TWI730855B - 顯示裝置及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種顯示裝置,其包括可撓性基板、第一導線、第二導
線以及多個斜向導電結構。可撓性基板具有第一表面及相對於第一表面的第二表面。可撓性基板包括顯示區及可撓曲區。第一導線位於可撓性基板的第一表面上。第一導線自顯示區延伸至可撓曲區。第二導線位於可撓性基板的第二表面上。第二導線至少配置於可撓曲區。多個斜向導電結構至少配置於可撓曲區且至少貫穿可撓性基板。多個斜向導電結構電性連接第一導線及第二導線。一種顯示裝置的製造方法亦被提出。
Description
本發明是有關於一種顯示裝置及其製造方法,且特別是有關於一種具有多個斜向導電結構的顯示裝置及其製造方法。
在具有可撓性基板的顯示裝置中,可撓性基板可能會因為應用上的需求而需要施力而使其被產生對應的捲曲或撓曲。而在可撓性基板被捲曲或撓曲時,如何降低其上的線路損傷或損壞的可能,或是其上的線路整體上仍可以具有良好的傳輸能力,實已成目前亟欲研究的課題。
本發明提供一種顯示裝置及其製造方法,其具有較佳的品質。
本發明的顯示裝置包括可撓性基板、第一導線、第二導線以及多個斜向導電結構。可撓性基板具有第一表面及相對於第一表面的第二表面。可撓性基板包括顯示區及可撓曲區。第一導
線位於可撓性基板的第一表面上。第一導線自顯示區延伸至可撓曲區。第二導線位於可撓性基板的第二表面上。第二導線至少配置於可撓曲區。多個斜向導電結構至少配置於可撓曲區且至少貫穿可撓性基板。多個斜向導電結構電性連接第一導線及第二導線。
本發明的顯示裝置的製造方法包括以下步驟:提供可撓性基板,其具有第一表面及相對於第一表面的第二表面,且可撓性基板包括顯示區及可撓曲區;形成第一導線於可撓性基板的第一表面上,且第一導線自顯示區延伸至可撓曲區;形成貫穿可撓性基板的多個斜向通孔,且多個斜向通孔至少位於可撓曲區;以及於第二表面上及多個斜向通孔內形成導電材料,以至少形成第二導線及多個斜向導電結構。
基於上述,在顯示裝置或其製造方法中,藉由配置於可撓曲區且貫穿可撓性基板的多個斜向導電結構,且多個斜向導電結構電性連接於位於可撓性基板相對兩表面的第一導線及第二導線。如此一來,可以使顯示裝置具有較佳的品質。
100、200、300、400、500、600、700:顯示裝置
110、111、112、113:第一導線
110w:線寬
119:第一圖案化導電層
120、121、122、123:第二導線
129:第二圖案化導電層
120w:線寬
130:第三導線
130w:線寬
140、141、142、143、240:斜向導電結構
341、441、541、641:第一斜向導電結構
342、442、542、642:第二斜向導電結構
140a、140b、240a、240b:徑寬
140d、240d、441d、442d、641d、642d:延伸方向
641e、642e:投影方向
140e:投影
140s、240s:側壁
541w:第一徑寬
542w:第二徑寬
P1:第一間距
P2:第二間距
150:可撓性基板
150a:第一表面
150b:第二表面
150c:剖面
151:顯示區
152:第一連接區
153:可撓曲區
154:第二連接區
160:絕緣層
180、280:斜向通孔
180a、180b:口徑
180d:延伸方向
91、92:雷射裝置
A1、A2、A3、A4、A5、A6:夾角
C1、C2、C3、C4、C5、C6:中點
D1:方向
圖1A至圖1C是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分上視示意圖。
圖2A至圖2C是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分剖視示意圖。
圖3是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖4是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分下視示意圖。
圖5是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的上視示意圖。
圖6A至圖6B是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分上視示意圖。
圖7A至圖7B是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分剖視示意圖。
圖8是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖9A及圖9B是依照本發明的第三實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖10是依照本發明的第四實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖11是依照本發明的第五實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖12A是依照本發明的第六實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖12B是依照本發明的第六實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
圖13是依照本發明的第七實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。如本領域技術人員將認識到的,可以以各種不同的方式修改所描述的實施例,而不脫離本發明的精神或範圍。
在附圖中,為了清楚起見,放大了各元件等的厚度。在整個說明書中,相同的附圖標記表示相同的元件。應當理解,當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在“另一元件上”、或“連接到另一元件”、“重疊於另一元件”時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件可以也存在。相反,當元件被稱為“直接在另一元件上”或“直接連接到”另一元件時,不存在中間元件。如本文所使用的,“連接”可以指物理及/或電連接。
應當理解,儘管術語“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用於描述各種元件、部件、區域、層及/或部分,但是這些元件、部件、區域、及/或部分不應受這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、層或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開。因此,下面討論的“第一元件”、“部件”、“區域”、“層”、或“部分”可以被稱為第二元件、
部件、區域、層或部分而不脫離本文的教導。
這裡使用的術語僅僅是為了描述特定實施例的目的,而不是限制性的。如本文所使用的,除非內容清楚地指示,否則單數形式“一”、“一個”和“該”旨在包括複數形式,包括“至少一個”。“或”表示“及/或”。如本文所使用的,術語“及/或包括一個或多個相關所列項目的任何和所有組合。還應當理解,當在本說明書中使用時,術語“包括”及/或“包括”指定所述特徵、區域、整體、步驟、操作、元件的存在及/或部件,但不排除一個或多個其它特徵、區域整體、步驟、操作、元件、部件及/或其組合的存在或添加。
此外,諸如“下”或“底部”和“上”或“頂部”的相對術語可在本文中用於描述一個元件與另一元件的關係,如圖所示。應當理解,相對術語旨在包括除了圖中所示的方位之外的裝置的不同方位。例如,如果一個附圖中的裝置翻轉,則被描述為在其他元件的“下”側的元件將被定向在其他元件的“上”側。因此,示例性術語“下”可以包括“下”和“上”的取向,取決於附圖的特定取向。類似地,如果一個附圖中的裝置翻轉,則被描述為在其它元件“下方”或“下方”的元件將被定向為在其它元件“上方”。因此,示例性術語“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。
本文使用的“大致上”或“基本上”包括所述值和在本領域普通技術人員確定的特定值的可接受的偏差範圍內的平均
值,考慮到所討論的測量和與測量相關的誤差的特定數量(即,測量系統的限制)。例如,“約”可以表示在所述值的一個或多個標準偏差內,或±30%、±20%、±10%、±5%內。
除非另有定義,本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是,諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義,除非本文中明確地這樣定義。
本文參考作為理想化實施例的示意圖的截面圖來描述示例性實施例。因此,可以預期到作為例如製造技術及/或公差的結果的圖示的形狀變化。因此,本文所述的實施例不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀,而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如,示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外,所示的銳角可以是圓的。因此,圖中所示的區域本質上是示意性的,並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀,並且不是旨在限制權利要求的範圍。
圖1A至圖1C是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分上視示意圖。圖2A至圖2C是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分剖視示意圖。舉例而言,圖2A可以是對應圖1A中I-I’剖線上的剖視示意圖,圖2B可以是對應圖1B中II-II’剖線上的剖視示意圖,圖2C
可以是對應圖1C中III-III’剖線上的剖視示意圖。
請參照圖1A及圖2A,提供可撓性基板150。可撓性基板150具有第一表面150a及相對於第一表面150a的第二表面150b。可撓性基板150包括顯示區151、第一連接區152、可撓曲區153及第二連接區154。第一連接區152可以位於顯示區151與可撓曲區153之間。可撓曲區153可以位於第一連接區152及第二連接區154之間。
請繼續參照圖1A及圖2A,於可撓性基板150的第一表面150a上形成第一導線110。第一導線110可以自顯示區151經由第一連接區152延伸至可撓曲區153。
在一實施例中,可以藉由濺鍍的方式在可撓性基板150的第一表面150a上形成第一圖案化導電層119。第一圖案化導電層119中的部分圖案化線路可以構成第一導線110。
在一實施例中,第一圖案化導電層119可以具有開口119a。在一實施例中,開口119a可以貫穿部分的第一導線110。
在一實施例中,可以在可撓性基板150的第一表面150a上形成適於驅動發光元件的驅動元件(未繪示)。舉例而言,可以藉由常用的半導體製程,以在位於顯示區151的第一表面150a上形成適於驅動發光元件(如:發光二極體;未繪示)或電極(如:驅使液晶轉向的畫素電極;未繪示)的薄膜電晶體(thin film transistor;TFT)。
在一實施例中,位於顯示區151的部分第一導線110可
以電性連接於對應的驅動元件(未繪示)或發光元件(未繪示)。舉例而言,第一導線110可以藉由對應的掃描線(scan line)、對應的資料線(data line)或對應的電源線(power line)電性連接於對應的驅動元件或發光元件。
在本實施例中,第一導線110與可撓性基板150之間可以具有絕緣層160,但本發明不限於此。
在一實施例中,絕緣層160可以是相同或相似於被稱為緩衝層(buffer layer)的絕緣膜層、被稱為閘絕緣層(Gate insulating layer;GI)的絕緣膜層、被稱為平坦層(planar layer;PL)的絕緣膜層或包括上述之一種或多種的組合,但本發明不限於此。
請參照圖1A至圖1B及圖2A至圖2B,形成貫穿可撓性基板150的多個斜向通孔180。斜向通孔180至少位於可撓曲區153。舉例而言,可以藉由雷射裝置91,以雷射燒灼的方式,從可撓性基板150的第一表面150a上形成自第一表面150a向第二表面150b貫通可撓性基板150的斜向通孔180。
在本實施例中,斜向通孔180的位置可以對應於第一圖案化導電層119的部分開口。也就是說,就結構上而言,第一圖案化導電層119的部分開口可以是斜向通孔180的一部分。
在本實施例中,部分的斜向通孔180可以更位於第一連接區152,但本發明不限於此。
在本實施例中,斜向通孔180位於第一表面150a上的開口(可以被稱為上開口)的口徑180a可以大於位於第二表面150b
上的開口(可以被稱為下開口)的口徑180b。
在本實施例中,斜向通孔180的延伸方向180d與第一表面150a之間的夾角A1基本上介於30度(degree;°)至60°(即,大於或等於30°,且小於或等於60°),且/或斜向通孔180的延伸方向180d與第二表面150b之間的夾角A2具有基本上介於30°至60°。
在本實施例中,第一表面150a與第二表面150b大致上平行,但本發明不限於此。
在一實施例中,斜向通孔180的延伸方向180d大致上可以是自其上開口的中點C1向其下開口的中點C2的連線(如:圖2B中連接中點C1及中點C2的虛線)的方向。
在本實施例中,斜向通孔180可以更貫穿絕緣層160。
請參照圖1B至圖1C及圖2B至圖2C,形成斜向通孔180之後,可以在可撓性基板150的第二表面150b上形成第二圖案化導電層129。第二圖案化導電層129中的部分圖案化線路可以構成第二導線120。另外,用於形成第二圖案化導電層129的部分導電材料可以更填入斜向通孔180內,而可以形成至少貫穿可撓性基板150的斜向導電結構140。
在一實施例中,可以在可撓性基板150的第二表面150b上形成種子層(seed layer),然後再藉由電鍍的方式於前述的種子層上鍍覆電鍍層。電鍍層可以更填入斜向通孔180內。並且,可以在對前述的種子層進行圖案化步驟之後,且在對前述的電鍍層
進行圖案化步驟之後,使圖案化的種子層及圖案化的電鍍層構成第二圖案化導電層129。
在本實施例中,斜向導電結構140的外型大致上可以對應於斜向通孔180的輪廓。
在本實施例中,斜向導電結構140可以具有彼此相對的頂端及底端。斜向導電結構140的底端可以接觸第二導線120。斜向導電結構140的頂端的徑寬140a(徑寬140a可以被稱為:頂徑寬)可以大於斜向導電結構140的底端的徑寬140b(徑寬140b可以被稱為:底徑寬)。
在本實施例中,斜向導電結構140的延伸方向140d與第一表面150a之間的夾角A3基本上介於30°至60°,且/或斜向導電結構140的延伸方向140d與第二表面150b之間的夾角A4具有基本上介於30°至60°。也就是說,斜向導電結構140的延伸方向140d不垂直於第一表面150a及/或第二表面150b。
在一實施例中,斜向導電結構140的延伸方向140d大致上可以是自其頂端的中點C3向其底端的中點C4的連線(如:圖2C中連接中點C3及中點C4的虛線)的方向。
在一實施例中,斜向導電結構140的延伸方向140d與第一表面150a或第二表面150b之間的夾角(如:夾角A3或夾角A4)可以基本上介於40°至50°,但本發明不限於此。
在本實施例中,斜向導電結構140可以更貫穿第一導線110與第二導線120之間的膜層。舉例而言,斜向導電結構140可
以更貫穿位於第一導線110與第二導線120之間的絕緣層160。
在本實施例中,填入斜向通孔180內的導電材料可以更進一步地覆蓋於可撓性基板150的第一表面150a上,而可以形成覆蓋第一導線110的第三導線130。也就是說,第二導線120、斜向導電結構140及第三導線130的材質可以基本上相同。
至少經過上述的製造方法後即可大致上完成本實施例之顯示裝置100的製作。
圖1C可以是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置100的部分上視示意圖。圖2C可以是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置100的部分剖視示意圖。圖3是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置100的部分剖視示意圖。圖4是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置100的部分下視示意圖。圖5是依照本發明的第一實施例的一種顯示裝置100的上視示意圖。舉例而言,圖1C可以是對應圖5中區域R1的上視示意圖,圖3可以是對應圖1C中IV-IV’剖線上的剖視示意圖,圖4可以是對應圖5中區域R1的下視示意圖。另外,斜向導電結構140可能不會完全地剛好位於IV-IV’剖線所構成的剖面上,但是,為求清楚表示,於圖3仍以虛線示意性地繪示了斜向導電結構140投影於前述剖面上的可能樣貌。
請參照圖1C、圖2C及圖3至圖5,顯示裝置100包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構140。第一導線110位於可撓性基板150的第一表面150a上。
第一導線110自顯示區151至少延伸至可撓曲區153。第二導線120位於可撓性基板150的第二表面150b上。第二導線120至少配置於可撓曲區153。多個斜向導電結構140至少配置於可撓曲區153。斜向導電結構140貫穿可撓性基板150,且多個斜向導電結構140電性連接第一導線110及第二導線120。
在本實施例中,斜向導電結構140的延伸方向140d於第一表面150a或第二表面150b上的投影140e基本上平行於第一導線110的延伸方向110d於第一表面150a或第二表面150b上的投影110e,且/或斜向導電結構140的延伸方向140d於第一表面150a或第二表面150b上的投影140e基本上平行於第二導線120的延伸方向120d於第一表面150a或第二表面150b上的投影120e。也就是說,於垂直於第一表面150a或第二表面150b的方向(如:圖1C或圖4所繪示的方向)上,斜向導電結構140可以重疊於第一導線110及/或第二導線120。在顯示裝置100的一種應用方式上,可以施以外力而使可撓性基板150於可撓曲區153產生對應的捲曲或撓曲。而在可撓性基板150產生對應的捲曲或撓曲時,位於可撓曲區153的可撓性基板150或其上的元件的內部可能會產生對應的應力(如:壓應力(compressive stress)或張應力(tensile stress))。如此一來,在相同的作用力下,藉由使延伸方向140d不垂直於第一表面150a或第二表面150b的斜向導電結構140,可以使斜向導電結構140受到應力(即,單位面積所承受的作用力)降低,而可以降低斜向導電結構140損傷或損壞的可能。因此,
可以使顯示裝置100具有良好的線路傳輸品質。
在本實施例中,第一導線110及第二導線120可以藉由多個斜向導電結構140而彼此電性連接。如此一來,可能可以提升電子訊號或電源供應的品質。舉例而言,可能可以降低電壓壓降(IR drop)。又舉例而言,若部分的第一導線110、第二導線120或斜向導電結構140有不預期的損傷或損壞,也可以藉由其他並聯的線路進行電子訊號或電源的傳輸。如此一來,可以使顯示裝置100具有良好的線路傳輸品質。
在本實施例中,第二導線120的線寬120w可以大於第一導線110的線寬110w,但本發明不限於此。
在一實施例中,可撓性基板150的第一表面150a上可以具有第一導線110及其他的元件(如:驅動元件、發光元件等),且可撓性基板150的第二表面150b上可以具有第二導線120。因此,可以使第二導線120的線寬120w大於第一導線110的線寬110w,而可能可以使可撓性基板150的相對兩側(即,第一表面150a及第二表面150b)所受的應力較為一致,以可能可以降低顯示裝置100在無受外力的狀況下捲曲變形的可能。
在本實施例中,顯示裝置100可以更包括第三導線130,但本發明不限於此。
在本實施例中,第三導線130的線寬130w可以大於第一導線110的線寬110w,但本發明不限於此。
在本實施例中,在垂直於第一導線110的延伸方向110d
或第二導線120的延伸方向120d的一方向D1上,電性連接於一第一導線110或一第二導線120的斜向導電結構140基本上不完全重疊於電性連接於相鄰於前述第一導線110或前述第二導線120的其他斜向導電結構140。如此一來,在形成斜向導電結構140的過程中,可能可以提升製程裕度(process window),而可以提升顯示裝置100的良率及品質。
舉例而言,第一導線110包括第一導線111(可以被稱為:第二子導線)、第一導線112(可以被稱為:第一子導線)以及第一導線113(可以被稱為:第三子導線),第一導線111及第一導線113分別位於第一導線112的相對兩側且相鄰於第一導線112。斜向導電結構141(可以被稱為:第二子斜向導電結構)電性連接於第一導線111,斜向導電結構142(可以被稱為:第一子斜向導電結構)電性連接於第一導線112,且斜向導電結構143(可以被稱為:第三子斜向導電結構)電性連接於第一導線113。在垂直於第一導線110的延伸方向110d的方向D1上,斜向導電結構141基本上不完全重疊於斜向導電結構142,且斜向導電結構143基本上不完全重疊於斜向導電結構142。也就是說,斜向導電結構142基本上不完全位於斜向導電結構141及斜向導電結構143的連線上。
又舉例而言,第二導線120包括第二導線121、第二導線122以及第二導線123,第二導線121及第二導線123分別位於第二導線122的相對兩側且相鄰於第二導線122。斜向導電結構141
電性連接於第二導線121,斜向導電結構142電性連接於第二導線122,且斜向導電結構143電性連接於第二導線123。在垂直於第二導線120的延伸方向120d的方向D1上,斜向導電結構141基本上不完全重疊於斜向導電結構142,且斜向導電結構143基本上不完全重疊於斜向導電結構142。
在一實施例中,在垂直於第一導線110的延伸方向110d或第二導線120的延伸方向120d的一方向D1上,電性連接於一第一導線110或一第二導線120的斜向導電結構140可以基本上不重疊於相鄰於電性連接於相鄰於前述第一導線110或前述第二導線120的其他斜向導電結構140。
在一實施例中,顯示裝置100可以更包括配置於可撓性基板150的第二連接區154上的電路板(未繪示)。前述的電路板可以是例如為軟性印刷電路板(Flexible Printed Circuit;FPC),但本發明不限於此。舉例而言,前述的電路板可以包括一種被稱為薄膜覆晶封裝(Chip On Film;COF)的電路板。
圖6A至圖6B是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分上視示意圖。圖7A至圖7B是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分製造方法的部分剖視示意圖。舉例而言,圖7A可以是對應圖6A中V-V’剖線上的剖視示意圖,圖7B可以是對應圖6B中VI-VI’剖線上的剖視示意圖。第二實施例的顯示裝置200製造方法與第一實施例的顯示裝置100製造方法類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功
能、材質或形成方式,並省略描述。
請參照圖6A及圖7A,形成貫穿可撓性基板150的多個斜向通孔280。斜向通孔280至少位於可撓曲區153。舉例而言,可以藉由雷射裝置92,以雷射燒灼的方式,從可撓性基板150的第二表面150b上形成自第二表面150b向第一表面150a貫通可撓性基板150的斜向通孔280。
在本實施例中,斜向通孔280可以未貫穿第一導線110。也就是說,就整體的結構上而言,斜向通孔280可以視為底部為部分的第一導線110的盲孔。
在本實施例中,斜向通孔280位於第一表面150a上的開口(可以被稱為上開口)的口徑280a可以小於位於第二表面150b上的開口(可以被稱為下開口)的口徑280b。
請參照圖6A至圖6B及圖7A至圖7B,形成斜向通孔280之後,可以在可撓性基板150的第二表面150b上形成第二圖案化導電層129。第二圖案化導電層129中的部分圖案化線路可以構成第二導線120。另外,用於形成第二圖案化導電層129的部分導電材料可以更填入斜向通孔280內,而可以形成至少貫穿可撓性基板150的斜向導電結構240。
至少經過上述的製造方法後即可大致上完成本實施例之顯示裝置200的製作。
圖6B可以是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置的部分上視示意圖。圖7B可以是依照本發明的第二實施例的一種
顯示裝置的部分剖視示意圖。圖8是依照本發明的第二實施例的一種顯示裝置200的部分剖視示意圖。舉例而言,圖6B所對應的區域可以類似於圖5中的區域R1,圖8可以是對應圖6B中VII-VII’剖線上的剖視示意圖。另外,斜向導電結構240可能不會完全地剛好位於VII-VII’剖線所構成的剖面上,但是,為求清楚表示,於圖8仍以虛線示意性地繪示了斜向導電結構240投影於前述剖面上的可能樣貌。
請參照圖6B、圖7B及圖8,顯示裝置200包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構240。斜向導電結構240貫穿可撓性基板150,且多個斜向導電結構240電性連接第一導線110及第二導線120。
在本實施例中,斜向導電結構240可以具有彼此相對的頂端及底端。斜向導電結構240的底端可以接觸第二導線120。斜向導電結構240的頂端可以接觸第一導線110。斜向導電結構240的頂端的徑寬240a(徑寬240a可以被稱為:頂徑寬)可以小於斜向導電結構240的底端的徑寬240b(徑寬240b可以被稱為:底徑寬)。
在本實施例中,斜向導電結構240的延伸方向240d與第一表面150a之間的夾角A5基本上介於30°至60°,且/或斜向導電結構240的延伸方向240d與第二表面150b之間的夾角A6基本上介於30°至60°。
在一實施例中,斜向導電結構240的延伸方向240d大致
上可以是自其頂端的中點C5向其底端的中點C6的連線(如:圖7B中連接中點C5及中點C6的虛線)的方向。
在一實施例中,斜向導電結構240的延伸方向240d與第一表面150a或第二表面150b之間的夾角(如:夾角A5或夾角A6)可以基本上介於40°至50°,但本發明不限於此。
圖9A及圖9B是依照本發明的第三實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。第三實施例的顯示裝置300與第一實施例的顯示裝置100類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功能、材質、形成或製造方式,並省略描述。舉例而言,圖9A或圖9B所對應的區域可以類似於圖2C中所繪示的區域。
請參照圖9A及圖9B,顯示裝置300包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構140。
多個斜向導電結構140可以包括多個第一斜向導電結構341以及多個第二斜向導電結構342。多個第一斜向導電結構341可以配置於可撓曲區153,且多個第二斜向導電結構342可以配置於第一連接區152或第二連接區154。多個第一斜向導電結構341之間具有第一間距P1,多個第二斜向導電結構342之間具有第二間距P2,且第一間距P1小於第二間距P2。
圖10是依照本發明的第四實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。第四實施例的顯示裝置400與第一實施例的顯示裝置100類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功能、材質、形成或製造方式,並省略描述。舉例而言,圖10所對
應的區域可以類似於圖2C中所繪示的區域。
請參照圖10,顯示裝置400包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構140。
多個斜向導電結構140可以包括第一斜向導電結構441以及第二斜向導電結構442。第一斜向導電結構441可以配置於可撓曲區153,且第二斜向導電結構442可以配置於第一連接區152或第二連接區154。第一斜向導電結構441的延伸方向441d與第一表面150a或第二表面150b之間具有第一夾角A7。第二斜向導電結構442的延伸方向442d與第一表面150a或第二表面150b之間具有第二夾角A8,且第一夾角A7的角度小於第二夾角A8的角度。
在本實施例中,對於第一斜向導電結構441的數量或第二斜向導電結構442的數量並不加以限制。
在本實施例中,第一夾角A7的角度及/或第二夾角A8的角度基本上介於30°至60°。
圖11是依照本發明的第五實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。第五實施例的顯示裝置500與第一實施例的顯示裝置100類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功能、材質、形成或製造方式,並省略描述。舉例而言,圖11所對應的區域可以類似於圖2C中所繪示的區域。
請參照圖11,顯示裝置500包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構140。
多個斜向導電結構140可以包括第一斜向導電結構541以及第二斜向導電結構542。第一斜向導電結構541可以配置於可撓曲區153,且第二斜向導電結構542可以配置於第一連接區152或第二連接區154。在平行於第一表面150a或第二表面150b的一剖面150c上,第一斜向導電結構541具有第一徑寬541w,第二斜向導電結構542第二徑寬542w,且第一徑寬541w大於第二徑寬542w。
在本實施例中,對於第一斜向導電結構541的數量或第二斜向導電結構542的數量並不加以限制。
圖12A是依照本發明的第六實施例的一種顯示裝置的部分下視示意圖。圖12B是依照本發明的第六實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。第六實施例的顯示裝置600與第一實施例的顯示裝置100類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功能、材質、形成或製造方式,並省略描述。舉例而言,圖12A所對應的區域可以類似於圖2C中所繪示的區域圖12B可以是對應圖12A中VIII-VIII’剖線上的剖視示意圖。
請參照圖12A及圖12B,顯示裝置600包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120以及多個斜向導電結構140。多個斜向導電結構140可以包括第一斜向導電結構641及第二斜向導電結構642。第一斜向導電結構641具有第一延伸方向641d,第二斜向導電結構642具有第二延伸方向642d,第一延伸方向641d於第一表面150a或第二表面150b上的投影方向641e(投影
方向641e可以被稱為:第一方向)基本上不同於第二延伸方向642d於第一表面150a或第二表面150b上的投影方向642e(投影方向642e可以被稱為:第二方向)。
在本實施例中,投影方向641e與投影方向642e可以相反。
在本實施例中,第一斜向導電結構641與顯示區151之間的距離小於第二斜向導電結構642與顯示區151之間的距離,第一延伸方向641d於第一表面150a或第二表面150b上的投影方向641e朝向顯示區151,第二延伸方向642d於第一表面150a或第二表面150b上的投影方向642e遠離顯示區151。前述的距離所指的可以是對應的斜向導電結構140(如:第一斜向導電結構641或第二斜向導電結構642)與顯示區151之間的實體距離,或是與顯示區151之間所對應的電子訊號的電流路徑(current path)。
在本實施例中,第一斜向導電結構641與第二斜向導電結構642可以位於一虛擬面150d的相對兩側。虛擬面150d可以垂直於第一導線110的延伸方向110d或第二導線120的延伸方向120d,且虛擬面150d可以位於可撓曲區153。
在本實施例中,第一延伸方向641d與第二延伸方向642d可以在虛擬面150d的相對兩側呈鏡像對稱。
在一未繪示的實施例中,可以將前述實施例中的斜向導電結構240以相同或相似於第一斜向導電結構341、第一斜向導電結構441、第一斜向導電結構541、第一斜向導電結構641、第二
斜向導電結構342、第二斜向導電結構442、第二斜向導電結構542及/或第二斜向導電結構642的方式配置。
圖13是依照本發明的第七實施例的一種顯示裝置的部分剖視示意圖。第七實施例的顯示裝置700與第一實施例的顯示裝置100或第二實施例的顯示裝置100類似,其類似的構件以相同的標號表示,且具有類似的功能、材質、形成或製造方式,並省略描述。舉例而言,圖13所對應的區域可以類似於圖2C中所繪示的區域。
請參照圖13,顯示裝置700包括可撓性基板150、第一導線110、第二導線120、多個斜向導電結構140以及多個斜向導電結構240。
在本實施例中,斜向導電結構140及斜向導電結構240可以交錯配置。舉例而言,電性連接於同一第一導線110或同一第二導線120的多個斜向導電結構140及多個斜向導電結構240,在沿著第一導線110的延伸方向110d或第二導線120的延伸方向120d上可以交錯配置。如此一來,可以提升斜向導電結構(包括斜向導電結構140及斜向導電結構240)整體的數量。另外,在形成斜向導電結構140及/或斜向導電結構240的過程中,可能可以提升製程裕度,而可以提升顯示裝置700的良率及品質。
在本實施例中,在相鄰的斜向導電結構140及斜向導電結構240之間,彼此相鄰的側壁可以基本上彼此平行。舉例而言,斜向導電結構140的側壁140s與斜向導電結構240的側壁240s
可以基本上彼此平行。
本發明並未排除上述各實施例之間的相結合。舉例而言,在一實施例中,第一斜向導電結構341可能可以具有類似於第一斜向導電結構441的頃斜角度,且第二斜向導電結構342可能可以具有類似於第二斜向導電結構442的頃斜角度。再舉例而言,在一實施例中,第一斜向導電結構341可能可以具有類似於第一斜向導電結構541的徑寬,且第二斜向導電結構342可能可以具有類似於第二斜向導電結構542的徑寬。又舉例而言,第一斜向導電結構341可能可以具有類似於第一斜向導電結構441的頃斜角度且可能可以具有類似於第一斜向導電結構541的徑寬,且第二斜向導電結構342可能可以具有類似於第二斜向導電結構442的頃斜角度且可能可以具有類似於第二斜向導電結構542的徑寬。
綜上所述,在本發明的顯示裝置或其製造方法中,藉由配置於可撓曲區且貫穿可撓性基板的多個斜向導電結構,且多個斜向導電結構電性連接於位於可撓性基板相對兩表面的第一導線及第二導線。如此一來,可以使顯示裝置具有較佳的品質。
100:顯示裝置
110:第一導線
120:第二導線
129:第二圖案化導電層
130:第三導線
140:斜向導電結構
140a、140b:徑寬
140d:延伸方向
150:可撓性基板
150a:第一表面
150b:第二表面
160:絕緣層
A3、A4:夾角
C3、C4:中點
Claims (10)
- 一種顯示裝置,包括:可撓性基板,具有第一表面及相對於所述第一表面的第二表面,且所述可撓性基板包括顯示區及可撓曲區;第一導線,位於所述可撓性基板的所述第一表面上,且自所述顯示區延伸至所述可撓曲區;第二導線,位於所述可撓性基板的所述第二表面上,且至少配置於所述可撓曲區;以及多個斜向導電結構,至少配置於所述可撓曲區且至少貫穿所述可撓性基板,且所述多個斜向導電結構電性連接所述第一導線及所述第二導線。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述第二導線的線寬大於所述第一導線的線寬。
- 如請求項1所述的顯示裝置,更包括:第三導線,位於所述可撓性基板的所述第一表面上且覆蓋所述第一導線,所述多個斜向導電結構更貫穿所述第一導線,且所述第二導線、所述多個斜向導電結構及所述第三導線的材質基本上相同。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述多個斜向導電結構的延伸方向與所述第一表面或所述第二表面之間的夾角介於30°至60°。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述可撓性基板更包括位於所述顯示區與所述可撓曲區之間的連接區,所述第一導線自所述顯示區經由所述連接區延伸至所述可撓曲區,所述第二導線更配置於所述連接區,所述多個斜向導電結構包括至少一個第一斜向導電結構以及至少一個第二斜向導電結構,所述第一斜向導電結構配置於所述可撓曲區,所述第二斜向導電結構配置於所述連接區,且其中:所述第一斜向導電結構的數量為多個,所述第二斜向導電結構的數量為多個,多個所述第一斜向導電結構之間具有第一間距,多個所述第二斜向導電結構之間具有第二間距,且所述第一間距小於所述第二間距;所述第一斜向導電結構的延伸方向與所述第一表面或所述第二表面之間具有第一夾角,所述第二斜向導電結構的延伸方向與所述第一表面或所述第二表面之間具有第二夾角,且所述第一夾角小於所述第二夾角;或所述第一斜向導電結構具有第一徑寬,所述第二斜向導電結構具有第二徑寬,且所述第一徑寬大於所述第二徑寬。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述多個斜向導電結構包括第一斜向導電結構及第二斜向導電結構,所述第一斜向導電結構與所述顯示區之間的連線距離小於所述第二斜向導電結構與所述顯示區之間的連線距離,所述第一斜向導電結構的延伸方向於所述第一表面或所述第二表面上的投影具有第一方向,所 述第二斜向導電結構的延伸方向於所述第一表面或所述第二表面上的投影具有第二方向,且所述第一方向基本上不同於所述第二方向。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述多個斜向導電結構包括相鄰的第一斜向導電結構及第二斜向導電結構,所述第一斜向導電結構的相對兩側具有第一頂徑寬及第一底徑寬,所述第二斜向導電結構的相對兩側具有第二頂徑寬及第二底徑寬,所述第一頂徑寬大於所述第一底徑寬,且所述第二頂徑寬小於所述第二底徑寬。
- 如請求項7所述的顯示裝置,其中所述第一斜向導電結構及所述第二斜向導電結構之間相鄰的兩側壁基本上平行。
- 如請求項1所述的顯示裝置,其中所述第一導線包括第一子導線以及分別位於所述第一子導線相對兩側且相鄰的第二子導線及第三子導線,所述多個斜向導電結構包括連接於所述第一子導線的第一子斜向導電結構、連接於所述第二子導線的第二子斜向導電結構以及連接於所述第三子導線的第三子斜向導電結構,且所述第一子斜向導電結構不完全位於所述第二子斜向導電結構及所述第三子斜向導電結構的連線上。
- 一種顯示裝置的製造方法,包括:提供可撓性基板,其具有第一表面及相對於所述第一表面的第二表面,且所述可撓性基板包括顯示區及可撓曲區;形成第一導線於所述可撓性基板的所述第一表面上,且所述 第一導線自所述顯示區延伸至所述可撓曲區;形成貫穿所述可撓性基板的多個斜向通孔,且所述多個斜向通孔至少位於所述可撓曲區;以及於所述第二表面上及所述多個斜向通孔內形成導電材料,以至少形成第二導線及多個斜向導電結構。
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