CN1084512C - 制造用来制作光盘的母盘的方法 - Google Patents

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Abstract

一种制造用来制作光盘的母盘的方法，包括下列步骤：(a)在一衬底上形成第一光阻层；(b)在预定温度下预烘焙该第一光阻层；(c)在第一光阻层上形成第二光阻层；(d)在比步骤(b)低的预定温度下预烘焙该第二光阻层；(e)通过发射两束具有互不相同能量的激光，按照凹坑、凹槽和槽背的形状，将该第一和第二光阻层曝光；(f)腐蚀该曝光的第一和第二光阻层。

Description

制造用来制作光盘的母盘的方法
本发明涉及一种制造用来制作光盘的母盘的方法，该光盘是光学记录/再现介质。
一般来讲，诸如数字通用盘(DVD)-随机存取存储器(RAM)的高密度光盘包括凹槽1和槽背2，其中沿螺旋形轨道记录信息，如图1所示。另外，凹坑3分别形成于凹槽1和槽背2上，以便在其上记录所需信息。由于凹槽1和槽背2都用于记录信息，故与传统的将信息或者记录于凹槽上或者记录于槽背上的盘相比，高密度盘可以高密度记录更多信息。
通过如图2A到2D的过程来制造光盘。如图2A所示，一光阻层20涂覆于一衬底10上，然后，对应于凹槽、槽背和凹坑的形状，在旋转衬底10的同时，该光阻层20同时被激光30曝光，以形成凹槽和被激光30′曝光，以形成凹坑。图中，参考符号30和30′表示用于打开/关闭激光的调节器。
接着，如图2B中所示，将腐蚀剂喷洒于曝光的衬底10上，由此制造出其上形成有凹槽、槽背和凹坑的母盘15。
如图2C所示，模压母盘15即可获得父盘25，然后由注入模压方法复制成光盘，该方法中将树脂35注入一其上安装有父盘25的模板40，如图2D所示。
然而，在上面所述的方法中，槽背、凹槽和凹坑通过曝光然后同时腐蚀而形成于一光阻层上，以致于槽背、凹槽和凹坑之间的界限并不是陡峭地形成的，如图3所示。相应地，在再现的时候，不能很好地检测信息信号的起始和结束点，因而增加了抖动错误，其中输出信号不能正确地及时产生。
为解决上述问题，本发明的一个目的是提供一种用于制做光盘的母盘的制造方法，通过该光盘，可以高密度记录大量信息并且可减少抖动错误。
相应地，为达到本发明的上述目的，提供了一种母盘制作方法，该方法包含下列步骤：
(a)在一衬底上形成第一光阻层；
(b)在预定温度下预烘焙第一光阻层；
(c)在第一光阻层上形成第二光阻层；
(d)在比步骤(b)低的预定温度下预烘焙该第二光阻层；
(e)通过发射两束具有互不相同能量的激光，按照凹坑、凹槽和槽背的形状，将该第一和第二光阻层曝光；以及
(f)腐蚀该曝光的第一和第二光阻层。
最好，该第一光阻层在大约130℃的温度下烘焙，该第二光阻层在大约110℃的温度下烘焙。
另外，该第一和第二光阻层由同一种材料制成。
该第一和第二光阻层也最好由丙二醇单甲基醚乙酸酯(propyleneglycolmonomethyletheracetate)制成。
在对本发明的优选实施例参照附图进行详述后，本发明的上述目的和优点将变得更加明显，附图中：
图1是表示传统光盘的部分的透视图；
图2A到2D说明制作传统光盘的过程；
图3是用传统方法制造的母盘的断面图；
图4到图7说明本发明的母盘制造方法；以及
图8是表示本发明的母盘制造方法的流程图。
按照本发明的一优选实施例的母盘制造方法将参照附图4到图8来描述。如图4、8所示，在步骤300，第一光阻层110覆盖在衬底100上。最好，第一光阻层110的厚度为λ/4n，其中“λ”表示用于再现的激光波长和“n”表示该衬底的折射率。随后，将第一激光阻层110在大约130℃的温度下预烘焙30分钟(步骤310)。
在步骤320，如图5、8所示，用与第一光阻层110相同材料制成的第二光阻层120覆盖在第一光阻层110上。第二光阻层120的厚度优选为λ/6n。随后，第二光阻层120在大约110℃的温度下预烘焙，该温度比第一光阻层110的预烘焙温度相对较低(步骤330)。
由于由相同材料制成的第一和第二光阻层110和120之间的预烘焙温度不同，故它们的感光度互不相同。那就是说，在相对较高温度下预烘焙的第一光阻层110的感光度低，然而在相对较低温度下预烘焙的第二光阻层120的感光性却高。因而可根据预烘焙温度之间的差异来提高感光度的差异，最好，第一和第二光阻层110和120由丙二醇单甲基醚乙酸酯制成。
接下来，在步骤340，如图6、8所示，用两束具有不同能量强度的激光将第一和第二光阻层110和120曝光。用具有相对较低能量的激光束B1按照凹槽101的形状曝光第二光阻层120(参看图7)，在激光束前进方向上设有偏转器“D”，其将激光束在一预定宽度(即凹槽宽度)内左右偏转后照射到第二光阻层上。由于如上所述的第二光阻层120具有高感光性，故该光阻层120甚至可由具有相对较低能量的激光束B1充分曝光为凹槽101的形状。这里，激光束B1照射不到的区域便成为槽背102(参看图7)。
另外，具有相对较高能量的激光束B2穿透第二光阻层120，因而将第一光阻层110曝光成为凹坑103的形状。
通过上述过程，第一和第二光阻层110和120曝光成凹槽、槽背和凹坑的形状。参考符号M1和M2表示用于打开/关闭该激光的调节器。
随后，第一和第二光阻层110和120被腐蚀，如图7所示，以得到一其中凹槽101、槽背102和凹坑103陡峭形成的母盘(步骤350)。
另外，一光盘由模压母盘的过程复制而成。
通过下面的例子，本发明的效果将更明显。
(例子)
传统盘和由本发明制造的盘的特性如下表所示。
                  (表)
    传统盘   本发明的盘
  抖动错误率     12％     6％
  再现信号幅度     1.0V     1.5V
  分辩率     15％     25％
如表中所示，按照本发明制作的盘，抖动错误率降为传统盘抖动错误率的一半，而且再现信号幅度增加了。
按照本发明的母盘制造方法，在凹槽、槽背和凹坑之间的界限可陡峭形成，因而改善了信号记录和再现的特性并实现了信息的高密度记录。

Claims (4)

1.一种制造用来制做光盘的母盘的方法，包括下列步骤：
(a)在一衬底上形成第一光阻层；
(b)在预定温度下预烘焙第一光阻层；
(c)在该第一光阻层上形成第二光阻层；
(d)在比步骤(b)低的预定温度下预烘焙该第二光阻层；
(e)通过发射两束具有互不相同能量的激光，按照凹坑、凹槽和槽背的形状，将该第一和第二光阻层曝光；以及
(f)腐蚀该曝光的第一和第二光阻层。
2.按照权利要求1所述的方法，其中，在步骤(b)所述第一光阻层在大约130℃的温度下预烘焙，在步骤(d)所述第二光阻层在大约110℃温度下预烘焙。
3.按照权利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二光阻层由同一种材料制成。
4.按照权利要求3所述的方法，其中，所述第一和第二光阻层是用丙二醇单甲基醚乙酸酯制成的。
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