１〔ｍＰａ〕 ガス圧 ：３．０〔Ｐａ〕 ガス流量 ：１０〔ｓｃｃｍ〕 高周波ＲＦ電源出力：２００〔Ｗ〕（周波数１３．５６
ＭＨｚ）

【００５４】次に、図１４に示すように、不要となった
フォトレジスト１２のエッチングマスクを除去する。こ
の場合、フォトレジスト１２は、プラズマ照射後は変質
しているため、Ｏ₂プラズマによって残存したフォトレ
ジスト１２を燃焼させることにより除去する。このよう
にしてフォトレジスト１２を除去すると、原盤１０上の
第１の領域２１に、深さｄ₁ の微細凹凸１０ａと、第２
の領域に深さｄ₃ の微細凹凸１３ａが形成される。

【００５５】次に、図１５に示すように、原盤１０を再
び回転基台（図示せず）上に載置し、これを所定の回転
数で回転させた状態で、スピンコートにより、微細凹凸
のパターン１０ａおよび１３ａを埋めるように、フォト
レジスト１４を、原盤１０の表面からの厚さが、所定の
厚さｄ₄ になるように塗布する。

【００５６】次に、図１６に示すように、記録用レーザ
ー光Ｌにより、原盤１０上のフォトレジスト１４におけ
る第３の領域２３に、例えば、最終的に光学記録媒体の
ピットを形成するための微細凹凸を転写することになる
微細凹凸を形成するために、所定のパターン露光を行
う。この露光は、原盤１０を回転させながら、記録用レ
ーザー光Ｌを、原盤１０の半径方向に、一回転あたり等
距離ずつ送ることにより、フォトレジスト１４の第３の
領域２３に、ピットの潜像を形成し、ピットの微細凹凸
１４ａを形成する。

【００５７】このとき、露光装置の回転基台上に原盤１
０を載置する際には、上記のようにしてすでに形成して
ある微細凹凸パターン１０ａおよび１３ａとの偏芯を、
実用上適用可能な範囲、例えば、２０〔μｍＰ−Ｐ〕程
度に抑制する必要がある。このために、回転基台を回転
させながら、フォトレジスト１４を感光しない光、例え
ばＨｅ−Ｎｅレーザー光源（波長６３３ｎｍ）の顕微鏡
によって、グルーブ形成した第１の領域２１、第２の領
域２２との境界を観察して調整したりする。

【００５８】次に、図１７に示すように、微細凹凸１４
ａの形成に寄与しない領域部分のフォトレジスト１４を
除去する。すなわち、微細凹凸１４ａの形成に寄与しな
い領域のフォトレジスト１４を露光し、アルカリ可溶性
とする。

【００５９】次に、原盤１０を現像する。このようにす
ると、図１８に示すように、第１の領域２１において
は、深さｄ₁ の微細凹凸１０ａ、第２の領域２２におい
ては、深さｄ₃ の微細凹凸１３ａ、第３の領域２３に
は、深さｄ₄ の微細凹凸１４ａが形成された光学記録媒
体用のスタンパー複製用盤３１を得ることができる。

【００６０】上述のようにして得られたスタンパー複製
用盤３１の表面に、先述したと同様の方法により、例え
ば無電界メッキを行って表面処理を行い、ニッケルメッ
キ処理により金属メッキ層を形成し、このメッキ層を剥
離することにより、光学記録媒体用のスタンパーを作製
することができる。

【００６１】そして、このようにして作製したスタンパ
ーを用いて、例えば圧縮成形、射出成形、２Ｐ（フォト
ポリマリゼーション）法等の従来公知の光学記録媒体用
の基板の複製方法によって、異なる深さｄ₁ 、ｄ₃ 、ｄ
₄ の３種類の微細凹凸を有する光学記録媒体の基板を作
製することができ、この基板上に形成された微細凹凸上
に、記録膜、反射膜等の材料膜成膜して最終的に目的と
する、一枚の基板上に、複数種類の深さの微細凹凸を有
する構造の光学記録媒体を作製することができる。

【００６２】上述した例においては、一枚の基板上に２
種類あるいは３種類の深さの異なる微細凹凸を形成した
光学記録媒体、スタンパー複製用盤の作製方法について
説明したが、本発明はこの例に限定されるこのではな
く、４種類以上の深さの異なる微細凹凸が１枚の基板あ
るいは原盤上に形成された光学記録媒体、スタンパー複
製用盤を作製する場合についても同様に適用することが
できる。

【００６３】

【発明の効果】本発明のスタンパー複製用盤の製造方法
によれば、一つの盤上の、少なくとも第１の領域と第２
の領域の各微細凹凸を、それぞれ別工程で形成するた
め、複数種類の微細凹凸を、それぞれの最適な深さに、
高精度で形成することができる。また、本発明のスタン
パー複製用盤の製造方法により、高記録密度化を図った
光学記録媒体を作製する場合に、複数の種類の深さの異
なる微細凹凸を形成する場合に、グルーブやピットを、
それぞれの最適深さに、高精度に形成することができ
る。

【００６４】本発明の光学記録媒体の製造方法によれ
ば、一つの基板上の、少なくとも第１の領域と第２の領
域の各微細凹凸を、それぞれ別工程により形成したスタ
ンパー複製用盤から転写することにより形成したため、
複数種類の微細凹凸を、それぞれ最適な深さに、高精度
で形成することができる。また、本発明の光学記録媒体
の製造方法によれば、高記録密度化を図った光学記録媒
体を作製する場合に適用しても、複数の種類の深さの異
なる微細凹凸を形成する場合に、グルーブやピットを、
それぞれの最適深さに、高精度に形成することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図２】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図３】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図４】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図５】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図６】本発明の光学記録媒体用のスタンパー複製用盤
の一例の作製工程図を示す。

【図７】本発明製造方法により作製した光学記録媒体用
のスタンパー複製用盤の概略断面図を示す。

【図８】本発明製造方法により作製した光学記録媒体用
のスタンパー複製用盤に金属メッキを施した状態図を示
す。

【図９】本発明製造方法により作製したスタンパー複製
用盤と、スタンパーの概略図を示す。

【図１０】本発明製造方法により作製した光学記録媒体
の概略断面図を示す。

【図１１】本発明方法により作製した光学記録媒体の要
部の概略断面図を示す。

【図１２】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１３】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１４】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１５】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１６】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１７】本発明製造方法の他の一例によるスタンパー
複製用盤の作製工程図を示す。

【図１８】本発明製造方法の他の一例により作製したス
タンパー複製用盤の概略断面図を示す。

【図１９】従来構造の光学記録媒体の一例の概略斜視図
を示す。

【図２０】光学記録媒体の要部の、グルーブ形成部の概
略斜視図を示す。

【図２１】光学記録媒体の要部の、ピット形成部の概略
斜視図を示す。

【図２２】従来構造の光学記録媒体の一例の概略断面図
を示す。

【図２３】従来構造のパーシャルＲＯＭディスクの概略
斜視図を示す。

【図２４】パーシャルＲＯＭディスクの要部の概略断面
図を示す。

【図２５】従来の光学記録媒体およびスタンパー転写用
原盤の作製一工程図を示す。

【図２６】従来の光学記録媒体およびスタンパー転写用
原盤の作製一工程図を示す。

【図２７】従来の光学記録媒体およびスタンパー転写用
原盤の作製一工程図を示す。

【図２８】従来の光学記録媒体およびスタンパー転写用
原盤の作製一工程図を示す。

【図２９】Ａ フォトレジスト上に形成された微細凹凸
パターンを示す。 Ｂ フォトレジスト上に形成された微細凹凸パターンの
拡大図を示す。

【図３０】従来の光学記録媒体およびスタンパー転写用
原盤の作製一工程図を示す。

【図３１】従来工程により作製したスタンパーの概略断
面図を示す。

【図３２】従来工程による光学記録媒体の作製一工程図
を示す。

【図３３】従来工程による光学記録媒体の作製一工程図
を示す。

【図３４】従来の光学記録媒体作製用の露光装置の概略
図を示す。

【図３５】従来構造の光学記録媒体のうち、グルーブ間
にアドレスピットが形成されているものの要部の概略平
面図を示す。

【図３６】従来構造の光学記録媒体のうち、グルーブ間
にアドレスピットが形成されているものの概略断面図を
示す。

【符号の説明】 １０ 原盤、１１ フォトレジスト、１１ａ，１２ａ，
１３ａ，１４ａ 微細凹凸、１２，１４ フォトレジス
ト、１８ 金属メッキ層、１９ スタンパー、２１ 第
１の領域、２２ 第２の領域、２３ 第３の領域、３
０，３１ スタンパー複製用盤、４１，４２ 材料膜、
５０ 光学記録媒体、５１，５２ 微細凹凸、５３ 基
板、５５ 保護膜、６１ 記録可能領域、６２ 再生専
用領域、１００ 光学記録媒体、１０１ 基板、１０２
信号記録面、１０３ 微細凹凸、１０４ 材料膜、１
０５ 情報記録層、１０６ 保護膜、１１１ グルー
ブ、１１２ ピット、１１３ アドレスピット、１２０
パーシャルＲＯＭディスク、１２１ 記録可能領域、
１２２ 再生専用領域、１２３ 境界ミラー面、１３０
露光装置、１３１ レーザー発射源、１３２ ミラー、
１３３ レンズ、１３４ 音響光学素子、１３５ レン
ズ、１３６，１３７ ミラー、１３８ 対物レンズ、２
００ ガラス原盤、２０１ 回転基台、２０２ フォト
レジスト、２０３ ノズル、２０５ 微細凹凸、２０６
ニッケルメッキ、２０７ スタンパー、２０８ 微細
凹凸

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原盤上の第１の領域に、深さｄ₁ の微細
   凹凸パターンを形成する工程と、 上記原盤上に、フォトレジスト層を塗布形成する工程
   と、 上記原盤上の少なくとも第２の領域に、深さｄ₂ の微細
   凹凸パターンを形成する工程とを有することを特徴とす
   るスタンパー複製用盤の製造方法。
2. 【請求項２】 原盤上の第１の領域に、深さｄ₁ の微細
   凹凸パターンを形成する工程と、 上記原盤上に、フォトレジスト層を塗布形成する工程
   と、 上記原盤上の少なくとも第２の領域において、上記フォ
   トレジスト層を、深さｄ₂ の微細凹凸にパターンエッチ
   ングを行う工程とによって、スタンパー複製用盤を作製
   し、該スタンパー複製用盤上に、金属メッキを施す工程
   と、 該金属メッキを剥離してスタンパーを作製する工程と、 該スタンパーまたは、該スタンパーによって複製したス
   タンパーにより、微細凹凸の転写を行って光学記録媒体
   用の基板を作製する工程とを有することを特徴とする光
   学記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 上記第１の領域の深さｄ₁ の微細凹凸パ
   ターンが、グルーブであり、 上記第２の領域の深さｄ₂ の微細凹凸パターンが、ピッ
   トであることを特徴とする請求項２に記載の光学記録媒
   体の製造方法。